JP2012148557A - Laminate for protecting solar cell and solar cell module manufactured using the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、太陽電池用モジュールの封止材と裏面保護材との組み合わせに関し、特に、光反射性に優れ、太陽電池の軽量化、耐久性、出力の向上に有効な太陽電池保護用積層体及びこの太陽電池用保護用積層体を用いた軽量、高耐久性の太陽電池モジュールに関する。 The present invention relates to a combination of a solar cell module sealing material and a back surface protective material, and in particular, a solar cell protective laminate that is excellent in light reflectivity and effective in reducing the weight, durability, and output of solar cells. The present invention also relates to a lightweight and highly durable solar cell module using the solar cell protective laminate.
近年、資源の有効利用や環境汚染の防止等の面から、太陽光を直接電気エネルギーに変換する太陽電池が注目され、開発が進められている。太陽電池は、通常、前面保護材、封止材 、発電素子、封止材及び裏面保護材をこの順で積層し、加熱溶融させることにより接着一体化することで製造される。
太陽電池の裏面保護材としては、紫外線に対する耐久性に優れることが要求されるが、加えて、湿気ないし水の透過による内部の導線や電極の発錆を防止するために、防湿性に優れることが極めて重要な要件となる。また、裏面保護材として、発電素子側最表面に白色のポリプロピレン樹脂や、ポリエステル樹脂のフィルムなど反射率の高いフィルムを用いることで、入射光の反射率を高め発電効率を高めている。
封止材としては、太陽電池素子を保護する為の柔軟性や耐衝撃性、太陽電池モジュールが発熱した際の耐熱性、太陽電池素子へ太陽光が効率的に届く為の透明性(全光線透過率など)、耐久性、寸法安定性、難燃性、水蒸気バリア性等が主に要求される。
In recent years, solar cells that directly convert sunlight into electric energy have attracted attention and are being developed from the viewpoint of effective use of resources and prevention of environmental pollution. A solar cell is usually manufactured by laminating a front protective material, a sealing material, a power generation element, a sealing material, and a back protective material in this order, and bonding and integrating them by heating and melting.
As a back surface protection material for solar cells, it is required to have excellent durability against ultraviolet rays. In addition, in order to prevent rusting of internal conductors and electrodes due to moisture or water permeation, it is excellent in moisture resistance. Is an extremely important requirement. In addition, as a back surface protective material, a highly reflective film such as a white polypropylene resin or a polyester resin film is used on the outermost surface of the power generation element, thereby increasing the reflectance of incident light and increasing the power generation efficiency.
The sealing material includes flexibility and impact resistance for protecting the solar cell element, heat resistance when the solar cell module generates heat, and transparency for efficient sunlight to reach the solar cell element (total light Transmittance, etc.), durability, dimensional stability, flame retardancy, water vapor barrier properties, etc. are mainly required.
従来、先の封止材としては、柔軟性、透明性等の観点から、材料として、エチレン−酢酸ビニル共重合体(以下、EVAと省略することがある)が広く用いられている(例えば、特許文献1、2参照)。また、EVAに耐熱性を付与することを主な目的として架橋剤として有機過酸化物を用いた架橋が行われる。そのため架橋剤(有機過酸化物)や架橋助剤を混合したEVAシートを予め作製し、得られたシートを用いて太陽電池素子を封止するという工程が採用されている。該シートの製造段階では、有機過酸化物が分解しないような低い温度(通常、80〜100℃程度)での成形が必要であるため、押出成形の速度が上げ難く、また太陽電池素子の封止段階では、ラミネーターにおいて数分〜十数分かけてエア抜きや仮接着を行う工程と、オーブン内において有機過酸化物が分解する高い温度(通常、130〜150℃程度)で十数分〜60分程度かけて本接着(架橋)する工程とからなる2段階の工程を経る必要があった。そのため太陽電池モジュールの製造には工数と時間を要し、その製造コストを上昇させるという問題があった。
また、EVAシートを用いる太陽電池素子の封止材は、長期間における使用に際して、
EVAの加水分解等により発生する酢酸による太陽電池の回路腐食やその懸念があり、さらには、架橋剤や架橋助剤、あるいは発生した酢酸などが原因となり、太陽電池素子との
界面や前面保護材との界面、または、裏面保護材との界面で剥離が発生することがある等の問題があった。
Conventionally, ethylene-vinyl acetate copolymer (hereinafter sometimes abbreviated as EVA) is widely used as a material from the viewpoint of flexibility, transparency and the like as the previous sealing material (for example, EVA). (See Patent Documents 1 and 2). In addition, crosslinking using an organic peroxide as a crosslinking agent is performed mainly for the purpose of imparting heat resistance to EVA. Therefore, a process of preparing an EVA sheet mixed with a crosslinking agent (organic peroxide) and a crosslinking aid in advance and sealing the solar cell element using the obtained sheet is employed. In the production stage of the sheet, it is necessary to form at a low temperature (usually about 80 to 100 ° C.) at which the organic peroxide is not decomposed. In the stopping stage, a process of performing air bleeding or temporary bonding over several minutes to ten and several minutes in a laminator, and a high temperature (usually about 130 to 150 ° C.) at which the organic peroxide is decomposed in the oven It was necessary to go through a two-stage process consisting of a process of main bonding (crosslinking) over about 60 minutes. Therefore, man-hours and time are required for manufacturing the solar cell module, and there is a problem that the manufacturing cost is increased.
Further, the solar cell element sealing material using the EVA sheet is used for a long period of time.
There is concern about the circuit corrosion of solar cells due to acetic acid generated by hydrolysis of EVA or the like, and further, cross-linking agents, cross-linking aids, or generated acetic acid causes interface with solar cell elements and front surface protective materials. There is a problem that peeling may occur at the interface with the back surface or the back surface protective material.
これらの問題点に対し、EVAシートを用いず、架橋工程が省略可能な太陽電池封止材として、例えば、特許文献3には、非晶性α−オレフィン重合体と結晶性α−オレフィン重合体を含有する樹脂組成物からなる太陽電池封止材が開示されており、具体的には、プロピレンを主成分とする重合体からなる樹脂組成物が用いられている。
また、特許文献4には、少なくとも一種のポリオレフィン系共重合体と、少なくとも一
種の結晶性ポリオレフィンからなるポリマーブレンドまたはポリマーアロイであることを
特徴とする太陽電池封止材が開示されており、具体的には、低融点のEVAと高融点のE
VAとのポリマーブレンド(実施例1参照)、エチレン−メタクリル酸共重合体と汎用の
結晶性ポリエチレンとのポリマーブレンド(実施例2参照)、エチレン−アクリル酸メチ
ル共重合体と汎用の結晶性ポリプロピレンとのポリマーブレンド(実施例3参照)が用いられている。
To solve these problems, for example, Patent Document 3 discloses an amorphous α-olefin polymer and a crystalline α-olefin polymer as solar cell encapsulants that do not use an EVA sheet and can omit the crosslinking step. The solar cell sealing material which consists of a resin composition containing this is disclosed, and specifically, the resin composition which consists of a polymer which has a propylene as a main component is used.
Patent Document 4 discloses a solar cell sealing material characterized in that it is a polymer blend or polymer alloy comprising at least one polyolefin copolymer and at least one crystalline polyolefin. Specifically, low melting point EVA and high melting point E
Polymer blend with VA (see Example 1), polymer blend of ethylene-methacrylic acid copolymer and general-purpose crystalline polyethylene (see Example 2), ethylene-methyl acrylate copolymer and general-purpose crystalline polypropylene And a polymer blend (see Example 3).
しかし、特許文献3で用いられているプロピレンを主成分とする重合体からなる樹脂組成物では、透明性(全光線透過率:83.2%(実施例参照))が未だ不十分であった。また、プロピレンを主成分とする重合体は脆化温度が高く、低温特性も不十分であるという問題点もある。また、特許文献4で用いられているポリマーブレンドの例では、すべての組み合わせが必ずしも透明性が良いものではなく、特に、柔軟性と耐熱性および透明性とのバランス化においては未だ問題があった。すなわち、これらの特許文献3や特許文献4に開示された知見によっても、柔軟性、耐熱性、および透明性という全ての要求品質を同時に満たす封止材は得られていなかった。 However, the resin composition made of a polymer mainly composed of propylene used in Patent Document 3 still has insufficient transparency (total light transmittance: 83.2% (see Examples)). . Moreover, the polymer which has propylene as a main component also has a problem that the embrittlement temperature is high and the low temperature characteristics are insufficient. Moreover, in the example of the polymer blend used in Patent Document 4, not all combinations are necessarily good in transparency, and in particular, there is still a problem in balancing flexibility, heat resistance, and transparency. . That is, according to the knowledge disclosed in Patent Document 3 and Patent Document 4, a sealing material that satisfies all the required qualities of flexibility, heat resistance, and transparency has not been obtained.
また、このような封止材を裏面保護材と組み合わせ使用する場合、裏面保護材へ到達する入射光が封止材により弱められ、更に反射光も弱められることにより、セルに回帰する光の強度が低下し、発電効率が大幅に低下するため、太陽電池の性能に重大な影響を与える。
このように、従来の太陽電池用裏面保護材と封止材の組み合わせに関する技術において、裏面保護材表層からの光反射率が低下することによる太陽電池性能低下を防止する有用な解決手段は提案されてなかった。
In addition, when such a sealing material is used in combination with a back surface protective material, the incident light reaching the back surface protective material is weakened by the sealing material, and further the reflected light is also weakened, so that the intensity of light returning to the cell As a result, the power generation efficiency is greatly reduced, which significantly affects the performance of the solar cell.
Thus, in the conventional technology related to the combination of the back surface protective material for solar cells and the sealing material, a useful solution for preventing the solar cell performance from being deteriorated due to the decrease in the light reflectance from the surface layer of the back surface protective material is proposed. It wasn't.
そこで、本発明の目的は、太陽電池用セルの保護部材として用いられる封止材と裏面保護材との積層体において、柔軟性と耐熱性および全光線透過率のいずれも十分優れ、これらの良好なバランスが図られた樹脂層を有することによって、裏面保護材表層面での高光反射性を確保することによって、太陽電池モジュールの長期の耐候性と高発電効率を実現することにある。
また、本発明の課題は、この太陽電池用封止材と裏面保護材との組み合わせにより、高効率の太陽電池モジュール及び太陽電池を提供することにある。
Therefore, the object of the present invention is to sufficiently improve the flexibility, heat resistance, and total light transmittance in a laminate of a sealing material and a back surface protective material used as a protective member for a solar battery cell. By having a resin layer with a good balance, it is possible to achieve long-term weather resistance and high power generation efficiency of the solar cell module by ensuring high light reflectivity on the surface of the back surface protective material.
Moreover, the subject of this invention is providing the highly efficient solar cell module and solar cell by the combination of this solar cell sealing material and back surface protection material.
本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、特定の熱特性を有するエチレン−α−オレフィンランダム共重合体と特定の熱特性を有するエチレン−α−オレフィンブロック共重合体を含有する封止材を太陽電池用裏面保護シートと積層して用いることにより、太陽電池保護用積層体の柔軟性、耐熱性および高光反射性を同時に満足できることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies, the present inventors have found that an encapsulant containing an ethylene-α-olefin random copolymer having specific thermal properties and an ethylene-α-olefin block copolymer having specific thermal properties. By laminating and using with a back protection sheet for solar cells, it was found that the flexibility, heat resistance and high light reflectivity of the laminate for protecting solar cells can be satisfied at the same time, and the present invention has been completed.
すなわち、本発明は、
下記(1)の条件を満足するエチレン−α−オレフィンランダム共重合体(Aー1)及び下記(2)の条件を満足するエチレン−α−オレフィンブロック共重合体(Aー2)を含有する封止層(A)、並びに、裏面保護層(B)を有する太陽電池保護用積層体に関する。
(1)示差走査熱量測定における加熱速度10℃/分で測定される結晶融解熱量が0〜70J/g
(2)示差走査熱量測定における加熱速度10℃/分で測定される結晶融解ピーク温度が100℃以上であり、かつ、結晶融解熱量が5〜70J/g
また、本発明は、前記本発明の太陽電池用封止層と裏面保護層を有する積層体を用いて作製された太陽電池モジュール及び太陽電池に関する。
That is, the present invention
It contains an ethylene-α-olefin random copolymer (A-1) that satisfies the following condition (1) and an ethylene-α-olefin block copolymer (A-2) that satisfies the following condition (2): It is related with the laminated body for solar cell protection which has a sealing layer (A) and a back surface protective layer (B).
(1) The heat of crystal fusion measured at a heating rate of 10 ° C./min in differential scanning calorimetry is 0 to 70 J / g.
(2) The crystal melting peak temperature measured at a heating rate of 10 ° C./min in differential scanning calorimetry is 100 ° C. or higher, and the crystal melting heat amount is 5 to 70 J / g.
Moreover, this invention relates to the solar cell module and solar cell which were produced using the laminated body which has the sealing layer for solar cells of this invention, and a back surface protective layer.
本発明によれば、太陽電池用封止層と裏面保護層を有する積層体において、該両層を特定の構成とすることによって、該層の柔軟性と耐熱性および全光線透過率とのバランスを図ることができる。これにより、裏面保護材表層面での高反射性を確保し長期の耐候性と高発電効率を実現し、太陽電池の軽量化、耐久性の向上に有効な太陽電池保護用積層体を提供することができる。 According to the present invention, in a laminate having a solar cell sealing layer and a back surface protective layer, the two layers have a specific configuration, thereby balancing the flexibility, heat resistance, and total light transmittance of the layers. Can be achieved. This ensures high reflectivity on the surface of the back surface protective material, achieves long-term weather resistance and high power generation efficiency, and provides a solar cell protective laminate effective for reducing the weight and durability of solar cells. be able to.
以下、本発明を更に詳細に説明する。
<封止層(A)>
本発明における封止層(A)とは、太陽電池において、裏面保護層(B)と積層して太陽電池用セルの封止に使用されるものである。封止層(A)としては、具体的には、高透明で可撓性に富み、耐熱性、加水分解性に優れることから、エチレン−α−オレフィン共重合体からなる樹脂層が用いられ、さらに、特定の熱特性を有するエチレン−α−オレフィンランダム共重合体と特定の熱特性を有するエチレン−α−オレフィンブロック共重合体を含有する樹脂組成物を使用することが高光線透過率、耐熱性、柔軟性の発現の観点から必要となる。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
<Sealing layer (A)>
In the present invention, the sealing layer (A) in the present invention is a layer laminated with a back surface protective layer (B) and used for sealing solar cell cells. As the sealing layer (A), specifically, a resin layer made of an ethylene-α-olefin copolymer is used because it is highly transparent and flexible, and has excellent heat resistance and hydrolyzability. Furthermore, it is possible to use a resin composition containing an ethylene-α-olefin random copolymer having specific thermal characteristics and an ethylene-α-olefin block copolymer having specific thermal characteristics. It is necessary from the viewpoint of expression of flexibility and flexibility.
ここで特定の熱特性を有するエチレン−α−オレフィンランダム共重合体とは下記(1)の条件を満足するエチレン−α−オレフィンランダム共重合体(A−1)であり、特定の熱特性を有するエチレン−α−オレフィンブロック共重合体とは下記(2)の条件を満足するエチレン−α−オレフィンブロック共重合体(A−2)である。
(1)示差走査熱量測定における加熱速度10℃/分で測定される結晶融解熱量が0〜70J/g
(2)示差走査熱量測定における加熱速度10℃/分で測定される結晶融解ピーク温度が100℃以上であり、かつ、結晶融解熱量が5〜70J/g
Here, the ethylene-α-olefin random copolymer having specific thermal characteristics is an ethylene-α-olefin random copolymer (A-1) that satisfies the following condition (1), and has specific thermal characteristics. The ethylene-α-olefin block copolymer has an ethylene-α-olefin block copolymer (A-2) that satisfies the following condition (2).
(1) The heat of crystal fusion measured at a heating rate of 10 ° C./min in differential scanning calorimetry is 0 to 70 J / g.
(2) The crystal melting peak temperature measured at a heating rate of 10 ° C./min in differential scanning calorimetry is 100 ° C. or higher, and the crystal melting heat amount is 5 to 70 J / g.
太陽電池用封止層の耐熱性は封止層(A)を構成するエチレン−α−オレフィンランダム共重合体(A−1)の諸特性(結晶融解ピーク温度、結晶融解熱量、MFR、分子量など)およびエチレン−α−オレフィンブロック共重合体(A−2)の諸特性(結晶融解ピーク温度、結晶融解熱量、MFR、分子量など)により影響されるが、とくに、エチレン−α−オレフィンブロック共重合体(A−2)の結晶融解ピーク温度が強く影響する。 The heat resistance of the sealing layer for solar cells is the characteristics of the ethylene-α-olefin random copolymer (A-1) constituting the sealing layer (A) (crystal melting peak temperature, crystal melting heat amount, MFR, molecular weight, etc. ) And ethylene-α-olefin block copolymer (A-2) characteristics (crystal melting peak temperature, crystal melting heat, MFR, molecular weight, etc.), especially ethylene-α-olefin block copolymer The crystal melting peak temperature of the combined (A-2) is strongly influenced.
一般に、太陽電池モジュールは発電時の発熱や太陽光の輻射熱などで、その温度が85〜90℃程度まで昇温するが、封止層(A)におけるエチレン−α−オレフィンブロック共重合体(A−2)の結晶融解ピーク温度が100℃以上であれば、本発明の太陽電池用封止層の耐熱性を確保することが出来る。一方、エチレン−α−オレフィンブロック共重合体(A−2)の結晶融解ピーク温度の上限温度が145℃であれば、太陽電池素子の封止工程であまり高温にすることなく封止することができるため好ましい。また封止層(A)におけるエチレン−α−オレフィンランダム共重合体(A−1)及びエチレン−α−オレフィンブロック共重合体(A−2)の各々の結晶融解熱量が前記規定の範囲内であれば、本発明の太陽電池保護用積層体の高光反射性が確保され、また、原料ペレットのブロッキングなどの不具合も起こり難いため好ましい。 In general, a solar cell module is heated to about 85 to 90 ° C. due to heat generated during power generation or radiant heat of sunlight, but the ethylene-α-olefin block copolymer (A) in the sealing layer (A). If the crystal melting peak temperature of -2) is 100 ° C. or higher, the heat resistance of the solar cell sealing layer of the present invention can be ensured. On the other hand, if the upper limit temperature of the crystal melting peak temperature of the ethylene-α-olefin block copolymer (A-2) is 145 ° C., the solar cell element can be sealed without being too high in the sealing step. This is preferable because it is possible. In addition, the heat of crystal fusion of each of the ethylene-α-olefin random copolymer (A-1) and the ethylene-α-olefin block copolymer (A-2) in the sealing layer (A) is within the above specified range. If it exists, the high light reflectivity of the laminated body for solar cell protection of this invention is ensured, and since malfunctions, such as blocking of a raw material pellet, do not occur easily, it is preferable.
本発明における封止層(A)を構成するエチレン−α−オレフィンランダム共重合体(A−1)及びエチレン−α−オレフィンブロック共重合体(A−2)の各々に用いられるα−オレフィンの種類は、同一であってもよいし、異なっていてもよいが、本発明においては、同一である方が、混合した際の相溶性や太陽電池保護用積層体の光反射性、すなわち、太陽電池の光電変換効率が向上するため好ましい。 Of the α-olefin used in each of the ethylene-α-olefin random copolymer (A-1) and the ethylene-α-olefin block copolymer (A-2) constituting the sealing layer (A) in the present invention. The type may be the same or different, but in the present invention, the same one is compatible when mixed and the light reflectivity of the solar cell protective laminate, that is, the solar This is preferable because the photoelectric conversion efficiency of the battery is improved.
本発明における封止層(A)の柔軟性は、適用される太陽電池の形状や厚み、設置場所などを考慮して適宜調整すれば良いが、例えば、動的粘弾性測定における振動周波数10Hz、温度20℃の貯蔵弾性率(E´)が1〜2000MPaであることが好ましい。太陽電池素子の保護の観点からは貯蔵弾性率(E´)は、より低い方が好ましいが、シート形状などで本発明の封止層(A)を採取した場合のハンドリング性やシート表面同士のブロッキング防止などを考慮すると、3〜1000MPaであることがより好ましく、5〜500MPaであることがさらに好ましく、10〜100MPaであることが特に好ましい。 The flexibility of the sealing layer (A) in the present invention may be appropriately adjusted in consideration of the shape and thickness of the solar cell to be applied, the installation location, etc. For example, the vibration frequency in dynamic viscoelasticity measurement is 10 Hz, The storage elastic modulus (E ′) at a temperature of 20 ° C. is preferably 1 to 2000 MPa. From the viewpoint of protection of the solar cell element, the storage elastic modulus (E ′) is preferably lower. However, the handling property when the sealing layer (A) of the present invention is sampled in a sheet shape or the like and between the sheet surfaces. Considering prevention of blocking and the like, it is more preferably 3 to 1000 MPa, further preferably 5 to 500 MPa, and particularly preferably 10 to 100 MPa.
本発明における封止層(A)の耐熱性は、エチレン−α−オレフィンランダム共重合体(A−1)の諸特性(結晶融解ピーク温度、結晶融解熱量、MFR、分子量など)およびエチレン−α−オレフィンブロック共重合体(A−2)の諸特性(結晶融解ピーク温度、結晶融解熱量、MFR、分子量など)により影響されるが、とくに、エチレン−α−オレフィンブロック共重合体(A−2)の結晶融解ピーク温度が強く影響する。
前述の通り、封止層(A)におけるエチレン−α−オレフィンブロック共重合体(A−2)の結晶融解ピーク温度が100℃以上であれば、本発明における封止層(A)の耐熱性を確保することが出来る。そして、本発明の太陽電池保護用積層体は封止層(A)の耐熱性と弾性率が部材を構成する層において最も低いことから、本発明の積層体の耐熱性については封止層(A)がその性能を決定する。
The heat resistance of the sealing layer (A) in the present invention is determined by various characteristics of the ethylene-α-olefin random copolymer (A-1) (crystal melting peak temperature, crystal melting heat amount, MFR, molecular weight, etc.) and ethylene-α. -Although it is influenced by various properties (crystal melting peak temperature, crystal melting heat, MFR, molecular weight, etc.) of the olefin block copolymer (A-2), in particular, ethylene-α-olefin block copolymer (A-2) ) Crystal melting peak temperature strongly affects.
As described above, if the crystal melting peak temperature of the ethylene-α-olefin block copolymer (A-2) in the sealing layer (A) is 100 ° C. or higher, the heat resistance of the sealing layer (A) in the present invention. Can be secured. And since the laminated body for solar cell protection of this invention has the lowest heat resistance and elastic modulus of the sealing layer (A) in the layer which comprises a member, about the heat resistance of the laminated body of this invention, it is a sealing layer ( A) determines its performance.
本発明においては、封止層(A)の耐熱性は、厚み3mmの白板ガラス(サイズ;縦75mm、横25mm)と厚み5mmのアルミ板(サイズ;縦120mm、横60mm)の間に厚みが0.5mmのシート状の封止層(A)を重ね、真空プレス機を用いて150℃、15分の条件で積層プレスした試料を作製し、該試料を100℃の恒温槽内で60度に傾斜して設置し500時間経過後の状態を観察し、ガラスが初期の基準位置からずれなかったものを○、ガラスが初期の基準位置からずれたり、シートが溶融したものを×として評価した。 In the present invention, the heat resistance of the sealing layer (A) is 3 mm thick white plate glass (size: length 75 mm, width 25 mm) and 5 mm thickness aluminum plate (size: length 120 mm, width 60 mm). A 0.5 mm sheet-shaped sealing layer (A) is stacked, and a sample that is laminated and pressed at 150 ° C. for 15 minutes using a vacuum press machine is prepared, and the sample is 60 ° C. in a 100 ° C. constant temperature bath. The glass was not tilted from the initial reference position, and the glass was shifted from the initial reference position or the sheet was melted as x. .
本発明における封止層(A)の全光線透過率は、適用する太陽電池の種類が、例えばアモルファスの薄膜系シリコン型である場合や、太陽電子素子に届く太陽光を遮らない部位に適用する場合には、あまり重視されないこともあるが、太陽電池の光電変換効率や各種部材を重ね合わせる時のハンドリング性などを考慮し、通常、85%以上であることが好ましく、87%以上であることがより好ましく、90%以上であることがさらに好ましい。 The total light transmittance of the sealing layer (A) in the present invention is applied to a portion where the type of solar cell to be applied is, for example, an amorphous thin-film silicon type or a portion that does not block sunlight reaching the solar electronic element. In some cases, it may not be very important, but in consideration of the photoelectric conversion efficiency of the solar cell and the handling properties when overlaying various members, it is usually preferably 85% or more, and 87% or more. Is more preferable, and it is still more preferable that it is 90% or more.
本発明における封止層(A)の柔軟性、耐熱性および透明性については背反特性になり易い。具体的には、柔軟性を向上させるために用いる樹脂組成物の結晶性を低下させ過ぎると、耐熱性が低下し不十分となる。一方、耐熱性を向上させるために用いる樹脂組成物の結晶性を向上させ過ぎると、透明性が低下し不十分となる。本発明においては、これらのバランスを柔軟性の指標として動的粘弾性測定における振動周波数10Hz、温度20℃の貯蔵弾性率(E´)、耐熱性の指標として示差走査熱量測定における加熱速度10℃/分で測定される結晶融解ピーク温度および透明性の指標として全光線透過率を用いた場合、3つの指標は、貯蔵弾性率(E´)が1〜2000MPa、エチレン−α−オレフィンブロック共重合体(A−2)の結晶融解ピーク温度が100℃以上、全光線透過率85%以上であることが好ましく、貯蔵弾性率(E´)が5〜500MPa、重合体(A−2)の結晶融解ピーク温度が105〜145℃、全光線透過率87%以上であることがさらに好ましく、貯蔵弾性率(E´)が10〜100MPa、重合体(A−2)の結晶融解ピーク温度が110〜145℃、全光線透過率90%以上であることが特に好ましい。 The flexibility, heat resistance and transparency of the sealing layer (A) in the present invention tend to be contradictory. Specifically, if the crystallinity of the resin composition used for improving flexibility is excessively lowered, the heat resistance is lowered and becomes insufficient. On the other hand, if the crystallinity of the resin composition used for improving the heat resistance is excessively improved, the transparency is lowered and becomes insufficient. In the present invention, the balance is used as an index of flexibility, the vibration frequency is 10 Hz in dynamic viscoelasticity measurement, the storage elastic modulus (E ′) at a temperature of 20 ° C., and the heating rate is 10 ° C. in differential scanning calorimetry as an index of heat resistance. When the total light transmittance is used as an index of crystal melting peak temperature and transparency measured in terms of / min, the three indices are storage elastic modulus (E ′) of 1 to 2000 MPa, ethylene-α-olefin block copolymer weight The crystal melting peak temperature of the union (A-2) is preferably 100 ° C. or more, and the total light transmittance is 85% or more, the storage elastic modulus (E ′) is 5 to 500 MPa, and the crystal of the polymer (A-2) More preferably, the melting peak temperature is 105 to 145 ° C., the total light transmittance is 87% or more, the storage elastic modulus (E ′) is 10 to 100 MPa, and the crystal melting peak temperature of the polymer (A-2). It is particularly preferable that the degree is 110 to 145 ° C. and the total light transmittance is 90% or more.
上記封止層(A)の厚さは、50〜1000μm程度であり、取り扱いの点から、150〜750μmが好ましく、300〜500μmが更に好ましい。
本発明に用いられるエチレン−α−オレフィンランダム共重合体(A−1)のメルトフローレート(MFR)は、特に制限されるものではないが、通常、MFR(JIS K7210、温度:190℃、荷重:21.18N)が、0.5〜100g/10min程度、好ましくは2〜50g/10min、さらに好ましくは3〜30g/10minであるものが用いられる。ここで、MFRは、シートを成形する際の成形加工性などを考慮して選択すればよい。例えば、シートをカレンダー成形する場合には、シートを成形ロールから引き剥がす際のハンドリング性からMFRは、比較的低い値、具体的には0.5〜5g/10min程度が好ましく、また、Tダイを用いて押出成形する場合には、押出負荷を低減させ押出量を増大させる観点からMFRは、2〜50g/10minが好ましく、さらに好ましくは3〜30g/10minであるものを用いればよい。
The sealing layer (A) has a thickness of about 50 to 1000 μm, preferably 150 to 750 μm, more preferably 300 to 500 μm from the viewpoint of handling.
The melt flow rate (MFR) of the ethylene-α-olefin random copolymer (A-1) used in the present invention is not particularly limited, but usually MFR (JIS K7210, temperature: 190 ° C., load) : 21.18N) is about 0.5 to 100 g / 10 min, preferably 2 to 50 g / 10 min, more preferably 3 to 30 g / 10 min. Here, the MFR may be selected in consideration of the formability when the sheet is formed. For example, when calendering a sheet, the MFR is preferably a relatively low value, specifically about 0.5 to 5 g / 10 min from the handling property when the sheet is peeled off from the molding roll. When the extrusion molding is performed using MFR, the MFR is preferably 2 to 50 g / 10 min, more preferably 3 to 30 g / 10 min, from the viewpoint of reducing the extrusion load and increasing the extrusion amount.
本発明に用いられるエチレン−α−オレフィンランダム共重合体(A−1)は、条件(1)示差走査熱量測定における加熱速度10℃/分で測定される結晶融解熱量が0〜70J/gを満足することが重要であり、好ましくは、5〜70J/g、さらに好ましくは、10〜65J/gである。該範囲内であれば、本発明の太陽電池封止材の柔軟性や透明性(全光線透過率)などが確保されるため好ましい。また、結晶融解熱量が0J/g以上であれば、原料ペレットのブロッキングなどの不具合も起こり難い為好ましい。ここで、該結晶融解熱量の参考値としては、汎用の高密度ポリエチレン(HDPE)が170〜220J/g程度、低密度ポリエチレン樹脂(LDPE)や直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)が100〜160J/g程度である。 The ethylene-α-olefin random copolymer (A-1) used in the present invention has a heat of crystal melting of 0 to 70 J / g measured at a heating rate of 10 ° C./min in the condition (1) differential scanning calorimetry. It is important to satisfy, preferably 5 to 70 J / g, more preferably 10 to 65 J / g. If it is in this range, since the softness | flexibility, transparency (total light transmittance), etc. of the solar cell sealing material of this invention are ensured, it is preferable. Moreover, it is preferable if the heat of crystal fusion is 0 J / g or more because problems such as blocking of raw material pellets are unlikely to occur. Here, as reference values for the heat of crystal fusion, general-purpose high-density polyethylene (HDPE) is about 170 to 220 J / g, and low-density polyethylene resin (LDPE) and linear low-density polyethylene (LLDPE) are 100 to 160 J. / G or so.
また、本発明に用いられるエチレン−α−オレフィンランダム共重合体(A−1)の結晶融解ピーク温度は、特に限定されるものではないが、通常、100℃未満であり、好ましくは30〜90℃である。ここで、該結晶融解ピーク温度の参考値としては、汎用の高密度ポリエチレン(HDPE)が130〜145℃程度、低密度ポリエチレン樹脂(LDPE)や直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)が100〜125℃程度である。すなわち、本発明に用いられるエチレン−α−オレフィンランダム共重合体(A−1)単独では、示差走査熱量測定における加熱速度10℃/分で測定される結晶融解ピーク温度が100℃以上であり、かつ、結晶融解熱量が5〜70J/gを達成することは困難である。 Further, the crystal melting peak temperature of the ethylene-α-olefin random copolymer (A-1) used in the present invention is not particularly limited, but is usually less than 100 ° C, preferably 30 to 90. ° C. Here, as reference values for the crystal melting peak temperature, general-purpose high-density polyethylene (HDPE) is about 130 to 145 ° C., and low-density polyethylene resin (LDPE) and linear low-density polyethylene (LLDPE) are 100 to 125. It is about ℃. That is, with the ethylene-α-olefin random copolymer (A-1) used alone in the present invention, the crystal melting peak temperature measured at a heating rate of 10 ° C./min in differential scanning calorimetry is 100 ° C. or higher, In addition, it is difficult to achieve a crystal heat of fusion of 5 to 70 J / g.
本発明に用いられるエチレン−α−オレフィンランダム共重合体(A−1)の具体例としては、ダウ・ケミカル(株)製の商品名「エンゲージ(Engage)」、「アフィニティー(Affinity)」、三井化学(株)製の商品名「タフマーA(TAFMER A)」、「タフマーP(TAFMER P)」、日本ポリエチレン(株)製の商品名「カーネル(Karnel)」等を例示することができる。 Specific examples of the ethylene-α-olefin random copolymer (A-1) used in the present invention include trade names “engage”, “affinity” manufactured by Dow Chemical Co., Ltd., Mitsui Examples include trade names “TAFMER A”, “TAFMER P” manufactured by Kagaku Co., Ltd., trade names “Kernel” manufactured by Nippon Polyethylene Co., Ltd., and the like.
本発明に用いられるエチレン−α−オレフィンブロック共重合体(A−2)は、示差走査熱量測定における加熱速度10℃/分で測定される結晶融解ピーク温度が100℃以上であり、かつ、結晶融解熱量が5〜70J/g(条件(2))を満足することが重要である。該結晶融解ピーク温度は好ましくは105℃以上、さらに好ましくは110℃以上であり、上限は通常145℃である。また、結晶融解熱量は好ましくは10〜60J/g、さらに好ましくは15〜55J/gである。 The ethylene-α-olefin block copolymer (A-2) used in the present invention has a crystal melting peak temperature of 100 ° C. or higher measured at a heating rate of 10 ° C./min in differential scanning calorimetry, and has a crystal structure. It is important that the heat of fusion satisfies 5 to 70 J / g (condition (2)). The crystal melting peak temperature is preferably 105 ° C. or higher, more preferably 110 ° C. or higher, and the upper limit is usually 145 ° C. The heat of crystal fusion is preferably 10 to 60 J / g, more preferably 15 to 55 J / g.
本発明に用いられるエチレン−α−オレフィンブロック共重合体(A−2)のメルトフローレート(MFR)は、特に制限されるものではないが、通常、MFR(JIS K7210、温度:190℃、荷重:21.18N)が、0.5〜100g/10min程度、より好ましくは1〜50g/10min、さらに好ましくは1〜30g/10min、特に好ましくは1〜10g/10minであるものが用いられる。 The melt flow rate (MFR) of the ethylene-α-olefin block copolymer (A-2) used in the present invention is not particularly limited, but usually MFR (JIS K7210, temperature: 190 ° C., load) : 21.18N) is about 0.5 to 100 g / 10 min, more preferably 1 to 50 g / 10 min, still more preferably 1 to 30 g / 10 min, and particularly preferably 1 to 10 g / 10 min.
ここで、MFRは、シートを成形する際の成形加工性などを考慮して選択すればよい。具体的には、シートをカレンダー成形する場合には、シートを成形ロールから引き剥がす際のハンドリング性からMFRは、比較的低い方、具体的には0.5〜5g/10min程度が好ましく、また、Tダイを用いて押出成形する場合には、押出負荷を低減させ押出量を増大させる観点からMFRは、1〜30g/10minであるものが好適に用いられる。さらに、太陽電池素子(セル)を封止する時の密着性や回り込み易さの観点からは、MFRは、3〜50g/10minであるものが好適に用いられる。 Here, the MFR may be selected in consideration of the formability when the sheet is formed. Specifically, when the sheet is calendered, the MFR is preferably relatively low, specifically about 0.5 to 5 g / 10 min from the handling property when the sheet is peeled off from the forming roll, In the case of extrusion molding using a T-die, a MFR of 1 to 30 g / 10 min is preferably used from the viewpoint of reducing the extrusion load and increasing the extrusion amount. Furthermore, from the viewpoint of adhesion and ease of wraparound when sealing a solar cell element (cell), a MFR of 3 to 50 g / 10 min is preferably used.
本発明に用いられるエチレン−α−オレフィンブロック共重合体(A−2)のブロック構造は、既述の条件(2)を満足すれば特に限定されるものではないが、柔軟性、耐熱性、透明性等のバランス化の観点から、コモノマー含有率、結晶性、密度、結晶融解ピーク温度(融点Tm)、又はガラス転移温度(Tg)の異なる2つ以上、好ましくは3つ以上のセグメント又はブロックを含有するマルチブロック構造であることが好ましい。具体的には、完全対称ブロック、非対称ブロック、テ−パ−ドブロック構造(ブロック構造の比率が主鎖内で漸増する構造)などが挙げられる。該マルチブロック構造を有する共重合体の構造や製造方法については、国際公開第2005/090425号パンフレット(WO2005/090425)、国際公開第2005/090426号パンフレット(WO2005/090426)、および国際公開第2005/090427号パンフレット(WO2005/090427)などで詳細に開示されているものを採用することができる。 The block structure of the ethylene-α-olefin block copolymer (A-2) used in the present invention is not particularly limited as long as the above-described condition (2) is satisfied, but flexibility, heat resistance, Two or more, preferably three or more segments or blocks having different comonomer contents, crystallinity, density, crystal melting peak temperature (melting point Tm), or glass transition temperature (Tg) from the viewpoint of balancing such as transparency A multi-block structure containing Specific examples include a completely symmetric block, an asymmetric block, and a taper block structure (a structure in which the ratio of the block structure gradually increases in the main chain). Regarding the structure and production method of the copolymer having the multi-block structure, International Publication No. 2005/090425 (WO2005 / 090425), International Publication No. 2005/090426 (WO2005 / 090426), and International Publication No.2005. / 090427 pamphlet (WO2005 / 090427) or the like can be employed.
本発明においては、前記マルチブロック構造を有するエチレン−α−オレフィンブロック共重合体について、以下、詳細に説明する。
該マルチブロック構造を有するエチレン−α−オレフィンブロック共重合体は、本発明において好適に使用でき、α−オレフィンとして1−オクテンを共重合成分とするエチレン−オクテンマルチブロック共重合体が好ましい。該ブロック共重合体としては、エチレンに対してオクテン成分が多く(約15〜20モル%)共重合されたほぼ非晶性のソフトセグメントと、エチレンに対してオクテン成分が少なく(約2モル%未満)共重合された結晶融解ピーク温度が110〜145℃である高結晶性のハードセグメントが、各々2つ以上存在するマルチブロック共重合体が好ましい。これらのソフトセグメントとハードセグメントの連鎖長や比率を制御することにより、柔軟性と耐熱性の両立を達成することができる。
該マルチブロック構造を有する共重合体の具体例としては、ダウ・ケミカル(株)製の商品名「インフューズ(Infuse)」が挙げられる。
In the present invention, the ethylene-α-olefin block copolymer having the multi-block structure will be described in detail below.
The ethylene-α-olefin block copolymer having a multiblock structure can be suitably used in the present invention, and an ethylene-octene multiblock copolymer having 1-octene as a copolymerization component as an α-olefin is preferable. As the block copolymer, an almost non-crystalline soft segment copolymerized with a large amount of octene component (about 15 to 20 mol%) with respect to ethylene and a small amount of octene component with respect to ethylene (about 2 mol%). Less) a multiblock copolymer in which two or more highly crystalline hard segments each having a copolymerized crystal melting peak temperature of 110 to 145 ° C. are present. By controlling the chain length and ratio of these soft segments and hard segments, both flexibility and heat resistance can be achieved.
As a specific example of the copolymer having the multi-block structure, trade name “Infuse” manufactured by Dow Chemical Co., Ltd. may be mentioned.
次に、封止層(A)中におけるエチレン−α−オレフィンランダム共重合体(A−1)とエチレン−α−オレフィンブロック共重合体(A−2)の含有量は、柔軟性、耐熱性、透明性等の優れたバランスを有する観点から、それぞれ、好ましくは、50〜99質量%、1〜50質量%であり、より好ましくは、60〜98質量%、2〜40質量%であり、更に好ましくは、70〜97質量%、3〜30質量%である。 Next, the contents of the ethylene-α-olefin random copolymer (A-1) and the ethylene-α-olefin block copolymer (A-2) in the sealing layer (A) are flexible and heat resistant. From the viewpoint of having an excellent balance such as transparency, respectively, preferably 50 to 99% by mass and 1 to 50% by mass, more preferably 60 to 98% by mass and 2 to 40% by mass, More preferably, they are 70-97 mass% and 3-30 mass%.
次に、封止層(A)におけるこれらの共重合体の混合(含有)質量比は、特に制限されるものではないが、好ましくは(A−1)/(A−2)=99〜50/1〜50、より好ましくは、98〜60/2〜40、さらに好ましくは、97〜70/3〜30である。但し、(A−1)と(A−2)の合計を100質量部とする。ここで、混合(含有)質量比が上記範囲内であれば、柔軟性、耐熱性、透明性等のバランスに優れた封止層(A)が得られやすいため好ましい。 Next, the mixing (containing) mass ratio of these copolymers in the sealing layer (A) is not particularly limited, but preferably (A-1) / (A-2) = 99-50. / 1-50, More preferably, it is 98-60 / 2-40, More preferably, it is 97-70 / 3-30. However, the total of (A-1) and (A-2) is 100 parts by mass. Here, it is preferable that the mixing (containing) mass ratio is within the above range because a sealing layer (A) excellent in balance of flexibility, heat resistance, transparency and the like can be easily obtained.
<裏面保護層(B)>
本発明における太陽電池裏面保護層は、太陽電池用熱可塑性樹脂シートまたは太陽電池用熱可塑性樹脂シート積層品であって、汚れや水蒸気などから太陽電池モジュールを保護するため使用される。
太陽電池裏面保護層(B)は、ポリオレフィン系樹脂層(B-1)を有することが好ましく、また、水蒸気の進入を防ぐこと、紫外線劣化を防止することから、それぞれの要求に応えるべく、ポリオレフィン系樹脂層(B-1)、防湿層(B-2)、耐候層(B-3)などの各層を接着剤を介して積層することがより好ましい。特に、裏面保護層まで到達した光を素子に戻し発電効率を向上させるため、ポリオレフィン系樹脂層として、光線反射率が80%以上の白色樹脂層を用いることが好ましい。
<Back side protective layer (B)>
The solar cell back surface protective layer in the present invention is a solar cell thermoplastic resin sheet or a solar cell thermoplastic resin sheet laminate, and is used for protecting the solar cell module from dirt, water vapor and the like.
The solar cell back surface protective layer (B) preferably has a polyolefin-based resin layer (B-1), and also prevents water vapor from entering and prevents ultraviolet degradation. It is more preferable to laminate each layer such as a resin layer (B-1), a moisture-proof layer (B-2), and a weather resistant layer (B-3) via an adhesive. In particular, a white resin layer having a light reflectance of 80% or more is preferably used as the polyolefin resin layer in order to return light reaching the back surface protective layer back to the element and improve power generation efficiency.
裏面保護層(B)は上述の各樹脂層をポリウレタン系接着剤を用いて、100〜140℃の温度で接着剤を乾燥させ、0〜80℃の温度下、ドライラミネートにより貼り合わせて製造することができる。接着剤を十分飽和架橋度に到達させることの観点から、得られた積層体は30〜80℃の温度で、1〜7日間養生を行うことが好ましい。本発明の積層体は、このようなラミネート工程を経ても、防湿性および層間強度が劣下しない柔軟性と防湿性に優れたものとなる。 The back surface protective layer (B) is produced by drying the adhesive at a temperature of 100 to 140 ° C. using a polyurethane-based adhesive and laminating the above resin layers by dry lamination at a temperature of 0 to 80 ° C. be able to. From the viewpoint of sufficiently bringing the adhesive to the saturation crosslinking degree, the obtained laminate is preferably cured at a temperature of 30 to 80 ° C. for 1 to 7 days. The laminate of the present invention is excellent in flexibility and moisture resistance that does not deteriorate the moisture resistance and interlayer strength even through such a lamination process.
裏面保護層(B)の厚みは、特に限定されるものではないが、通常、30〜100μm程度であり、好ましくは40〜80μm程度あり、より好ましくは40〜60μm程度のシート状で用いられる。 Although the thickness of a back surface protective layer (B) is not specifically limited, Usually, it is about 30-100 micrometers, Preferably it is about 40-80 micrometers, More preferably, it is used in the sheet form of about 40-60 micrometers.
(ポリオレフィン系樹脂層(B一1))
ポリオレフィン系樹脂層としては、特に制限はないが、その主成分として、例えば、安価である点からポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリエチレンナフタレート、アクリル、ポリプロピレン、ポリエチレン等ポリオレフィンなどの樹脂からなる樹脂層が利用できるが、可撓性に富み、加湿耐久性の点から、アイソタクチックポリプロピレン樹脂を主成分とする無延伸ポリプロピレン層が好ましい。裏面保護層(B)は、裏面保護層まで入射してきた光を反射させて太陽電池素子に戻し、電力変換効率を向上させることができるものであり、裏面保護層の最表面に積層されることが好ましい。ポリオレフィン系樹脂層(B-1)は樹脂に白色顔料を練り混んだ白色樹脂層を使用することが好ましい。
(Polyolefin resin layer (B-1))
The polyolefin resin layer is not particularly limited, but as its main component, for example, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyacrylate, polyethylene naphthalate, acrylic, polypropylene, polyethylene and other polyolefins from the point of being inexpensive. Although a resin layer made of a resin can be used, an unstretched polypropylene layer mainly composed of an isotactic polypropylene resin is preferable from the viewpoint of high flexibility and humidification durability. The back surface protective layer (B) reflects the light that has entered the back surface protective layer and returns it to the solar cell element to improve the power conversion efficiency, and is laminated on the outermost surface of the back surface protective layer. Is preferred. The polyolefin resin layer (B-1) is preferably a white resin layer in which a white pigment is kneaded and mixed with a resin.
特に、ポリオレフィン系樹脂層(B-1)を本発明の封止層(A)と積層して使用する場合、封止層(A)がポリオレフィンを主成分とすることから、封止層-裏面保護層界面での光の回折を抑制すること、封止層との密着性を高めることから、ポリオレフィンを用いることが望ましい。
白色顔料としては、酸化チタンや酸化亜鉛が利用できる。上記樹脂に白色顔料を添加して好ましくは光線反射率が80%以上の白色樹脂フィルムとすることが好ましい。ポリオレフィン系樹脂層(B-1)の厚さは、40〜200μm程度とするのが好ましく、耐部分放電圧特性を確保する観点から80〜180μmがより好ましい。
前記ポリオレフィン系樹脂層(B一1) の光線反射率は、後述する光線反射率測定方法で80%以上であることが好ましく、85%以上であることがより好ましい。
In particular, when the polyolefin-based resin layer (B-1) is used by laminating with the sealing layer (A) of the present invention, the sealing layer (A) is mainly composed of polyolefin. It is desirable to use polyolefin because it suppresses the diffraction of light at the protective layer interface and improves the adhesion with the sealing layer.
Titanium oxide and zinc oxide can be used as the white pigment. It is preferable to add a white pigment to the resin to make a white resin film having a light reflectance of 80% or more. The thickness of the polyolefin resin layer (B-1) is preferably about 40 to 200 μm, and more preferably 80 to 180 μm from the viewpoint of securing partial discharge voltage resistance.
The light reflectance of the polyolefin-based resin layer (B-1) is preferably 80% or more, more preferably 85% or more by a light reflectance measurement method described later.
(防湿層(B一2))
本発明における防湿層(B一2)は、湿気、水の透過による内部の導線、電極の発錆等を防止するために用いられ、防湿性に優れ、好ましくは高透明であれば特に制限はないが、基材フィルムの少なくとも一方の面に無機酸化物のコーティング膜を少なくとも1層有する透明防湿層が好ましく用いられる。
(Dampproof layer (B-12))
The moisture-proof layer (B-12) in the present invention is used to prevent moisture, water permeable internal conductors, rusting of electrodes, etc., and is excellent in moisture-proof property, and preferably is highly transparent as long as it is highly transparent. However, a transparent moisture-proof layer having at least one inorganic oxide coating film on at least one surface of the base film is preferably used.
上記基材フィルムとしては、透明性に優れた熱可塑性高分子フィルムが好ましく、その材料としては、通常の包装材料に使用しうる樹脂であれば特に制限なく用いることができる。具体的には、エチレン、プロピレン、ブテン等の単独重合体または共重合体などのポリオレフィン、環状ポリオレフィン等の非晶質ポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル、ナイロン6、ナイロン66、ナイロン12、共重合ナイロン等のポリアミド、エチレン−酢酸ビニル共重合体部分加水分解物(EVOH)、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリビニルブチラール、ポリアリレート、フッ素樹脂、アクリレート樹脂、生分解性樹脂などが挙げられる。これらの中では、フィルム物性、コストなどの点から、ポリエステル、ポリアミド、ポリオレフィンが好ましい。中でも、フィルム物性の点から、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)が特に好ましい。 As the base film, a thermoplastic polymer film excellent in transparency is preferable, and any material can be used without particular limitation as long as it is a resin that can be used for ordinary packaging materials. Specifically, polyolefins such as homopolymers or copolymers such as ethylene, propylene and butene, amorphous polyolefins such as cyclic polyolefins, polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), nylon 6 , Nylon 66, nylon 12, polyamide such as copolymer nylon, ethylene-vinyl acetate copolymer partial hydrolyzate (EVOH), polyimide, polyetherimide, polysulfone, polyethersulfone, polyetheretherketone, polycarbonate, polyvinyl Examples include butyral, polyarylate, fluororesin, acrylate resin, and biodegradable resin. Among these, polyesters, polyamides, and polyolefins are preferable from the viewpoints of film properties and cost. Among these, polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN) are particularly preferable from the viewpoint of film properties.
また、上記基材フィルムは、公知の添加剤、例えば、帯電防止剤、光線遮断剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、フィラー、着色剤、安定剤、潤滑剤、架橋剤、ブロッキング防止剤、酸化防止剤等を含有することができる。 The base film is a known additive such as an antistatic agent, a light blocking agent, an ultraviolet absorber, a plasticizer, a lubricant, a filler, a colorant, a stabilizer, a lubricant, a crosslinking agent, an antiblocking agent, An antioxidant etc. can be contained.
上記基材フィルムとしての熱可塑性高分子フィルムは、上記の原料を用いて成形してなるものであるが、基材として用いる際は、未延伸であってもよいし延伸したものであってもよい。また、他のプラスチック基材と積層されていてもよい。 The thermoplastic polymer film as the substrate film is formed by using the above raw materials, but when used as a substrate, it may be unstretched or stretched. Good. Moreover, you may laminate | stack with the other plastic base material.
かかる基材フィルムは、従来公知の方法により製造することができ、例えば、原料樹脂を押出機により溶融し、環状ダイやTダイにより押出して、急冷することにより実質的に無定型で配向していない未延伸フィルムを製造することができる。また、多層ダイを用いることにより、1種の樹脂からなる単層フィルム、1種の樹脂からなる多層フィルム、多種の樹脂からなる多層フィルム等を製造することができる。 Such a base film can be produced by a conventionally known method. For example, a raw material resin is melted by an extruder, extruded by an annular die or a T die, and rapidly cooled to be oriented substantially amorphously. No unstretched film can be produced. Further, by using a multilayer die, it is possible to produce a single layer film made of one kind of resin, a multilayer film made of one kind of resin, a multilayer film made of various kinds of resins, and the like.
この未延伸フィルムを一軸延伸、テンター式逐次二軸延伸、テンター式同時二軸延伸、チューブラー式同時二軸延伸などの公知の方法により、フィルムの流れ(縦軸)方向又はフィルムの流れ方向とそれに直角な(横軸)方向に延伸することにより、少なくとも一軸方向に延伸したフィルムを製造することができる。延伸倍率は任意に設定できるが、150℃熱収縮率が、0.01〜5%、更には0.01〜2%であることが好ましい。中でもフィルム物性の点から、二軸延伸ポリエチレンナフタレートフィルムや、ポリエチレンテレフタレート及び/又はポリエチレンナフタレートと他のプラスチックの共押出二軸延伸フィルムが好ましい。 The unstretched film is subjected to a known method such as uniaxial stretching, tenter sequential biaxial stretching, tenter simultaneous biaxial stretching, tubular simultaneous biaxial stretching, or the like. A film stretched in at least a uniaxial direction can be produced by stretching in a direction (horizontal axis) perpendicular thereto. Although a draw ratio can be set arbitrarily, it is preferable that 150 degreeC heat shrink rate is 0.01 to 5%, Furthermore, it is preferable that it is 0.01 to 2%. Among these, from the viewpoint of film properties, a biaxially stretched polyethylene naphthalate film, a polyethylene terephthalate and / or a coextruded biaxially stretched film of polyethylene naphthalate and other plastics are preferable.
なお、上記基材フィルムには、無機薄膜との密着性向上のため、アンカーコート剤を塗布することが好ましい。アンカーコート剤としては、溶剤性又は水性のポリエステル樹脂、イソシアネート樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ビニル変性樹脂、ビニルアルコール樹脂、ビニルブチラール樹脂、エチレンビニルアルコール樹脂、ニトロセルロース樹脂、オキサゾリン基含有樹脂、カルボジイミド基含有樹脂、メチレン基含有樹脂、エポキシ基含有樹脂、変性スチレン樹脂、変性シリコン樹脂及びアルキルチタネート等を単独、あるいは2種以上組み合わせて使用することができる。また、シラン系カップリング剤、チタン系カップリング剤、光線遮断剤、紫外線吸収剤、安定剤、潤滑剤、ブロッキング防止剤、酸化防止剤等を含有したり、それらを上記樹脂と共重合させたものを使用することができる。 In addition, it is preferable to apply | coat an anchor coating agent to the said base film for the adhesive improvement with an inorganic thin film. As anchor coating agents, solvent-based or water-soluble polyester resins, isocyanate resins, urethane resins, acrylic resins, vinyl-modified resins, vinyl alcohol resins, vinyl butyral resins, ethylene vinyl alcohol resins, nitrocellulose resins, oxazoline group-containing resins, carbodiimides A group-containing resin, a methylene group-containing resin, an epoxy group-containing resin, a modified styrene resin, a modified silicon resin, an alkyl titanate, or the like can be used alone or in combination of two or more. Also contains silane coupling agents, titanium coupling agents, light blocking agents, ultraviolet absorbers, stabilizers, lubricants, antiblocking agents, antioxidants, etc., or they are copolymerized with the above resins Things can be used.
アンカーコート層の形成方法としては、公知のコーティング方法が適宜採択される。例えば、リバースロールコーター、グラビアコーター、ロッドコーター、エアドクタコーター、スプレイあるいは刷毛を用いたコーティング方法等の方法がいずれも使用できる。また、蒸着フィルムを樹脂液に浸漬して行ってもよい。塗布後は、80〜200℃程度の温度での熱風乾燥、熱ロール乾燥などの加熱乾燥や、赤外線乾燥などの公知の乾燥方法を用いて溶媒を蒸発させることができる。また、耐水性、耐久性を高めるために、電子線照射による架橋処理を行う事もできる。また、アンカーコート層の形成は、基材フィルムの製造ラインの途中で行う方法(インライン)でも、基材フィルム製造後に行う(オフライン)方法でも良い。 As a method for forming the anchor coat layer, a known coating method is appropriately adopted. For example, any method such as a reverse roll coater, a gravure coater, a rod coater, an air doctor coater, a spray or a coating method using a brush can be used. Alternatively, the vapor deposition film may be immersed in a resin solution. After application, the solvent can be evaporated using a known drying method such as hot drying such as hot air drying or hot roll drying at a temperature of about 80 to 200 ° C., or infrared drying. Moreover, in order to improve water resistance and durability, the crosslinking process by electron beam irradiation can also be performed. Further, the formation of the anchor coat layer may be a method performed in the middle of the substrate film production line (inline) or a method performed after the substrate film is manufactured (offline).
防湿層(B-2)としては、該基材フィルムにアルミニウム等の金属のコーティング膜を形成したものも知られているが、アルミニウム等の金属では、太陽電池に適用した場合、電流がリークする場合があるため、シリカ・アルミナ等の無機酸化物のコーティング膜が好ましく用いられる。 As the moisture-proof layer (B-2), there is known one in which a coating film of a metal such as aluminum is formed on the base film. However, a metal such as aluminum leaks current when applied to a solar cell. In some cases, a coating film of an inorganic oxide such as silica / alumina is preferably used.
上記無機酸化物コーティング膜の形成方法としては、蒸着法、コーティング法などの方法がいずれも使用できるが、ガスバリア性の高い均一な薄膜が得られるという点で蒸着法が好ましい。この蒸着法には、物理気相蒸着(PVD)、あるいは化学気相蒸着(CVD)などの方法が含まれる。物理気相蒸着法には、真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリングなどが挙げられ、化学気相蒸着法には、プラズマを利用したプラズマCVD、加熱触媒体を用いて材料ガスを接触熱分解する触媒化学気相成長法(Cat−CVD)等が挙げられる。 As a method for forming the inorganic oxide coating film, any method such as a vapor deposition method and a coating method can be used, but a vapor deposition method is preferable in that a uniform thin film having a high gas barrier property can be obtained. This vapor deposition method includes methods such as physical vapor deposition (PVD) or chemical vapor deposition (CVD). Examples of physical vapor deposition include vacuum deposition, ion plating, and sputtering, and chemical vapor deposition includes plasma CVD using plasma and a catalyst that thermally decomposes a material gas using a heated catalyst body. Examples include chemical vapor deposition (Cat-CVD).
無機酸化物コーティング膜を構成する無機物質としては、珪素、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛、錫、ニッケル、チタン、水素化炭素等、あるいはこれらの酸化物、炭化物、窒化物またはそれらの混合物が挙げられるが、好ましくは酸化珪素、酸化アルミニウム、水素化炭素を主体としたダイアモンドライクカーボンである。特に、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素、酸化アルミニウムは、高いガスバリア性が安定に維持できる点で好ましい。 Examples of the inorganic substance constituting the inorganic oxide coating film include silicon, aluminum, magnesium, zinc, tin, nickel, titanium, hydrogenated carbon, and the like, or oxides, carbides, nitrides, or mixtures thereof. Of these, diamond like carbon mainly composed of silicon oxide, aluminum oxide, and hydrogenated carbon is preferable. In particular, silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, and aluminum oxide are preferable in that high gas barrier properties can be stably maintained.
上記コーティング膜の厚さは、安定な防湿性能の発現の点から、40〜1000nmであることが好ましく、40〜800nmがより好ましく、50〜600nmが更に好ましい。また、上記基材フィルムの厚さは、一般に5〜100μm程度であり、生産性や取り扱いやすさの点から8〜50μmが好ましく、12〜25μmが更に好ましい。従って、上記防湿層(B一2)の厚さは、一般に6〜100μm程度であり、生産性や取り扱いやすさの点から9〜50μmが好ましく、12〜25μmが更に好ましい。 The thickness of the coating film is preferably 40 to 1000 nm, more preferably 40 to 800 nm, and still more preferably 50 to 600 nm, from the viewpoint of stable moistureproof performance. Moreover, generally the thickness of the said base film is about 5-100 micrometers, 8-50 micrometers is preferable from the point of productivity or handleability, and 12-25 micrometers is still more preferable. Therefore, the thickness of the moisture-proof layer (B-12) is generally about 6 to 100 μm, preferably 9 to 50 μm, and more preferably 12 to 25 μm from the viewpoint of productivity and ease of handling.
(耐候層(B一3))
本発明における耐候層(B一3)は可撓性に富み、透明性、耐熱性、防湿性、紫外線耐久性に優れる性能を有するフィルムをいい、太陽電池裏面保護層の表面(暴露側)に用いられる。
耐候層の耐候性は、JIS K7350に準じてなされるサンシャインウェザーメーターによる耐候性試験において、力学物性や全光線透過率の低下が少ないものが好ましく、5000時間経過後の力学物性や全光線透過率の低下がないものがより好ましく、10000時間経過後の力学物性や全光線透過率の低下がないものが特に好ましい。
耐候層(B一3)の材料としては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、4−フッ化エチレン−パークロロアルコキシ共重合体(PFA)、4−フッ化エチレン−6−フッ化プロピレン共重合体(FEP)、2−エチレン−4−フッ化エチレン共重合体(ETFE)、ポリ3−フッ化塩化エチレン(PCTFE)、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)及びポリフッ化ビニル(PVF)等のフッ素樹脂層、或いは、アクリル、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等の樹脂に紫外線吸収剤を練り込んだ樹脂組成物を成膜したものが好ましく用いられ、長期耐久性と高光線透過率の観点から、2−エチレン−4−フッ化エチレン共重合体(ETFE)、4−フッ化エチレン−6−フッ化プロピレン共重合体(FEP)がより好ましく用いられる。なお、上記紫外線吸収剤としては、後述の紫外線吸収剤と同様のものが使用できる。上記樹脂は1種で用いることもできるが2種以上組合せて使用することもできる。
耐候層(B一3)の厚さは、一般に20〜200μm程度であり、フィルムの取り扱いやすさとコストの点から30〜120μmが好ましく、30〜80μmがより好ましい。
(Weatherproof layer (B13))
The weathering layer (B-13) in the present invention is a film having excellent flexibility, transparency, heat resistance, moisture resistance, and UV durability, and is provided on the surface (exposed side) of the solar cell back surface protective layer. Used.
The weather resistance of the weather resistant layer is preferably such that there is little decrease in mechanical properties and total light transmittance in a weather resistance test conducted according to JIS K7350, and mechanical properties and total light transmittance after 5000 hours have passed. Are preferable, and those having no decrease in mechanical properties and total light transmittance after 10000 hours are particularly preferable.
Examples of the material of the weather resistant layer (B-13) include polytetrafluoroethylene (PTFE), 4-fluoroethylene-perchloroalkoxy copolymer (PFA), 4-fluoroethylene-6-fluoropropylene copolymer. Fluororesin such as polymer (FEP), 2-ethylene-4-fluoroethylene copolymer (ETFE), poly-3-fluoroethylene chloride (PCTFE), polyvinylidene fluoride (PVDF), and polyvinyl fluoride (PVF) It is preferable to use a layer or a resin composition obtained by kneading an ultraviolet absorber in a resin such as acrylic, polycarbonate, polyethylene terephthalate (PET), or polyethylene naphthalate (PEN). From the viewpoint of transmittance, 2-ethylene-4-fluoroethylene copolymer (ETFE), 4-fluoroethylene Emissions -6 hexafluoropropylene copolymer (FEP) is more preferably used. In addition, as said ultraviolet absorber, the thing similar to the below-mentioned ultraviolet absorber can be used. Although the said resin can also be used by 1 type, it can also be used in combination of 2 or more type.
The thickness of the weather-resistant layer (B-13) is generally about 20 to 200 μm, preferably 30 to 120 μm, more preferably 30 to 80 μm from the viewpoint of film handling and cost.
<太陽電池保護用積層体>
本発明の太陽電池保護用積層体には、本発明の主旨を逸脱しない範囲で、諸物性(柔軟性、耐熱性、透明性、接着性など)や成形加工性あるいは経済性などをさらに向上させる目的で上述したエチレン−α−オレフィンランダム共重合体(Aー1)やエチレン−α−オレフィンブロック共重合体(Aー2)以外の樹脂を使用することができる。該樹脂としては、例えば、他のポリオレフィン系樹脂や各種エラストマー(オレフィン系、スチレン系など)、カルボキシル基、アミノ基、イミド基、水酸基、エポキシ基、オキサゾリン基、チオール基、シラノール基などの極性基で変性された樹脂および粘着付与樹脂などが挙げられる。
<Laminated body for solar cell protection>
The laminated body for protecting a solar cell of the present invention further improves various physical properties (flexibility, heat resistance, transparency, adhesiveness, etc.), molding processability, economic efficiency and the like without departing from the gist of the present invention. Resins other than the ethylene-α-olefin random copolymer (A-1) and ethylene-α-olefin block copolymer (A-2) described above for the purpose can be used. Examples of the resin include other polyolefin resins and various elastomers (olefin-based, styrene-based, etc.), polar groups such as carboxyl groups, amino groups, imide groups, hydroxyl groups, epoxy groups, oxazoline groups, thiol groups, silanol groups, and the like. And a resin modified with a tackifier resin.
該粘着付与樹脂としては、石油樹脂、テルペン樹脂、クマロン− インデン樹脂、ロジン系樹脂、またはそれらの水素添加誘導体などが挙げられる。具体的には、石油樹脂としては、シクロペンタジエンまたはその二量体からの脂環式石油樹脂やC9成分からの芳香族石油樹脂があり、テルペン樹脂としてはβ−ピネンからのテルペン樹脂やテルペン−フェノール樹脂が、また、ロジン系樹脂としては、ガムロジン、ウッドロジン等のロジン樹脂、グリセリンやペンタエリスリトール等で変性したエステル化ロジン樹脂などを例示することができる。また、該粘着付与樹脂は主に分子量により種々の軟化温度を有するものが得られるが、例えば、既述の共重合体(Aー1)、共重合体(Aー2)と混合した場合の相溶性、色調や熱安定性などの点から軟化温度が100〜150℃、好ましくは120〜140℃の脂環式石油樹脂の水素添加誘導体が特に好ましい。上述した共重合体(Aー1)、(Aー2)以外の樹脂を混合する場合は、通常、例えば、裏面保護層(B)を構成する各樹脂層中、樹脂組成物を100質量%とした場合、20質量%以下が好ましく、10質量%以下がさらに好ましい。 Examples of the tackifying resin include petroleum resins, terpene resins, coumarone-indene resins, rosin resins, and hydrogenated derivatives thereof. Specifically, as the petroleum resin, there are an aromatic petroleum resin from alicyclic petroleum resins and C 9 components from cyclopentadiene or dimer thereof, terpene resins and terpene from The terpene resin β- pinene -Phenol resin and rosin resin include rosin resins such as gum rosin and wood rosin, and esterified rosin resins modified with glycerin and pentaerythritol. Further, the tackifying resin can be obtained mainly having various softening temperatures depending on the molecular weight. For example, in the case of mixing with the copolymer (A-1) and the copolymer (A-2) described above. A hydrogenated derivative of an alicyclic petroleum resin having a softening temperature of 100 to 150 ° C., preferably 120 to 140 ° C., is particularly preferred from the viewpoints of compatibility, color tone and thermal stability. When the resins other than the above-described copolymers (A-1) and (A-2) are mixed, for example, the resin composition is usually 100% by mass in each resin layer constituting the back surface protective layer (B). In this case, it is preferably 20% by mass or less, and more preferably 10% by mass or less.
また、太陽電池保護用積層体には、必要に応じて、種々の添加剤を添加することができる。該添加剤としては、例えば、シランカップリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、耐候安定剤、光拡散剤、造核剤、顔料(例えば白色顔料)、難燃剤、変色防止剤などが挙げられる。本発明においては、シランカップリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、耐候安定剤から選ばれる少なくとも一種の添加剤が添加されていることが後述する理由等から好ましい。また、本発明においては、例えば、高度の耐熱性を要求される場合は架橋剤および/または架橋助剤を配合してもよい。 Moreover, a various additive can be added to the laminated body for solar cell protection as needed. Examples of the additive include a silane coupling agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a weathering stabilizer, a light diffusing agent, a nucleating agent, a pigment (for example, a white pigment), a flame retardant, and a discoloration preventing agent. . In the present invention, it is preferable that at least one additive selected from a silane coupling agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, and a weathering stabilizer is added for reasons described later. In the present invention, for example, when a high heat resistance is required, a crosslinking agent and / or a crosslinking aid may be blended.
シランカップリング剤の例としては、ビニル基、アクリロキシ基、メタクリロキシ基のような不飽和基、アミノ基、エポキシ基などとともに、アルコキシ基のような加水分解可能な基を有する化合物を挙げることができる。シランカップリング剤の具体例としては、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランなどを例示することができる。本発明においては、接着性が良好であり、黄変などの変色が少ないこと等からγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランやγ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランが好ましく用いられる。該シランカップリング剤の添加量は、太陽電池保護用積層体を構成する各樹脂層中、通常、0.1〜5質量%程度であり、0.2〜3質量%添加することが好ましい。また、シランカップリング剤と同様に、有機チタネート化合物などのカップリング剤も有効に活用できる。 Examples of silane coupling agents include compounds having a hydrolyzable group such as an alkoxy group together with an unsaturated group such as a vinyl group, an acryloxy group or a methacryloxy group, an amino group or an epoxy group. . Specific examples of the silane coupling agent include N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, and γ-aminopropyltriethoxy. Examples include silane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, and the like. In the present invention, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane are preferably used because of good adhesiveness and little discoloration such as yellowing. The addition amount of the silane coupling agent is usually about 0.1 to 5% by mass and preferably 0.2 to 3% by mass in each resin layer constituting the laminate for protecting a solar cell. In addition, similar to the silane coupling agent, a coupling agent such as an organic titanate compound can be effectively used.
酸化防止剤としては、種々の市販品が適用でき、モノフェノール系、ビスフェノール系、高分子型フェノール系、硫黄系、ホスファイト系など各種タイプのものを挙げることができる。モノフェノール系としては、例えば、2,6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニゾール、2,6−ジ−tert−ブチル−4−エチルフェノールなどを挙げることができる。ビスフェノール系としては、2,2′−メチレン−ビス−(4−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、2,2′−メチレン−ビス−(4−エチル−6−tert−ブチルフェノール)、4,4′−チオビス−(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、4,4′−ブチリデン−ビス−(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、3,9−ビス〔{1,1−ジメチル−2−{β−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ}エチル}2,4,9,10−テトラオキサスピロ〕5,5−ウンデカンなどを挙げることができる。 As the antioxidant, various commercially available products can be applied, and various types such as monophenol type, bisphenol type, polymer type phenol type, sulfur type and phosphite type can be exemplified. Examples of monophenols include 2,6-di-tert-butyl-p-cresol, butylated hydroxyanisole, 2,6-di-tert-butyl-4-ethylphenol, and the like. Examples of bisphenols include 2,2′-methylene-bis- (4-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2′-methylene-bis- (4-ethyl-6-tert-butylphenol), 4,4 '-Thiobis- (3-methyl-6-tert-butylphenol), 4,4'-butylidene-bis- (3-methyl-6-tert-butylphenol), 3,9-bis [{1,1-dimethyl- 2- {β- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy} ethyl} 2,4,9,10-tetraoxaspiro] 5,5-undecane.
高分子フェノール系としては、1,1,3−トリス−(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−tert−ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ビドロキシベンジル)ベンゼン、テトラキス−{メチレン−3−(3′,5′−ジ−tert−ブチル−4′−ヒドロキスフェニル)プロピオネート}メタン、ビス{(3,3′−ビス−4′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチルフェニル)ブチリックアシッド}グルコールエステル、1,3,5−トリス(3′,5′−ジ−tert−ブチル−4′−ヒドロキシベンジル)−s−トリアジン−2,4,6−(1H,3H,5H)トリオン、トリフェノール(ビタミンE)などを挙げることができる。
硫黄系としては、ジラウリルチオジプロピオネート、ジミリスチルチオジプロピオネート、ジステアリルチオプロピオネートなどを挙げることができる。
Examples of the high molecular phenolic group include 1,1,3-tris- (2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) butane, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3 , 5-di-tert-butyl-4-bidoxybenzyl) benzene, tetrakis- {methylene-3- (3 ', 5'-di-tert-butyl-4'-hydroxyphenyl) propionate} methane, bis { (3,3'-bis-4'-hydroxy-3'-tert-butylphenyl) butyric acid} glycol ester, 1,3,5-tris (3 ', 5'-di-tert-butyl-4 '-Hydroxybenzyl) -s-triazine-2,4,6- (1H, 3H, 5H) trione, triphenol (vitamin E) and the like.
Examples of sulfur-based compounds include dilauryl thiodipropionate, dimyristyl thiodipropionate, and distearyl thiopropionate.
ホスファイト系としては、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、4,4′−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−tert−ブチルフェニル−ジ−トリデシル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(オクタデシルホスファイト)、トリス(モノおよび/またはジ)フェニルホスファイト、ジイソデシルペンタエリスリトールジホスファイト、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナスレン−10−オキサイド、10−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナンスレン−10−オキサイド、10−デシロキシ−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナンスレン、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,6−ジ−tert−メチルフェニル)ホスファイト、2,2−メチレンビス(4,6−tert−ブチルフェニル)オクチルホスファイトなどを挙げることができる。 Examples of the phosphite system include triphenyl phosphite, diphenylisodecyl phosphite, phenyl diisodecyl phosphite, 4,4′-butylidene-bis (3-methyl-6-tert-butylphenyl-di-tridecyl) phosphite, Crick neopentanetetrayl bis (octadecyl phosphite), tris (mono and / or di) phenyl phosphite, diisodecyl pentaerythritol diphosphite, 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10- Oxide, 10- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) -9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 10-decyloxy-9,10 -Dihydro-9-oxa-10-fo Phaphenanthrene, cyclic neopentanetetraylbis (2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite, cyclic neopentanetetraylbis (2,6-di-tert-methylphenyl) phosphite, 2 , 2-methylenebis (4,6-tert-butylphenyl) octyl phosphite.
本発明においては、酸化防止剤の効果、熱安定性、経済性等からフェノール系およびホスファイト系の酸化防止剤が好ましく用いられ、両者を組み合わせて用いることがさらに好ましい。該酸化防止剤の添加量は、太陽電池保護用積層体を構成する各樹脂層中、通常、0.1〜1質量%程度であり、0.2〜0.5質量%添加することが好ましい。 In the present invention, phenol-based and phosphite-based antioxidants are preferably used in view of the effect of the antioxidant, thermal stability, economy, and the like, and it is more preferable to use both in combination. The addition amount of the antioxidant is usually about 0.1 to 1% by mass and preferably 0.2 to 0.5% by mass in each resin layer constituting the laminate for protecting a solar cell. .
紫外線吸収剤としては、種々の市販品が適用でき、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、サリチル酸エステル系など各種タイプのものを挙げることができる。ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、例えば、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−2’−カルボキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−ドデシルオキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−オクタデシルオキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−ベンジルオキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−5− クロロベンゾフェノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノンなどを挙げることができる。 As the ultraviolet absorber, various commercially available products can be applied, and various types such as benzophenone, benzotriazole, triazine, and salicylic acid ester can be exemplified. Examples of the benzophenone-based UV absorber include 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-2′-carboxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-n. -Dodecyloxybenzophenone, 2-hydroxy-4-n-octadecyloxybenzophenone, 2-hydroxy-4-benzyloxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone, 2-hydroxy-5-chlorobenzophenone, 2, , 4-dihydroxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4,4′-dimethoxybenzophenone, 2,2 ′, 4,4′-tetrahydroxybenzophenone, etc. Can.
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、ヒドロキシフェニル置換ベンゾトリアゾール化合物であって、例えば、2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−メチル−4−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−3−メチル−5−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−アミルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2− ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾールなどを挙げることができる。またトリアジン系紫外線吸収剤としては、2−[4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]−5−(オクチルオキシ)フェノール、2−(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)−5−(ヘキシルオキシ)フェノールなどを挙げることができる。サリチル酸エステル系としては、フェニルサリチレート、p−オクチルフェニルサリチレートなどを挙げることができる。
該紫外線吸収剤の添加量は、太陽電池保護用積層体を構成する各樹脂層中、通常、0.01〜2.0質量%程度であり、0.05〜0.5質量%添加することが好ましい。
The benzotriazole ultraviolet absorber is a hydroxyphenyl-substituted benzotriazole compound, for example, 2- (2-hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2-hydroxy-5-t-butylphenyl) Benzotriazole, 2- (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) benzotriazole, 2- (2-methyl-4-hydroxyphenyl) benzotriazole, 2- (2-hydroxy-3-methyl-5-t- Butylphenyl) benzotriazole, 2- (2-hydroxy-3,5-di-t-amylphenyl) benzotriazole, 2- (2-hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl) benzotriazole, etc. be able to. Examples of triazine ultraviolet absorbers include 2- [4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazin-2-yl] -5- (octyloxy) phenol, 2- ( And 4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl) -5- (hexyloxy) phenol. Examples of salicylic acid esters include phenyl salicylate and p-octylphenyl salicylate.
The addition amount of the ultraviolet absorber is usually about 0.01 to 2.0% by mass in each resin layer constituting the laminate for protecting a solar cell, and 0.05 to 0.5% by mass is added. Is preferred.
上記の紫外線吸収剤以外に耐候性を付与する耐候安定剤としては、ヒンダードアミン系光安定化剤が好適に用いられる。ヒンダードアミン系光安定化剤は、紫外線吸収剤と併用することによって著しい相乗効果を示す。 A hindered amine light stabilizer is suitably used as a weather stabilizer that imparts weather resistance in addition to the above ultraviolet absorber. The hindered amine light stabilizer exhibits a remarkable synergistic effect when used in combination with an ultraviolet absorber.
ヒンダードアミン系光安定化剤としては、コハク酸ジメチル−1−(2−ヒドロキシエチル)−4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン重縮合物、ポリ[{6−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)アミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル}{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}ヘキサメチレン{{2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル}イミノ}]、N,N′−ビス(3−アミノプロピル)エチレンジアミン−2,4−ビス[N−ブチル−N−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)アミノ]−6−クロロ−1,3,5−トリアジン縮合物、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、2−(3,5−ジ−tert−4−ヒドロキシベンジル)−2−n−ブチルマロン酸ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)などを挙げることができる。該ヒンダードアミン系光安定化剤の添加量は、太陽電池保護用積層体を構成する各樹脂層中、通常、0.01〜0.5質量%程度であり、0.05〜0.3質量%添加することが好ましい。 Examples of hindered amine light stabilizers include dimethyl succinate-1- (2-hydroxyethyl) -4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine polycondensate, poly [{6- (1,1 , 3,3-tetramethylbutyl) amino-1,3,5-triazine-2,4-diyl} {(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino} hexamethylene {{2, 2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl} imino}], N, N′-bis (3-aminopropyl) ethylenediamine-2,4-bis [N-butyl-N- (1,2,2, 6,6-pentamethyl-4-piperidyl) amino] -6-chloro-1,3,5-triazine condensate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, 2- (3 , 5-Di-tert-4- Mud alkoxybenzylacetic) -2-n-butyl malonic acid bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) and the like. The amount of the hindered amine light stabilizer added is usually about 0.01 to 0.5% by mass and 0.05 to 0.3% by mass in each resin layer constituting the solar cell protective laminate. It is preferable to add.
本発明に用いられる封止層(A)、裏面保護層(B)の各層であるポリオレフィン系樹脂層(B―1)、防湿層(B―2)及び耐候層(B―3)の各々の製膜方法としては、公知の方法、例えば単軸押出機、多軸押出機、バンバリーミキサー、ニーダーなどの溶融混合設備を有し、Tダイを用いる押出キャスト法やカレンダー法等を採用することができ、特に限定されるものではないが、本発明においては、ハンドリング性や生産性等の面からTダイを用いる押出キャスト法が好適に用いられる。Tダイを用いる押出キャスト法での成形温度は、用いる樹脂組成物の流動特性や製膜性等によって適宜調整されるが、概ね130〜300℃、好ましくは、150〜250℃である。シランカップリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、耐候安定剤等の各種添加剤は、予め樹脂とともにドライブレンドしてからホッパーに供給しても良いし、予め全ての材料を溶融混合してペレットを作製してから供給しても良いし、添加剤のみを予め樹脂に濃縮したマスターバッチを作製し供給してもかまわない。 Each of the sealing layer (A), the back surface protective layer (B), the polyolefin resin layer (B-1), the moisture proof layer (B-2) and the weathering layer (B-3) used in the present invention. As a film forming method, a known method, for example, a single-screw extruder, a multi-screw extruder, a Banbury mixer, a kneader or the like can be used, and an extrusion casting method using a T die, a calendar method, or the like can be adopted. Although not particularly limited, in the present invention, an extrusion casting method using a T die is preferably used from the viewpoints of handleability and productivity. The molding temperature in the extrusion casting method using a T-die is appropriately adjusted depending on the flow characteristics and film forming properties of the resin composition to be used, but is generally 130 to 300 ° C, preferably 150 to 250 ° C. Various additives such as silane coupling agents, antioxidants, UV absorbers, and weathering stabilizers may be dry blended with the resin in advance and then supplied to the hopper. The master batch may be supplied after being prepared, or a master batch in which only the additive is previously concentrated in the resin may be prepared and supplied.
本発明の太陽電池保護用積層体の厚みは、特に限定されるものではないが、通常、0.40〜2.3mm程度であり、好ましくは0.5〜1.6mm程度あり、より好ましくは0.60〜1.0mm程度のシート状で用いられる。
上記積層体は、上述の製膜された封止層(A)、裏面保護層(B)を、ポリオレフィン系樹脂層(B-1)面を封止層(A)面と積層し、常法に従って、真空ラミネーターで温度120〜150℃、脱気時間2〜15分、プレス圧力0.5〜1atm、プレス時間8〜45分で加熱加圧圧着することにより製造することができる。
The thickness of the solar cell protective laminate of the present invention is not particularly limited, but is usually about 0.40 to 2.3 mm, preferably about 0.5 to 1.6 mm, and more preferably. Used in a sheet form of about 0.60 to 1.0 mm.
The laminate is formed by laminating the formed sealing layer (A) and the back surface protective layer (B), and the polyolefin resin layer (B-1) surface with the sealing layer (A) surface. According to the above, it can be manufactured by heating and pressure bonding with a vacuum laminator at a temperature of 120 to 150 ° C., a degassing time of 2 to 15 minutes, a pressing pressure of 0.5 to 1 atm, and a pressing time of 8 to 45 minutes.
なお、本発明においては、太陽電池保護用積層体は、発電素子側から、封止層(A)、裏面保護層(B)、の順に配置されるのが好ましい。本発明においては、このような構成により、防湿層(B-2)の劣化を防止し、長期の高い防湿性と耐候性を達成することができる。 In addition, in this invention, it is preferable that the laminated body for solar cell protection is arrange | positioned in order of a sealing layer (A) and a back surface protective layer (B) from the electric power generation element side. In the present invention, with such a configuration, it is possible to prevent the moisture-proof layer (B-2) from deteriorating and to achieve long-term high moisture resistance and weather resistance.
本発明における太陽電池保護用積層体の封止材面からの入射光に対する反射率は、適用する太陽電池の種類、例えばアモルファスの薄膜系シリコン型などや太陽電子素子に届く太陽光を遮らない部位に適用する場合には、あまり重視されないこともあるが、太陽電池の光電変換効率や各種部材を重ね合わせる時のハンドリング性などを考慮し、80%以上であることが好ましく、特に高発電効率を得るためには82%以上であることがさらに好ましい。反射率は、後述するように、JIS Z8722に準じて測定することができる。 The reflectance for incident light from the sealing material surface of the laminate for protecting a solar cell in the present invention is the type of solar cell to be applied, for example, an amorphous thin film silicon type or a portion that does not block sunlight reaching the solar electronic device However, it is preferably not less than 80% in consideration of the photoelectric conversion efficiency of the solar cell and the handleability when superimposing various members, and particularly high power generation efficiency. In order to obtain it, it is more preferable that it is 82% or more. The reflectance can be measured according to JIS Z8722 as will be described later.
<太陽電池モジュール、太陽電池の製造方法>
このような太陽電池保護用積層体を用いて本発明の太陽電池モジュール及び/又は太陽電池を製造するには、従来の封止材、裏面保護材の代りに本発明の太陽電池保護用積層体を用いて公知の方法により、作成すれば良い。
<Solar cell module, solar cell manufacturing method>
In order to produce the solar cell module and / or solar cell of the present invention using such a solar cell protective laminate, the solar cell protective laminate of the present invention can be used instead of the conventional sealing material and back surface protective material. It may be created by a known method using
このような太陽電池モジュールとしては、種々のタイプのものを例示することができ、例えば、前面保護材、前面封止材、太陽電池素子と、本発明の太陽電池保護用積層体とを用いて作製された太陽電池モジュールが挙げられ、具体的には、太陽電池用前面保護材/封止材/太陽電池素子/本発明の太陽電池保護用積層体の構成のものなどを挙げることができる。 As such a solar cell module, various types can be exemplified, for example, using a front protective material, a front sealing material, a solar cell element, and the solar cell protective laminate of the present invention. The produced solar cell module can be mentioned, and specifically includes a solar cell front surface protective material / sealing material / solar cell element / a solar cell protection laminate of the present invention.
太陽電池素子としては、例えば、単結晶シリコン型、多結晶シリコン型、アモルファスシリコン型、ガリウム−砒素、銅−インジウム−セレン、カドミウム−テルルなどのIII−V族やII−VI族化合物半導体型、色素増感型、有機薄膜型等が挙げられる。 As the solar cell element, for example, a single crystal silicon type, a polycrystalline silicon type, an amorphous silicon type, a gallium-arsenic, a copper-indium-selenium, a cadmium-tellurium, or the like III-V group or II-VI group compound semiconductor type, Examples include a dye sensitizing type and an organic thin film type.
本発明の太陽電池保護用積層体を用いて作製された太陽電池モジュールを構成する各部材については、特に限定されるものではないが、前面保護材としては、金属や各種熱可塑性樹脂フィルムなどの単層もしくは多層のシートであり、例えば、錫、アルミ、ステンレスなどの金属、ガラス等の無機材料、ポリエステル、無機物蒸着ポリエステル、フッ素含有樹脂、ポリオレフィンなどの単層もしくは多層の保護材を挙げることができる。前面および/又は裏面の保護材、封止材の表面には、封止材や他の部材との接着性を向上させるために、その少なくとも一方の面にプライマー処理、コロナ処理やプラズマ処理などの公知の表面処理を施すことができる。 About each member which comprises the solar cell module produced using the laminated body for solar cell protection of this invention, although it does not specifically limit, As a front surface protection material, metals, various thermoplastic resin films, etc. Single layer or multilayer sheet, for example, metals such as tin, aluminum and stainless steel, inorganic materials such as glass, polyester, inorganic vapor-deposited polyester, fluorine-containing resin, polyolefin and other single layer or multilayer protective materials it can. In order to improve the adhesion to the sealing material and other members, the front surface and / or the back surface protective material and the surface of the sealing material are subjected to primer treatment, corona treatment, plasma treatment, etc. on at least one surface thereof. A known surface treatment can be applied.
本発明の太陽電池モジュール及び/又は太陽電池は、前面保護材、封止材、発電素子、本発明の保護用積層体を、常法に従って、真空ラミネーターで温度120〜150℃ 、脱気時間2〜15分、プレス圧力0.5〜1atm、プレス時間8〜45分で加熱加圧圧着することにより容易に製造することができる。 The solar cell module and / or solar cell of the present invention comprises a front protective material, a sealing material, a power generation element, and a protective laminate according to the present invention at a temperature of 120 to 150 ° C. with a vacuum laminator and a deaeration time of 2 It can be easily produced by heating and pressing under a pressure of ˜15 minutes, a pressing pressure of 0.5 to 1 atm, and a pressing time of 8 to 45 minutes.
なお、本発明においては、「層」と称する場合は、「フィルム」及び「シート」を含むことがあるものとし、「フィルム」あるいは「シート」と称する場合でも「層」を含むことがあるものとする。 In the present invention, the term “layer” may include “film” and “sheet”, and the term “film” or “sheet” may include “layer”. And
以下に、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、これらの実施例及び比較例により本発明は何ら制限を受けるものではない。なお、本明細書中に表示されるシートについての種々の測定値および評価は次のようにして行った。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited by these examples and comparative examples. In addition, the various measured values and evaluation about the sheet | seat displayed in this specification were performed as follows.
(物性測定)
以下、(1)〜(4),(6)は、各封止層の物性を測定したものであり、(5)は当該封止層と裏面保護材との積層体について測定したものである。
(1)結晶融解ピーク温度(Tm)
(株)パーキンエルマー製の示差走査熱量計、商品名「Pyris1 DSC」を用いて、JIS K7121に準じて、試料約10mgを加熱速度10℃/分で−40℃から200℃まで昇温し、200℃で5分間保持した後、冷却速度10℃/分で−40℃まで降温し、再度、加熱速度10℃/分で200℃まで昇温した時に測定されたサーモグラムから結晶融解ピーク温度(Tm)(℃)を求めた。
(Physical property measurement)
Hereinafter, (1) to (4), (6) are measured physical properties of each sealing layer, and (5) is measured for a laminate of the sealing layer and the back surface protective material. .
(1) Crystal melting peak temperature (Tm)
Using a differential scanning calorimeter manufactured by PerkinElmer, Inc., under the trade name “Pyris1 DSC”, according to JIS K7121, about 10 mg of the sample was heated from −40 ° C. to 200 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min. After holding at 200 ° C. for 5 minutes, the temperature was lowered to −40 ° C. at a cooling rate of 10 ° C./min, and again from the thermogram measured when the temperature was raised to 200 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min. Tm) (° C.) was determined.
(2)結晶融解熱量(ΔHm)
(株)パーキンエルマー製の示差走査熱量計、商品名「Pyris1 DSC」を用いて、JIS K7122に準じて、試料約10mgを加熱速度10℃/分で−40℃から200℃まで昇温し、200℃で5分間保持した後、冷却速度10℃/分で−40℃まで降温し、再度、加熱速度10℃/分で200℃まで昇温した時に測定されたサーモグラムから結晶融解熱量(ΔHm)(J/g)を求めた。
(2) Heat of crystal melting (ΔHm)
Using a differential scanning calorimeter manufactured by PerkinElmer Co., Ltd., trade name “Pyris1 DSC”, according to JIS K7122, about 10 mg of the sample was heated from −40 ° C. to 200 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min. After holding at 200 ° C. for 5 minutes, the temperature was lowered to −40 ° C. at a cooling rate of 10 ° C./min, and again from the thermogram measured when the temperature was raised to 200 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min (ΔHm ) (J / g).
(3)貯蔵弾性率測定
アイティ計測(株)製の粘弾性測定装置、商品名「粘弾性スペクトロメーターDVA−200」を用いて、試料(縦4mm、横60mm)を振動周波数10Hz、ひずみ0.1%、昇温速度3℃/分、チャック間25mmで横方向について、−150℃から150℃まで測定し、得られたデータから20℃における貯蔵弾性率(E´)(MPa)を測定し、柔軟性を確認した。
(3) Storage elastic modulus measurement Using a viscoelasticity measuring device manufactured by IT Measurement Co., Ltd., trade name “Viscoelasticity Spectrometer DVA-200”, a sample (4 mm long, 60 mm wide) was subjected to vibration frequency 10 Hz, strain 0. Measured from -150 ° C to 150 ° C in the transverse direction at 1%, heating rate of 3 ° C / min, 25 mm between chucks, and measured storage elastic modulus (E ') (MPa) at 20 ° C from the obtained data. Confirmed the flexibility.
(4)全光線透過率
厚み3mmの白板ガラス(サイズ;縦75mm、横25mm)2枚の間に厚み0.5mmの各封止層を重ね、真空プレス機を用いて、150℃、15分の条件で積層プレスした試料を作製し、JIS K7105に準じて全光線透過率を測定した。
(4) Total light transmittance Each sealing layer having a thickness of 0.5 mm is stacked between two pieces of white plate glass having a thickness of 3 mm (size: length 75 mm, width 25 mm), and 150 ° C. for 15 minutes using a vacuum press machine. The sample which carried out the lamination | stacking press on these conditions was produced, and the total light transmittance was measured according to JISK7105.
(5)光線反射率
下記に記載の裏面保護層単体の光線反射率および実施例、比較例記載の封止層裏面保護層積層品1〜9の光線反射率を測定した(JIS Z 8722準拠の日本電色工業(株)製 Spectro Color Meter SQ2000を用い、C光源にて550nmにて)。また、裏面保護層単体の光線反射率と封止層裏面保護層積層品の光線反射率とを比較し、反射率低下度[裏面保護層単体光線反射率―封止層裏面保護層積層品の光線反射率)/裏面保護層単体光線反射率]を下記の基準で評価した結果も併記した。
(◎)反射率低下度が5.0%未満
(○)反射率低下度が5.0%以上、6.0%未満
(×)反射率低下度が6.0%以上、あるいは、明らかに白濁している場合(未測定)
(5) Light reflectivity The light reflectivity of the back surface protective layer alone described below and the light reflectivity of the sealing layer back surface protective layer laminates 1 to 9 described in Examples and Comparative Examples were measured (according to JIS Z 8722). (Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. Spectro Color Meter SQ2000, using a C light source at 550 nm). Also, the light reflectivity of the back surface protective layer alone and the light reflectivity of the sealing layer back surface protective layer laminate product are compared, and the degree of reflectivity decrease [back surface protective layer single light reflectivity-sealing layer back surface protective layer laminate product The results of evaluating (light reflectivity) / back surface protective layer single light reflectivity] according to the following criteria are also shown.
(◎) Reflectivity decrease is less than 5.0% (◯) Reflectance decrease is less than 5.0%, less than 6.0% (x) Reflectivity decrease is 6.0% or more, or clearly When cloudy (not measured)
(6)耐熱性
厚み3mmの白板ガラス(サイズ;縦75mm、横25mm)2枚の間に以下に記載する各封止層を重ね、真空プレス機を用いて、150℃、15分の条件で積層プレスした試料を作製し、該試料を100℃の恒温槽内で60度に傾斜して設置し500時間経過後の状態を観察し、下記の基準で評価した。
(○)ガラスが初期の基準位置からずれなかったもの
(×)ガラスが初期の基準位置からずれたり、シートが溶融したもの
(6) Heat resistance Each sealing layer described below is stacked between two pieces of white sheet glass (size: length 75 mm, width 25 mm) having a thickness of 3 mm, and using a vacuum press machine at 150 ° C. for 15 minutes. A sample subjected to lamination pressing was prepared, the sample was installed at a tilt of 60 degrees in a constant temperature bath at 100 ° C., the state after 500 hours had been observed, and evaluated according to the following criteria.
(○) The glass did not deviate from the initial reference position (×) The glass deviated from the initial reference position or the sheet melted
(構成フィルム)
ポリオレフィン系樹脂層(B―1)
アイソタクチックポリプロピレン樹脂に、白色化剤としての酸化チタン(8質量%)と紫外線吸収剤としての超微粒子酸化チタン(粒子径、0.01〜0.06μm、3質量%)とを添加し、その他、所要の添加剤を添加し、十分に混練してポリプロピレン樹脂組成物を調製し、次いで、該ポリプロピレン樹脂組成物を押出機で押し出して、厚さ90μmの無延伸ポリプロピレン樹脂フィルムを製造し、更に、該無延伸ポリプロピレン樹脂フィルムの片面に、常法に従って、コロナ放電処理を施してコロナ処理面を形成した。得られた樹脂フィルムの光線反射率は86.8%であった。
(Structure film)
Polyolefin resin layer (B-1)
To isotactic polypropylene resin, titanium oxide (8% by mass) as a whitening agent and ultrafine titanium oxide (particle diameter, 0.01 to 0.06 μm, 3% by mass) as an ultraviolet absorber are added, In addition, a required additive is added and sufficiently kneaded to prepare a polypropylene resin composition, and then the polypropylene resin composition is extruded with an extruder to produce an unstretched polypropylene resin film having a thickness of 90 μm. Furthermore, a corona discharge surface was formed on one side of the unstretched polypropylene resin film by a corona discharge treatment according to a conventional method. The resulting resin film had a light reflectance of 86.8%.
防湿層(B―2)
12μmポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムに、厚み50nmのシリカを蒸着した三菱樹脂製テックバリアLXを使用した。上述の方法で測定した防湿性は0.2[g/(m2・day)]であった。
Moisture-proof layer (B-2)
A tech barrier LX made by Mitsubishi Plastics, in which silica having a thickness of 50 nm was deposited on a 12 μm polyethylene terephthalate resin film, was used. The moisture resistance measured by the above-described method was 0.2 [g / (m 2 · day)].
耐候層(B―3)
アルケマ社製ポリフッ化ビニリデン(PVDF)系フィルムKynar 302-PGM-TR(厚み:30μm)を使用した。
Weatherproof layer (B-3)
A polyvinylidene fluoride (PVDF) film Kynar 302-PGM-TR (thickness: 30 μm) manufactured by Arkema was used.
裏面保護層(B)
三井化学ポリウレタン株式会社製A1102、脂肪族系のヘキサメチレンジイソシアナート成分を含む硬化剤として三井化学ポリウレタン株式会社製A3070を使用し、重量比で16:1となるように混合し、固形分濃度が30%となるように酢酸エチルで希釈して接着剤塗液を調製した。
続いて、防湿層(B−2)のシリカ面に本接着剤塗液を固形分6g/m2となるよう塗布乾燥し、ドライラミネートによって耐候層(B−3)と貼合した。
更にポリオレフィン系樹脂層(B−1)のコロナ処理面に本接着剤塗液を固形分6g/m2となるよう塗布乾燥し、先の貼合フィルムの防湿層とドライラミネートによって貼合した。その後40℃x5日間養生し、厚み144μmの裏面保護層を作製した。
ポリオレフィン系樹脂層面の反射率を上述の方法を測定したところ550nmにて86.8%であった。
Back surface protective layer (B)
A1102 manufactured by Mitsui Chemicals Polyurethane Co., Ltd., A3070 manufactured by Mitsui Chemicals Polyurethanes Co., Ltd. is used as a curing agent containing an aliphatic hexamethylene diisocyanate component, and mixed so that the weight ratio is 16: 1. Was diluted with ethyl acetate so as to be 30% to prepare an adhesive coating solution.
Subsequently, the adhesive coating liquid was applied and dried on the silica surface of the moisture-proof layer (B-2) so as to have a solid content of 6 g / m 2 , and bonded to the weather resistant layer (B-3) by dry lamination.
Furthermore, this adhesive coating liquid was applied and dried on the corona-treated surface of the polyolefin-based resin layer (B-1) so as to have a solid content of 6 g / m 2, and bonded by a moisture-proof layer and a dry laminate of the previous bonded film. Thereafter, the film was cured at 40 ° C. for 5 days to produce a back protective layer having a thickness of 144 μm.
The reflectance of the polyolefin resin layer surface was measured by the above-mentioned method and found to be 86.8% at 550 nm.
封止層1
エチレン−α−オレフィンランダム共重合体(Bー1)として、エチレン−オクテンランダム共重合体(ダウ・ケミカル(株)製、商品名:エンゲージ(Engage)8200、オクテン含有量:10.1モル%(31質量%)、MFR:5、Tm:65℃、ΔHm:53J/g)(以下、α−1と略する)を95質量部とエチレン−α−オレフィンブロック共重合体(Bー2)として、エチレン−オクテンブロック共重合体(ダウ・ケミカル(株)製、商品名:インフューズ(INFUSE)D9100.05、オクテン含有量:12.8モル%(37質量%)、MFR:1、Tm:119℃、ΔHm:38J/g)(以下、β−1と略する)とを5質量部の割合で混合した樹脂組成物をTダイを備えた40mmφ 単軸押出機を用いて設定温度200℃で溶融混練し、20℃のキャストロールで急冷製膜することにより厚みが0.5mm(500μm)の封止層1を得た。
Sealing layer 1
As an ethylene-α-olefin random copolymer (B-1), an ethylene-octene random copolymer (manufactured by Dow Chemical Co., Ltd., trade name: Engage 8200, octene content: 10.1 mol%) (31 mass%), MFR: 5, Tm: 65 ° C., ΔHm: 53 J / g) (hereinafter abbreviated as α-1) and 95 parts by mass and an ethylene-α-olefin block copolymer (B-2) As an ethylene-octene block copolymer (manufactured by Dow Chemical Co., Ltd., trade name: INFUSE D9100.05, octene content: 12.8 mol% (37 mass%), MFR: 1, Tm 119 ° C., ΔHm: 38 J / g) (hereinafter abbreviated as β-1) at a ratio of 5 parts by mass, a set temperature using a 40 mmφ single screw extruder equipped with a T die. 200 kneaded at ° C., a thickness by quenching casting at 20 ° C. of the cast roll to obtain a sealing layer 1 of 0.5 mm (500 [mu] m).
封止層2
封止層1の調製において、シートを構成する樹脂組成物を表1に示すように、(α−1)80質量部とエチレン−オクテンブロック共重合体(ダウ・ケミカル(株)製、商品名:インフューズD9507.15、オクテン含有量:16.4モル%(44質量%)、MFR:5、Tm:123℃、ΔHm:21J/g)(以下、β−2と略する)20質量部との樹脂組成物に変更した以外は、封止層1と同様にして、厚みが0.5mm(500μm)の封止層2を得た
Sealing layer 2
In the preparation of the sealing layer 1, as shown in Table 1, the resin composition constituting the sheet is 80 parts by mass of (α-1) and an ethylene-octene block copolymer (manufactured by Dow Chemical Co., Ltd., trade name) : Infuse D9507.15, Octene content: 16.4 mol% (44 mass%), MFR: 5, Tm: 123 ° C, ΔHm: 21 J / g) (hereinafter abbreviated as β-2) 20 mass parts The sealing layer 2 having a thickness of 0.5 mm (500 μm) was obtained in the same manner as the sealing layer 1 except that the resin composition was changed to
封止層3
封止層1の調製において、シートを構成する樹脂組成物を表1に示すように、(α−1)をエチレン−プロピレン−ヘキセン3元ランダム共重合体(日本ポリエチレン(株)製、商品名:カーネル(Kaernel)KJ640T、プロピレン含有量:7.4モル%(10質量%)、ヘキセン含有量:4.4モル%(10質量%)、MFR:30、Tm:53℃、ΔHm:58J/g)(以下、α−2と略する)に変更した以外は、封止層1と同様にして、厚みが0.5mm(500μm)の封止層3を得た。
Sealing layer 3
In the preparation of the sealing layer 1, as shown in Table 1, the resin composition constituting the sheet is represented by (α-1) an ethylene-propylene-hexene ternary random copolymer (manufactured by Nippon Polyethylene Co., Ltd., trade name). : Kernel KJ640T, propylene content: 7.4 mol% (10 wt%), hexene content: 4.4 mol% (10 wt%), MFR: 30, Tm: 53 ° C, ΔHm: 58 J / g) A sealing layer 3 having a thickness of 0.5 mm (500 μm) was obtained in the same manner as the sealing layer 1 except that it was changed to (hereinafter abbreviated as α-2).
封止層4
封止層1の調製において、シートの厚みを0.3mm(300μm)に変更した以外は、封止層1と同様にして封止層4を得た。
Sealing layer 4
In the preparation of the sealing layer 1, the sealing layer 4 was obtained in the same manner as the sealing layer 1 except that the thickness of the sheet was changed to 0.3 mm (300 μm).
封止層5
封止層1の調製において、シートを構成する樹脂組成物を表1に示すように、(α−1)100質量部に変更した以外は、封止層1と同様にして、厚みが0.5mm(500μm)の封止層5を得た。
Sealing layer 5
In preparation of the sealing layer 1, as shown in Table 1, the resin composition which comprises a sheet | seat was changed into ((alpha) -1) 100 mass parts, and the thickness is 0.00. A sealing layer 5 of 5 mm (500 μm) was obtained.
封止層6
封止層1の調製において、シートを構成する樹脂組成物を表1に示すように、(β−1)を汎用の結晶性ポリエチレン樹脂であるエチレン−オクテンランダム共重合体((株)プライムポリマー製、商品名:モアテック0238CN、オクテン含有量:1モル%(4質量%)、MFR:2.1、Tm:121℃、ΔHm:127J/g)(以下、P−1と略する)に変更した以外は、封止層1と同様にして、厚みが0.5mmの(500μm)封止層6を得た。
Sealing layer 6
In the preparation of the sealing layer 1, as shown in Table 1, the resin composition constituting the sheet is an ethylene-octene random copolymer (Prime Polymer Co., Ltd.), which is a general-purpose crystalline polyethylene resin. Product name: Moretech 0238CN, Octene content: 1 mol% (4 mass%), MFR: 2.1, Tm: 121 ° C., ΔHm: 127 J / g (hereinafter abbreviated as P-1) Except that, the sealing layer 6 having a thickness of 0.5 mm (500 μm) was obtained in the same manner as the sealing layer 1.
封止層7
封止層1の調製において、シートを構成する樹脂組成物を表1に示すように、(P−1)100質量部に変更した以外は、封止層1と同様にして、厚みが0.5mm(500μm)の封止層7を得た。
Sealing layer 7
In the preparation of the sealing layer 1, as shown in Table 1, the resin composition constituting the sheet was changed to 100 parts by mass of (P-1). A 5 mm (500 μm) sealing layer 7 was obtained.
封止層8
Etimex社製EVA封止材496を用いた。なお、本EVA封止材単体を下記実施例に示す方法で真空ラミネートし、その後、EVA封止材のみを取り出し、評価を行った。
Sealing layer 8
An EVA sealant 496 manufactured by Etimex was used. In addition, this EVA sealing material single-piece | unit was vacuum-laminated by the method shown in the following Example, Then, only EVA sealing material was taken out and evaluated.
封止層9
東洋インク製ウレタン(PU)系接着剤IS801と硬化剤CR001を10:1の比で配合し固形分塗工量10g/m2となるようにシリコーン離型PETフィルムに塗布し、40℃、4日間養生した。その後、接着剤層のみを取り出し、評価を行った。
以上の封止層1〜9の各々について、その厚み、組成、全光線透過率、耐熱性及び柔軟性を前記の方法で測定し、以下の表1にまとめて示す。
Sealing layer 9
Toyo Ink urethane (PU) adhesive IS801 and curing agent CR001 were blended at a ratio of 10: 1 and applied to a silicone release PET film so that the solid content coating amount was 10 g / m 2. Cured for days. Thereafter, only the adhesive layer was taken out and evaluated.
About each of the above sealing layers 1-9, the thickness, a composition, a total light transmittance, heat resistance, and a softness | flexibility are measured by the said method, and it shows in the following Table 1 collectively.
実施例1
前記調製した封止層1と裏面保護層を株式会社エヌ・ピー・シー社製真空ラミネート装置LM−30x30を用い150℃、15分の条件で定法によりこの順に積層し封止層裏面保護層積層品1を作製した。その後、作製した封止層裏面保護層積層品1を使用して、前述の方法で反射率を測定した。結果を表2に示す。
Example 1
The prepared sealing layer 1 and the back surface protective layer are laminated in this order by a conventional method at 150 ° C. for 15 minutes using a vacuum laminator LM-30x30 manufactured by NPC Corporation. Product 1 was produced. Then, the reflectance was measured by the above-mentioned method using the produced sealing layer back surface protective layer laminate 1. The results are shown in Table 2.
実施例2
前記調製した封止層2と裏面保護層を株式会社エヌ・ピー・シー社製真空ラミネート装置LM−30x30を用い150℃、15分の条件で定法によりこの順に積層し封止層裏面保護層積層品2を作製した。その後、作製した封止層裏面保護層積層品2を使用して、前述の方法で反射率を測定した。結果を表2に示す。
Example 2
The prepared sealing layer 2 and back surface protective layer are laminated in this order by a conventional method at 150 ° C. for 15 minutes using a vacuum laminator LM-30x30 manufactured by NPC Corporation. Product 2 was produced. Then, the reflectance was measured by the above-mentioned method using the produced sealing layer back surface protective layer laminate 2. The results are shown in Table 2.
実施例3
前記調製した封止材3と裏面保護材を株式会社エヌ・ピー・シー社製真空ラミネート装置LM−30x30を用い150℃、15分の条件で定法によりこの順に積層し封止層裏面保護層積層品3を作製した。その後、作製した封止層裏面保護層積層品3を使用して、前述の方法で反射率を測定した。結果を表2に示す。
Example 3
The prepared sealing material 3 and back surface protective material are laminated in this order by a conventional method at 150 ° C. for 15 minutes using a vacuum laminating machine LM-30x30 manufactured by NPC Corporation. Product 3 was produced. Then, the reflectance was measured by the above-mentioned method using the produced sealing layer back surface protective layer laminate 3. The results are shown in Table 2.
実施例4
前記調製した封止層4と裏面保護層を株式会社エヌ・ピー・シー社製真空ラミネート装置LM−30x30を用い150℃、15分の条件で定法によりこの順に積層し封止層裏面保護層積層品4を作製した。その後、作製した封止層裏面保護層積層品4を使用して、前述の方法で反射率を測定した。結果を表2に示す。
Example 4
The prepared sealing layer 4 and the back surface protective layer were laminated in this order by a conventional method at 150 ° C. for 15 minutes using a vacuum laminator LM-30x30 manufactured by NPC Corporation. Product 4 was produced. Then, the reflectance was measured by the above-mentioned method using the produced sealing layer back surface protective layer laminate 4. The results are shown in Table 2.
比較例1
前記調製した封止層5と裏面保護層を株式会社エヌ・ピー・シー社製真空ラミネート装置LM−30x30を用い150℃、15分の条件で定法によりこの順に積層し封止層裏面保護層積層品5を作製した。その後、作製した封止層裏面保護層積層品5を使用して、前述の方法で反射率を測定した。結果を表2に示す
Comparative Example 1
The prepared sealing layer 5 and the back surface protective layer are laminated in this order by a conventional method at 150 ° C. for 15 minutes using a vacuum laminator LM-30x30 manufactured by NPC Corporation. Product 5 was produced. Then, the reflectance was measured by the above-mentioned method using the produced sealing layer back surface protective layer laminate 5. The results are shown in Table 2.
比較例2
前記調製した封止層6と裏面保護層を株式会社エヌ・ピー・シー社製真空ラミネート装置LM−30x30を用い150℃、15分の条件で定法によりこの順に積層し封止層裏面保護層積層品6を作製した。その後、作製した封止層裏面保護層積層品6を使用して、前述の方法で反射率を測定した。結果を表2に示す
Comparative Example 2
The prepared sealing layer 6 and the back surface protective layer are laminated in this order by a conventional method at 150 ° C. for 15 minutes using a vacuum laminator LM-30x30 manufactured by NPC Corporation. Product 6 was produced. Then, the reflectance was measured by the above-mentioned method using the produced sealing layer back surface protective layer laminate 6. The results are shown in Table 2.
比較例3
前記調製した封止層7と裏面保護層を株式会社エヌ・ピー・シー社製真空ラミネート装置LM−30x30を用い150℃、15分の条件で定法によりこの順に積層し封止層裏面保護層積層品7を作製した。その後、作製した封止層裏面保護層積層品7を使用して、前述の方法で反射率を測定した。結果を表2に示す
Comparative Example 3
The prepared sealing layer 7 and back surface protective layer are laminated in this order by a conventional method at 150 ° C. for 15 minutes using a vacuum laminator LM-30x30 manufactured by NPC Corporation. Product 7 was produced. Then, the reflectance was measured by the above-mentioned method using the produced sealing layer back surface protective layer laminate 7. The results are shown in Table 2.
比較例4
前記調製した封止層8と裏面保護層を株式会社エヌ・ピー・シー社製真空ラミネート装置LM−30x30を用い150℃、15分の条件で定法によりこの順に積層し封止層裏面保護層積層品8を作製した。その後、作製した封止層裏面保護層積層品8を使用して、前述の方法で反射率を測定した。結果を表2に示す
Comparative Example 4
The prepared sealing layer 8 and the back surface protective layer are laminated in this order by a conventional method at 150 ° C. for 15 minutes using a vacuum laminator LM-30x30 manufactured by NPC Corporation. Product 8 was produced. Then, the reflectance was measured by the above-mentioned method using the produced sealing layer back surface protective layer laminate 8. The results are shown in Table 2.
比較例5
前記調製した封止層9と裏面保護層を株式会社エヌ・ピー・シー社製真空ラミネート装置LM−30x30を用い150℃、15分の条件で定法によりこの順に積層し封止層裏面保護層積層品9を作製した。その後、作製した封止層裏面保護層積層品9を使用して、前述の方法で反射率を測定した。結果を表2に示す。
Comparative Example 5
The prepared sealing layer 9 and back surface protective layer are laminated in this order by a conventional method at 150 ° C. for 15 minutes using a vacuum laminator LM-30x30 manufactured by NPC Corporation. Product 9 was produced. Then, the reflectance was measured by the above-mentioned method using the produced sealing layer back surface protective layer laminate 9. The results are shown in Table 2.
このようにして得られた本発明の封止層裏面保護層積層品1〜4は、いずれも柔軟性と耐熱性を兼備し、反射率にも優れるものであった。
また、本発明の封止層裏面保護層積層品1〜4は、表2に示されるように、防湿層を保護するために必要な柔軟性と耐熱性および反射率との良好なバランスが図られた、十分な厚みを有したものであった。したがって、実施例1〜4の封止層裏面保護層積層体は、柔軟性と耐熱性を兼備し、反射性にも優れるのみならず、その高反射率を獲得することにより、長期における高温・傾斜条件下での使用に耐え、発電効率の高い太陽電池モジュールを実現できるものである。
The sealing layer back surface protective layer laminates 1 to 4 of the present invention thus obtained both had flexibility and heat resistance and were excellent in reflectance.
In addition, as shown in Table 2, the sealing layer back surface protective layer laminates 1 to 4 of the present invention have a good balance of flexibility, heat resistance, and reflectance necessary for protecting the moisture-proof layer. And had a sufficient thickness. Therefore, the sealing layer back surface protective layer laminates of Examples 1 to 4 have both flexibility and heat resistance, and are excellent in reflectivity as well as by obtaining the high reflectivity, A solar cell module that can withstand use under inclined conditions and has high power generation efficiency can be realized.
一方、封止層5、9は、耐熱性に劣り、高温下・傾斜条件で使用されることによれば、基準値からずれたりシートが溶融したりすることが明らかとなった。したがって、封止層5、9を用いて作製された封止層裏面保護層積層体においては、封止層がその役割を果たしきれず、その結果、実際の高温での太陽電池素子の稼動時には防湿性や反射率の低下が予見される。すなわち、高温下・傾斜条件での使用が見込まれる太陽電池用部材の素材としては好ましくない。また、封止層6〜8は、柔軟性(貯蔵弾性率)に劣り、モジュールへの衝撃などに対する保護が不十分であることが示された。したがって、封止層6〜8を用いて作製された封止層裏面保護層積層品においても、封止層がその役割を果たしきれず、防湿層の保護が十分ではないものであった。 On the other hand, it became clear that the sealing layers 5 and 9 are inferior in heat resistance, and when used under high temperature and inclined conditions, they deviate from the reference value or the sheet melts. Therefore, in the sealing layer back surface protective layer laminate produced using the sealing layers 5 and 9, the sealing layer cannot fulfill its role, and as a result, when the solar cell element is operated at an actual high temperature. A decrease in moisture resistance and reflectance is foreseen. That is, it is not preferable as a material for a solar cell member that is expected to be used under high temperature and inclined conditions. Moreover, the sealing layers 6-8 were inferior in a softness | flexibility (storage elastic modulus), and it was shown that the protection with respect to the impact to a module, etc. is inadequate. Therefore, also in the sealing layer back surface protective layer laminate manufactured using the sealing layers 6 to 8, the sealing layer cannot fulfill its role, and the moisture-proof layer is not sufficiently protected.
Claims (10)
(1)示差走査熱量測定における加熱速度10℃/分で測定される結晶融解熱量が0〜70J/g
(2)示差走査熱量測定における加熱速度10℃/分で測定される結晶融解ピーク温度が100℃以上であり、かつ、結晶融解熱量が5〜70J/g It contains an ethylene-α-olefin random copolymer (A-1) that satisfies the following condition (1) and an ethylene-α-olefin block copolymer (A-2) that satisfies the following condition (2): The laminated body for solar cell protection which has a sealing layer (A) and a back surface protective layer (B).
(1) The heat of crystal fusion measured at a heating rate of 10 ° C./min in differential scanning calorimetry is 0 to 70 J / g.
(2) The crystal melting peak temperature measured at a heating rate of 10 ° C./min in differential scanning calorimetry is 100 ° C. or higher, and the crystal melting heat amount is 5 to 70 J / g.
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