JP2012028626A - パッケージ成型体、ランプおよびパッケージ成型体の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】高い反射率が得られ、しかも長期に渡って高い反射率を維持できるリード電極を備えたパッケージ成型体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】支持体4と、支持体4に設けられ、発光素子5が載置される底部4bを有する凹部4aと、発光素子5と電気的に接続されるものであって底部4bに一部が露出されたリード電極3とを備え、リード電極3が、配線層31と、配線層31上に設けられたAg層32と、Ag層32上に設けられたAg合金層33とを備えるパッケージ成型体とする。
【選択図】図1
【解決手段】支持体4と、支持体4に設けられ、発光素子5が載置される底部4bを有する凹部4aと、発光素子5と電気的に接続されるものであって底部4bに一部が露出されたリード電極3とを備え、リード電極3が、配線層31と、配線層31上に設けられたAg層32と、Ag層32上に設けられたAg合金層33とを備えるパッケージ成型体とする。
【選択図】図1
Description
本発明は、パッケージ成型体、ランプおよびパッケージ成型体の製造方法に関し、特に長期に渡って高い反射率が得られるリード電極を備えたパッケージ成型体およびその製造方法に関する。
近年、発光素子を利用した発光ダイオード(以下、「LED」ともいう)などのランプの開発が進められている。LEDとしては、パッケージ成型体に形成された凹部の底面にLED素子(発光素子)が載置され、LED素子の電極とリード電極とがワイヤーなどの導電材料で電気的に接続されたものが知られている。
このようなLEDを構成するLED素子は、上面だけでなく側面や底面からも発光する。このため、従来から、パッケージ成型体の凹部内の反射率を高くして、凹部内に配置されたLED素子の側面や底面から発光された光を凹部内で反射させることにより、LEDの発光効率を向上させる技術が用いられている。
このようなLEDを構成するLED素子は、上面だけでなく側面や底面からも発光する。このため、従来から、パッケージ成型体の凹部内の反射率を高くして、凹部内に配置されたLED素子の側面や底面から発光された光を凹部内で反射させることにより、LEDの発光効率を向上させる技術が用いられている。
パッケージ成型体の凹部内の反射率を高くする方法としては、反射光の色味に影響を及ぼすことがなく、高い反射率を有する銀からなる膜を、パッケージ成型体の凹部内に形成する方法などが挙げられる。
しかしながら、銀からなる膜は、空気中の硫黄成分などと反応して表面に硫化物が形成されることにより、黄色〜黒色に徐々に変色するため、時間の経過に伴って反射率が低下するという問題があった。このため、従来のパッケージ成型体では、長期にわたって高い反射率を維持することは困難であった。
しかしながら、銀からなる膜は、空気中の硫黄成分などと反応して表面に硫化物が形成されることにより、黄色〜黒色に徐々に変色するため、時間の経過に伴って反射率が低下するという問題があった。このため、従来のパッケージ成型体では、長期にわたって高い反射率を維持することは困難であった。
このような問題を解決する技術として、例えば、特許文献1には、窓枠の半導体発光素子を囲む内面に、基材側から順に、少なくとも1層の下地金属層と、金、パラジウムおよび白金からなる群より選ばれる少なくとも1種の金属を含む中間金属層と、少なくともロジウムを含む表面金属層とを有する光反射膜が形成されて、当該内面が光反射面とされた発光ダイオード用パッケージが提案されている。
また、例えば、特許文献2には、長期間にわたって高い反射率を維持できる反射層を備えた支持体として、素子載置領域の底部に露出した電極層と、素子載置領域の内壁に形成された周辺部反射層とを備え、電極層が、電極反射層と、電極反射層の上側に積層された接合層とを含み、電極反射層と周辺部反射層とはAg合金膜から形成され、接合層は、発光素子での発光を透過可能な薄さのAu膜又はAu合金膜から形成されている発光装置用の支持体が提案されている。
また、特許文献3には、内部リードに施されている銀メッキの表面の硫化を防止でき、時間経過に伴う光出力の低下を防止する技術として、発光素子収納用の開口部を有する支持体の開口部内面の一部に内部リードが露出し、支持体の開口部内において少なくとも内部リードの銀メッキ表面を被覆するように膜厚が1μm以下の銀メッキ硫化防止用の薄膜コートが形成されているパッケージが記載されている。
また、特許文献4には、硫化による黄色化を生じにくい反射電極膜を形成しうるAg−Pd−Cu−Ge系銀合金で形成された銀合金スパッタリングターゲット材が提案されている。
また、特許文献5には、Biを含有するAg合金薄膜の表面および/または該Ag合金薄膜上の他層との界面にBi層および/またはBi酸化物層が形成された構造を有するリフレクター用Ag合金反射膜や、Ag合金薄膜を形成するために用いられるAg合金スパッタリングターゲットが記載されている。
また、特許文献5には、Biを含有するAg合金薄膜の表面および/または該Ag合金薄膜上の他層との界面にBi層および/またはBi酸化物層が形成された構造を有するリフレクター用Ag合金反射膜や、Ag合金薄膜を形成するために用いられるAg合金スパッタリングターゲットが記載されている。
また、非特許文献1には、光ディスク用高耐久性および高反射率反射膜として、Ag−Bi系合金反射膜が記載されている。さらに、非特許文献1には、高耐久性Ag合金反射膜としてAg−Nd系合金薄膜が記載されている。
神戸製鋼技報Vol.55、No.1、Apr.2005、p17〜p20、光ディスク用高耐久性および高反射率Ag−Bi系合金反射膜の開発。
しかしながら、従来のパッケージ成型体は、リード電極の反射率が十分に高く、かつ、長期に渡って維持できるものではなく、リード電極の反射率が不十分であったり時間の経過に伴って低下したりするために、長期に渡って十分に高い反射率が得られない場合があった。
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、高い反射率が得られ、しかも長期に渡って高い反射率を維持できるリード電極を備えたパッケージ成型体およびその製造方法を提供することを課題とする。
また、本発明のパッケージ成型体を備えることにより、長期にわたって高い発光効率が得られるランプを提供することを課題とする。
また、本発明のパッケージ成型体を備えることにより、長期にわたって高い発光効率が得られるランプを提供することを課題とする。
本発明者は、上記問題を解決するために鋭意検討した結果、本発明を完成した。即ち、本発明は以下に関する。
(1) 支持体と、前記支持体に設けられ、発光素子が載置される底部を有する凹部と、前記発光素子と電気的に接続されるものであって前記底部に一部が露出されたリード電極とを備え、前記リード電極が、配線層と、前記配線層上に設けられたAg層と、前記Ag層上に設けられたAg合金層とを備えることを特徴とするパッケージ成型体。
(2) 前記Ag合金層の光沢度が0.05〜1の範囲であることを特徴とする(1)に記載のパッケージ成型体。
(3) 前記Ag合金層の厚みが5〜100nmの範囲であることを特徴とする(1)または(2)に記載のパッケージ成型体。
(4) 前記Ag合金層が、AgとPdとCuとを含む合金、AgとBiとNdとを含む合金、AgとNdとCuとを含む合金のいずれかの合金からなるものであることを特徴とする(1)〜(3)のいずれかに記載のパッケージ成型体。
(1) 支持体と、前記支持体に設けられ、発光素子が載置される底部を有する凹部と、前記発光素子と電気的に接続されるものであって前記底部に一部が露出されたリード電極とを備え、前記リード電極が、配線層と、前記配線層上に設けられたAg層と、前記Ag層上に設けられたAg合金層とを備えることを特徴とするパッケージ成型体。
(2) 前記Ag合金層の光沢度が0.05〜1の範囲であることを特徴とする(1)に記載のパッケージ成型体。
(3) 前記Ag合金層の厚みが5〜100nmの範囲であることを特徴とする(1)または(2)に記載のパッケージ成型体。
(4) 前記Ag合金層が、AgとPdとCuとを含む合金、AgとBiとNdとを含む合金、AgとNdとCuとを含む合金のいずれかの合金からなるものであることを特徴とする(1)〜(3)のいずれかに記載のパッケージ成型体。
(5) (1)〜(4)のいずれかに記載のパッケージ成型体と、前記パッケージ成型体の凹部に載置され、前記リード電極と電気的に接続された発光素子とを備えることを特徴とするランプ。
(6) 発光素子と電気的に接続されるリード電極を形成する工程と、前記発光素子が載置される底部であって前記リード電極の一部が露出された底部を有する凹部を備えた支持体を形成する工程とを有し、前記リード電極を形成する工程が、配線層を形成する工程と、めっき法により前記配線層上にAg層を設ける工程と、スパッタ法により前記Ag層上にAg合金層を設ける工程とを含むことを特徴とするパッケージ成型体の製造方法。
(7) 前記Ag層を設ける工程において、光沢剤を用いることを特徴とする(6)に記載のパッケージ成型体の製造方法。
(7) 前記Ag層を設ける工程において、光沢剤を用いることを特徴とする(6)に記載のパッケージ成型体の製造方法。
本発明のパッケージ成型体は、リード電極が、配線層と、配線層上に設けられたAg層と、前記Ag層上に設けられたAg合金層とを備えるものであるので、高い反射率が得られ、しかも長期に渡って高い反射率を維持できるリード電極を備えたものとなる。
また、本発明のランプは、本発明のパッケージ成型体と、前記パッケージ成型体の凹部に載置され、前記リード電極と電気的に接続された発光素子とを備えるものであるので、長期にわたって高い発光効率が得られるものとなる。
また、本発明のパッケージ成型体の製造方法においては、リード電極を形成する工程が、配線層を形成する工程と、めっき法により前記配線層上にAg層を設ける工程と、スパッタ法により前記Ag層上にAg合金層を設ける工程とを含むので、Ag層を設ける工程において、配線層の色味の影響を受けることがなく、Ag合金層の光沢度を好ましい範囲とすることができる十分な厚みおよび光沢度のAg層を容易に形成することができる。したがって、Ag合金層を設ける工程において、リード電極の変色を防止できる好ましい組成のAg合金層を高精度で容易に形成できる。その結果、本発明のパッケージ成型体の製造方法によれば、高い反射率が得られ、しかも長期に渡って高い反射率を維持できるリード電極を備えたパッケージ成型体を容易に実現できる。
以下、本発明のパッケージ成型体、ランプおよびパッケージ成型体の製造方法について、詳細に説明する。
図1は、本発明のランプの一例を模式的に示した概略図であり、図1(a)はランプの断面図であり、図1(b)はランプの平面図であり、図1(c)はランプを構成するリード電極のみを模式的に示した拡大断面図である。図1(a)〜図1(c)に示すランプは、パッケージ成型体1と、パッケージ成型体1の凹部4aに載置され、パッケージ成型体1のリード電極3と電気的に接続されたLED素子(発光素子)5とを備えたものである。
図1は、本発明のランプの一例を模式的に示した概略図であり、図1(a)はランプの断面図であり、図1(b)はランプの平面図であり、図1(c)はランプを構成するリード電極のみを模式的に示した拡大断面図である。図1(a)〜図1(c)に示すランプは、パッケージ成型体1と、パッケージ成型体1の凹部4aに載置され、パッケージ成型体1のリード電極3と電気的に接続されたLED素子(発光素子)5とを備えたものである。
パッケージ成型体1は、図1(a)および図1(b)に示すように、基板2と、基板2上に設けられた第1電極3aと第2電極3bとからなる一対のリード電極3と、基板2と一体化された支持体4と、支持体4に設けられた凹部4aとを備えている。
支持体4としては、例えば、ポリフタルアミドやポリフェニレンスルフィドなどからなる白色の耐熱性樹脂からなるものなどが用いられる。
また、凹部4aは、図1(a)および図1(b)に示すように、平面視円形のすり鉢状(カップ状)の形状とされている。凹部4aの底部4bには、LED素子5が載置されており、LED素子5と電気的に接続されたリード電極3の一部が露出されている。リード電極3を構成する第1電極3aと第2電極3bは、図1(b)に示すように、基板2の帯状の絶縁領域9によって電気的に絶縁されている。
また、凹部4aは、図1(a)および図1(b)に示すように、平面視円形のすり鉢状(カップ状)の形状とされている。凹部4aの底部4bには、LED素子5が載置されており、LED素子5と電気的に接続されたリード電極3の一部が露出されている。リード電極3を構成する第1電極3aと第2電極3bは、図1(b)に示すように、基板2の帯状の絶縁領域9によって電気的に絶縁されている。
第1電極3aおよび第2電極3bは、図1(c)に示すように、配線層31と、配線層上に設けられたAg層32と、Ag層32上に設けられたAg合金層33とを備えている。
配線層31としては、例えば、CuやCu系合金、Fe系合金、Niなどを用いることができるが、CuまたはCu系合金を用いることが好ましい。
配線層31としては、例えば、CuやCu系合金、Fe系合金、Niなどを用いることができるが、CuまたはCu系合金を用いることが好ましい。
Ag層32は、めっき光沢度(GAM光沢度)が0.05〜1の範囲であることが好ましく、0.1〜0.6の範囲であることがより好ましい。Ag層32の光沢度が0.05未満である場合や1を超える場合、Ag層32上に設けられるAg合金層33の光沢度が好ましい範囲にならず、リード電極3の反射率が不十分となる場合がある。
また、Ag層32の厚みは、1μm〜5μmの範囲であることが好ましく、2μm〜3μmの範囲であることがより好ましい。Ag層32の厚みが1μm未満であると、配線層31の金属のマイグレーションにより反射率が低下する。また、光沢度が高精度で制御されたAg層32が得られにくくなり、Ag層32の光沢度のばらつきが大きくなる。また、Ag層32の厚みが5μmを超えると、めっき処理時間が長くなりAg使用量が増加してコスト高となるため好ましくない。
また、Ag層32の厚みは、1μm〜5μmの範囲であることが好ましく、2μm〜3μmの範囲であることがより好ましい。Ag層32の厚みが1μm未満であると、配線層31の金属のマイグレーションにより反射率が低下する。また、光沢度が高精度で制御されたAg層32が得られにくくなり、Ag層32の光沢度のばらつきが大きくなる。また、Ag層32の厚みが5μmを超えると、めっき処理時間が長くなりAg使用量が増加してコスト高となるため好ましくない。
また、Ag合金層33は、AgとPdとCuとを含む合金、AgとBiとNdとを含む合金、AgとNdとCuとを含む合金のいずれかの合金からなるものであることが好ましい。Ag合金層33がこれらの合金からなるものであると、Ag層32の形状に基づく好ましい光沢度が得られる程度に薄い厚みでAg層32上にAg合金層33を形成した場合であっても、リード電極3の変色を効果的に防止できる。
また、Ag合金層33の光沢度(GAM光沢度)は0.05〜1の範囲であることが好ましく、0.1〜0.6の範囲であることがより好ましい。Ag合金層33の光沢度が0.05未満である場合や1を超える場合、リード電極3の反射率が不十分となる場合がある。
また、Ag合金層33の光沢度(GAM光沢度)は0.05〜1の範囲であることが好ましく、0.1〜0.6の範囲であることがより好ましい。Ag合金層33の光沢度が0.05未満である場合や1を超える場合、リード電極3の反射率が不十分となる場合がある。
また、Ag合金層33の厚みは5〜100nmの範囲であることが好ましく、10〜20nmの範囲であることがより好ましい。Ag合金層33の厚みが、5nm未満であると、リード電極3の変色を防止する効果が不十分となる場合がある。また、Ag合金層33の厚みが100nmを超えると、Ag層32の形状に基づく好ましい光沢度を有するAg合金層33が得られにくくなるとともに、Ag合金層33による光吸収の影響が生じやすくなるため、リード電極3の反射率が不十分となる場合がある。
また、図1(a)および図1(b)に示すように、凹部4aの底部4bに露出された第2電極3b上には、表面実装型のLED素子5がダイアタッチペースト6によって接着されている。LED素子5には、図1(b)に示すように、Au、Al、Ni、Cuなどからなる陽極ボンディングパッド5aおよび陰極ボンディングパッド5bが設けられており、それぞれAuやAlなどからなるワイヤー7、7を介して第1電極3aおよび第2電極3bと電気的に接続されている。また、凹部4aの内部にはエポキシ樹脂やシリコーン樹脂などからなる透光性樹脂が充填され、LED素子5が透光性樹脂の硬化物8によって被覆され、封止されている。
図1に示すランプを製造するには、まず、LED素子5とパッケージ成型体1とを製造する。
パッケージ成型体1を製造するには、まず、基板2上に、LED素子5と電気的に接続されるリード電極3を形成する。本実施形態においてリード電極3を形成する工程は、フォトリソグラフィ技術を用いる方法など公知の方法によって配線層31を形成する工程と、光沢剤を用いるめっき法により配線層31上にAg層32を設ける工程と、スパッタ法によりAg層32上にAg合金層33を設ける工程とを含むことが好ましい。
パッケージ成型体1を製造するには、まず、基板2上に、LED素子5と電気的に接続されるリード電極3を形成する。本実施形態においてリード電極3を形成する工程は、フォトリソグラフィ技術を用いる方法など公知の方法によって配線層31を形成する工程と、光沢剤を用いるめっき法により配線層31上にAg層32を設ける工程と、スパッタ法によりAg層32上にAg合金層33を設ける工程とを含むことが好ましい。
リード電極3を形成する工程において、光沢剤を用いるめっき法により配線層31上にAg層32を設ける場合、スパッタ法によりAg層32を設ける場合と比較して、Ag層32の厚みを容易に厚くすることができるとともに、光沢剤の種類や量を制御する方法などによりAg層32の光沢度を容易に制御することができる。このため、光沢剤を用いるめっき法により配線層31上にAg層32を設ける場合、配線層31の色味の影響を受けることがなく、Ag合金層33の光沢度を好ましい範囲とすることができる十分な厚みおよび光沢度のAg層32を容易に形成できる。Ag層32の光沢度は、めっき法において用いられるめっき浴中の光沢剤の濃度を調整することによっての制御できる。Ag層32の光沢度を調整できる光沢剤としては、例えば、As,Sb,Te,Seから選ばれる無機光沢剤や有機光沢剤などが挙げられる。
また、リード電極3を形成する工程において、スパッタ法によりAg層32上にAg合金層33を設ける場合、スパッタターゲットの組成を所定の組成とする方法などにより、Ag合金層33の組成を高精度で容易に制御することができる。したがって、スパッタ法によりAg層32上にAg合金層33を設ける場合、めっき法によりAg合金層33を設ける場合と比較して、リード電極3の変色を防止できる好ましい組成のAg合金層を高精度で容易に形成できる。
なお、Ag層32は、めっき法により設けることが好ましいが、スパッタ法など他の方法で設けてもよい。また、Ag合金層33はスパッタ法により設けることが好ましいがめっき法など他の方法で設けてもよい。
なお、Ag層32は、めっき法により設けることが好ましいが、スパッタ法など他の方法で設けてもよい。また、Ag合金層33はスパッタ法により設けることが好ましいがめっき法など他の方法で設けてもよい。
続いて、リード電極3の形成された基板2と一体化された支持体4を、白色の耐熱性樹脂などを用いて成型法などにより所定の形状に形成する。このことにより、LED素子5が載置される底部4bであってリード電極3の一部が露出された底部4bを有する凹部4aを備えた支持体4が得られ、本実施形態のパッケージ成型体1が得られる。
その後、支持体4の凹部4aの底部4bに露出された第2電極3b上にLED素子5を接着する。次に、ボンディングパッド5a、5bと第1電極3a、第2電極3bをワイヤー7、7により接続する。
続いて、凹部4aの内部に透光性樹脂を充填して、LED素子5を被覆し、透光性樹脂を硬化させて硬化物8とする。このことにより、図1に示すランプが得られる。
続いて、凹部4aの内部に透光性樹脂を充填して、LED素子5を被覆し、透光性樹脂を硬化させて硬化物8とする。このことにより、図1に示すランプが得られる。
本実施形態のパッケージ成型体1は、リード電極3が、配線層31と、配線層31上に設けられたAg層32と、Ag層32上に設けられたAg合金層33とを備えるものであるので、高い反射率が得られ、しかも長期に渡って高い反射率を維持できるリード電極3を備えたものとなる。
また、本実施形態のランプは、本実施形態のパッケージ成型体1と、パッケージ成型体1の凹部4aに載置され、リード電極3と電気的に接続されたLED素子5とを備えるものであるので、長期にわたって高い発光効率が得られる。
また、本実施形態のパッケージ成型体1の製造方法において、リード電極3を形成する工程が、配線層31を形成する工程と、めっき法により配線層31上にAg層32を設ける工程と、スパッタ法によりAg層32上にAg合金層33を設ける工程とを含む場合、高い反射率が得られ、しかも長期に渡って高い反射率を維持できるリード電極を備えたパッケージ成型体1が容易に得られる。
「実験例1〜実験例5、比較例1〜比較例3」
以下に示す方法により、実験例1〜実験例5、比較例1〜比較例3のパッケージ成型体を製造した。
まず、基板上に、Cuからなる厚み150μmの配線層を形成した。次に、光沢剤としてセレンシアン酸カリウムなどセレン化合物を含む中性シアン浴からなるめっき浴を用い、温度70〜80℃、電流密度40〜120A/dm2で電解銀めっき法を行うことにより、配線層上にそれぞれ表1に示す厚みおよび光沢度のAg層を設けた。
以下に示す方法により、実験例1〜実験例5、比較例1〜比較例3のパッケージ成型体を製造した。
まず、基板上に、Cuからなる厚み150μmの配線層を形成した。次に、光沢剤としてセレンシアン酸カリウムなどセレン化合物を含む中性シアン浴からなるめっき浴を用い、温度70〜80℃、電流密度40〜120A/dm2で電解銀めっき法を行うことにより、配線層上にそれぞれ表1に示す厚みおよび光沢度のAg層を設けた。
続いて、実験例1〜実験例5、比較例3のパッケージ成型体となるAg層上に、スパッタ法により表1に示す材料からなる表1に示す厚みのAg合金層を設けた。このことにより、実験例1〜実験例5、比較例1〜比較例3のリード電極を得た。
このようにして得られた実験例1〜実験例5、比較例1〜比較例3のリード電極について、以下に示す方法により、Ag合金層の光沢度と相対反射率とを測定した。その結果を表1に示す。
このようにして得られた実験例1〜実験例5、比較例1〜比較例3のリード電極について、以下に示す方法により、Ag合金層の光沢度と相対反射率とを測定した。その結果を表1に示す。
「Ag合金層の光沢度」
SEMI G55−93(リードフレーム銀めっき光沢度の測定方法)に従い、GAMデントシメーターを用いて、リード電極に垂直な光源から照射される光が、リード電極表面から45度の角度に反射される比率から求めた。
「相対反射率」
積分球の付属した分光光度計を用いて、リード電極の450nmでの反射率と、リード電極と同じ光沢度のAgの450nmでの反射率とを求め、同じ光沢度のAgに対するリード電極の相対反射率を算出した。
SEMI G55−93(リードフレーム銀めっき光沢度の測定方法)に従い、GAMデントシメーターを用いて、リード電極に垂直な光源から照射される光が、リード電極表面から45度の角度に反射される比率から求めた。
「相対反射率」
積分球の付属した分光光度計を用いて、リード電極の450nmでの反射率と、リード電極と同じ光沢度のAgの450nmでの反射率とを求め、同じ光沢度のAgに対するリード電極の相対反射率を算出した。
続いて、白色の耐熱性樹脂である9Tナイロン(商品名:クラレジェネスタ)を所定の形状に成形して、リード電極の形成された基板と一体化された支持体を形成した。このことにより、リード電極の一部が露出された底部を有する凹部を備えた支持体を有する実験例1〜実験例5、比較例1〜比較例3のパッケージ成型体を得た。
その後、実験例1〜実験例5、比較例1〜比較例3のパッケージ成型体を構成する支持体の凹部の底部に露出されたリード電極上に、LED素子を接着した。LED素子としては、市販品のInGaN系青色LED(昭和電工株式会社製GU35R460T)を使用した。次に、LED素子のボンディングパッドとリード電極とをワイヤーにより接続した。続いて、凹部の内部に透光性樹脂を充填して、LED素子を被覆し、透光性樹脂を硬化させた。このことにより、図1に示す実験例1〜実験例5、比較例1〜比較例3のランプを得た。
このようにして得られた実験例1〜実験例5、比較例1〜比較例3のランプについて、以下に示す方法により、初期光度(cd)と光度維持率(%)とを調べた。その結果を表1に示す。
「初期光度(cd)」
ランプに20mAの通電を行って光度を測定した。
「光度維持率」
前述の方法で製造したランプについて、85℃の高温オーブン中で20mAの通電を2000時間行う前と後での光度を測定し、その経時変化(光度維持率(%)=(初期光度/85℃の高温オーブン中で20mAの通電を2000時間行った後の光度)×100)を算出した。
「初期光度(cd)」
ランプに20mAの通電を行って光度を測定した。
「光度維持率」
前述の方法で製造したランプについて、85℃の高温オーブン中で20mAの通電を2000時間行う前と後での光度を測定し、その経時変化(光度維持率(%)=(初期光度/85℃の高温オーブン中で20mAの通電を2000時間行った後の光度)×100)を算出した。
表1に示すように、実験例1〜5のランプは、Ag合金層に代えてRhからなる層を設けた比較例3のランプと比べて、初期光度(cd)が高かった。この理由は、比較例3のランプでは、同じ光沢度のAgに対する相対反射率が低いためである。
また、表1に示すように、実験例1〜5のランプは、光度維持率(%)が93%以上であり、Ag合金層のない比較例1及び比較例2のランプと比較して、極めて高かった。
このことから、本発明のパッケージ成型体1を構成する、配線層31と配線層31上に設けられたAg層32とAg層32上に設けられたAg合金層33とを備えるリード電極3が、高い反射率(相対反射率)を有し、長期(例えば2000時間)に渡って高い反射率を維持できるものであることが確認できた。
また、表1に示すように、実験例1〜5のランプは、光度維持率(%)が93%以上であり、Ag合金層のない比較例1及び比較例2のランプと比較して、極めて高かった。
このことから、本発明のパッケージ成型体1を構成する、配線層31と配線層31上に設けられたAg層32とAg層32上に設けられたAg合金層33とを備えるリード電極3が、高い反射率(相対反射率)を有し、長期(例えば2000時間)に渡って高い反射率を維持できるものであることが確認できた。
1…パッケージ成型体、2…基板、3…リード電極、3a…第1電極、3b…第2電極、4…支持体、4a…凹部、4b…底部、5…LED素子(発光素子)、6…ダイアタッチペースト、7…ワイヤー、9…絶縁領域、31…配線層、32…Ag層、33…Ag合金層。
Claims (7)
- 支持体と、
前記支持体に設けられ、発光素子が載置される底部を有する凹部と、
前記発光素子と電気的に接続されるものであって前記底部に一部が露出されたリード電極とを備え、
前記リード電極が、配線層と、前記配線層上に設けられたAg層と、前記Ag層上に設けられたAg合金層とを備えることを特徴とするパッケージ成型体。 - 前記Ag合金層の光沢度が0.05〜1の範囲であることを特徴とする請求項1に記載のパッケージ成型体。
- 前記Ag合金層の厚みが5〜100nmの範囲であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のパッケージ成型体。
- 前記Ag合金層が、AgとPdとCuとを含む合金、AgとBiとNdとを含む合金、AgとNdとCuとを含む合金のいずれかの合金からなるものであることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載のパッケージ成型体。
- 請求項1〜請求項4のいずれかに記載のパッケージ成型体と、
前記パッケージ成型体の凹部に載置され、前記リード電極と電気的に接続された発光素子とを備えることを特徴とするランプ。 - 発光素子と電気的に接続されるリード電極を形成する工程と、
前記発光素子が載置される底部であって前記リード電極の一部が露出された底部を有する凹部を備えた支持体を形成する工程とを有し、
前記リード電極を形成する工程が、配線層を形成する工程と、めっき法により前記配線層上にAg層を設ける工程と、スパッタ法により前記Ag層上にAg合金層を設ける工程とを含むことを特徴とするパッケージ成型体の製造方法。 - 前記Ag層を設ける工程において、光沢剤を用いることを特徴とする請求項6に記載のパッケージ成型体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010167175A JP2012028626A (ja) | 2010-07-26 | 2010-07-26 | パッケージ成型体、ランプおよびパッケージ成型体の製造方法 |
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JP2012028626A true JP2012028626A (ja) | 2012-02-09 |
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JP (1) | JP2012028626A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014229789A (ja) * | 2013-05-23 | 2014-12-08 | シャープ株式会社 | 発光装置及び発光装置の製造方法 |
US10483445B2 (en) | 2017-08-31 | 2019-11-19 | Nichia Corporation | Lead frame, package for light emitting device, light emitting device, and method for manufacturing light emitting device |
-
2010
- 2010-07-26 JP JP2010167175A patent/JP2012028626A/ja active Pending
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JP2014229789A (ja) * | 2013-05-23 | 2014-12-08 | シャープ株式会社 | 発光装置及び発光装置の製造方法 |
US10483445B2 (en) | 2017-08-31 | 2019-11-19 | Nichia Corporation | Lead frame, package for light emitting device, light emitting device, and method for manufacturing light emitting device |
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