JP2012135649A - 美肌方法及び美肌装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】開口面2aを有する有底の容器2と、容器2内に高電圧の印加により空気中で放電して正イオンと負イオンとを発生するイオン発生部10とを備え、開口面2aを肌表面により塞いで容器2内を密閉した状態でイオン発生部10を駆動し、イオン発生部10で発生したイオンを肌表面に接触させるようにした。
【選択図】図1
Description
ことを特徴としている。この構成によると、イオン発生部で発生したH+(H2O)m及びO2 -(H2O)nは互いに化学反応し、酸化力の高い過酸化水素(H2O2)やヒドロキシ
ラジカル(・OH)から成る活性種が生成される。
ことを特徴としている。
(H2O)等の分子がエネルギーを受ける。
この水素イオンが溶媒和エネルギーにより空気中の水分子とクラスタリングしてH+(H2O)m(mは任意の自然数)から成る正イオンを主として発生する。そして、放電電極11aを配した放出孔14aから正イオンが放出される。
、放電電極11bを配した放出孔14bから負イオンが放出される。
あり、エネルギーが増加するとオゾンの発生量も増加する。
により酸化力の大きい活性種であるヒドロキシラジカル(・OH)や過酸化水素(H2O2)を生成する。ここで、m’、n’は任意の自然数である。ヒドロキシラジカルや過酸化水素から成る活性種は黄色ブドウ球菌を分解する。
H+(H2O)m+H+(H2O)m’+O2 -(H2O)n+O2 -(H2O)n’
→ 2・OH+O2+(m+m'+n+n')H2O ・・・(2)
H+(H2O)m+H+(H2O)m’+O2 -(H2O)n+O2 -(H2O)n’
→ H2O2+O2+(m+m'+n+n')H2O ・・・(3)
度になるようにイオンを発生させている。また、比較のため、イオンを発生させていない状態を図中、B1に示す。
ドウ球菌は悪玉菌として知られ、肌荒れの一因となるとともに、吹き出物、とびひ、アトピー性皮膚炎等の皮膚の病気に関係していると言われている。
いて正イオン及び負イオンがそれぞれ10万個/cm3の濃度になるようにイオンを発生させている。また、比較のため、イオンを発生させていない状態を図中、B2に示す。
意の自然数)から成るので、確実に肌表面の皮脂を抑制して黄色ブドウ球菌を分解することができる。
2、3 容器
2a、3a 開口面
4 パッキン
6 ヒーター
7 ベルト
10 イオン発生部
11a、11b 放電電極
12a、12b 対向電極
13 高圧電源
14 ハウジング
Claims (9)
- 空気中での放電により発生させた正イオンと負イオンとを肌表面に接触させて肌表面の皮脂の増加を抑制することを特徴とする美肌方法(医療行為を除く)。
- 開口面を有する有底の容器と、高電圧の印加により放電して前記容器内に正イオンと負イオンとを発生するイオン発生部とを備え、前記開口面を肌表面により塞いで前記容器内を密閉した状態で前記イオン発生部を駆動し、前記イオン発生部で発生したイオンを肌表面に接触させて肌表面の皮脂の増加を抑制することを特徴とする美肌方法(医療行為を除く)。
- 前記正イオンがH+(H2O)m(mは任意の自然数)から成り、前記負イオンがO2 -(H2O)n(nは任意の自然数)から成ることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の美肌方法。
- 肌表面を加温した状態でイオンを発生したことを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載の美肌方法。
- 空気中での放電により正イオンと負イオンとを発生するイオン発生部を備え、前記イオン発生部から発生したイオンを肌表面に接触させて肌表面の皮脂の増加を抑制することを特徴とする美肌装置。
- 開口面を有する有底の容器と、高電圧の印加により放電して前記容器内に正イオンと負イオンとを発生するイオン発生部とを備え、前記開口面を肌表面により塞いで前記容器内を密閉した状態で駆動された前記イオン発生部からイオンを発生して肌表面に接触させて肌表面の皮脂の増加を抑制することを特徴とする美肌装置。
- 前記正イオンがH+(H2O)m(mは任意の自然数)から成り、前記負イオンがO2 -(H2O)n(nは任意の自然数)から成ることを特徴とする請求項5または請求項6に記載の美肌装置。
- イオンが接触する肌表面を加温する加温装置を備えたことを特徴とする請求項5〜請求項7のいずれかに記載の美肌装置。
- 前記容器が人の顔を覆うマスク状に形成され、前記加温装置が顔の額部分と鼻部分に沿って配されることを特徴とする請求項8に記載の美肌装置。
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