JP2013252987A - Method of producing carbon monoxide from carbon dioxide - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は二酸化炭素から一酸化炭素を製造する方法および装置に関する。 The present invention relates to a method and apparatus for producing carbon monoxide from carbon dioxide.
石化燃料の消費が世界的に拡大し、それに伴い二酸化炭素の排出量が急激に増加している。特に先進国では二酸化炭素の排出量抑制が急務となっており、二酸化炭素を可燃性ガスなどに転換する方法や、高分子中に固定する方法、地中等に埋蔵する方法などが検討されている。 The consumption of petrochemical fuel is expanding worldwide, and carbon dioxide emissions are increasing rapidly. In developed countries in particular, there is an urgent need to reduce carbon dioxide emissions, and methods such as converting carbon dioxide into flammable gases, fixing it in polymers, and embedding it underground are being investigated. .
一酸化炭素は、水素と混合して合成ガスとし、該合成ガスからフィッシャー・トロプシュ反応により炭化水素を製造できる。また、一酸化炭素を燃料として用いることもできる。そこで、二酸化炭素の排出量を抑制するため、二酸化炭素から一酸化炭素を製造する方法が検討されている。 Carbon monoxide can be mixed with hydrogen to form a synthesis gas, and a hydrocarbon can be produced from the synthesis gas by a Fischer-Tropsch reaction. Carbon monoxide can also be used as a fuel. Therefore, a method for producing carbon monoxide from carbon dioxide has been studied in order to suppress carbon dioxide emission.
二酸化炭素から一酸化炭素を製造する方法としては、例えば、下記反応式（１）で示される逆シフト反応による方法が挙げられる。 Examples of the method for producing carbon monoxide from carbon dioxide include a method by a reverse shift reaction represented by the following reaction formula (1).
CO2 + H2 + 40.9kJ/mol → CO + H2O （１） CO 2 + H 2 + 40.9kJ / mol → CO + H 2 O (1)
この他に、二酸化炭素から一酸化炭素を製造する方法として、マイクロ波プラズマを用いた方法が提案されている。 In addition, as a method for producing carbon monoxide from carbon dioxide, a method using microwave plasma has been proposed.
特許文献１には、二酸化炭素と水素および／または水蒸気とからなる原料ガスを、マイクロ波プラズマ発生手段を備えている反応チャンバーに導入し、発生させたラジカルを触媒に接触させた後、一酸化炭素を含有する可燃性ガスを得る方法が記載されている。 In Patent Document 1, a raw material gas composed of carbon dioxide and hydrogen and / or water vapor is introduced into a reaction chamber equipped with microwave plasma generation means, and the generated radicals are brought into contact with a catalyst. A method for obtaining a combustible gas containing carbon is described.
上記反応式（１）で示される逆シフト反応による方法では、二酸化炭素から一酸化炭素を製造する際、大量の水素が必要である。また、上記特許文献１に記載の方法では、触媒を必要とするため、触媒の劣化原因となる硫黄などの微量成分を含むガスをそのまま原料ガスとして用いることができない。したがって、二酸化炭素から一酸化炭素を製造する方法として、発電所や製鉄所、工場からの排気ガスなどの硫黄等を含む二酸化炭素含有ガスをそのまま原料ガスとして用いることができるような、さらに優れた手法の開発が望まれている。 In the method using the reverse shift reaction represented by the above reaction formula (1), a large amount of hydrogen is required when producing carbon monoxide from carbon dioxide. In addition, the method described in Patent Document 1 requires a catalyst, and thus a gas containing a trace component such as sulfur that causes deterioration of the catalyst cannot be used as it is as a raw material gas. Therefore, as a method for producing carbon monoxide from carbon dioxide, a carbon dioxide-containing gas containing sulfur or the like such as exhaust gas from a power plant, ironworks, or factory can be used as a raw material gas as it is. Development of a method is desired.
本発明の目的は、触媒を用いる必要が無く、原料ガスの組成や不純物の影響も少ない、一酸化炭素の製造方法および一酸化炭素の製造装置を提供することである。 An object of the present invention is to provide a carbon monoxide production method and a carbon monoxide production apparatus that do not require the use of a catalyst and are less affected by the composition of raw material gas and impurities.
本発明者は鋭意検討した結果、プラズマ粒子を二酸化炭素に接触させることにより、一酸化炭素が生成することを発見し、本発明を完成した。 As a result of intensive studies, the present inventor has discovered that carbon monoxide is produced by bringing plasma particles into contact with carbon dioxide, thereby completing the present invention.
すなわち、本発明は次に示すとおりである。
［１］
プラズマ粒子発生原料ガスからプラズマ粒子を発生させる工程と、
前記工程で発生したプラズマ粒子を、二酸化炭素含有原料ガスに接触させることにより、一酸化炭素を含有するガスを生成させる工程を含む一酸化炭素の製造方法。
［２］
前記プラズマ粒子を発生させる工程が、一対の電極の対向する面の少なくとも一方を誘電体で覆った状態で、前記電極間に、プラズマ粒子発生原料ガスを存在させ、電圧を印加して放電させることにより、プラズマ粒子を発生させる工程である、［１］に記載の一酸化炭素の製造方法。
［３］
前記誘電体が強誘電体である、［２］に記載の一酸化炭素の製造方法。
［４］
前記プラズマ粒子発生原料ガスが希ガスを含有する、［１］〜［３］のいずれかに記載の一酸化炭素の製造方法。
［５］
プラズマ粒子を発生させるプラズマ粒子発生装置と、
プラズマ粒子と二酸化炭素含有原料ガスとを接触させるプラズマ粒子照射部と、を備える、一酸化炭素の製造装置。
［６］
前記プラズマ粒子発生装置が、
一対の電極と、
前記一対の電極の対向する面の少なくとも一方に設けられた誘電体と、
前記一対の電極に接続され、電極間に電圧を印加させる高周波電源と、を備え、
前記一対の電極間で起こる放電によりプラズマ粒子を発生させる装置である、［５］に記載の一酸化炭素の製造装置。
［７］
前記誘電体が強誘電体である、［６］に記載の一酸化炭素の製造装置。
That is, the present invention is as follows.
[1]
A step of generating plasma particles from a plasma particle generating raw material gas;
A method for producing carbon monoxide, comprising the step of generating a gas containing carbon monoxide by bringing the plasma particles generated in the step into contact with a carbon dioxide-containing source gas.
[2]
In the step of generating the plasma particles, at least one of the opposing surfaces of the pair of electrodes is covered with a dielectric, the plasma particle generating source gas is present between the electrodes, and a voltage is applied to discharge the plasma particles. The method for producing carbon monoxide according to [1], wherein the method is a step of generating plasma particles.
[3]
The method for producing carbon monoxide according to [2], wherein the dielectric is a ferroelectric.
[4]
The method for producing carbon monoxide according to any one of [1] to [3], wherein the plasma particle generating raw material gas contains a rare gas.
[5]
A plasma particle generator for generating plasma particles;
An apparatus for producing carbon monoxide, comprising: a plasma particle irradiation unit for bringing plasma particles and carbon dioxide-containing source gas into contact with each other.
[6]
The plasma particle generator is
A pair of electrodes;
A dielectric provided on at least one of the opposing surfaces of the pair of electrodes;
A high frequency power source connected to the pair of electrodes and applying a voltage between the electrodes,
The apparatus for producing carbon monoxide according to [5], which is an apparatus for generating plasma particles by discharge occurring between the pair of electrodes.
[7]
The carbon monoxide manufacturing apparatus according to [6], wherein the dielectric is a ferroelectric.
本発明により、触媒を用いずに二酸化炭素から一酸化炭素を製造することができる。 According to the present invention, carbon monoxide can be produced from carbon dioxide without using a catalyst.
以下、本発明を実施するための形態（以下、「本実施形態」という）について詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施形態に制限されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。 Hereinafter, a mode for carrying out the present invention (hereinafter referred to as “the present embodiment”) will be described in detail. In addition, this invention is not restrict | limited to the following embodiment, A various deformation | transformation can be implemented within the range of the summary.
≪一酸化炭素の製造方法≫
本実施形態の一酸化炭素の製造方法は、プラズマ粒子発生原料ガスからプラズマ粒子を発生させる工程と、前記工程で発生したプラズマ粒子を、二酸化炭素含有原料ガスに接触させることにより、一酸化炭素を含有するガスを生成させる工程を含む。
≪Method for producing carbon monoxide≫
The method for producing carbon monoxide according to the present embodiment includes a step of generating plasma particles from a plasma particle generating raw material gas, and contacting the plasma particles generated in the step with a carbon dioxide-containing raw material gas, thereby A step of generating a gas to be contained.
本実施形態において、プラズマ粒子とは、プラズマ状態に励起された粒子を意味する。プラズマ粒子が二酸化炭素に接触することで、二酸化炭素中の酸素原子が解離し、一酸化炭素となると考えられる。 In the present embodiment, the plasma particles mean particles excited to a plasma state. When the plasma particles come into contact with carbon dioxide, oxygen atoms in the carbon dioxide are dissociated and become carbon monoxide.
〔プラズマ粒子を発生させる工程〕
本実施形態の一酸化炭素の製造方法は、プラズマ粒子発生原料ガスからプラズマ粒子を発生させる工程を含む。該プラズマ粒子を発生させる工程としては、一対の電極の対向する面の少なくとも一方を誘電体で覆った状態で、前記電極間に、プラズマ粒子発生原料ガスを存在させ、電圧を印加して放電させることにより、プラズマ粒子を発生させる工程であることが好ましい。すなわち、誘電体バリア放電によりプラズマ粒子を発生させる工程であることが好ましい。誘電体バリア放電によりプラズマ粒子を発生させる工程は、大型のプラズマ粒子発生装置を用いることができ、大量のプラズマ粒子を効率良く発生させることができる。
[Process of generating plasma particles]
The method for producing carbon monoxide of the present embodiment includes a step of generating plasma particles from a plasma particle generating raw material gas. As the step of generating the plasma particles, with at least one of the opposing surfaces of the pair of electrodes covered with a dielectric, a plasma particle generating source gas is present between the electrodes, and a voltage is applied to discharge the plasma particles. Thus, the step of generating plasma particles is preferable. That is, it is preferably a step of generating plasma particles by dielectric barrier discharge. In the step of generating plasma particles by dielectric barrier discharge, a large plasma particle generator can be used, and a large amount of plasma particles can be generated efficiently.
（プラズマ粒子発生原料ガス）
プラズマ粒子を発生させる原料ガス（プラズマ粒子発生原料ガス）としては、特に限定されず、例えば、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン等の希ガス；窒素；二酸化炭素などが挙げられる。中でも、プラズマ粒子発生原料ガスとしては、希ガスを含有することが好ましい。プラズマ粒子発生原料ガスが希ガスを含有すると、放電によりプラズマ粒子を発生させる際の放電電圧を低減でき、エネルギー効率を向上させることができる。該エネルギー効率の観点から、プラズマ粒子発生原料ガス中の希ガス含有量は、好ましくは４０容量％以上であり、より好ましくは６０容量％以上、さらに好ましくは８０容量％以上である。プラズマ粒子発生原料ガス中の希ガス含有量の上限としては、例えば、１００容量％である。
(Plasma particle generating raw material gas)
The source gas for generating plasma particles (plasma particle generating source gas) is not particularly limited, and examples thereof include rare gases such as helium, neon, argon, krypton, and xenon; nitrogen; carbon dioxide. Among these, the plasma particle generating raw material gas preferably contains a rare gas. When the plasma particle generating raw material gas contains a rare gas, a discharge voltage when generating plasma particles by discharge can be reduced, and energy efficiency can be improved. From the viewpoint of energy efficiency, the rare gas content in the plasma particle generating raw material gas is preferably 40% by volume or more, more preferably 60% by volume or more, and still more preferably 80% by volume or more. The upper limit of the rare gas content in the plasma particle generating raw material gas is, for example, 100% by volume.
また、プラズマ粒子発生原料ガスは、酸素を含有していてもよいが、プラズマ粒子発生原料ガス中の酸素の含有量は、一酸化炭素の収率や安全性の観点から、低い方が好ましい。具体的には、プラズマ粒子発生原料ガス中の酸素含有量は、０．５容量％以下であることが好ましく、０．１容量％以下であることがより好ましい。プラズマ粒子発生原料ガス中の酸素含有量が前記範囲であると、生成した一酸化炭素が酸素由来のプラズマ粒子やオゾンと接触して二酸化炭素に再転換することを抑制でき、一酸化炭素の収率が良好となる。また、生成した一酸化炭素含有ガスの爆発を抑制でき、安全性が向上する。 Further, the plasma particle generating raw material gas may contain oxygen, but the oxygen content in the plasma particle generating raw material gas is preferably lower from the viewpoint of the yield of carbon monoxide and safety. Specifically, the oxygen content in the plasma particle generating raw material gas is preferably 0.5% by volume or less, and more preferably 0.1% by volume or less. If the oxygen content in the plasma particle generating raw material gas is within the above range, the generated carbon monoxide can be prevented from coming into contact with oxygen-derived plasma particles and ozone to be reconverted to carbon dioxide, and the carbon monoxide can be collected. The rate is good. Moreover, the explosion of the produced | generated carbon monoxide containing gas can be suppressed and safety | security improves.
プラズマ粒子発生原料ガスは、１種単独で用いてもよく、２種以上併用してもよい。 The plasma particle generating source gas may be used alone or in combination of two or more.
プラズマ粒子発生原料ガスをプラズマ粒子発生装置に連続的に供給する場合、プラズマ粒子発生原料ガスの流量は特に限定されない。例えば、誘電体バリア放電によりプラズマ粒子を発生させる装置の場合、プラズマ粒子発生原料ガスの流量は、電極間距離、放電場におけるガス流通面の断面積および長さ、印加する高周波の周波数、プラズマ粒子発生原料ガスの組成によって任意に決定できる。例えば、放電場におけるガス流通面の断面積０．５ｃｍ2、放電場のガス流通方向の長さ２ｃｍ、周波数４０ｋＨｚの場合、プラズマ粒子発生原料ガスをプラズマ状態にするのに十分な放電を行う観点から、好ましいプラズマ粒子発生原料ガスの流量は、２５ｃｃ／ｍｉｎ以上５００ｃｃ／ｍｉｎ以下である。放電場におけるガス流通面の断面積を大きくした場合や、長さを長くした場合、ラジカル寿命の長い元素や分子をプラズマ粒子発生原料ガスに用いた場合は、プラズマ粒子発生原料ガスの流量を増やすことができる。 When the plasma particle generating raw material gas is continuously supplied to the plasma particle generating device, the flow rate of the plasma particle generating raw material gas is not particularly limited. For example, in the case of a device that generates plasma particles by dielectric barrier discharge, the flow rate of the plasma particle generating raw material gas is the distance between electrodes, the cross-sectional area and length of the gas flow surface in the discharge field, the frequency of the applied high frequency, the plasma particles It can be arbitrarily determined depending on the composition of the generated raw material gas. For example, when the cross-sectional area of the gas flow surface in the discharge field is 0.5 cm 2 , the length of the discharge field in the gas flow direction is 2 cm, and the frequency is 40 kHz, the viewpoint of sufficient discharge to bring the plasma particle generating raw material gas into a plasma state Therefore, the preferable flow rate of the plasma particle generating raw material gas is 25 cc / min or more and 500 cc / min or less. Increase the flow rate of the plasma particle generation source gas when the cross-sectional area of the gas flow surface in the discharge field is increased, the length is increased, or when elements or molecules with a long radical lifetime are used as the plasma particle generation source gas. be able to.
（プラズマ粒子発生方法）
本実施形態において、プラズマ粒子を発生させる方法は、特に限定されないが、プラズマ粒子発生原料ガスの圧力が大気圧近傍のときにプラズマ粒子を発生できる方法が好ましい。また、プラズマ粒子は、単原子まで分解された粒子でなくてもよい。さらに、プラズマ粒子の温度は室温であってもよい。そのため、プラズマ粒子としては、エネルギー効率の観点から、非熱平衡プラズマ粒子であることが好ましく、大気圧非熱平衡プラズマ粒子であることがより好ましい。このようなプラズマ粒子の発生方法としては、特に限定されないが、例えば、誘電体バリア放電、誘導結合、マイクロ波、マグネトロン、コロナ放電などによるプラズマ粒子発生方法が挙げられる。この中でも、誘電体バリア放電によるプラズマ粒子発生方法が好ましい。誘電体バリア放電とは、一対の電極の対向する面の少なくとも一方を誘電体で遮った状態で、電極間に交流電圧を印加した場合に起こる放電のことをいう。誘電体バリア放電に用いる装置の形状としては、電極表面が誘電体により覆われた形状であれば特に限定されず、例えば、平行平板型や同軸円筒型などの形状が挙げられる。これらの形状であれば、装置の大きさの自由度も高く、大量の気体を反応させる際に装置の大型化が容易である。これらの観点よりプラズマ粒子発生方法としては誘電体バリア放電によるプラズマ粒子発生方法が特に好ましい。
(Plasma particle generation method)
In the present embodiment, the method for generating plasma particles is not particularly limited, but a method capable of generating plasma particles when the pressure of the plasma particle generating raw material gas is near atmospheric pressure is preferable. Further, the plasma particles may not be particles decomposed to a single atom. Furthermore, the temperature of the plasma particles may be room temperature. Therefore, from the viewpoint of energy efficiency, the plasma particles are preferably non-thermal equilibrium plasma particles, and more preferably atmospheric pressure non-thermal equilibrium plasma particles. A method for generating such plasma particles is not particularly limited, and examples thereof include a method for generating plasma particles by dielectric barrier discharge, inductive coupling, microwave, magnetron, corona discharge, and the like. Among these, the plasma particle generation method by dielectric barrier discharge is preferable. Dielectric barrier discharge refers to discharge that occurs when an AC voltage is applied between electrodes in a state where at least one of the opposing surfaces of a pair of electrodes is shielded by a dielectric. The shape of the device used for dielectric barrier discharge is not particularly limited as long as the electrode surface is covered with a dielectric, and examples thereof include a parallel plate type and a coaxial cylindrical type. If it is these shapes, the freedom degree of the magnitude | size of an apparatus is also high, and when a large amount of gas is made to react, the enlargement of an apparatus is easy. From these viewpoints, the plasma particle generation method using dielectric barrier discharge is particularly preferable as the plasma particle generation method.
また、誘電体バリア放電において、電極間距離とは、一対の電極の対向する面の両方に誘電体が設けられている場合、２つの誘電体の間の距離とする。あるいは、一対の電極の対向する面の一方だけに誘電体が設けられている場合、誘電体が設けられていない電極から誘電体までの距離とする。 In the dielectric barrier discharge, the interelectrode distance is a distance between two dielectrics when dielectrics are provided on both opposing surfaces of the pair of electrodes. Alternatively, in the case where a dielectric is provided only on one of the opposing surfaces of the pair of electrodes, the distance from the electrode not provided with the dielectric to the dielectric is used.
誘電体バリア放電において、電極間距離ｄは、ｄ≦５ｍｍを満たすことが好ましく、０ｍｍ＜ｄ≦５ｍｍを満たすことがより好ましい。安定した放電を保ちながら、電極間の短絡を防ぐ為には０．５ｍｍ≦ｄ≦５ｍｍを満たすことがさらに好ましい。 In the dielectric barrier discharge, the inter-electrode distance d preferably satisfies d ≦ 5 mm, and more preferably satisfies 0 mm <d ≦ 5 mm. In order to prevent a short circuit between the electrodes while maintaining a stable discharge, it is more preferable to satisfy 0.5 mm ≦ d ≦ 5 mm.
誘電体としては、絶縁体や低導電率の材料であれば特に限定されないが、例えば、ガラス、石英、ソーダガラス、石英ガラス、アルミナ、チタン酸バリウムが挙げられる。誘電体としては、強誘電体であることが好ましい。誘電体の誘電率が高いと、ある電圧を電極間に印加した場合に誘電体表面に蓄積される電荷の量が高く、放出される電子の量が多い。放電される電子の量が多いと、(1) 放電場に存在する気体分子に照射する電子が多く、同じ放電場の体積でもプラズマ粒子の発生率が高く、 (2) 絶縁破壊電圧の高い気体であってもプラズマ粒子を発生させ易く、安定したプラズマ粒子を得易い。したがって、プラズマ粒子の発生の安定性やプラズマ粒子の発生率の観点から、誘導体としては、誘電率が高い方が好ましい。強誘電体としては、チタン酸バリウム、Ｐｂ（Ｚｒ，Ｔｉ）Ｏ3、ＲｂＨＳＯ4、Ｓｒ2ＣｅＳ4、Ｋ2ＳｅＯ4が好ましく、特に好ましいのはチタン酸バリウムである。 The dielectric is not particularly limited as long as it is an insulator or a material having low conductivity, and examples thereof include glass, quartz, soda glass, quartz glass, alumina, and barium titanate. The dielectric is preferably a ferroelectric. If the dielectric constant of the dielectric is high, the amount of charge accumulated on the surface of the dielectric when a certain voltage is applied between the electrodes is high, and the amount of electrons emitted is large. When the quantity of discharged electrons is large, (1) there are many electrons that irradiate the gas molecules present in the discharge field, the plasma particle generation rate is high even in the same discharge field volume, and (2) the gas with a high breakdown voltage. Even so, it is easy to generate plasma particles, and it is easy to obtain stable plasma particles. Therefore, from the viewpoint of the stability of the generation of plasma particles and the generation rate of plasma particles, it is preferable that the derivative has a high dielectric constant. As the ferroelectric, barium titanate, Pb (Zr, Ti) O 3 , RbHSO 4 , Sr 2 CeS 4 , and K 2 SeO 4 are preferable, and barium titanate is particularly preferable.
誘電体バリア放電を起こすために、一対の電極の少なくとも一方は誘電体で覆われている。電極間に存在する誘電体の数は特に限定されない。一体の誘電体が両電極に挟持されていてもよいし、一方又は両方の電極の対向する面に誘電体が積層されていてもよいし、両電極間に複数の誘電体が積層されていてもよい。なお誘電体が電極を「覆う」とは、一対の電極間で電子の通過を阻害するように誘電体が存在していることを意味し、物理的に一体物の誘電体が電極を被覆している必要はなく、一対の電極間において、電子の短絡により特定の箇所のみで放電してしまう構造でなければ、面方向にも垂直方向にも誘電体の切れ目や隙間が存在してもよい。 In order to cause dielectric barrier discharge, at least one of the pair of electrodes is covered with a dielectric. The number of dielectrics present between the electrodes is not particularly limited. An integral dielectric may be sandwiched between both electrodes, a dielectric may be laminated on the opposing surface of one or both electrodes, or a plurality of dielectrics may be laminated between both electrodes. Also good. The term “covering” an electrode means that the dielectric exists so as to inhibit the passage of electrons between a pair of electrodes, and the physically integral dielectric covers the electrode. There is no need to have a structure between the pair of electrodes that discharges only at a specific location due to a short circuit of electrons. .
誘電体バリア放電において、電極間に印加する交流電圧としては、正弦波、矩形波または鋸波の交流電圧であることが好ましい。該交流電圧の周波数は１ｋＨｚ以上１ＭＨｚ以下であることが好ましく、３ｋＨｚ以上１００ｋＨｚ以下がより好ましい。該周波数を前記範囲内とすることにより、エネルギー効率が高く、安定な放電が行えるため、好ましい。 In the dielectric barrier discharge, the AC voltage applied between the electrodes is preferably a sine wave, rectangular wave or sawtooth AC voltage. The frequency of the AC voltage is preferably 1 kHz or more and 1 MHz or less, and more preferably 3 kHz or more and 100 kHz or less. It is preferable that the frequency be within the above range because energy efficiency is high and stable discharge can be performed.
誘電体バリア放電において、電極間に印加する電圧は２ｋＶ以上２０ｋＶ以下であることが好ましい。誘電体バリア放電において、より好ましい印加電圧は、プラズマ粒子発生原料ガス、電極間距離、周波数によっても異なるが、プラズマ粒子が発生する電圧であればよい。例えば電極間距離２ｍｍ、周波数４０ｋＨｚの場合、プラズマ粒子を発生させるには３ｋＶ以上７ｋＶ以下の電圧を印加するのが好ましい。 In the dielectric barrier discharge, the voltage applied between the electrodes is preferably 2 kV or more and 20 kV or less. In the dielectric barrier discharge, a more preferable applied voltage varies depending on the plasma particle generating raw material gas, the distance between the electrodes, and the frequency, but may be any voltage that generates plasma particles. For example, when the distance between the electrodes is 2 mm and the frequency is 40 kHz, it is preferable to apply a voltage of 3 kV to 7 kV to generate plasma particles.
〔プラズマ粒子を二酸化炭素含有原料ガスに接触させる工程〕
本実施形態の一酸化炭素の製造方法は、上記工程で発生したプラズマ粒子を、二酸化炭素含有原料ガスに接触させることにより、一酸化炭素を含有するガスを生成させる工程を含む。
[Step of bringing plasma particles into contact with carbon dioxide-containing source gas]
The manufacturing method of carbon monoxide of this embodiment includes the process of producing | generating the gas containing carbon monoxide by making the plasma particle generate | occur | produced at the said process contact carbon dioxide containing raw material gas.
（二酸化炭素含有原料ガス）
本実施形態に用いる二酸化炭素含有原料ガスとしては、二酸化炭素を含有していれば、特に限定されないが、エネルギー効率の観点から、二酸化炭素含有原料ガス中の二酸化炭素の含有量は高い方が好ましい。具体的には、二酸化炭素含有原料ガス中の二酸化炭素の含有量は、好ましくは５０容量％以上であり、より好ましくは８０容量％以上である。二酸化炭素含有原料ガス中の二酸化炭素の含有量の上限は、特に限定されないが、例えば、１００容量％である。二酸化炭素含有原料ガス中の二酸化炭素の含有量が前記範囲内であると、二酸化炭素の励起に消費されるプラズマ粒子の割合が増加し、投入したエネルギーに対する二酸化炭素変換効率が向上する。
(Source gas containing carbon dioxide)
The carbon dioxide-containing raw material gas used in the present embodiment is not particularly limited as long as it contains carbon dioxide, but from the viewpoint of energy efficiency, a higher carbon dioxide content in the carbon dioxide-containing raw material gas is preferable. . Specifically, the content of carbon dioxide in the carbon dioxide-containing raw material gas is preferably 50% by volume or more, and more preferably 80% by volume or more. The upper limit of the carbon dioxide content in the carbon dioxide-containing raw material gas is not particularly limited, but is, for example, 100% by volume. When the content of carbon dioxide in the carbon dioxide-containing raw material gas is within the above range, the ratio of plasma particles consumed for the excitation of carbon dioxide increases, and the carbon dioxide conversion efficiency with respect to the input energy is improved.
また、本実施形態に用いる二酸化炭素含有原料ガスは、工場からの二酸化炭素を含有する排気ガスなども用いることができる。この排気ガスとしては、二酸化炭素を含有していれば原料として用いることができる。この排気ガス中の二酸化炭素の含有量は、例えば、１容量％以上であればよいが、上述したとおりエネルギー効率の観点から、高い方が好ましい。 In addition, as the carbon dioxide-containing source gas used in the present embodiment, exhaust gas containing carbon dioxide from a factory can be used. As this exhaust gas, carbon dioxide can be used as a raw material. The content of carbon dioxide in the exhaust gas may be, for example, 1% by volume or more, but is preferably higher from the viewpoint of energy efficiency as described above.
本実施形態に用いる二酸化炭素含有原料ガスは、酸素や含酸素化合物を含有していてもよいが、安全性や一酸化炭素の収率の観点から、二酸化炭素含有ガス中の酸素や含酸素化合物の含有量は少ない方が好ましい。具体的には、二酸化炭素含有原料ガス中の酸素の含有量は、１０容量％以下であるのが好ましく、より好ましくは１容量％以下である。二酸化炭素含有原料ガス中の酸素の含有量が前記範囲内であると、生成した一酸化炭素含有ガスの爆発を抑制でき、安全性が向上する。また、二酸化炭素含有原料ガス中の酸素の含有量が前記範囲であると、生成した一酸化炭素が酸素や酸素由来オゾンにより酸化され二酸化炭素に再変換することを抑制でき、一酸化炭素の収率が良好となる。 The carbon dioxide-containing source gas used in the present embodiment may contain oxygen or an oxygen-containing compound, but from the viewpoint of safety and the yield of carbon monoxide, oxygen and oxygen-containing compounds in the carbon dioxide-containing gas The content of is preferably smaller. Specifically, the oxygen content in the carbon dioxide-containing source gas is preferably 10% by volume or less, more preferably 1% by volume or less. When the content of oxygen in the carbon dioxide-containing source gas is within the above range, explosion of the generated carbon monoxide-containing gas can be suppressed, and safety is improved. In addition, when the content of oxygen in the carbon dioxide-containing source gas is within the above range, the generated carbon monoxide can be prevented from being oxidized by oxygen or oxygen-derived ozone and reconverted to carbon dioxide, and the carbon monoxide is reduced. The rate is good.
二酸化炭素含有原料ガスとして、火力発電や製鉄所、石化原料を用いる工場などからの排気ガスを精製することなく、そのまま混合して用いることも可能である。さらに、二酸化炭素含有原料ガスとして、異なる複数の工場からの排気ガスを混合して用いることも可能である。これらの排気ガスは、通常、硫黄や硫黄化合物などの不純物を含んでいる。そのため、触媒を用いる従来の一酸化炭素の製造方法では、これらの排気ガスをそのまま原料ガスとして用いると、硫黄や硫黄化合物などの不純物により触媒の劣化を招き、効率良く一酸化炭素を製造することができない。一方、本実施形態の一酸化炭素の製造方法は、触媒を用いる必要がないため、二酸化炭素含有原料ガスとして、硫黄や硫黄化合物を含む排気ガスをそのまま用いることができ、効率良く一酸化炭素を製造することができる。二酸化炭素含有原料ガス中の硫黄及び硫黄化合物の含有量は、特に限定されないが、３容量％以下であることが好ましい。二酸化炭素含有原料ガス中の硫黄及び硫黄化合物の含有量が前記範囲内ならば、二酸化炭素とプラズマ粒子との反応効率にも特に影響しない。また、硫黄及び硫黄化合物などの不純物を除去してもよい。該不純物を除去するタイミングは反応前後で適宜選択することができる。例えば、生成した一酸化炭素含有ガスを触媒反応により他の物質に転化するプロセスを連続的に行いたいと考えるのであれば、予め二酸化炭素含有原料ガス中の不純物を除去してもよい。 As carbon dioxide-containing source gas, exhaust gas from thermal power generation, steelworks, factories using petrochemical raw materials, etc. can be used as they are without being purified. Further, exhaust gas from a plurality of different factories can be mixed and used as the carbon dioxide-containing source gas. These exhaust gases usually contain impurities such as sulfur and sulfur compounds. Therefore, in the conventional carbon monoxide production method using a catalyst, if these exhaust gases are used as they are as raw material gases, the catalyst is deteriorated by impurities such as sulfur and sulfur compounds, and carbon monoxide is produced efficiently. I can't. On the other hand, since the carbon monoxide production method of the present embodiment does not require the use of a catalyst, exhaust gas containing sulfur or a sulfur compound can be used as it is as a carbon dioxide-containing source gas, and carbon monoxide can be efficiently used. Can be manufactured. The contents of sulfur and sulfur compounds in the carbon dioxide-containing source gas are not particularly limited, but are preferably 3% by volume or less. If the content of sulfur and sulfur compounds in the carbon dioxide-containing source gas is within the above range, the reaction efficiency between carbon dioxide and plasma particles is not particularly affected. Further, impurities such as sulfur and sulfur compounds may be removed. The timing for removing the impurities can be appropriately selected before and after the reaction. For example, if it is desired to continuously perform the process of converting the produced carbon monoxide-containing gas into another substance by catalytic reaction, impurities in the carbon dioxide-containing raw material gas may be removed in advance.
二酸化炭素含有原料ガスを後述のプラズマ粒子照射部に連続的に供給する場合、二酸化炭素含有原料ガスの流量は特に限定されず、ガス流通面の断面積および長さ、プラズマ粒子の照射条件によって任意に決定できる。例えば、プラズマ粒子照射部のガス流通面の断面積１ｃｍ2の場合、プラズマ粒子と二酸化炭素含有原料ガスとを効率よく接触させる観点から、好ましい二酸化炭素含有原料ガスの流量は、２５ｃｃ／ｍｉｎ以上５００ｃｃ／ｍｉｎ以下である。 When the carbon dioxide-containing source gas is continuously supplied to the plasma particle irradiation section described later, the flow rate of the carbon dioxide-containing source gas is not particularly limited, and is arbitrary depending on the cross-sectional area and length of the gas flow surface and the plasma particle irradiation conditions. Can be determined. For example, when the cross-sectional area of the gas flow surface of the plasma particle irradiation part is 1 cm 2 , the flow rate of the carbon dioxide-containing source gas is preferably 25 cc / min or more and 500 cc from the viewpoint of efficiently bringing the plasma particles and the carbon dioxide-containing source gas into contact. / Min or less.
〔その他の工程〕
本実施形態の一酸化炭素の製造方法は、脱硫や脱酸素の原料精製工程や二酸化炭素分離などの生成物の精製工程等の工程をさらに含んでいてもよい。
[Other processes]
The method for producing carbon monoxide according to the present embodiment may further include steps such as a raw material purification step for desulfurization and deoxygenation, and a product purification step such as carbon dioxide separation.
≪一酸化炭素の製造装置≫
本実施形態の一酸化炭素の製造装置は、
プラズマ粒子を発生させるプラズマ粒子発生装置と、
プラズマ粒子と二酸化炭素含有原料ガスとを接触させるプラズマ粒子照射部と、
を備える。
≪Carbon monoxide production equipment≫
The carbon monoxide production apparatus of this embodiment is
A plasma particle generator for generating plasma particles;
A plasma particle irradiation section for bringing the plasma particles into contact with the carbon dioxide-containing source gas;
Is provided.
本実施形態の一酸化炭素の製造装置において、プラズマ粒子発生装置によって発生したプラズマ粒子を、二酸化炭素含有原料ガスに接触させることにより、一酸化炭素を生成させることができる。 In the carbon monoxide production apparatus of this embodiment, carbon monoxide can be generated by bringing the plasma particles generated by the plasma particle generator into contact with the carbon dioxide-containing source gas.
本実施形態の一酸化炭素の製造装置は、上述した一酸化炭素の製造方法に好適に使用することができる。 The carbon monoxide production apparatus of the present embodiment can be suitably used in the above-described carbon monoxide production method.
（プラズマ粒子発生装置）
本実施形態に用いるプラズマ粒子発生装置としては、特に限定されないが、例えば、誘電体バリア放電、誘導結合、マイクロ波、マグネトロン、コロナ放電などによるプラズマ粒子発生装置が挙げられる。
(Plasma particle generator)
The plasma particle generator used in the present embodiment is not particularly limited, and examples thereof include plasma particle generators using dielectric barrier discharge, inductive coupling, microwave, magnetron, corona discharge, and the like.
本実施形態に用いるプラズマ粒子発生装置としては、誘電体バリア放電によるプラズマ粒子発生装置が好ましい。具体的には、プラズマ粒子発生装置は、一対の電極と、前記一対の電極の対向する面の少なくとも一方に設けられた誘電体と、前記一対の電極に接続され、電極間に電圧を印加させる高周波電源と、を備え、前記一対の電極間で起こる放電によりプラズマ粒子を発生させる装置であることが好ましい。特に、前記誘電体は強誘電体であることが好ましい。 As the plasma particle generator used in the present embodiment, a plasma particle generator using dielectric barrier discharge is preferable. Specifically, the plasma particle generating device is connected to the pair of electrodes, a dielectric provided on at least one of the opposing surfaces of the pair of electrodes, and a voltage applied between the pair of electrodes. And a high-frequency power source, and a device that generates plasma particles by discharge that occurs between the pair of electrodes. In particular, the dielectric is preferably a ferroelectric.
（プラズマ粒子照射部）
本実施形態に用いるプラズマ粒子照射部とは、上記プラズマ粒子発生装置により発生したプラズマ粒子が二酸化炭素含有原料ガスと接触する部分のことをいう。本実施形態に用いるプラズマ粒子照射部の形状は、特に限定されないが、プラズマ粒子と二酸化炭素含有原料ガスとが効率よく接触できる形状であることが好ましい。本実施形態に用いるプラズマ粒子照射部の形状の具体例としては、特に限定されないが、二酸化炭素含有原料ガスを供給する管とプラズマ粒子を供給する管とが排気管に接続されたＹ字型の形状や、二酸化炭素含有原料ガスの流通する管の壁面にプラズマ粒子を照射するノズルを１個以上設置した形状などが挙げられる。プラズマ粒子は、通常、寿命が短いため、発生したら直ちに二酸化炭素含有原料ガスに接触させることが好ましい。したがって、プラズマ粒子発生装置の放電電極からプラズマ粒子照射部までの距離は、近い方が好ましい。具体的には放電電極からプラズマ粒子照射部までの距離は、好ましくは３ｍｍ以下であり、より好ましくは１ｍｍ以下である。
(Plasma particle irradiation part)
The plasma particle irradiation part used in the present embodiment refers to a part where the plasma particles generated by the plasma particle generator come into contact with the carbon dioxide-containing source gas. Although the shape of the plasma particle irradiation part used for this embodiment is not specifically limited, It is preferable that it is a shape which a plasma particle and a carbon dioxide containing raw material gas can contact efficiently. A specific example of the shape of the plasma particle irradiation unit used in the present embodiment is not particularly limited, but a Y-shaped tube in which a tube for supplying a carbon dioxide-containing source gas and a tube for supplying plasma particles are connected to an exhaust tube. Examples thereof include a shape and a shape in which one or more nozzles for irradiating plasma particles are installed on the wall surface of a pipe through which carbon dioxide-containing source gas flows. Since the plasma particles usually have a short lifetime, it is preferable that the plasma particles are brought into contact with the carbon dioxide-containing source gas as soon as they are generated. Therefore, it is preferable that the distance from the discharge electrode of the plasma particle generator to the plasma particle irradiation unit is short. Specifically, the distance from the discharge electrode to the plasma particle irradiation part is preferably 3 mm or less, more preferably 1 mm or less.
（その他の装置等）
本実施形態の一酸化炭素の製造装置は、上述したプラズマ粒子発生装置及びプラズマ粒子照射部以外に、必要に応じてその他の装置等を備えていてもよい。その他の装置等としては、特に限定されないが、例えば、二酸化炭素含有原料ガスの供給装置、プラズマ粒子発生原料ガスの供給装置、脱硫装置、原料精製装置、生成物精製装置などが挙げられる。
(Other devices)
The carbon monoxide production apparatus of the present embodiment may include other apparatuses and the like as necessary in addition to the plasma particle generation apparatus and the plasma particle irradiation unit described above. Examples of other apparatuses include, but are not limited to, a carbon dioxide-containing source gas supply apparatus, a plasma particle generation source gas supply apparatus, a desulfurization apparatus, a raw material purification apparatus, and a product purification apparatus.
以下、本実施形態の一酸化炭素の製造装置の具体例について、図１及び２を参照して詳細に説明する。 Hereinafter, a specific example of the carbon monoxide production apparatus of the present embodiment will be described in detail with reference to FIGS.
図１は、本実施形態の一酸化炭素の製造装置の一例を示す図である。図１に示される製造装置は、プラズマ粒子発生原料ガスタンク１、マスフロー２、高周波電源３、プラズマ粒子発生装置４、内部電極５、円筒型外部電極６、プラズマ粒子照射部７、生成物用タンク８、円筒形の同軸型電極リアクター（誘電体）９、二酸化炭素含有原料ガスタンク１０及びマスフロー１１を備えている。 FIG. 1 is a diagram illustrating an example of a carbon monoxide production apparatus according to the present embodiment. 1 includes a plasma particle generating raw material gas tank 1, a mass flow 2, a high frequency power source 3, a plasma particle generating device 4, an internal electrode 5, a cylindrical external electrode 6, a plasma particle irradiation unit 7, and a product tank 8. A cylindrical coaxial electrode reactor (dielectric) 9, a carbon dioxide-containing raw material gas tank 10, and a mass flow 11.
プラズマ粒子発生装置４において、誘電体バリア放電によってプラズマ粒子が発生する。リアクター９は、誘電体も兼ねている。高周波電源３は、一対の電極５および６に接続されている。電極６はリアクター９の外表面を覆うように配置され、電極５はリアクター９内部の中央に配置される。なお、一対の電極の少なくとも一方は、リアクター内部に配置されている。 In the plasma particle generator 4, plasma particles are generated by dielectric barrier discharge. The reactor 9 also serves as a dielectric. The high frequency power source 3 is connected to a pair of electrodes 5 and 6. The electrode 6 is disposed so as to cover the outer surface of the reactor 9, and the electrode 5 is disposed at the center inside the reactor 9. Note that at least one of the pair of electrodes is disposed inside the reactor.
リアクター９の一端にはマスフロー２を介してプラズマ粒子発生原料ガスタンク１が接続されている。図１に示す例では２つのプラズマ粒子発生原料ガスタンク１がリアクター９に接続されているが、該原料ガスタンク１の数は該原料ガスの構成成分数によって変更できる。プラズマ粒子発生原料ガスタンク１から供給されるプラズマ粒子発生原料ガスの流量はマスフロー２を用いて制御される。リアクター９の他端はプラズマ粒子照射部７に接続されている。さらにプラズマ粒子照射部７は生成物用タンク８に接続されている。生成物を一時保管する必要が無ければ、生成物用タンク８は必ずしも必要ではなく、生成した一酸化炭素が他の合成反応原料として供給できるようにプラズマ粒子照射部７を他の反応器に接続してもよい。 A plasma particle generating raw material gas tank 1 is connected to one end of the reactor 9 via a mass flow 2. In the example shown in FIG. 1, two plasma particle generating raw material gas tanks 1 are connected to the reactor 9, but the number of the raw material gas tanks 1 can be changed according to the number of constituent components of the raw material gas. The flow rate of the plasma particle generating source gas supplied from the plasma particle generating source gas tank 1 is controlled using the mass flow 2. The other end of the reactor 9 is connected to the plasma particle irradiation unit 7. Further, the plasma particle irradiation unit 7 is connected to a product tank 8. If it is not necessary to temporarily store the product, the product tank 8 is not necessarily required, and the plasma particle irradiation unit 7 is connected to another reactor so that the generated carbon monoxide can be supplied as another synthesis reaction raw material. May be.
プラズマ粒子照射部７の一端にはマスフロー１１を介して二酸化炭素含有原料ガスタンク１０が接続されている。図１に示す例では２つの二酸化炭素含有ガスタンク１０がプラズマ粒子照射部７に接続されているが、該原料ガスタンク１０の数は該原料ガスの構成成分数によって変更できる。二酸化炭素含有原料ガスタンク１０から供給される二酸化炭素含有原料ガスの流量はマスフロー１１を用いて制御される。 A carbon dioxide-containing source gas tank 10 is connected to one end of the plasma particle irradiation unit 7 via a mass flow 11. In the example shown in FIG. 1, two carbon dioxide-containing gas tanks 10 are connected to the plasma particle irradiation unit 7, but the number of source gas tanks 10 can be changed depending on the number of constituent components of the source gas. The flow rate of the carbon dioxide-containing source gas supplied from the carbon dioxide-containing source gas tank 10 is controlled using the mass flow 11.
図２はプラズマ粒子発生装置４の横断面を示す。円筒状の電極６によって円筒状のリアクター（誘電体）９が包囲されている。棒状の電極５は露出しているが、誘電体によって包囲されていてもよい。棒状の電極５が誘電体で包囲された場合、誘電体９は無くてもよい。電極５または６の一方にのみ誘電体が設けられている場合には、誘電体が設けられている電極の対向する側の電極表面から誘電体の表面までの距離を電極間距離ｄとする。両電極５および６に誘電体が設けられている場合、電極間距離ｄは、それらの誘電体の間隙とする。 FIG. 2 shows a cross section of the plasma particle generator 4. A cylindrical reactor (dielectric) 9 is surrounded by a cylindrical electrode 6. The rod-shaped electrode 5 is exposed, but may be surrounded by a dielectric. When the rod-shaped electrode 5 is surrounded by a dielectric, the dielectric 9 may be omitted. When a dielectric is provided only on one of the electrodes 5 or 6, the distance from the electrode surface on the opposite side of the electrode provided with the dielectric to the surface of the dielectric is defined as an interelectrode distance d. When both the electrodes 5 and 6 are provided with a dielectric, the inter-electrode distance d is a gap between the dielectrics.
電極間距離ｄは５ｍｍ以下に設定されることが好ましい。電極間距離ｄの下限は、プラズマの様子の観察のしやすさの観点で０．５ｍｍ以上とするのが好ましい。電極間距離ｄを前記範囲内とすることにより、安定した放電を保ちながら、電極間の短絡を防ぐことができる。電極５の直径は任意に決められるが、取り扱いのしやすさから１ｍｍ以上１００ｍｍ以下が好ましい。誘電体９の厚さは任意に決められるが、取り扱いのしやすさから０．１ｍｍ以上２ｍｍ以下が好ましい。誘電体９は、電極６に隙間無く接触していることが好ましく、安定して設置できるのであれば電極６に固定する必要はない。 The inter-electrode distance d is preferably set to 5 mm or less. The lower limit of the interelectrode distance d is preferably 0.5 mm or more from the viewpoint of ease of observation of the plasma state. By setting the inter-electrode distance d within the above range, a short circuit between the electrodes can be prevented while maintaining a stable discharge. The diameter of the electrode 5 is arbitrarily determined, but is preferably 1 mm or more and 100 mm or less from the viewpoint of ease of handling. Although the thickness of the dielectric 9 is arbitrarily determined, it is preferably 0.1 mm or more and 2 mm or less from the viewpoint of ease of handling. The dielectric 9 is preferably in contact with the electrode 6 without any gap, and need not be fixed to the electrode 6 as long as it can be stably installed.
電極５および６の素材としては、十分な電気伝導性があれば特に限定はなく、例えば、Ｃｕ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｗ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔなどの金属やステンレス(ＳＵＳ３０４、ＳＵＳ３１６等)を用いることができる。 The material for the electrodes 5 and 6 is not particularly limited as long as it has sufficient electrical conductivity. For example, metals such as Cu, Al, Fe, W, Ag, Au, and Pt, and stainless steel (SUS304, SUS316, etc.) are used. be able to.
誘電体９の素材としては、絶縁体や低導電率の材料であれば特に限定されず、例えば、ソーダガラス、石英ガラス、アルミナなどが挙げられる。誘電体９における導電率の上限は、高電圧印加時の漏電防止の観点で６×１０-4Ｓ／ｍ以下が好ましい。誘電体９として、チタン酸バリウム、Ｐｂ（Ｚｒ，Ｔｉ）Ｏ3、ＲｂＨＳＯ4、Ｓｒ2ＣｅＳ4、Ｋ2ＳｅＯ4などの強誘電体を用いると、放電効率が高くなることから、エネルギー効率上好ましい。 The material of the dielectric 9 is not particularly limited as long as it is an insulator or a material having low conductivity, and examples thereof include soda glass, quartz glass, and alumina. The upper limit of the electrical conductivity of the dielectric 9 is preferably 6 × 10 −4 S / m or less from the viewpoint of preventing leakage during application of a high voltage. When a dielectric such as barium titanate, Pb (Zr, Ti) O 3 , RbHSO 4 , Sr 2 CeS 4 , K 2 SeO 4 is used as the dielectric 9, the discharge efficiency is increased. preferable.
なお、誘電体バリア放電時に測定される分光スペクトルに基づき算出されるプラズマ発光強度が放電効率の指標となる。本明細書中、波長３０５ｎｍから３８５ｎｍまでの分光スペクトルのピーク面積の合計をプラズマ発光強度とする。 Note that the plasma emission intensity calculated based on the spectral spectrum measured during dielectric barrier discharge is an indicator of discharge efficiency. In this specification, the sum of the peak areas of spectral spectra from wavelengths 305 nm to 385 nm is defined as plasma emission intensity.
プラズマ粒子発生装置として誘電体バリア放電によるプラズマ粒子発生装置を用いた場合、高周波電源により前記一対の電極間に電圧を印加させる際の周波数は、１ｋＨｚ以上１ＭＨｚ以下であることが好ましく、３ｋＨｚ以上１００ｋＨｚ以下がより好ましい。前記周波数で電圧を印加することにより、エネルギー効率が高く、安定な放電が行えるため、好ましい。 When a plasma particle generator using dielectric barrier discharge is used as the plasma particle generator, the frequency when a voltage is applied between the pair of electrodes by a high frequency power source is preferably 1 kHz or more and 1 MHz or less, and 3 kHz or more and 100 kHz. The following is more preferable. It is preferable to apply a voltage at the frequency because energy efficiency is high and stable discharge can be performed.
以下、本実施形態を実施例及び比較例によってさらに具体的に説明するが、本実施形態はこれらの実施例に限定されない。 Hereinafter, the present embodiment will be described more specifically with reference to examples and comparative examples, but the present embodiment is not limited to these examples.
［実施例１］
誘電体バリア放電によるプラズマ粒子発生装置を有する装置を用いて、二酸化炭素含有原料ガスから一酸化炭素を以下のとおり製造した。該一酸化炭素を製造する装置の構成及び手順は以下のとおりとした。
[Example 1]
Carbon monoxide was produced from the carbon dioxide-containing source gas as follows using an apparatus having a plasma particle generator by dielectric barrier discharge. The configuration and procedure of the apparatus for producing the carbon monoxide were as follows.
〔製造装置〕
一酸化炭素を製造する装置の構成は図１に示すとおり、プラズマ粒子を発生させるプラズマ粒子発生装置４と、プラズマ粒子と二酸化炭素含有ガスとを接触させるプラズマ粒子照射部７と、を備える構成とした。プラズマ粒子発生装置４は、円筒形の同軸型電極リアクター９と、前記リアクター９の外表面を覆うように配置された電極６と、前記リアクター９内部の中央に配置された電極５と、前記電極５および６に接続された高周波電源３と、を備える装置とした。前記リアクター９にはプラズマ粒子発生原料ガスタンク１がマスフロー２を介して接続されている構成とした。前記プラズマ粒子照射部７には二酸化炭素含有原料ガスを供給する原料ガスタンク１０がマスフロー１１を介して接続されている構成とした。
〔manufacturing device〕
As shown in FIG. 1, the structure of the apparatus for producing carbon monoxide includes a plasma particle generating apparatus 4 that generates plasma particles, and a plasma particle irradiation unit 7 that brings the plasma particles into contact with the carbon dioxide-containing gas. did. The plasma particle generator 4 includes a cylindrical coaxial electrode reactor 9, an electrode 6 disposed so as to cover the outer surface of the reactor 9, an electrode 5 disposed in the center of the reactor 9, and the electrode And a high-frequency power source 3 connected to 5 and 6. A plasma particle generating raw material gas tank 1 is connected to the reactor 9 via a mass flow 2. A source gas tank 10 for supplying a carbon dioxide-containing source gas is connected to the plasma particle irradiation unit 7 via a mass flow 11.
内部電極（電極５）としては直径６ｍｍのＳＵＳ３１６製の棒を用いた。内部電極用の誘電体は設置しなかった。リアクター９としては内径１ｃｍ、厚さ１．５ｍｍの石英ガラス管を用いた。該リアクター９は外部電極（電極６）用の誘電体を兼ねた。このときの電極間距離ｄ（電極５と誘電体との距離）は２ｍｍであった。外部電極としては幅２ｃｍのアルミニウム箔を用いた。該アルミニウム箔（外部電極）を前記石英ガラス管（リアクター９）外表面に巻き付けた。プラズマ粒子照射部７はリアクター９と同じ素材を用いており、Ｙ字管の形状であった。Ｙ字管のそれぞれの管の角度は１２０度であり、プラズマ粒子発生装置は、Ｙ字管の接合部から０．５ｍｍ離れた場所に設置した。 As the internal electrode (electrode 5), a SUS316 rod having a diameter of 6 mm was used. No dielectric for the internal electrode was installed. As the reactor 9, a quartz glass tube having an inner diameter of 1 cm and a thickness of 1.5 mm was used. The reactor 9 also served as a dielectric for the external electrode (electrode 6). At this time, the inter-electrode distance d (distance between the electrode 5 and the dielectric) was 2 mm. An aluminum foil with a width of 2 cm was used as the external electrode. The aluminum foil (external electrode) was wound around the outer surface of the quartz glass tube (reactor 9). The plasma particle irradiation unit 7 was made of the same material as the reactor 9 and was in the shape of a Y-shaped tube. The angle of each Y-tube was 120 degrees, and the plasma particle generator was installed at a location 0.5 mm away from the Y-tube junction.
〔原料ガス〕
プラズマ粒子発生原料ガスとしては、Ａｒの含有量が９９．９容量％、Ｎ2の含有量が０．１容量％のガスを用いた。該原料ガスの流量は５０ｃｃ／ｍｉｎとした。
[Raw gas]
As the plasma particle generating raw material gas, a gas having an Ar content of 99.9% by volume and an N 2 content of 0.1% by volume was used. The flow rate of the source gas was 50 cc / min.
二酸化炭素含有原料ガスとしてはＣＯ2が９９．９容量％、Ｎ2の含有量が０．１容量％のガスを用いた。該原料ガスの流量は５０ｃｃ／ｍｉｎとした。 As the carbon dioxide-containing source gas, a gas having 99.9% by volume of CO 2 and 0.1% by volume of N 2 was used. The flow rate of the source gas was 50 cc / min.
〔一酸化炭素の製造〕
プラズマ粒子発生原料ガスを、該原料ガスタンク１からマスフロー２を介してプラズマ粒子発生装置４に供給した。プラズマ粒子発生装置４において、高周波電源３により、電極５と電極６との間に電圧を印加して誘電体バリア放電を行うことによりプラズマ粒子を発生させた。印加した電圧は±４ｋＶの正弦波であり、周波数は４０ｋＨｚであった。
[Production of carbon monoxide]
The plasma particle generating raw material gas was supplied from the raw material gas tank 1 to the plasma particle generating device 4 via the mass flow 2. In the plasma particle generator 4, plasma particles were generated by performing a dielectric barrier discharge by applying a voltage between the electrode 5 and the electrode 6 by the high frequency power source 3. The applied voltage was a sine wave of ± 4 kV, and the frequency was 40 kHz.
プラズマ粒子照射部７において、前記発生したプラズマ粒子と二酸化炭素含有原料ガスとを接触させて、一酸化炭素を含有する生成ガスを得た。該一酸化炭素の製造時間は、合計１時間であった。 In the plasma particle irradiation part 7, the generated plasma particles and the carbon dioxide-containing source gas were brought into contact with each other to obtain a product gas containing carbon monoxide. The production time of the carbon monoxide was 1 hour in total.
生成ガスを、ガスクロマトグラフィーにより分析した。分析に用いたガスクロマトグラフィーは島津製作所社製の「ＧＣ−２０１０ｐｌｕｓ」（商品名）とした。カラムは信和化工株式会社製の「ＳＨＩＮＣＡＲＢＯＮ ＳＴ」（商品名）［内径３ｍｍ、長さ６ｍ］を用いた。サンプリングラインの温度は１５０℃に保持し、サンプルガス量は１ｍＬとした。キャリアガスはＨｅとし、カラム流量は３０ｍＬ／分とした。カラムの昇温プログラムは、分析開始から４分間は９０℃に保持、その後１０℃／分で２００℃まで昇温した後、２００℃で１５分保持した。 The product gas was analyzed by gas chromatography. The gas chromatography used for the analysis was “GC-2010plus” (trade name) manufactured by Shimadzu Corporation. The column used was “SHINCARBON ST” (trade name) [inner diameter: 3 mm, length: 6 m] manufactured by Shinwa Kako Co., Ltd. The temperature of the sampling line was maintained at 150 ° C., and the amount of sample gas was 1 mL. The carrier gas was He and the column flow rate was 30 mL / min. The column temperature raising program was maintained at 90 ° C. for 4 minutes from the start of analysis, then heated to 200 ° C. at 10 ° C./min, and then held at 200 ° C. for 15 minutes.
このようにして生成ガスの分析を行った結果、炭素含有物としては、ＣＯ選択率は１００％であり、ＣＯ2の転化率は１１．２％であった。 As a result of analyzing the product gas in this way, the carbon selectivity was 100% for the carbon-containing material, and the CO 2 conversion was 11.2%.
［実施例２］
プラズマ粒子発生原料ガスとして、Ｎ2の含有量が９９．９容量％、Ａｒの含有量が０．１容量％のガスを用い、誘電体バリア放電における印加電圧を±６ｋＶとした以外は、実施例１と同様にして一酸化炭素を製造した。実施例１と同様にして生成ガスの分析を行った結果、炭素含有物としては、ＣＯ選択率は１００％、ＣＯ2の転化率は１１．６％であった。
[Example 2]
As the plasma particle generating raw material gas, a gas having an N 2 content of 99.9% by volume and an Ar content of 0.1% by volume was used, and the applied voltage in the dielectric barrier discharge was changed to ± 6 kV. Carbon monoxide was produced in the same manner as in Example 1. As a result of analyzing the product gas in the same manner as in Example 1, the carbon selectivity was 100% for CO selectivity and 11.6% for CO 2 conversion.
［実施例３］
二酸化炭素含有原料ガスとして、ＣＯ2の含有量が５０容量％、Ｎ2の含有量が５０容量％のガスを用いた以外は、実施例１と同様にして一酸化炭素を製造した。実施例１と同様にして生成ガスの分析を行った結果、炭素含有物としては、ＣＯ選択率は１００％、ＣＯ2の転化率は７．２％であった。
[Example 3]
Carbon monoxide was produced in the same manner as in Example 1 except that a gas containing 50% by volume of CO 2 and 50% by volume of N 2 was used as the carbon dioxide-containing source gas. As a result of analyzing the product gas in the same manner as in Example 1, the carbon selectivity was 100% for CO selectivity and 7.2% for CO 2 conversion.
［実施例４］
一酸化炭素の製造時間を合計５０時間とした以外は、実施例１と同様の条件で一酸化炭素を製造した。実施例１と同様にして生成ガスの分析を行った結果、炭素含有物としては、ＣＯ選択率は１００％、ＣＯ2の転化率は１１．２％であり、ＣＯ選択率およびＣＯ2の転化率の低下は見られなかった。
[Example 4]
Carbon monoxide was produced under the same conditions as in Example 1 except that the production time of carbon monoxide was 50 hours in total. The product gas was analyzed in the same manner as in Example 1. As a result, the carbon-containing material had a CO selectivity of 100% and a CO 2 conversion of 11.2%. The CO selectivity and CO 2 conversion were as follows. There was no decrease in rate.
［実施例５］
二酸化炭素含有原料ガスとして、ＣＯ2の含有量が５０容量％、Ｎ2の含有量が４９．５容量％、Ｈ2Ｓの含有量が０．５容量％のガスを用いた以外は、実施例１と同様にして一酸化炭素を製造した。実施例１と同様にして生成ガスの分析を行った結果、炭素含有物としては、ＣＯ選択率は１００％、ＣＯ2の転化率は６．９％であった。
[Example 5]
Except for using carbon dioxide-containing raw material gas with a CO 2 content of 50% by volume, a N 2 content of 49.5% by volume, and a H 2 S content of 0.5% by volume. Carbon monoxide was produced in the same manner as in Example 1. As a result of analyzing the generated gas in the same manner as in Example 1, the carbon selectivity was 100% for CO selectivity and 6.9% for CO 2 conversion.
１：プラズマ粒子発生原料ガスタンク、２：マスフロー、３：高周波電源、４：プラズマ粒子発生装置、５：内部電極、６：円筒型外部電極、７：プラズマ粒子照射部、８：生成物用タンク、９：円筒形の同軸型電極リアクター（誘電体）、１０：二酸化炭素含有原料ガスタンク、１１：マスフロー 1: plasma particle generation raw material gas tank, 2: mass flow, 3: high frequency power supply, 4: plasma particle generator, 5: internal electrode, 6: cylindrical external electrode, 7: plasma particle irradiation unit, 8: product tank 9: Cylindrical coaxial electrode reactor (dielectric), 10: Carbon dioxide containing raw material gas tank, 11: Mass flow
Claims (7)
前記工程で発生したプラズマ粒子を、二酸化炭素含有原料ガスに接触させることにより、一酸化炭素を含有するガスを生成させる工程を含む一酸化炭素の製造方法。 A step of generating plasma particles from a plasma particle generating raw material gas;
A method for producing carbon monoxide, comprising the step of generating a gas containing carbon monoxide by bringing the plasma particles generated in the step into contact with a carbon dioxide-containing source gas.
プラズマ粒子と二酸化炭素含有原料ガスとを接触させるプラズマ粒子照射部と、を備える、一酸化炭素の製造装置。 A plasma particle generator for generating plasma particles;
An apparatus for producing carbon monoxide, comprising: a plasma particle irradiation unit for bringing plasma particles and carbon dioxide-containing source gas into contact with each other.
一対の電極と、
前記一対の電極の対向する面の少なくとも一方に設けられた誘電体と、
前記一対の電極に接続され、電極間に電圧を印加させる高周波電源と、を備え、
前記一対の電極間で起こる放電によりプラズマ粒子を発生させる装置である、請求項５に記載の一酸化炭素の製造装置。 The plasma particle generator is
A pair of electrodes;
A dielectric provided on at least one of the opposing surfaces of the pair of electrodes;
A high frequency power source connected to the pair of electrodes and applying a voltage between the electrodes,
The apparatus for producing carbon monoxide according to claim 5, which is an apparatus for generating plasma particles by electric discharge occurring between the pair of electrodes.
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|---|---|---|---|---|
| WO2022029880A1 (en) * | 2020-08-04 | 2022-02-10 | 積水化学工業株式会社 | Gas manufacturing device, gas manufacturing system, and gas manufacturing method |
| US20220055901A1 (en) * | 2018-12-03 | 2022-02-24 | C-Tech Innovation Limited | Production of nitrogen oxides |
| WO2023176583A1 (en) | 2022-03-15 | 2023-09-21 | 国立大学法人九州大学 | Method and apparatus for producing synthesis gas containing carbon monoxide |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5663812A (en) * | 1979-10-29 | 1981-05-30 | Agency Of Ind Science & Technol | Production of carbon monoxide |
| JP2001314752A (en) * | 2000-05-12 | 2001-11-13 | Hokushin Ind Inc | Plasma reaction vessel and method for decomposing gas by plasma |
| JP2003027241A (en) * | 2001-07-16 | 2003-01-29 | Korona Kk | Method for converting carbon dioxide to combustible gas by plasma gaseous phase reaction |
| JP2003137503A (en) * | 2001-10-29 | 2003-05-14 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | Method for manufacturing synthetic gas by the use of low-temperature plasma |
| JP2005289773A (en) * | 2004-04-02 | 2005-10-20 | Iseo Ogawa | Method and apparatus for producing carbon monoxide from carbon dioxide |
-
2012
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Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5663812A (en) * | 1979-10-29 | 1981-05-30 | Agency Of Ind Science & Technol | Production of carbon monoxide |
| JP2001314752A (en) * | 2000-05-12 | 2001-11-13 | Hokushin Ind Inc | Plasma reaction vessel and method for decomposing gas by plasma |
| JP2003027241A (en) * | 2001-07-16 | 2003-01-29 | Korona Kk | Method for converting carbon dioxide to combustible gas by plasma gaseous phase reaction |
| JP2003137503A (en) * | 2001-10-29 | 2003-05-14 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | Method for manufacturing synthetic gas by the use of low-temperature plasma |
| JP2005289773A (en) * | 2004-04-02 | 2005-10-20 | Iseo Ogawa | Method and apparatus for producing carbon monoxide from carbon dioxide |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20220055901A1 (en) * | 2018-12-03 | 2022-02-24 | C-Tech Innovation Limited | Production of nitrogen oxides |
| WO2022029880A1 (en) * | 2020-08-04 | 2022-02-10 | 積水化学工業株式会社 | Gas manufacturing device, gas manufacturing system, and gas manufacturing method |
| WO2023176583A1 (en) | 2022-03-15 | 2023-09-21 | 国立大学法人九州大学 | Method and apparatus for producing synthesis gas containing carbon monoxide |
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