JP2014056982A - パワー半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
パワー半導体装置およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014056982A JP2014056982A JP2012201765A JP2012201765A JP2014056982A JP 2014056982 A JP2014056982 A JP 2014056982A JP 2012201765 A JP2012201765 A JP 2012201765A JP 2012201765 A JP2012201765 A JP 2012201765A JP 2014056982 A JP2014056982 A JP 2014056982A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- power semiconductor
- cooling
- semiconductor element
- semiconductor device
- voltage electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 176
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 26
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 158
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 65
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 claims abstract description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 19
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 13
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 claims description 12
- 239000002826 coolant Substances 0.000 claims description 7
- 239000012212 insulator Substances 0.000 abstract 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 10
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 10
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 4
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
- H01L23/40—Mountings or securing means for detachable cooling or heating arrangements ; fixed by friction, plugs or springs
- H01L23/4006—Mountings or securing means for detachable cooling or heating arrangements ; fixed by friction, plugs or springs with bolts or screws
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
- H01L23/3107—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
- H01L23/3121—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
- H01L23/345—Arrangements for heating
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
- H01L23/36—Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
- H01L23/36—Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
- H01L23/367—Cooling facilitated by shape of device
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
- H01L23/36—Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
- H01L23/367—Cooling facilitated by shape of device
- H01L23/3677—Wire-like or pin-like cooling fins or heat sinks
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
- H01L23/46—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements involving the transfer of heat by flowing fluids
- H01L23/473—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements involving the transfer of heat by flowing fluids by flowing liquids
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/481—Internal lead connections, e.g. via connections, feedthrough structures
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49541—Geometry of the lead-frame
- H01L23/49562—Geometry of the lead-frame for devices being provided for in H01L29/00
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
- H01L23/40—Mountings or securing means for detachable cooling or heating arrangements ; fixed by friction, plugs or springs
- H01L23/4006—Mountings or securing means for detachable cooling or heating arrangements ; fixed by friction, plugs or springs with bolts or screws
- H01L2023/4037—Mountings or securing means for detachable cooling or heating arrangements ; fixed by friction, plugs or springs with bolts or screws characterised by thermal path or place of attachment of heatsink
- H01L2023/405—Mountings or securing means for detachable cooling or heating arrangements ; fixed by friction, plugs or springs with bolts or screws characterised by thermal path or place of attachment of heatsink heatsink to package
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32245—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/36—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process
- H01L2224/37—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process of an individual strap connector
- H01L2224/37001—Core members of the connector
- H01L2224/37099—Material
- H01L2224/371—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/36—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process
- H01L2224/37—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process of an individual strap connector
- H01L2224/3754—Coating
- H01L2224/37599—Material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/39—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
- H01L2224/40—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of an individual strap connector
- H01L2224/401—Disposition
- H01L2224/40135—Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/40137—Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being arranged next to each other, e.g. on a common substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73201—Location after the connecting process on the same surface
- H01L2224/73215—Layer and wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73201—Location after the connecting process on the same surface
- H01L2224/73221—Strap and wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49575—Assemblies of semiconductor devices on lead frames
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/13—Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
- H01L2924/1304—Transistor
- H01L2924/1305—Bipolar Junction Transistor [BJT]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/13—Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
- H01L2924/1304—Transistor
- H01L2924/1305—Bipolar Junction Transistor [BJT]
- H01L2924/13055—Insulated gate bipolar transistor [IGBT]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
【課題】パワー半導体装置の組立性を向上することができるパワー半導体装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】パワー半導体素子1と、パワー半導体素子1と電気的に接続される高圧電極2と、パワー半導体素子1と接続され、放熱性を有する放熱板4と、絶縁膜5を介して放熱板4と接続される冷却体6と、パワー半導体素子1、高圧電極2の一部、放熱板4、絶縁膜5、および冷却体6の一部を覆う封止体10とを備える。冷却体6は、封止体10に一部が埋設されるベース部7と、ベース部7と接続される冷却部材8とを含む。ベース部7と冷却部材8は別体であって、冷却部材8は封止体10から露出するベース部7に固定される。
【選択図】図1
【解決手段】パワー半導体素子1と、パワー半導体素子1と電気的に接続される高圧電極2と、パワー半導体素子1と接続され、放熱性を有する放熱板4と、絶縁膜5を介して放熱板4と接続される冷却体6と、パワー半導体素子1、高圧電極2の一部、放熱板4、絶縁膜5、および冷却体6の一部を覆う封止体10とを備える。冷却体6は、封止体10に一部が埋設されるベース部7と、ベース部7と接続される冷却部材8とを含む。ベース部7と冷却部材8は別体であって、冷却部材8は封止体10から露出するベース部7に固定される。
【選択図】図1
Description
本発明は、パワー半導体装置およびその製造方法に関し、特に組立性を良好なものとすることが可能なパワー半導体装置およびその製造方法に関する。
一般にパワー半導体素子は、当該半導体素子を物理的および化学的に保護することを目的として、外部との電気的接続を担うリードフレームと、該リードフレームと半導体素子とを電気的に接続するワイヤ等と共に、パワー半導体素子が動作時に発生する熱を素早く放熱するための冷却装置上に載置された状態で樹脂封止される。
冷却装置は冷却性能を高めるため、パワー半導体素子を載置した面と対向する面に放熱フィンを有する冷却装置が提案されている。例えば、特開2007−184315号公報(特許文献1)や特開2009−295808号公報(特許文献2)に放熱フィンを有する冷却装置を備えた半導体モジュールが示されている。
しかしながら、従来の放熱フィンを有する冷却装置を備えるパワー半導体装置は、樹脂封止工程以前にパワー半導体装置の冷却装置が形成されるため、樹脂封止工程以後の組立工程は冷却装置を備えた状態で実施する必要があった。この結果、樹脂封止工程以後の工程は突起状に露出した放熱フィンにより組立性が損なわれる。例えば、パワー半導体素子1を載置した面と対向する面から突起した放熱フィンによって樹脂封止後の工程におけるパワー半導体装置のハンドリング性が低下する。
本発明は、上記のような課題を解決するためになされたものである。本発明の主たる目的は、パワー半導体装置の組立性を向上することができるパワー半導体装置およびその製造方法を提供することである。
本発明のパワー半導体装置は、パワー半導体素子と、パワー半導体素子と電気的に接続される高圧電極と、パワー半導体素子と接続され、放熱性を有する放熱板と、絶縁膜を介して放熱板と接続される冷却体と、パワー半導体素子、高圧電極の一部、放熱板、絶縁膜、および冷却体の一部を覆う封止体とを備える。冷却体は、封止体に一部が埋設されるベース部と、ベース部と接続される冷却部材とを含む。ベース部と冷却部材は別体であって、冷却部材は封止体から露出するベース部に固定される。
本発明のパワー半導体装置は、別体であるベース部と冷却部材とを含むため、冷却部材をベース部に装着しない状態でパワー半導体素子を覆うように封止体を形成することができる。これにより、パワー半導体装置の封止体形成後のハンドリング性を向上でき、パワー半導体装置の組立性を向上することができる。
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。
(実施の形態1)
図1を参照して、本発明の実施の形態1について説明する。本実施の形態に係るパワー半導体装置100は、パワー半導体素子1と、パワー半導体素子1と電気的に接続される高圧電極2と、パワー半導体素子1と接続され高い放熱性を有する放熱板4と、絶縁膜5を介して放熱板4と接続される冷却体6と、パワー半導体素子1、放熱板4、絶縁膜5、および冷却体6の一部とを覆う封止体10とを備える。
(実施の形態1)
図1を参照して、本発明の実施の形態1について説明する。本実施の形態に係るパワー半導体装置100は、パワー半導体素子1と、パワー半導体素子1と電気的に接続される高圧電極2と、パワー半導体素子1と接続され高い放熱性を有する放熱板4と、絶縁膜5を介して放熱板4と接続される冷却体6と、パワー半導体素子1、放熱板4、絶縁膜5、および冷却体6の一部とを覆う封止体10とを備える。
パワー半導体素子1は、たとえばIGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)や
FWD(Free Wheeling Diode)などを有する半導体チップであり、高電圧で大電流を制御可能な素子である。パワー半導体素子1の一方の主面は、高圧電極2や信号端子20等と電気的に接続される。例えば、高圧電極2はパワー半導体素子1とはんだ3を介して電気的に接続され、信号端子20はワイヤ19により電気的に接続される。パワー半導体素子1の他方の主面は、はんだ等(図示せず)を介して放熱板4に保持される。高圧電極2はパワー半導体素子1に高電圧を印加可能とする任意の構造で設けられる。高圧電極2には大電流が流れるため、高圧電極2と外部とはボルト締結の手段によって接続される。つまり、高圧電極2は、ボルトが貫通するための貫通孔21を含んでいる。
FWD(Free Wheeling Diode)などを有する半導体チップであり、高電圧で大電流を制御可能な素子である。パワー半導体素子1の一方の主面は、高圧電極2や信号端子20等と電気的に接続される。例えば、高圧電極2はパワー半導体素子1とはんだ3を介して電気的に接続され、信号端子20はワイヤ19により電気的に接続される。パワー半導体素子1の他方の主面は、はんだ等(図示せず)を介して放熱板4に保持される。高圧電極2はパワー半導体素子1に高電圧を印加可能とする任意の構造で設けられる。高圧電極2には大電流が流れるため、高圧電極2と外部とはボルト締結の手段によって接続される。つまり、高圧電極2は、ボルトが貫通するための貫通孔21を含んでいる。
放熱板4は、パワー半導体素子1が発する熱を拡散させるための熱拡散板であり、放熱性の高い材料からなる。例えば、銅(Cu)やアルミニウム(Al)等で放熱板4を構成すればよい。パワー半導体素子1を搭載した面と対向する面は、絶縁膜5を介して冷却体6と接続される。絶縁膜5は、電気的絶縁性を有し、例えば、エポキシ樹脂等で構成すればよい。
冷却体6は別体であるベース部7と冷却部材8とを含む。ベース部7と冷却部材8とは接続して冷却体6を形成し、例えば、ベース部7は凹部を有する板状部材であり、冷却部材8は凹部に嵌合するように構成された柱状部材である。ベース部7および冷却部材8の材料は放熱板4と同様放熱性の高い材料とし、例えば、銅やアルミニウム等で構成すればよい。ベース部7と冷却部材8の材料は同一の材料でもよいし、異なる材料でもよい。
封止体10は、パワー半導体素子1、高圧電極2、放熱板4、絶縁膜5、および冷却体6を封止する。封止体10は、電気絶縁性を有し、例えば、エポキシ樹脂等で構成すればよい。このとき、封止体10からは、高圧電極2の一部、信号端子20の一部および冷却体6の一部が露出する。封止体10から露出する冷却体6の一部には、ベース部7のうち、凹部を有する一方表面と冷却部材8とが含まれる。凹部を有するベース部7の一方表面は、該表面と平坦面とを対向するようにパワー半導体装置100を平坦面上に載置したとき、パワー半導体装置100が安定する程度に平坦化された面を有するのが好ましい。
さらに、冷却体6は、冷却体6とカバー部材11とが互いに接続することにより冷却器を構成するように設けられる。つまり、本実施の形態のパワー半導体装置100において、パワー半導体素子1が駆動することにより生じた熱は、主に、半導体素子から放熱板4、絶縁膜5、冷却体6へと効率よく伝播して冷却器で排熱される。このとき、ベース部7とカバー部材11とによって囲まれる領域に冷却部材8が設けられる。ベース部7とカバー部材11とによって囲まれる領域は、冷媒を流動可能とするように構成されるのが好ましい。これにより、パワー半導体素子1から冷却体6まで伝播した熱は、ベース部7および冷却部材8から冷媒およびカバー部材11へと放熱される。ベース部7および冷却部材8の少なくとも一方は冷媒およびカバー部材11との接触面積が大きくなるように構成されるのが好ましい。より好ましくは、冷却部材8は、カバー部材11において凹部と対向する面と接するように構成される。これにより、パワー半導体素子1から冷却部材8まで伝播した熱は、冷媒およびカバー部材11へと放熱される。
冷却体6とカバー部材11とを接続して冷却器を構成するとき、ベース部7とカバー部材11とは例えば、ボルトとナットにより締結固定される。この場合、ベース部7およびカバー部材11には貫通孔17,18が設けられ、ベース部7の貫通孔17上には封止体10を封止しない。ベース部7の貫通孔17上にはナットを配置して、該ナットに、カバー部材11側からカバー部材11およびベース部7の貫通孔17に通したボルトを締結することにより、冷却器を備えたパワー半導体装置100を構成することができる。
なお、パワー半導体装置100を上方から見たとき、上述した高圧電極2の貫通孔21とベース部7およびカバー部材11の貫通孔17,18は重ならないように設けられる。具体的には、貫通孔17,18は、ベース部7とカバー部材11の外形が矩形である場合には、それぞれ角部に設けられる。一方、高圧電極2の貫通孔21は、高圧電極2が、隣り合う角部間に挟まれた辺に対し垂直に複数形成される場合には、辺に沿って複数設けられる。
次に、本実施の形態に係るパワー半導体装置100の製造方法について説明する。図5を参照して、本実施の形態に係るパワー半導体装置100の製造方法は、パワー半導体素子1とパワー半導体素子1を冷却する冷却体6の一部を覆う封止体10を形成する工程(S01)と、封止体10から露出した冷却体6に冷却部材8を装着する工程(S03)とを備える。
まず、工程(S01)では、パワー半導体素子1と冷却体6の一部を覆うように封止体10を形成することにより、冷却体6に接続された状態で樹脂等により封止されたパワー半導体装置100が得られる。ここで、冷却体6の一部とはベース部7の一方表面のことをいい、本工程(S01)において、冷却部材8はベース部7に接続されていない。パワー半導体素子1と冷却体6の他にも、パワー半導体素子1と電気的に接続される高圧電極2および信号端子20、パワー半導体素子1と接続され高い放熱性を有する放熱板4、放熱板4と冷却体6とを絶縁する絶縁膜5とを封止してもよい。このとき、上述のように、高圧電極2の一部およびベース部7の一方表面は封止体10から露出される。
次に、工程(S02)として、パワー半導体素子1の特性検査が実施される。この工程(S02)では、例えば、パワー半導体素子1の電気特性や信頼性が検査される。このとき、パワー半導体装置100のベース部7に冷却部材8は設けられていない。
次に、工程(S03)では、封止体10から露出したベース部7に冷却部材8を取り付けて、冷却体6を形成する。例えば、上述のようにベース部7においてカバー部材11と対向する側に凹部が形成されている場合には、冷却部材8を凹部に嵌合させてもよい。このとき、パワー半導体装置100に対して負荷をかけないように、ベース部7の凹部に冷却部材8を嵌合させる。特に、絶縁膜5は圧力を受けたときにクラック等が入りやすいため、強い振動等を与えないようにベース部7に冷却部材8を取り付ける。このようにして、上記工程(S01)〜工程(S03)が実施されることにより、本実施の形態のパワー半導体装置100の製造方法が完了する。
以上のように、本実施の形態によれば、パワー半導体装置100は、別体のベース部7と冷却部材8とにより形成される冷却体6を備えるため、パワー半導体装置100の製造方法において工程(S01)と工程(S03)とを含む工程により、ベース部7および冷却部材8がパワー半導体装置100の冷却体6として形成される。つまり、工程(S01)にてベース部7を備えるパワー半導体装置100を封止した後、工程(S03)にて封止体10から露出したベース部7の一方表面に冷却部材8を取り付けて冷却体6を形成することができる。その結果、封止体10から露出したベース部7の一方表面は冷却部材8が取り付けられるまでは平坦であるため、従来のパワー半導体装置100の製造方法と比べて、ハンドリング性等を向上することができる。したがって、本実施の形態によれば、パワー半導体装置100を封止体10で封止した後の組立性を向上することができる。
本実施の形態において、上述のように、冷却体6は、凹部を有するベース部7と凹部に嵌合する冷却部材8とにより構成してもよいが、これに限られるものではない。例えば、板状のベース部7と、ベース部7と接着剤等により接合する冷却部材8とによって構成してもよい。パワー半導体装置100の特性に影響を与えない限りにおいて、ベース部7と冷却部材8とを任意の方法で接続し、冷却体6を形成することができる。
また、本実施の形態において、絶縁膜5および封止体10は、ベース部7と冷却部材8とを接続するときに変形しない程度の剛性を有してもよい。これにより工程(S03)においてベース部7を介してパワー半導体装置100内部に力が加えられたときにも、絶縁膜5および封止体10の変形や損傷を抑制することができ、放熱板4とベース部7とのリーク等を防止することができる。
また、本実施の形態において、上述のように、高圧電極2は外部とボルト締結により接続される。このときのボルトが緊締されるナットをナットボックスとして設けてもよい。具体的には、高圧電極2とベース部7との間の領域には、ナットボックスが設けられてもよい。ナットボックスは中空構造を有して内部に固定されたナットを含み、ナット側に開口部を有する。この場合、工程(S01)においてナットボックスを高圧電極2とベース部7との間の領域に配置した状態で封止体10により封止する。これにより、ナットボックスの周囲は封止体10により覆われるため、高圧電極2とベース部7との間の領域も封止体10により封止することができる。このようにすることで、工程(S01)において、高圧電極2とベース部7の間の領域に封止体10を形成しないように制御する必要がなくなり、パワー半導体装置の組立性をより向上することができる。このとき、ボルトを、高圧電極2側から高圧電極2に設けられた貫通孔とナットボックスの開口部に通してナットボックス内のナットと締結することにより、高圧電極2と外部とを電気的に接続することができる。
(実施の形態2)
以下、図2を参照して、本発明の実施の形態2のパワー半導体装置200およびその製造方法について説明する。本実施の形態に係るパワー半導体装置200およびその製造方法は、基本的には実施の形態1に係るパワー半導体装置100およびその製造方法と同様の構成を備えるが、冷却部材8が弾性を有する弾性部8aを有する点で実施の形態1に係るパワー半導体装置100と異なる。本実施の形態においては、冷却部材8は、一方の端部にベース部7の凹部に嵌合する根元部8cを、他方の端部に弾性部8aを有し、カバー部材11に接触圧を持って当接するように構成される。このようにすれば、ベース部7とベース部7に対向するカバー部材11との距離、または冷却部材8の長さに多少のばらつきが存在する場合であっても、冷却部材8はカバー部材11と接触することができる。その結果、実施の形態1と同様の効果を得ることができるとともに、パワー半導体装置の冷却性を向上することができる。
以下、図2を参照して、本発明の実施の形態2のパワー半導体装置200およびその製造方法について説明する。本実施の形態に係るパワー半導体装置200およびその製造方法は、基本的には実施の形態1に係るパワー半導体装置100およびその製造方法と同様の構成を備えるが、冷却部材8が弾性を有する弾性部8aを有する点で実施の形態1に係るパワー半導体装置100と異なる。本実施の形態においては、冷却部材8は、一方の端部にベース部7の凹部に嵌合する根元部8cを、他方の端部に弾性部8aを有し、カバー部材11に接触圧を持って当接するように構成される。このようにすれば、ベース部7とベース部7に対向するカバー部材11との距離、または冷却部材8の長さに多少のばらつきが存在する場合であっても、冷却部材8はカバー部材11と接触することができる。その結果、実施の形態1と同様の効果を得ることができるとともに、パワー半導体装置の冷却性を向上することができる。
本実施の形態において、上述のように、弾性部8aによりカバー部材11と当接してもよいが、これに限られるものではない。例えば、弾性部8aは熱伝導性の高いカバー8bにより覆われ、該カバー8bがカバー部材11と当接してもよい。このとき、カバー8bは根元部8cとも接続されることで、根元部8cからカバー8bを経てカバー部材11に至る熱経路を形成することができる。これにより、冷媒およびカバー部材11への熱伝導を高めることができ、冷却体の冷却性を向上することができる。また、カバー8bによって隣り合う冷却部材8間の領域を狭めることで、冷媒を冷却部8間に効率的に流動させることができ、冷却性を向上することができる。
(実施の形態3)
以下、図3を参照して、本発明の実施の形態3のパワー半導体装置300およびその製造方法について説明する。本実施の形態に係るパワー半導体装置300およびその製造方法は、基本的には実施の形態1に係るパワー半導体装置100およびその製造方法と同様の構成を備えるが、冷却部材が金属テープ12を含む点で実施の形態1に係るパワー半導体装置100およびその製造方法と異なる。本実施の形態においては、金属テープ12は、工程(S03)においてベース部7との間に冷媒を流すことが可能な空間を形成するようにベース部7に超音波接合される。このとき、絶縁膜5および封止体10は超音波接合時に生じる振動等によって変形しない程度の剛性を有していればよい。このようにすれば、冷却部材と冷媒との接触面積を大きくすることができる。また、金属テープ12の材料は放熱性の高い材料とし、例えば、Alとしてもよい。その結果、実施の形態1と同様の効果を得ることができるとともに、パワー半導体装置300の冷却性を向上することができる。金属テープ12はベース部7と複数箇所で接合され、かつ冷媒が流動可能な方向に垂直に延在するように設けられるのが好ましい。これにより、金属テープ12と冷媒との接触面積を増大させることができ、パワー半導体装置300の冷却性を向上することができる。より好ましくは、金属テープ12は、カバー部材11と接触するように設けられる。これにより、金属テープと12冷媒およびカバー部材11との接触面積を増大させることができ、パワー半導体装置300の冷却性をより向上することができる。
以下、図3を参照して、本発明の実施の形態3のパワー半導体装置300およびその製造方法について説明する。本実施の形態に係るパワー半導体装置300およびその製造方法は、基本的には実施の形態1に係るパワー半導体装置100およびその製造方法と同様の構成を備えるが、冷却部材が金属テープ12を含む点で実施の形態1に係るパワー半導体装置100およびその製造方法と異なる。本実施の形態においては、金属テープ12は、工程(S03)においてベース部7との間に冷媒を流すことが可能な空間を形成するようにベース部7に超音波接合される。このとき、絶縁膜5および封止体10は超音波接合時に生じる振動等によって変形しない程度の剛性を有していればよい。このようにすれば、冷却部材と冷媒との接触面積を大きくすることができる。また、金属テープ12の材料は放熱性の高い材料とし、例えば、Alとしてもよい。その結果、実施の形態1と同様の効果を得ることができるとともに、パワー半導体装置300の冷却性を向上することができる。金属テープ12はベース部7と複数箇所で接合され、かつ冷媒が流動可能な方向に垂直に延在するように設けられるのが好ましい。これにより、金属テープ12と冷媒との接触面積を増大させることができ、パワー半導体装置300の冷却性を向上することができる。より好ましくは、金属テープ12は、カバー部材11と接触するように設けられる。これにより、金属テープと12冷媒およびカバー部材11との接触面積を増大させることができ、パワー半導体装置300の冷却性をより向上することができる。
本実施の形態において、上述のように、冷却部材は金属テープ12を含んでもよいが、これに限られるものではない。冷却部材はベース部7との間に冷媒を流すことが可能な空間を形成するようにベース部7と接合される限りにおいて、金属ワイヤ等を含んでもよい。このようにしても、冷却部材と冷媒との接触面積を増大させることができる。
(実施の形態4)
上述の実施の形態では、冷却部材とベース部とが別体として構成されるときの実施の形態について説明したが、以下の実施の形態では、冷却部材とベース部とが一体として構成される例について説明する。
上述の実施の形態では、冷却部材とベース部とが別体として構成されるときの実施の形態について説明したが、以下の実施の形態では、冷却部材とベース部とが一体として構成される例について説明する。
従来技術として、冷却装置を備えるパワー半導体装置を冷却器に取り付ける際に、締結力の経年劣化を抑制し、かつパワー半導体装置サイズの増大を抑制するために、ボルト締結部は封止されないように樹脂封止領域を限定した半導体モジュールが特許文献1に提案されている。また、高圧電極には大電流が流れるため、高圧電極と外部の端子との接続はボルトとナットを緊締することにより行う必要がある。このとき、ボルト・ナット締結部が構成される高圧電極と冷却装置との間の領域には、樹脂が流れ込まないように制御する必要がある。これにより、パワー半導体装置の樹脂封止工程の組立性が損なわれる。本実施の形態のパワー半導体装置およびその製造方法は、上記のような課題を解決するために提案するものである。
本実施の形態のパワー半導体装置は、パワー半導体素子と、パワー半導体素子と電気的に接続される高圧電極と、パワー半導体素子と接続され、放熱性を有する放熱板と、絶縁膜を介して前記放熱板と接続される冷却体と、高圧電極と冷却体との間の領域に位置するナットボックスと、パワー半導体素子、高圧電極の一部、放熱板、絶縁膜、冷却体の一部、およびナットボックスを覆う封止体とを備え、ナットボックスはナットを含んで、高圧電極2と接する側に開口部を有し、冷却体の前記ベース部は貫通孔を含み、ナットおよび開口部は貫通孔の上に位置する。
本実施の形態のパワー半導体装置およびその製造方法によれば、ナットボックスを高圧電極と冷却体との間でかつ冷却体の貫通孔上に配置した状態で封止体を形成するため、高圧電極と冷却体との間でかつ冷却体の貫通孔上に位置する領域に樹脂が流れ込まないように制御する必要がない。その結果、パワー半導体装置の組立性を向上することができる。
以下、図4を参照して、本発明の実施の形態4のパワー半導体装置400およびその製造方法について具体的に説明する。図4はナットボックス14を有するタイプのパワー半導体装置400の概略断面図である。本実施の形態に係るパワー半導体装置400は、上述のように、パワー半導体素子1と、パワー半導体素子1と電気的に接続される高圧電極2と、パワー半導体素子1と接続され、放熱性を有する放熱板4と、絶縁膜5を介して放熱板4と接続される冷却体16と、高圧電極2と冷却体16との間の領域に位置するナットボックス14と、パワー半導体素子1、高圧電極2の一部、放熱板4、絶縁膜5、冷却体16の一部、およびナットボックス14を覆う封止体10とを備える。
パワー半導体素子1は、たとえばIGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)や
FWD(Free Wheeling Diode)などを有する半導体チップよりなっている。パワー半導体素子1の一方の主面は、高圧電極2や信号端子20等と電気的に接続される。例えば、高圧電極2はパワー半導体素子1とはんだ等を介して電気的に接続され、信号端子20はワイヤボンディング等により電気的に接続される。パワー半導体素子1の他方の主面は、はんだ等(図示せず)を介して放熱板4に保持される。高圧電極2はパワー半導体素子1に高電圧を印加可能とする任意の構造で設けられる。高圧電極2には大電流が流れるため、高圧電極2と外部とはボルト締結の手段によって接続される。つまり、高圧電極2は、ボルトが貫通するための貫通孔21を含んでいる。
FWD(Free Wheeling Diode)などを有する半導体チップよりなっている。パワー半導体素子1の一方の主面は、高圧電極2や信号端子20等と電気的に接続される。例えば、高圧電極2はパワー半導体素子1とはんだ等を介して電気的に接続され、信号端子20はワイヤボンディング等により電気的に接続される。パワー半導体素子1の他方の主面は、はんだ等(図示せず)を介して放熱板4に保持される。高圧電極2はパワー半導体素子1に高電圧を印加可能とする任意の構造で設けられる。高圧電極2には大電流が流れるため、高圧電極2と外部とはボルト締結の手段によって接続される。つまり、高圧電極2は、ボルトが貫通するための貫通孔21を含んでいる。
放熱板4は、パワー半導体素子1が発する熱を拡散させるための熱拡散板であり、放熱性の高い材料からなる。例えば、銅(Cu)やアルミニウム(Al)等で放熱板4を構成すればよい。パワー半導体素子1を搭載した面と対向する面は、絶縁膜5を介して冷却体16と接続される。
絶縁膜5は、電気的絶縁性を有し、例えば、エポキシ樹脂等で構成すればよい。
冷却体16は、冷却体16とカバー部材11とが互いに接続することにより冷却器を構成するように設けられる。つまり、本実施の形態のパワー半導体装置400において、パワー半導体素子1が駆動することにより生じた熱は、主に、半導体素子から放熱板4、絶縁膜5、冷却体16へと効率よく伝播して放熱される。
冷却体16は、冷却体16とカバー部材11とが互いに接続することにより冷却器を構成するように設けられる。つまり、本実施の形態のパワー半導体装置400において、パワー半導体素子1が駆動することにより生じた熱は、主に、半導体素子から放熱板4、絶縁膜5、冷却体16へと効率よく伝播して放熱される。
本実施の形態において、冷却体16は一体であるベース部7と冷却部材8とを含む。冷却体16の材料は放熱板4と同様放熱性の高い材料とし、例えば、銅やアルミニウム等にとすればよい。ベース部7と冷却部材8の材料は同一の材料でもよいし、異なる材料でもよい。
さらに、冷却体16は、冷却体16とカバー部材11とが互いに接続することにより冷却器を構成するように設けられる。つまり、本実施の形態のパワー半導体装置400において、パワー半導体素子1が駆動することにより生じた熱は、主に、半導体素子から放熱板4、絶縁膜5、冷却体16へと効率よく伝播して冷却器で排熱される。
冷却体16とカバー部材11とを接続して冷却器を構成するとき、例えば、ベース部7およびカバー部材11には貫通孔17,18が設けられ、ベース部7およびカバー部材11はボルトとナットにより締結固定される。これにより、冷却器を備えたパワー半導体装置400を構成することができる。なお、パワー半導体装置100を上方から見たとき、上述した高圧電極2の貫通孔21とベース部7およびカバー部材11の貫通孔17,18は重ならないように設けられる。貫通孔17,18は、ベース部7とカバー部材11の外形が矩形である場合には、それぞれ角部に設けられる。一方、高圧電極2の貫通孔21は、高圧電極2が、隣り合う角部間に挟まれた辺に対し垂直に複数形成される場合には、辺に沿って複数設けられる。
高圧電極2と外部の端子とは、ボルトとナット15を緊締することで接続される。ナット15はナットボックス14に格納された状態で設けられる。ナットボックス14は、中空構造を有して内部に固定されたナット15を含み、ナット15側に開口部を有する。ナットボックス14は、高圧電極2と冷却体16(ベース部7)との間の領域に位置し、高圧電極2の貫通孔21下に開口部が位置するように設けられる。このとき、ナットボックス14の周囲は、開口部を除いて封止体10により覆われている。ボルトを高圧電極2側から高圧電極2の貫通孔21と、ナットボックス14の開口部に通して、ナットボックス14内のナット15と締結することにより、高圧電極2と外部とを電気的に接続することができる。
封止体10は、パワー半導体素子1、高圧電極2、信号端子20、放熱板4、絶縁膜5、冷却体16およびナットボックス14を封止する。封止体10は、電気絶縁性を有し、例えば、エポキシ樹脂等とすればよい。このとき、封止体10からは、高圧電極2の一部、信号端子20の一部および冷却体16の一部が露出する。なお、本実施の形態においても、貫通孔17,18の上部は、封止体10で封止されていない。上述のように、貫通孔17,18の上部は高圧電極2が設けられていないため、貫通孔17,18の上部が封止体10で封止されないように封止体10を形成する場合にも、パワー半導体装置400の組立性は損なわれない。一方、図4に示す高圧電極2と冷却体16との間の領域が封止体10で封止されないように封止体10を形成する場合には、パワー半導体装置400の組立性が損なわれる。よって、図4に示すように、ナットボックス14を設けることにより、封止体10で覆うことができ、組立性を向上することができる。
次に、本実施の形態に係るパワー半導体装置400の製造方法について説明する。図6を参照して、本実施の形態に係るパワー半導体装置400の製造方法は、パワー半導体素子1と、パワー半導体素子1と電気的に接続し、貫通孔21を含む高圧電極2と、パワー半導体素子1と接続し、放熱性を有する放熱板4と、絶縁膜5を介して放熱板4と接続する冷却体16とを準備する工程(S10)と、中空構造を有して内部にナット15を含み、開口部を有するナットボックス14を準備する工程(S20)と、高圧電極2の貫通孔の下に開口部が位置するように高圧電極2と冷却体16との間の領域にナットボックス14を配置して、パワー半導体素子1と、高圧電極2の一部と、放熱板4と、絶縁膜5と、冷却体16の一部と、ナットボックス14とを覆う封止体10を形成する工程(S30)とを備える。
まず、工程(S10)では、パワー半導体素子1と、パワー半導体素子1と電気的に接続し、貫通孔21を含む高圧電極2と、パワー半導体素子1と接続し放熱性を有する放熱板4と、絶縁膜5を介して放熱板4と接続する冷却体16とを準備することにより、冷却体16に接続された状態で封止体10により封止されていないパワー半導体装置400が得られる。
次に、工程(S20)では、ナットボックス14を準備する。ナットボックス14は中空構造を有して内部にナット15を含み、開口部を有する限りにおいて、任意の形状とすることができる。
次に、工程(S30)では、パワー半導体装置400に封止体10を形成する。この工程(S30)では、ナットボックス14を、パワー半導体装置400のベース部7の貫通孔17の上に開口部が位置するように高圧電極2と冷却体16との間の領域に配置して、高圧電極2の一部と、放熱板4と、絶縁膜5と、冷却体16の一部と、ナットボックス14とを覆う封止体10を形成する。これにより、ナットボックス14の周囲は開口部を除いて封止体10により覆うことができる。このようにすることで、高圧電極2と冷却体16との間の領域であって、高圧電極2の貫通孔下に位置する部分に樹脂が流れ込まないように工夫する必要があった従来のパワー半導体装置の製造方法と比べて、封止体10の形成を容易にすることができ、組立性を向上することができる。
以上のように、本実施の形態によれば、高圧電極2と外部端子とを接続固定するための固定部材を高圧電極2と冷却体16との間の領域に設ける際に、予め準備したナットボックス14を位置決めした後封止することで、封止体10の形成を制限せずに固定部材を形成することができる。このため、パワー半導体装置400の組立性を向上することができる。
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味、および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
1 パワー半導体素子、2 高圧電極、3 はんだ、4 放熱板、5 絶縁膜、6,16 冷却体、7 ベース部、8 冷却部材、8a 弾性部、8b カバー、8c 根元部、10 封止体、11 カバー部材、12 金属テープ、14 ナットボックス、15 ナット、17,18,21 貫通孔、19 ワイヤ、20 信号端子、100,200,300,400 パワー半導体装置。
Claims (11)
- パワー半導体素子と、
前記パワー半導体素子と電気的に接続される高圧電極と、
前記パワー半導体素子と接続され、放熱性を有する放熱板と、
絶縁膜を介して前記放熱板と接続される冷却体と、
前記パワー半導体素子、前記高圧電極の一部、前記放熱板、前記絶縁膜、および前記冷却体の一部を覆う封止体とを備え、
前記冷却体は、前記封止体に一部が埋設されるベース部と、前記ベース部と接続される冷却部材とを含み、
前記ベース部と前記冷却部材は別体であって、前記冷却部材は前記封止体から露出する前記ベース部に固定される、パワー半導体装置。 - 前記ベース部は凹部を有し、
前記冷却部材は、前記凹部と嵌合する、請求項1に記載のパワー半導体装置。 - 前記冷却部材は、一方の端部に前記凹部と嵌合する根元部を、他方の端部に弾性を有する弾性部を有し、
前記弾性部と接するように設けられたカバー部材を有する、請求項2に記載のパワー半導体装置。 - 前記冷却部材は、前記ベース部との間に冷媒を流すことが可能な空間を形成するように前記ベース部に接合される、請求項1に記載のパワー半導体装置。
- 前記冷却部材は金属テープを含み、
前記金属テープは、前記冷媒が流動可能な方向に垂直に延在する、請求項4に記載のパワー半導体装置。 - 前記冷却部材と接するように設けられたカバー部材を有する、請求項5に記載のパワー半導体装置。
- 前記高圧電極と前記冷却体との間の領域にナットボックスをさらに備え、
前記ナットボックスはナットを含んで、開口部を有し、
前記ナットおよび前記開口部が前記高圧電極下に位置し、
前記ナットボックス以外の前記領域を前記封止体で覆うようにした、請求項1〜6のいずれか1項に記載のパワー半導体装置。 - パワー半導体素子と、
前記パワー半導体素子と電気的に接続される高圧電極と、
前記パワー半導体素子と接続され、放熱性を有する放熱板と、
絶縁膜を介して前記放熱板と接続される冷却体と、
前記高圧電極と前記冷却体との間の領域に位置するナットボックスと、
前記パワー半導体素子、前記高圧電極の一部、前記放熱板、前記絶縁膜、前記冷却体の一部、および前記ナットボックスを覆う封止体とを備え、
前記高圧電極は貫通孔を含み、
前記ナットボックスはナットを含んで、前記高圧電極と接する側に開口部を有し、
前記ナットおよび前記開口部は前記貫通孔の下に位置する、パワー半導体装置。 - パワー半導体素子と、前記パワー半導体素子を冷却する冷却体の一部を覆う封止体を形成する工程と、
前記封止体から露出した前記冷却体に冷却部材を装着する工程とを備える、パワー半導体装置の製造方法。 - 前記冷却部材を前記冷却体に装着する前に、前記パワー半導体素子の検査を行う、請求項9に記載のパワー半導体装置の製造方法。
- パワー半導体素子と、前記パワー半導体素子と電気的に接続し、貫通孔を含む高圧電極と、前記パワー半導体素子と接続し、放熱性を有する放熱板と、絶縁膜を介して前記放熱板と接続する冷却体とを準備する工程と、
中空構造を有して内部にナットを含み、開口部を有するナットボックスを準備する工程と、
前記貫通孔の下に前記開口部が位置するように前記高圧電極と前記冷却体との間の領域に前記ナットボックスを配置して、前記パワー半導体素子と、前記高圧電極の一部と、前記放熱板と、前記絶縁膜と、前記冷却体の一部と、前記ナットボックスとを覆う封止体を形成する工程とを備える、パワー半導体装置の製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012201765A JP2014056982A (ja) | 2012-09-13 | 2012-09-13 | パワー半導体装置およびその製造方法 |
US13/928,114 US20140070398A1 (en) | 2012-09-13 | 2013-06-26 | Power semiconductor device and method of manufacturing the same |
DE102013215392.9A DE102013215392A1 (de) | 2012-09-13 | 2013-08-05 | Leistungshalbleitervorrichtung und Verfahren zu deren Herstellung |
CN201310416427.5A CN103681540A (zh) | 2012-09-13 | 2013-09-13 | 功率半导体装置及其制造方法 |
US14/475,371 US20140367842A1 (en) | 2012-09-13 | 2014-09-02 | Power semiconductor device and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012201765A JP2014056982A (ja) | 2012-09-13 | 2012-09-13 | パワー半導体装置およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014056982A true JP2014056982A (ja) | 2014-03-27 |
Family
ID=50153496
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012201765A Pending JP2014056982A (ja) | 2012-09-13 | 2012-09-13 | パワー半導体装置およびその製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20140070398A1 (ja) |
JP (1) | JP2014056982A (ja) |
CN (1) | CN103681540A (ja) |
DE (1) | DE102013215392A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6582718B2 (ja) | 2015-08-18 | 2019-10-02 | 富士電機株式会社 | 電子電気機器 |
FR3060847B1 (fr) * | 2016-12-21 | 2020-12-04 | Valeo Systemes De Controle Moteur | Module electronique de puissance comprenant une face d'echange thermique |
WO2018216146A1 (ja) * | 2017-05-24 | 2018-11-29 | 三菱電機株式会社 | 半導体パッケージ |
US10249554B2 (en) * | 2017-06-20 | 2019-04-02 | General Electric Company | Heat transfer assembly for a heat emitting device |
US11145571B2 (en) * | 2019-06-04 | 2021-10-12 | Semiconductor Components Industries, Llc | Heat transfer for power modules |
FR3104891B1 (fr) * | 2019-12-11 | 2021-11-19 | Valeo Equip Electr Moteur | Ensemble électrique et convertisseur de tension |
US11908766B2 (en) * | 2021-04-05 | 2024-02-20 | Jmj Korea Co., Ltd. | Cooling system where semiconductor component comprising semiconductor chip and cooling apparatus are joined |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01127259U (ja) * | 1988-02-23 | 1989-08-31 | ||
JP2004273479A (ja) * | 2003-03-05 | 2004-09-30 | Hitachi Ltd | 放熱フィン付パワー半導体モジュール |
WO2009150995A1 (ja) * | 2008-06-12 | 2009-12-17 | 三菱電機株式会社 | 電力半導体回路装置およびその製造方法 |
WO2012029165A1 (ja) * | 2010-09-02 | 2012-03-08 | トヨタ自動車株式会社 | 半導体モジュール |
JP2012084708A (ja) * | 2010-10-13 | 2012-04-26 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
WO2012114475A1 (ja) * | 2011-02-23 | 2012-08-30 | トヨタ自動車株式会社 | 冷却器 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5533257A (en) * | 1994-05-24 | 1996-07-09 | Motorola, Inc. | Method for forming a heat dissipation apparatus |
WO2000068992A1 (en) * | 1999-05-11 | 2000-11-16 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor device |
JP4286465B2 (ja) * | 2001-02-09 | 2009-07-01 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置とその製造方法 |
JP4540884B2 (ja) * | 2001-06-19 | 2010-09-08 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
JP3676719B2 (ja) * | 2001-10-09 | 2005-07-27 | 株式会社日立製作所 | 水冷インバータ |
JP4569473B2 (ja) | 2006-01-04 | 2010-10-27 | 株式会社日立製作所 | 樹脂封止型パワー半導体モジュール |
JP2007305962A (ja) * | 2006-05-12 | 2007-11-22 | Honda Motor Co Ltd | パワー半導体モジュール |
JP5252819B2 (ja) * | 2007-03-26 | 2013-07-31 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
JP5171404B2 (ja) | 2008-06-05 | 2013-03-27 | 三菱電機株式会社 | 樹脂モールド型半導体モジュール |
EP2503593B1 (en) * | 2009-11-17 | 2017-12-20 | Mitsubishi Electric Corporation | Heat dissipating device and method for manufacturing heat dissipating device |
JP5257817B2 (ja) * | 2010-06-15 | 2013-08-07 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
JP5432085B2 (ja) * | 2010-08-24 | 2014-03-05 | 三菱電機株式会社 | 電力半導体装置 |
-
2012
- 2012-09-13 JP JP2012201765A patent/JP2014056982A/ja active Pending
-
2013
- 2013-06-26 US US13/928,114 patent/US20140070398A1/en not_active Abandoned
- 2013-08-05 DE DE102013215392.9A patent/DE102013215392A1/de not_active Withdrawn
- 2013-09-13 CN CN201310416427.5A patent/CN103681540A/zh active Pending
-
2014
- 2014-09-02 US US14/475,371 patent/US20140367842A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01127259U (ja) * | 1988-02-23 | 1989-08-31 | ||
JP2004273479A (ja) * | 2003-03-05 | 2004-09-30 | Hitachi Ltd | 放熱フィン付パワー半導体モジュール |
WO2009150995A1 (ja) * | 2008-06-12 | 2009-12-17 | 三菱電機株式会社 | 電力半導体回路装置およびその製造方法 |
WO2012029165A1 (ja) * | 2010-09-02 | 2012-03-08 | トヨタ自動車株式会社 | 半導体モジュール |
JP2012084708A (ja) * | 2010-10-13 | 2012-04-26 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
WO2012114475A1 (ja) * | 2011-02-23 | 2012-08-30 | トヨタ自動車株式会社 | 冷却器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE102013215392A1 (de) | 2014-03-13 |
US20140070398A1 (en) | 2014-03-13 |
CN103681540A (zh) | 2014-03-26 |
US20140367842A1 (en) | 2014-12-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5257817B2 (ja) | 半導体装置 | |
US8610263B2 (en) | Semiconductor device module | |
JP2014056982A (ja) | パワー半導体装置およびその製造方法 | |
JP6120704B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP5432085B2 (ja) | 電力半導体装置 | |
JP2009111154A (ja) | 電力半導体モジュール | |
WO2010090326A1 (ja) | 半導体装置の冷却構造及びその冷却構造を備えた電力変換装置 | |
JP5836298B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP5786972B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP6150866B2 (ja) | 電力半導体装置 | |
JP6742538B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP6590952B2 (ja) | 半導体装置 | |
WO2019038876A1 (ja) | 半導体装置 | |
JP2012248700A (ja) | 半導体装置 | |
JP2013026296A (ja) | パワーモジュール | |
JP2015185835A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JP5125530B2 (ja) | 電力変換装置 | |
US12033916B2 (en) | Semiconductor device and semiconductor module with improved heat dissipation | |
JP4120581B2 (ja) | パワーモジュール | |
JP2004096135A5 (ja) | ||
JP4396366B2 (ja) | 半導体装置 | |
JPH08186199A (ja) | 樹脂封止型半導体装置 | |
JP2009206347A (ja) | パワーモジュール | |
JP2005033123A (ja) | 半導体パワーモジュール | |
JP2013080755A (ja) | 電力変換装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20141107 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20151217 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160112 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20160510 |