JP2014221902A

JP2014221902A - 重合性化合物を含有する液晶組成物及びそれを使用した液晶表示素子

Info

Publication number: JP2014221902A
Application number: JP2014131339A
Authority: JP
Inventors: 和樹栗沢; Kazuki Kurisawa; 芳清田中; Yoshikiyo Tanaka; 川上　正太郎; Shotaro Kawakami; 正太郎川上
Original assignee: DIC Corp; Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
Current assignee: DIC Corp
Priority date: 2012-04-24
Filing date: 2014-06-26
Publication date: 2014-11-27
Also published as: JPWO2013161669A1; JP2017133036A; JP2014145078A; KR20150013446A; EP2843027A4; WO2013161669A1; JP5963011B2; JP6508250B2; TWI635164B; CN107523315A; US20150299570A1; TW201346012A; EP2843027A1; JP5720849B2; CN104245887A

Abstract

【課題】本発明が解決しようとする課題は、ＰＳＡ型液晶表示素子を作製する際に、重合性化合物の重合反応速度を、使用するＵＶ照射ランプの仕様に容易に適合させることができ、その結果、高い表示性能を有し、表示ムラや焼き付き等の表示不具合が起こらないか極めて小さい液晶表示素子を作製することができる重合性液晶組成物を提供することにある。また、当該重合性液晶組成物を用いて作製した液晶表示素子を提供することにある。【解決手段】重合反応速度の異なる２種又は３種以上の重合性化合物を含有することを特徴とする液晶組成物を提供し、更に、当該液晶組成物を用いた液晶表示素子を提供する。【選択図】なし

Description

本発明は重合性化合物を含有する液晶組成物、更に当該液晶組成物を使用した液晶表示素子に関する。

ＰＳＡ（ＰｏｌｙｍｅｒＳｕｓｔａｉｎｅｄＡｌｉｇｎｍｅｎｔ：ポリマー維持配向、ＰＳ液晶表示素子（ｐｏｌｙｍｅｒｓｔａｂｉｌｉｓｅｄ：ポリマー安定化）を含む。）型液晶表示装置は、液晶分子のプレチルト角を制御するためにセル内にポリマー構造物を形成した構造を有するものであり、高速応答性や高いコントラストから次世代の液晶表示素子として実用化されている。

ＰＳＡ型液晶表示素子の製造は、液晶性化合物及び重合性化合物からなる重合性液晶組成物を基板間に注入し、電圧を印加し液晶分子を配向させた状態で重合性化合物を重合させて液晶分子の配向を固定することにより行われる。ＰＳＡ型液晶表示素子の重合性化合物を重合させる工程において、重合性化合物の重合反応速度は生産性にとって重要であるが、更にＰＳＡ型液晶表示素子のコントラストや応答速度等に影響を与えるプレチルト角や表示ムラや焼き付きといった信頼性に影響を及ぼす重合性化合物の残留量の調整においても重合性化合物の重合反応速度が重要となる。重合性化合物の重合反応速度はＵＶ照射ランプの波長や照射強度に依存するため、ＵＶ照射ランプの仕様に合った重合性化合物を含有する重合性液晶組成物の開発が求められているが、必ずしも充分と言えるものではない。具体的には、重合性液晶組成物の重合反応速度を調整する場合、重合性化合物の骨格構造や側鎖構造を変えることで重合性化合物のＵＶ吸収波長を使用するＵＶ照射ランプの発光波長に合わせたり、また、重合性化合物の反応基の種類を変えていた。しかし、その場合、使用するＵＶ照射ランプによって適合する重合性化合物の構造を変更する等、新たな重合性化合物の選択を行う必要があった。

重合反応速度を調整する技術として、液晶性化合物としてターフェニル環を有する液晶性化合物を用いることで重合反応速度を短縮してＰＳＡ型液晶素子を作製できることが公開されているが（特許文献１）、重合性化合物の骨格構造を変更することによりＵＶ照射ランプの仕様に合わせることは容易ではなく、また、ターフェニル環を有する液晶性化合物を用いることでＰＳＡ型液晶素子のＶＨＲが低下する等、信頼性に悪影響を及ぼす懸念があった。

このように、使用するＵＶ照射ランプにより適切な重合反応速度に調整されることによって、良好な生産性、高い表示性能及び品質性能を同時に満足させるＰＳＡ型液晶素子を与える重合性液晶組成物は容易には得られなかった。

米国特許第８０９２８７１号明細書

本発明が解決しようとする課題は、ＰＳＡ型液晶表示素子を作製する際に、重合性化合物の重合反応速度を、使用するＵＶ照射ランプの仕様に容易に適合させることができ、その結果、高い表示性能を有し、表示ムラや焼き付き等の表示不具合が起こらないか極めて小さい液晶表示素子を作製することができる重合性液晶組成物を提供することにある。また、当該重合性液晶組成物を用いて作製した液晶表示素子を提供することにある。

本願発明者らは種々の重合性化合物及び種々の非重合性の液晶材料の検討を行った結果、重合反応速度の異なる２種類又は３種類以上の重合性化合物及び液晶化合物から成る重合性液晶組成物が前述の課題を解決できることを見出し本願発明を完成するに至った。

すなわち、重合反応速度の異なる２種又は３種以上の重合性化合物を含有することを特徴とする液晶組成物を提供し、更に、当該液晶組成物を用いた液晶表示素子を提供する。

本願発明の重合性液晶組成物は、含有する重合性化合物の重合反応速度をＵＶ照射ランプの仕様に容易に適合することが可能となる。これにより、表示性能に影響を与えるプレチルト角の制御が容易にでき、表示ムラや焼き付き等に影響を与える未重合の重合性化合物が無くなるか極めて小さくなり、作製した液晶表示素子の信頼性に影響を及ぼすことが無いか極めて小さくなる。また、液晶表素子を作製するためのエネルギーコストを削減し、生産効率を向上できるため、当該液晶表示素子用の液晶材料として極めて有用である。

本願発明の重合反応速度の異なる２種又は３種以上の重合性化合物を含有する液晶組成物で用いられる重合性化合物は分子構造中に複数の環構造を有するものであり、例えば、一般式（ＩＩ）

で表される。一般式（ＩＩ）において、Ｐ^１１及びＰ^１２は重合性官能基を表すが、重合性官能基の具体的な例としては、下記に示す構造が挙げられる。

これらの重合基はラジカル重合、ラジカル付加重合、カチオン重合、及びアニオン重合により硬化する。特に重合方法として紫外線重合を行う場合には、式（Ｒ−１）、式（Ｒ−２）、式（Ｒ−４）、式（Ｒ−５）、式（Ｒ−７）、式（Ｒ−１１）、式（Ｒ−１３）又は式（Ｒ−１５）が好ましく、式（Ｒ−１）、式（Ｒ−２）、式（Ｒ−７）、式（Ｒ−１１）又は式（Ｒ−１３）がより好ましく、式（Ｒ−１）、式（Ｒ−２）がより好ましい。
Ｓ^１１及びＳ^１２はお互い独立して単結合又は炭素数１〜１５のアルキル基を表し、該アルキル基中の１つ又は２つ以上の−ＣＨ_２−は、酸素原子が直接隣接しないように、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＣＯＯ−で置換されても良いが、単結合、炭素数１〜１５のアルキル基、又は炭素数１〜１５のアルキル基であって、該アルキル基中の１つの−ＣＨ_２−が酸素原子が直接隣接しないように、−Ｏ−に置換されているものが好ましい。
Ｍ^１１、Ｍ^１２及びＭ^１３はそれぞれ独立して、
（ａ）トランス-1,4-シクロへキシレン基(この基中に存在する１個のメチレン基又は隣接していない２個以上のメチレン基は−O−又は−S−に置き換えられてもよい)、
（ｂ）フェニレン基(この基中に存在する１個の−CH＝又は隣接していない２個以上の−CH＝は窒素原子に置き換えられてもよく、又はこれらの基中に含まれる水素原子がお互い独立して無置換であるか又はこれらの基中に含まれる水素原子がフッ素原子、塩素原子、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のハロゲン化アルキル基、炭素原子数１〜８のハロゲン化アルコキシ基、又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基に置換されていてもよい)、及び
（ｃ）シクロヘキセニレン基、ビシクロ(2.2.2)オクチレン基、ピペリジン基、ナフタレン基、デカヒドロナフタレン基及びテトラヒドロナフタレン基
からなる群より選ばれる基が好ましく、Ｍ^１３が複数存在する場合には同一であっても異なっていても良いが、トランス-1,4-シクロへキシレン基、ナフタレン基又は、水素原子がお互い独立して無置換であるか又は水素原子がフッ素原子、塩素原子、炭素原子数１〜８のアルキル基に置換されたフェニレン基であることが好ましく、水素原子がお互い独立して無置換であるか又は水素原子がフッ素原子、塩素原子、炭素原子数１〜８のアルキル基に置換されたフェニレン基であることがより好ましい。
Ｚ^１１及びＺ^１２はお互い独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｃ_２Ｈ_４−、―ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＯＯ−、−ＣＯ−ＮＲ^１１−、−ＮＲ^１１−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、―ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−ＣＨ＝ＣＨ−、―ＣＯＯＣ_２Ｈ_４−、―ＯＣＯＣ_２Ｈ_４−、―Ｃ_２Ｈ_４ＯＣＯ−、―Ｃ_２Ｈ_４ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ_２−、―ＣＨ_２ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−又は−Ｃ≡Ｃ−（式中、Ｒ^１１は炭素原子１〜４のアルキル基を表す。）が好ましく、単結合、−Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｃ_２Ｈ_４−、―ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＯＯ−、−ＣＯ−、―ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−ＣＨ＝ＣＨ−、―ＣＯＯＣ_２Ｈ_４−、―ＯＣＯＣ_２Ｈ_４−、―Ｃ_２Ｈ_４ＯＣＯ−、―Ｃ_２Ｈ_４ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ_２−、―ＣＨ_２ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−又は−Ｃ≡Ｃ−がより好ましく、単結合、−Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｃ_２Ｈ_４−、―ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＯＯ−、−ＣＯ−、―ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−ＣＨ＝ＣＨ−、―ＣＯＯＣ_２Ｈ_４−、―ＯＣＯＣ_２Ｈ_４−、―Ｃ_２Ｈ_４ＯＣＯ−、―Ｃ_２Ｈ_４ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ_２−、―ＣＨ_２ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−がより好ましい。
ｎ^１１及びｎ^１２はお互い独立して、０、１、２又は３を表すが、ｎ^１１＋ｎ^１２は２〜６を表し、ｎ^１３は０、１又は２を表すが、ｎ^１１及びｎ^１２はお互い独立して、１又は２が好ましく、ｎ^１１＋ｎ^１２は２又は３が好ましい。

一般式（ＩＩ）で表される化合物は、より具体的には、下記の一般式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−４２）で表される化合物が好ましい。

（式中、Ｐ^１１及びＰ^１２はお互い独立して重合性官能基を表し、Ｓ^１１及びＳ^１２はお互い独立して単結合又は炭素数１〜１５のアルキル基を表し、該アルキル基中の１つ又は２つ以上の−ＣＨ_２−は、酸素原子が直接隣接しないように、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＯＣＯ−又は−ＣＯＯ−で置換されてよく、Ｒ^１１及びＲ^１４はお互いに独立してＰ^１１−Ｓ^１１−又は水素原子、フッ素原子、塩素原子、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のハロゲン化アルキル基、炭素原子数１〜８のハロゲン化アルコキシ基、又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基を表し、Ｒ^１２及びＲ^１３はお互いに独立して−Ｓ^１２−Ｐ^１２又は水素原子、フッ素原子、塩素原子、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のハロゲン化アルキル基、炭素原子数１〜８のハロゲン化アルコキシ基、又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基を表し、Ｘ^１１からＸ^１ｃは水素原子、フッ素原子、塩素原子、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のハロゲン化アルキル基、炭素原子数１〜８のハロゲン化アルコキシ基、又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基を表す。但し、Ｐ^１１、Ｐ^１２、Ｓ^１１及びＳ^１２が複数存在する場合には同一であっても異なっていても良い。）
更には、一般式（ＩＩ−１）、一般式（ＩＩ−２）、一般式（ＩＩ−４）〜一般式（ＩＩ−６）、一般式（ＩＩ−１０）〜一般式（ＩＩ−１３）、一般式（ＩＩ−１７）〜一般式（ＩＩ−２７）、一般式（ＩＩ−３４）、一般式（ＩＩ−３５）及び一般式（ＩＩ−３７）〜一般式（ＩＩ−３９）で表される化合物がより好ましい。

本願発明の重合性液晶組成物では、重合性化合物を２種又は３種以上含有するが、２種から５種含有することが好ましく、２種から４種含有することがより好ましく、２種から３種含有することが特に好ましい。重合性液晶組成物の重合性化合物の含有量は、下限値は０．０１質量％であることが好ましく、０．０３質量％であることがより好ましい。上限値は２．０質量％であることが好ましく、１．０質量％であることがより好ましい。

本願発明の重合性液晶組成物では、重合反応速度が異なる重合性化合物を含有するが、ここで重合反応速度とは、重合性液晶組成物中における重合性化合物の反応基が重合反応により減少していく、単位時間あたりの反応量を表す。
本願発明で使用する重合性化合物は、重合反応速度が異なる２種又は３種以上を選択する。
重合性化合物の重合反応速度は、重合性化合物が有するＵＶ吸収波長領域によって大きく異なってくる。ＵＶ照射装置の発光波長の光を吸収する重合性化合物はＵＶ光を効率的に吸収することで重合のためのエネルギーを多く得るため、その重合反応速度は速くなる。逆に、発光波長の光に対してＵＶ吸収が無い場合はＵＶエネルギーによる重合は進行しないため、熱エネルギーや他に存在するラジカルによる反応に留まり、相対的に重合反応速度は遅くなる。つまり、異なるＵＶ吸収波長を有する重合性化合物を選択することにより異なる重合反応速度にコントロールすることができる。一般的なＵＶ照射装置は、３６５ｎｍ付近に発光波長領域を示すものがよく知られているため、例えば、３５０ｎｍのＵＶ光を吸収する重合性化合物と３５０ｎｍのＵＶ光を吸収しない重合性化合物により、重合反応速度の異なる重合性化合物を得ることができる。
また、重合性化合物のＵＶ吸収波長に加えて、その吸光度の大きさによっても重合反応速度が変わるため、ＵＶ照射装置の発光波長の光における吸光度が異なる重合性化合物を選択することも有効である。具体的には、一般式（ＩＩ）で表される重合性化合物中の芳香環の数、連結基の種類又は側鎖の種類等により吸収波長や吸光度を変えることができる。例えば、環の数が２つのもの（ｎ^１３が０の場合）とそれ以上のもの（ｎ^１３が１又は２の場合）の場合、連結基が無い（Ｚ^１１及びＺ^１２が共に単結合の場合）ものと連結基が有る（Ｚ^１１及びＺ^１２の少なくとも一方が単結合ではない場合）ものの場合や、スペーサー基が無い（Ｓ^１１及びＳ^１２が共に単結合の場合）ものとスペーサ基が有る（Ｓ^１１及びＳ^１２の少なくとも一方が単結合ではない場合）ものの場合等が挙げられる。
好ましい組み合わせの代表例として、一般式（ＩＩ−１）と一般式（ＩＩ−５）、一般式（ＩＩ−１）と一般式（ＩＩ−３８）、一般式（ＩＩ−１）と一般式（ＩＩ−２２）、一般式（ＩＩ−１）と一般式（ＩＩ−２）、一般式（ＩＩ−１）と一般式（ＩＩ−１３）、一般式（ＩＩ−１）（Ｓ^１１及びＳ^１２が共に単結合の場合）と一般式（ＩＩ−１）（Ｓ^１１及びＳ^１２の少なくとも一方が単結合ではない場合）、一般式（ＩＩ−１）（ｎ^１１及びｎ^１２が０の場合）と一般式（ＩＩ−１）（ｎ^１１及びｎ^１２の少なくとも一方が１、２又は３の場合）、一般式（ＩＩ−２）と一般式（ＩＩ−３８）、一般式（ＩＩ−２）（ｎ^１１及びｎ^１２が０の場合）と一般式（ＩＩ−２）（ｎ^１１及びｎ^１２の少なくとも一方が１、２又は３の場合）及び一般式（ＩＩ−２）（Ｓ^１１及びＳ^１２が共に単結合の場合）と一般式（ＩＩ−２）（Ｓ^１１及びＳ^１２の少なくとも一方が単結合ではない場合）等が挙げられる。

更に、重合性化合物中の反応基の種類や数によって、異なる重合反応速度を有する重合性化合物を得ることができる。具体的には、反応基としてのアクリロイルオキシ基とメタクリロイルオキシ基を選択することで、各々異なる重合反応速度を有する重合性化合物を得ることができる。また、反応基の数を増やすことで反応効率を増やすことができるため、同様の効果が得られる。
本願発明の重合性液晶組成物には、一般式（Ｉ）

で表される化合物を含有することができる。一般式（Ｉ）において、Ｒ^２１及びＲ^２２はそれぞれ独立して炭素数１〜１５のアルキル基を表し、該アルキル基中の１つ又は２つ以上の−ＣＨ_２−は、酸素原子が直接隣接しないように、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＦ_２Ｏ−又は−ＯＣＦ_２−で置換されてよく、該アルキル基中の１つ又は２つ以上の水素原子は任意にハロゲンで置換されていても良いが、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数２〜１２のアルケニル基又は炭素数２〜１２のアルケニルオキシ基が好ましく、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基又は炭素数２〜１２のアルケニル基がより好ましい。
Ｍ^２１、Ｍ^２２及びＭ^２３はそれぞれ独立して、
（ａ）トランス-１,４-シクロへキシレン基(この基中に存在する１個のメチレン基又は隣接していない２個以上のメチレン基は−O−又は−S−に置き換えられてもよい)、
（ｂ）１,４-フェニレン基(この基中に存在する１個の−CH＝又は隣接していない２個以上の−CH＝は窒素原子に置き換えられてもよい)、２−フルオロ-１，４−フェニレン基、３−フルオロ−１，４−フェニレン基、及び
（ｃ）１,４-シクロヘキセニレン基、１,４-ビシクロ(２.２.２)オクチレン基、ピペリジン-２,５-ジイル基、ナフタレン-２,６-ジイル基、デカヒドロナフタレン-２,６-ジイル基及び１,２,３,４-テトラヒドロナフタレン-２,６-ジイル基
からなる群より選ばれる基が好ましく、トランス−１，４−シクロへキシレン基、１，４−フェニレン基、３−フルオロ−１，４−フェニレン基又は３，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン基がより好ましく、トランス−１，４−シクロへキシレン基又は１，４−フェニレン基が更に好ましく、少なくともひとつはトランス−１，４−シクロへキシレン基であることが特に好ましい、Ｍ^２３が複数存在する場合には同一であっても異なっていても良い。
Ｚ^２１及びＺ^２２はお互い独立して単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−（ＣＨ_２）_４−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−が好ましく、単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−（ＣＨ_２）_４−又は−Ｃ≡Ｃ−がより好ましく、単結合又は−ＣＨ_２ＣＨ_２−が特に好ましい、Ｚ^２２が複数存在する場合は、それらは同一でも良く異なっていても良い。

更に詳述すると、一般式（Ｉ）は、具体的な構造として以下の一般式（Ｉ−Ａ）から一般式（Ｉ−Ｐ）からなる群で表される化合物が好ましい。

式中、Ｒ^２３及びＲ^２４は、それぞれ独立的に炭素数１から１０のアルキル基、炭素数１から１０のアルコキシ基又は炭素数２から１０のアルケニル基がより好ましく、炭素数１から５のアルキル基又は炭素数１から１０のアルコキシ基が更に好ましい。

一般式（Ｉ−Ａ）から一般式（Ｉ−Ｐ）で表される化合物中、一般式（Ｉ−Ａ）、一般式（Ｉ−Ｂ）、一般式（Ｉ−Ｃ）、一般式（Ｉ−Ｅ）、一般式（Ｉ−Ｈ）、一般式（Ｉ−Ｉ）又は一般式（Ｉ−Ｋ）で表される化合物が好ましく、一般式（Ｉ−Ａ）、一般式（Ｉ−Ｃ）、一般式（Ｉ−Ｅ）、一般式（Ｉ−Ｈ）又は一般式（Ｉ−Ｉ）で表される化合物が更に好ましい。

本願発明では一般式（Ｉ）で表される化合物を少なくとも１種を含有するが、１種〜１０種含有することが好ましく、２種〜８種含有することが特に好ましく、一般式（Ｉ）で表される化合物の含有率の下限値は５質量％であることが好ましく、１０質量％であることがより好ましく、２０質量％であることが更に好ましく、３０質量％であることが特に好ましく、上限値としては８０質量％が好ましく、７０質量％が更に好ましく、６０質量％が更に好ましい。

本願発明の重合性液晶組成物には、一般式（ＩＩＩａ）、一般式（ＩＩＩｂ）及び一般式（ＩＩＩｃ）

表される化合物からなる群から選ばれる化合物又は一般式（ＩＶａ）、一般式（ＩＶｂ）及び一般式（ＩＶｃ）

表される化合物からなる群から選ばれる化合物を含有することができる。

一般式（ＩＩＩａ）、一般式（ＩＩＩｂ）及び一般式（ＩＩＩｃ）で表される化合物において、Ｒ^３１、Ｒ^３２及びＲ^３３はお互い独立して炭素原子数１から１０のアルキル基、炭素原子数１から１０のアルコキシ基、炭素原子数２から１０のアルケニル基又は炭素原子数２から１０のアルケニルオキシ基が好ましく、炭素数１〜１０の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１０の直鎖状アルコキシ基又は炭素数２〜１０アルケニル基がより好ましく、炭素数１〜８の直鎖状アルキル基又は炭素数１〜８のアルコキシ基が特に好ましい。

Ｍ^３１、Ｍ^３２、Ｍ^３３、Ｍ^３４、Ｍ^３５、Ｍ^３６、Ｍ^３７及びＭ^３８はお互い独立して、トランス−１，４−シクロへキシレン基（この基中に存在する１個のメチレン基又は隣接していない２個以上のメチレン基は−Ｏ−又は−Ｓ−に置き換えられているものも含む。）、１，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は窒素原子に置き換えられているものも含む）、１，４−シクロヘキセニレン基、１，４−ビシクロ［２．２．２］オクチレン基、ピペリジン−１，４−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基及びデカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基で表す基（各々の基はそれぞれ水素原子がシアノ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基又は塩素原子で置換されているものも含む。）が好ましく、トランス−１，４−シクロへキシレン基、１，４−フェニレン基、３−フルオロ−１，４−フェニレン基又は３，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン基がより好ましく、トランス−１，４−シクロへキシレン基又は１，４−フェニレン基が更に好ましく、トランス−１，４−シクロへキシレン基が特に好ましい。

Ｌ^３１、Ｌ^３２、Ｌ^３３、Ｌ^３４、Ｌ^３５、Ｌ^３６、Ｌ^３７及びＬ^３８はお互い独立して単結合、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−（ＣＨ_２）_４−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−又は−Ｃ≡Ｃ−が好ましく、単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−（ＣＨ_２）_４−又は−Ｃ≡Ｃ−がより好ましく、単結合又は−ＣＨ_２ＣＨ_２−が特に好ましい。Ｘ^３１、Ｘ^３２、Ｘ^３３、Ｘ^３４、Ｘ^３５、Ｘ^３６、及びＸ^３７はお互い独立して水素原子又はフッ素原子を表し、Ｙ^３１、Ｙ^３２、及びＹ^３３はお互い独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、チオシアナト基、トリフルオロメトキシ基、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ジフルオロメトキシ基又は炭素原子数１〜１２のアルキル基を表すことが好ましく、水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、トリフルオロメトキシ基、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基又は炭素原子数１〜１２のアルキル基を表すことが好ましく、フッ素原子、トリフルオロメトキシ基又はトリフルオロメチル基を表すことが特に好ましい。ｐ、ｑ、ｒ、ｓ、及びｔはお互い独立して、０、１又は２を表すが、ｑ＋ｒ及びｓ＋ｔは２以下を表す。

上記の選択肢の組み合わせにより形成される構造のうち、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｃ−及び−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ≡Ｃ−は化学的な安定性から好ましくない。またこれら構造中の水素原子がフッ素原子に置き換わったものも同様に好ましくない。また酸素同士が結合する構造、硫黄原子同士が結合する構造及び硫黄原子と酸素原子が結合する構造となることも同様に好ましくない。また窒素原子同士が結合する構造、窒素原子と酸素原子が結合する構造及び窒素原子と硫黄原子が結合する構造も同様に好ましくない。

具体的には以下の一般式（ＩＩＩａ−１）で示される構造を表すことが好ましい。

（式中、Ｒ^３４は炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシル基又は炭素原子数２〜８のアルケニル基を表し、Ｌ^３９及びＬ^４０はそれぞれ独立して単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−（ＣＨ_２）_４−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｍ^３９は１，４−フェニレン基、トランス−１，４−シクロヘキシレン基又はデカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基を表し、Ｘ^３２は水素原子又はフッ素原子を表し、ｐ_１は０又は１を表し、Ｙ^３４はシアノ基、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基又はトリフルオロメトキシ基を表す。）
更に具体的には以下の一般式（ＩＩＩａ−２ａ）〜一般式（ＩＩＩａ−４ｄ）

（式中、Ｒ^３４は炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数２〜８のアルケニル基を表し、Ｘ^３１及びＸ^３２はそれぞれ独立して水素原子又はフッ素原子を表し、Ｙ^３１はシアノ基、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基又はトリフルオロメトキシ基を表す。）で表される構造が好ましく、

（式中、Ｒ^３４は炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数２〜８のアルケニル基を表し、Ｙ^３４はシアノ基、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基又はトリフルオロメトキシ基を表す。）で表される構造も好ましい。

一般式（ＩＩＩｂ）は具体的な構造として以下の一般式

（式中、Ｒ^３５は炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数２〜８のアルケニル基を表し、Ｙ^３５はシアノ基、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基又はトリフルオロメトキシ基を表す。）で表される構造が好ましく、
一般式（ＩＩＩｃ）は具体的な構造として以下の一般式

（式中、Ｒ^３６は炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数２〜８のアルケニル基を表し、Ｙ^３６はシアノ基、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基又はトリフルオロメトキシ基を表す。）で表される構造が好ましい。

一般式（ＩＩＩａ）、一般式（ＩＩＩｂ）及び一般式（ＩＩＩｃ）で表される化合物からなる群から選ばれる化合物を少なくとも１種を含有するが、１種〜１０種含有することが好ましく、２種〜８種含有することが特に好ましく、一般式（ＩＩＩａ）、一般式（ＩＩＩｂ）及び一般式（ＩＩＩｃ）で表される化合物からなる群の含有率の下限値は５質量％であることが好ましく、１０質量％であることがより好ましく、２０質量％であることが好ましく、上限値は８０質量％が好ましく、７０質量％が好ましく、６０質量％が好ましく、５０質量％が更に好ましい。

一般式（ＩＶａ）、一般式（ＩＶｂ）及び一般式（ＩＶｃ）で表される化合物において、Ｒ^４１、Ｒ^４２、Ｒ^４３、Ｒ^４４、Ｒ^４５及びＲ^４６はお互い独立して炭素原子数１から１０のアルキル基、炭素原子数１から１０のアルコキシ基又は炭素原子数２から１０のアルケニル基、炭素数１〜１５の直鎖状アルキル基又は炭素数２〜１５のアルケニルオキシ基が好ましく、炭素数１〜１０の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１０の直鎖状アルコキシ基又は炭素数２〜１０アルケニル基がより好ましく、炭素数１〜８の直鎖状アルキル基又は炭素数１〜８のアルコキシ基が特に好ましい。Ｍ^４１、Ｍ^４２、Ｍ^４３、Ｍ^４４、Ｍ^４５、Ｍ^４６、Ｍ^４７、Ｍ^４８及びＭ^４９はお互い独立して、トランス−１，４−シクロへキシレン基（この基中に存在する１個のメチレン基又は隣接していない２個以上のメチレン基は−Ｏ−又は−Ｓ−に置き換えられているものも含む。）、１，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は窒素原子に置き換えられているものも含む）、１，４−シクロヘキセニレン基、１，４−ビシクロ（２．２．２）オクチレン基、ピペリジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基及びデカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基で表す基（各々の基に含まれる水素原子がそれぞれシアノ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基又は塩素原子で置換されているものも含む。）が好ましく、トランス−１，４−シクロへキシレン基、１，４−フェニレン基、２−フルオロ−１，４−フェニレン基、３−フルオロ−１，４−フェニレン基又は２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン基がより好ましく、トランス−１，４−シクロへキシレン基又は１，４−フェニレン基が更に好ましく、トランス−１，４−シクロへキシレン基が特に好ましい。Ｌ^４１、Ｌ^４２、Ｌ^４３、Ｌ^４４、Ｌ^４５、Ｌ^４６、Ｌ^４７、Ｌ^４８及びＬ^４９はお互い独立して単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−（ＣＨ_２）_４−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−又は−Ｃ≡Ｃ−が好ましく、単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−又は−ＣＦ_２Ｏ−がより好ましい。Ｘ^４１、Ｘ^４２、Ｘ^４３、Ｘ^４４、Ｘ^４５、Ｘ^４６、Ｘ^４７及びＸ^４８はお互い独立して水素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基又はフッ素原子を表すが、Ｘ^４１及びＸ^４２の何れか一つはフッ素原子を表し、Ｘ^４３、Ｘ^４４及びＸ^４５の何れか一つはフッ素原子を表し、Ｘ^４６、Ｘ^４７及びＸ^４８の何れか一つはフッ素原子を表すが、Ｘ^４６及びＸ^４７は同時にフッ素原子を表すことはなく、Ｘ^４６及びＸ^４８は同時にフッ素原子を表すことはなく、Ｇはメチレン基又は−Ｏ−を表し、ｕ、ｖ、ｗ、ｘ、ｙ及びｚはお互い独立して、０、１又は２を表すが、ｕ＋ｖ、ｗ＋ｘ及びｙ＋ｚは２以下で表す。

一般式（ＩＶａ）で表される化合物において、具体的には以下の一般式（ＩＶａ−１）で示される構造を表すことが好ましい。

（式中、Ｒ^４７及びＲ^４８はお互い独立して炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシル基又は炭素原子数２〜８のアルケニル基を表し、Ｌ^５０、Ｌ^５１及びＬ^５２はそれぞれ独立して単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−（ＣＨ_２）_４−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｍ^５０は１，４−フェニレン基又はトランス−１，４−シクロヘキシレン基を表し、ｕ_１及びｖ_１は、それぞれ独立して０又は１を表す。）
上記の選択肢の組み合わせにより形成される構造のうち、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｃ−及び−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ≡Ｃ−は化学的な安定性から好ましくない。またこれら構造中の水素原子がフッ素原子に置き換わったものも同様に好ましくない。また酸素同士が結合する構造、硫黄原子同士が結合する構造及び硫黄原子と酸素原子が結合する構造となることも同様に好ましくない。また窒素原子同士が結合する構造、窒素原子と酸素原子が結合する構造及び窒素原子と硫黄原子が結合する構造も同様に好ましくない。

更に具体的には以下の一般式（ＩＶａ−２ａ）〜一般式（ＩＶａ−３ｉ）

（式中、Ｒ^４７及びＲ^４８は、それぞれ独立して炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数２〜８のアルケニル基を表す。）で表される構造が好ましく、式中のＲ^４７及びＲ^４８がそれぞれ独立して炭素原子数１〜８のアルキル基又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基が更に好ましい。

一般式（ＩＶｂ）で表される化合物において、具体的には以下の一般式（ＩＶｂ−１）で示される構造を表すことが好ましい。

（式中、Ｒ^４９及びＲ^５０はお互い独立して炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数２〜８のアルケニル基を表し、Ｌ^５２、Ｌ^５３及びＬ^５４はそれぞれ独立して単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−（ＣＨ_２）_４−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｍ^５１、Ｍ^５２及びＭ^５３は１，４−フェニレン基又はトランス−１，４−シクロヘキシレン基を表し、ｗ１及びｘ１は、独立して０、１又は２を表すが、ｗ１＋ｘ１は２以下を表す。）
更に具体的には以下の一般式（ＩＶｂ−２ａ）〜（ＩＶｂ−３ｌ）

（式中、Ｒ^４９及びＲ^５０は、それぞれ独立して炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数２〜８のアルケニル基を表す。）で表される構造が好ましい。

一般式（ＩＶｃ）で表される化合物において、具体的には以下の一般式（ＩＶｃ−１ａ）及び一般式（ＩＶｃ−１ｂ）で示される構造を表すことが好ましい。

（式中、Ｒ^５１及びＲ^５２はお互い独立して炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数２〜８のアルケニル基を表し、Ｌ^５６、Ｌ^５７及びＬ^５８はそれぞれ独立して単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−（ＣＨ_２）_４−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｍ^５４、Ｍ^５５及びＭ^５６は１，４−フェニレン基又はトランス−１，４−シクロヘキシレン基を表し、ｙ１及びｚ１は、独立して０、１又は２を表すが、ｙ１＋ｚ１は２以下を表す。）
更に具体的には以下の一般式（ＩＶｃ−２ａ）〜（ＩＶｃ−２ｇ）

（式中、Ｒ^５１及びＲ^５２はお互い独立して炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数２〜８のアルケニル基を表す。）
一般式（ＩＩＩａ）、一般式（ＩＩＩｂ）及び一般式（ＩＩＩｃ）で表される化合物からなる群から選ばれる化合物、又は一般式（ＩＶａ）、一般式（ＩＶｂ）及び一般式（ＩＶｃ）で表される化合物からなる群から選ばれる化合物を少なくとも１種を含有するが、２種〜１０種含有することが好ましく、２種〜８種含有することが特に好ましく、含有率の下限値が５質量％であることが好ましく、１０質量％であることがより好ましく、２０質量％であることがより好ましく、上限値が８０質量％であることが好ましく、７０質量％であることが好ましく、６０質量％であることが好ましく、５０質量％であることが好ましい。

本願発明の重合性液晶組成物において、Δｎは０．０８〜０．２５の範囲であることが好ましい。

本願発明の重合性液晶組成物において、Δεは液晶表示素子の表示モードによって、正、又は負のΔεを有するものを用いることができる。ＴＮ又はＩＰＳモードの液晶表示素子においては、正のΔεを有する重合性液晶組成物を使用する。その場合のΔεは、１以上が好ましく、２以上がより好ましい。ＭＶＡモードの液晶表示素子においては、負のΔεを有する重合性液晶組成物を使用する。その場合のΔεは、−１以下が好ましく、−２以下がより好ましい。

本願発明の重合性液晶組成物は、広い液晶相温度範囲（液晶相下限温度と液晶相上限温度の差の絶対値）を有するが、液晶相温度範囲が１００℃以上であることが好ましく、１２０℃以上がより好ましい。また、液晶相上限温度は７０℃以上であることが好ましく、８０℃以上がより好ましい。更に、液晶相下限温度は−２０℃以下であることが好ましく、−３０℃以下がより好ましい。

本願発明の重合性液晶組成物は、上記の化合物以外に、通常のネマチック液晶、スメクチック液晶、コレステリック液晶などを含有していてもよい。

本願発明の重合性化合物を含有する液晶組成物は、重合開始剤が存在しない場合でも重合は進行するが、重合を促進するために重合開始剤を含有していてもよい。重合開始剤としては、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジルケタール類、アシルフォスフィンオキサイド類等が挙げられる。

本願発明の液晶組成物には、その保存安定性を向上させるために、安定剤を添加することもできる。使用できる安定剤としては、例えば、ヒドロキノン類、ヒドロキノンモノアルキルエーテル類、第三ブチルカテコール類、ピロガロール類、チオフェノール類、ニトロ化合物類、β−ナフチルアミン類、β−ナフトール類、ニトロソ化合物等が挙げられる。安定剤を使用する場合の添加量は、液晶組成物に対して０．００５〜１質量％の範囲が好ましく、０．０２〜０．５質量％が更に好ましく、０．０３〜０．１質量％が特に好ましい。

本願発明の重合性液晶組成物は、液晶組成物中の重合性化合物が重合することにより液晶配向能が付与され、液晶組成物の複屈折を利用して光の透過光量を制御する液晶表示素子に使用される。液晶表示素子として、ＡＭ−ＬＣＤ（アクティブマトリックス液晶表示素子）、ＴＮ（ネマチック液晶表示素子）、ＳＴＮ−ＬＣＤ（超ねじれネマチック液晶表示素子）、ＯＣＢ−ＬＣＤ及びＩＰＳ−ＬＣＤ（インプレーンスイッチング液晶表示素子）に有用であるが、ＡＭ−ＬＣＤに特に有用であり、透過型あるいは反射型の液晶表示素子に用いることができる。

液晶表示素子に使用される液晶セルの２枚の基板はガラス、又はプラスチックの如き柔軟性をもつ透明な材料を用いることができ、一方はシリコン等の不透明な材料でも良い。透明電極層を有する透明基板は、例えば、ガラス板等の透明基板上にインジウムスズオキシド（ＩＴＯ）をスパッタリングすることにより得ることができる。

カラーフィルターは、例えば、顔料分散法、印刷法、電着法、又は、染色法等によって作成することができる。顔料分散法によるカラーフィルターの作成方法を一例に説明すると、カラーフィルター用の硬化性着色組成物を、該透明基板上に塗布し、パターニング処理を施し、そして加熱又は光照射により硬化させる。この工程を、赤、緑、青の３色についてそれぞれ行うことで、カラーフィルター用の画素部を作成することができる。その他、該基板上に、ＴＦＴ、薄膜ダイオード、金属絶縁体金属比抵抗素子等の能動素子を設けた画素電極を設置してもよい。

前記基板を、透明電極層が内側となるように対向させる。その際、スペーサーを介して、基板の間隔を調整してもよい。このときは、得られる調光層の厚さが１〜１００μｍとなるように調整するのが好ましい。１．５から１０μｍが更に好ましく、偏光板を使用する場合は、コントラストが最大になるように液晶の屈折率異方性Δｎとセル厚ｄとの積を調整することが好ましい。又、二枚の偏光板がある場合は、各偏光板の偏光軸を調整して視野角やコントラトが良好になるように調整することもできる。更に、視野角を広げるための位相差フィルムも使用することもできる。スペーサーとしては、例えば、ガラス粒子、プラスチック粒子、アルミナ粒子、フォトレジスト材料等が挙げられる。その後、エポキシ系熱硬化性組成物等のシール剤を、液晶注入口を設けた形で該基板にスクリーン印刷し、該基板同士を貼り合わせ、加熱しシール剤を熱硬化させる。

２枚の基板間に高分子安定化液晶組成物を狭持させるに方法は、通常の真空注入法、又はＯＤＦ法などを用いることができる。

重合性化合物を重合させる方法としては、迅速な重合の進行が望ましいので、紫外線又は電子線等の活性エネルギー線を照射することによって重合させる方法が好ましい。紫外線を使用する場合、偏光光源を用いても良いし、非偏光光源を用いても良い。また、液晶組成物を２枚の基板間に挟持させて状態で重合を行う場合には、少なくとも照射面側の基板は活性エネルギー線に対して適当な透明性が与えられていなければならない。また、光照射時にマスクを用いて特定の部分のみを重合させた後、電場や磁場又は温度等の条件を変化させることにより、未重合部分の配向状態を変化させて、更に活性エネルギー線を照射して重合させるという手段を用いても良い。特に紫外線露光する際には、重合性化合物含有液晶組成物に交流を印加しながら紫外線露光することが好ましい。印加する交流は、周波数１０Ｈｚから１０ｋＨｚの交流が好ましく、周波数６０Ｈｚから１０ｋＨｚがより好ましく、電圧は液晶表示素子の所望のプレチルト角に依存して選ばれる。つまり、印加する電圧により液晶表示素子のプレチルト角を制御することができる。ＭＶＡモードの液晶表示素子においては、配向安定性およびコントラストの観点からプレチルト角を８０度から８９度に制御することが好ましい。

照射時の温度は、本願発明の液晶組成物の液晶状態が保持される温度範囲内であることが好ましい。室温に近い温度、即ち、典型的には１５〜３５℃での温度で重合させることが好ましい。紫外線を発生させるランプとしては、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ等を用いることができる。また、照射する紫外線の波長としては、液晶組成物の吸収波長域でない波長領域の紫外線を照射することが好ましく、必要に応じて、紫外線をカットして使用することが好ましい。照射する紫外線の強度は、０．１ｍＷ／ｃｍ^２〜１００Ｗ／ｃｍ^２が好ましく、２ｍＷ／ｃｍ^２〜５０Ｗ／ｃｍ^２がより好ましい。照射する紫外線のエネルギー量は、適宜調整することができるが、１ｍＪ／ｃｍ^２〜５００Ｊ／ｃｍ^２が好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ^２〜２００Ｊ／ｃｍ^２がより好ましい。紫外線を照射する際に、強度を変化させても良い。紫外線を照射する時間は照射する紫外線強度により適宜選択されるが、１０秒〜３６００秒が好ましい。

以下、実施例を挙げて本発明を更に詳述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。また、以下の実施例及び比較例の組成物における「％」は『質量％』を意味する。

液晶組成物の物性として、以下のように表す。
Ｔ_Ｎ−Ｉ（℃）：ネマチック相−等方性液体相転移温度（液晶相上限温度）
Δε ：誘電率異方性
Δｎ：屈折率異方性
（ＵＶ硬化後のモノマー残存量の測定方法）
液晶セルに液晶組成物を注入後、ＵＶを照射し重合性化合物を重合させる。その後、液晶セルを分解し、液晶材料、重合物、未重合の重合性化合物を含む溶出成分のアセトニトリル溶液を得る。これを高速液体クロマトグラフィー（カラム：逆相非極性カラム、展開溶媒：アセトニトリル）により、各成分のピーク面積を測定する。指標とする液晶材料のピーク面積と未重合の重合性化合物のピーク面積比から、残存する重合性化合物の量を決定した。この値と当初添加した重合性化合物の量からモノマー残存量を決定した。なお、重合性化合物の残存量の検出限界は１００ｐｐｍであった。
（実施例１）
一般式（Ｉ）から選ばれる化合物、一般式（ＩＩＩａ）、一般式（ＩＩＩｂ）及び一般式（ＩＩＩｃ）から選ばれる化合物又は、一般式（ＩＶａ）、一般式（ＩＶｂ）及び一般式（ＩＶｃ）から選ばれる化合物を含有した液晶組成物ＬＣ−１を調製した。構成する化合物及び含有する比率は以下の通りである。

上記液晶組成物ＬＣ−１の物性を表１に示す。

液晶組成物ＬＣ−１９９．６％に対して、

で示される重合性化合物を０．３％添加し、

で示される重合性化合物を０．１％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−１を調整した。
（比較例１）
液晶組成物ＬＣ−１９９．６％に対して、

で示される重合性化合物を０．４％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−２を調整した。
（比較例２）
液晶組成物ＬＣ−１９９．６％に対して、

で示される重合性化合物を０．４％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−３を調整した。
（実施例２）
液晶組成物ＬＣ−１９９．６％に対して、

で示される重合性化合物を０．３％添加し、

で示される重合性化合物を０．１％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−４を調整した。
（比較例３）
液晶組成物ＬＣ−１９９．６％に対して、

で示される重合性化合物を０．４％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−５を調整した。
（比較例４）
液晶組成物ＬＣ−１９９．６％に対して、

で示される重合性化合物を０．４％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−６を調整した。

実施例１、実施例２及び比較例１から比較例４で作成した重合性液晶組成物をセルギャップ３．５μｍでホメオトロピック配向を誘起するポリイミド配向膜を塗布したＩＴＯ付きセルに真空注入法で注入した。注入後、電圧印加状態で、３００から４００ｎｍにピーク波長がある高圧水銀灯により液晶セルに紫外線を照射し、重合性液晶組成物中の重合性化合物を重合させた垂直配向性液晶表示素子を得た。本液晶表示素子について、表示特性（コントラスト、応答速度等）に影響を与えるプレチルト角の測定及び焼き付きの目視観察を行った。（プレチルト角については、○はプレチルト角の変化が８７〜８９°程度であることを示し、×は全くプレチルト角の変化が見られない又は８７°より大きく変化していることを示す。焼き付きについては、○は焼き付きによる変化が見られないことを示し、×は表示特性が悪いもしくは焼き付きがみられることを示し、×の数が多いほど程度が悪いことを示す。）

以上の結果より、本願発明の化合物を用いることによってプレチルト角の変化が最適且つ焼き付きが発生しないことを確認した。
（実施例３）
一般式（Ｉ）から選ばれる化合物、一般式（ＩＩＩａ）、一般式（ＩＩＩｂ）及び一般式（ＩＩＩｃ）から選ばれる化合物又は、一般式（ＩＶａ）、一般式（ＩＶｂ）及び一般式（ＩＶｃ）から選ばれる化合物を含有した液晶組成物ＬＣ−２を調製した。構成する化合物及び含有する比率は以下の通りである。

上記液晶組成物ＬＣ−２の物性を表２に示す。

液晶組成物ＬＣ−２９９．７％に対して、

で示される重合性化合物を０．２％添加し、

で示される重合性化合物を０．１％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−７を調整した。
（比較例５）
液晶組成物ＬＣ−２９９．７％に対して、

で示される重合性化合物を０．３％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−８を調整した。
（比較例６）
液晶組成物ＬＣ−２９９．７％に対して、

で示される重合性化合物を０．３％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−９を調整した。
（実施例４）
液晶組成物ＬＣ−２９９．７％に対して、

で示される重合性化合物を０．２％添加し、

で示される重合性化合物を０．１％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−１０を調整した。
（比較例７）
液晶組成物ＬＣ−２９９．７％に対して、

で示される重合性化合物を０．３％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−１１を調整した。
（比較例８）
液晶組成物ＬＣ−２９９．７％に対して、

で示される重合性化合物を０．３％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−１２を調整した。

実施例３、実施例４及び比較例５から比較例８で作成した重合性液晶組成物をセルギャップ３．５μｍでホメオトロピック配向を誘起するポリイミド配向膜を塗布したＩＴＯ付きセルに真空注入法で注入した。注入後、電圧印加状態で、３００から４００ｎｍにピーク波長がある高圧水銀灯により液晶セルに紫外線を照射し、重合性液晶組成物中の重合性化合物を重合させた垂直配向性液晶表示素子を得た。本液晶表示素子について、表示特性（コントラスト、応答速度等）に影響を与えるプレチルト角の測定及び焼き付きの目視観察を行った。（プレチルト角については、○はプレチルト角の変化が８７〜８９°程度であることを示し、×は全くプレチルト角の変化が見られない又は８７°より大きく変化していることを示す。焼き付きについては、○は焼き付きによる変化が見られないことを示し、×は表示特性が悪いもしくは焼き付きがみられることを示し、×の数が多いほど程度が悪いことを示す。）

以上の結果より、本願発明の化合物を用いることによってプレチルト角の変化が最適且つ焼き付きが発生しないことを確認した。
（実施例５）
一般式（Ｉ）から選ばれる化合物、一般式（ＩＩＩａ）、一般式（ＩＩＩｂ）及び一般式（ＩＩＩｃ）から選ばれる化合物又は、一般式（ＩＶａ）、一般式（ＩＶｂ）及び一般式（ＩＶｃ）から選ばれる化合物を含有した液晶組成物ＬＣ−３を調製した。構成する化合物及び含有する比率は以下の通りである。

上記液晶組成物ＬＣ−３の物性を表５に示す。

液晶組成物ＬＣ−３９９．７％に対して、

で示される重合性化合物を０．１５％添加し、

で示される重合性化合物を０．１５％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−１３を調整した。
（比較例９）
液晶組成物ＬＣ−３９９．７％に対して、

で示される重合性化合物を０．３％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−１４を調整した。
（比較例１０）
液晶組成物ＬＣ−３９９．７％に対して、

で示される重合性化合物を０．３％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−１５を調整した。
（実施例６）
液晶組成物ＬＣ−３９９．７％に対して、

で示される重合性化合物を０．２％添加し、

で示される重合性化合物を０．１％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−１６を調整した。
（比較例１１）
液晶組成物ＬＣ−３９９．７％に対して、

で示される重合性化合物を０．３％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−１７を調整した。
（比較例１２）
液晶組成物ＬＣ−３９９．７％に対して、

で示される重合性化合物を０．３％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−１８を調整した。

実施例５、実施例６及び比較例９から比較例１２で作成した重合性液晶組成物をセルギャップ３．５μｍでホメオトロピック配向を誘起するポリイミド配向膜を塗布したＩＴＯ付きセルに真空注入法で注入した。注入後、電圧印加状態で、３００から４００ｎｍにピーク波長がある高圧水銀灯により液晶セルに紫外線を照射し、重合性液晶組成物中の重合性化合物を重合させた垂直配向性液晶表示素子を得た。本液晶表示素子について、表示特性（コントラスト、応答速度等）に影響を与えるプレチルト角の測定及び焼き付きの目視観察を行った。（プレチルト角については、○はプレチルト角の変化が８７〜８９°程度であることを示し、×は全くプレチルト角の変化が見られない又は８７°より大きく変化していることを示す。焼き付きについては、○は焼き付きによる変化が見られないことを示し、×は表示特性が悪いもしくは焼き付きがみられることを示し、×の数が多いほど程度が悪いことを示す。）

以上の結果より、本願発明の化合物を用いることによってプレチルト角の変化が最適且つ焼き付きが発生しないことを確認した。
（実施例７）
一般式（Ｉ）から選ばれる化合物、一般式（ＩＩＩａ）、一般式（ＩＩＩｂ）及び一般式（ＩＩＩｃ）から選ばれる化合物又は、一般式（ＩＶａ）、一般式（ＩＶｂ）及び一般式（ＩＶｃ）から選ばれる化合物を含有した液晶組成物ＬＣ−４を調製した。構成する化合物及び含有する比率は以下の通りである。

上記液晶組成物ＬＣ−４の物性を表７に示す。

液晶組成物ＬＣ−４９９．６％に対して、

で示される重合性化合物を０．２％添加し、

で示される重合性化合物を０．２％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−１９を調整した。
（比較例１３）
液晶組成物ＬＣ−４９９．６％に対して、

で示される重合性化合物を０．４％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−２０を調整した。
（比較例１４）
液晶組成物ＬＣ−４９９．６％に対して、

で示される重合性化合物を０．４％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−２１を調整した。
（実施例８）
液晶組成物ＬＣ−４９９．６％に対して、

で示される重合性化合物を０．３５％添加し、

で示される重合性化合物を０．０５％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−２２を調整した。
（比較例１５）
液晶組成物ＬＣ−４９９．６％に対して、

で示される重合性化合物を０．４％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−２３を調整した。
（比較例１６）
液晶組成物ＬＣ−４９９．６％に対して、

で示される重合性化合物を０．４％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−２４を調整した。
（実施例９）
液晶組成物ＬＣ−４９９．６％に対して、

で示される重合性化合物を０．３５％添加し、

で示される重合性化合物を０．０５％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−２５を調整した。
（比較例１７）
液晶組成物ＬＣ−４９９．６％に対して、

で示される重合性化合物を０．４％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−２６を調整した。
（比較例１８）
液晶組成物ＬＣ−４９９．６％に対して、

で示される重合性化合物を０．４％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−２７を調整した。
実施例７、実施例８、実施例９及び比較例１３から比較例１８で作成した重合性液晶組成物をセルギャップ３．５μｍでホメオトロピック配向を誘起するポリイミド配向膜を塗布したＩＴＯ付きセルに真空注入法で注入した。注入後、電圧印加状態で、３００から４００ｎｍにピーク波長がある高圧水銀灯により液晶セルに紫外線を照射し、重合性液晶組成物中の重合性化合物を重合させた垂直配向性液晶表示素子を得た。本液晶表示素子について、表示特性（コントラスト、応答速度等）に影響を与えるプレチルト角の測定及び焼き付きの目視観察を行った。（プレチルト角については、○はプレチルト角の変化が８７〜８９°程度であることを示し、×は全くプレチルト角の変化が見られない又は８７°より大きく変化していることを示す。焼き付きについては、○は焼き付きによる変化が見られないことを示し、×は表示特性が悪いもしくは焼き付きがみられることを示し、×の数が多いほど程度が悪いことを示す。）

以上の結果より、本願発明の化合物を用いることによってプレチルト角の変化が最適且つ焼き付きが発生しないことを確認した。
（実施例１０）
一般式（Ｉ）から選ばれる化合物、一般式（ＩＩＩａ）、一般式（ＩＩＩｂ）及び一般式（ＩＩＩｃ）から選ばれる化合物又は、一般式（ＩＶａ）、一般式（ＩＶｂ）及び一般式（ＩＶｃ）から選ばれる化合物を含有した液晶組成物ＬＣ−５を調製した。構成する化合物及び含有する比率は以下の通りである。

上記液晶組成物ＬＣ−５の物性を表９に示す。

液晶組成物ＬＣ−５９９．７％に対して、

で示される重合性化合物を０．２５％添加し、

で示される重合性化合物を０．０５％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−２８を調整した。
（比較例１９）
液晶組成物ＬＣ−５９９．７％に対して、

で示される重合性化合物を０．３％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−２９を調整した。
（比較例２０）
液晶組成物ＬＣ−５９９．７％に対して、

で示される重合性化合物を０．３％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−３０を調整した。
（実施例１１）
液晶組成物ＬＣ−５９９．７％に対して、

で示される重合性化合物を０．２５％添加し、

で示される重合性化合物を０．０５％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−３１を調整した。
（比較例２１）
液晶組成物ＬＣ−５９９．７％に対して、

で示される重合性化合物を０．３％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−３２を調整した。
（比較例２２）
液晶組成物ＬＣ−５９９．７％に対して、

で示される重合性化合物を０．３％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−３３を調整した。
実施例１０、実施例１１及び比較例１９から比較例２２で作成した重合性液晶組成物をセルギャップ３．５μｍでホメオトロピック配向を誘起するポリイミド配向膜を塗布したＩＴＯ付きセルに真空注入法で注入した。注入後、電圧印加状態で、３００から４００ｎｍにピーク波長がある高圧水銀灯により液晶セルに紫外線を照射し、重合性液晶組成物中の重合性化合物を重合させた垂直配向性液晶表示素子を得た。本液晶表示素子について、表示特性（コントラスト、応答速度等）に影響を与えるプレチルト角の測定及び焼き付きの目視観察を行った。（プレチルト角については、○はプレチルト角の変化が８７〜８９°程度であることを示し、×は全くプレチルト角の変化が見られない又は８７°より大きく変化していることを示す。焼き付きについては、○は焼き付きによる変化が見られないことを示し、×は表示特性が悪いもしくは焼き付きがみられることを示し、×の数が多いほど程度が悪いことを示す。）

以上の結果より、本願発明の化合物を用いることによってプレチルト角の変化が最適且つ焼き付きが発生しないことを確認した。
（実施例１２）
一般式（Ｉ）から選ばれる化合物、一般式（ＩＩＩａ）、一般式（ＩＩＩｂ）及び一般式（ＩＩＩｃ）から選ばれる化合物又は、一般式（ＩＶａ）、一般式（ＩＶｂ）及び一般式（ＩＶｃ）から選ばれる化合物を含有した液晶組成物ＬＣ−６を調製した。構成する化合物及び含有する比率は以下の通りである。

上記液晶組成物ＬＣ−６の物性を表１１に示す。

液晶組成物ＬＣ−６９９．６％に対して、

で示される重合性化合物を０．２％添加し、

で示される重合性化合物を０．２％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−３４を調整した。
（比較例２３）
液晶組成物ＬＣ−６９９．６％に対して、

で示される重合性化合物を０．４％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−３５を調整した。
（比較例２４）
液晶組成物ＬＣ−６９９．６％に対して、

で示される重合性化合物を０．４％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−３６を調整した。
（実施例１３）
液晶組成物ＬＣ−６９９．７％に対して、

で示される重合性化合物を０．１５％添加し、

で示される重合性化合物を０．１５％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−３７を調整した。
（比較例２５）
液晶組成物ＬＣ−６９９．７％に対して、

で示される重合性化合物を０．３％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−３８を調整した。
（比較例２６）
液晶組成物ＬＣ−６９９．７％に対して、

で示される重合性化合物を０．３％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−３９を調整した。
実施例１２、実施例１３及び比較例２３から比較例２６で作成した重合性液晶組成物をセルギャップ３．５μｍでホメオトロピック配向を誘起するポリイミド配向膜を塗布したＩＴＯ付きセルに真空注入法で注入した。注入後、電圧印加状態で、３００から４００ｎｍにピーク波長がある高圧水銀灯により液晶セルに紫外線を照射し、重合性液晶組成物中の重合性化合物を重合させた垂直配向性液晶表示素子を得た。本液晶表示素子について、表示特性（コントラスト、応答速度等）に影響を与えるプレチルト角の測定及び焼き付きの目視観察を行った。（プレチルト角については、○はプレチルト角の変化が８７〜８９°程度であることを示し、×は全くプレチルト角の変化が見られない又は８７°より大きく変化していることを示す。焼き付きについては、○は焼き付きによる変化が見られないことを示し、×は表示特性が悪いもしくは焼き付きがみられることを示し、×の数が多いほど程度が悪いことを示す。）

以上の結果より、本願発明の化合物を用いることによってプレチルト角の変化が最適且つ焼き付きが発生しないことを確認した。
（実施例１４）
一般式（Ｉ）から選ばれる化合物、一般式（ＩＩＩａ）、一般式（ＩＩＩｂ）及び一般式（ＩＩＩｃ）から選ばれる化合物又は、一般式（ＩＶａ）、一般式（ＩＶｂ）及び一般式（ＩＶｃ）から選ばれる化合物を含有した液晶組成物ＬＣ−７を調製した。構成する化合物及び含有する比率は以下の通りである。

上記液晶組成物ＬＣ−７の物性を表１３に示す。

液晶組成物ＬＣ−７９９．７％に対して、

で示される重合性化合物を０．２５％添加し、

で示される重合性化合物を０．０５％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−４０を調整した。
（比較例２７）
液晶組成物ＬＣ−７９９．７％に対して、

で示される重合性化合物を０．３％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−４１を調整した。
（比較例２８）
液晶組成物ＬＣ−７９９．７％に対して、

で示される重合性化合物を０．３％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−４２を調整した。
実施例１４、比較例２７及び比較例２８で作成した重合性液晶組成物をセルギャップ３．５μｍでパラレル配向を誘起するポリイミド配向膜を塗布したＩＴＯ付きセルに真空注入法で注入した。注入後、電圧印加状態で、３００から４００ｎｍにピーク波長がある高圧水銀灯により液晶セルに紫外線を照射し、重合性液晶組成物中の重合性化合物を重合させた垂直配向性液晶表示素子を得た。本液晶表示素子について、表示特性（コントラスト、応答速度等）に影響を与えるプレチルト角の測定及び焼き付きの目視観察を行った。（プレチルト角については、○はプレチルト角の変化が１〜３°程度であることを示し、×は全くプレチルト角の変化が見られない又は３°より大きく変化していることを示す。焼き付きについては、○は焼き付きによる変化が見られないことを示し、×は表示特性が悪いもしくは焼き付きがみられることを示し、×の数が多いほど程度が悪いことを示す。）

以上の結果より、本願発明の化合物を用いることによってプレチルト角の変化が最適且つ焼き付きが発生しないことを確認した。
（実施例１５）
一般式（Ｉ）から選ばれる化合物、一般式（ＩＩＩａ）、一般式（ＩＩＩｂ）及び一般式（ＩＩＩｃ）から選ばれる化合物又は、一般式（ＩＶａ）、一般式（ＩＶｂ）及び一般式（ＩＶｃ）から選ばれる化合物を含有した液晶組成物ＬＣ−８を調製した。構成する化合物及び含有する比率は以下の通りである。

上記液晶組成物ＬＣ−８の物性を表１５に示す。

液晶組成物ＬＣ−８９９．７％に対して、

で示される重合性化合物を０．１５％添加し、

で示される重合性化合物を０．１５％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−４３を調整した。
（比較例２９）
液晶組成物ＬＣ−８９９．７％に対して、

で示される重合性化合物を０．３％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−４４を調整した。
（比較例３０）
液晶組成物ＬＣ−８９９．７％に対して、

で示される重合性化合物を０．３％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−４５を調整した。
実施例１５、比較例２９及び比較例３０で作成した重合性液晶組成物をセルギャップ３．５μｍでパラレル配向を誘起するポリイミド配向膜を塗布したＩＴＯ付きセルに真空注入法で注入した。注入後、電圧印加状態で、３００から４００ｎｍにピーク波長がある高圧水銀灯により液晶セルに紫外線を照射し、重合性液晶組成物中の重合性化合物を重合させた垂直配向性液晶表示素子を得た。本液晶表示素子について、表示特性（コントラスト、応答速度等）に影響を与えるプレチルト角の測定及び焼き付きの目視観察を行った。（プレチルト角については、○はプレチルト角の変化が１〜３°程度であることを示し、×は全くプレチルト角の変化が見られない又は３°より大きく変化していることを示す。焼き付きについては、○は焼き付きによる変化が見られないことを示し、×は表示特性が悪いもしくは焼き付きがみられることを示し、×の数が多いほど程度が悪いことを示す。）

以上の結果より、本願発明の化合物を用いることによってプレチルト角の変化が最適且つ焼き付きが発生しないことを確認した。
（実施例１６）
一般式（Ｉ）から選ばれる化合物、一般式（ＩＩＩａ）、一般式（ＩＩＩｂ）及び一般式（ＩＩＩｃ）から選ばれる化合物又は、一般式（ＩＶａ）、一般式（ＩＶｂ）及び一般式（ＩＶｃ）から選ばれる化合物を含有した液晶組成物ＬＣ−９を調製した。構成する化合物及び含有する比率は以下の通りである。

上記液晶組成物ＬＣ−９の物性を表１７に示す。

液晶組成物ＬＣ−９９９．６％に対して、

で示される重合性化合物を０．２５％添加し、

で示される重合性化合物を０．１５％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−４６を調整した。
（比較例３１）
液晶組成物ＬＣ−９９９．６％に対して、

で示される重合性化合物を０．４％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−４７を調整した。
（比較例３２）
液晶組成物ＬＣ−９９９．６％に対して、

で示される重合性化合物を０．４％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−４８を調整した。
実施例１６、比較例３１及び比較例３２で作成した重合性液晶組成物をセルギャップ３．５μｍでパラレル配向を誘起するポリイミド配向膜を塗布したＩＴＯ付きセルに真空注入法で注入した。注入後、電圧印加状態で、３００から４００ｎｍにピーク波長がある高圧水銀灯により液晶セルに紫外線を照射し、重合性液晶組成物中の重合性化合物を重合させた垂直配向性液晶表示素子を得た。本液晶表示素子について、表示特性（コントラスト、応答速度等）に影響を与えるプレチルト角の測定及び焼き付きの目視観察を行った。（プレチルト角については、○はプレチルト角の変化が１〜３°程度であることを示し、×は全くプレチルト角の変化が見られない又は３°より大きく変化していることを示す。焼き付きについては、○は焼き付きによる変化が見られないことを示し、×は表示特性が悪いもしくは焼き付きがみられることを示し、×の数が多いほど程度が悪いことを示す。）

以上の結果より、本願発明の化合物を用いることによってプレチルト角の変化が最適且つ焼き付きが発生しないことを確認した。
（実施例１７）
液晶組成物ＬＣ−２９９．７２％に対して

で示される重合性化合物を０．２７％添加し

で示される重合性化合物を０．０１％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−４９を調製した。
（実施例１８）
液晶組成物ＬＣ−２９９．７２％に対して

で示される重合性化合物を０．０１％添加し

で示される重合性化合物を０．２７％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−５０を調製した。
（実施例１９）
液晶組成物ＬＣ−２９９．７２％に対して

で示される重合性化合物を０．１４％添加し

で示される重合性化合物を０．１４％添加し均一溶解することにより、重合性液晶組成物ＣＬＣ−５１を調製した。
（実施例２０）
実施例１７、実施例１８及び実施例１９で作成した重合性液晶組成物をセルギャップ３．５μｍでホメオトロピック配向を誘起するポリイミド配向膜を塗布したＩＴＯ付きセルに真空注入法で注入した。注入後、電圧印加状態で、３００から４００ｎｍにピーク波長がある高圧水銀灯により液晶セルに紫外線を１０００秒間照射し、重合性液晶組成物中の重合性化合物を重合させた垂直配向性液晶表示素子を得た。それぞれの液晶表示素子を分解し、液晶セル中の液晶組成物の中に含まれている重合性化合物の残量を測定し、１０００秒あたりの重合性化合物の反応率を計算した。実施例１７、実施例１８及び実施例１９で作成した液晶表示素子中の重合性化合物の反応率は各々２１％、４４％、３０％であった。
以上の結果より、重合反応速度の異なる重合性化合物を混合させることにより、液晶組成物中の重合性化合物の重合速度を調整することができることを確認した。
（実施例２１）
液晶組成物ＬＣ−３９９．６％に対して

で示される重合性化合物を０．３９％添加し

で示される重合性化合物を０．０１％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−５２を調製した。
（実施例２２）
液晶組成物ＬＣ−３９９．６％に対して

で示される重合性化合物を０．０１％添加し

で示される重合性化合物を０．３９％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ−５３を調製した。
（実施例２３）
液晶組成物ＬＣ−３９９．６％に対して

で示される重合性化合物を０．３５％添加し

で示される重合性化合物を０．０５％添加し均一溶解することにより、重合性液晶組成物ＣＬＣ−５４を調製した。
（実施例２４）
液晶組成物ＬＣ−３９９．６％に対して

で示される重合性化合物を０．２％添加し

で示される重合性化合物を０．２％添加し均一溶解することにより、重合性液晶組成物ＣＬＣ−５５を調製した。
（実施例２５）
実施例２１、実施例２２、実施例２３及び実施例２４で作成した重合性液晶組成物をセルギャップ３．５μｍでホメオトロピック配向を誘起するポリイミド配向膜を塗布したＩＴＯ付きセルに真空注入法で注入した。注入後、電圧印加状態で、３００から４００ｎｍにピーク波長がある高圧水銀灯により液晶セルに紫外線を１０００秒間照射し、重合性液晶組成物中の重合性化合物を重合させた垂直配向性液晶表示素子を得た。それぞれの液晶表示素子を分解し、液晶セル中の液晶組成物の中に含まれている重合性化合物の残量を測定し、１０００秒あたりの重合性化合物の反応率を計算した。実施例２１、実施例２２、実施例２３及び実施例２４で作成した液晶表示素子中の重合性化合物の反応率は各々４２％、９３％、５０％、７５％であった。
以上の結果より、重合反応速度の異なる重合性化合物を混合させることにより、液晶組成物中の重合性化合物の重合速度を調整することができることを確認した。

Claims

重合反応速度の異なる２種又は３種以上の重合性化合物を含有することを特徴とする液晶組成物。
一般式（Ｉ）

（式中、Ｒ^２１及びＲ^２２はそれぞれ独立して炭素数１〜１５のアルキル基を表し、該アルキル基中の１つ又は２つ以上の−ＣＨ_２−は、酸素原子が直接隣接しないように、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＦ_２Ｏ−又は−ＯＣＦ_２−で置換されてよく、該アルキル基中の１つ又は２つ以上の水素原子は任意にハロゲンで置換されていてもよく、Ｍ^２１、Ｍ^２２及びＭ^２３はそれぞれ独立して、
（ａ）トランス-1,4-シクロへキシレン基(この基中に存在する１個のメチレン基又は隣接していない２個以上のメチレン基は−O−又は−S−に置き換えられてもよい)、
（ｂ） 1,4-フェニレン基(この基中に存在する１個の−CH＝又は隣接していない２個以上の−CH＝は窒素原子に置き換えられてもよい)、２−フルオロ-１，４−フェニレン基、３−フルオロ−１，４−フェニレン基、及び
（ｃ） 1,4-シクロヘキセニレン基、1,4-ビシクロ(2.2.2)オクチレン基、ピペリジン-2,5-ジイル基、ナフタレン-2,6-ジイル基、デカヒドロナフタレン-2,6-ジイル基及び1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基
からなる群より選ばれる基を表すが、Ｍ^２３が複数存在する場合には同一であっても異なっていても良く、
Ｚ^２１及びＺ^２２はお互い独立して単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−（ＣＨ_２）_４−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−
を表すが、Ｚ^２２が複数存在する場合は、それらは同一でも良く異なっていても良く、ｎ^２１は０、１又は２を表す。）
で表される化合物を１種又は２種以上含有する請求項１記載の液晶組成物。
重合性化合物が各々独立して、一般式（ＩＩ）

（式中、Ｐ^１１及びＰ^１２はお互い独立して重合性官能基を表し、Ｓ^１１及びＳ^１２はお互い独立して単結合又は炭素数１〜１５のアルキル基を表し、該アルキル基中の１つ又は２つ以上の−ＣＨ_２−は、酸素原子が直接隣接しないように、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＯＣＯ−又は−ＣＯＯ−で置換されてよく、Ｍ^１１、Ｍ^１２及びＭ^１３はそれぞれ独立して、
（ａ）トランス-1,4-シクロへキシレン基(この基中に存在する１個のメチレン基又は隣接していない２個以上のメチレン基は−O−又は−S−に置き換えられてもよい)、
（ｂ）フェニレン基(この基中に存在する１個の−CH＝又は隣接していない２個以上の−CH＝は窒素原子に置き換えられてもよく、又はこれらの基中に含まれる水素原子がお互い独立して無置換であるか又はこれらの基中に含まれる水素原子がフッ素原子、塩素原子、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のハロゲン化アルキル基、炭素原子数１〜８のハロゲン化アルコキシ基、又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基に置換されていてもよい)、及び
（ｃ）シクロヘキセニレン基、ビシクロ(2.2.2)オクチレン基、ピペリジン基、ナフタレン基、デカヒドロナフタレン基及びテトラヒドロナフタレン基
からなる群より選ばれる基を表すが、Ｍ^１３が複数存在する場合には同一であっても異なっていても良く、Ｚ^１１及びＺ^１２はお互い独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｃ_２Ｈ_４−、―ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＯＯ−、−ＣＯ−ＮＲ^１１−、−ＮＲ^１１−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、―ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−ＣＨ＝ＣＨ−、―ＣＯＯＣ_２Ｈ_４−、―ＯＣＯＣ_２Ｈ_４−、―Ｃ_２Ｈ_４ＯＣＯ−、―Ｃ_２Ｈ_４ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ_２−、―ＣＨ_２ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−又は−Ｃ≡Ｃ−を表わし（式中、Ｒ^１１は炭素原子１〜４のアルキル基を表す。）、ｎ^１１及びｎ^１２はお互い独立して、０、１、２又は３を表すが、ｎ^１１＋ｎ^１２は２〜６を表し、ｎ^１３は０、１又は２を表す。）
で表される化合物である請求項１又は２のいずれか一項に記載の液晶組成物。
一般式（ＩＩＩａ）、一般式（ＩＩＩｂ）及び一般式（ＩＩＩｃ）

（式中Ｒ^３１、Ｒ^３２及びＲ^３３はお互い独立して炭素原子数１から１０のアルキル基又は炭素原子数２から１０のアルケニル基を表し、これらの基中に存在する１個のメチレン基又は隣接していない２個以上のメチレン基は−Ｏ−又は−Ｓ−に置換されても良く、またこれらの基中に存在する１個又は２個以上の水素原子はフッ素原子又は塩素原子に置換されても良く、
Ｍ^３１、Ｍ^３２、Ｍ^３３、Ｍ^３４、Ｍ^３５、Ｍ^３６、Ｍ^３７及びＭ^３８はお互い独立して、
（ｄ）トランス−１，４−シクロへキシレン基（この基中に存在する１個のメチレン基又は隣接していない２個以上のメチレン基は−Ｏ−又は−Ｓ−に置き換えられてもよい）、
（ｅ）１，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は窒素原子に置き換えられてもよい）、３−フルオロ−１，４−フェニレン基、３，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン基及び、
（ｆ）１，４−シクロヘキセニレン基、１，４−ビシクロ［２．２．２］オクチレン基、ピペリジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基及びデカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ｄ）、基（ｅ）又は基（ｆ）に含まれる水素原子はそれぞれシアノ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基又は塩素原子で置換されていても良く、
Ｌ^３１、Ｌ^３２、Ｌ^３３、Ｌ^３４、Ｌ^３５、Ｌ^３６、Ｌ^３７及びＬ^３８はお互い独立して単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−（ＣＨ_２）_４−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｍ^３２、Ｍ^３４、Ｍ^３５、Ｍ^３７、Ｍ^３８、Ｌ^３１、Ｌ^３３、Ｌ^３５、Ｌ^３６及び／又はＬ^３８が複数存在する場合は、それらは同一でも良く異なっていても良く、
Ｘ^３１、Ｘ^３２、Ｘ^３３、Ｘ^３４、Ｘ^３５、Ｘ^３６及びＸ^３７はお互い独立して水素原子又はフッ素原子を表し、
Ｙ^３１、Ｙ^３２及びＹ^３３はお互い独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、チオシアナト基、トリフルオロメトキシ基、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基又はジフルオロメトキシ基を表し、
Ｘ^３１、Ｘ^３２又はＹ^３１のうち少なくともひとつはフッ素原子、塩素原子、シアノ基、チオシアナト基、トリフルオロメトキシ基、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、又はジフルオロメトキシ基を表すか、Ｍ^３１又はＭ^３２に含まれる水素原子のうち少なくともひとつはシアノ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基又は塩素原子を表し、
Ｘ^３３、Ｘ^３４、Ｘ^３５又はＹ^３２のうち少なくともひとつはフッ素原子、塩素原子、シアノ基、チオシアナト基、トリフルオロメトキシ基、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ジフルオロメトキシ基を表すか、Ｍ^３３、Ｍ^３４又はＭ^３５に含まれる水素原子のうち少なくともひとつはシアノ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基又は塩素原子を表し、
Ｘ^３６、Ｘ^３７又はＹ^３３のうち少なくともひとつはフッ素原子、塩素原子、シアノ基、チオシアナト基、トリフルオロメトキシ基、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ジフルオロメトキシ基を表すか、Ｍ^３６、Ｍ^３７及びＭ^３８に含まれる水素原子のうち少なくともひとつはシアノ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基又は塩素原子を表し、
ｐ、ｑ、ｒ、ｓ及びｔはお互い独立して、０、１又は２を表すが、ｑ＋ｒ及びｓ＋ｔは２以下である。）で表される化合物からなる群から選ばれる化合物又は
一般式（ＩＶａ）、一般式（ＩＶｂ）及び一般式（ＩＶｃ）

（式中Ｒ^４１、Ｒ^４２、Ｒ^４３、Ｒ^４４、Ｒ^４５及び、Ｒ^４６はお互い独立して炭素原子数１から１０のアルキル基又は炭素原子数２から１０のアルケニル基を表し、これらの基中に存在する１個のメチレン基又は隣接していない２個以上のメチレン基は−Ｏ−又は−Ｓ−に置換されていても良く、またこれらの基中に存在する１個又は２個以上の水素原子はフッ素原子又は塩素原子に置換されても良く、
Ｍ^４１、Ｍ^４２、Ｍ^４３、Ｍ^４４、Ｍ^４５、Ｍ^４６、Ｍ^４７、Ｍ^４８及びＭ^４９はお互い独立して、
（ｄ）トランス−１，４−シクロへキシレン基（この基中に存在する１個のメチレン基又は隣接していない２個以上のメチレン基は−Ｏ−又は−Ｓ−に置き換えられてもよい）、
（ｅ）１，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は窒素原子に置き換えられてもよい）及び、
（ｆ）１，４−シクロヘキセニレン基、１，４−ビシクロ［２．２．２］オクチレン基、ピペリジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基及びデカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ｄ）、基（ｅ）又は基（ｆ）に含まれる水素原子はそれぞれシアノ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基又は塩素原子で置換されていても良く、
Ｌ^４１、Ｌ^４２、Ｌ^４３、Ｌ^４４、Ｌ^４５、Ｌ^４６、Ｌ^４７、Ｌ^４８及びＬ^４９はお互い独立して単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−（ＣＨ_２）_４−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｍ^４２、Ｍ^４３、Ｍ^４５、Ｍ^４６、Ｍ^４８、Ｍ^４９、Ｌ^４１、Ｌ^４３、Ｌ^４４、Ｌ^４６、Ｌ^４７及び／又はＬ^４９が複数存在する場合は、それらは同一でも良く異なっていても良く、
Ｘ^４１、Ｘ^４２、Ｘ^４３、Ｘ^４４、Ｘ^４５、Ｘ^４６、Ｘ^４７及びＸ^４８はお互い独立して水素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基又はフッ素原子を表すが、Ｘ^４１及びＸ^４２の何れか一つはフッ素原子を表し、Ｘ^４３、Ｘ^４４及びＸ^４５の何れか一つはフッ素原子を表し、Ｘ^４６、Ｘ^４７及びＸ^４８の何れか一つはフッ素原子を表すが、Ｘ^４６及びＸ^４７は同時にフッ素原子を表すことはなく、Ｘ^４６及びＸ^４８は同時にフッ素原子を表すことはない、
Ｇはメチレン基又は−Ｏ−を表し、
ｕ、ｖ、ｗ、ｘ、ｙ及びｚはお互い独立して、０、１又は２を表すが、ｕ＋ｖ、ｗ＋ｘ及びｙ＋ｚは２以下である。）で表される化合物からなる群から選ばれる化合物を１種又は２種以上含有する請求項１〜３のいずれか一項に記載の液晶組成物。
３５０ｎｍ以上の光を吸収する１種又は２種以上の重合性化合物と３５０ｎｍ以上の光を吸収しない１種又は２種以上の重合性化合物を含有する請求項１〜４のいずれか一項に記載の液晶組成物。
一般式（ＩＩ）のｎ^１１＋ｎ^１２が１又は２を表す重合性化合物と一般式（Ｉ）のｎ^１１＋ｎ^１２が２又は３を表す重合性化合物を含有する請求項１〜４のいずれか一項に記載の液晶組成物。
一般式（ＩＩ）のｎ^１３が０を表す重合性化合物と一般式（Ｉ）のｎ^１３が１又は２を表す重合性化合物を含有する請求項１〜４のいずれか一項に記載の液晶組成物。
一般式（ＩＩ）のＰ^１１及びＰ^１２がメタクリロイルオキシ基を表す重合性化合物と一般式（Ｉ）のＰ^１１及びＰ^１２がアクリロイルオキシ基を表す重合性化合物を含有する請求項１〜４のいずれか一項に記載の液晶組成物。
一般式（ＩＩ）のＺ^１１及びＺ^１２が単結合を表す重合性化合物と一般式（ＩＩ）のＺ^１１及びＺ^１２がお互い独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｃ_２Ｈ_４−、―ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＯＯ−、−ＣＯ−ＮＲ^１１−、−ＮＲ^１１−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、―ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−ＣＨ＝ＣＨ−、―ＣＯＯＣ_２Ｈ_４−、―ＯＣＯＣ_２Ｈ_４−、―Ｃ_２Ｈ_４ＯＣＯ−、―Ｃ_２Ｈ_４ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ_２−、―ＣＨ_２ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−又は−Ｃ≡Ｃ−を表わし（式中、Ｒ^１１は炭素原子１〜４のアルキル基を表す。）を表す重合性化合物を含有する請求項１〜４のいずれか一項に記載の液晶組成物。
一般式（ＩＩ）のＳ^１１及びＳ^１２が単結合を表す重合性化合物と一般式（Ｉ）のＳ^１１及びＳ^１２の少なくとも一方が炭素数１〜１５のアルキル基（ただし、該アルキル基中の１つ又は２つ以上の−ＣＨ_２−は、酸素原子が直接隣接しないように、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＣＯＯ−で置換されてよい）を表す重合性化合物を含有する請求項１〜４のいずれか一項に記載の液晶組成物。
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の液晶組成物を使用し、液晶組成物中の重合性化合物を重合することにより液晶配向能を付与することを特徴とする液晶表示素子。
液晶組成物中の重合性化合物を重合することにより液晶配向能を付与する液晶表示素子用の液晶組成物の製造方法において、重合反応速度の異なる２種又は３種以上の重合性化合物を含有させることにより、液晶組成物中の重合性化合物の重合速度を調整する方法。