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JP2013146942A - Screen printer, and screen printing method - Google Patents

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JP2013146942A JP2012009883A JP2012009883A JP2013146942A JP 2013146942 A JP2013146942 A JP 2013146942A JP 2012009883 A JP2012009883 A JP 2012009883A JP 2012009883 A JP2012009883 A JP 2012009883A JP 2013146942 A JP2013146942 A JP 2013146942A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a screen printer and a screen printing method which can easily and accurately determine positional shift correction values at any time without interrupting a screen printing operation.SOLUTION: While a correction mark Q is located at a second height H2 lower than a first height H1 which is a height of a lower face of a mask 13, the correction mark Q is imaged from the upper side by a downward imaging camera 14a, so as to calculate coordinates (X2, Y2) of the correction mark Q at the position of the second height H2. While the correction mark Q is located at the first height H1, the correction mark Q is imaged from the lower side by an upward imaging camera 14b, so as to calculate coordinates (X1, Y1) of the correction mark Q at the position of the first height H1. Differences (X2-X1, Y2-Y1) between the coordinates of the correction mark Q at the position of the second height H2 and the coordinates of the correction mark Q at the position of the first height H1 are calculated as positional shift correction values (δx, δy).

Description

本発明は、基板と接触させたマスク上でスキージを摺動させて基板に半田等のペーストを印刷するスクリーン印刷機及びスクリーン印刷方法に関するものである。   The present invention relates to a screen printing machine and a screen printing method for printing a paste such as solder on a substrate by sliding a squeegee on a mask in contact with the substrate.

スクリーン印刷機は、基板保持部により保持した基板上の電極に半田等のペーストを印刷する装置であり、基板の電極に対応するパターン孔が形成されたマスクを電極とパターン孔が上下に合致するように位置合わせをしたうえで基板保持部を上昇させて基板をマスクの下面に接触させ、ペーストが供給されたマスク上でスキージを摺動させることによってマスクのパターン孔を介して基板の電極にペーストを転写させるようになっている。   A screen printing machine is a device that prints a paste such as solder on an electrode on a substrate held by a substrate holding unit, and a pattern hole corresponding to the electrode on the substrate is aligned vertically with the electrode and the pattern hole. Then, the substrate holding part is raised and the substrate is brought into contact with the lower surface of the mask, and the squeegee is slid on the mask supplied with the paste to slide the squeegee to the substrate electrode through the mask pattern hole. The paste is transferred.

このようなスクリーン印刷機において、マスクに基板を接触させる前のマスクと基板との上下の位置合わせを行うときには、撮像視野を下方に向けた下方撮像部と撮像視野を上方に向けた上方撮像部を備えたカメラユニットが用いられ、カメラユニットの下方撮像部によって基板に設けられた基板側マークを撮像して算出される基板側マークの位置とカメラユニットの上方撮像部によってマスクに設けられたマスク側マークを撮像して算出されるマスク側マークの位置とに基づいて、基板側マークとマスク側マークが上下に合致するようにマスクに対する基板の位置合わせを行うようにしている(例えば、特許文献1参照)。   In such a screen printing machine, when performing vertical alignment between the mask and the substrate before the substrate is brought into contact with the mask, the lower imaging unit with the imaging field facing downward and the upper imaging unit with the imaging field facing upward The position of the substrate side mark calculated by imaging the substrate side mark provided on the substrate by the lower imaging unit of the camera unit and the mask provided on the mask by the upper imaging unit of the camera unit are used. Based on the position of the mask-side mark calculated by imaging the side mark, the substrate is aligned with the mask so that the substrate-side mark and the mask-side mark coincide vertically (for example, Patent Documents). 1).

ここで、下方撮像部の光軸と上方撮像部の光軸がそれぞれ対応する設計データ上の光軸からずれたり傾いたりしていない場合には、下方撮像部を通して見る基板側マークと上方撮像部を通して見るマスク側マークとの位置関係は実際の位置関係に等しく、これら両マークが上下に合致した状態になるように基板を位置合わせしたうえで基板を上昇させてマスクに接触させれば、基板の電極とマスクのパターン孔とは位置ずれなく一致することになるが、下方撮像部の光軸と上方撮像部の光軸の少なくとも一方が設計データ上の光軸からずれたり傾いたりしていた場合には、下方撮像部を通して見る基板側マークと上方撮像部を通して見るマスク側マークとの位置関係は実際の位置関係とは等しくなく、これら両マークが上下に合致した状態になるように基板を位置合わせしたうえで基板を上昇させてマスクに接触させても基板の電極とマスクのパターン孔とは一致せず、位置ずれが生じてしまうことになる。また、位置合わせした基板をマスクに対して上昇させる際の基板の移動方向が垂直方向から傾いているときにも、同様の位置ずれは生じ得る。   Here, when the optical axis of the lower imaging unit and the optical axis of the upper imaging unit are not deviated or inclined from the optical axes on the corresponding design data, the board-side mark and the upper imaging unit viewed through the lower imaging unit The positional relationship with the mask side mark seen through is equal to the actual positional relationship, and after aligning the substrate so that these marks are aligned vertically, the substrate is raised and brought into contact with the mask. The pattern hole of the mask and the pattern hole of the mask coincide with each other without positional deviation, but at least one of the optical axis of the lower imaging unit and the optical axis of the upper imaging unit is shifted or inclined from the optical axis in the design data In this case, the positional relationship between the substrate-side mark viewed through the lower imaging unit and the mask-side mark viewed through the upper imaging unit is not equal to the actual positional relationship, and the two marks are aligned vertically. It does not match the substrate electrode and the mask pattern holes of even by increasing the substrate is brought into contact with the mask after having aligned the substrate so that, so that the positional displacement occurs. A similar positional shift can also occur when the moving direction of the substrate when the aligned substrate is raised with respect to the mask is inclined from the vertical direction.

このため従来、スクリーン印刷を実行する前には、下方撮像部を通して見る基板側マークと上方撮像部を通して見るマスク側マークとが上下に合致した状態になるように基板を位置合わせしたうえで基板の上昇及びマスクへの接触を行って実際にスクリーン印刷の試し刷りを行い、その結果生じる基板の電極とマスクのパターン孔との間に位置ずれが生じた場合には、その位置ずれ量を位置ずれ校正値として求め、この位置ずれ校正値を用いてマスクと基板の上下方向の位置合わせをするようにしていた。   For this reason, conventionally, before performing screen printing, the substrate is aligned so that the substrate side mark viewed through the lower imaging unit and the mask side mark viewed through the upper imaging unit are aligned vertically, and then the substrate When the screen printing test print is actually performed by raising and contacting the mask, and the resulting positional displacement occurs between the electrode on the substrate and the pattern hole in the mask, the amount of positional displacement is misaligned. Obtained as a calibration value, the mask and the substrate are aligned in the vertical direction using this positional deviation calibration value.

特開2008−36918号公報JP 2008-36918 A

しかしながら、上記従来の位置ずれ校正値を求める手法では、試し刷りを実際に行わなければならないために作業の手間がかかるうえ、試し刷りされるペーストが基板上でにじんで広がっていたりすると正確な位置ずれ校正値を算出しにくくいという問題点があった。また、スクリーン印刷作業そのものを一旦中断する必要があるために基板生産性が低下してしまうという問題点もあった。   However, the above-described conventional method for obtaining the positional deviation calibration value requires a lot of work because trial printing must actually be performed, and if the paste to be trial printed spreads on the substrate, an accurate position is obtained. There was a problem that it was difficult to calculate the deviation calibration value. In addition, since the screen printing operation itself needs to be temporarily interrupted, there is a problem that the substrate productivity is lowered.

そこで本発明は、簡単かつ正確に、しかもスクリーン印刷作業を中断することなく任意のときに位置ずれ校正値を求めることができるスクリーン印刷機及びスクリーン印刷方法を提供することを目的とする。   SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a screen printing machine and a screen printing method capable of obtaining a misregistration calibration value at any time without interrupting screen printing work simply and accurately.

請求項1に記載のスクリーン印刷機は、上面に電極を有した基板を保持する基板保持部と、基板の電極に対応するパターン孔が設けられたマスクと、撮像視野を下方に向けた下方撮像部と、撮像視野を上方に向けた上方撮像部と、下方撮像部により基板に設けられた基板側マークを撮像して算出される基板側マークの位置と上方撮像部によりマスクに設けられたマスク側マークを撮像して算出されるマスク側マークの位置とに基づいてマスクと基板との上下の位置合わせを行ったうえで基板保持部を上昇させて基板をマスクの下面に接触させる基板保持部移動制御部と、基板と接触されたマスク上を摺動し、マスクのパターン孔を介して基板の電極上にペーストを印刷するスキージとを備えたスクリーン印刷機であって、基板保持部に取り付けられ、基板保持部により保持された基板の上面の高さに下方撮像部による上方からの撮像及び上方撮像部による下方からの撮像が可能な校正用マークを位置させた治具部材と、前記校正用マークがマスクの下面の高さである第1の高さより低い第2の高さに位置するように基板保持部の上下方向の位置調節が行われた状態で前記校正用マークが下方撮像部により上方から撮像されて算出される前記校正用マークの第2の高さでの位置の座標と前記校正用マークが第1の高さに位置するように基板保持部の上下方向の位置調節が行われた状態で前記校正用マークが上方撮像部により下方から撮像されて算出される前記校正用マークの第1の高さでの位置の座標との間の水平面内方向の差分を位置ずれ校正値として算出する位置ずれ校正値算出部とを備え、基板保持部移動制御部は、位置ずれ校正値算出部により算出された位置ずれ校正値を用いてマスクと基板との上下の位置合わせを行い、そのうえで基板保持部をマスクに対して上昇させてマスクの下面に基板を接触させる。   The screen printing machine according to claim 1, wherein a substrate holding unit that holds a substrate having an electrode on an upper surface thereof, a mask provided with a pattern hole corresponding to the electrode of the substrate, and a downward imaging with an imaging field of view facing downward Part, an upper imaging unit with the imaging field of view upward, a position of the substrate side mark calculated by imaging the substrate side mark provided on the substrate by the lower imaging unit, and a mask provided on the mask by the upper imaging unit A substrate holding unit that raises and lowers the substrate holding unit based on the position of the mask side mark calculated by imaging the side mark and then raises the substrate holding unit to contact the substrate with the lower surface of the mask A screen printing machine having a movement control unit and a squeegee that slides on a mask in contact with the substrate and prints paste on the electrode of the substrate through the pattern hole of the mask. With A calibration member positioned at a height of the upper surface of the substrate held by the substrate holding unit, and a calibration mark capable of imaging from above by the lower imaging unit and imaging from below by the upper imaging unit, and the calibration The calibration mark is positioned in the lower imaging unit in a state where the vertical position of the substrate holding unit is adjusted so that the mark for use is positioned at a second height lower than the first height which is the height of the lower surface of the mask. By adjusting the position of the substrate holding portion in the vertical direction so that the calibration mark is located at the first height and the coordinates of the position at the second height of the calibration mark calculated by imaging from above are calculated. In this state, the calibration mark is imaged from below by the upper imaging unit, and the difference in the horizontal plane between the coordinates of the position at the first height of the calibration mark is calculated. Position displacement calibration value calculation calculated as a value The substrate holding unit movement control unit performs vertical alignment between the mask and the substrate using the positional deviation calibration value calculated by the positional deviation calibration value calculation unit, and then the substrate holding unit with respect to the mask. The substrate is brought into contact with the lower surface of the mask by raising.

請求項2に記載のスクリーン印刷方法は、上面に電極を有した基板を保持する基板保持部と、基板の電極に対応するパターン孔が設けられたマスクと、撮像視野を下方に向けた下方撮像部と、撮像視野を上方に向けた上方撮像部と、下方撮像部により基板に設けられた基板側マークを撮像して算出される基板側マークの位置と上方撮像部によりマスクに設けられたマスク側マークを撮像して算出されるマスク側マークの位置とに基づいてマスクと基板との上下の位置合わせを行ったうえで基板保持部を上昇させて基板をマスクの下面に接触させる基板保持部移動制御部と、基板と接触されたマスク上を摺動し、マスクのパターン孔を介して基板の電極上にペーストを印刷するスキージと、基板保持部に取り付けられ、基板保持部により保持された基板の上面の高さに下方撮像部による上方からの撮像及び上方撮像部による下方からの撮像が可能な校正用マークを位置させた治具部材とを備えたスクリーン印刷機によるスクリーン印刷方法であって、前記校正用マークがマスクの下面の高さである第1の高さより低い第2の高さに位置するように基板保持部の上下方向の位置調節を行った状態で前記校正用マークを下方撮像部により上方から撮像して前記校正用マークの第2の高さでの位置の座標を算出する工程と、前記校正用マークが第1の高さに位置するように基板保持部の上下方向の位置調節を行った状態で前記校正用マークを上方撮像部により下方から撮像して前記校正用マークの第1の高さでの位置の座標を算出する工程と、算出した前記校正用マークの第2の高さでの位置の座標と前記校正用マークの第1の高さでの位置の座標との間の水平面内方向の差分を位置ずれ校正値として算出する工程と、算出した位置ずれ校正値を用いてマスクと基板との上下の位置合わせを行い、そのうえで基板保持部をマスクに対して上昇させてマスクの下面に基板を接触させる工程と、基板と接触させたマスク上でスキージを摺動させ、マスクのパターン孔を介して基板の電極上にペーストを印刷する工程とを含む。   The screen printing method according to claim 2, wherein a substrate holding portion that holds a substrate having an electrode on an upper surface, a mask provided with a pattern hole corresponding to the electrode on the substrate, and a downward imaging with an imaging field of view facing downward Part, an upper imaging unit with the imaging field of view upward, a position of the substrate side mark calculated by imaging the substrate side mark provided on the substrate by the lower imaging unit, and a mask provided on the mask by the upper imaging unit A substrate holding unit that raises and lowers the substrate holding unit based on the position of the mask side mark calculated by imaging the side mark and then raises the substrate holding unit to contact the substrate with the lower surface of the mask A movement control unit, a squeegee that slides on the mask in contact with the substrate and prints paste on the electrode of the substrate through the pattern hole of the mask, and is attached to the substrate holding unit and is held by the substrate holding unit. A screen printing method using a screen printing machine having a jig member on which a calibration mark capable of being imaged from above by the lower imaging unit and imaged from below by the upper imaging unit is located at the height of the upper surface of the substrate. The calibration mark is adjusted in the vertical direction so that the calibration mark is positioned at a second height lower than the first height which is the height of the lower surface of the mask. And calculating the coordinates of the position of the calibration mark at the second height by the lower imaging unit from above, and the substrate holding unit so that the calibration mark is positioned at the first height. The calibration mark is imaged from below by the upper imaging unit with the vertical position adjusted, and the position coordinates at the first height of the calibration mark are calculated, and the calculated calibration mark The position at the second height of the mark And calculating the difference in the horizontal plane direction between the coordinates of the calibration mark and the coordinates of the position at the first height of the calibration mark as a positional deviation calibration value, and using the calculated positional deviation calibration value, the mask and the substrate The substrate holding part is raised with respect to the mask and the substrate is brought into contact with the lower surface of the mask, and the squeegee is slid on the mask in contact with the substrate to form the pattern hole of the mask. And a step of printing a paste on the electrode of the substrate through the substrate.

本発明では、基板保持部により基板を保持したときの基板の上面の高さに位置して下方撮像部による上方からの撮像と上方撮像部による下方からの撮像が可能な校正用マークが基板保持部とともに昇降する構成とし、マスクの下面の高さである第1の高さより低い第2の高さに位置した校正用マークを下方撮像部により上方から撮像して算出される校正用マークの第2の高さでの位置の座標と、マスクの下面の高さである第1の高さに位置した校正用マークを上方撮像部により下方から撮像して算出される校正用マークの第1の高さでの位置の座標との間の水平面内方向の差分を位置ずれ校正値として算出するようになっているので、簡単かつ正確に、しかもスクリーン印刷作業を中断することなく任意のときに位置ずれ校正値を求めることができる。   In the present invention, a calibration mark that is located at the height of the upper surface of the substrate when the substrate is held by the substrate holding unit and can be imaged from above by the lower imaging unit and from below by the upper imaging unit is held by the substrate. The calibration mark is calculated by imaging the calibration mark located at the second height lower than the first height, which is the height of the lower surface of the mask, from above by the lower imaging unit. The first coordinate of the calibration mark calculated by imaging the coordinate of the position at the height of 2 and the calibration mark located at the first height which is the height of the lower surface of the mask from below by the upper imaging unit. The difference in the horizontal plane direction from the coordinates of the position at the height is calculated as the position deviation calibration value, so it can be easily and accurately positioned at any time without interrupting the screen printing operation. Obtaining the deviation calibration value It can be.

本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷機の側面図The side view of the screen printer in one embodiment of the present invention 本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷機の部分平面図The partial top view of the screen printer in one embodiment of this invention 本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷機による位置ずれ校正値の算出作業の実行手順を示すフローチャートThe flowchart which shows the execution procedure of the calculation operation | work of the position offset calibration value by the screen printer in one embodiment of this invention 本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷機の要部の斜視図The perspective view of the principal part of the screen printer in one embodiment of this invention 本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷機の要部の斜視図The perspective view of the principal part of the screen printer in one embodiment of this invention (a)(b)(c)本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷機の位置ずれ校正値を求める手順を説明する図(A) (b) (c) The figure explaining the procedure which calculates | requires the position shift calibration value of the screen printer in one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷機の位置ずれ校正値を求める手順を説明する図The figure explaining the procedure which calculates | requires the position shift calibration value of the screen printer in one embodiment of this invention. (a)(b)本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷機の位置ずれ校正値を求める手順を説明する図(A) (b) The figure explaining the procedure which calculates | requires the position shift calibration value of the screen printer in one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷機によるスクリーン印刷作業の実行手順を示すフローチャートThe flowchart which shows the execution procedure of the screen printing operation by the screen printer in one embodiment of this invention (a)(b)本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷機によりスクリーン印刷を行う手順を説明する図(A) (b) The figure explaining the procedure which performs screen printing with the screen printer in one embodiment of this invention (a)(b)本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷機が備える治具部材の他の形態を示す一部断面側面図(A) (b) The partial cross section side view which shows the other form of the jig | tool member with which the screen printer in one embodiment of this invention is provided.

以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図1及び図2において、スクリーン印刷機1は、上面に多数の電極2aを有した基板2を搬入及び位置決めし、その基板2の電極2aのそれぞれに半田等のペーストPtをスクリーン印刷するスクリーン印刷作業を実行する装置であり、基台10に設けられた基板保持ユニット移動機構11、基板保持ユニット移動機構11によって移動される基板保持ユニット12、基板保持ユニット12の上方に設けられたマスク13、マスク13の下方を移動自在に設けられたカメラユニット14、マスク13の上方を移動自在に設けられたスキージユニット15及びスクリーン印刷機1の各部の作動制御を行う制御装置16を備えている。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 and 2, a screen printing machine 1 carries in and positions a substrate 2 having a large number of electrodes 2a on the upper surface, and screen-prints a paste Pt such as solder on each of the electrodes 2a of the substrate 2. A device for performing work, a substrate holding unit moving mechanism 11 provided on the base 10, a substrate holding unit 12 moved by the substrate holding unit moving mechanism 11, a mask 13 provided above the substrate holding unit 12, A camera unit 14 provided movably below the mask 13, a squeegee unit 15 provided movably above the mask 13, and a control device 16 that controls the operation of each part of the screen printer 1.

このスクリーン印刷機1において、マスク13は矩形のマスク枠13wによって四辺が支持された金属板から成り、その中央部には基板2の電極2aに対応する多数のパターン孔13hが設けられている。マスク13は基板保持ユニット12の上方に設置された図示しないマスクホルダによってマスク枠13wが下方から支持されて水平姿勢に保持されており、その下面は基台10からの高さが第1の高さH1の水平面W1(図1)内に位置している。   In this screen printing machine 1, the mask 13 is made of a metal plate having four sides supported by a rectangular mask frame 13w, and a large number of pattern holes 13h corresponding to the electrodes 2a of the substrate 2 are provided at the center thereof. The mask 13 is held in a horizontal posture with a mask frame 13w supported from below by a mask holder (not shown) installed above the substrate holding unit 12, and the lower surface of the mask 13 from the base 10 has a first height. It is located in the horizontal plane W1 (FIG. 1) of the height H1.

図1において、基板保持ユニット12は、基板2を保持する基板保持部として機能するものであり、基台10に対して昇降自在に設けられたベース部12a、ベース部12aに取り付けられて水平面内の一の方向であるX軸方向(図1では紙面に垂直な方向、図2では紙面の左右方向)に基板2を搬送するコンベア12b、コンベア12bによって所定の作業位置に搬送された基板2の下面を下方から支持する下受け部材12c、下受け部材12cを昇降させる基板昇降シリンダ12d及び基板昇降シリンダ12dによって押し上げられた基板2を基板2の搬送方向(X軸方向)と直交する水平面内方向(Y軸方向とする)からクランプして保持する一対のクランプ部材12eを有して成る。コンベア12bによる基板2の搬送動作、基板昇降シリンダ12dによる基板2の昇降動作及び一対のクランプ部材12eによる基板2のクランプ動作は制御装置16によって制御される。なお、クランプ部材12eによってクランプされた状態の基板2はコンベア12bの上面から離間し、上面はクランプ部材12eの上面と同じ高さとなる(図1参照)。   In FIG. 1, a substrate holding unit 12 functions as a substrate holding unit for holding a substrate 2, and is attached to a base portion 12a and a base portion 12a that can be moved up and down with respect to a base 10, and within a horizontal plane. Of the substrate 2 transported to a predetermined work position by the conveyor 12b, the conveyor 12b transporting the substrate 2 in the X-axis direction (the direction perpendicular to the paper surface in FIG. 1, the left-right direction of the paper surface in FIG. 2). A lower receiving member 12c that supports the lower surface from below, a substrate lifting cylinder 12d that lifts and lowers the lower receiving member 12c, and a substrate 2 pushed up by the substrate lifting cylinder 12d in a horizontal plane direction orthogonal to the transport direction (X-axis direction) of the substrate 2 It has a pair of clamp members 12e that are clamped and held from the Y axis direction. The control device 16 controls the transport operation of the substrate 2 by the conveyor 12b, the lift operation of the substrate 2 by the substrate lift cylinder 12d, and the clamp operation of the substrate 2 by the pair of clamp members 12e. In addition, the board | substrate 2 of the state clamped by the clamp member 12e leaves | separates from the upper surface of the conveyor 12b, and an upper surface becomes the same height as the upper surface of the clamp member 12e (refer FIG. 1).

基板保持ユニット移動機構11はXYZロボットから成り、制御装置16によって作動制御されて基板保持ユニット12を水平面内で移動(回転も含む)させるとともに、基板保持ユニット12を、クランプ部材12eの上面が高さH1(マスク13の下面の高さ)の水平面W1内に位置する「上方位置」と、高さH1よりも低い第2の高さH2の水平面W2(図1)内に位置する「下方位置」との間で上下方向(Z軸方向)に移動させる。   The substrate holding unit moving mechanism 11 is composed of an XYZ robot. The operation of the substrate holding unit 11 is controlled by the control device 16 to move the substrate holding unit 12 in a horizontal plane (including rotation), and the upper surface of the clamp member 12e is raised. An “upward position” located in a horizontal plane W1 having a height H1 (the height of the lower surface of the mask 13) and a “lower position” located in a horizontal plane W2 (FIG. 1) having a second height H2 lower than the height H1. In the vertical direction (Z-axis direction).

図1及び図2において、カメラユニット14は撮像視野を下方に向けた下方撮像部としての下方撮像カメラ14aと、撮像視野を上方に向けた上方撮像部としての上方撮像カメラ14bを備えて成る。基台10には、図2に示すように、Y軸方向に延びて設けられたY軸ビーム21a、X軸方向に延びてY軸ビーム21a上をY軸方向に移動自在に設けられたX軸ビーム21b、X軸ビーム21b上をX軸方向に移動自在に設けられた移動ステージ21cから成るカメラユニット移動テーブル21が設けられており、カメラユニット14はカメラユニット移動テーブル21の移動ステージ21cに取り付けられている。   1 and 2, the camera unit 14 includes a lower imaging camera 14a as a lower imaging unit with an imaging field of view directed downward, and an upper imaging camera 14b as an upper imaging unit with an imaging field of view directed upward. As shown in FIG. 2, the base 10 has a Y-axis beam 21a provided extending in the Y-axis direction, and an X provided extending in the X-axis direction and movable on the Y-axis beam 21a in the Y-axis direction. A camera unit moving table 21 including a moving stage 21c provided to be movable in the X-axis direction on the axial beam 21b and the X-axis beam 21b is provided, and the camera unit 14 is provided on the moving stage 21c of the camera unit moving table 21. It is attached.

制御装置16によって作動制御がなされるカメラユニット移動機構22(図1)は、Y軸ビーム21aに対するX軸ビーム21bのY軸方向への移動とX軸ビーム21bに対する移動ステージ21cのX軸方向への移動とを組み合わせることによって、第1の高さH1と第2の高さH2の間の第3の高さH3の水平面W3(図1)内でカメラユニット14を移動させる。   The camera unit moving mechanism 22 (FIG. 1) whose operation is controlled by the control device 16 moves the X-axis beam 21b in the Y-axis direction relative to the Y-axis beam 21a and moves the moving stage 21c relative to the X-axis beam 21b in the X-axis direction. The camera unit 14 is moved in a horizontal plane W3 (FIG. 1) having a third height H3 between the first height H1 and the second height H2.

下方撮像カメラ14aの撮像動作及び上方撮像カメラ14bの撮像動作は制御装置16によって制御され、下方撮像カメラ14aの撮像動作によって得られた画像データ及び上方撮像カメラ14bの撮像動作によって得られた画像データは制御装置16に送られて制御装置16の画像認識部16a(図1)において画像認識される。   The imaging operation of the lower imaging camera 14a and the imaging operation of the upper imaging camera 14b are controlled by the control device 16, and image data obtained by the imaging operation of the lower imaging camera 14a and image data obtained by the imaging operation of the upper imaging camera 14b. Is sent to the control device 16 and is recognized by the image recognition unit 16a (FIG. 1) of the control device 16.

図1において、スキージユニット15は、図示しない直交テーブル機構及びそのアクチュエータから成るスキージユニット移動機構15Mの作動によってマスク13の上方を水平面内方向(図1の紙面の左右方向)に移動自在なベース部15aの下方に、ベース部15aの移動方向に対向して設けられた2つのスキージ15bを備えた構成を有しており、各スキージ15bは、ベース部15aに取り付けられた空圧シリンダ15cによってそれぞれ独立してベース部15aの下方を昇降されるようになっている。スキージユニット移動機構15Mの作動制御及び各空圧シリンダ15cの作動によるスキージ15bの昇降制御は制御装置16によってなされる。   In FIG. 1, a squeegee unit 15 is a base portion that is movable in the horizontal plane direction (left and right direction in FIG. 1) above a mask 13 by the operation of a squeegee unit moving mechanism 15M comprising an orthogonal table mechanism (not shown) and its actuator. Each squeegee 15b is provided by a pneumatic cylinder 15c attached to the base portion 15a. The squeegee 15b is provided with two squeegees 15b provided opposite to the moving direction of the base portion 15a. The lower part of the base part 15a is raised and lowered independently. The control device 16 controls the operation of the squeegee unit moving mechanism 15M and the elevation control of the squeegee 15b by the operation of each pneumatic cylinder 15c.

図1及び図2に示すように、基板保持ユニット12を構成する一方のクランプ部材12eには、そのクランプ部材12eの外側(基板2をクランプする側とは反対の側)に水平方向に延び、下面に校正用マークQを備えた透明材料(例えばガラス材料)から成る治具部材30が取り付けられている。治具部材30の下面はクランプ部材12eの上面と同じ高さであるため、クランプ部材12eによって基板2が保持された状態では、クランプ部材12eの上面、基板2の上面及び校正用マークQは同じ高さに位置しており、基板保持ユニット移動機構11によって基板保持ユニット12がカメラユニット14の移動高さである第3の高さH3の水平面W3を超えて昇降されると、これに伴って校正用マークQも第3の高さH3を超えて昇降することになる。したがって校正用マークQは、治具部材30が透明材料からなることも相俟って、下方撮像カメラ14aによる上方からの撮像及び上方撮像カメラ14bによる下方からの撮像が可能である。   As shown in FIGS. 1 and 2, one clamp member 12e constituting the substrate holding unit 12 extends in the horizontal direction outside the clamp member 12e (the side opposite to the side that clamps the substrate 2). A jig member 30 made of a transparent material (for example, a glass material) having a calibration mark Q on the lower surface is attached. Since the lower surface of the jig member 30 is the same height as the upper surface of the clamp member 12e, the upper surface of the clamp member 12e, the upper surface of the substrate 2, and the calibration mark Q are the same when the substrate 2 is held by the clamp member 12e. When the substrate holding unit 12 is moved up and down beyond the horizontal plane W3 of the third height H3, which is the moving height of the camera unit 14, by the substrate holding unit moving mechanism 11, the substrate holding unit moving mechanism 11 moves up and down. The calibration mark Q also moves up and down beyond the third height H3. Accordingly, the calibration mark Q can be imaged from above with the lower imaging camera 14a and imaged from below with the upper imaging camera 14b, in combination with the jig member 30 made of a transparent material.

すなわち本実施の形態において、治具部材30は、基板保持ユニット12に取り付けられ、基板保持ユニット12により保持された基板2の上面の高さに下方撮像カメラ14aによる上方からの撮像及び上方撮像カメラ14bによる下方からの撮像が可能な校正用マークQを位置させたものとなっている。   That is, in the present embodiment, the jig member 30 is attached to the substrate holding unit 12 and is imaged from above by the lower imaging camera 14a and the upper imaging camera at the height of the upper surface of the substrate 2 held by the substrate holding unit 12. A calibration mark Q that can be imaged from below by 14b is positioned.

このような構成のスクリーン印刷機1では、基板2にペーストPtをスクリーン印刷するスクリーン印刷作業を行う前に、図3のフローチャートに示す手順により位置ずれ校正値の算出を行う。ここで算出する位置ずれ校正値は、後述するスクリーン印刷作業において、マスク13に対して基板2を上下に位置合わせする際に用いるものであり、下方撮像カメラ14aの光軸J1と上方撮像カメラ14bの光軸J2の少なくとも一方が設計データ上の光軸J1,J2からずれたり傾いたりしている場合や、基板保持ユニット12の昇降時の移動軌道が垂直方向から傾いているとき(すなわち、基板2をマスク13に対して上昇させる際の基板2の移動軌道が垂直方向から傾いているとき)であっても、基板2の電極2aとマスク13のパターン孔13hとを位置ずれなく一致させることができるようにするものである。   In the screen printing machine 1 having such a configuration, before the screen printing operation for screen-printing the paste Pt on the substrate 2, the misalignment calibration value is calculated according to the procedure shown in the flowchart of FIG. The positional deviation calibration value calculated here is used when the substrate 2 is vertically aligned with respect to the mask 13 in the screen printing operation described later. The optical axis J1 of the lower imaging camera 14a and the upper imaging camera 14b are used. When at least one of the optical axes J2 is deviated from or tilted with respect to the optical axes J1 and J2 in the design data, or when the moving track of the substrate holding unit 12 is tilted from the vertical direction (that is, the substrate 2), the electrode 2a of the substrate 2 and the pattern hole 13h of the mask 13 are aligned with each other without misalignment. Is to be able to.

制御装置16は、図4に示す、第3の高さH3の水平面W3内に定めた校正値算出時カメラ位置Csの座標(Xcs,Ycs,H3)と、この校正値算出時カメラ位置Csの直下の高さH2の水平面W2内に位置する下方基準位置SLの座標(Xcs,Ycs,H2)を記憶部16b(図1)に記憶している。また、制御装置16は、図5に示す、第1のマスク側マークMaの直下の高さH3の水平面W3内に位置する第1の位置合わせ時カメラ位置Caの座標(Xca,Yca,H3)及び第2のマスク側マークMbの直下の高さH3の水平面W3内に位置する第2の位置合わせ時カメラ位置Cbの座標(Xcb,Ycb,H3)を記憶部16bに記憶している。   The control device 16 shows the coordinates (Xcs, Ycs, H3) of the calibration position calculation camera position Cs determined in the horizontal plane W3 of the third height H3 shown in FIG. 4 and the calibration value calculation camera position Cs. The coordinates (Xcs, Ycs, H2) of the lower reference position SL located in the horizontal plane W2 having a height H2 immediately below are stored in the storage unit 16b (FIG. 1). Further, the control device 16 has the coordinates (Xca, Yca, H3) of the first positioning camera position Ca located in the horizontal plane W3 having a height H3 immediately below the first mask side mark Ma shown in FIG. The coordinates (Xcb, Ycb, H3) of the second alignment camera position Cb located in the horizontal plane W3 having a height H3 immediately below the second mask side mark Mb are stored in the storage unit 16b.

制御装置16は、位置ずれ校正値を求めるときには、先ず、図6(a)に示すように、基板保持ユニット移動機構11の作動制御を行って、治具部材30に設けられた校正用マークQが上記下方基準位置SLに位置するように基板保持ユニット12の位置調整を行う(図3に示すステップST1の基板保持ユニット位置調整工程)。次いで、カメラユニット移動機構22の作動制御を行って、下方撮像カメラ14aを下方基準位置SLの上方位置である校正値算出時カメラ位置Csに進出させたうえで(図3に示すステップST2の下方撮像カメラ進出工程)、下方撮像カメラ14aにより下方基準位置SLに位置した校正用マークQを上方から撮像して画像認識を行い(図3に示すステップST3の上方からの撮像・画像認識工程)、校正用マークQの第2の高さH2(下方位置)での位置PQ2のXY座標を「校正用マーク下方位置座標(X2,Y2)」として算出する(図7参照。図3に示すステップST4の校正用マーク下方位置座標算出工程)。   When the controller 16 obtains the position deviation calibration value, first, as shown in FIG. 6A, the control device 16 controls the operation of the substrate holding unit moving mechanism 11 to provide a calibration mark Q provided on the jig member 30. Is adjusted so that is positioned at the lower reference position SL (substrate holding unit position adjusting step of step ST1 shown in FIG. 3). Next, the operation control of the camera unit moving mechanism 22 is performed, and the lower imaging camera 14a is advanced to the camera position Cs when calculating the calibration value, which is an upper position of the lower reference position SL (below step ST2 shown in FIG. 3). Imaging camera advancement process), the calibration mark Q positioned at the lower reference position SL is imaged from above by the lower imaging camera 14a to perform image recognition (imaging and image recognition process from above in step ST3 shown in FIG. 3), The XY coordinates of the position PQ2 at the second height H2 (lower position) of the calibration mark Q are calculated as “calibration mark lower position coordinates (X2, Y2)” (see FIG. 7; step ST4 shown in FIG. 3). Calibration mark lower position coordinate calculation step).

なお、下方撮像カメラ14aによる校正用マークQの撮像時及び上方撮像カメラ14bによる校正用マークQの撮像時には、その焦点は常に治具部材30の下面の高さ(すなわち校正用マークQが設けられている高さ)に合うようにする。   When the calibration mark Q is captured by the lower imaging camera 14a and when the calibration mark Q is captured by the upper imaging camera 14b, the focal point is always the height of the lower surface of the jig member 30 (that is, the calibration mark Q is provided). The height).

制御装置16は、校正用マーク下方位置座標(X2,Y2)を算出したら、図6(b)に示すように、カメラユニット移動機構22の作動制御を行って、下方撮像カメラ14aを校正値算出時カメラ位置Csから退避させたうえで(図3に示すステップST5の下方撮像カメラ退避工程)、基板保持ユニット移動機構11の作動制御を行って基板保持ユニット12を上昇させ、校正用マークQが高さH1の水平面W1内に位置するように基板保持ユニット12の上下方向の位置調整を行う(図3に示すステップST6の基板保持ユニット上昇工程)。ここで、仮に、基板保持ユニット12の昇降時の移動軌道が垂直方向から傾いていないときには、高さH2の水平面W2内に位置していた校正用マークQは、下方基準位置SL(Xcs,Ycs,H2)の直上の位置SH(Xcs,Ycs,H1)に位置することとなる(図4及び図6(a),(b),(c)参照)   After calculating the calibration mark lower position coordinates (X2, Y2), the control device 16 controls the operation of the camera unit moving mechanism 22 and calculates the calibration value of the lower imaging camera 14a as shown in FIG. After retracting from the hour camera position Cs (lower imaging camera retracting step of step ST5 shown in FIG. 3), the substrate holding unit moving mechanism 11 is controlled to raise the substrate holding unit 12, and the calibration mark Q is The vertical position adjustment of the substrate holding unit 12 is performed so as to be positioned within the horizontal plane W1 having the height H1 (the substrate holding unit ascending step of step ST6 shown in FIG. 3). Here, if the movement trajectory when the substrate holding unit 12 is moved up and down is not tilted from the vertical direction, the calibration mark Q located in the horizontal plane W2 at the height H2 is the lower reference position SL (Xcs, Ycs). , H2) is located at a position SH (Xcs, Ycs, H1) immediately above (refer to FIGS. 4 and 6A, 6B, 6C).

制御装置16は、基板保持ユニット12を上昇させて、校正用マークQが高さH1の水平面W1内に位置するようにしたら、上方撮像カメラ14bを校正値算出時カメラ位置Cs(Xcs,Ycs,H3)に進出させる(図3に示すステップST7の上方撮像カメラ進出工程)。そして、上方撮像カメラ14bにより高さH1の水平面W1内に位置した校正用マークQを下方から撮像して画像認識を行い(図3に示すステップST8の下方からの撮像・画像認識工程)、校正用マークQの第1の高さH1(上方位置)での位置PQ1のXY座標を「校正用マーク上方位置座標(X1,Y1)」として算出する(図6(c)及び図7参照。図3に示すステップST9の校正用マーク上方位置座標算出工程)。   When the controller 16 raises the substrate holding unit 12 so that the calibration mark Q is positioned in the horizontal plane W1 having the height H1, the upper imaging camera 14b is moved to the camera position Cs (Xcs, Ycs, H3) is advanced (upward imaging camera advancement step of step ST7 shown in FIG. 3). Then, the upper imaging camera 14b images the calibration mark Q positioned in the horizontal plane W1 having the height H1 from below to perform image recognition (imaging and image recognition process from below in step ST8 shown in FIG. 3), and calibration. The XY coordinates of the position PQ1 at the first height H1 (upper position) of the work mark Q are calculated as “calibration mark upper position coordinates (X1, Y1)” (see FIGS. 6C and 7). (Step 3 of calculating calibration mark upper position coordinates shown in step ST9).

校正用マーク下方位置座標(X2,Y2)は下方撮像カメラ14aを通した画像に基づいて算出されたものであり、校正用マーク上方位置座標(X1,Y1)は上方撮像カメラ14bを通した画像に基づいて算出されるものであるから、下方撮像カメラ14aの光軸J1が設計データ上の光軸J1からずれたり傾いたりしている場合、上方撮像カメラ14bの光軸J2が設計データ上の光軸J2からずれたり傾いたりしている場合、或いは基板保持ユニット12の昇降時の移動軌道が垂直方向から傾いている場合には、両座標(X2,Y2),(X1,Y1)は図7に示すように一致しないことになる。   The calibration mark lower position coordinate (X2, Y2) is calculated based on the image passing through the lower imaging camera 14a, and the calibration mark upper position coordinate (X1, Y1) is the image passing through the upper imaging camera 14b. Therefore, when the optical axis J1 of the lower imaging camera 14a is shifted or inclined from the optical axis J1 on the design data, the optical axis J2 of the upper imaging camera 14b is on the design data. When it is deviated or inclined from the optical axis J2, or when the moving track when the substrate holding unit 12 is moved up and down is inclined from the vertical direction, both coordinates (X2, Y2), (X1, Y1) are shown in the figure. As shown in FIG.

制御装置16は、上記のようにして校正用マーク下方位置座標(X2,Y2)と校正用マーク上方位置座標(X1,Y1)を算出したら、カメラユニット移動機構22の作動制御を行って、上方撮像カメラ14bを校正値算出時カメラ位置Csから退避させる(図3に示すステップST10の上方撮像カメラ退避工程)。そして、位置ずれ校正値算出部16c(図1)において、算出した校正用マーク下方位置座標(X2,Y2)と校正用マーク上方位置座標(X1,Y1)との間の差分(X2−X1,Y2−Y1)を位置ずれ校正値(δx,δy)として算出し(図7参照、その算出した位置ずれ校正値(δx,δy)を記憶部16bに記憶する(図3に示すステップST11の位置ずれ校正値算出・記憶工程)。これにより制御装置16による位置ずれ校正値算出作業は終了する。   After calculating the calibration mark lower position coordinates (X2, Y2) and the calibration mark upper position coordinates (X1, Y1) as described above, the control device 16 controls the operation of the camera unit moving mechanism 22 and moves upward. The imaging camera 14b is retracted from the camera position Cs when calculating the calibration value (upper imaging camera retracting step in step ST10 shown in FIG. 3). Then, the difference (X2−X1, difference) between the calculated calibration mark lower position coordinates (X2, Y2) and the calibration mark upper position coordinates (X1, Y1) in the positional deviation calibration value calculation unit 16c (FIG. 1). Y2-Y1) is calculated as a positional deviation calibration value (δx, δy) (see FIG. 7), and the calculated positional deviation calibration value (δx, δy) is stored in the storage unit 16b (position of step ST11 shown in FIG. 3). Deviation calibration value calculation / storage step) This completes the positional deviation calibration value calculation operation by the control device 16.

次に、上記位置ずれ校正値算出作業が終了したスクリーン印刷機1が基板2にペーストPtをスクリーン印刷するスクリーン印刷作業を行う場合の手順について説明する。   Next, a description will be given of a procedure in the case where the screen printing machine 1 that has completed the above-described misregistration calibration value calculation work performs a screen printing work for screen printing the paste Pt on the substrate 2.

オペレータからの作業開始操作入力を受けた制御装置16は、先ず、スクリーン印刷機1の外部から供給された基板2を基板保持ユニット12のコンベア12bによって搬入し、クランプ部材12eによって基板2をクランプして保持する(図9に示すステップST21の基板搬入保持工程)。   Upon receiving the operation start operation input from the operator, the control device 16 first carries the substrate 2 supplied from the outside of the screen printing machine 1 by the conveyor 12b of the substrate holding unit 12, and clamps the substrate 2 by the clamp member 12e. (Step of loading and holding substrate in step ST21 shown in FIG. 9).

制御装置16は基板2を保持したら、マスク13に対する基板2の位置合わせのためのマスク側マークMa,Mbの位置座標を求める必要があるかどうかの判断を行う(図9に示すステップST22の判断工程。)ここで、制御装置16は、これから行うスクリーン印刷がマスク13の交換後の第1回目のスクリーン印刷である場合、スクリーン印刷機1のオペレータによって設定された条件を満たす場合(例えば、スクリーン印刷を実行した基板2の枚数が所定枚数に達した場合、スクリーン印刷の実働時間が所定の時間に達した場合、1日のスクリーン印刷作業の開始時である場合等)には、マスク側マークMa,Mbの位置座標を求める必要があると判断する。   After holding the substrate 2, the control device 16 determines whether it is necessary to obtain the position coordinates of the mask side marks Ma and Mb for positioning the substrate 2 with respect to the mask 13 (determination in step ST22 shown in FIG. 9). Step) Here, when the screen printing to be performed is the first screen printing after the replacement of the mask 13, the control device 16 satisfies the condition set by the operator of the screen printing machine 1 (for example, the screen printing). When the number of substrates 2 on which printing has been performed reaches a predetermined number, when the actual screen printing time reaches a predetermined time, or when the day of the screen printing operation starts, the mask side mark It is determined that it is necessary to obtain the position coordinates of Ma and Mb.

制御装置16は、上記ステップST22で、マスク側マークMa,Mbの位置座標を求める必要があると判断した場合には、上方撮像カメラ14bを第1の位置合わせ時カメラ位置Caに位置させたうえで、上方撮像カメラ14bにより第1のマスク側マークMaを下方から撮像して画像認識を行うことにより、第1のマスク側マークMaの(高さH1での)位置PMaのXY座標を「第1のマスク側マーク位置座標(XMa,YMa)」(図8(b))として算出するとともに、上方撮像カメラ14bを第2の位置合わせ時カメラ位置Cbに位置させたうえで、上方撮像カメラ14bにより第2のマスク側マークMbを下方から撮像して画像認識を行うことにより、第2のマスク側マークMbの(高さH1での)位置PMbのXY座標を「第2のマスク側マーク位置座標(XMb,YMb)」(図8(b))として算出する(図9に示すステップST23のマスク側マーク位置座標算出工程)。そして、その算出した第1のマスク側マーク位置座標(XMa,YMa)と第2のマスク側マーク位置座標(XMb,YMb)を記憶部16bに記憶する(図9に示すステップST24のマスク側マーク位置座標記憶工程)。   When the control device 16 determines in step ST22 that it is necessary to obtain the position coordinates of the mask side marks Ma and Mb, the control device 16 positions the upper imaging camera 14b at the first alignment camera position Ca. Then, the first mask side mark Ma is imaged from the lower side by the upper imaging camera 14b and image recognition is performed, whereby the XY coordinates of the position PMa (at the height H1) of the first mask side mark Ma are set to “first”. 1 mask side mark position coordinates (XMa, YMa) ”(FIG. 8B), the upper imaging camera 14b is positioned at the second alignment camera position Cb, and then the upper imaging camera 14b. The second mask side mark Mb is picked up from below and image recognition is performed, whereby the XY coordinates of the position PMb (at the height H1) of the second mask side mark Mb are expressed as “ 2 of the mask-side mark position coordinates (XMB, YMB) "is calculated as (FIG 8 (b)) (mask side mark position coordinate calculating step of step ST23 shown in FIG. 9). Then, the calculated first mask side mark position coordinates (XMa, YMa) and second mask side mark position coordinates (XMb, YMb) are stored in the storage unit 16b (mask side mark in step ST24 shown in FIG. 9). Position coordinate storage step).

制御装置16は、第1のマスク側マーク位置座標(XMa,YMa)と第2のマスク側マーク位置座標(XMb,YMb)を算出して記憶したら(或いは、ステップST22でマスク側マークMa,Mbの位置座標を求める必要がないと判断したら)、基板保持ユニット移動機構11の作動制御を行って、図5に示すように、基板保持ユニット12により保持した基板2に設けられた第1の基板側マークmaが第1の位置合わせ時カメラ位置Caのほぼ直下の高さH2の水平面W2内に位置し、かつ第2の基板側マークmbが第2の位置合わせ時カメラ位置Cbのほぼ直下の高さH2の水平面W2内に位置するようにする。   The control device 16 calculates and stores the first mask side mark position coordinates (XMa, YMa) and the second mask side mark position coordinates (XMb, YMb) (or mask side marks Ma, Mb in step ST22). If it is determined that it is not necessary to obtain the position coordinates of the first substrate, the operation of the substrate holding unit moving mechanism 11 is controlled, and the first substrate provided on the substrate 2 held by the substrate holding unit 12 as shown in FIG. The side mark ma is positioned in a horizontal plane W2 having a height H2 substantially directly below the camera position Ca during the first alignment, and the second substrate side mark mb is approximately immediately below the camera position Cb during the second alignment. It lies within a horizontal plane W2 having a height H2.

制御装置16は、上記のようにして第1の基板側マークmaが第1の位置合わせ時カメラ位置Caのほぼ直下の高さH2の水平面W2内に位置し、第2の基板側マークmbが第2の位置合わせ時カメラ位置Cbのほぼ直下の高さH2の水平面W2内に位置するようにしたら、カメラユニット移動機構22の作動制御を行って第1の位置合わせ時カメラ位置Caに下方撮像カメラ14aを位置させ、下方撮像カメラ14aにより第1の基板側マークmaを上方から撮像して画像認識を行うことにより、第1の基板側マークmaの第2の高さH2での位置PmaのXY座標を「第1の基板側マーク位置座標(Xma,Yma)」(図8(a))として算出するとともに、第2の位置合わせ時カメラ位置Cbに下方撮像カメラ14aを位置させ、下方撮像カメラ14aにより第2の基板側マークmbを上方から撮像して画像認識を行うことにより、第2の基板側マークmbの第2の高さH2での位置PmbのXY座標を「第2の基板側マーク位置座標(Xmb,Ymb)」(図8(a))として算出する(図9に示すステップST25の基板側マーク位置座標算出工程)。   As described above, the control device 16 has the first substrate side mark ma positioned in the horizontal plane W2 having a height H2 almost immediately below the camera position Ca at the time of the first alignment, and the second substrate side mark mb is When it is positioned within the horizontal plane W2 having a height H2 almost immediately below the camera position Cb at the time of the second alignment, the camera unit moving mechanism 22 is controlled so as to capture the lower position at the camera position Ca at the time of the first alignment. The camera 14a is positioned, the first substrate side mark ma is imaged from above by the lower imaging camera 14a, and image recognition is performed, whereby the position Pma at the second height H2 of the first substrate side mark ma is determined. The XY coordinates are calculated as “first board side mark position coordinates (Xma, Yma)” (FIG. 8A), and the lower imaging camera 14a is positioned at the second alignment camera position Cb. The second substrate side mark mb is picked up from above by the imaging camera 14a and image recognition is performed, so that the XY coordinates of the position Pmb at the second height H2 of the second substrate side mark mb can be expressed as “second”. Substrate side mark position coordinates (Xmb, Ymb) ”(FIG. 8A) are calculated (substrate side mark position coordinate calculation step of step ST25 shown in FIG. 9).

制御装置16は、第1の基板側マーク位置座標(Xma,Yma)と第2の基板側マーク位置座標(Xmb,Ymb)を算出したら、第1の基板側マーク位置座標(Xma,Yma)と第2の基板側マーク位置座標(Xmb,Ymb)を記憶部16bに記憶した位置ずれ校正値(δx,δy)を用いて校正する(図9に示すステップST26の校正工程)。   When the control device 16 calculates the first substrate-side mark position coordinates (Xma, Yma) and the second substrate-side mark position coordinates (Xmb, Ymb), the first substrate-side mark position coordinates (Xma, Yma) and The second substrate-side mark position coordinates (Xmb, Ymb) are calibrated using the positional deviation calibration values (δx, δy) stored in the storage unit 16b (calibration step in step ST26 shown in FIG. 9).

上記校正は、具体的には、第1の基板側マーク位置座標(Xma,Yma)のX座標から位置ずれ校正値のδxを差し引くとともに、第1の基板側マーク位置座標(Xma,Yma)のY座標から位置ずれ校正値のδyを差し引くことによって第1の基板側マーク位置座標(Xma,Yma)を(Xma−δx,Yma−δy)と校正し、第2の基板側マーク位置座標(Xmb,Ymb)のX座標から位置ずれ校正値のδxを差し引くとともに、第1の基板側マーク位置座標(Xmb,Ymb)のY座標から位置ずれ校正値のδyを差し引くことによって第2の基板側マーク位置座標(Xmb,Ymb)を(Xmb−δx,Ymb−δy)と校正する(図8(a))。   Specifically, the calibration is performed by subtracting δx of the positional deviation calibration value from the X coordinate of the first substrate side mark position coordinate (Xma, Yma) and the first substrate side mark position coordinate (Xma, Yma). The first substrate-side mark position coordinate (Xma, Yma) is calibrated as (Xma-δx, Yma-δy) by subtracting the displacement calibration value δy from the Y coordinate, and the second substrate-side mark position coordinate (Xmb). , Ymb), the second substrate side mark by subtracting the displacement calibration value δx from the X coordinate, and by subtracting the displacement calibration value δy from the Y coordinate of the first substrate side mark position coordinate (Xmb, Ymb). The position coordinates (Xmb, Ymb) are calibrated as (Xmb−δx, Ymb−δy) (FIG. 8A).

制御装置16は、校正後の第1の基板側マーク位置座標(Xma−δx,Yma−δy)と校正後の第2の基板側マーク位置座標(Xmb−δx,Ymb−δy)を求めたら、これら校正後の第1の基板側マーク位置座標(Xma−δx,Yma−δy)及び校正後の第2の基板側マーク位置座標(Xmb−δx,Ymb−δy)と、ステップST23で求めた(或いは記憶部16bに記憶させた)第1のマスク側マーク位置座標(XMa,YMa)及び第2のマスク側マーク位置座標(XMb,YMb)から、第1の基板側マークmaが第1のマスク側マークMaの直下に位置し、かつ第2の基板側マークmbが第2のマスク側マークMbの直下に位置するようにするために必要な基板保持ユニット移動機構11の移動量(X軸方向への移動量、Y軸方向への移動量及びZ軸回りの回転量)を算出する。そして、その算出した移動量で基板保持ユニット12が移動するように基板保持ユニット移動機構11を作動させて、マスク13と基板2の上下の位置合わせを行う(図9に示すステップST27の位置合わせ工程)。   When the controller 16 obtains the first substrate-side mark position coordinates after calibration (Xma-δx, Yma-δy) and the second substrate-side mark position coordinates after calibration (Xmb-δx, Ymb-δy), The first substrate side mark position coordinates after calibration (Xma-δx, Yma-δy) and the second substrate side mark position coordinates after calibration (Xmb-δx, Ymb-δy) are obtained in step ST23 ( Alternatively, from the first mask side mark position coordinates (XMa, YMa) and the second mask side mark position coordinates (XMb, YMb) (stored in the storage unit 16b), the first substrate side mark ma is the first mask. The amount of movement (X-axis direction) of the substrate holding unit moving mechanism 11 required to position the second substrate side mark mb directly below the side mark Ma and to position the second substrate side mark mb directly below the second mask side mark Mb. The amount of travel to The amount of movement in the Y-axis direction and the amount of rotation about the Z-axis) are calculated. Then, the substrate holding unit moving mechanism 11 is operated so that the substrate holding unit 12 moves by the calculated movement amount, and the mask 13 and the substrate 2 are vertically aligned (alignment of step ST27 shown in FIG. 9). Process).

制御装置16は、上記のようにしてマスク13に対する基板2の位置合わせを行ったら、基板保持ユニット移動機構11の作動制御を行い、基板2を保持した状態の基板保持ユニット12をマスク13に対して上昇させることによって、マスク13の下面に基板2を接触させる(図9に示すステップST28の接触工程)。これにより基板2の電極2aとマスク13のパターン孔13hとは一致した状態となる。   When the controller 16 aligns the substrate 2 with respect to the mask 13 as described above, the control device 16 controls the operation of the substrate holding unit moving mechanism 11 so that the substrate holding unit 12 holding the substrate 2 is moved with respect to the mask 13. As a result, the substrate 2 is brought into contact with the lower surface of the mask 13 (contact process in step ST28 shown in FIG. 9). As a result, the electrode 2a of the substrate 2 and the pattern hole 13h of the mask 13 are brought into agreement.

このように本実施の形態において、制御装置16は、下方撮像カメラ14aにより基板2に設けられた両基板側マークma,mbを撮像して算出される両基板側マークma,mbの位置(第1の基板側マーク位置座標(Xma,Yma)及び第2の基板側マーク位置座標(Xmb,Ymb))と、上方撮像カメラ14bによりマスク13に設けられた両マスク側マークMa,Mbを撮像して算出される両マスク側マークMa,Mbの位置(第1のマスク側マーク位置座標(XMa,YMa)及び第2のマスク側マーク位置座標(XMb,YMb))に基づいて(詳細には、位置ずれ校正値(δx、δy)による校正を加えて)マスク13と基板2とを上下に位置合わせさせたうえで基板保持ユニット12を上昇させて基板2をマスク13の下面に接触させる基板保持部移動制御部として機能する。   As described above, in the present embodiment, the control device 16 uses the lower imaging camera 14a to image both the board-side marks ma and mb provided on the board 2 and calculates the positions of the both board-side marks ma and mb (first number). The first substrate side mark position coordinates (Xma, Yma) and the second substrate side mark position coordinates (Xmb, Ymb)) and both mask side marks Ma, Mb provided on the mask 13 are imaged by the upper imaging camera 14b. (The first mask side mark position coordinates (XMa, YMa) and the second mask side mark position coordinates (XMb, YMb)) calculated in detail ( After the mask 13 and the substrate 2 are vertically aligned, the substrate holding unit 12 is moved upward to add the substrate 2 to the lower surface of the mask 13 (with calibration using displacement calibration values (δx, δy)). It functions as a substrate holding unit movement control unit that is brought into contact with the substrate.

制御装置16は、基板2をマスク13に接触させたら、スキージ15bによるスキージングを行って、予めマスク13上に供給されたペーストPtを基板2の電極2aに転写させる(図9に示すステップST29のスキージング工程。図10(a))。   When the control device 16 brings the substrate 2 into contact with the mask 13, the controller 16 performs squeegeeing with the squeegee 15b to transfer the paste Pt previously supplied onto the mask 13 to the electrode 2a of the substrate 2 (step ST29 shown in FIG. 9). Fig. 10 (a)).

このスキージングは、具体的には、スキージユニット15が備える2つのスキージ15bのうちの一方を下降させ、マスク13の上面に当接させた状態を維持したままベース部15aを水平方向(図10(a)中に示す矢印A)に移動させることによって行う。これによりマスク13上でスキージ15bが摺動し、マスク13上のペーストPtはスキージ15bによって掻き寄せられてマスク13のパターン孔13h内に押し込まれ、各基板2の電極2a上に転写される。   Specifically, this squeezing is performed by lowering one of the two squeegees 15b included in the squeegee unit 15 and moving the base portion 15a in the horizontal direction while maintaining the state in contact with the upper surface of the mask 13 (FIG. 10). (A) It moves by moving to the arrow A) shown in the inside. As a result, the squeegee 15b slides on the mask 13, and the paste Pt on the mask 13 is scraped by the squeegee 15b and pushed into the pattern holes 13h of the mask 13, and transferred onto the electrodes 2a of each substrate 2.

このように、本実施の形態において、スキージ15bは、基板2と接触されたマスク13上を摺動し、マスクのパターン孔を介して基板の電極上にペーストを印刷するものとなっている。   Thus, in this embodiment, the squeegee 15b slides on the mask 13 in contact with the substrate 2 and prints the paste on the electrode of the substrate through the pattern hole of the mask.

制御装置16は、スキージングを行って基板2の電極2aにペーストPtを転写させたら、基板保持ユニット移動機構11を作動させて基板保持ユニット12を下降させ、マスク13から基板2を離間させて(図10(b)中に示す矢印B)、版離れを行う(図9に示すステップST30の版離れ工程)。これにより基板2の電極2a上にペーストPtが残留し、基板2にペーストPtが印刷された状態となる(図10(b))。   After squeezing and transferring the paste Pt to the electrode 2 a of the substrate 2, the control device 16 operates the substrate holding unit moving mechanism 11 to lower the substrate holding unit 12 and separate the substrate 2 from the mask 13. (Arrow B shown in FIG. 10B), plate separation is performed (the plate separation step of step ST30 shown in FIG. 9). As a result, the paste Pt remains on the electrode 2a of the substrate 2, and the paste Pt is printed on the substrate 2 (FIG. 10B).

制御装置16は版離れを行ったら、一対のクランプ部材12eによる基板2の保持を解除したうえで(図9に示すステップST31の基板保持解除工程)、基板昇降シリンダ12dにより基板2を下降させてコンベア12b上に下ろし、コンベア12bによって基板2をスクリーン印刷機1の外部に搬出して基板2の1枚当たりのスクリーン印刷作業を終了する(図9に示すステップST32の基板搬出工程)。   After releasing the plate, the control device 16 releases the holding of the substrate 2 by the pair of clamp members 12e (substrate holding releasing process in step ST31 shown in FIG. 9), and lowers the substrate 2 by the substrate lifting cylinder 12d. The substrate 2 is lowered onto the conveyor 12b, and the substrate 2 is carried out of the screen printer 1 by the conveyor 12b to complete the screen printing operation for one substrate 2 (substrate carrying-out process of step ST32 shown in FIG. 9).

以上説明したように、本実施の形態におけるスクリーン印刷機1は、基板保持ユニット12に取り付けられ、基板保持ユニット12により保持された基板2の上面の高さに下方撮像カメラ14aによる上方からの撮像及び上方撮像カメラ14bによる下方からの撮像が可能な校正用マークQを位置させた治具部材30と、校正用マークQがマスク13の下面の高さである第1の高さH1より低い第2の高さH2に位置するように基板保持ユニット12の上下方向の位置調節が行われた状態で校正用マークQが下方撮像カメラ14aにより上方から撮像されて算出される校正用マークQの第2の高さH2での位置PQ2の座標(X2,Y2)と校正用マークQが第1の高さH1に位置するように基板保持ユニット12の上下方向の位置調節が行われた状態で校正用マークQが上方撮像カメラ14bにより下方から撮像されて算出される校正用マークの第1の高さH1での位置PQ1の座標(X1,Y1)との間の差分(水平面内方向の差分)を位置ずれ校正値(δx,δy)として算出する制御装置16の位置ずれ校正値算出部16cを備えており、基板保持部移動制御部としての制御装置16は、位置ずれ校正値算出部16cにより算出された位置ずれ校正値(δx,δy)を用いてマスク13と基板2との上下の位置合わせを行い、そのうえで基板保持ユニット12をマスク13に対して上昇させてマスク13の下面に基板2を接触させるようになっている。   As described above, the screen printing machine 1 according to the present embodiment is attached to the substrate holding unit 12 and images from above with the lower imaging camera 14 a at the height of the upper surface of the substrate 2 held by the substrate holding unit 12. The jig member 30 on which the calibration mark Q that can be imaged from below by the upper imaging camera 14b is positioned, and the calibration mark Q is lower than the first height H1 that is the height of the lower surface of the mask 13. The calibration mark Q is calculated by being imaged from above by the lower imaging camera 14a with the vertical position adjustment of the substrate holding unit 12 performed so as to be positioned at the height H2. The vertical position adjustment of the substrate holding unit 12 is performed so that the coordinates (X2, Y2) of the position PQ2 at the height H2 of 2 and the calibration mark Q are positioned at the first height H1. In this state, the difference (horizontal plane) between the calibration mark Q and the coordinates (X1, Y1) of the position PQ1 at the first height H1 of the calibration mark calculated by being imaged from below by the upper imaging camera 14b. The controller 16 serving as the substrate holding unit movement control unit includes a positional deviation calibration value calculation unit 16c of the control device 16 that calculates the inward difference) as the positional deviation calibration values (δx, δy). Using the positional deviation calibration values (δx, δy) calculated by the value calculation unit 16c, the mask 13 and the substrate 2 are vertically aligned, and then the substrate holding unit 12 is lifted with respect to the mask 13 to mask 13 The substrate 2 is brought into contact with the lower surface of the substrate.

また、本実施の形態におけるスクリーン印刷機1によるスクリーン印刷方法は、上記スクリーン印刷機1によるスクリーン印刷方法であって、校正用マークQがマスク13の下面の高さである第1の高さH1より低い第2の高さH2に位置するように基板保持ユニット12の上下方向の位置調節を行った状態で校正用マークQを下方撮像カメラ14aにより上方から撮像して校正用マークQの第2の高さH2での位置PQ2の座標(X2,Y2)を算出する工程(ステップST4の校正用マーク下方位置座標算出工程)、校正用マークQが第1の高さH1に位置するように基板保持ユニット12の上下方向の位置調節を行った状態で校正用マークQを上方撮像カメラ14bにより下方から撮像して校正用マークQの第1の高さH1での位置PQ1の座標(X1,Y1)を算出する工程(ステップST9の校正用マーク上方位置座標算出工程)、算出した校正用マークQの第2の高さH2での位置PQ2の座標と校正用マークQの第1の高さH1での位置PQ1の座標との間の水平面内方向の差分を位置ずれ校正値(δx,δy)として算出する工程(ステップST11の位置ずれ校正値算出・記憶工程)、算出した位置ずれ校正値(δx,δy)を用いてマスク13と基板2の上下の位置合わせを行い、そのうえで基板保持ユニット12をマスク13に対して上昇させてマスク13の下面に基板2を接触させる工程(ステップST28の接触工程)及び基板2と接触させたマスク13上でスキージ15bを摺動させ、マスク13のパターン孔13hを介して基板2の電極2a上にペーストPtを印刷する工程(スキージング工程)を含むものとなっている。   Further, the screen printing method by the screen printer 1 in the present embodiment is the screen printing method by the screen printer 1, and the first height H1 in which the calibration mark Q is the height of the lower surface of the mask 13. The calibration mark Q is imaged from above by the lower imaging camera 14a while the vertical position of the substrate holding unit 12 is adjusted so as to be positioned at the lower second height H2, and the second calibration mark Q is imaged. The step of calculating the coordinates (X2, Y2) of the position PQ2 at the height H2 (calibration mark lower position coordinate calculation step of step ST4), the substrate so that the calibration mark Q is positioned at the first height H1. The calibration mark Q is imaged from below by the upper imaging camera 14b with the vertical position adjustment of the holding unit 12, and the position P of the calibration mark Q at the first height H1 is obtained. The process of calculating the coordinates (X1, Y1) of 1 (calibration mark upper position coordinate calculation process of step ST9), the coordinates of the calculated position PQ2 at the second height H2 of the calibration mark Q and the calibration mark Q A step of calculating a difference in the horizontal plane direction from the coordinates of the position PQ1 at the first height H1 as a positional deviation calibration value (δx, δy) (a positional deviation calibration value calculation / storage step in step ST11), Using the calculated displacement calibration values (δx, δy), the mask 13 and the substrate 2 are vertically aligned, and then the substrate holding unit 12 is raised with respect to the mask 13 so that the substrate 2 contacts the lower surface of the mask 13. And the squeegee 15b is slid on the mask 13 brought into contact with the substrate 2 and the pace is formed on the electrode 2a of the substrate 2 through the pattern hole 13h of the mask 13. This includes a step (squeezing step) of printing the toner Pt.

本実施の形態におけるスクリーン印刷機1及びスクリーン印刷方法では、基板保持ユニット12により基板2を保持したときの基板2の上面の高さに位置して下方撮像カメラ14aによる上方からの撮像と上方撮像カメラ14bによる下方からの撮像が可能な校正用マークQが基板保持ユニット12とともに昇降する構成とし、マスク13の下面の高さである第1の高さH1より低い第2の高さH2に位置した校正用マークQを下方撮像カメラ14aにより上方から撮像して算出される校正用マークQの第2の高さH2での位置PQ2の座標(X2,Y2)と、マスク13の下面の高さである第1の高さH1に位置した校正用マークQを上方撮像カメラ14bにより下方から撮像して算出される校正用マークQの第1の高さH1での位置PQ1の座標(X1,Y1)との間の水平面内方向の差分を位置ずれ校正値(δx,δy)として算出するようになっているので、簡単かつ正確に、しかもスクリーン印刷作業を中断することなく任意のときに位置ずれ校正値を求めることができる。   In the screen printing machine 1 and the screen printing method according to the present embodiment, imaging from above and imaging by the lower imaging camera 14a located at the height of the upper surface of the substrate 2 when the substrate 2 is held by the substrate holding unit 12. The calibration mark Q that can be imaged from below by the camera 14b is moved up and down together with the substrate holding unit 12, and is positioned at a second height H2 that is lower than the first height H1 that is the height of the lower surface of the mask 13. The coordinates (X2, Y2) of the position PQ2 at the second height H2 of the calibration mark Q calculated by imaging the calibration mark Q from above with the lower imaging camera 14a and the height of the lower surface of the mask 13 The position PQ at the first height H1 of the calibration mark Q calculated by imaging the calibration mark Q positioned at the first height H1 from below with the upper imaging camera 14b. Since the difference in the horizontal plane direction from the coordinate (X1, Y1) of the current position is calculated as the positional deviation calibration value (δx, δy), it is simple and accurate and without interrupting the screen printing operation. A misalignment calibration value can be obtained at any time.

なお、上述の実施の形態では、治具部材30はクランプ部材12eの上面に取り付けられて下面に校正用マークQを備えた透明材料から成るものであったが、治具部材30は、基板保持ユニット12により基板2を保持したときの基板2の上面の高さに位置して下方撮像カメラ14aによる上方からの撮像及び上方撮像カメラ14bによる下方からの撮像が可能な校正用マークを備えていればよい。このため治具部材30は、透明材料からなることを前提に、上面がクランプ部材12eの上面と同じ高さとなるようにクランプ部材12eに取り付けられてその上面に校正用マークQを備えた構成のものであってもよい。   In the above-described embodiment, the jig member 30 is made of a transparent material attached to the upper surface of the clamp member 12e and provided with the calibration mark Q on the lower surface. A calibration mark is provided at the height of the upper surface of the substrate 2 when the substrate 2 is held by the unit 12 and can be imaged from above by the lower imaging camera 14a and imaged from below by the upper imaging camera 14b. That's fine. Therefore, on the assumption that the jig member 30 is made of a transparent material, the jig member 30 is attached to the clamp member 12e so that the upper surface is the same height as the upper surface of the clamp member 12e, and the calibration mark Q is provided on the upper surface. It may be a thing.

或いは、図11(a),(b)に示すように、治具部材30を厚さ方向に貫通したテーパ穴40を有したもの(材料は透明でない方が好ましい)とし、そのテーパ穴40の上下の開口縁(治具部材30の上面と下面のそれぞれに形成される開口縁。円形が好ましいが円形に限られない)のうち相対的に寸法が小さい側の開口縁40aが形成されている面が基板保持ユニット12により基板2を保持したときの基板2の上面の高さ(クランプ部材12eの上面)に位置するようにクランプ部材12eに取り付けられているのであってもよい。この場合、寸法の小さい側の開口縁40aが校正用マークQに相当し、下方撮像カメラ14aによる校正用マークQの撮像時及び上方撮像カメラ14bによる校正用マークQの撮像時には、その焦点が寸法の小さい側の開口縁40aが形成された治具部材30面の高さ(図11(a)では治具部材30の下面30a、図11(b)では治具部材30の上面30b)に合うようにする。   Alternatively, as shown in FIGS. 11A and 11B, the jig member 30 has a tapered hole 40 penetrating in the thickness direction (the material is preferably not transparent). Of the upper and lower opening edges (opening edges formed on the upper surface and the lower surface of the jig member 30, respectively, although a circular shape is preferable but not limited to a circular shape), an opening edge 40a having a relatively small size is formed. The surface may be attached to the clamp member 12e so as to be positioned at the height of the upper surface of the substrate 2 when the substrate 2 is held by the substrate holding unit 12 (the upper surface of the clamp member 12e). In this case, the opening edge 40a on the smaller dimension side corresponds to the calibration mark Q, and the focus is the dimension when the calibration mark Q is imaged by the lower imaging camera 14a and when the calibration mark Q is imaged by the upper imaging camera 14b. Is adjusted to the height of the surface of the jig member 30 on which the small opening edge 40a is formed (the lower surface 30a of the jig member 30 in FIG. 11A and the upper surface 30b of the jig member 30 in FIG. 11B). Like that.

簡単かつ正確に、しかもスクリーン印刷作業を中断することなく任意のときに位置ずれ校正値を求めることができるスクリーン印刷機及びスクリーン印刷方法を提供する。   Provided is a screen printing machine and a screen printing method capable of obtaining a positional deviation calibration value easily and accurately at any time without interrupting the screen printing operation.

1 スクリーン印刷機
2 基板
2a 電極
12 基板保持ユニット(基板保持部)
13 マスク
13h パターン孔
14a 下方撮像カメラ(下方撮像部)
14b 上方撮像カメラ(上方撮像部)
15b スキージ
16 制御装置(基板保持部移動制御部)
16c 位置ずれ校正値算出部
30 治具部材
Q 校正用マーク
Ma 第1のマスク側マーク(マスク側マーク)
Mb 第2のマスク側マーク(マスク側マーク)
H1 第1の高さ
H2 第2の高さ
δx,δy 位置ずれ校正値
ma 第1の基板側マーク(基板側マーク)
mb 第2の基板側マーク(基板側マーク)
Pt ペースト
1 Screen Printer 2 Substrate 2a Electrode 12 Substrate Holding Unit (Substrate Holding Unit)
13 Mask 13h Pattern hole 14a Lower imaging camera (lower imaging part)
14b Upper imaging camera (upper imaging unit)
15b Squeegee 16 control device (substrate holding unit movement control unit)
16c Position shift calibration value calculation unit 30 Jig member Q Calibration mark Ma First mask side mark (mask side mark)
Mb Second mask side mark (mask side mark)
H1 1st height H2 2nd height (delta) x, (delta) y Position shift calibration value ma 1st board | substrate side mark (board | substrate side mark)
mb Second substrate side mark (substrate side mark)
Pt paste

Claims (2)

上面に電極を有した基板を保持する基板保持部と、基板の電極に対応するパターン孔が設けられたマスクと、撮像視野を下方に向けた下方撮像部と、撮像視野を上方に向けた上方撮像部と、下方撮像部により基板に設けられた基板側マークを撮像して算出される基板側マークの位置と上方撮像部によりマスクに設けられたマスク側マークを撮像して算出されるマスク側マークの位置とに基づいてマスクと基板との上下の位置合わせを行ったうえで基板保持部を上昇させて基板をマスクの下面に接触させる基板保持部移動制御部と、基板と接触されたマスク上を摺動し、マスクのパターン孔を介して基板の電極上にペーストを印刷するスキージとを備えたスクリーン印刷機であって、
基板保持部に取り付けられ、基板保持部により保持された基板の上面の高さに下方撮像部による上方からの撮像及び上方撮像部による下方からの撮像が可能な校正用マークを位置させた治具部材と、
前記校正用マークがマスクの下面の高さである第1の高さより低い第2の高さに位置するように基板保持部の上下方向の位置調節が行われた状態で前記校正用マークが下方撮像部により上方から撮像されて算出される前記校正用マークの第2の高さでの位置の座標と前記校正用マークが第1の高さに位置するように基板保持部の上下方向の位置調節が行われた状態で前記校正用マークが上方撮像部により下方から撮像されて算出される前記校正用マークの第1の高さでの位置の座標との間の水平面内方向の差分を位置ずれ校正値として算出する位置ずれ校正値算出部とを備え、
基板保持部移動制御部は、位置ずれ校正値算出部により算出された位置ずれ校正値を用いてマスクと基板との上下の位置合わせを行い、そのうえで基板保持部をマスクに対して上昇させてマスクの下面に基板を接触させることを特徴とするスクリーン印刷機。
A substrate holding unit for holding a substrate having an electrode on the upper surface, a mask provided with a pattern hole corresponding to the electrode of the substrate, a lower imaging unit with the imaging field facing downward, and an upper with the imaging field facing upward The imaging side and the position of the substrate side mark calculated by imaging the substrate side mark provided on the substrate by the lower imaging unit and the mask side calculated by imaging the mask side mark provided on the mask by the upper imaging unit A substrate holding unit movement control unit that raises and lowers the substrate holding unit based on the mark position and then raises the substrate holding unit to contact the lower surface of the mask, and the mask that is in contact with the substrate. A screen printing machine provided with a squeegee that slides on and prints a paste on an electrode of a substrate through a pattern hole of a mask,
A jig that is attached to the substrate holding unit and has a calibration mark positioned at the height of the upper surface of the substrate held by the substrate holding unit and capable of imaging from above by the lower imaging unit and imaging from below by the upper imaging unit Members,
The calibration mark is positioned downward in a state in which the position of the substrate holding portion is adjusted so that the calibration mark is positioned at a second height lower than the first height which is the height of the lower surface of the mask. The coordinates of the position at the second height of the calibration mark calculated by being imaged from above by the imaging unit and the vertical position of the substrate holder so that the calibration mark is positioned at the first height In a state where the adjustment is performed, the calibration mark is imaged from below by the upper imaging unit, and a difference in the horizontal plane direction from the coordinates of the position at the first height of the calibration mark is determined. A positional deviation calibration value calculation unit for calculating as a deviation calibration value,
The substrate holding unit movement control unit performs vertical alignment of the mask and the substrate using the positional deviation calibration value calculated by the positional deviation calibration value calculation unit, and then raises the substrate holding unit with respect to the mask to mask A screen printing machine characterized in that a substrate is brought into contact with the lower surface of the screen.
上面に電極を有した基板を保持する基板保持部と、基板の電極に対応するパターン孔が設けられたマスクと、撮像視野を下方に向けた下方撮像部と、撮像視野を上方に向けた上方撮像部と、下方撮像部により基板に設けられた基板側マークを撮像して算出される基板側マークの位置と上方撮像部によりマスクに設けられたマスク側マークを撮像して算出されるマスク側マークの位置とに基づいてマスクと基板との上下の位置合わせを行ったうえで基板保持部を上昇させて基板をマスクの下面に接触させる基板保持部移動制御部と、基板と接触されたマスク上を摺動し、マスクのパターン孔を介して基板の電極上にペーストを印刷するスキージと、基板保持部に取り付けられ、基板保持部により保持された基板の上面の高さに下方撮像部による上方からの撮像及び上方撮像部による下方からの撮像が可能な校正用マークを位置させた治具部材とを備えたスクリーン印刷機によるスクリーン印刷方法であって、
前記校正用マークがマスクの下面の高さである第1の高さより低い第2の高さに位置するように基板保持部の上下方向の位置調節を行った状態で前記校正用マークを下方撮像部により上方から撮像して前記校正用マークの第2の高さでの位置の座標を算出する工程と、
前記校正用マークが第1の高さに位置するように基板保持部の上下方向の位置調節を行った状態で前記校正用マークを上方撮像部により下方から撮像して前記校正用マークの第1の高さでの位置の座標を算出する工程と、
算出した前記校正用マークの第2の高さでの位置の座標と前記校正用マークの第1の高さでの位置の座標との間の水平面内方向の差分を位置ずれ校正値として算出する工程と、
算出した位置ずれ校正値を用いてマスクと基板との上下の位置合わせを行い、そのうえで基板保持部をマスクに対して上昇させてマスクの下面に基板を接触させる工程と、
基板と接触させたマスク上でスキージを摺動させ、マスクのパターン孔を介して基板の電極上にペーストを印刷する工程とを含むことを特徴とするスクリーン印刷方法。
A substrate holding unit for holding a substrate having an electrode on the upper surface, a mask provided with a pattern hole corresponding to the electrode of the substrate, a lower imaging unit with the imaging field facing downward, and an upper with the imaging field facing upward The imaging side and the position of the substrate side mark calculated by imaging the substrate side mark provided on the substrate by the lower imaging unit and the mask side calculated by imaging the mask side mark provided on the mask by the upper imaging unit A substrate holding unit movement control unit that raises and lowers the substrate holding unit based on the mark position and then raises the substrate holding unit to contact the lower surface of the mask, and the mask that is in contact with the substrate. A squeegee that slides on the substrate and prints paste on the electrode of the substrate through the pattern hole of the mask, and is attached to the substrate holder and is lowered to the height of the upper surface of the substrate held by the substrate holder. A screen printing method by screen printing machine having a jig member which imaging is to position the calibration mark possible from below by imaging and upper imaging unit from the direction,
The image of the calibration mark is imaged downward in a state in which the position of the substrate holder is adjusted in the vertical direction so that the calibration mark is positioned at a second height lower than the first height which is the height of the lower surface of the mask. Imaging from above by the unit to calculate the coordinates of the position at the second height of the calibration mark;
The calibration mark is imaged from below by the upper imaging unit in a state where the vertical position of the substrate holding unit is adjusted so that the calibration mark is positioned at the first height, and the first of the calibration marks is captured. Calculating coordinates of a position at a height of;
A difference in the horizontal plane direction between the calculated coordinate of the position of the calibration mark at the second height and the coordinate of the position of the calibration mark at the first height is calculated as a positional deviation calibration value. Process,
Performing the vertical alignment of the mask and the substrate using the calculated displacement calibration value, and then raising the substrate holding part with respect to the mask and bringing the substrate into contact with the lower surface of the mask;
And a step of sliding a squeegee on a mask in contact with the substrate and printing a paste on an electrode of the substrate through a pattern hole of the mask.
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