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JP2017082187A - Coating composition - Google Patents

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JP2017082187A
JP2017082187A JP2016057353A JP2016057353A JP2017082187A JP 2017082187 A JP2017082187 A JP 2017082187A JP 2016057353 A JP2016057353 A JP 2016057353A JP 2016057353 A JP2016057353 A JP 2016057353A JP 2017082187 A JP2017082187 A JP 2017082187A
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resin
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達也 大堀
隆裕 櫻井
Takahiro Sakurai
隆裕 櫻井
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a coating composition excellent in printability for forming an over coat layer and a primer layer excellent in adhesion to a resin film, a transparent electrode and a connecting part, transparency, ultraviolet light resistance, sulfur resistance, heat resistance, water resistance, moisture heat resistance or the like.SOLUTION: There is provided a coating composition for an electrode structure of an electrostatic capacitance type switch, which contains (a) a thermoplastic resin with Tg of 30°C or more, (b) an ultraviolet absorber and (c) an organic solvent and can be applied by printing.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、静電容量式スイッチの電極構造のための被覆組成物、並びに、被覆組成物を用いて得られた静電容量式スイッチの電極構造及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a coating composition for an electrode structure of a capacitive switch, an electrode structure of a capacitive switch obtained by using the coating composition, and a method for manufacturing the same.

タッチスイッチ等の静電容量式スイッチの電極は、基材としての樹脂フィルム、樹脂フィルム上に形成された透明電極、及び、透明電極の一部と接触するように形成された接続部が順に積層された構造を有する。これらの樹脂フィルム、透明電極及び接続部の表面を保護するため、透明電極と接続部の少なくとも一部を被覆するようにオーバーコート層が形成されている。また、樹脂フィルムと透明電極との密着性を高めるため、樹脂フィルム上にプライマー層が形成されることもある。このようなオーバーコート層やプライマー層は、樹脂フィルム、透明電極及び接続部に対する密着性、透明性、耐紫外線性、耐硫化性、耐熱性、耐水性、耐湿熱性等に優れることが要求される。また、オーバーコート層やプライマー層を形成するための組成物(被覆組成物)は、印刷性に優れることが要求される。 Electrodes of capacitive switches such as touch switches are layered in order: a resin film as a base material, a transparent electrode formed on the resin film, and a connection part formed so as to be in contact with part of the transparent electrode Has a structured. In order to protect the surfaces of the resin film, the transparent electrode, and the connecting portion, an overcoat layer is formed so as to cover at least a part of the transparent electrode and the connecting portion. Moreover, in order to improve the adhesiveness of a resin film and a transparent electrode, a primer layer may be formed on a resin film. Such an overcoat layer or primer layer is required to be excellent in adhesion to a resin film, a transparent electrode and a connection part, transparency, ultraviolet resistance, sulfidation resistance, heat resistance, water resistance, moisture heat resistance, and the like. . Moreover, the composition (coating composition) for forming an overcoat layer or a primer layer is required to be excellent in printability.

特許文献1には、基板と、該基板上の導電層であって、複数の金属ナノワイヤ―を含む導電層と、を備える透明導電体において、導電層上に保護膜をさらに備えることが開示され、保護膜の材質としてポリエステル等の一般的な熱可塑性樹脂が提案されている。また、特許文献2には、絶縁材からなるフィルムと、フィルム上に設置された導電性ポリマーからなる透明電極と、透明電極と接触するように印刷された導電性ペーストとを備えた電極構造において、透明電極と導電性ペーストの一部を覆う保護部材を備えることが開示され、保護部材としてPETからなる透明絶縁シートを用いることが開示されている。 Patent Document 1 discloses that a transparent conductor including a substrate and a conductive layer on the substrate including a plurality of metal nanowires further includes a protective film on the conductive layer. As a material for the protective film, a general thermoplastic resin such as polyester has been proposed. Patent Document 2 discloses an electrode structure including a film made of an insulating material, a transparent electrode made of a conductive polymer placed on the film, and a conductive paste printed so as to be in contact with the transparent electrode. It is disclosed that a protective member that covers a part of the transparent electrode and the conductive paste is provided, and that a transparent insulating sheet made of PET is used as the protective member.

しかしながら、特許文献1の保護膜は、ポリエステル等の一般的な熱可塑性樹脂からなるため、耐硫化性に劣るという問題があった。また、特許文献2の保護部材は、透明絶縁シートであるため、印刷によるパターニングを行うことができない上、保護部材形成の際には専用の熱圧着装置が必要となるという問題があった。 However, since the protective film of Patent Document 1 is made of a general thermoplastic resin such as polyester, there is a problem that it is inferior in sulfidation resistance. Moreover, since the protective member of Patent Document 2 is a transparent insulating sheet, patterning by printing cannot be performed, and a dedicated thermocompression bonding apparatus is required when forming the protective member.

特表2009−505358号公報Special table 2009-505358 特開2007−52975号公報JP 2007-52975 A

本発明は、樹脂フィルム、透明電極及び接続部に対する密着性、透明性、耐紫外線性、耐硫化性、耐熱性、耐水性、耐湿熱性等に優れるオーバーコート層及びプライマー層を形成するための、印刷性に優れる被覆組成物を提供することを目的とする。 The present invention is for forming an overcoat layer and a primer layer that are excellent in adhesion to a resin film, a transparent electrode and a connection portion, transparency, ultraviolet resistance, sulfidation resistance, heat resistance, water resistance, moisture heat resistance, etc. It aims at providing the coating composition which is excellent in printability.

本発明者らは、鋭意検討の結果、特定のTgを有する熱可塑性樹脂を含有する被覆組成物を用いることで、耐硫化性が改善され、密着性、透明性、耐紫外線性、耐硫化性、耐熱性、耐水性、耐湿熱性等に優れたオーバーコート層及びプライマー層を形成することができること、また、該被覆組成物が印刷性に優れることを見出し、本発明を完成した。 As a result of intensive studies, the present inventors have improved the sulfur resistance by using a coating composition containing a thermoplastic resin having a specific Tg, and have improved adhesion, transparency, ultraviolet resistance, and sulfur resistance. The present inventors have found that an overcoat layer and a primer layer excellent in heat resistance, water resistance, wet heat resistance and the like can be formed, and that the coating composition is excellent in printability.

即ち、本発明は、
(a)Tgが30℃以上である熱可塑性樹脂、
(b)紫外線吸収剤、及び、
(c)有機溶剤
を含み、印刷により塗工可能であることを特徴とする、静電容量式スイッチの電極構造のための被覆組成物に関する。
That is, the present invention
(A) a thermoplastic resin having a Tg of 30 ° C. or higher,
(B) an ultraviolet absorber, and
(C) The present invention relates to a coating composition for an electrode structure of a capacitive switch, which contains an organic solvent and can be applied by printing.

本発明の被覆組成物において、(a)熱可塑性樹脂は、重量平均分子量が2,000〜200,000であり、かつ、酸価が50mgKOH/g以下であるポリエステルであることが好ましい。 In the coating composition of the present invention, (a) the thermoplastic resin is preferably a polyester having a weight average molecular weight of 2,000 to 200,000 and an acid value of 50 mgKOH / g or less.

本発明の被覆組成物において、(b)紫外線吸収剤がベンゾトリアゾール又はトリアジンであることが好ましい。 In the coating composition of the present invention, it is preferable that (b) the ultraviolet absorber is benzotriazole or triazine.

本発明の被覆組成物は、印刷により形成された被覆層の水接触角が65°以下であることが好ましい。 In the coating composition of the present invention, the water contact angle of the coating layer formed by printing is preferably 65 ° or less.

本発明の被覆組成物は、(j)親水性付与剤をさらに含むことが好ましく、(j)親水性付与剤は、ポリエーテル変性ウレタン系化合物、ポリエーテル変性アクリレート系化合物、及び、ポリエーテル変性シリコーン系化合物からなる群より選択される少なくとも1つであることが好ましい。 The coating composition of the present invention preferably further comprises (j) a hydrophilicity-imparting agent, and (j) the hydrophilicity-imparting agent comprises a polyether-modified urethane compound, a polyether-modified acrylate compound, and a polyether-modified compound. It is preferably at least one selected from the group consisting of silicone compounds.

本発明の被覆組成物において、(a)熱可塑性樹脂の水接触角が65°以下であることが好ましい。 In the coating composition of the present invention, (a) the water contact angle of the thermoplastic resin is preferably 65 ° or less.

本発明の被覆組成物は、(d)スリップ剤として無機微粒子系スリップ剤をさらに含むことが好ましい。 The coating composition of the present invention preferably further comprises (d) an inorganic fine particle slip agent as a slip agent.

本発明はまた、
樹脂フィルム(A)、
樹脂フィルム(A)上に(f)導電性ポリマーを含む導電性組成物を用いて形成された透明電極(B)、
透明電極(B)の一部と接触するように形成された接続部(C)、及び、
透明電極(B)と接続部(C)の少なくとも一部を被覆するように、本発明の被覆組成物を用いて形成されたオーバーコート層(D)
を備えることを特徴とする静電容量式スイッチの電極構造に関する。
The present invention also provides
Resin film (A),
A transparent electrode (B) formed on the resin film (A) using (f) a conductive composition containing a conductive polymer;
A connection part (C) formed so as to be in contact with a part of the transparent electrode (B), and
Overcoat layer (D) formed using the coating composition of the present invention so as to cover at least a part of the transparent electrode (B) and the connecting portion (C)
It is related with the electrode structure of the electrostatic capacitance type switch characterized by comprising.

本発明の電極構造において、導電性組成物が、(g)Tgが0℃以上である熱可塑性樹脂をさらに含むことが好ましい。 In the electrode structure of the present invention, the conductive composition preferably further includes (g) a thermoplastic resin having a Tg of 0 ° C. or higher.

本発明の電極構造において、樹脂フィルム(A)が、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂及びアクリル樹脂からなる群より選択される少なくとも1つの樹脂を含むことが好ましい。 In the electrode structure of the present invention, it is preferable that the resin film (A) contains at least one resin selected from the group consisting of a polyester resin, a polycarbonate resin, and an acrylic resin.

本発明の電極構造において、(f)導電性ポリマーが、ポリ(3,4−二置換チオフェン)、又は、ポリ(3,4−二置換チオフェン)とポリ陰イオンとの複合体であることが好ましい。 In the electrode structure of the present invention, (f) the conductive polymer is poly (3,4-disubstituted thiophene) or a complex of poly (3,4-disubstituted thiophene) and polyanion. preferable.

本発明の電極構造において、接続部(C)が、銀ペースト、銅ペースト及びカーボンペーストからなる群より選択される少なくとも1つの導電性ペーストを用いて形成されることが好ましい。 In the electrode structure of the present invention, the connecting portion (C) is preferably formed using at least one conductive paste selected from the group consisting of silver paste, copper paste, and carbon paste.

本発明の電極構造は、樹脂フィルム(A)と透明電極(B)との間に、プライマー層(E)をさらに備えることが好ましく、プライマー層(E)は、本発明の被覆組成物を用いて形成されることが好ましい。 The electrode structure of the present invention preferably further comprises a primer layer (E) between the resin film (A) and the transparent electrode (B), and the primer layer (E) uses the coating composition of the present invention. It is preferable to be formed.

本発明はまた、
本発明の電極構造を製造するための方法であって、
下記工程(2)〜(4)を含むことを特徴とする電極構造の製造方法に関する(第一の本発明の電極構造の製造方法)。
(2)樹脂フィルム(A)上に、(f)導電性ポリマーを含む導電性組成物を印刷することにより透明電極(B)を形成する工程、
(3)透明電極(B)の一部と接触するように導電性ペーストを印刷することにより接続部(C)を形成する工程、及び、
(4)透明電極(B)と接続部(C)の少なくとも一部を被覆するように、本発明の被覆組成物を印刷することによりオーバーコート層(D)を形成する工程
The present invention also provides
A method for manufacturing the electrode structure of the present invention, comprising:
The present invention relates to a method for producing an electrode structure comprising the following steps (2) to (4) (a method for producing an electrode structure of the first invention).
(2) A step of forming a transparent electrode (B) by printing a conductive composition containing a conductive polymer (f) on the resin film (A),
(3) a step of forming a connection part (C) by printing a conductive paste so as to be in contact with a part of the transparent electrode (B); and
(4) A step of forming the overcoat layer (D) by printing the coating composition of the present invention so as to cover at least a part of the transparent electrode (B) and the connecting portion (C).

本発明はまた、
プライマー層(E)を備える本発明の電極構造を製造するための方法であって、
下記工程(1)〜(4)を含むことを特徴とする電極構造の製造方法に関する(第二の本発明の電極構造の製造方法)。
(1)樹脂フィルム(A)上に、印刷によりプライマー層(E)を形成する工程、
(2)プライマー層(E)上に、(f)導電性ポリマーを含む導電性組成物を印刷することにより透明電極(B)を形成する工程、
(3)透明電極(B)の一部と接触するように導電性ペーストを印刷することにより接続部(C)を形成する工程、及び、
(4)透明電極(B)と接続部(C)の少なくとも一部を被覆するように、本発明の被覆組成物を印刷することによりオーバーコート層(D)を形成する工程
The present invention also provides
A method for producing an electrode structure of the present invention comprising a primer layer (E),
The present invention relates to a method for producing an electrode structure comprising the following steps (1) to (4) (a method for producing an electrode structure of the second invention).
(1) A step of forming a primer layer (E) by printing on the resin film (A),
(2) On the primer layer (E), (f) a step of forming a transparent electrode (B) by printing a conductive composition containing a conductive polymer;
(3) a step of forming a connection part (C) by printing a conductive paste so as to be in contact with a part of the transparent electrode (B); and
(4) A step of forming the overcoat layer (D) by printing the coating composition of the present invention so as to cover at least a part of the transparent electrode (B) and the connecting portion (C).

第二の本発明の電極構造の製造方法では、工程(1)において、本発明の被覆組成物を用いてプライマー層(E)を形成することが好ましい。 In the second method for producing an electrode structure of the present invention, it is preferable to form the primer layer (E) using the coating composition of the present invention in the step (1).

本発明はまた、
(f)導電性ポリマー、及び、
(g)Tgが0℃以上である熱可塑性樹脂
を含み、印刷により塗工可能であることを特徴とする、本発明の電極構造において透明電極(B)を形成するための導電性組成物に関する。
The present invention also provides
(F) a conductive polymer, and
(G) A conductive composition for forming a transparent electrode (B) in the electrode structure of the present invention, which comprises a thermoplastic resin having a Tg of 0 ° C. or more and can be applied by printing. .

本発明の導電性組成物において、(g)熱可塑性樹脂は、重量平均分子量が2,000〜200,000であり、かつ、酸価が50mgKOH/g以下であるポリエステルであることが好ましい。 In the conductive composition of the present invention, the (g) thermoplastic resin is preferably a polyester having a weight average molecular weight of 2,000 to 200,000 and an acid value of 50 mgKOH / g or less.

本発明の導電性組成物において、(f)導電性ポリマーが、ポリ(3,4−二置換チオフェン)、又は、ポリ(3,4−二置換チオフェン)とポリ陰イオンとの複合体であることが好ましい。 In the conductive composition of the present invention, (f) the conductive polymer is poly (3,4-disubstituted thiophene) or a complex of poly (3,4-disubstituted thiophene) and a polyanion. It is preferable.

本発明の被覆組成物は、特定のTgを有する熱可塑性樹脂を含有するため、耐硫化性が改善され、密着性、透明性、耐紫外線性、耐硫化性、耐熱性、耐水性、耐湿熱性等に優れるオーバーコート層及びプライマー層を形成することができ、印刷性にも優れる。そのため、静電容量式スイッチの電極構造においてオーバーコート層及びプライマー層を形成するために好適に使用することができる。 Since the coating composition of the present invention contains a thermoplastic resin having a specific Tg, the sulfidation resistance is improved, and adhesion, transparency, ultraviolet resistance, sulfidation resistance, heat resistance, water resistance, and heat and moisture resistance are improved. It is possible to form an overcoat layer and a primer layer that are excellent in the above, and excellent printability. Therefore, it can be suitably used for forming the overcoat layer and the primer layer in the electrode structure of the capacitive switch.

<<被覆組成物>>
まず、本発明の被覆組成物について詳細に説明する。
本発明の被覆組成物は、
(a)Tgが30℃以上である熱可塑性樹脂、
(b)紫外線吸収剤、及び、
(c)有機溶剤
を含み、印刷により塗工可能であることを特徴とする、静電容量式スイッチの電極構造のための被覆組成物である。
本発明の被覆組成物を用いることで、静電容量式スイッチの電極構造を形成する上で必要なオーバーコート層及びプライマー層(以下、オーバーコート層とプライマー層とを総称して被覆層ということもある)を得ることができる。
<< Coating composition >>
First, the coating composition of the present invention will be described in detail.
The coating composition of the present invention comprises:
(A) a thermoplastic resin having a Tg of 30 ° C. or higher,
(B) an ultraviolet absorber, and
(C) A coating composition for an electrode structure of a capacitive switch, which contains an organic solvent and can be applied by printing.
By using the coating composition of the present invention, an overcoat layer and a primer layer necessary for forming an electrode structure of a capacitive switch (hereinafter, the overcoat layer and the primer layer are collectively referred to as a coating layer). Can also be obtained).

<(a)熱可塑性樹脂>
本発明の被覆組成物は、(a)Tgが30℃以上である熱可塑性樹脂(以下、単に(a)成分ともいう)を含有することが極めて重要であり、この(a)成分に基づいて、得られる被覆層の耐硫化性が向上する。
<(A) Thermoplastic resin>
It is extremely important that the coating composition of the present invention contains (a) a thermoplastic resin having a Tg of 30 ° C. or higher (hereinafter, also simply referred to as “component (a)”). The sulfidation resistance of the resulting coating layer is improved.

(a)成分としては、Tgが30℃以上である限り特に限定されず、ポリエステル、ポリウレタン、アクリル樹脂、オレフィン樹脂等の熱可塑性樹脂が挙げられる。これらの中では、密着性、透明性の観点からポリエステルが好ましい。これらの(a)成分は、単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 The component (a) is not particularly limited as long as Tg is 30 ° C. or higher, and examples thereof include thermoplastic resins such as polyester, polyurethane, acrylic resin, and olefin resin. In these, polyester is preferable from a viewpoint of adhesiveness and transparency. These (a) components may be used independently and may use 2 or more types together.

(a)成分のTgは、30℃以上である限り特に限定されないが、35℃以上であることが好ましく、40℃以上であることがさらに好ましい。Tgが30℃未満であると、耐硫化性が悪くなることがある。Tgの上限は、特に限定されないが、例えば110℃である。110℃を超えると、柔軟性がなくなり、クラック等の不具合が生じることがある。 The Tg of the component (a) is not particularly limited as long as it is 30 ° C. or higher, but is preferably 35 ° C. or higher, and more preferably 40 ° C. or higher. When Tg is less than 30 ° C., the sulfidation resistance may deteriorate. Although the upper limit of Tg is not specifically limited, For example, it is 110 degreeC. If it exceeds 110 ° C., the flexibility is lost, and defects such as cracks may occur.

(a)成分の重量平均分子量は、特に限定されないが、2,000〜200,000であることが好ましく、2,500〜100,000であることがより好ましい。重量平均分子量が2,000未満であると、被覆層形成後にブリードアウトすることがあり、200,000を超えると、糸曳きし易くなり、印刷性が悪化することがある。 Although the weight average molecular weight of (a) component is not specifically limited, It is preferable that it is 2,000-200,000, and it is more preferable that it is 2,500-100,000. If the weight average molecular weight is less than 2,000, bleeding may occur after the coating layer is formed, and if it exceeds 200,000, stringing is likely to occur and printability may be deteriorated.

(a)成分の酸価は、特に限定されないが、50mgKOH/g以下であることが好ましく、30mgKOH/g以下であることがより好ましい。酸価が50mgKOH/gを超えると、糸曳きし易くなり、印刷性が悪化することがある。酸価の下限は、特に限定されないが、例えば、0.1mgKOH/gである。 Although the acid value of (a) component is not specifically limited, It is preferable that it is 50 mgKOH / g or less, and it is more preferable that it is 30 mgKOH / g or less. When the acid value exceeds 50 mgKOH / g, stringing is likely to occur and printability may be deteriorated. Although the minimum of an acid value is not specifically limited, For example, it is 0.1 mgKOH / g.

(a)成分の水接触角は、特に限定されないが、65°以下であることが好ましく、60°以下であることがより好ましい。(a)成分の水接触角が65°以下であると、印刷により形成された被覆層の水接触角を65°以下とすることができる。一方、(a)成分の水接触角が65°を超えると、被覆層に対する導電性組成物の印刷性が悪くなることがある。 Although the water contact angle of (a) component is not specifically limited, It is preferable that it is 65 degrees or less, and it is more preferable that it is 60 degrees or less. When the water contact angle of the component (a) is 65 ° or less, the water contact angle of the coating layer formed by printing can be 65 ° or less. On the other hand, when the water contact angle of the component (a) exceeds 65 °, the printability of the conductive composition on the coating layer may be deteriorated.

(a)成分の含有量(含有される(a)成分の固形分量)は、特に限定されないが、本発明の被覆組成物中、10〜70重量%であることが好ましく、20〜60重量%であることがより好ましい。含有量が10重量%未満であると、粘度が低くなり印刷性が悪化したり、仮に印刷できた場合でも、被覆層の膜耐性が不十分となることがあり、70重量%を超えると、粘度が高くなり印刷性が悪くなることがある。 The content of component (a) (solid content of component (a) contained) is not particularly limited, but is preferably 10 to 70% by weight in the coating composition of the present invention, and is 20 to 60% by weight. It is more preferable that When the content is less than 10% by weight, the viscosity is low and the printability is deteriorated, or even if printing is possible, the film resistance of the coating layer may be insufficient. When the content exceeds 70% by weight, Viscosity may increase and printability may deteriorate.

<(b)紫外線吸収剤>
(b)紫外線吸収剤(以下、単に(b)成分ともいう)としては、特に限定されないが、例えば、ベンゾトリアゾール、トリアジン、ベンゾフェノン等が挙げられる。これらの中では、ブリードアウトしにくく、耐紫外線性に優れることから、ベンゾトリアゾール及びトリアジンが好ましい。これらの(b)成分は、単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。
<(B) UV absorber>
(B) Although it does not specifically limit as a ultraviolet absorber (henceforth only (b) component), For example, a benzotriazole, a triazine, a benzophenone etc. are mentioned. Among these, benzotriazole and triazine are preferable because they are difficult to bleed out and have excellent ultraviolet resistance. These (b) components may be used independently and may use 2 or more types together.

(b)成分の含有量は、特に限定されないが、本発明の被覆組成物中、0.1〜20重量%であることが好ましく、1〜10重量%であることがより好ましい。含有量が0.1重量%未満であると、耐紫外線性が不十分となることがあり、20重量%を超えると、被覆層形成後にブリードアウトすることがある。 Although content of (b) component is not specifically limited, It is preferable that it is 0.1-20 weight% in the coating composition of this invention, and it is more preferable that it is 1-10 weight%. When the content is less than 0.1% by weight, the UV resistance may be insufficient. When the content exceeds 20% by weight, bleeding may occur after the coating layer is formed.

<(c)有機溶剤>
(c)有機溶剤(以下、単に(c)成分ともいう)としては、特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−プロパノール、グリセリン等のアルコール類;エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール等のエチレングリコール類;エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のグリコールエーテル類;エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルアセテート類;プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のプロピレングリコール類;エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル等のプロピレングリコールエーテル類;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールエーテルアセテート類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノン、プロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、β−ブチロラクトン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ジアセトンアルコール、アセトン等のケトン類;トルエン、キシレン(o−、m−、あるいはp−キシレン)、ベンゼン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;クロロメタン(塩化メチル)、ジクロロメタン(塩化メチレン)、トリクロロメタン(クロロホルム)、テトラクロロメタン(四塩化炭素)等のハロゲン類;テトラヒドロフラン;N−メチルピロリドン;アセトニトリル等が挙げられる。これらの中では、印刷版上での乾燥性の観点から、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノン、プロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ジアセトンアルコール等の、沸点が100℃以上のケトン類が好ましい。これらの(c)成分は、単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。
<(C) Organic solvent>
(C) Although it does not specifically limit as an organic solvent (henceforth only (c) component), For example, alcohols, such as methanol, ethanol, 2-propanol, 1-propanol, glycerol; Ethylene glycol, diethylene glycol, triglyceride Ethylene glycols such as ethylene glycol and tetraethylene glycol; glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol diethyl ether and diethylene glycol dimethyl ether; ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether Glycol ether acetates such as acetate; propylene glycol Propylene glycols such as dipropylene glycol and tripropylene glycol; ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, propylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether , Propylene glycol ethers such as propylene glycol diethyl ether and dipropylene glycol diethyl ether; propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol monoethyl ether acetate Propylene glycol ether acetates such as methyl acetate; methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, isophorone, cyclohexanone, propylene carbonate, γ-butyrolactone, β-butyrolactone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, diacetone alcohol, acetone, etc. Ketones; hydrocarbons such as toluene, xylene (o-, m-, or p-xylene), benzene, hexane, heptane; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; chloromethane (methyl chloride), dichloromethane (salt) Methylene), trichloromethane (chloroform), halogens such as tetrachloromethane (carbon tetrachloride); tetrahydrofuran; N-methylpyrrolidone; acetonitrile and the like. Among these, from the viewpoint of drying on the printing plate, the boiling points of methyl isobutyl ketone, isophorone, cyclohexanone, propylene carbonate, γ-butyrolactone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, diacetone alcohol, etc. Is preferably a ketone having a temperature of 100 ° C. or higher. These (c) components may be used independently and may use 2 or more types together.

(c)成分の含有量は、特に限定されないが、本発明の被覆組成物中、1〜60重量%であることが好ましく、2〜40重量%であることがより好ましい。含有量が1重量%未満であると、被覆組成物の粘度が高くなり印刷性が悪くなることがあり、60重量%を超えると、被覆組成物の粘度が低くなり印刷性が悪くなることがある。 Although content of (c) component is not specifically limited, It is preferable that it is 1 to 60 weight% in the coating composition of this invention, and it is more preferable that it is 2 to 40 weight%. If the content is less than 1% by weight, the viscosity of the coating composition may increase and printability may deteriorate, and if it exceeds 60% by weight, the viscosity of the coating composition may decrease and printability may deteriorate. is there.

<任意成分>
本発明の被覆組成物は、(a)〜(c)成分に加えて、任意に他の成分を含有していても良い。他の成分としては、特に限定されないが、(d)スリップ剤、(e)界面活性剤、消泡剤、密着性向上剤、架橋剤、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂、(j)親水性付与剤等が挙げられる。
<Optional component>
The coating composition of the present invention may optionally contain other components in addition to the components (a) to (c). Other components include, but are not limited to, (d) slip agent, (e) surfactant, antifoaming agent, adhesion improver, cross-linking agent, thermosetting resin, photocurable resin, (j) hydrophilic And a property-imparting agent.

本発明の被覆組成物をオーバーコート層(D)の形成に用いる場合、本発明の被覆組成物は(d)スリップ剤を含有していても良い。(d)スリップ剤(以下、単に(d)成分ともいう)としては、特に限定されないが、例えば、無機微粒子系スリップ剤、シリコン系スリップ剤、フッ素系スリップ剤等が挙げられる。これらの中では、アンチブロッキング性が良好であることから、無機微粒子系スリップ剤が好ましい。これらの(d)成分は、単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 When the coating composition of the present invention is used for forming the overcoat layer (D), the coating composition of the present invention may contain (d) a slip agent. (D) The slip agent (hereinafter also simply referred to as component (d)) is not particularly limited, and examples thereof include inorganic fine particle slip agents, silicon slip agents, and fluorine slip agents. In these, since an antiblocking property is favorable, an inorganic fine particle type slip agent is preferable. These (d) components may be used independently and may use 2 or more types together.

無機微粒子系スリップ剤としては、特に限定されないが、例えば、シリカ微粒子、アルミナ微粒子、酸化チタン微粒子、酸化ジルコニア微粒子等が挙げられる。これらの中では、透明性、分散性の観点から、シリカ微粒子、アルミナ微粒子が好ましい。これらの無機微粒子系スリップ剤は単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 The inorganic fine particle slip agent is not particularly limited, and examples thereof include silica fine particles, alumina fine particles, titanium oxide fine particles, and zirconia oxide fine particles. Among these, silica fine particles and alumina fine particles are preferable from the viewpoints of transparency and dispersibility. These inorganic fine particle slip agents may be used alone or in combination of two or more.

シリコン系スリップ剤としては、特に限定されないが、例えば、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ポリエステル変性ポリジメチルシロキサン等が挙げられる。これらのシリコン系スリップ剤は単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 Although it does not specifically limit as a silicon-type slip agent, For example, polyether modified polydimethylsiloxane, polyester modified polydimethylsiloxane, etc. are mentioned. These silicone slip agents may be used alone or in combination of two or more.

フッ素系スリップ剤としては、特に限定されないが、例えば、パーフルオロアルキルエチレンオキサイド付加物等が挙げられる。これらのフッ素系スリップ剤は単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 Although it does not specifically limit as a fluorine-type slip agent, For example, a perfluoroalkyl ethylene oxide adduct etc. are mentioned. These fluorine-based slip agents may be used alone or in combination of two or more.

本発明の被覆組成物が(d)成分を含有する場合、その含有量は、特に限定されないが、本発明の被覆組成物中0.01〜10重量%であることが好ましく、0.05〜5重量%であることがより好ましい。含有量が0.01重量%未満であると、アンチブロッキング性が悪くなることがあり、10重量%を超えると、透明性が悪化することがある。 When the coating composition of the present invention contains the component (d), the content is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 10% by weight in the coating composition of the present invention, 0.05 to More preferably, it is 5% by weight. When the content is less than 0.01% by weight, the anti-blocking property may be deteriorated, and when it exceeds 10% by weight, the transparency may be deteriorated.

(e)界面活性剤(以下、単に(e)成分ともいう)としては、特に限定されず公知の界面活性剤を使用することができるが、表面張力低下能の観点からは、シロキサン系化合物、フッ素系化合物及びアクリル系化合物からなる群より選択される少なくとも1つが好ましい。これらの(e)成分は単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 (E) Surfactant (hereinafter, also simply referred to as component (e)) is not particularly limited and a known surfactant can be used. From the viewpoint of surface tension reducing ability, a siloxane compound, At least one selected from the group consisting of fluorine compounds and acrylic compounds is preferred. These (e) components may be used independently and may use 2 or more types together.

シロキサン系化合物としては、特に限定されないが、例えば、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性シロキサン、ポリエーテルエステル変性水酸基含有ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性アクリル基含有ポリジメチルシロキサン、ポリエステル変性アクリル基含有ポリジメチルシロキサン、パーフルオロポリジメチルシロキサン、パーフルオロポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、パーフルオロポリエステル変性ポリジメチルシロキサン等が挙げられる。これらの中では、表面張力低下能の観点から、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサンが好ましい。これらのシロキサン系化合物は単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 The siloxane compound is not particularly limited. For example, polyether-modified polydimethylsiloxane, polyether-modified siloxane, polyetherester-modified hydroxyl group-containing polydimethylsiloxane, polyether-modified acrylic group-containing polydimethylsiloxane, polyester-modified acrylic group-containing Examples thereof include polydimethylsiloxane, perfluoropolydimethylsiloxane, perfluoropolyether-modified polydimethylsiloxane, and perfluoropolyester-modified polydimethylsiloxane. Of these, polyether-modified polydimethylsiloxane is preferred from the viewpoint of surface tension reducing ability. These siloxane compounds may be used alone or in combination of two or more.

フッ素系化合物としては、特に限定されないが、例えば、パーフルオロアルキルカルボン酸、パーフルオロアルキルポリオキシエチレンエタノール等が挙げられる。これらのフッ素系化合物は単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 Although it does not specifically limit as a fluorine-type compound, For example, perfluoroalkyl carboxylic acid, perfluoroalkyl polyoxyethylene ethanol, etc. are mentioned. These fluorine compounds may be used alone or in combination of two or more.

アクリル系化合物としては、特に限定されないが、例えば、アクリル系共重合物等が挙げられる。これらのアクリル系化合物は単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 Although it does not specifically limit as an acryl-type compound, For example, an acryl-type copolymer etc. are mentioned. These acrylic compounds may be used alone or in combination of two or more.

本発明の被覆組成物が(e)成分を含有する場合、その含有量は、特に限定されないが、本発明の被覆組成物中0.01〜10重量%であることが好ましく、0.05〜5重量%であることがより好ましい。含有量が0.01重量%未満であると、表面張力低下能が得られないことがあり、10重量%を超えると、分散性が悪くなることがある。 When the coating composition of the present invention contains the component (e), the content is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 10% by weight in the coating composition of the present invention, 0.05 to More preferably, it is 5% by weight. When the content is less than 0.01% by weight, the surface tension lowering ability may not be obtained, and when it exceeds 10% by weight, the dispersibility may be deteriorated.

本発明の被覆組成物に消泡剤を配合することにより、被覆組成物の泡立ち、泡かみを防止することができる。消泡剤としては、特に限定されないが、例えば、シリコーン樹脂、ポリジメチルシロキサン、シリコーンレジン等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を併用してもよい。本発明の被覆組成物が消泡剤を含有する場合、その含有量は、特に限定されないが、本発明の被覆組成物中0.005〜20重量%であることが好ましく、0.01〜10重量%であることがより好ましい。 By adding an antifoaming agent to the coating composition of the present invention, foaming and foaming of the coating composition can be prevented. Although it does not specifically limit as an antifoamer, For example, silicone resin, polydimethylsiloxane, silicone resin, etc. are mentioned. These may be used alone or in combination of two or more. When the coating composition of the present invention contains an antifoaming agent, the content is not particularly limited, but is preferably 0.005 to 20% by weight in the coating composition of the present invention, and 0.01 to 10 More preferably, it is% by weight.

密着性向上剤としては、特に限定されないが、例えば、イミダゾール系密着性向上剤、チアゾール系密着性向上剤、トリアゾール系密着性向上剤、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、ジルコニアカップリング剤、アルミニウムカップリング剤等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を併用してもよい。本発明の被覆組成物が密着性向上剤を含有する場合、その含有量は、特に限定されないが、本発明の被覆組成物中0.1〜20重量%であることが好ましく、0.5〜10重量%であることがより好ましい。 The adhesion improver is not particularly limited, but for example, an imidazole adhesion improver, a thiazole adhesion improver, a triazole adhesion improver, a silane coupling agent, a titanium coupling agent, a zirconia coupling agent, An aluminum coupling agent etc. are mentioned. These may be used alone or in combination of two or more. When the coating composition of the present invention contains an adhesion improver, the content is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 20% by weight in the coating composition of the present invention, 0.5 to More preferably, it is 10% by weight.

本発明の被覆組成物に架橋剤を配合することにより、(a)成分を架橋させることができ、被覆組成物を用いて形成する被覆層の強度をさらに向上させることができる。架橋剤としては、特に限定されないが、例えば、メラミン系、ポリカルボジイミド系、ポリオキサゾリン系、ポリエポキシ系、ポリイソシアネート系、ポリアクリレート系等の架橋剤が挙げられる。これらの架橋剤は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。本発明の被覆組成物が架橋剤を含有する場合、その含有量は、特に限定されないが、被覆組成物の固形分100重量部に対して、70重量部未満が好ましく、50重量部未満がより好ましい。架橋剤の含有量が70重量部以上であると、密着性が悪くなることがある。 By mix | blending a crosslinking agent with the coating composition of this invention, (a) component can be bridge | crosslinked and the intensity | strength of the coating layer formed using a coating composition can further be improved. Although it does not specifically limit as a crosslinking agent, For example, crosslinking agents, such as a melamine type, a polycarbodiimide type, a polyoxazoline type, a polyepoxy type, a polyisocyanate type, a polyacrylate type, are mentioned. These crosslinking agents may be used independently and may use 2 or more types together. When the coating composition of the present invention contains a crosslinking agent, the content thereof is not particularly limited, but is preferably less than 70 parts by weight and more preferably less than 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the solid content of the coating composition. preferable. When the content of the crosslinking agent is 70 parts by weight or more, the adhesion may be deteriorated.

熱硬化性樹脂としては、特に限定されないが、例えば、イソシアネート樹脂、メラミン樹脂、シリケート樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等が挙げられる。これらの熱硬化性樹脂は単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 Although it does not specifically limit as a thermosetting resin, For example, an isocyanate resin, a melamine resin, a silicate resin, an epoxy resin, a phenol resin etc. are mentioned. These thermosetting resins may be used alone or in combination of two or more.

光硬化性樹脂としては、紫外光の照射を受けることによって架橋し硬化するものであれば特に限定されないが、例えば、エポキシアクリレート樹脂、ウレタン(メタ)アクリレート樹脂、2官能以上のポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、カルボキシル変性型反応性ポリアクリレートに代表されるアクリレート樹脂、2官能以上のポリブタジエンアクリレート、シリコンアクリレート、アミノプラスト樹脂アクリレート、有機無機ハイブリッド樹脂等が挙げられる。これらの光硬化性樹脂は単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 The photocurable resin is not particularly limited as long as it can be crosslinked and cured by irradiation with ultraviolet light. For example, epoxy acrylate resin, urethane (meth) acrylate resin, bifunctional or higher polyester acrylate, polyether Examples include acrylate resins typified by acrylates and carboxyl-modified reactive polyacrylates, bifunctional or higher polybutadiene acrylates, silicon acrylates, aminoplast resin acrylates, and organic-inorganic hybrid resins. These photocurable resins may be used alone or in combination of two or more.

本発明の被覆組成物をプライマー層(E)の形成に用いる場合、本発明の被覆組成物は(j)親水性付与剤を含有していても良い。(j)親水性付与剤を含有することにより、印刷により形成されたプライマー層の水接触角を65°以下とすることができる。 When the coating composition of the present invention is used for forming the primer layer (E), the coating composition of the present invention may contain (j) a hydrophilicity-imparting agent. (J) By containing a hydrophilicity imparting agent, the water contact angle of the primer layer formed by printing can be made 65 ° or less.

(j)親水性付与剤(以下、単に(j)成分ともいう)としては、特に限定されないが、例えば、ポリエーテル変性ウレタン系化合物、ポリエーテル変性アクリレート系化合物、ポリエーテル変性シリコーン系化合物等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。これらの中では、分散性、及び、プライマー層と導電性組成物との密着性の観点から、ポリエーテル変性ウレタン系化合物、ポリエーテル変性アクリレート系化合物、及び、ポリエーテル変性シリコーン系化合物からなる群より選択される少なくとも1つを用いることが好ましい。 (J) The hydrophilicity-imparting agent (hereinafter also simply referred to as component (j)) is not particularly limited, and examples thereof include polyether-modified urethane compounds, polyether-modified acrylate compounds, and polyether-modified silicone compounds. Can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, from the viewpoint of dispersibility and adhesion between the primer layer and the conductive composition, a group consisting of a polyether-modified urethane compound, a polyether-modified acrylate compound, and a polyether-modified silicone compound. It is preferable to use at least one selected from the above.

本発明の被覆組成物が(j)成分を含有する場合、その含有量は、特に限定されないが、(a)熱可塑性樹脂100重量部に対して0.01〜5.0重量部であることが好ましく、0.05〜3.0重量部であることがより好ましい。含有量が0.01重量部未満であると、水接触角の低下が起こらないことがあり、5.0重量部を超えると、分散性の悪化や、プライマー層(E)と導電性組成物との密着性不良が起こることがある。 When the coating composition of this invention contains (j) component, the content is not specifically limited, but (a) It is 0.01-5.0 weight part with respect to 100 weight part of thermoplastic resins. Is more preferable, and it is more preferable that it is 0.05-3.0 weight part. When the content is less than 0.01 parts by weight, the water contact angle may not be lowered. When the content exceeds 5.0 parts by weight, the dispersibility is deteriorated, and the primer layer (E) and the conductive composition. Adhesion failure may occur.

本発明の被覆組成物の固形分濃度は、特に限定されないが、10〜70重量%であることが好ましく、20〜60重量%であることがより好ましい。固形分濃度が10重量%未満であると、被覆組成物の粘度が低くなり印刷性が悪くなることがあり、70重量%を超えると、被覆組成物の粘度が高くなり印刷性が悪くなることがある。 The solid content concentration of the coating composition of the present invention is not particularly limited, but is preferably 10 to 70% by weight, and more preferably 20 to 60% by weight. If the solid content concentration is less than 10% by weight, the viscosity of the coating composition may be low and printability may be deteriorated. There is.

本発明の被覆組成物の粘度は、特に限定されないが、1〜100dPa・sであることが好ましく、5〜50dPa・sであることがより好ましい。粘度が1dPa・s未満であると、印刷性が悪化することがあり、100dPa・sを超えると、印刷性が悪化することがある。 Although the viscosity of the coating composition of this invention is not specifically limited, It is preferable that it is 1-100 dPa * s, and it is more preferable that it is 5-50 dPa * s. When the viscosity is less than 1 dPa · s, the printability may deteriorate, and when it exceeds 100 dPa · s, the printability may deteriorate.

本発明の被覆組成物の表面張力は、特に限定されないが、1〜50mN/mであることが好ましく、10〜30mN/mであることがより好ましい。表面張力が1mN/m未満であると、印刷の際ににじみが発生することがあり、50mN/mを超えると、印刷の際にハジキが発生することがある。 The surface tension of the coating composition of the present invention is not particularly limited, but is preferably 1 to 50 mN / m, and more preferably 10 to 30 mN / m. If the surface tension is less than 1 mN / m, bleeding may occur during printing, and if it exceeds 50 mN / m, repelling may occur during printing.

本発明の被覆組成物は、印刷により塗工可能であることを特徴とする。ここで、印刷の具体的方法としては、特に限定されないが、例えば、スクリーン印刷、パッド印刷、グラビアオフセット印刷等のオフセット印刷が挙げられる。 The coating composition of the present invention can be applied by printing. Here, the specific method of printing is not particularly limited, and examples thereof include offset printing such as screen printing, pad printing, and gravure offset printing.

<<電極構造>>
次に、本発明の電極構造について詳細に説明する。
本発明の電極構造は、樹脂フィルム(A)、
樹脂フィルム(A)上に(f)導電性ポリマーを含む導電性組成物を用いて形成された透明電極(B)、
透明電極(B)の一部と接触するように形成された接続部(C)、及び、
透明電極(B)と接続部(C)の少なくとも一部を被覆するように、本発明の被覆組成物を用いて形成されたオーバーコート層(D)
を備えることを特徴とする静電容量式スイッチの電極構造である。
<< Electrode structure >>
Next, the electrode structure of the present invention will be described in detail.
The electrode structure of the present invention includes a resin film (A),
A transparent electrode (B) formed on the resin film (A) using (f) a conductive composition containing a conductive polymer;
A connection part (C) formed so as to be in contact with a part of the transparent electrode (B), and
Overcoat layer (D) formed using the coating composition of the present invention so as to cover at least a part of the transparent electrode (B) and the connecting portion (C)
It is an electrode structure of the electrostatic capacitance type switch characterized by comprising.

<樹脂フィルム(A)>
樹脂フィルム(A)の材質としては、特に限定されないが、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート、変性ポリエステル等のポリエステル樹脂、ポリエチレン(PE)樹脂、ポリプロピレン(PP)樹脂、ポリスチレン樹脂、環状オレフィン系樹脂等のポリオレフィン類樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)樹脂、ポリサルホン(PSF)樹脂、ポリエーテルサルホン(PES)樹脂、ポリカーボネート(PC)樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース(TAC)樹脂等が挙げられる。樹脂フィルム(A)は、密着性の観点からは、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂及びアクリル樹脂からなる群より選択される少なくとも1つの樹脂を含むことが好ましく、特に、ポリエチレンテレフタレート(PET)を含むことが好ましい。
<Resin film (A)>
The material of the resin film (A) is not particularly limited. Polyester resin such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate, and modified polyester, polyethylene (PE) resin, polypropylene (PP) resin, polystyrene resin, cyclic olefin type Polyolefin resins such as resins, vinyl resins such as polyvinyl chloride and polyvinylidene chloride, polyether ether ketone (PEEK) resin, polysulfone (PSF) resin, polyether sulfone (PES) resin, polycarbonate (PC) resin, Polyamide resin, polyimide resin, acrylic resin, triacetyl cellulose (TAC) resin, etc. are mentioned. The resin film (A) preferably includes at least one resin selected from the group consisting of a polyester resin, a polycarbonate resin, and an acrylic resin from the viewpoint of adhesion, and particularly includes polyethylene terephthalate (PET). preferable.

樹脂フィルム(A)の厚さは、特に限定されないが、10〜10000μmであることが好ましく、25〜5000μmであることがより好ましい。厚さが10μm未満であると、電極構造の強度が不十分となることがあり、10000μmを超えると、透明性が不十分となることがある。また、樹脂フィルム(A)には易接着層などが設けられていても良い。 Although the thickness of a resin film (A) is not specifically limited, It is preferable that it is 10-10000 micrometers, and it is more preferable that it is 25-5000 micrometers. When the thickness is less than 10 μm, the strength of the electrode structure may be insufficient, and when it exceeds 10,000 μm, the transparency may be insufficient. Moreover, the easily bonding layer etc. may be provided in the resin film (A).

<透明電極(B)>
透明電極(B)は、樹脂フィルム(A)上に(f)導電性ポリマーを含む導電性組成物を用いて形成される。
<Transparent electrode (B)>
The transparent electrode (B) is formed on the resin film (A) using a conductive composition containing (f) a conductive polymer.

(f)導電性ポリマー(以下、単に(f)成分ともいう)は、透明電極(B)に導電性を付与するために導電性組成物に配合される。(f)成分としては特に限定されず、従来公知の導電性ポリマーを用いることができ、具体例としては、例えば、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレン、ポリフェニレンビニレン、ポリナフタレン、及びこれらの誘導体が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を併用してもよい。中でも、チオフェン環を分子内に含むことで導電性が高い分子ができやすい点で、分子内にチオフェン環を少なくとも1つ含む導電性ポリマーが好ましい。(f)成分は、ポリ陰イオン等のドーパントと複合体を形成していてもよい。 (F) A conductive polymer (hereinafter also simply referred to as component (f)) is blended in the conductive composition in order to impart conductivity to the transparent electrode (B). The component (f) is not particularly limited, and a conventionally known conductive polymer can be used. Specific examples thereof include polythiophene, polypyrrole, polyaniline, polyacetylene, polyphenylene vinylene, polynaphthalene, and derivatives thereof. It is done. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, a conductive polymer including at least one thiophene ring in the molecule is preferable in that a molecule having high conductivity can be easily formed by including a thiophene ring in the molecule. The component (f) may form a complex with a dopant such as a polyanion.

分子内にチオフェン環を少なくとも1つ含む導電性ポリマーの中でも、導電性や化学的安定性に極めて優れている点で、ポリ(3,4−二置換チオフェン)がより好ましい。また、導電性ポリマーが、ポリ(3,4−二置換チオフェン)、又は、ポリ(3,4−二置換チオフェン)とポリ陰イオン(ドーパント)との複合体である場合、低温かつ短時間で透明電極(B)を形成することができ、生産性にも優れることとなる。なお、ポリ陰イオンは導電性ポリマーのドーパントであり、その内容については後述する。 Among the conductive polymers containing at least one thiophene ring in the molecule, poly (3,4-disubstituted thiophene) is more preferable because it is extremely excellent in conductivity and chemical stability. Further, when the conductive polymer is poly (3,4-disubstituted thiophene) or a composite of poly (3,4-disubstituted thiophene) and polyanion (dopant), it can be performed at a low temperature and in a short time. The transparent electrode (B) can be formed and the productivity is also excellent. In addition, poly anion is a dopant of a conductive polymer, and the content thereof will be described later.

ポリ(3,4−二置換チオフェン)としては、ポリ(3,4−ジアルコキシチオフェン)又はポリ(3,4−アルキレンジオキシチオフェン)が特に好ましい。ポリ(3,4−ジアルコキシチオフェン)又はポリ(3,4−アルキレンジオキシチオフェン)としては、以下の式(I): Poly (3,4-disubstituted thiophene) is particularly preferably poly (3,4-dialkoxythiophene) or poly (3,4-alkylenedioxythiophene). As poly (3,4-dialkoxythiophene) or poly (3,4-alkylenedioxythiophene), the following formula (I):

Figure 2017082187
Figure 2017082187

で示される反復構造単位からなる陽イオン形態のポリチオフェンが好ましい。
ここで、R及びRは相互に独立して水素原子又はC1−4のアルキル基を表すか、又は、R及びRが結合している場合にはC1−4のアルキレン基を表す。C1−4のアルキル基としては、特に限定されないが、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基等が挙げられる。
また、R及びRが結合している場合、C1−4のアルキレン基としては、特に限定されないが、例えば、メチレン基、1,2−エチレン基、1,3−プロピレン基、1,4−ブチレン基、1−メチル−1,2−エチレン基、1−エチル−1,2−エチレン基、1−メチル−1,3−プロピレン基、2−メチル−1,3−プロピレン基等が挙げられる。これらの中では、メチレン基、1,2−エチレン基、1,3−プロピレン基が好ましく、1,2−エチレン基がより好ましい。C1−4のアルキル基、及び、C1−4のアルキレン基は、その水素の一部が置換されていても良い。C1−4のアルキレン基を有するポリチオフェンとしては、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)が特に好ましい。
A polythiophene in a cationic form consisting of repeating structural units represented by
Here, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a C 1-4 alkyl group, or when R 1 and R 2 are bonded, a C 1-4 alkylene group. Represents. The C 1-4 alkyl group is not particularly limited, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a t-butyl group. .
In addition, when R 1 and R 2 are bonded, the C 1-4 alkylene group is not particularly limited, and examples thereof include a methylene group, a 1,2-ethylene group, a 1,3-propylene group, 1, 4-butylene group, 1-methyl-1,2-ethylene group, 1-ethyl-1,2-ethylene group, 1-methyl-1,3-propylene group, 2-methyl-1,3-propylene group, etc. Can be mentioned. Among these, a methylene group, 1,2-ethylene group, and 1,3-propylene group are preferable, and a 1,2-ethylene group is more preferable. In the C 1-4 alkyl group and the C 1-4 alkylene group, a part of hydrogen may be substituted. As the polythiophene having a C 1-4 alkylene group, poly (3,4-ethylenedioxythiophene) is particularly preferable.

(f)成分の重量平均分子量は、500〜100000の範囲であることが好ましく、1000〜50000の範囲であることがより好ましく、1500〜20000の範囲であることが最も好ましい。500未満の重量平均分子量では、導電性組成物に要求される粘度を確保することができないことや、透明電極(B)の導電性が低下することがある。 The weight average molecular weight of the component (f) is preferably in the range of 500 to 100,000, more preferably in the range of 1000 to 50000, and most preferably in the range of 1500 to 20000. When the weight average molecular weight is less than 500, the viscosity required for the conductive composition may not be ensured, and the conductivity of the transparent electrode (B) may be lowered.

ドーパントは特に限定されないが、ポリ陰イオンが好ましい。ポリ陰イオンは、ポリチオフェン(誘導体)とイオン対をなすことにより複合体を形成し、ポリチオフェン(誘導体)を水中に安定に分散させることができる。ポリ陰イオンとしては、特に限定されないが、例えば、カルボン酸ポリマー類(例えば、ポリアクリル酸、ポリマレイン酸、ポリメタクリル酸等)、スルホン酸ポリマー類(例えば、ポリスチレンスルホン酸、ポリビニルスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸等)等が挙げられる。これらのカルボン酸ポリマー類及びスルホン酸ポリマー類はまた、ビニルカルボン酸類及びビニルスルホン酸類と他の重合可能なモノマー類、例えば、アクリレート類、スチレン、ビニルナフタレン等の芳香族ビニル化合物との共重合体であっても良い。これらの中では、ポリスチレンスルホン酸が特に好ましい。 The dopant is not particularly limited, but a polyanion is preferable. The polyanion forms a complex by forming an ion pair with the polythiophene (derivative), and the polythiophene (derivative) can be stably dispersed in water. Although it does not specifically limit as a poly anion, For example, carboxylic acid polymers (for example, polyacrylic acid, polymaleic acid, polymethacrylic acid, etc.), sulfonic acid polymers (for example, polystyrene sulfonic acid, polyvinyl sulfonic acid, polyisoprene) Sulfonic acid etc.). These carboxylic acid polymers and sulfonic acid polymers are also copolymers of vinyl carboxylic acids and vinyl sulfonic acids with other polymerizable monomers such as aromatic vinyl compounds such as acrylates, styrene, vinyl naphthalene, etc. It may be. Among these, polystyrene sulfonic acid is particularly preferable.

ポリスチレンスルホン酸は、重量平均分子量が20000〜500000が好ましく、40000〜200000がより好ましい。分子量がこの範囲外のポリスチレンスルホン酸を使用すると、ポリチオフェン系導電性ポリマーの水に対する分散安定性が低下する場合がある。なお、重量平均分子量はゲル透過クロマトグラフィー(GPC)にて測定した値である。 The polystyrene sulfonic acid preferably has a weight average molecular weight of 20,000 to 500,000, more preferably 40,000 to 200,000. If polystyrene sulfonic acid having a molecular weight outside this range is used, the dispersion stability of the polythiophene conductive polymer in water may be lowered. The weight average molecular weight is a value measured by gel permeation chromatography (GPC).

(f)成分として、ポリ陰イオンとの複合体を用いる場合、透明性及び導電性に特に優れることから、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)とポリスチレンスルホン酸との複合体を用いることが好ましい。 (F) When using a complex with a polyanion as a component, since it is particularly excellent in transparency and conductivity, use a complex of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) and polystyrenesulfonic acid. Is preferred.

(f)成分の導電率は、特に限定されないが、透明電極(B)に十分な導電性を付与する観点からは、0.01S/cm以上であることが好ましく、0.05S/cm以上であることがより好ましい。 The conductivity of the component (f) is not particularly limited, but is preferably 0.01 S / cm or more and 0.05 S / cm or more from the viewpoint of imparting sufficient conductivity to the transparent electrode (B). More preferably.

導電性組成物において、(f)成分の含有量は特に限定されないが、例えば、透明電極(B)とした際に、0.01〜50.0mg/mとなる量が好ましく、0.1〜10.0mg/mとなる量がより好ましい。0.01mg/m未満では、透明電極(B)中の(f)成分の存在割合が少なくなり、透明電極(B)の導電性を十分に確保することができない場合があり、一方、50.0mg/mを超えると、透明電極(B)中の(f)成分の存在割合が多くなり、塗布膜の強度、成膜性に悪影響を与える原因となる場合がある。 In the conductive composition, the content of the component (f) is not particularly limited. For example, when the transparent electrode (B) is used, an amount of 0.01 to 50.0 mg / m 2 is preferable. An amount of ˜10.0 mg / m 2 is more preferred. If it is less than 0.01 mg / m 2 , the proportion of the component (f) in the transparent electrode (B) decreases, and the conductivity of the transparent electrode (B) may not be sufficiently secured. If it exceeds 0.0 mg / m 2 , the proportion of the component (f) in the transparent electrode (B) increases, which may cause adverse effects on the strength and film formability of the coating film.

導電性組成物は、(f)成分に加えて、任意に他の成分を含有していても良い。他の成分としては、特に限定されないが、(g)Tgが0℃以上である熱可塑性樹脂、(h)バインダー、(i)導電性向上剤、酸化防止剤、(e)界面活性剤、消泡剤、(d)スリップ剤、密着性向上剤、増粘剤、架橋剤、溶剤等が挙げられる。なお、(e)界面活性剤、消泡剤、(d)スリップ剤、密着性向上剤、架橋剤については、上述の被覆組成物と同様である。 The conductive composition may optionally contain other components in addition to the component (f). Other components include, but are not limited to, (g) a thermoplastic resin having a Tg of 0 ° C. or higher, (h) a binder, (i) a conductivity improver, an antioxidant, (e) a surfactant, Examples include foaming agents, (d) slip agents, adhesion improvers, thickeners, crosslinking agents, solvents, and the like. In addition, (e) surfactant, antifoaming agent, (d) slip agent, adhesion improver, and crosslinking agent are the same as those in the above-described coating composition.

導電性組成物は、膜強度、タック性の観点から、(g)Tgが0℃以上である熱可塑性樹脂(以下、単に(g)成分ともいう)をさらに含むことが好ましい。
(g)成分としては、Tgが0℃以上である限り特に限定されず、ポリエステル、ポリウレタン、アクリル樹脂、オレフィン樹脂等の熱可塑性樹脂が挙げられる。また、上述した(a)成分を(g)成分として用いても良い。これらの中では、樹脂フィルム(A)との密着性や透明性の観点からポリエステルが好ましい。これらの(g)成分は、単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。
From the viewpoint of film strength and tackiness, the conductive composition preferably further comprises (g) a thermoplastic resin having Tg of 0 ° C. or higher (hereinafter also simply referred to as component (g)).
The component (g) is not particularly limited as long as Tg is 0 ° C. or higher, and examples thereof include thermoplastic resins such as polyester, polyurethane, acrylic resin, and olefin resin. Moreover, you may use the (a) component mentioned above as a (g) component. Among these, polyester is preferable from the viewpoint of adhesion to the resin film (A) and transparency. These (g) components may be used independently and may use 2 or more types together.

(g)成分のTgは、0℃以上である限り特に限定されないが、10℃以上であることが好ましく、20℃以上であることがさらに好ましい。Tgが0℃未満であると、透明電極(B)の強度が悪くなったり、タックが発生したりすることがある。Tgの上限は、特に限定されないが、例えば110℃である。110℃を超えると、柔軟性がなくなり、クラック等の不具合が生じることがある。 (G) Although Tg of a component is not specifically limited as long as it is 0 degreeC or more, it is preferable that it is 10 degreeC or more, and it is more preferable that it is 20 degreeC or more. When Tg is less than 0 ° C., the strength of the transparent electrode (B) may be deteriorated or tack may be generated. Although the upper limit of Tg is not specifically limited, For example, it is 110 degreeC. If it exceeds 110 ° C., the flexibility is lost, and defects such as cracks may occur.

(g)成分の重量平均分子量は、特に限定されないが、2,000〜200,000であることが好ましく、2,500〜100,000であることがより好ましい。重量平均分子量が2,000未満であると、透明電極(B)とした場合にブリードアウトが発生することがあり、200,000を超えると、導電性組成物の液安定性が悪化したり、粘度が上がり過ぎ塗布性が低下することがある。 Although the weight average molecular weight of (g) component is not specifically limited, It is preferable that it is 2,000-200,000, and it is more preferable that it is 2,500-100,000. When the weight average molecular weight is less than 2,000, bleeding out may occur when the transparent electrode (B) is used. When the weight average molecular weight exceeds 200,000, the liquid stability of the conductive composition may deteriorate, Viscosity increases too much and applicability may decrease.

(g)成分の酸価は、特に限定されないが、50mgKOH/g以下であることが好ましく、30mgKOH/g以下であることがより好ましい。酸価が50mgKOH/gを超えると、導電性組成物の液安定性が悪化したり、粘度が上がり過ぎ塗布性が低下することがある。酸価の下限は、特に限定されないが、例えば、0.1mgKOH/gである。 (G) Although the acid value of a component is not specifically limited, It is preferable that it is 50 mgKOH / g or less, and it is more preferable that it is 30 mgKOH / g or less. When the acid value exceeds 50 mgKOH / g, the liquid stability of the electrically conductive composition may be deteriorated, or the viscosity may be excessively increased to lower the coating property. Although the minimum of an acid value is not specifically limited, For example, it is 0.1 mgKOH / g.

導電性組成物が(g)成分を含有する場合、その含有量は、特に限定されないが、導電性組成物中、0.1〜90重量%であることが好ましく、1〜80重量%であることがより好ましい。含有量が0.1重量%未満であると、透明電極(B)の強度が落ちることがあり、90重量%を超えると、導電性組成物の液安定性が悪化したり、粘度が上がり過ぎ塗布性が低下する他、十分な導電性が得られないことがある。 When the conductive composition contains the component (g), the content is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 90% by weight, and 1 to 80% by weight in the conductive composition. It is more preferable. If the content is less than 0.1% by weight, the strength of the transparent electrode (B) may decrease. If the content exceeds 90% by weight, the liquid stability of the conductive composition deteriorates or the viscosity increases excessively. In addition to the decrease in applicability, sufficient conductivity may not be obtained.

(h)バインダー(以下、単に(h)成分ともいう)は、導電性組成物中の配合物同士を結合させ、より確実に透明電極(B)(導電性パターンを含む)を形成させる目的で添加される。(h)成分としては、特に限定されないが、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、アルコキシシランオリゴマー、ポリオレフィン系樹脂等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 (H) The binder (hereinafter, also simply referred to as the (h) component) is used for the purpose of binding the blends in the conductive composition and forming the transparent electrode (B) (including the conductive pattern) more reliably. Added. (H) Although it does not specifically limit as a component, For example, a polyester-type resin, a polyurethane, an epoxy resin, an acrylic resin, an alkoxysilane oligomer, a polyolefin-type resin etc. are mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.

ポリエステル系樹脂としては、2つ以上のカルボキシル基を分子内に有する化合物と2つ以上のヒドロキシル基を有する化合物とを重縮合して得られた高分子化合物であれば特に限定されず、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 The polyester-based resin is not particularly limited as long as it is a polymer compound obtained by polycondensation of a compound having two or more carboxyl groups in the molecule and a compound having two or more hydroxyl groups. Examples thereof include polyethylene terephthalate, polytrimethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and polybutylene naphthalate. These may be used alone or in combination of two or more.

ポリウレタンとしては、イソシアネート基を有する化合物とヒドロキシル基を有する化合物を共重合させて得られた高分子化合物であれば特に限定されず、例えば、エステル・エーテル系ポリウレタン、エーテル系ポリウレタン、ポリエステル系ポリウレタン、カーボネート系ポリウレタン、アクリル系ポリウレタン等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 The polyurethane is not particularly limited as long as it is a polymer compound obtained by copolymerizing a compound having an isocyanate group and a compound having a hydroxyl group. For example, an ester / ether polyurethane, an ether polyurethane, a polyester polyurethane, Examples thereof include carbonate polyurethane and acrylic polyurethane. These may be used alone or in combination of two or more.

エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、フェノールノボラック型、ベンゼン環を多数有した多官能型であるテトラキス(ヒドロキシフェニル)エタン型またはトリス(ヒドロキシフェニル)メタン型、ビフェニル型、トリフェノールメタン型、ナフタレン型、オルソノボラック型、ジシクロペンタジエン型、アミノフェノール型、脂環式等のエポキシ樹脂、シリコーンエポキシ樹脂等が挙げられる。これらは、これらは単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 Examples of the epoxy resin include bisphenol A type, bisphenol F type, phenol novolac type, tetrakis (hydroxyphenyl) ethane type or tris (hydroxyphenyl) methane type, biphenyl type, triphenyl type, which have many benzene rings. Examples include phenol methane type, naphthalene type, ortho novolak type, dicyclopentadiene type, aminophenol type, alicyclic epoxy resin, silicone epoxy resin, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

アクリル樹脂としては、特に限定されないが、例えば、(メタ)アクリル系樹脂、ビニルエステル系樹脂等が挙げられる。これらのアクリル樹脂としては、例えば、カルボキシル基、酸無水物基、スルホン酸基、燐酸基などの酸基を有する重合性単量体を構成モノマーとして含む重合体であればよく、例えば、上記酸基を有する重合性単量体の単独又は共重合体、上記酸基を有する重合性単量体と共重合性単量体との共重合体等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 The acrylic resin is not particularly limited, and examples thereof include (meth) acrylic resins and vinyl ester resins. As these acrylic resins, for example, a polymer containing a polymerizable monomer having an acid group such as a carboxyl group, an acid anhydride group, a sulfonic acid group, or a phosphoric acid group as a constituent monomer may be used. Examples thereof include a single or copolymer of a polymerizable monomer having a group, a copolymer of a polymerizable monomer having a acid group and a copolymerizable monomer, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

アルコキシシランオリゴマーとしては、例えば、下記式(II)により表されるアルコキシシランのモノマー同士が縮合することで形成される高分子量化されたアルコキシシランであり、シロキサン結合(Si−O−Si)を1分子内に1個以上有するオリゴマー等が挙げられる。
SiR (II)
(式中、Rは、水素、水酸基、炭素数1〜4のアルコキシ基、置換基を有しても良いアルキル基、又は、置換基を有しても良いフェニル基である。但し、4つのRのうち少なくとも1個は炭素数1〜4のアルコキシ基又は水酸基である)
式(II)により表される化合物は単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。
The alkoxysilane oligomer is, for example, a high molecular weight alkoxysilane formed by condensation of alkoxysilane monomers represented by the following formula (II), and has a siloxane bond (Si—O—Si). Examples include oligomers having one or more in one molecule.
SiR 4 (II)
(In the formula, R represents hydrogen, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an alkyl group which may have a substituent, or a phenyl group which may have a substituent. At least one of R is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a hydroxyl group)
The compounds represented by the formula (II) may be used alone or in combination of two or more.

ポリオレフィン系樹脂としては、特に限定されないが、塩素化ポリプロピレン、非塩素化ポリプロピレン、塩素化ポリエチレン、非塩素化ポリエチレン等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 The polyolefin resin is not particularly limited, and examples thereof include chlorinated polypropylene, non-chlorinated polypropylene, chlorinated polyethylene, and non-chlorinated polyethylene. These may be used alone or in combination of two or more.

(h)成分の含有量は、特に限定されないが、(f)成分の固形分100重量部に対して0.1〜1000重量部が好ましく、5〜500重量部がより好ましい。0.1重量部未満であると、透明電極(B)の強度が弱くなることがあり、1000重量部を超えると、導電性組成物中の(f)成分の含有量が相対的に少なくなり、透明電極(B)とした際に十分な導電性を確保することができないことがある。 (H) Although content of a component is not specifically limited, 0.1-1000 weight part is preferable with respect to 100 weight part of solid content of (f) component, and 5-500 weight part is more preferable. If it is less than 0.1 part by weight, the strength of the transparent electrode (B) may be weakened. If it exceeds 1000 parts by weight, the content of the component (f) in the conductive composition is relatively reduced. When the transparent electrode (B) is used, sufficient conductivity may not be ensured.

(i)導電性向上剤(以下、単に(i)成分ともいう)は、導電性組成物を用いて形成した透明電極(B)の導電性を向上させる目的で添加される。(i)成分は、透明電極(B)を形成する際に加熱により蒸散するが、その際に(f)成分の配向を制御することで透明電極(B)の導電性を向上させるものと推定される。また、(i)成分を使用する場合、(i)成分を使用しない場合と比較して、表面抵抗率を維持しつつ(f)成分の配合量を少なく出来る結果、透明性を改善できる利点がある。 (I) The conductivity improver (hereinafter also simply referred to as component (i)) is added for the purpose of improving the conductivity of the transparent electrode (B) formed using the conductive composition. The component (i) evaporates by heating when forming the transparent electrode (B), and it is estimated that the conductivity of the transparent electrode (B) is improved by controlling the orientation of the component (f) at that time. Is done. Moreover, when (i) component is used, compared with the case where (i) component is not used, as a result of being able to reduce the compounding quantity of (f) component, maintaining the surface resistivity, there exists an advantage which can improve transparency. is there.

(i)成分は、透明導電膜の用途に必要な導電性を確実に確保するとの観点から、以下(i−1)〜(i−7)からなる群より選択される少なくとも1つであることが好ましい。
(i−1)沸点が60℃以上で分子内に少なくとも1つのケトン基を有する化合物
(i−2)沸点が100℃以上で分子内に少なくとも1つのエーテル基を有する化合物
(i−3)沸点が100℃以上で分子内に少なくとも1つのスルフィニル基を有する化合

(i−4)沸点が100℃以上で分子内に少なくとも1つのアミド基を有する化合物
(i−5)沸点が50℃以上で分子内に少なくとも1つのカルボキシル基を有する化合物
(i−6)沸点が100℃以上で分子内に2つ以上のヒドロキシル基を有する化合物
(i−7)沸点が100℃以上で分子内に少なくとも1つのラクタム基を有する化合物
The component (i) is at least one selected from the group consisting of the following (i-1) to (i-7) from the viewpoint of surely ensuring the conductivity necessary for the use of the transparent conductive film. Is preferred.
(I-1) Compound having a boiling point of 60 ° C. or higher and having at least one ketone group in the molecule (i-2) Compound having a boiling point of 100 ° C. or higher and having at least one ether group in the molecule (i-3) Boiling point Is a compound having a boiling point of 100 ° C. or higher and a compound having at least one amide group in the molecule (i-5) having a boiling point of 50 ° C. or higher. Compound (i-6) having at least one carboxyl group therein (i-6) Boiling point of 100 ° C. or higher and compound (i-7) having two or more hydroxyl groups in the molecule Boiling point of 100 ° C. or higher and at least one in the molecule Compound having lactam group

沸点が60℃以上で分子内に少なくとも1つのケトン基を有する化合物(i−1)としては、例えば、イソホロン、プロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、β−ブチロラクトン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 Examples of the compound (i-1) having a boiling point of 60 ° C. or higher and having at least one ketone group in the molecule include isophorone, propylene carbonate, γ-butyrolactone, β-butyrolactone, 1,3-dimethyl-2-imidazolide. Non etc. are mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.

沸点が100℃以上で分子内に少なくとも1つのエーテル基を有する化合物(i−2)としては、例えば、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、2−フェノキシエタノール、ジオキサン、モルホリン、4−アクリロイルモルホリン、N−メチルモルホリンN−オキシド、4−エチルモルホリン、2−メトキシフラン等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 Examples of the compound (i-2) having a boiling point of 100 ° C. or higher and having at least one ether group in the molecule include diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, 2-phenoxyethanol, dioxane, morpholine, and 4-acryloyl. Examples include morpholine, N-methylmorpholine N-oxide, 4-ethylmorpholine, and 2-methoxyfuran. These may be used alone or in combination of two or more.

沸点が100℃以上で分子内に少なくとも1つのスルフィニル基を有する化合物(i−3)としては、例えば、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。 Examples of the compound (i-3) having a boiling point of 100 ° C. or higher and having at least one sulfinyl group in the molecule include dimethyl sulfoxide and the like.

沸点が100℃以上で分子内に少なくとも1つのアミド基を有する化合物(i−4)としては、例えば、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、N−エチルアセトアミド、N−フェニル−N−プロピルアセトアミド、ベンズアミド等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 Examples of the compound (i-4) having a boiling point of 100 ° C. or higher and having at least one amide group in the molecule include N, N-dimethylacetamide, N-methylformamide, N, N-dimethylformamide, acetamide, N— Examples include ethylacetamide, N-phenyl-N-propylacetamide, and benzamide. These may be used alone or in combination of two or more.

沸点が50℃以上で分子内に少なくとも1つのカルボキシル基を有する化合物(i−5)としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、メタン酸、エタン酸、プロパン酸、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、オクタン酸、デカン酸、ドデカン酸、安息香酸、p−トルイル酸、p−クロロ安息香酸、p−ニトロ安息香酸、1−ナフトエ酸、2−ナフトエ酸、フタル酸、イソフタル酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、アジピン酸、マレイン酸、フマル酸等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 Examples of the compound (i-5) having a boiling point of 50 ° C. or higher and having at least one carboxyl group in the molecule include acrylic acid, methacrylic acid, methanoic acid, ethanoic acid, propanoic acid, butanoic acid, pentanoic acid and hexanoic acid. , Octanoic acid, decanoic acid, dodecanoic acid, benzoic acid, p-toluic acid, p-chlorobenzoic acid, p-nitrobenzoic acid, 1-naphthoic acid, 2-naphthoic acid, phthalic acid, isophthalic acid, oxalic acid, malon Examples include acid, succinic acid, adipic acid, maleic acid, fumaric acid and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

沸点が100℃以上で分子内に2つ以上のヒドロキシル基を有する化合物(i−6)としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレングリコール、β−チオジグリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、カテコール、シクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、グリセリン、エリトリトール、インマトール、ラクチトール、マルチトール、マンニトール、ソルビトール、キシリトール、スクロース等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 Examples of the compound (i-6) having a boiling point of 100 ° C. or higher and having two or more hydroxyl groups in the molecule include ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, trimethylene glycol, β-thiodiglycol, triethylene glycol, Tripropylene glycol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,3-butanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, catechol, cyclohexanediol, cyclohexanedimethanol, glycerin, erythritol, immutol , Lactitol, maltitol, mannitol, sorbitol, xylitol, sucrose and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

沸点が100℃以上で分子内に少なくとも1つのラクタム基を有する化合物(i−7)としては、例えば、N−メチルピロリドン、β−ラクタム、γ−ラクタム、δ−ラクタム、ε−カプロラクタム、ラウロラクタム等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 Examples of the compound (i-7) having a boiling point of 100 ° C. or higher and having at least one lactam group in the molecule include N-methylpyrrolidone, β-lactam, γ-lactam, δ-lactam, ε-caprolactam, laurolactam. Etc. These may be used alone or in combination of two or more.

(i)成分の沸点が特定温度以上であると、透明電極(B)形成時の加熱によって(i)成分が徐々に揮発していくことになるが、その過程で、(f)成分の配向を導電性にとって有利な配向に制御することになり、その結果、導電性が向上するものと考えられる。一方、(i)成分の沸点が特定温度に満たないものであると、急激に(i)成分が蒸発してしまうため、(f)成分の配向が十分に制御されず導電性の向上につながらないものと考えられる。 When the boiling point of the component (i) is equal to or higher than a specific temperature, the component (i) gradually volatilizes due to the heating during the formation of the transparent electrode (B). In the process, the orientation of the component (f) Is controlled to an orientation advantageous for conductivity, and as a result, the conductivity is considered to be improved. On the other hand, if the boiling point of the component (i) is less than the specific temperature, the component (i) evaporates abruptly, so that the orientation of the component (f) is not sufficiently controlled and the conductivity is not improved. It is considered a thing.

導電性組成物が(i)成分を含有する場合、その含有量は、特に限定されないが、(f)成分の固形分100重量部に対して5〜2000重量部が好ましく、10〜1500重量部がより好ましい。5重量部未満であると、(i)成分添加による導電性改善効果を充分に享受することができないことがある。一方、2000重量部を超えると、導電性組成物中の(f)成分の含有量が相対的に少なくなり、透明電極(B)とした際に十分な導電性が得られなくなることがある。 When the conductive composition contains the component (i), the content is not particularly limited, but is preferably 5 to 2000 parts by weight, and 10 to 1500 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the solid content of the component (f). Is more preferable. If it is less than 5 parts by weight, the effect of improving conductivity by adding component (i) may not be fully enjoyed. On the other hand, when it exceeds 2000 parts by weight, the content of the component (f) in the conductive composition is relatively reduced, and sufficient conductivity may not be obtained when the transparent electrode (B) is obtained.

酸化防止剤としては、特に限定されないが、例えば、還元性の水溶性酸化防止剤や非還元性の水溶性酸化防止剤等が挙げられる。還元性の水溶性酸化防止剤としては、例えば、L−アスコルビン酸、L−アスコルビン酸ナトリウム、L−アスコルビン酸カリウム、D(−)−イソアスコルビン酸(エリソルビン酸)、エリソルビン酸ナトリウム、エリソルビン酸カリウム等の2個の水酸基で置換されたラクトン環を有する化合物;マルトース、ラクトース、セロビオース、キシロース、アラビノース、グルコース、フルクトース、ガラクトース、マンノース等の単糖類又は二糖類(但し、スクロースを除く);カテキン、ルチン、ミリセチン、クエルセチン、ケンフェロール、サンメリン(登録商標)Y−AF等のフラボノイド;没食子酸、没食子酸メチル、没食子酸プロピル、タンニン酸、クルクミン、ロズマリン酸、クロロゲン酸、ヒドロキノン、3,4,5−トリヒドロキシ安息香酸等のフェノール性水酸基を2個以上有する化合物;システイン、グルタチオン、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトブチレート)等のチオール基を有する化合物等が挙げられる。非還元性の水溶性酸化防止剤としては、例えば、フェニルイミダゾールスルホン酸、フェニルトリアゾールスルホン酸、2−ヒドロキシピリミジン、サリチル酸フェニル、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸ナトリウム等の酸化劣化の原因となる紫外線を吸収する化合物等が挙げられる。これらの酸化防止剤は単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。導電性組成物が酸化防止剤を含有する場合、その含有量は、特に限定されないが、(f)導電性ポリマーの固形分100重量部に対して、0.001〜500重量部であることが好ましく、0.01〜300重量部であることがより好ましい。 Although it does not specifically limit as antioxidant, For example, a reducing water-soluble antioxidant, a non-reducing water-soluble antioxidant, etc. are mentioned. Examples of reducing water-soluble antioxidants include L-ascorbic acid, sodium L-ascorbate, potassium L-ascorbate, D (-)-isoascorbic acid (erythorbic acid), sodium erythorbate, potassium erythorbate A compound having a lactone ring substituted with two hydroxyl groups such as maltose, lactose, cellobiose, xylose, arabinose, glucose, fructose, galactose, mannose and the like monosaccharides or disaccharides (excluding sucrose); Flavonoids such as rutin, myricetin, quercetin, kaempferol, sanmerin (registered trademark) Y-AF; gallic acid, methyl gallate, propyl gallate, tannic acid, curcumin, rosmarinic acid, chlorogenic acid, hydroquinone, 3,4,5 -Birds Compounds having two or more phenolic hydroxyl group such as Dorokishi benzoic acid; cysteine, glutathione, a compound having a pentaerythritol tetrakis (3-mercapto butyrate) thiol groups, such as and the like. Non-reducing water-soluble antioxidants include, for example, oxidative degradation such as phenylimidazolesulfonic acid, phenyltriazolesulfonic acid, 2-hydroxypyrimidine, phenyl salicylate, sodium 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonate. And a compound that absorbs ultraviolet rays causing the above. These antioxidants may be used alone or in combination of two or more. When the conductive composition contains an antioxidant, the content is not particularly limited, but it is 0.001 to 500 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the solid content of the conductive polymer (f). Preferably, it is 0.01-300 weight part.

増粘剤としては、特に限定されないが、例えば、ポリアクリル酸系樹脂、セルロースエーテル樹脂、ポリビニルピロリドン、カルボキシビニルポリマー、ポリビニルアルコール等が挙げられる。これらの増粘剤は単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。導電性組成物が増粘剤を含有する場合、その含有量は、特に限定されないが、(f)導電性ポリマーの固形分100重量部に対して200重量部未満であることが好ましく、100重量部未満であることがより好ましい。 Although it does not specifically limit as a thickener, For example, polyacrylic acid-type resin, a cellulose ether resin, polyvinylpyrrolidone, a carboxy vinyl polymer, polyvinyl alcohol etc. are mentioned. These thickeners may be used alone or in combination of two or more. When the conductive composition contains a thickener, the content thereof is not particularly limited, but (f) is preferably less than 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the solid content of the conductive polymer. More preferably, it is less than part.

溶剤としては、特に限定されないが、例えば、水;メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−プロパノール等のアルコール類;エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール等のエチレングリコール類;エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のグリコールエーテル類;エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルアセテート類;プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のプロピレングリコール類;プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル等のプロピレングリコールエーテル類;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールエーテルアセテート類;テトラヒドロフラン;アセトン;アセトニトリル等が挙げられる。これらの溶剤は単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。導電性組成物が溶剤を含有する場合、その含有量は、特に限定されないが、導電性組成物中0.01〜99.99重量%であることが好ましく、0.1〜99.9重量%であることがより好ましい。 Examples of the solvent include, but are not limited to, water; alcohols such as methanol, ethanol, 2-propanol, and 1-propanol; ethylene glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, and tetraethylene glycol; ethylene glycol monomethyl Glycol ethers such as ether, diethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether; Glycol ether acetates such as ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate; propylene glycol, dipropylene glycol, Tripropylene glycol Propylene glycols such as: propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, propylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, propylene glycol diethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, etc. Propylene glycol ethers; propylene glycol ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol monoethyl ether acetate; tetrahydrofuran; acetone; Tolyl, and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more. When the conductive composition contains a solvent, the content is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 99.99% by weight in the conductive composition, preferably 0.1 to 99.9% by weight. It is more preferable that

導電性組成物を用いて透明電極(B)を形成する方法としては、特に限定されないが、樹脂フィルム(A)上に導電性組成物を塗布又は印刷した後、50〜150℃で0.5〜15分間加熱処理する方法等が挙げられる。 Although it does not specifically limit as a method of forming a transparent electrode (B) using an electroconductive composition, After apply | coating or printing an electroconductive composition on a resin film (A), it is 0.5 at 50-150 degreeC. The method etc. which heat-process for 15 minutes are mentioned.

透明電極(B)の厚さは、特に限定されないが、0.1〜1μmであることが好ましく、0.2〜0.5μmであることがより好ましい。厚さが0.1μm未満であると、十分な導電性が得られないことがあり、1μmを超えると、透明性が悪化することがある。 Although the thickness of a transparent electrode (B) is not specifically limited, It is preferable that it is 0.1-1 micrometer, and it is more preferable that it is 0.2-0.5 micrometer. If the thickness is less than 0.1 μm, sufficient conductivity may not be obtained, and if it exceeds 1 μm, the transparency may be deteriorated.

<接続部(C)>
接続部(C)は、透明電極(B)の一部と接触するように形成される。
<Connection (C)>
The connection part (C) is formed so as to contact a part of the transparent electrode (B).

接続部(C)は、導電性、印刷性の観点から、銀ペースト、銅ペースト、合金ペースト、カーボンペーストからなる群より選択される少なくとも1つの導電性ペーストを用いて形成されることが好ましい。導電性ペーストを用いて接続部(C)を形成する方法としては、特に限定されないが、導電性ペーストを透明電極(B)の一部と接触するように塗布又は印刷した後、焼成又は加熱硬化を行う方法等が挙げられる。
ここで、焼成及び加熱硬化の温度条件は特に限定されないが、焼成は550〜900℃程度の高温で行うことが好ましく、一方、加熱硬化は、室温(約20℃)〜200℃程度の比較的低温で行うことが好ましい。
The connection part (C) is preferably formed using at least one conductive paste selected from the group consisting of silver paste, copper paste, alloy paste, and carbon paste from the viewpoint of conductivity and printability. The method for forming the connection portion (C) using the conductive paste is not particularly limited, but the conductive paste is applied or printed so as to be in contact with a part of the transparent electrode (B), and then fired or heat-cured. The method of performing etc. is mentioned.
Here, the temperature conditions for firing and heat curing are not particularly limited, but firing is preferably performed at a high temperature of about 550 to 900 ° C., while the heat curing is relatively performed at room temperature (about 20 ° C.) to about 200 ° C. It is preferable to carry out at a low temperature.

<オーバーコート層(D)>
オーバーコート層(D)は、透明電極(B)と接続部(C)の少なくとも一部を被覆するように、本発明の被覆組成物を用いて形成される。
<Overcoat layer (D)>
The overcoat layer (D) is formed using the coating composition of the present invention so as to cover at least a part of the transparent electrode (B) and the connection portion (C).

本発明の被覆組成物を用いてオーバーコート層(D)を形成する方法としては、特に限定されないが、例えば、本発明の被覆組成物を、透明電極(B)と接続部(C)の少なくとも一部を被覆するように塗布又は印刷した後、乾燥、熱硬化又は光硬化させる方法等が挙げられる。
乾燥は、例えば、40〜150℃で加熱して液体成分を除去することにより行う。その際、必要に応じて減圧乾燥を行っても良いし、加熱乾燥と減圧乾燥を組み合わせても良い。
被覆組成物が熱硬化性樹脂を含む場合には、透明電極(B)と接続部(C)の少なくとも一部を被覆するように塗布又は印刷した被覆組成物を加熱し、溶媒又は分散媒を蒸発させると同時に熱硬化させる(乾燥・熱硬化)ことにより、オーバーコート層(D)を形成することができる。加熱温度は特に限定されないが、好ましくは40〜200℃であり、より好ましくは50〜150℃である。
被覆組成物が光硬化性樹脂を含む場合には、透明電極(B)と接続部(C)の少なくとも一部を被覆するように塗布又は印刷した被覆組成物を加熱し、溶媒又は分散媒を蒸発させた後、光硬化させることにより、オーバーコート層(D)を形成することができる。光硬化は、紫外線、可視光、電子線、電離放射線等を照射することにより行うことが好ましい。
The method for forming the overcoat layer (D) using the coating composition of the present invention is not particularly limited. For example, the coating composition of the present invention is applied to at least the transparent electrode (B) and the connection portion (C). Examples of the method include drying, heat curing, or photocuring after coating or printing so as to cover a part.
Drying is performed by heating at 40-150 degreeC, for example, and removing a liquid component. In that case, you may dry under reduced pressure as needed, and may combine heat drying and reduced pressure drying.
When the coating composition contains a thermosetting resin, the coating composition applied or printed so as to cover at least a part of the transparent electrode (B) and the connection portion (C) is heated, and the solvent or the dispersion medium is removed. The overcoat layer (D) can be formed by evaporating and simultaneously thermosetting (drying / thermosetting). Although heating temperature is not specifically limited, Preferably it is 40-200 degreeC, More preferably, it is 50-150 degreeC.
When the coating composition contains a photocurable resin, the coating composition applied or printed so as to cover at least a part of the transparent electrode (B) and the connection portion (C) is heated, and the solvent or the dispersion medium is removed. After evaporating, the overcoat layer (D) can be formed by photocuring. The photocuring is preferably performed by irradiating ultraviolet rays, visible light, electron beams, ionizing radiation, or the like.

<プライマー層(E)>
本発明の電極構造は、樹脂フィルム(A)に対する導電性組成物の印刷性及び密着性の向上の観点から、樹脂フィルム(A)と透明電極(B)との間に、プライマー層(E)をさらに備えることが好ましい。また、プライマー層(E)は、水系である導電性組成物の印刷性及び密着性の観点から、本発明の被覆組成物を用いて形成されることが好ましい。
<Primer layer (E)>
The electrode structure of the present invention has a primer layer (E) between the resin film (A) and the transparent electrode (B) from the viewpoint of improving the printability and adhesion of the conductive composition to the resin film (A). It is preferable to further comprise. Moreover, it is preferable that a primer layer (E) is formed using the coating composition of this invention from a printable and adhesive viewpoint of the electrically conductive composition which is aqueous.

本発明の被覆組成物を用いてプライマー層(E)を形成する方法としては、特に限定されないが、例えば、本発明の被覆組成物を、樹脂フィルム(A)の表面に塗布又は印刷した後、乾燥、熱硬化又は光硬化させる方法等が挙げられる。
乾燥は、例えば、40〜150℃で加熱して液体成分を除去することにより行う。その際、必要に応じて減圧乾燥を行っても良いし、加熱乾燥と減圧乾燥を組み合わせても良い。
被覆組成物が熱硬化性樹脂を含む場合には、樹脂フィルム(A)の表面に塗布又は印刷した被覆組成物を加熱し、溶媒又は分散媒を蒸発させると同時に熱硬化させる(乾燥・熱硬化)ことにより、プライマー層(E)を形成することができる。加熱温度は特に限定されないが、好ましくは40〜200℃であり、より好ましくは50〜150℃である。
被覆組成物が光硬化性樹脂を含む場合には、樹脂フィルム(A)の表面に塗布又は印刷した被覆組成物を加熱し、溶媒又は分散媒を蒸発させた後、光硬化させることにより、プライマー層(E)を形成することができる。光硬化は、紫外線、可視光、電子線、電離放射線等を照射することにより行うことが好ましい。
Although it does not specifically limit as a method of forming a primer layer (E) using the coating composition of this invention, For example, after apply | coating or printing the coating composition of this invention on the surface of a resin film (A), Examples include a method of drying, heat curing or photocuring.
Drying is performed by heating at 40-150 degreeC, for example, and removing a liquid component. In that case, you may dry under reduced pressure as needed, and may combine heat drying and reduced pressure drying.
When the coating composition contains a thermosetting resin, the coating composition applied or printed on the surface of the resin film (A) is heated to evaporate the solvent or the dispersion medium and simultaneously heat cure (drying / thermosetting). ), The primer layer (E) can be formed. Although heating temperature is not specifically limited, Preferably it is 40-200 degreeC, More preferably, it is 50-150 degreeC.
When the coating composition contains a photocurable resin, the coating composition applied or printed on the surface of the resin film (A) is heated to evaporate the solvent or dispersion medium, and then photocured to obtain a primer. A layer (E) can be formed. The photocuring is preferably performed by irradiating ultraviolet rays, visible light, electron beams, ionizing radiation, or the like.

プライマー層(E)の水接触角は、特に限定されないが、65°以下であることが好ましく、60°以下であることがさらに好ましい。プライマー層(E)の水接触角が65°を超えると、プライマー層(E)に対する導電性組成物の印刷性が悪くなることがある。 The water contact angle of the primer layer (E) is not particularly limited, but is preferably 65 ° or less, and more preferably 60 ° or less. When the water contact angle of the primer layer (E) exceeds 65 °, the printability of the conductive composition on the primer layer (E) may be deteriorated.

<<電極構造の製造方法>>
<第一の本発明の電極構造の製造方法>
第一の本発明の電極構造の製造方法は、本発明の電極構造を製造するための方法であって、
下記工程(2)〜(4)を含むことを特徴とする。
(2)樹脂フィルム(A)上に、(f)導電性ポリマーを含む導電性組成物を印刷することにより透明電極(B)を形成する工程、
(3)透明電極(B)の一部と接触するように導電性ペーストを印刷することにより接続部(C)を形成する工程、及び、
(4)透明電極(B)と接続部(C)の少なくとも一部を被覆するように、本発明の被覆組成物を印刷することによりオーバーコート層(D)を形成する工程。
<< Electrode Structure Manufacturing Method >>
<The manufacturing method of the electrode structure of 1st this invention>
The manufacturing method of the electrode structure of the first present invention is a method for manufacturing the electrode structure of the present invention,
It includes the following steps (2) to (4).
(2) A step of forming a transparent electrode (B) by printing a conductive composition containing a conductive polymer (f) on the resin film (A),
(3) a step of forming a connection part (C) by printing a conductive paste so as to be in contact with a part of the transparent electrode (B); and
(4) The process of forming an overcoat layer (D) by printing the coating composition of this invention so that at least one part of a transparent electrode (B) and a connection part (C) may be coat | covered.

<第二の本発明の電極構造の製造方法>
第二の本発明の電極構造の製造方法は、プライマー層(E)を備える本発明の電極構造を製造するための方法であって、
下記工程(1)〜(4)を含むことを特徴とする。
(1)樹脂フィルム(A)上に、印刷によりプライマー層(E)を形成する工程、
(2)プライマー層(E)上に、(f)導電性ポリマーを含む導電性組成物を印刷することにより透明電極(B)を形成する工程、
(3)透明電極(B)の一部と接触するように導電性ペーストを印刷することにより接続部(C)を形成する工程、及び、
(4)透明電極(B)と接続部(C)の少なくとも一部を被覆するように、本発明の被覆組成物を印刷することによりオーバーコート層(D)を形成する工程。
<The manufacturing method of the electrode structure of 2nd this invention>
The method for producing an electrode structure of the second invention is a method for producing an electrode structure of the invention comprising a primer layer (E),
It includes the following steps (1) to (4).
(1) A step of forming a primer layer (E) by printing on the resin film (A),
(2) On the primer layer (E), (f) a step of forming a transparent electrode (B) by printing a conductive composition containing a conductive polymer;
(3) a step of forming a connection part (C) by printing a conductive paste so as to be in contact with a part of the transparent electrode (B); and
(4) The process of forming an overcoat layer (D) by printing the coating composition of this invention so that at least one part of a transparent electrode (B) and a connection part (C) may be coat | covered.

第二の本発明の電極構造の製造方法においては、樹脂フィルム(A)に対する導電性組成物の印刷性及び密着性の向上の観点から、工程(1)において、本発明の被覆組成物を用いてプライマー層(E)を形成することが好ましい。 In the manufacturing method of the electrode structure of the second aspect of the present invention, the coating composition of the present invention is used in step (1) from the viewpoint of improving the printability and adhesion of the conductive composition to the resin film (A). It is preferable to form the primer layer (E).

<<導電性組成物>>
本発明の導電性組成物は、(f)導電性ポリマー、及び、
(g)Tgが0℃以上である熱可塑性樹脂
を含み、印刷により塗工可能であることを特徴とする、本発明の電極構造において透明電極(B)を形成するための導電性組成物である。
<< Conductive composition >>
The conductive composition of the present invention comprises (f) a conductive polymer, and
(G) A conductive composition for forming a transparent electrode (B) in the electrode structure of the present invention, comprising a thermoplastic resin having a Tg of 0 ° C. or higher and capable of being applied by printing. is there.

以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

1.使用材料
以下の実施例及び比較例では、下記の材料を使用した。
1−1.(a)Tgが30℃以上である熱可塑性樹脂
・熱可塑性ポリエステル(荒川化学工業株式会社製、アラキード7018、固形分40重量%、重量平均分子量18,000、Tg50℃、酸価3mgKOH/g、水接触角75°)
・熱可塑性アクリル樹脂(DIC株式会社製、アクリディックA−452、固形分40重量%、重量平均分子量不明、Tg70℃、酸価3mgKOH/g、水接触角73°)
・熱可塑性ポリエステル(荒川化学工業株式会社製、アラキード7012、固形分35重量%、重量平均分子量25,000、Tg51℃、酸価1mgKOH/g未満、水接触角75°)
・熱可塑性ポリエステル(東洋紡株式会社製、バイロンUR−1400、固形分40重量%、重量平均分子量40,000、Tg83℃、酸価1mgKOH/g未満、水接触角70°)
・熱可塑性ポリエステル(高松油脂株式会社製、ペスレジンS−680EA、固形分45重量%、重量平均分子量3,000、Tg30℃、酸価60mgKOH/g、水接触角62°)
・熱可塑性ポリエステル(東洋紡株式会社製、バイロンUR−6100、固形分45重量%、重量平均分子量25,000、Tg−30℃、酸価1mgKOH/g未満、水接触角71°)
・熱可塑性ポリエステル(日本ユピカ株式会社製、ユピカコートGV230、固形分100重量%、重量平均分子量7,900、Tg不明、酸価53mgKOH/g、水接触角70°)
1−2.(b)紫外線吸収剤
・トリアジン系紫外線吸収剤(アデカ株式会社製、アデカスタブLA−F70)
・ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(アデカ株式会社製、アデカスタブLA−36)
1−3.(c)有機溶剤
・ジアセトンアルコール(東京化成工業株式会社製、沸点:168℃)
・γ−ブチロラクトン(和光純薬工業株式会社製、沸点:204℃)
1−4.(d)スリップ剤
・オルガノシリカゾル(日産化学株式会社製、粒子径10〜15nm、シリカ濃度30%、有機溶媒分散品)
1−5.(e)界面活性剤
・フッ素系化合物(デュポン株式会社製、CAPSTONE FS−3100)
1−6.(g)Tgが0℃以上である熱可塑性樹脂
・ポリエステル系樹脂(ナガセケムテックス株式会社製、ガブセンES−9020、固形分25%、Tg25℃)
1−7.(i)導電性向上剤
・ジメチルスルホキシド(DMSO)(東京化成工業株式会社製)
1−8.(j)親水性付与剤
・ポリエーテル変性ウレタン系表面調整剤(サンノプコ株式会社製、SNクリーンアクト82)
・ポリエーテル変性アクリレート(ダイセルオルネクス株式会社製、EBECRYL80)
・ポリエーテル変性シリコーン系表面調整剤(信越化学工業株式会社製、KF−6011)
1−9.増粘剤
・架橋性ポリアクリル酸(BF Goodrich社製、CARBOPOL ETD−2623)
1−10.酸化防止剤
・タンニン酸(和光純薬工業株式会社製)
1−11.溶剤
・イソプロピルアルコール(和光純薬工業株式会社製、IPA)
1−12.銀ペースト
・CA−T30(大研化学製造販売株式会社より購入)
1−13.樹脂フィルム(A)
・PETフィルム(東レ株式会社製、ルミラーT−60)
・PCフィルム(帝人株式会社製、ピュアエース)
・アクリル樹脂フィルム(三菱レーヨン株式会社製、アクリプレンHBS006)
1. Materials used The following materials were used in the following examples and comparative examples.
1-1. (A) Thermoplastic resin / thermoplastic polyester having a Tg of 30 ° C. or higher (Arakawa Chemical Industries, Arakid 7018, solid content 40% by weight, weight average molecular weight 18,000, Tg 50 ° C., acid value 3 mgKOH / g, Water contact angle 75 °)
Thermoplastic acrylic resin (manufactured by DIC Corporation, ACRYDIC A-452, solid content 40% by weight, weight average molecular weight unknown, Tg 70 ° C., acid value 3 mg KOH / g, water contact angle 73 °)
Thermoplastic polyester (Arakawa Chemical Industries, Arakid 7012, solid content 35% by weight, weight average molecular weight 25,000, Tg 51 ° C., acid value less than 1 mg KOH / g, water contact angle 75 °)
Thermoplastic polyester (by Toyobo Co., Ltd., Byron UR-1400, solid content 40% by weight, weight average molecular weight 40,000, Tg 83 ° C., acid value less than 1 mg KOH / g, water contact angle 70 °)
Thermoplastic polyester (Takamatsu Yushi Co., Ltd., Pesresin S-680EA, solid content 45% by weight, weight average molecular weight 3,000, Tg 30 ° C., acid value 60 mg KOH / g, water contact angle 62 °)
Thermoplastic polyester (Toyobo Co., Ltd., Byron UR-6100, solid content 45% by weight, weight average molecular weight 25,000, Tg-30 ° C., acid value of less than 1 mg KOH / g, water contact angle 71 °)
-Thermoplastic polyester (manufactured by Iupika Co., Ltd., Iupika Coat GV230, solid content 100% by weight, weight average molecular weight 7,900, Tg unknown, acid value 53 mgKOH / g, water contact angle 70 °)
1-2. (B) UV absorber / triazine UV absorber (Adeka Corporation, ADK STAB LA-F70)
・ Benzotriazole UV absorber (Adeka Corporation, Adeka Stab LA-36)
1-3. (C) Organic solvent / diacetone alcohol (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., boiling point: 168 ° C.)
・ Γ-butyrolactone (Wako Pure Chemical Industries, Ltd., boiling point: 204 ° C.)
1-4. (D) Slip agent / organosilica sol (manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd., particle size 10-15 nm, silica concentration 30%, organic solvent dispersion)
1-5. (E) Surfactant / fluorine compound (manufactured by DuPont, CAPSTONE FS-3100)
1-6. (G) Thermoplastic resin / polyester resin having a Tg of 0 ° C. or higher (manufactured by Nagase ChemteX Corp., Gabsen ES-9020, solid content 25%, Tg 25 ° C.)
1-7. (I) Conductivity improver, dimethyl sulfoxide (DMSO) (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
1-8. (J) Hydrophilicity imparting agent / polyether-modified urethane surface conditioner (manufactured by San Nopco, SN Clean Act 82)
-Polyether-modified acrylate (Daicel Ornex Co., Ltd., EBECRYL80)
-Polyether-modified silicone surface conditioner (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KF-6011)
1-9. Thickener and cross-linkable polyacrylic acid (BF Goodrich, CARBOPOL ETD-2623)
1-10. Antioxidant and tannic acid (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
1-11. Solvent, isopropyl alcohol (Wako Pure Chemical Industries, IPA)
1-12. Silver paste CA-T30 (purchased from Daiken Chemical Manufacturing and Sales Co., Ltd.)
1-13. Resin film (A)
・ PET film (Toray Industries, Lumirror T-60)
・ PC film (Teijin Limited, Pure Ace)
・ Acrylic resin film (Acryprene HBS006, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.)

2.(f)導電性ポリマーの製造
(製造例1)PEDOT/PSS重合品の製造
スターラーおよび窒素入り口を装備した10Lの反応容器中に、5508gのイオン交換水、492gの12.8重量%ポリスチレンスルホン酸(PSS)(Mw=56000)水溶液を入れ、窒素を吹き込みながら25℃に保って1時間撹拌した。この時の溶液中の温度は25℃、酸素濃度は0.5mg/L、pHは0.8、撹拌速度は300rpmであった。なお、酸素濃度はインプロ6000シリーズOセンサーを用いるニック・プロセス・ユニット73O2(メトラー・トレド株式会社製)を用いて測定した。次に、25.4g(179ミリモル)の3,4−エチレンジオキシチオフェン(EDOT)、0.45gのFe(SO・3HO、30gのNaを加え、重合反応を開始させた。25℃において12時間反応させた後、さらに30gのNaを加えた。12時間の追加反応時間後に、イオン交換樹脂LewatitS100H、LewatitMP62を用いて処理することにより、濃青色の高粘度PEDOT/PSSを4200g得た(固形分 2.2%、粘度 66dPa・s、チクソトロピー指数 3.3、降伏値 5.5Pa、平均粒子径 330nm(Malvern社製ゼータサイザー Nano−Sを用いて測定した。))。
2. (F) Production of conductive polymer (Production Example 1) Production of PEDOT / PSS polymer product In a 10 L reaction vessel equipped with a stirrer and a nitrogen inlet, 5508 g of ion-exchanged water, 492 g of 12.8 wt% polystyrene sulfonic acid An aqueous solution of (PSS) (Mw = 56000) was added, and the mixture was stirred for 1 hour while being kept at 25 ° C. while blowing nitrogen. The temperature in the solution at this time was 25 ° C., the oxygen concentration was 0.5 mg / L, the pH was 0.8, and the stirring speed was 300 rpm. The oxygen concentration was measured using a nick process unit 73O2 (manufactured by Mettler Toledo Co., Ltd.) using an Impro 6000 series O 2 sensor. Next, 25.4 g (179 mmol) 3,4-ethylenedioxythiophene (EDOT), 0.45 g Fe 2 (SO 4 ) 3 .3H 2 O, 30 g Na 2 S 2 O 8 were added, The polymerization reaction was started. After reacting for 12 hours at 25 ° C., an additional 30 g of Na 2 S 2 O 8 was added. After an additional reaction time of 12 hours, 4200 g of dark blue high-viscosity PEDOT / PSS was obtained by treatment with ion exchange resins Lewatit S100H and Lewatit MP62 (solid content 2.2%, viscosity 66 dPa · s, thixotropy index 3 .3, yield value 5.5 Pa, average particle size 330 nm (measured using a Zetasizer Nano-S manufactured by Malvern)).

3.各種試験フィルムの作製方法
・電極構造を有する試験フィルム(試験フィルム(1))の作製方法
樹脂フィルム(A)上に、下記表1に示す重量比で各成分を混合して得られた導電性組成物をスクリーン印刷法にて印刷し、100℃で10分間加熱処理することにより、透明電極(B)を作製した。次に、銀ペーストを印刷し、120℃で加熱硬化させることにより、接続部(C)を形成した。さらに、下記表1に示す重量比で各成分を混合して得られた被覆組成物を印刷し、100℃で15分間乾燥させ、オーバーコート層(D)を形成することにより、試験フィルム(1)を作製した。なお、接続部(C)には一部オーバーコート層(D)にて覆われていない非被覆部分を残しておくことで、オーバーコート層(D)形成後も透明電極(B)の表面抵抗値を測定することが可能である。
3. Method for producing various test films / Method for producing a test film having an electrode structure (test film (1)) Conductivity obtained by mixing each component on the resin film (A) at a weight ratio shown in Table 1 below. The composition was printed by a screen printing method and heat-treated at 100 ° C. for 10 minutes to produce a transparent electrode (B). Next, the silver paste was printed and heat-cured at 120 ° C. to form the connection portion (C). Furthermore, the coating composition obtained by mixing each component in the weight ratio shown in Table 1 below was printed and dried at 100 ° C. for 15 minutes to form an overcoat layer (D). ) Was produced. Note that the surface resistance of the transparent electrode (B) after the overcoat layer (D) is formed by leaving a non-covered portion that is not partially covered by the overcoat layer (D) in the connection portion (C). The value can be measured.

・耐硫化性試験用フィルム(試験フィルム(2))の作製方法
試験フィルム(1)と同様の手法にて樹脂フィルム(A)上に接続部(C)を形成した後、さらに、下記表1に示す重量比で各成分を混合して得られた被覆組成物をスクリーン印刷法により全面に印刷し、100℃にて乾燥させ、オーバーコート層(D)を形成することにより、試験フィルム(2)を作製した。
-Preparation method of sulfidation resistance test film (test film (2)) After forming the connecting portion (C) on the resin film (A) in the same manner as the test film (1), the following Table 1 The coating composition obtained by mixing each component at the weight ratio shown in FIG. 5 was printed on the entire surface by screen printing, dried at 100 ° C., and formed an overcoat layer (D). ) Was produced.

・アンチブロッキング性試験用フィルム(試験フィルム(3))の作製方法
接続部(C)を形成しない他は、試験フィルム(2)と同様の手法にて試験フィルム(3)を作製した。
-Preparation method of anti-blocking property test film (test film (3)) A test film (3) was prepared in the same manner as the test film (2) except that the connection part (C) was not formed.

4.評価方法
以下の実施例及び比較例では、下記の方法により評価を行った。
4). Evaluation Method In the following examples and comparative examples, evaluation was performed by the following method.

分散性外観
被覆組成物をガラス容器に入れて密栓し、1時間経過後に目視観察し、以下の評価基準により、液外観を評価した。
○:沈殿物が観測されない
×:沈殿物が観測される
The dispersible appearance coating composition was put in a glass container and sealed, and visually observed after 1 hour, and the liquid appearance was evaluated according to the following evaluation criteria.
○: Precipitate is not observed ×: Precipitate is observed

粘度
被覆組成物をガラス容器に入れて密栓後、恒温槽に入れて25℃に保ち、B型粘度計(B型粘度計BM:東機産業製、回転数6rpm、No.4ローター)にて粘度を測定した。
Put the viscosity coating composition in a glass container and seal it, put it in a thermostatic bath and keep it at 25 ° C., and use a B-type viscometer (B-type viscometer BM: manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd., rotational speed 6 rpm, No. 4 rotor) The viscosity was measured.

表面張力
被覆組成物の25℃における表面張力を、Wilhelmy法により全自動表面張力計(協和界面科学株式会社製、CBVP−Z)を用いて測定した。
The surface tension at 25 ° C. of the surface tension coating composition was measured by a Wilhelmy method using a fully automatic surface tension meter (CBVP-Z, manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.).

全光線透過率(Tt)及びヘイズ(Haze)値
試験フィルム(1)につき、JIS K 7150に従い、スガ試験機株式会社製ヘイズコンピュータHGM−2Bを用いて測定した。
The total light transmittance (Tt) and haze value test film (1) was measured according to JIS K 7150 using a haze computer HGM-2B manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.

密着性(碁盤目試験)
試験フィルム(1)につき、JIS K 5400に従って、碁盤目試験を実施し、以下の基準で評価した。
◎:碁盤目試験が10点である
○:碁盤目試験が9〜8点である
Adhesion (cross cut test)
The test film (1) was subjected to a cross cut test according to JIS K 5400 and evaluated according to the following criteria.
◎: Cross cut test is 10 points ○: Cross cut test is 9 to 8 points

耐硫化性
試験フィルム(2)と硫黄粉を密閉容器に入れ、室温条件下、24時間静置後、銀ペーストの試験前後の色変化を目視により確認し、以下のように評価した。
◎:変色なし
○:わずかに黒みを帯びた変色が一部あり
×:黒色に変色
The sulfidation resistance test film (2) and sulfur powder were placed in a sealed container, allowed to stand at room temperature for 24 hours, and then the color change before and after the test of the silver paste was visually confirmed and evaluated as follows.
◎: No discoloration ○: Some discoloration slightly blackish ×: Discoloration to black

耐紫外線性
試験フィルム(1)について、耐紫外線性試験前後の表面抵抗率SR(Ω/□)を測定してSR上昇率を求め、以下基準により評価した。
SR上昇率=(耐紫外線性試験後のSR)/(耐紫外線性試験前のSR)
◎:SR上昇率が0.95〜1.05である
○:SR上昇率が1.05〜1.3である
×:SR上昇率が1.3以上である
耐紫外線性試験は、耐光性試験機(ATLAS Material Testing Technology GmbH製、SUNSET CPS)に試験フィルム(1)を格納し、キセノンランプを用い、放射照度250W/m、温度50℃の条件で、連続して100時間UV照射することにより行った。
表面抵抗率SRの測定は、試験フィルム(1)の接続部に三和電気計器株式会社製サンワ・デジタルマルチメータPC5000のテストリードの先端を各々強く接着させることにより行った。
With respect to the UV resistance test film (1), the surface resistivity SR (Ω / □) before and after the UV resistance test was measured to determine the SR increase rate, and evaluated according to the following criteria.
SR increase rate = (SR after UV resistance test) / (SR before UV resistance test)
A: SR increase rate is 0.95 to 1.05. O: SR increase rate is 1.05 to 1.3. X: SR resistance increase rate is 1.3 or more. The test film (1) is stored in a testing machine (manufactured by ATLAS Material Testing Technology GmbH, SUNSET CPS), and UV irradiation is continuously performed for 100 hours under conditions of an irradiance of 250 W / m 2 and a temperature of 50 ° C. using a xenon lamp. Was done.
The surface resistivity SR was measured by strongly bonding the tips of the test leads of Sanwa Digital Multimeter PC5000 manufactured by Sanwa Denki Keiki Co., Ltd. to the connection portion of the test film (1).

耐熱性
試験フィルム(1)について、耐熱性試験前後の表面抵抗率SR(Ω/□)を測定してSR上昇率を求め、以下基準により評価した。
SR上昇率=(耐熱性試験後のSR)/(耐熱性試験前のSR)
◎:SR上昇率が0.95〜1.05である
○:SR上昇率が1.05〜1.3である
×:SR上昇率が1.3以上である
耐熱性試験は、試験フィルム(1)を送風オーブン内に入れ、温度100℃の条件で100時間保つことにより行った。
表面抵抗率SRの測定は、試験フィルム(1)の接続部に三和電気計器株式会社製サンワ・デジタルマルチメータPC5000のテストリードの先端を各々強く接着させることにより行った。
For the heat resistance test film (1), the surface resistivity SR (Ω / □) before and after the heat resistance test was measured to determine the SR increase rate, and the evaluation was made based on the following criteria.
SR increase rate = (SR after heat resistance test) / (SR before heat resistance test)
A: SR increase rate is 0.95 to 1.05. O: SR increase rate is 1.05 to 1.3. X: SR heat increase test is 1.3 or more. 1) was placed in a blast oven and kept at a temperature of 100 ° C. for 100 hours.
The surface resistivity SR was measured by strongly bonding the tips of the test leads of Sanwa Digital Multimeter PC5000 manufactured by Sanwa Denki Keiki Co., Ltd. to the connection portion of the test film (1).

アンチブロッキング性
試験フィルム(3)を2枚用意し、一方の試験フィルム(3)のオーバーコート層形成面と、他方の試験フィルム(3)の樹脂フィルム(A)面が接触するように重ね、室温条件下24時間静置後、試験フィルムを剥がす際のアンチブロッキング性を、下記基準により評価した。
◎:張り付くことなく容易に剥がれる
○:わずかに張り付くが剥がれる
×:張り付いて剥がれにくい
Prepare two anti-blocking test films (3) and stack them so that the overcoat layer forming surface of one test film (3) and the resin film (A) surface of the other test film (3) are in contact with each other. After standing at room temperature for 24 hours, the anti-blocking property when peeling the test film was evaluated according to the following criteria.
◎: Easy to peel without sticking ○: Slightly sticks but peels ×: Sticks and hard to peel

プライマー性(水接触角)
樹脂フィルム(A)上に、実施例1〜14で得られた被覆組成物をスクリーン印刷法を用いて塗布し、100℃で15分間加熱処理することによりオーバーコート層(D)(プライマー層(E))を形成した。得られたオーバーコート層(D)(プライマー層(E))の接触角を、接触角計(協和界面化学株式会社製、CA−D型)を用いて測定した。25℃、50%RH環境下、25℃の蒸留水(和光純薬工業株式会社製)をプライマー層表面に滴下し、10秒後の接触角を測定した。
Primer (water contact angle)
On the resin film (A), the coating compositions obtained in Examples 1 to 14 were applied using a screen printing method, and heat-treated at 100 ° C. for 15 minutes, whereby an overcoat layer (D) (primer layer ( E)) was formed. The contact angle of the obtained overcoat layer (D) (primer layer (E)) was measured using a contact angle meter (Kyowa Interface Chemical Co., Ltd., CA-D type). In an environment of 25 ° C. and 50% RH, 25 ° C. distilled water (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was dropped onto the surface of the primer layer, and the contact angle after 10 seconds was measured.

プライマー性(被印刷性)
水接触角の評価で得られたオーバーコート層(D)(プライマー層(E))上に、導電性組成物を用いてスクリーン印刷法にて0.5mm配線パターンを印刷し、描かれたパターンを顕微鏡観察し、パターンの外観を下記基準により評価した。
○:全ての配線パターンが欠陥なくえがかれている
×:ハジキやヨレ等の欠陥のある配線パターンがある
Primer (printability)
On the overcoat layer (D) (primer layer (E)) obtained by the evaluation of the water contact angle, a 0.5 mm wiring pattern was printed by a screen printing method using the conductive composition, and the drawn pattern Were observed with a microscope, and the appearance of the pattern was evaluated according to the following criteria.
○: All wiring patterns are marked with no defects ×: There are wiring patterns with defects such as repelling and twisting

パターン外観
被覆組成物を用いて、樹脂フィルム(A)の上に、スクリーン印刷法にて、0.5mm配線パターンを印刷し、描かれたパターンを顕微鏡観察し、パターンの外観を下記基準により評価した。
○:全ての配線パターンが欠陥なく描かれている
×:欠陥のある配線パターンがある
Using the pattern appearance coating composition, a 0.5 mm wiring pattern is printed on the resin film (A) by a screen printing method, the drawn pattern is observed with a microscope, and the appearance of the pattern is evaluated according to the following criteria. did.
○: All wiring patterns are drawn without defects ×: There are defective wiring patterns

ハジキ・ヨレ
被覆組成物を用いて、樹脂フィルム(A)の上に、スクリーン印刷法にて、0.5mm配線パターンを印刷し、描かれたパターンを顕微鏡観察し、ハジキ・ヨレを下記基準により評価した。
◎:配線パターンに凹凸がなく、ズレがない
○:配線パターンに凹凸があり、ズレやしわが存在するが悪影響はない程度である
A 0.5 mm wiring pattern is printed on the resin film (A) by a screen printing method using the repelling and covering composition, and the drawn pattern is observed with a microscope. evaluated.
◎: There is no unevenness in the wiring pattern, and there is no deviation. ○: There is an unevenness in the wiring pattern, and there is a deviation or wrinkle, but there is no adverse effect.

糸曳き
被覆組成物を用いて、樹脂フィルム(A)の上に、スクリーン印刷法にて、0.5mm配線パターンを印刷し、スクリーン版と樹脂フィルム(A)が離れる際の、被覆組成物の糸曳きの程度を目視で評価した。
◎:糸曳きが全く見られない
○:わずかに糸曳きが見られるが、印刷性には悪影響はない程度である
Using the stringing coating composition, a 0.5 mm wiring pattern is printed on the resin film (A) by a screen printing method, and when the screen plate and the resin film (A) are separated, the coating composition The degree of stringing was evaluated visually.
◎: No stringing is observed at all ○: Slight stringing is observed, but printability is not adversely affected

(実施例1〜14、比較例1〜3)
下記表1に示す重量比で各成分を混合し、被覆組成物及び導電性組成物を得た。得られた被覆組成物及び導電性組成物を用いて、上述の方法により被覆組成物の物性(分散性外観、粘度、表面張力)、被覆層の物性(全光線透過率(Tt)、ヘイズ(Haze)値、密着性、耐硫化性、耐紫外線性、耐熱性、アンチブロッキング性)、プライマー性(水接触角、被印刷性)、及び、スクリーン印刷性(パターン外観、ハジキ・ヨレ、糸曳き)を評価した。結果を表1に示す。
なお、比較例3の被覆組成物は分散性外観の評価結果が悪かったため、その他の評価項目については評価を行わなかった。
(Examples 1-14, Comparative Examples 1-3)
Each component was mixed by the weight ratio shown in following Table 1, and the coating composition and the electroconductive composition were obtained. Using the obtained coating composition and conductive composition, the physical properties (dispersion appearance, viscosity, surface tension) of the coating composition, physical properties (total light transmittance (Tt), haze ( Haze) value, adhesion, sulfidation resistance, UV resistance, heat resistance, anti-blocking properties), primer properties (water contact angle, printability), and screen printability (pattern appearance, repelling, twisting, stringing) ) Was evaluated. The results are shown in Table 1.
In addition, since the evaluation result of the dispersible appearance was bad, the coating composition of Comparative Example 3 was not evaluated for other evaluation items.

Figure 2017082187
Figure 2017082187

Claims (21)

(a)Tgが30℃以上である熱可塑性樹脂、
(b)紫外線吸収剤、及び、
(c)有機溶剤
を含み、印刷により塗工可能であることを特徴とする、静電容量式スイッチの電極構造のための被覆組成物。
(A) a thermoplastic resin having a Tg of 30 ° C. or higher,
(B) an ultraviolet absorber, and
(C) A coating composition for an electrode structure of a capacitive switch, which contains an organic solvent and can be applied by printing.
(a)熱可塑性樹脂は、重量平均分子量が2,000〜200,000であり、かつ、酸価が50mgKOH/g以下であるポリエステルである、請求項1に記載の被覆組成物。 The coating composition according to claim 1, wherein the (a) thermoplastic resin is a polyester having a weight average molecular weight of 2,000 to 200,000 and an acid value of 50 mgKOH / g or less. (b)紫外線吸収剤がベンゾトリアゾール又はトリアジンである、請求項1又は2に記載の被覆組成物。 The coating composition according to claim 1 or 2, wherein the (b) ultraviolet absorber is benzotriazole or triazine. 印刷により形成された被覆層の水接触角が65°以下である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の被覆組成物。 The coating composition according to any one of claims 1 to 3, wherein a water contact angle of a coating layer formed by printing is 65 ° or less. (j)親水性付与剤をさらに含む、請求項4に記載の被覆組成物。 The coating composition according to claim 4, further comprising (j) a hydrophilicity-imparting agent. (j)親水性付与剤は、ポリエーテル変性ウレタン系化合物、ポリエーテル変性アクリレート系化合物、及び、ポリエーテル変性シリコーン系化合物からなる群より選択される少なくとも1つである、請求項5に記載の被覆組成物。 (J) The hydrophilicity imparting agent is at least one selected from the group consisting of a polyether-modified urethane compound, a polyether-modified acrylate compound, and a polyether-modified silicone compound. Coating composition. (a)熱可塑性樹脂の水接触角が65°以下である、請求項4〜6のいずれか1項に記載の被覆組成物。 (A) Coating composition of any one of Claims 4-6 whose water contact angle of a thermoplastic resin is 65 degrees or less. (d)スリップ剤として無機微粒子系スリップ剤をさらに含む、請求項1〜7のいずれか1項に記載の被覆組成物。 (D) The coating composition according to any one of claims 1 to 7, further comprising an inorganic fine particle slip agent as a slip agent. 樹脂フィルム(A)、
樹脂フィルム(A)上に(f)導電性ポリマーを含む導電性組成物を用いて形成された透明電極(B)、
透明電極(B)の一部と接触するように形成された接続部(C)、及び、
透明電極(B)と接続部(C)の少なくとも一部を被覆するように、請求項1〜8のいずれか1項に記載の被覆組成物を用いて形成されたオーバーコート層(D)
を備えることを特徴とする静電容量式スイッチの電極構造。
Resin film (A),
A transparent electrode (B) formed on the resin film (A) using (f) a conductive composition containing a conductive polymer;
A connection part (C) formed so as to be in contact with a part of the transparent electrode (B), and
The overcoat layer (D) formed using the coating composition according to any one of claims 1 to 8, so as to cover at least a part of the transparent electrode (B) and the connection portion (C).
An electrode structure of a capacitive switch, comprising:
導電性組成物が、(g)Tgが0℃以上である熱可塑性樹脂をさらに含む、請求項9に記載の電極構造。 The electrode structure according to claim 9, wherein the conductive composition further comprises (g) a thermoplastic resin having a Tg of 0 ° C or higher. 樹脂フィルム(A)が、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂及びアクリル樹脂からなる群より選択される少なくとも1つの樹脂を含む、請求項9又は10に記載の電極構造。 The electrode structure according to claim 9 or 10, wherein the resin film (A) includes at least one resin selected from the group consisting of a polyester resin, a polycarbonate resin, and an acrylic resin. (f)導電性ポリマーが、ポリ(3,4−二置換チオフェン)、又は、ポリ(3,4−二置換チオフェン)とポリ陰イオンとの複合体である、請求項9〜11のいずれか1項に記載の電極構造。 (F) Conductive polymer is a composite of poly (3,4-disubstituted thiophene) or poly (3,4-disubstituted thiophene) and polyanion. 2. The electrode structure according to item 1. 接続部(C)が、銀ペースト、銅ペースト及びカーボンペーストからなる群より選択される少なくとも1つの導電性ペーストを用いて形成される、請求項9〜12のいずれか1項に記載の電極構造。 The electrode structure according to any one of claims 9 to 12, wherein the connection portion (C) is formed using at least one conductive paste selected from the group consisting of silver paste, copper paste, and carbon paste. . 樹脂フィルム(A)と透明電極(B)との間に、プライマー層(E)をさらに備える、請求項9〜13のいずれか1項に記載の電極構造。 The electrode structure according to any one of claims 9 to 13, further comprising a primer layer (E) between the resin film (A) and the transparent electrode (B). プライマー層(E)は、請求項4〜7のいずれか1項に記載の被覆組成物を用いて形成される、請求項14に記載の電極構造。 The electrode structure according to claim 14, wherein the primer layer (E) is formed using the coating composition according to any one of claims 4 to 7. 請求項9〜13のいずれか1項に記載の電極構造を製造するための方法であって、
下記工程(2)〜(4)を含むことを特徴とする電極構造の製造方法:
(2)樹脂フィルム(A)上に、(f)導電性ポリマーを含む導電性組成物を印刷することにより透明電極(B)を形成する工程、
(3)透明電極(B)の一部と接触するように導電性ペーストを印刷することにより接続部(C)を形成する工程、及び、
(4)透明電極(B)と接続部(C)の少なくとも一部を被覆するように、請求項1〜8のいずれか1項に記載の被覆組成物を印刷することによりオーバーコート層(D)を形成する工程。
A method for manufacturing the electrode structure according to any one of claims 9 to 13, comprising:
The manufacturing method of the electrode structure characterized by including following process (2)-(4):
(2) A step of forming a transparent electrode (B) by printing a conductive composition containing a conductive polymer (f) on the resin film (A),
(3) a step of forming a connection part (C) by printing a conductive paste so as to be in contact with a part of the transparent electrode (B); and
(4) The overcoat layer (D) is printed by printing the coating composition according to any one of claims 1 to 8 so as to cover at least a part of the transparent electrode (B) and the connection portion (C). ).
請求項14又は15に記載の電極構造を製造するための方法であって、
下記工程(1)〜(4)を含むことを特徴とする電極構造の製造方法:
(1)樹脂フィルム(A)上に、印刷によりプライマー層(E)を形成する工程、
(2)プライマー層(E)上に、(f)導電性ポリマーを含む導電性組成物を印刷することにより透明電極(B)を形成する工程、
(3)透明電極(B)の一部と接触するように導電性ペーストを印刷することにより接続部(C)を形成する工程、及び、
(4)透明電極(B)と接続部(C)の少なくとも一部を被覆するように、請求項1〜8のいずれか1項に記載の被覆組成物を印刷することによりオーバーコート層(D)を形成する工程。
A method for manufacturing the electrode structure according to claim 14 or 15, comprising:
A method for producing an electrode structure comprising the following steps (1) to (4):
(1) A step of forming a primer layer (E) by printing on the resin film (A),
(2) On the primer layer (E), (f) a step of forming a transparent electrode (B) by printing a conductive composition containing a conductive polymer;
(3) a step of forming a connection part (C) by printing a conductive paste so as to be in contact with a part of the transparent electrode (B); and
(4) The overcoat layer (D) is printed by printing the coating composition according to any one of claims 1 to 8 so as to cover at least a part of the transparent electrode (B) and the connection portion (C). ).
工程(1)において、請求項4〜7のいずれか1項に記載の被覆組成物を用いてプライマー層(E)を形成する、請求項17に記載の製造方法。 The production method according to claim 17, wherein in step (1), the primer layer (E) is formed using the coating composition according to any one of claims 4 to 7. (f)導電性ポリマー、及び、
(g)Tgが0℃以上である熱可塑性樹脂
を含み、印刷により塗工可能であることを特徴とする、請求項9〜15のいずれか1項に記載の電極構造において透明電極(B)を形成するための導電性組成物。
(F) a conductive polymer, and
(G) The transparent electrode (B) in the electrode structure according to any one of claims 9 to 15, which comprises a thermoplastic resin having a Tg of 0 ° C or higher and can be applied by printing. An electrically conductive composition for forming a film.
(g)熱可塑性樹脂は、重量平均分子量が2,000〜200,000であり、かつ、酸価が50mgKOH/g以下であるポリエステルである、請求項19に記載の導電性組成物。 (G) The electrically conductive composition according to claim 19, wherein the thermoplastic resin is a polyester having a weight average molecular weight of 2,000 to 200,000 and an acid value of 50 mgKOH / g or less. (f)導電性ポリマーが、ポリ(3,4−二置換チオフェン)、又は、ポリ(3,4−二置換チオフェン)とポリ陰イオンとの複合体である、請求項19又は20に記載の導電性組成物。 (F) The conductive polymer is poly (3,4-disubstituted thiophene) or a complex of poly (3,4-disubstituted thiophene) and a polyanion according to claim 19 or 20. Conductive composition.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019023274A (en) * 2017-07-21 2019-02-14 エスケイシー ハイテク アンド マーケティング カンパニー リミテッド Conductive coating liquid composition and transparent conductive film for flexible display comprising conductive layer produced from composition
WO2022224839A1 (en) * 2021-04-23 2022-10-27 富士フイルム株式会社 Active energy ray-curable primer coating composition, ink set, and image recording method

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004311573A (en) * 2003-04-03 2004-11-04 Fujikura Ltd Printed wiring board
JP2006125659A (en) * 2004-10-26 2006-05-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd Fin and tube type heat exchanger
JP2007052975A (en) * 2005-08-17 2007-03-01 Fujikura Ltd Electrostatic capacitance type switch and its electrode structure
JP2010253934A (en) * 2009-03-30 2010-11-11 Kimoto & Co Ltd Sheet, laminated body and touch panel
JP2011192150A (en) * 2010-03-16 2011-09-29 Dainippon Printing Co Ltd Substrate for touch panel, touch panel, and method for manufacturing substrate for touch panel
WO2012135584A2 (en) * 2011-04-01 2012-10-04 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Optoelectronic devices and coatings therefore, and methods for making and using the same
JP2012255096A (en) * 2011-06-09 2012-12-27 Hitachi Chemical Co Ltd Thermosetting barrier polyurethane resin composition, and cured product, optical member and optical semiconductor device using the same
WO2013187324A1 (en) * 2012-06-14 2013-12-19 ポリマテック・ジャパン株式会社 Substrate sheet and touch panel
WO2014010345A1 (en) * 2012-07-09 2014-01-16 東レ株式会社 Photosensitive resin composition, conductive wire protection film, and touch panel member
JP2015108881A (en) * 2013-12-03 2015-06-11 日立化成株式会社 Method for manufacturing touch panel substrate with cured film, photosensitive resin composition, photosensitive element, and touch panel

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004311573A (en) * 2003-04-03 2004-11-04 Fujikura Ltd Printed wiring board
JP2006125659A (en) * 2004-10-26 2006-05-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd Fin and tube type heat exchanger
JP2007052975A (en) * 2005-08-17 2007-03-01 Fujikura Ltd Electrostatic capacitance type switch and its electrode structure
JP2010253934A (en) * 2009-03-30 2010-11-11 Kimoto & Co Ltd Sheet, laminated body and touch panel
JP2011192150A (en) * 2010-03-16 2011-09-29 Dainippon Printing Co Ltd Substrate for touch panel, touch panel, and method for manufacturing substrate for touch panel
WO2012135584A2 (en) * 2011-04-01 2012-10-04 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Optoelectronic devices and coatings therefore, and methods for making and using the same
JP2014515878A (en) * 2011-04-01 2014-07-03 サビック・イノベーティブ・プラスチックス・アイピー・ベスローテン・フェンノートシャップ Optoelectronic devices and coatings therefor, and methods of making and using them
JP2012255096A (en) * 2011-06-09 2012-12-27 Hitachi Chemical Co Ltd Thermosetting barrier polyurethane resin composition, and cured product, optical member and optical semiconductor device using the same
WO2013187324A1 (en) * 2012-06-14 2013-12-19 ポリマテック・ジャパン株式会社 Substrate sheet and touch panel
WO2014010345A1 (en) * 2012-07-09 2014-01-16 東レ株式会社 Photosensitive resin composition, conductive wire protection film, and touch panel member
JP2015108881A (en) * 2013-12-03 2015-06-11 日立化成株式会社 Method for manufacturing touch panel substrate with cured film, photosensitive resin composition, photosensitive element, and touch panel

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019023274A (en) * 2017-07-21 2019-02-14 エスケイシー ハイテク アンド マーケティング カンパニー リミテッド Conductive coating liquid composition and transparent conductive film for flexible display comprising conductive layer produced from composition
WO2022224839A1 (en) * 2021-04-23 2022-10-27 富士フイルム株式会社 Active energy ray-curable primer coating composition, ink set, and image recording method

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