JP2014071224A - 露光装置 - Google Patents

Abstract

【課題】基板の裏面に異物が付着しないようにする露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１は、受入れ台２１と、第１の基板浮上部と、保持台３４と、第２の基板浮上部と、基板移動部８と、露光部とを備える。受入れ台２１には、基板１０１が供給される。第１の基板浮上部は、受入れ台２１の上方に基板を浮上させる。保持台３４は、受入れ台２１に並べて配置される。第２の基板浮上部は、保持台３４の上方に基板を浮上させる。基板移動部８は、基板１０１の縁に接触して、受入れ台２１の上方に浮上した基板１０１を保持台３４の上方に移動させる。露光部は、保持台３４の上方に配置された基板１０１に対して露光を行う。
【選択図】図８

Description

本発明は、液晶ディスプレイ装置等の表示用パネルの製造において、表示基板に露光を行ってパターンを形成する露光装置に関する。

表示用パネルの表示基板としては、液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ（Thin Film Transistor）基板やカラーフィルタ基板、プラズマディスプレイパネル用基板、有機ＥＬ（Electroluminescence）表示パネル用基板等を挙げることができる。このような表示基板は、露光装置を用いて、フォトリソグラフィー技術により基板上にパターンを形成して製造される。

露光装置としては、一般的に、プロジェクション方式又はプロキシミティ方式が採用されている。プロジェクション方式は、レンズ又は鏡を用いてフォトマスク（以下、「マスク」と称す）のパターンを基板上に投影して転写する。プロキシミティ方式は、マスクと基板との間に微小な隙間（プロキシミティギャップ）を設けて、マスクのパターンを基板へ転写する。

また、近年、フォトレジストが塗布された基板へ光ビームを照射し、基板に対して光ビームを走査して、基板にパターンを描画する露光装置が開発されている。このような露光装置は、描画データ、及び走査のプログラムを変更することにより、様々な種類の表示基板の製造に対応させることができる。また、光ビームを走査することで基板にパターンを直接描画するため、高価なマスクが不要となる。

これらの露光装置は、基板を供給位置から露光位置へ搬送する基板搬送機構を備えている。基板搬送機構としては、例えば、特許文献１に記載されている。この特許文献１に記載された基板搬送機構は、基板の裏面に接触する複数のローラと、基板の裏面に対して圧縮空気を吹き付けるための複数のエアノズルとを備えている。そして、複数のエアノズルは、上向きの圧縮空気を噴射するノズルと、基板の移動方向へ斜めに圧縮空気を噴出するノズルを有している。

また、基板搬送機構を備える露光装置としては、例えば、特許文献２に記載されている。この特許文献２に記載された露光装置は、基板を搭載する第１の基板搭載部及び第２の基板搭載部と、第１の基板浮上部と、第２の基板浮上部と、搬送部とを備えている。第１の基板浮上部は、第１の基板搭載部に対して基板を浮上させ、第２の基板搭載部は、第２の基板搭載部に対して基板を浮上させる。搬送部は、基板の裏面を吸着して、基板を第１の基板搭載部から第２の基板搭載部へ搬送する。

特開２０１１−１６８３６３号公報 特開２０１２−３８８７４号公報

しかしながら、特許文献１に記載された基板搬送機構では、複数のローラに付いた塵埃等の異物が基板の裏面に付着することがあった。例えば、ガラス等の光が透過する基板では、露光時に基板を透過した光が裏面に付着した異物によって反射し、再び基板を透過して基板の表面に達してしまう。これにより、異物の形状が基板の表面に焼き付けられる現象（裏面転写）が発生するという問題が生じる。

また、特許文献２に記載された露光装置では、搬送部における吸着パッドに付いた塵埃等の異物が基板の裏面に付着して、裏面転写が発生するという問題が生じる。

本発明の目的は、上記従来技術における実情を考慮し、基板の裏面に異物が付着しないようにする露光装置を提供することにある。

上記課題を解決し、本発明の目的を達成するため、本発明の露光装置は、受入れ台と、第１の基板浮上部と、保持台と、第２の基板浮上部と、基板移動部と、露光部とを備える。
受入れ台には、基板が供給される。第１の基板浮上部は、受入れ台の上方に基板を浮上させる。保持台は、受入れ台に並べて配置される。第２の基板浮上部は、保持台の上方に基板を浮上させる。基板移動部は、基板の縁に接触して、受入れ台の上方に浮上した基板を保持台の上方に移動させる。露光部は、保持台の上方に配置された基板に対して露光を行う。

本発明の露光装置では、基板移動部が受入れ台の上方に浮上した基板の縁に接触して、その基板を保持台の上方へ移動させる。これにより、基板移動部は、基板の裏面に接触することなく、基板を移動させることができる。その結果、基板の裏面に塵埃等の異物が付着することを防止或いは抑制することができる。

本発明の露光装置によれば、基板の裏面に異物が付着しないようにすることができる。

本発明の第１の実施形態に係る露光装置の全体構成の概略を示す平面図である。 本発明の第１の実施形態に係る露光装置の全体構成の概略を示す正面図である。 本発明の第１の実施形態に係る露光装置の受入れ台の平面図である。 本発明の第１の実施形態に係る露光装置の第１の基板浮上部を示す説明図である。 本発明の第１の実施形態に係る露光装置の保持台の平面図である。 本発明の第１の実施形態に係る露光装置の第２の基板浮上部を示す説明図である。 本発明の第１の実施形態に係る露光装置の保持台冷却部を示す説明図である。 本発明の第１の実施形態に係る露光装置の基板移動部及び基板排出部を示す説明図である。 本発明の第２の実施形態に係る露光装置の構成の概略を示す説明図である。

以下、本発明の実施形態に係る露光装置を図１〜図９を用いて説明する。なお、各図において共通の部材には、同一の符号を付している。

＜第１の実施形態に係る露光装置の構成＞
まず、第１の実施形態に係る露光装置の構成について、図１及び図２を参照して説明する。
図１は、第１の実施形態に係る露光装置の平面図である。図２は、第１の実施形態に係る露光装置の正面図である。なお、図２では、排出ユニット６と、供給及び回収ユニット７を省略して示す。

図１及び図２に示す露光装置１は、基板１０１の表面１０１ａにパターンを転写する。この露光装置１は、受入れユニット２と、保持ユニット３と、ベース４と、露光ユニット５と、排出ユニット６と、供給及び回収ユニット７と、基板移動部８及び基板排出部９（図８参照）と、各ユニットの駆動を制御する制御部（不図示）とを備えている。

［受入れユニット］
図２に示すように、受入れユニット２は、受入れ台２１と、受入れ台２１を支持する受入れ台支持部２２と、第１の基板浮上部２３（図４参照）とを有している。受入れ台２１の構成については、後で図３を参照して説明し、第１の基板浮上部２３については、後で図４を参照して説明する。

受入れ台２１の下方には、複数の突き上げピン２５と、複数の突き上げピン２５を昇降させるピン昇降部２６が配設されている。複数の突き上げピン２５は、ピン昇降部２６によって上昇して、受入れ台２１を上下方向に貫通する。そして、複数の突き上げピン２５の先端部は、基板１０１を支持する。
また、複数の突き上げピン２５は、ピン昇降部２６によって下降する。これにより、複数の突き上げピン２５の先端部は、受入れ台２１の内部に配置される。

以下、上下方向をＺ方向とする。また、Ｚ方向に直交する一方向をＸ方向とし、Ｚ方向とＸ方向に直交する方向をＹ方向とする。

［保持ユニット］
保持ユニット３と受入れユニット２は、Ｘ方向に並んで配置されている。この保持ユニット３は、Ｘステージ３１と、Ｙステージ３２と、θステージ３３と、保持台３４と、第２の基板浮上部３５（図６参照）とを有している。

Ｘステージ３１は、ベース４の後述するＸ軸ガイド４１に沿って移動する。このＸステージ３１の下部は、Ｘ軸ガイド４１に移動可能に係合する。また、Ｘステージ３１の上面には、Ｙ方向に延びるＹ軸ガイド３６が設けられている。このＹ軸ガイド３６は、Ｙステージ３２をＹ方向に案内する。

Ｙステージ３２は、Ｙ軸ガイド３６に沿ってＹ方向に移動する。このＹステージ３２の下部は、Ｙ軸ガイド３６に移動可能に係合する。θステージ３３は、Ｙステージ３２の上面に固定されている。このθステージ３３は、Ｚ方向に平行な回転軸を中心に回転する。θステージ３３の上面には、Ｚ−チルト機構３８が設けられている。このＺ−チルト機構３８は、保持台３４をＺ方向へ移動させる。また、Ｚ−チルト機構３８は、保持台３４をＹ方向に平行な軸を中心にＺ方向に対して傾斜（チルト）させる。

なお、Ｘステージ３１及びＹステージ３２を動作させるための駆動源としては、例えば、リニアモータを適用できるが、ステッピングモータなどのその他の駆動源を用いることもできる。また、θステージ３３及びＺ−チルト機構３８を動作させるための駆動源としては、例えば、ステッピングモータを適用できる。

保持台３４と受入れユニット２の受入れ台は、Ｘ方向に並んで配置されている。保持台３４の上面は、受入れ台２１の上面と略同じ高さに位置している。この保持台３４の構成については、後で図５を参照して説明し、第２の基板浮上部３５については、後で図６を参照して説明する。

［ベース］
ベース４は、Ｘ方向に長い矩形の板状に形成されている。このベース４の上面には、Ｘ方向に沿って延びるＸ軸ガイド４１が設けられている。このＸ軸ガイド４１は、Ｘステージ３１をＸ方向に案内する。

Ｘステージ３１を含む保持ユニット３は、Ｘ方向において受入れユニット２に隣り合う受け渡し位置と、受け渡し位置からＸ方向に移動して露光ユニット５にＺ方向で対向する露光位置に配置される。

［露光ユニット］
露光ユニット５は、本発明に係る露光部の一具体例であり、ベース４の上方に配置されている。この露光ユニット５は、マスクと、マスクを保持するマスクホルダと、露光用光源とを有している。

［排出ユニット］
排出ユニット６は、受け渡し位置に配置された保持ユニット３にＹ方向において対向する位置に配置されている。つまり、排出ユニット６と、受け渡し位置に配置された保持ユニット３とは、Ｙ方向に並んで配置されている。排出ユニット６は、排出台６１を有している。この排出台６１上には、露光ユニット５によって露光された基板１０１が配置される。
なお、排出台６１は、受入れユニット２の受入れ台２１と同様の構成を有している。

［供給及び回収ユニット］
供給及び回収ユニット７は、露光される前の基板１０１を受入れユニット２の受入れ台２１上に供給する。また、供給及び回収ユニット７は、排出ユニット６の排出台６１上に配置された露光後の基板１０１を回収する（受け取る）。

［受入れ台］
次に、受入れユニット２における受入れ台２１の構成について、図３を参照して説明する。
図３は、受入れ台２１の平面図である。

図３に示すように、受入れ台２１は、Ｘ方向に長い矩形の板状に形成されている。受入れ台２１におけるＸ方向の一方の端部は、保持ユニット３から遠い側の端部であり、Ｘ方向の他方の端部は、保持ユニット３の保持台３４に対向している。

受入れ台２１には、複数のピン貫通孔２１１と、複数の吸気孔２１２と、複数の基板浮上用孔２１３と、複数の基板送り用孔２１４が形成されている。複数のピン貫通孔２１１、複数の吸気孔２１２、複数の基板浮上用孔２１３及び複数の基板送り用孔２１４は、受入れ台２１の上面２１ａに開口されている。

複数のピン貫通孔２１１は、受入れ台２１の上面２１ａに格子状に配置されており、Ｘ方向及びＹ方向に沿って等間隔で並んでいる。各ピン貫通孔２１１には、ピン昇降部２６によって上昇した各突き上げピン２５が貫通する。

複数の吸気孔２１２は、受入れ台２１の上面２１ａに格子状に配置されており、Ｘ方向及びＹ方向に沿って等間隔で並んでいる。複数の吸気孔２１２のうち、Ｘ方向及びＹ方向に対して傾斜する方向に互いに対向する２つの吸気孔２１２間には、ピン貫通孔２１１が配置されている。

複数の吸気孔２１２は、不図示の配管を介して不図示の真空ポンプに接続されている。受入れ台２１における上面２１ａの上方に基板１０１が配置された状態で真空ポンプが駆動すると、複数の吸気孔２１２の周囲の空気が吸引され、受入れ台２１の上面２１ａと基板１０１の裏面との間に複数の真空区域が形成される。これにより、基板１０１が、受入れ台２１の上面２１ａに平行な方向に移動しないようにすることができる。

複数の基板浮上用孔２１３は、受入れ台２１の上面２１ａ全体に分布するように配置されており、Ｘ方向及びＹ方向に沿って並んでいる。これら複数の基板浮上用孔２１３は、それぞれ受入れ台２１の上面２１ａに対して略垂直に延びており、第１の基板浮上部２３の後述する配管２３１（図４参照）に連通している。

複数の基板送り用孔２１４は、受入れ台２１の上面２１ａにおいてＹ方向の中央部に分布するように配置されており、Ｘ方向及びＹ方向に沿って並んでいる。複数の基板送り用孔２１４は、それぞれＸ方向における他方に傾斜して延びており、第１の基板浮上部２３の後述する配管２３２（図４参照）に連通している。上述のＸ方向における他方とは、基板１０１が受入れ台２１から保持台３４（図１参照）へ移動する方向である。

［第１の基板浮上部］
次に、第１の基板浮上部２３の構成について、図４を参照して説明する。
図４は、第１の基板浮上部２３を示す説明図である。

図４に示すように、第１の基板浮上部２３は、受入れ台２１上に基板１０１を浮上させる。この第１の基板浮上部２３は、配管２３１と、配管２３２と、低圧縮エア供給部２３４と、高圧縮エア供給部２３５とを有している。

配管２３１は、複数の基板浮上用孔２１３に管継手２３３を用いて接続されており、一端が複数の基板浮上用孔２１３に連通している。配管２３１の他端は、低圧縮エア供給部２３４と高圧縮エア供給部２３５に接続されている。
低圧縮エア供給部２３４と高圧縮エア供給部２３５は、本発明に係る気体供給部の一具体例を示すものである。低圧縮エア供給部２３４は、低圧縮エアを排出し、高圧縮エア供給部２３５は、低圧縮エアよりも高い圧力の高圧縮エアを排出する。

また、配管２３１には、低圧縮エア用電磁弁２３７と、高圧縮エア用電磁弁２３８が設けられている。低圧縮エア用電磁弁２３７と高圧縮エア用電磁弁２３８は、複数の基板浮上用孔２１３に送る気体（エア）の圧力を切り替えるために設けられている。

低圧縮エア供給部２３４によって複数の基板浮上用孔２１３に低圧縮エアを送る場合には、制御部（不図示）が低圧縮エア用電磁弁２３７を開き、高圧縮エア用電磁弁２３８を閉じる制御を行う。これにより、複数の基板浮上用孔２１３から低圧縮エアが噴射され、基板１０１の裏面１０１ｂに吹き付けられる。その結果、基板１０１が受入れ台２１の上方に浮上する。

一方、高圧縮エア供給部２３５によって複数の基板浮上用孔２１３に高圧縮エアを送る場合には、制御部（不図示）が高圧縮エア用電磁弁２３８を開き、低圧縮エア用電磁弁２３７を閉じる制御を行う。これにより、複数の基板浮上用孔２１３から高圧縮エアが噴射され、基板１０１の裏面１０１ｂに吹き付けられる。その結果、基板１０１が受入れ台２１の上方に浮上する。このとき、基板１０１は、低圧縮エアが吹き付けられる場合よりも高く浮上する。

配管２３２は、複数の基板送り用孔２１４に管継手２３３を用いて接続されており、一端が複数の基板送り用孔２１４に連通している。配管２３２の他端は、高圧縮エア供給部２３５に接続されている。

また、配管２３２には、高圧縮エア用電磁弁２３９が設けられている。高圧縮エア供給部２３５によって複数の基板送り用孔２１４に高圧縮エアを送る場合は、高圧縮エア用電磁弁２３９を開く。これにより、複数の基板送り用孔２１４から高圧縮エアが噴射され、基板１０１の裏面１０１ｂに吹き付けられる。その結果、複数の基板送り用孔２１４から噴射した高圧縮エアが、Ｘ方向における他方に傾斜した方向へ噴射され、基板１０１のＸ方向における他方への移動を補助する。
一方、複数の基板送り用孔２１４に高圧縮エアを送らない場合は、高圧縮エア用電磁弁２３９を閉じる。

［保持台］
次に、保持ユニット３における保持台３４の構成について、図５を参照して説明する。
図５は、保持台３４の平面図である。

図５に示すように、保持台３４は、Ｘ方向に長い矩形の板状に形成されている。保持台３４の上面３４ａは、受入れ台２１の上面２１ａと略等しい外形に設定されている。また、保持台３４は、後述する保持台冷却部３９（図７参照）によって冷却される。

保持台３４におけるＸ方向の一方の端部は、受入れユニット２の受入れ台２１（図１参照）に対向しており、Ｘ方向の他方の端部は、受入れユニット２から遠い側の端部である。また、保持台３４におけるＹ方向の一方の端部は、排出ユニット６から遠い側の端部であり、Ｙ方向の他方の端部は、排出ユニット６の排出台（図１参照）に対向する。

保持台３４には、複数の吸気孔３４２と、複数の基板浮上用孔３４３と、複数の第１基板送り用孔３４４と、複数の第２基板送り用孔３４５が形成されている。複数の吸気孔３４２、複数の基板浮上用孔３４３、複数の第１基板送り用孔３４４及び複数の第２基板送り用孔３４５は、保持台３４の上面３４ａに開口されている。

複数の吸気孔３４２は、保持台３４の上面３４ａに格子状に配置されており、Ｘ方向及びＹ方向に沿って並んでいる。複数の吸気孔３４２は、不図示の配管を介して不図示の真空ポンプに接続されている。

保持台３４の上方に基板１０１が配置された状態で真空ポンプが駆動すると、複数の吸気孔３４２の周囲の空気が吸引され、保持台３４の上面３４ａと基板１０１の裏面との間に複数の真空区域が形成される。これにより、基板１０１が保持台３４の上面３４ａに平行な方向に移動しないようにすることができる。

複数の基板浮上用孔３４３は、保持台３４の上面３４ａ全体に分布するように配置されており、Ｘ方向及びＹ方向に沿って並んでいる。これら複数の基板浮上用孔３４３は、それぞれ保持台３４の上面３４ａに対して略垂直に延びており、第２の基板浮上部３５の後述する配管３５１（図６参照）に連通している。

複数の第１基板送り用孔３４４は、保持台３４の上面３４ａにおいてＹ方向の中央部に分布するように配置されており、Ｘ方向及びＹ方向に沿って並んでいる。複数の第１基板送り用孔３４４は、それぞれＸ方向における他方に傾斜して延びており、第２の基板浮上部３５の後述する配管３５２（図６参照）に連通している。

複数の第２基板送り用孔３４５は、複数の第１基板送り用孔３４４と同様に、保持台３４の上面３４ａにおいてＹ方向の中央部に分布するように配置されており、Ｘ方向及びＹ方向に沿って並んでいる。複数の第２基板送り用孔３４５は、それぞれＹ方向における他方に傾斜して延びており、第２の基板浮上部３５の後述する配管３５３（図６参照）に連通している。上述のＹ方向における他方とは、基板１０１が保持台３４から排出台６１（図１参照）へ移動する方向である。

また、保持台３４の上面３４ａには、２つの係止ピン３４７が設けられている。２つの係止ピン３４７は、上面３４ａのＸ方向の他端部に配置されている。２つの係止ピン３４７には、保持台３４の上方に移動してきた基板１０１（図１参照）の縁（端面）が当接する。
例えば、係止ピン３４７が１つであった場合は、係止ピン３４７に当接した基板１０１が、Ｚ方向に平行な軸を中心に回転してしまう可能性がある。したがって、本実施形態に係る係止ピン３４７は、２つ以上設けることが好ましい。

［第２の基板浮上部］
次に、第２の基板浮上部３５の構成について、図６を参照して説明する。
図６は、第２の基板浮上部３５を示す説明図である。

図６に示すように、第２の基板浮上部３５は、保持台３４上に基板１０１を浮上させる。この第２の基板浮上部３５は、配管３５１と、配管３５２と、配管３５３と、低圧縮エア供給部２３４と、高圧縮エア供給部２３５とを有している。

配管３５１は、複数の基板浮上用孔３４３に管継手２３３を用いて接続されており、一端が複数の基板浮上用孔３４３に連通している。配管３５１の他端は、低圧縮エア供給部２３４と高圧縮エア供給部２３５に接続されている。

なお、低圧縮エア供給部２３４及び高圧縮エア供給部２３５は、第１の基板浮上部２３の低圧縮エア供給部２３４及び高圧縮エア供給部２３５と共通である。しかし、本発明に係る低圧縮エア供給部及び高圧縮エア供給部は、第１の基板浮上部２３と第２の基板浮上部３５に対して個別に用意してもよい。

また、配管３５１には、低圧縮エア用電磁弁３５４と、高圧縮エア用電磁弁３５５が設けられている。低圧縮エア用電磁弁３５４と高圧縮エア用電磁弁３５５は、複数の基板浮上用孔３４３に送る気体（エア）の圧力を切り替えるために設けられている。

低圧縮エア供給部２３４によって複数の基板浮上用孔３４３に低圧縮エアを送る場合には、制御部（不図示）が低圧縮エア用電磁弁３５４を開き、高圧縮エア用電磁弁３５５を閉じる制御を行う。これにより、複数の基板浮上用孔３４３から低圧縮エアが噴射され、基板１０１の裏面１０１ｂに吹き付けられる。その結果、基板１０１が保持台３４の上方に浮上する。

一方、高圧縮エア供給部２３５によって複数の基板浮上用孔３４３に高圧縮エアを送る場合には、高圧縮エア用電磁弁３５５を開き、低圧縮エア用電磁弁３５４を閉じる制御を行う。これにより、複数の基板浮上用孔３４３から高圧縮エアが噴射され、基板１０１の裏面１０１ｂに吹き付けられる。その結果、基板１０１が保持台３４の上方に浮上する。このとき、基板１０１は、低圧縮エアが吹き付けられる場合よりも高く浮上する。

配管３５２は、複数の第１基板送り用孔３４４に管継手２３３を用いて接続されており、一端が複数の第１基板送り用孔３４４に連通している。配管３５２の他端は、高圧縮エア供給部２３５に接続されている。

また、配管３５２には、高圧縮エア用電磁弁３５６が設けられている。高圧縮エア供給部２３５によって複数の第１基板送り用孔３４４に高圧縮エアを送る場合には、制御部（不図示）が高圧縮エア用電磁弁３５６を開く制御を行う。これにより、複数の第１基板送り用孔３４４から高圧縮エアが噴射され、基板１０１の裏面１０１ｂに吹き付けられる。その結果、複数の第１基板送り用孔３４４から噴射した高圧縮エアが、Ｘ方向における他方への基板１０１の移動を補助する。
一方、複数の第１基板送り用孔３４４に高圧縮エアを送らない場合には、制御部（不図示）が高圧縮エア用電磁弁３５６を閉じる。

配管３５３は、複数の第２基板送り用孔３４５に管継手２３３を用いて接続されており、一端が複数の第２基板送り用孔３４５に連通している。配管３５３の他端は、高圧縮エア供給部２３５に接続されている。

また、配管３５３には、高圧縮エア用電磁弁３５７が設けられている。高圧縮エア供給部２３５によって複数の第２基板送り用孔３４５に高圧縮エアを送る場合には、制御部（不図示）が高圧縮エア用電磁弁３５７を開く制御を行う。これにより、複数の第２基板送り用孔３４５から高圧縮エアが噴射され、基板１０１の裏面１０１ｂに吹き付けられる。その結果、複数の第２基板送り用孔３４５から噴射した高圧縮エアが、Ｙ方向における他方への基板１０１の移動を補助する。
一方、複数の第２基板送り用孔３４５に高圧縮エアを送らない場合には、制御部が高圧縮エア用電磁弁３５７を閉じる制御を行う。

低圧縮エア用電磁弁３５４と低圧縮エア供給部２３４との間には、エア冷却部３５８が設けられている。エア冷却部３５８は、低圧縮エア供給部２３４から供給された低圧縮エアを冷却する。

高圧縮エア用電磁弁３５５，３５６，３５７と高圧縮エア供給部２３５との間には、エア冷却部３５９が設けられている。エア冷却部３５９は、高圧縮エア供給部２３５から供給された高圧縮エアを冷却する。エア冷却部３５８，３５９としては、例えば、冷却水を用いるものを採用することができる。

露光位置では、露光ユニット５の光源（不図示）からの光が基板１０１に照射されるため、基板１０１が温められる。また、プロキシミティ方式を採用した露光では、光で加熱されたマスクを基板１０１に微小な間隙をあけて近接させるため、マスクからの輻射熱によって基板１０１が温められる。

基板１０１が温められて熱膨張した状態で露光ユニット５（図１参照）によりパターンが形成されると、その後、基板１０１が冷えたときに基板１０１が縮むことにより、パターンが歪んでしまう。その結果、正確なパターンが得られず、露光不良となる。

そこで、本実施形態では、低圧縮エア供給部２３４から供給された低圧縮エアを、エア冷却部３５８によって所定の温度に冷やしてから、基板１０１の裏面１０１ｂに吹き付ける。また、高圧縮エア供給部２３５から排出された高圧縮エアを、エア冷却部３５９によって所定の温度に冷やしてから、基板１０１の裏面１０１ｂに吹き付ける。

これにより、基板１０１が温められて熱膨張しないようにすることができる。したがって、基板１０１を浮上させることで基板１０１の平坦性を確保しながら、基板１０１の熱膨張を防ぐことができ、露光不良を抑制或いは防止することができる。
なお、本実施形態では、基板１０１の温度が２３±０.２℃になるようにエア冷却部３５８，３５９を制御（管理）し、基板１０１の熱膨張によるパターンの露光誤差を防いでいる。

［保持台冷却部］
次に、保持台冷却部３９について、図７を参照して説明する。
図７は、保持台冷却部３９を示す説明図である。

図７に示すように、保持台冷却部３９は、少なくとも一部が保持台３４の内部に配置される無端状の配管３９１と、配管３９１内を循環する液体と、液体を冷却する熱交換器３９２とを有している。この保持台冷却部３９では、配管３９１内を循環する液体が熱交換器３９２により冷却されるため、配管３９１が通る保持台３４が冷却される。これにより、基板１０１が温められることを抑制することができる。

［基板移動部］
次に、基板移動部８の構成について、図８を参照して説明する。
図８Ａは、基板移動部８及び基板排出部９を示す平面図である。図８Ｂは、基板移動部８及び基板排出部９を示す正面図である。なお、図８では、受入れ台２１のピン貫通孔２１１及び吸気孔２１２の図示を省略し、保持台３４の吸気孔３４２の図示を省略する。

図８Ａ及び図８Ｂに示すように、基板移動部８は、受入れユニット２における受入れ台２１の上方に配設されている。基板移動部８は、Ｘ方向に延びるＸ軸ガイドレール８１Ａ，８１Ｂと、Ｘ軸ガイドレール８１Ａ，８１Ｂに移動可能に接続された搬送スライダ８２Ａ，８２Ｂを有している。

Ｘ軸ガイドレール８１Ａ，８１Ｂは、Ｘ方向に長い角柱状に形成されている。Ｘ軸ガイドレール８１Ａ，８１ＢのＸ方向の長さは、受入れ台２１のＸ方向の長さよりも長く設定されている。Ｘ軸ガイドレール８１Ａ，８１ＢのＸ方向の一端部は、受入れ台２１の保持台３４と反対側の端部の上方に配置されている。一方、Ｘ軸ガイドレール８１Ａ，８１ＢのＸ方向の他端部は、少なくとも受け渡し位置に配置された保持台３４における受入れ台２１側の端部の上方に位置する。

また、Ｘ軸ガイドレール８１Ａ，８１Ｂの下面から受入れ台２１の上面２１ａまでの距離は、受入れ台２１の上方に浮上する基板１０１の表面１０１ａから受入れ台２１の上面２１ａまでの距離よりも長く設定されている。したがって。受入れ台２１の上方に浮上する基板１０１がＸ軸ガイドレール８１Ａ，８１Ｂに干渉することはない。

搬送スライダ８２Ａは、Ｘ軸ガイドレール８１Ａの下面に移動可能に係合しており、Ｘ軸ガイドレール８１Ａに沿ってＸ方向へ移動する。また、搬送スライダ８２Ｂは、Ｘ軸ガイドレール８１Ｂの下面に移動可能に係合しており、Ｘ軸ガイドレール８１Ｂに沿ってＸ方向へ移動する。

搬送スライダ８２Ａ，８２Ｂは、受入れ台２１の上方に浮上する基板１０１における一方（保持台３４から遠い側）の短辺の縁（端面）に接触し、Ｘ軸ガイドレール８１Ａ，８１Ｂに沿ってＸ方向に移動する。これにより、基板１０１は、受入れ台２１の上方から受け渡し位置に配置された保持台３４の上方へ移動する。つまり、搬送スライダ８２Ａ，８２Ｂは、基板１０１を受入れ台２１の上方から受け渡し位置に配置された保持台３４の上方へ搬送する。

［基板排出部］
次に、基板排出部９の構成について、図８を参照して説明する。
基板排出部９は、受け渡し位置に配置された保持ユニット３における保持台３４の上方に配設されている。基板排出部９は、Ｙ方向に延びるＹ軸ガイドレール９１Ａ，９１Ｂと、Ｙ軸ガイドレール９１Ａ，９１Ｂに移動可能に接続された搬送スライダ９２Ａ，９２Ｂを有している。

Ｙ軸ガイドレール９１Ａ，９１Ｂは、Ｙ方向に長い角柱状に形成されている。Ｙ軸ガイドレール９１Ａ，９１ＢのＹ方向の長さは、保持台３４のＹ方向の長さよりも長く設定されている。Ｙ軸ガイドレール９１Ａ，９１ＢのＹ方向の一端部は、受け渡し位置に配置された保持台３４におけるＹ方向の一端部の上方に配置されている。一方、Ｙ軸ガイドレール９１Ａ，９１ＢのＹ方向の他端部は、受け渡し位置に配置された保持台３４におけるＹ方向の他端部（排出台６１側（図１参照））の上方に配置されている。

また、Ｙ軸ガイドレール９１Ａ，９１Ｂの下面から受け渡し位置に配置された保持台３４の上面３４ａまでの距離は、保持台３４の上方に浮上する基板１０１の表面１０１ａから保持台３４の上面３４ａまでの距離よりも長く設定されている。したがって。保持台３４の上方に浮上する基板１０１がＹ軸ガイドレール９１Ａ，９１Ｂに干渉することはない。

搬送スライダ９２Ａは、Ｙ軸ガイドレール９１Ａの下面に移動可能に係合しており、Ｙ軸ガイドレール９１Ａに沿ってＹ方向へ移動する。また、搬送スライダ９２Ｂは、Ｙ軸ガイドレール９１Ｂの下面に移動可能に係合しており、Ｙ軸ガイドレール９１Ｂに沿ってＹ方向へ移動する。

搬送スライダ９２Ａ，９２Ｂは、受け渡し位置に配置された保持台３４の上方に浮上する基板１０１における一方（排出台６１から遠い側）の長辺の縁（端面）に接触し、Ｙ軸ガイドレール９１Ａ，９１Ｂに沿ってＹ方向に移動する。これにより、基板１０１は、受け渡し位置に配置された保持台３４の上方から排出台６１（図１参照）の上方へ移動する。つまり、搬送スライダ９２Ａ，９２Ｂは、基板１０１を受け渡し位置に配置された保持台３４の上方から排出台６１の上方へ搬送する。

＜第１の実施形態に係る露光装置の動作＞
次に、露光装置１の動作について説明する。
まず、供給及び回収ユニット７（図１参照）が露光前の基板１０１を受入れユニット２の受入れ台２１へ搬送する。このとき、保持ユニット３は、受け渡し位置に配置されている。なお、保持ユニット３は、受入れユニット２における受入れ台２１の上方に基板１０１が浮上するまでに受け渡し位置に配置されていればよい。

受入れユニット２は、複数の突き上げピン２５（図２参照）を受入れ台２１の上面２１ａから突出させ、複数の突き上げピン２５の先端で基板１０１の裏面１０１ｂを支持する。このとき、基板１０１の裏面１０１ｂと受入れ台２１の上面２１ａとの間には、所定の距離の間隙が生じている。

続いて、受入れユニット２は、複数の基板浮上用孔２１３から高圧縮エアを噴出する。複数の基板浮上用孔２１３から噴射した高圧縮エアは、基板１０１の裏面１０１ｂに対して略垂直に吹き付けられる。また、受入れユニット２は、複数の吸気孔２１２（図３参照）の周囲の空気を吸引して、受入れ台２１の上面２１ａと基板１０１の裏面１０１ｂとの間に複数の真空区域が形成する。

この状態では、複数の基板浮上用孔２１３から噴射された高圧縮エアが、基板１０１を支えている。したがって、複数の突き上げピン２５には、基板１０１の自重がほとんど加わらない。

次に、受入れユニット２は、複数の突き上げピン２５を下降させ、複数の突き上げピン２５の先端部を受入れ台２１内に収納する。これにより、複数の突き上げピン２５は、基板１０１の裏面１０１ｂから離れ、基板１０１は、受入れ台２１の上方に浮上する。

このとき、基板１０１は、受入れ台２１に接触していないため、受入れ台２１と基板１０１との間に摩擦抵抗が生じていない。また、受入れ台２１の上面２１ａと基板１０１の裏面との間に複数の真空区域が形成されているため、基板１０１は、受入れ台２１の上面２１ａに平行な方向に移動しない。

そして、受入れ台２１の上面２１ａから基板１０１の裏面１０１ｂまでの距離（浮上高さ）は、所定の長さ（高さ）であり、基板移動部８（図８参照）に干渉しない。本実施形態では、複数の基板浮上用孔２１３から高圧縮エアを噴射したときの基板１０１の浮上高さを、移動用浮上高さとする。

次に、受入れユニット２は、複数の基板送り用孔２１４から高圧縮エアを噴射する（図８参照）。複数の基板送り用孔２１４から噴射した高圧縮エアは、Ｘ方向における他方に傾斜した方向へ進行する。

また、保持ユニット３は、複数の基板浮上用孔３４３と複数の第１基板送り用孔３４４から高圧縮エアを噴射する。複数の基板浮上用孔３４３から噴射した高圧縮エアは、保持台３４の上面に対して略垂直に進行し、複数の第１基板送り用孔３４４から噴射した高圧縮エアは、Ｘ方向における他方に傾斜した方向へ進行する。

続いて、基板移動部８は、搬送スライダ８２Ａ，８２ＢをＸ軸ガイドレール８１Ａ，８１ＢのＸ方向の一端部から他端部へ移動させる。これにより、搬送スライダ８２Ａ，８２Ｂは、基板１０１における一方の短辺の縁に接触し、Ｘ軸ガイドレール８１Ａ，８１Ｂに沿ってＸ方向に移動する。その結果、基板１０１は、受入れ台２１の上方から保持台３４の上方へ移動する。

このとき、保持台３４の複数の基板浮上用孔３４３から噴射した高圧縮エアが保持台３４の上面３４ａに対して略垂直に進行するため、基板１０１は、保持台３４の上方においても浮上し、基板１０１の移動用浮上高さが維持される。

また、受入れ台２１の複数の基板送り用孔２１４から噴射した高圧縮エアが、Ｘ方向における他方に傾斜した方向へ進行する。そのため、基板送り用孔２１４から噴射した高圧縮エアは、受入れ台２１の上方において、基板１０１のＸ方向における他方への移動を補助する。

さらに、保持台３４の複数の第１基板送り用孔３４４から噴射した高圧縮エアが、Ｘ方向における他方に傾斜した方向へ進行する。そのため、複数の第１基板送り用孔３４４から噴射した高圧縮エアは、保持台３４の上方において、基板１０１のＸ方向における他方への移動を補助する。

その結果、基板１０１が受入れ台２１の上方から保持台３４の上方へ移動し易くなり、搬送スライダ８２Ａ，８２Ｂの負荷を小さくすることができる。したがって、搬送スライダ８２Ａ，８２Ｂを移動させる機構を小型化することができる。

受入れ台２１の上方から保持台３４の上方へ移動した基板１０１は、保持台３４の係止ピン３４７に当接して停止する。基板１０１が保持台３４の上方に配置されると、受入れユニット２は、複数の基板浮上用孔２１３及び複数の基板送り用孔２１４からの高圧縮エアの噴射を停止する。また、保持ユニット３は、複数の基板浮上用孔３４３及び複数の第１基板送り用孔３４４からの高圧縮エアの噴射を停止する。

さらに、複数の吸気孔３４２（図５参照）の周囲の空気を吸引して、保持台３４の上面３４ａと基板１０１の裏面１０１ｂとの間に複数の真空区域が形成する。これにより、基板１０１は、保持台３４の上面３４ａに平行な方向に移動しない。

また、保持ユニット３は、複数の基板浮上用孔３４３から低圧縮エアを噴射する。これにより、複数の基板浮上用孔３４３から噴射する気体の圧力が小さくなり、基板１０１の浮上高さが移動用浮上高さよりも低くなる。本実施形態では、複数の基板浮上用孔３４３から低圧縮エアを噴射したときの基板１０１の浮上高さを、露光用浮上高さとする。

次に、保持ユニット３は、基板１０１を浮上させて保持した状態で、Ｘ軸ガイド４１に沿ってＸ方向の一方へ移動する。これにより、保持ユニット３が露光位置に配置され、保持台３４の上方に浮上した基板１０１の表面１０１ａが露光ユニット５に対向する。そして、露光ユニット５が基板１０１の表面に対して露光を行う。その結果、基板１０１の表面１０１ａには、パターンが形成される。

なお、保持ユニット３は、露光位置に配置された後にＸステージ３１、Ｙステージ３２、θステージ及びＺ−チルト機構３８を駆動させて、露光ユニット５に対する基板１０１の位置決めを行う。また、保持ユニット３の上方に浮上して保持された基板１０１と、露光ユニット５との相対的な位置決めは、露光ユニット５を移動させて行ってもよい。

露光ユニット５による露光が終了すると、保持ユニット３は、複数の基板浮上用孔３４３からの低圧縮エアの噴射を停止し、複数の基板浮上用孔３４３から高圧縮エアを噴射する。これにより、複数の基板浮上用孔３４３から噴射する気体の圧力が大きくなり、基板１０１の浮上高さが、移動用浮上高さになる。

このとき、複数の吸気孔３４２から周囲の空気を吸引する動作を停止することにより、露光後の基板１０１を速やかに、上昇させることができる。このように、複数の吸気孔３４２から周囲の空気を吸引する動作は、適宜のタイミングで始動及び停止させてもよい。

次に、保持ユニット３は、露光後の基板１０１を浮上させて保持した状態で、Ｘ軸ガイド４１に沿ってＸ方向の他方へ移動する。これにより、保持ユニット３は、受け渡し位置に配置される。

続いて、保持ユニット３は、複数の第２基板送り用孔３４５から高圧縮エアを噴射する。複数の第２基板送り用孔３４５から噴射した高圧縮エアは、Ｙ方向における他方に傾斜した方向へ進行する。

次に、基板移動部８（図８参照）は、搬送スライダ９２Ａ，９２ＢをＹ軸ガイドレール９１Ａ，９１ＢのＹ方向の一端部から他端部へ移動させる。これにより、搬送スライダ９２Ａ，９２Ｂは、基板１０１における一方の長辺の縁に接触し、Ｙ軸ガイドレール９１Ａ，９１Ｂに沿ってＹ方向に移動する。その結果、基板１０１は、保持台３４の上方から排出ユニット６における排出台６１の上方へ移動し、排出台６１の上方へ移動する。

このとき、保持台３４の複数の第２基板送り用孔３４５から噴射した高圧縮エアがＹ方向における他方に傾斜した方向へ進行する。そのため、第２基板送り用孔３４５から噴射した高圧縮エアは、保持台３４の上方において、基板１０１のＹ方向における他方への移動を補助する。

その結果、基板１０１が保持台３４の上方から排出台６１の上方へ移動し易くなり、搬送スライダ９２Ａ，９２Ｂの負荷を小さくすることができる。したがって、搬送スライダ９２Ａ，９２Ｂを移動させる機構を小型化することができる。

その後、供給及び回収ユニット７（図１参照）は、露光後の基板１０１を排出台６１から取り出して、生産ラインにおける次工程を行う装置へ搬送する。生産ラインにおける次工程を行う装置としては、例えば、基板１０１に露光したパターンに対して現像処理を行う現像装置を挙げることできる。

本実施形態の露光装置１では、基板移動部８の搬送スライダ８２Ａ，８２Ｂが受入れ台２１の上方に浮上した基板１０１の縁（端面）に接触して、その基板１０１を保持台３４の上方へ移動させる。これにより、搬送スライダ８２Ａ，８２Ｂは、基板１０１の裏面１０１ｂに接触することなく、基板１０１を移動させることができる。その結果、基板１０１の裏面１０１ｂに塵埃等の異物が付着することを防止或いは抑制することができる。

また、本実施形態の露光装置１では、基板排出部９の搬送スライダ９２Ａ，９２Ｂが保持台３４の上方に浮上した基板１０１の縁（端面）に接触して、その基板１０１を排出台６１の上方へ移動させる。これにより、搬送スライダ９２Ａ，９２Ｂは、基板１０１の裏面１０１ｂに接触することなく、基板１０１を移動させることができる。その結果、基板１０１の裏面１０１ｂに塵埃等の異物が付着することを防止或いは抑制することができる。

本実施形態の露光装置１では、保持台冷却部３９及びエア冷却部３５８，３５９を設けた。これにより、熱膨張による基板１０１の伸びを小さく抑えられるので、基板１０１に形成したパターンの不良を少なくすることができる。また、本実施形態の露光装置１では、基板１０１を浮上させて移動するため、エア冷却部３５８，３５９による基板１０１の冷却が、保持台冷却部３９による基板１０１の冷却よりも有効である。

また、本実施形態の露光装置１では、受入れ台２１に複数の突き上げピン２５を設けた。これにより、供給及び回収ユニットから供給された基板１０１を複数の突き上げピン２５で受け取ることで、基板１０１を受入れ台２１の上面２１ａと平行にして保持することができる。

また、本実施形態の露光装置１では、受入れ台２１に複数の基板浮上用孔２１３と、複数の基板送り用孔２１４とを設けた。これにより、複数の基板浮上用孔２１３から噴射する圧縮エアで基板１０１を受入れ台２１の上方に浮上させることができる。また、複数の基板送り用孔２１４から噴射され、基板１０１の移動方向に傾斜した方向に進行する圧縮エアで基板１０１の移動を助勢することができる。

また、本実施形態の露光装置１では、基板１０１を浮上させて受入れ台２１の上方から保持台３４の上方へ移動させる。そのため、受入れ台２１と保持台３４との間に、基板１０１を搬送する搬送部を配置する必要が無く、基板１０１が移動する距離を短くすることができる。その結果、装置を小型化することができる。
また、基板１０１を受け取るための複数の突き上げピンを保持台３４に設ける必要が無いため、装置の構成を簡略化でき、装置を製造する際の生産性を向上させることができる。

また、本実施形態の露光装置１では、搬送部が基板１０１を吸着したり、支持したりして保持台３４へ搬送しないため、吸着や支持に要する時間を短縮することができる。また、基板１０１の歪みを防ぐと共に、基板１０１の裏面１０１ｂに塵埃等の異物が付着することを防止或いは抑制して裏面転写による不良を少なくすることができる。その結果、表示用パネルを短いタクトタイムで歩留まり良く製造することができる。

＜第２の実施形態に係る露光装置の構成＞
次に、第２の実施形態に係る露光装置の構成について、図９を参照して説明する。
図９は、第２の実施形態に係る露光装置の構成の概略を示す説明図である。

第２の実施形態に係る露光装置１０は、第１の実施形態に係る露光装置１（図２参照）と同様の構成を有している。この露光装置１０が露光装置１と異なる点は、基板移動部１８のみである。したがって、ここでは、露光装置１０の基板移動部１８について説明し、露光装置１と共通する説明を省略する。

図９に示すように、露光装置１０の基板移動部１８は、受入れユニット２及び受け渡し位置に配置された保持ユニット３の上方に配置されている。この基板移動部１８は、Ｘ方向に延びるＸ軸ガイドレール１８１と、Ｘ軸ガイドレール１８１に移動可能に接続された搬送スライダ１８２を有している。

Ｘ軸ガイドレール１８１は、Ｘ方向に長い角柱状に形成されている。Ｘ軸ガイドレール１８１のＸ方向の一端部は、受入れ台２１の上面２１ａにおける略中央部に対向し、Ｘ方向の他端部は、受け渡し位置に配置された保持台３４の上面３４ａにおける略中央部に対向している。

搬送スライダ１８２は、Ｘ軸ガイドレール１８１の下面に移動可能に係合しており、Ｘ軸ガイドレール１８１に沿ってＸ方向へ移動する。この搬送スライダ１８２は、係合部１８４と、本体部１８５と、接触部１８６と、ストッパ部１８７とを有している。

係合部１８４は、略直方体状に形成されており、上部がＸ軸ガイドレール１８１の下面に移動可能に係合している。本体部１８５は、略四角形の板状に形成されており、Ｚ方向に略直交する上面１８５ａ及び下面１８５ｂを有する。本体部１８５の上面１８５ａにおける略中央部には、係合部１８４が接合されている。

接触部１８６は、本体部１８５の下面１８５ｂにおけるＸ方向の一端部に連続している。この接触部１８６は、本体部１８５の下面１８５ｂから略垂直に突出しており、受入れ台２１の上方に浮上する基板１０１における一方（保持台３４から遠い側）の短辺の縁（端面）に接触する。

ストッパ部１８７は、本体部１８５の下面１８５ｂにおけるＸ方向の他端部に連続している。このストッパ部１８７は、本体部１８５の下面１８５ｂから略垂直に突出しており、保持台３４の上方に移動した基板１０１に接触して、基板１０１の移動を停止させる。

搬送スライダ１８２は、基板１０１が受入れ台２１の上方に浮上するまでに、受入れ台２１の上方に移動する。例えば、供給及び回収ユニット７（図１参照）が露光前の基板１０１を受入れユニット２の受入れ台２１へ搬送する際に、搬送スライダ１８２が基板１０１に干渉する場合は、基板移動部１８全体を上方に退避させてもよい。

受入れ台２１の上方に浮上した基板１０１は、搬送スライダ１８２の接触部１８６とストッパ部１８７との間に配置される。その後、搬送スライダ１８２は、Ｘ軸ガイドレール１８１に沿ってＸ方向に移動して、保持台３４の上方に配置される。

このとき、搬送スライダ１８２の接触部１８６が、受入れ台２１の上方に浮上する基板１０１における一方（保持台３４から遠い側）の短辺の縁（端面）に接触する。これにより、基板１０１は、受入れ台２１の上方から受け渡し位置に配置された保持台３４の上方へ移動する。つまり、搬送スライダ１８２は、基板１０１を受入れ台２１の上方から受け渡し位置に配置された保持台３４の上方へ搬送する。

搬送スライダ１８２が保持台３４の上方で停止すると、保持台３４の上方に浮上している基板１０１のみがＸ方向へ移動する。そして、ストッパ部１８７が、基板１０１における他方の短辺の縁（端面）に当接する。これにより、基板１０１のＸ方向の移動が停止され、基板１０１は、保持台３４の上方に配置される。したがって、第２の実施形態に係る露光装置１０では、保持台３４の２つの係止ピン３４７を省くことができる。

第２の実施形態では、上述した第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。さらに、第２の実施形態では、搬送スライダ１８２のストッパ部１８７によって基板１０１のＸ方向への移動を停止させる。そのため、第１の実施形態に係る２つの係止ピン３４７で基板１０１を停止させる場合よりも、基板１０１に加えられる衝撃を小さくすることができる。

また、本実施の形態では、搬送スライダ１８２が保持台３４の上方へ移動するときに、保持台３４の上方に位置する基板排出部９（不図示）を、搬送スライダ１８２に干渉しない位置に退避させる。

［変形例］
以上、本発明の実施形態に係る露光装置について、その作用効果も含めて説明した。しかしながら、本発明の露光装置は、上述の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載した発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の変形実施が可能である。

例えば、上述の第１の実施形態では、保持台３４に２つの係止ピン３４７を設けた。しかし、本発明に係る保持台に設ける係止部としては、２つの係止ピン３４７を設けることに限定されず、基板１０１に当接して基板１０１のＸ方向への移動を停止させるものが設けられていればよい。本発明に係る係止部としては、例えば、Ｘ方向に直交する当接面を有するものであってもよい。このような係止部を設ける場合は、係止部を１つ以上設ければ、係止部に当接した基板１０１が回転することはない。

１，１０…露光装置、 ２…受入れユニット、 ３…保持ユニット、 ４…ベース、 ５…露光ユニット、 ６…排出ユニット、 ７…供給及び回収ユニット、 ８，１８…基板移動部、 ９…基板排出部、 ２１…受入れ台、 ２２…受入れ台支持部、 ２３…第１の基板浮上部、 ２５…突き上げピン、 ２６…ピン昇降部、 ３１…Ｘステージ、 ３２…Ｙステージ、 ３３…θステージ、 ３４…保持台、 ３５…第２の基板浮上部、 ３６…Ｙ軸ガイド、 ３８…Ｚ−チルト機構、 ３９…保持台冷却部、 ４１…Ｘ軸ガイド、 ６１…排出台、 ８１Ａ，８１Ｂ，１８１…Ｘ軸ガイドレール、 ８２Ａ，８２Ｂ，９２Ａ，９２Ｂ，１８２…搬送スライダ、 ９１Ａ，９１Ｂ…Ｙ軸ガイドレール、 １０１…基板、 １８４…係合部、 １８５…本体部、 １８６…接触部、 １８７…ストッパ部、 ２１１…ピン貫通孔、 ２１２，３４２…吸気孔、 ２１３，３４３…基板浮上用孔、 ２１４…基板送り用孔、 ２３１，２３２，３５１，３５２，３５３，３９１…配管、 ２３３…管継手、 ２３４…低圧縮エア供給部、 ２３５…高圧縮エア供給部、 ２３７，３５４…低圧縮エア用電磁弁、 ２３８，２３９，３５５，３５６，３５７…高圧縮エア用電磁弁、 ３４４…第１基板送り用孔、 ３４５…第２基板送り用孔、 ３４７…係止ピン、 ３５８，３５９…エア冷却部、 ３９２…熱交換器

Claims (8)

1. 基板が供給される受入れ台と、
   前記受入れ台の上方に基板を浮上させる第１の基板浮上部と、
   前記受入れ台に並べて配置された保持台と、
   前記保持台の上方に基板を浮上させる第２の基板浮上部と、
   前記基板の縁に接触して、前記受入れ台の上方に浮上した前記基板を前記保持台の上方に移動させる基板移動部と、
   前記保持台の上方に配置された基板に対して露光を行う露光部と、
   を備えた露光装置。
2. 前記受入れ台は、前記基板の裏面に対して略垂直に気体を噴出する複数の基板浮上用孔と、前記基板が前記受入れ台から前記保持台へ移動する方向に傾斜した方向へ気体を噴出する複数の基板送り用孔と、を有し、
   前記第１の基板浮上部は、前記複数の基板浮上用孔及び前記複数の基板送り用孔に連通する配管と、前記配管に接続された気体供給部と、を有する
   請求項１に記載の露光装置。
3. 前記保持台は、前記基板の裏面に対して略垂直に気体を噴出する複数の基板浮上用孔と、前記基板が前記受入れ台から前記保持台へ移動する方向に傾斜した方向へ気体を噴出する複数の基板送り用孔と、を有し、
   前記第２の基板浮上部は、前記複数の基板浮上用孔及び前記複数の基板送り用孔に連通する配管と、前記配管に接続された気体供給部と、を有する
   請求項１又は２に記載の露光装置。
4. 前記第２の基板浮上部は、前記気体供給部から供給された気体を冷却する気体冷却部を有する
   請求項３に記載の露光装置。
5. 前記保持台を冷却する保持台冷却部を備える
   請求項１〜４のいずれか１項に記載の露光装置。
6. 前記保持台に並べて配置される排出台と、
   前記露光部によって露光された前記基板の縁に接触して、前記保持台の上方に浮上した前記基板を前記排出台の上方に移動させる基板排出部と、
   を備える請求項１に記載の露光装置。
7. 前記保持台は、前記基板の裏面に対して略垂直に気体を噴出する複数の基板浮上用孔と、前記基板が前記受入れ台から前記保持台へ移動する方向に傾斜した方向へ気体を噴出する複数の第１基板送り用孔と、前記基板が前記保持台から前記排出台へ移動する方向に傾斜した方向へ気体を噴出する複数の第２基板送り用孔と、を有し、
   前記第２の基板浮上部は、前記複数の基板浮上用孔、前記複数の第１基板送り用孔及び前記複数の第２基板送り用孔に連通する配管と、前記配管に接続された気体供給部と、を有する
   請求項６に記載の露光装置。
8. 前記保持台を前記露光部の下方に移動させる保持台移動機構を備えた
   請求項１〜７のいずれか１項に記載の露光装置。