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JP2010237435A - Lithographic printing plate precursor - Google Patents

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JP2010237435A JP2009085239A JP2009085239A JP2010237435A JP 2010237435 A JP2010237435 A JP 2010237435A JP 2009085239 A JP2009085239 A JP 2009085239A JP 2009085239 A JP2009085239 A JP 2009085239A JP 2010237435 A JP2010237435 A JP 2010237435A
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plate precursor
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裕一 白石
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an infrared-sensitive positive-working photosensitive lithographic printing plate precursor that is superior in both of chemical resistance in an image area and developability. <P>SOLUTION: The positive-working photosensitive lithographic printing plate precursor has, on a support having a hydrophilic surface, a recording layer comprising an alkali-soluble or alkali-swellable polymer having a structural unit represented by general formula (1), a novolac resin, an infrared absorber, and at least one member selected from aromatic group-containing sulfonium salts and iodonium salts. In general formula (1), R<SP>1</SP>represents a hydrogen atom or methyl group, X represents a single bond, -COO-, or -CONH-, Ar<SP>1</SP>and Ar<SP>2</SP>each represent an optionally substituted aromatic group or heteroaromatic group, and Y represents -SO<SB>2</SB>NH- or -NHSO<SB>2</SB>-. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は感光性平版印刷版原版に関し、より具体的にはポジ型感光性平版印刷版原版に関する。本願発明は、特に赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版に関し、より詳細にはコンピュータ等のデジタル信号に基づいて赤外線レーザ光を走査することにより直接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能な赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版に関する。   The present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate precursor, and more specifically to a positive photosensitive lithographic printing plate precursor. The present invention particularly relates to a photosensitive lithographic printing plate precursor for infrared laser, and more specifically, photosensitivity for infrared laser capable of so-called direct plate making, which can be directly made by scanning infrared laser light based on a digital signal of a computer or the like. Related to lithographic printing plate precursor.

近年におけるレーザの発展は目覚しく、特に近赤外線から赤外線領域に発光領域を持つ固体レーザや半導体レーザでは、高出力・小型化が進んでいる。したがって、コンピュータ等のディジタルデータから直接製版する際の露光光源として、これらのレーザは非常に有用である。
前述の赤外線領域に発光領域を持つ赤外線レーザを露光光源として使用する、赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版は、バインダー樹脂と光を吸収し熱を発生するIR染料等とを必須成分とする平版印刷版原版である。該赤外線レーザ用平版印刷版原版に前記赤外線レーザを露光すると、ポジ型感光層を有する場合、未露光部(画像部)では該赤外線レーザ用平版印刷版原版中のIR染料等が、前記バインダー樹脂との相互作用により該バインダー樹脂の溶解性を実質的に低下させる溶解阻止剤として働く。一方、露光部(非画像部)では、前記IR染料等が光を吸収して熱を発生するため、該IR染料等と前記バインダー樹脂との相互作用が弱くなる。したがって現像時には、前記露光部(非画像部)がアルカリ現像液に溶解し、平版印刷版が形成される。
In recent years, the development of lasers has been remarkable, and in particular, solid-state lasers and semiconductor lasers having a light emitting region from the near infrared to the infrared region have been increasing in output and size. Therefore, these lasers are very useful as an exposure light source when making a plate directly from digital data such as a computer.
A photosensitive lithographic printing plate precursor for infrared laser, which uses an infrared laser having a light emitting region in the infrared region as an exposure light source, is a lithographic plate comprising a binder resin and an IR dye that absorbs light and generates heat as essential components. It is a printing plate master. When the infrared laser is exposed to the infrared laser on the lithographic printing plate precursor, the IR dye or the like in the lithographic printing plate precursor for the infrared laser is added to the binder resin in the unexposed portion (image portion) when a positive photosensitive layer is provided. It acts as a dissolution inhibitor that substantially lowers the solubility of the binder resin by interacting with it. On the other hand, in the exposed portion (non-image portion), the IR dye or the like absorbs light and generates heat, so that the interaction between the IR dye or the like and the binder resin is weakened. Therefore, at the time of development, the exposed portion (non-image portion) is dissolved in an alkaline developer, and a lithographic printing plate is formed.

このような赤外線レーザ用平版印刷版原版においては、種々の課題が依然あり、その中の1つに、現像性と耐薬品性との両立がある。すなわち、露光部分が現像されるポジ型において、現像液への溶解性を向上させると、未露光部での現像液や種々の薬品耐性が劣化することから、この2つをいかに両立させるかがポイントである。
これらの課題に対し、これまで種々の検討がなされている。例えば、ポリビニルアセタールを使用すること(例えば、特許文献1参照)、あるいは平版印刷版の樹脂層の構造を2層以上にし、例えば下層にマレイミド化合物を構成成分とする高分子化合物を使用すること(例えば、特許文献2参照)、更に、特定の官能基を有する共重合体を使用すること(例えば、特許文献3参照)が提案されているが、いずれも満足するレベルまでは到達できず、更なるレベルアップが望まれていた。
Such lithographic printing plate precursors for infrared lasers still have various problems, and one of them is compatibility between developability and chemical resistance. In other words, in the positive type where the exposed part is developed, if the solubility in the developer is improved, the developer in the unexposed part and various chemical resistances deteriorate, so how to make the two compatible? It is a point.
Various studies have been made on these issues. For example, polyvinyl acetal is used (for example, refer to Patent Document 1), or the resin layer structure of the lithographic printing plate is made into two or more layers, for example, a polymer compound containing a maleimide compound as a lower layer is used ( For example, see Patent Document 2), and further, the use of a copolymer having a specific functional group (see, for example, Patent Document 3) has been proposed. That level up was desired.

米国特許出願公開2004/0020484号明細書US Patent Application Publication No. 2004/0020484 米国特許出願公開2004/0067432号明細書US Patent Application Publication No. 2004/0067432 欧州特許出願公開第1826001号明細書European Patent Application No. 1826001

本発明の目的は、画像部の耐薬品性と現像性との双方に優れる赤外線感応性のポジ型感光性平版印刷版原版、特に赤外線レーザ用ポジ型感光性平版印刷版原版を提供することにある。本発明の別の目的は、現像ラチチュードに優れ、さらには、現像後に高温で加熱処理した場合、著しく耐刷性が向上することが可能である、赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版を提供することである。   It is an object of the present invention to provide an infrared sensitive positive photosensitive lithographic printing plate precursor, particularly a positive photosensitive lithographic printing plate precursor for infrared laser, which is excellent in both chemical resistance and developability of an image area. is there. Another object of the present invention is to provide a photosensitive lithographic printing plate precursor for infrared laser, which is excellent in development latitude, and can significantly improve printing durability when heated at a high temperature after development. That is.

本発明者は鋭意研究の結果、上記課題が、以下の赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版により達成されることを見出した。
即ち、本発明は、親水性表面を有する支持体上に、下記一般式(1)で示される構造単位を有するアルカリ可溶性または膨潤性のポリマー、ノボラック樹脂、赤外線吸収剤、並びに芳香族基を有するスルホニウム塩及びヨードニウム塩から選ばれる少なくとも1種を含有する記録層を設けたポジ型感光性平版印刷版原版である。本発明においてポジ型感光性平版印刷版原版の記録層を複数の層から構成することが可能である。従って本発明はまた、親水性表面を有する支持体上に、下記一般式(1)で示される構造単位を有するアルカリ可溶性または膨潤性のポリマーを含有する記録層を設け、更にその上に、ノボラック樹脂、赤外線吸収剤、並びに芳香族基を有するスルホニウム塩及びヨードニウム塩から選ばれる少なくとも1種を含有する記録層を設けたポジ型感光性平版印刷版原版に向けられている。
As a result of intensive studies, the present inventor has found that the above-mentioned problems can be achieved by the following photosensitive lithographic printing plate precursor for infrared laser.
That is, the present invention has an alkali-soluble or swellable polymer having a structural unit represented by the following general formula (1), a novolak resin, an infrared absorber, and an aromatic group on a support having a hydrophilic surface. A positive photosensitive lithographic printing plate precursor provided with a recording layer containing at least one selected from a sulfonium salt and an iodonium salt. In the present invention, the recording layer of the positive photosensitive lithographic printing plate precursor can be composed of a plurality of layers. Accordingly, the present invention also provides a recording layer containing an alkali-soluble or swellable polymer having a structural unit represented by the following general formula (1) on a support having a hydrophilic surface, and further a novolac on the recording layer. The present invention is directed to a positive photosensitive lithographic printing plate precursor provided with a recording layer containing at least one selected from resins, infrared absorbers, and sulfonium salts and iodonium salts having an aromatic group.

Figure 2010237435
…(1)

式中、R1は水素原子もしくはメチル基を表す。
Xは単結合、−COO−、−CONH−を表す。
Ar1、Ar2は、それぞれ、置換基を有してもよい芳香族基、又は芳香族を構成する炭素原子のうちの1つないし2つが、N,O、Sのうちいずれかの原子で置換された複素芳香族基を表す。Yは−SO2NH−、−NHSO2−を表す。
Figure 2010237435
... (1)

In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group.
X represents a single bond, —COO— or —CONH—.
Ar 1 and Ar 2 are each an aromatic group which may have a substituent, or one or two of carbon atoms constituting the aromatic group is any one of N, O and S atoms. Represents a substituted heteroaromatic group. Y represents —SO 2 NH— or —NHSO 2 —.

本発明により、画像部の耐薬品性と現像性との双方に優れる赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版を提供することができる。この赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版は、現像ラチチュードも優れ、さらには、現像後に高温で加熱処理した場合、著しく耐刷性が向上することが可能である。
本発明の構成により、画像部における良好な耐薬品性と、製版における良好な現像性とが両立できるメカニズムは、以下のように考えられる。すなわち、本発明に係る特定のポリマー、ノボラック樹脂、芳香族基を有するスルホニウム塩もしくはヨードニウム塩が、いずれも芳香族等の共役系を有するために相互に作用し、画像部の耐薬品性および耐現像液適性を個々の化合物のもつ性質よりも向上させることができる。またスルホニウム塩もしくはヨードニウム塩が熱により分解することで、その相互作用が消滅するため、露光部全体の現像性が向上し、その結果、現像ラチチュードが向上すると考えられる。
According to the present invention, it is possible to provide a photosensitive lithographic printing plate precursor for an infrared laser which is excellent in both chemical resistance and developability of an image area. This photosensitive lithographic printing plate precursor for infrared laser has excellent development latitude, and when it is heat-treated at a high temperature after development, the printing durability can be remarkably improved.
The mechanism that can achieve both good chemical resistance in the image area and good developability in plate making by the configuration of the present invention is considered as follows. That is, the specific polymer, novolak resin, sulfonium salt or iodonium salt having an aromatic group all interact with each other because they have a conjugated system such as an aromatic group, and the chemical resistance and resistance of the image area. The developer suitability can be improved more than the properties of individual compounds. Further, the sulfonium salt or iodonium salt is decomposed by heat, and the interaction disappears. Therefore, the developability of the entire exposed portion is improved, and as a result, the development latitude is considered to be improved.

以下、本発明の平版印刷版原版の各構成要素について順次説明する。
〔記録層〕
本発明の平版印刷版原版の記録層は、単一の層(単層)で構成されていても、複数の層(重層)より構成されていてもよい。記録層が複数の層の場合には2層より構成されることが好ましい。本発明で用いる一般式(1)で示される構造単位を有するアルカリ可溶性または膨潤性のポリマーを以下、特定ポリマーとも称する。
<特定ポリマー>
特定ポリマーは、下記一般式(1)で表される構造単位を有するポリマーである。特定ポリマーはより詳細には、下記一般式(1)で表される構造単位を共重合成分として有するポリマーである。
Hereinafter, each component of the lithographic printing plate precursor according to the invention will be sequentially described.
[Recording layer]
The recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention may be composed of a single layer (single layer) or a plurality of layers (multilayer). When the recording layer is a plurality of layers, it is preferably composed of two layers. The alkali-soluble or swellable polymer having the structural unit represented by the general formula (1) used in the present invention is hereinafter also referred to as a specific polymer.
<Specific polymer>
The specific polymer is a polymer having a structural unit represented by the following general formula (1). More specifically, the specific polymer is a polymer having a structural unit represented by the following general formula (1) as a copolymerization component.

Figure 2010237435
…(1)

上記一般式(1)中、R1は水素原子又はメチル基を表す。Xは単結合、−COO−、−CONH−を表すが、好ましくは−COO−、−CONH−である。Ar1、Ar2は、それぞれ置換基を有してもよい芳香族基を表すか、又は芳香族を構成する炭素原子のうちの1つないし2つが、N,O、Sのうちいずれかの原子で置換された複素芳香族基を表す。Ar1は、5員環または6員環であることが好ましく、更に好ましくは6員環である。Ar2は、5員環または6員環であることが好ましい。この中で、Ar1、Ar2のうち、少なくとも一方が複素芳香族環であることが好ましい。
上記構造単位の具体例として、Ar1が芳香族環を表し、Ar2が芳香族を構成する炭素原子のうちの1つないし2つが、N,O、Sのうちいずれかの原子で置換された複素芳香族環である、構造単位が挙げられる。
Ar1、Ar2の芳香族基あるいは複素芳香族基上の好ましい置換基は、炭素数1〜4のアルキル基、又は炭素数1〜4のアルコキシル基である。
Figure 2010237435
... (1)

In the general formula (1), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group. X represents a single bond, —COO— or —CONH—, preferably —COO— or —CONH—. Ar 1 and Ar 2 each represent an aromatic group which may have a substituent, or one or two of carbon atoms constituting the aromatic group are any of N, O and S Represents a heteroaromatic group substituted with an atom. Ar 1 is preferably a 5-membered or 6-membered ring, more preferably a 6-membered ring. Ar 2 is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring. Of these, at least one of Ar 1 and Ar 2 is preferably a heteroaromatic ring.
As a specific example of the structural unit, Ar 1 represents an aromatic ring, and Ar 2 is substituted with one or two of carbon atoms constituting the aromatic group by any one of N, O, and S atoms. And a structural unit which is a heteroaromatic ring.
A preferred substituent on the aromatic group or heteroaromatic group of Ar 1 or Ar 2 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms.

Ar1及びAr2が表す芳香族基及び複素芳香族基は、例えばベンゼン、ナフタレン、アントラセンなどの炭化水素芳香環から選択されるものであってもよく、また、例えばフラン、チオフェン、ピロール、イミダゾール、1,2,3−トリアゾール、1,2,4−トリアゾール、テトラゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、チアジアゾール、オキサジアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、1,3、5−トリアジン、1,2、4−トリアジン、1,2、3−トリアジン、などの複素芳香環から選択されるものであってもよい。
また、上記の複数の環が縮合して、例えば、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、インダゾール、ベンゾオキサゾール、キノリン、キナゾリン、ベンゾイミダゾール、又は、ベンゾトリアゾールのような縮合環の態様をとるものであってもよい。
The aromatic group and heteroaromatic group represented by Ar 1 and Ar 2 may be selected from hydrocarbon aromatic rings such as benzene, naphthalene, and anthracene, and examples thereof include furan, thiophene, pyrrole, and imidazole. 1,2,3-triazole, 1,2,4-triazole, tetrazole, oxazole, isoxazole, thiazole, isothiazole, thiadiazole, oxadiazole, pyridine, pyridazine, pyrimidine, pyrazine, 1,3,5-triazine , 1,2,4-triazine, 1,2,3-triazine, and other heteroaromatic rings.
Further, the above-mentioned plurality of rings are condensed to take a condensed ring form such as benzofuran, benzothiophene, indole, indazole, benzoxazole, quinoline, quinazoline, benzimidazole, or benzotriazole. Also good.

以下に、下記一般式(1)で表される構造単位を形成しうるモノマーの例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

Figure 2010237435

Figure 2010237435

Figure 2010237435

Figure 2010237435

Figure 2010237435

Figure 2010237435
Examples of monomers that can form the structural unit represented by the following general formula (1) are shown below, but the present invention is not limited to these.
Figure 2010237435

Figure 2010237435

Figure 2010237435

Figure 2010237435

Figure 2010237435

Figure 2010237435

特定ポリマーは、一般式(1)で表される構造単位を共重合成分として有するアルカリ可溶性または膨潤性のポリマーアルカリ可溶性のポリマーであり、特定ポリマー中に含まれる一般式(1)で表される構造単位は、1種のみでもよく、2種以上を併用してもよい。
特定ポリマーにおいて一般式(1)で表される構造単位の含有量は、20〜90モル%が適当であり、30〜80モル%が好ましく、より好ましくは30〜70モル%である。
特定ポリマーにおける他の構造単位としては、モノマーの側鎖構造に、アルキル基、アリール基などの置換基を有する疎水性のモノマーや、モノマーの側鎖構造に、酸性基、アミド基、ヒドロキシ基又はエチレンオキシド基などを有する親水性のモノマーなどが挙げられ、このようなモノマーから目的に応じて適宜選択することができる。上記一般式(1)の構造単位を誘導するモノマー種と共重合させるモノマー種の選択は、特定ポリマーのアルカリ可溶性を損なわない範囲でなされることを要する。
The specific polymer is an alkali-soluble or swellable polymer having a structural unit represented by the general formula (1) as a copolymerization component, and is represented by the general formula (1) contained in the specific polymer. Only one type of structural unit may be used, or two or more types may be used in combination.
20-90 mol% is suitable for content of the structural unit represented by General formula (1) in a specific polymer, 30-80 mol% is preferable, More preferably, it is 30-70 mol%.
Other structural units in the specific polymer include a hydrophobic monomer having a substituent such as an alkyl group or an aryl group in the side chain structure of the monomer, an acidic group, an amide group, a hydroxy group or a side chain structure of the monomer. Examples thereof include hydrophilic monomers having an ethylene oxide group and the like, and these monomers can be appropriately selected according to the purpose. The selection of the monomer species to be copolymerized with the monomer species that derives the structural unit of the general formula (1) needs to be made within a range that does not impair the alkali solubility of the specific polymer.

本発明で使用する特定ポリマーにおいて、一般式(1)で表される構造単位を誘導するモノマー以外の、他のコモノマーとして、酸性基を含有する重合性化合物が挙げられる。そのような酸性基として下記(1)〜(6)を挙げることができる。
(1)フェノール基(−Ar−OH)
(2)スルホンアミド基(−SO2NH−R)
(3)置換スルホンアミド系酸基(以下、「活性イミド基」という。)
〔−SO2NHCOR、−SO2NHSO2R、−CONHSO2R〕
(4)カルボン酸基(−CO2H)
(5)スルホン酸基(−SO3H)
(6)リン酸基(−OPO32
上記(1)〜(6)中、Arは置換基を有していてもよい2価のアリール連結基を表し、Rは、置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。
In the specific polymer used in the present invention, examples of the other comonomer other than the monomer for deriving the structural unit represented by the general formula (1) include polymerizable compounds containing an acidic group. Examples of such an acidic group include the following (1) to (6).
(1) Phenol group (-Ar-OH)
(2) Sulfonamide group (—SO 2 NH—R)
(3) Substituted sulfonamide acid group (hereinafter referred to as “active imide group”)
[—SO 2 NHCOR, —SO 2 NHSO 2 R, —CONHSO 2 R]
(4) Carboxylic acid group (—CO 2 H)
(5) Sulfonic acid group (—SO 3 H)
(6) Phosphate group (—OPO 3 H 2 )
In the above (1) to (6), Ar represents a divalent aryl linking group which may have a substituent, and R represents a hydrocarbon group which may have a substituent.

上記(1)〜(6)より選ばれる酸性基を有する重合性化合物としては、例えば、以下のものを挙げることができる。
(1)フェノール基を側鎖に有する化合物、例えばフェノール基を有するアクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステルもしくはメタクリル酸エステル、またはヒドロキシスチレン等。
Examples of the polymerizable compound having an acidic group selected from the above (1) to (6) include the following.
(1) Compounds having a phenol group in the side chain, such as acrylamide, methacrylamide, acrylic ester or methacrylic ester having a phenol group, or hydroxystyrene.

(2)スルホンアミド基を有する化合物、例えば、窒素原子に少なくとも一つの水素原子が結合したスルホンアミド基と、重合可能な不飽和基とを、分子内にそれぞれ1以上有する化合物が挙げられる。中でも、アクリロイル基、アリル基、またはビニロキシ基と、置換あるいはモノ置換アミノスルホニル基または置換スルホニルイミノ基と、を分子内に有する低分子の化合物が好ましく、例えば、下記式(i)〜式(v)で表される化合物が挙げられる。

Figure 2010237435
(2) A compound having a sulfonamide group, for example, a compound having at least one sulfonamide group in which at least one hydrogen atom is bonded to a nitrogen atom and one or more polymerizable unsaturated groups in the molecule. Among these, low molecular weight compounds having an acryloyl group, an allyl group, or a vinyloxy group, and a substituted or monosubstituted aminosulfonyl group or a substituted sulfonylimino group in the molecule are preferable. For example, the following formulas (i) to (v ).
Figure 2010237435

(式中、X1、X2は、それぞれ独立に−O−または−NR7を表す。R1、R4は、それぞれ独立に水素原子又は−CH3を表す。R2、R5、R9、R12、及び、R16は、それぞれ独立に炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。R3、R7、及び、R13は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。また、R6、R17は、それぞれ独立に炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。R8、R10、R14は、それぞれ独立に水素原子又は−CH3を表す。R11、R15は、それぞれ独立に単結合又は炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。Y1、Y2は、それぞれ独立に単結合又はCOを表す。上記アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、アラルキレン基、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基は置換基を有していてもよく、好ましい置換基としてはアルキル基である。) (In the formula, X 1 and X 2 each independently represent —O— or —NR 7. R 1 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or —CH 3. R 2 , R 5 , R 9 , R 12 and R 16 each independently represents an alkylene group, a cycloalkylene group, an arylene group or an aralkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and R 3 , R 7 and R 13 each independently represent Represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group, and R 6 and R 17 each independently represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group or an aryl group. R 8 , R 10 and R 14 each independently represents a hydrogen atom or —CH 3 , R 11 and R 15 each independently represent a single bond or an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms. Cycloalkylene group, arylene group or Y 1 and Y 2 each independently represents a single bond or CO. The alkylene group, cycloalkylene group, arylene group, aralkylene group, alkyl group, cycloalkyl group, aryl group, or aralkyl group is It may have a substituent, and a preferred substituent is an alkyl group.)

式(i)〜式(v)で表される化合物のうち、本発明の平版印刷版原版では、特に、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。   Among the compounds represented by formulas (i) to (v), in the lithographic printing plate precursor according to the invention, in particular, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- ( p-Aminosulfonylphenyl) acrylamide and the like can be preferably used.

(3)活性イミド基を有する化合物として、下記構造式で表される活性イミド基と、重合可能な不飽和基とを、分子内にそれぞれ1以上有する化合物を挙げることができる。

Figure 2010237435
具体的には、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。 (3) Examples of the compound having an active imide group include compounds each having one or more active imide groups represented by the following structural formula and one polymerizable unsaturated group in the molecule.
Figure 2010237435
Specifically, N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, N- (p-toluenesulfonyl) acrylamide and the like can be preferably used.

(4)カルボン酸基を有する化合物としては、例えば、カルボン酸基と、重合可能な不飽和基とを、分子内にそれぞれ1以上有する化合物を挙げることができ、特に、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸を好適に使用することができる。
(5)スルホン酸基を有する化合物としては、例えば、スルホン酸基と、重合可能な不飽和基とを、分子内にそれぞれ1以上有する化合物を挙げることができる。
(6)リン酸基を有する高分子化合物としては、例えば、リン酸基と、重合可能な不飽和基とを、分子内にそれぞれ1以上有する化合物を挙げることができる。
(4) Examples of the compound having a carboxylic acid group include compounds having at least one carboxylic acid group and polymerizable unsaturated group in the molecule, and in particular, acrylic acid, methacrylic acid, Maleic acid and itaconic acid can be preferably used.
(5) Examples of the compound having a sulfonic acid group include a compound having at least one sulfonic acid group and polymerizable unsaturated group in the molecule.
(6) Examples of the polymer compound having a phosphoric acid group include compounds having at least one phosphoric acid group and a polymerizable unsaturated group in the molecule.

上述以外に、(1)〜(6)の酸性基を側鎖に有し、連結基として尿素結合を有する重合可能な不飽和化合物を挙げることができる。上述の(1)〜(6)の酸性基を有する重合性化合物の中でも、(1)、(2)、(4)の酸性基を有する化合物が好ましく、特に好ましいのは、(2)の酸性基を有する化合物のうち末端にスルホンアミドを持つものである。   In addition to the above, there can be mentioned polymerizable unsaturated compounds having acidic groups (1) to (6) in the side chain and having a urea bond as a linking group. Among the polymerizable compounds having an acidic group of (1) to (6) described above, compounds having an acidic group of (1), (2), (4) are preferable, and the acidic compound of (2) is particularly preferable. Among the compounds having a group, those having a sulfonamide at the terminal.

特定ポリマーにおいて、更に任意の重合性モノマーを共重合させてもよい。他の構成成分としては、上述したモノマー成分と共重合しうるモノマーであれば特に指定はないが、(メタ)アクリル酸エステル、N−置換(メタ)アクリルアミド、アクリロニトリル、スチレン系化合物、マレイミド類、(メタ)アクリルアミド、N−置換(メタ)アクリルアミド、グリシジル(メタ)アクリレート、N−置換マレイミド、ポリオキシエチレン鎖を有する(メタ)アクリル酸エステル、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ビニルピリジン、N−ビニルカプロラクタム、N−ビニルピロリジンを挙げることができる。   In the specific polymer, any polymerizable monomer may be further copolymerized. Other components are not particularly specified as long as they are monomers that can be copolymerized with the above-described monomer components, but (meth) acrylic acid esters, N-substituted (meth) acrylamides, acrylonitrile, styrenic compounds, maleimides, (Meth) acrylamide, N-substituted (meth) acrylamide, glycidyl (meth) acrylate, N-substituted maleimide, (meth) acrylic acid ester having a polyoxyethylene chain, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, vinylpyridine, N -Vinyl caprolactam and N-vinyl pyrrolidine can be mentioned.

特定ポリマーの重量平均分子量(Mw)は、5,000〜1,000,000、好ましくは7,000〜500,000、特に好ましくは10,000〜300,000の範囲であることが最も好ましい。これらの分子量の測定は、ゲルパーミネーションクロマトグラフィーにより、展開溶剤としてN−メチルピロリドンを用いて、行うことができる。この際の分子量標準物質として単分散のポリスチレンを使用することできる。   The weight average molecular weight (Mw) of the specific polymer is most preferably in the range of 5,000 to 1,000,000, preferably 7,000 to 500,000, particularly preferably 10,000 to 300,000. These molecular weights can be measured by gel permeation chromatography using N-methylpyrrolidone as a developing solvent. Monodispersed polystyrene can be used as a molecular weight standard substance in this case.

本発明に好適に用い得る特定ポリマーの構造例を、それぞれの構造単位の組合せにより以下に示す。なお、数値はモル比である。

Figure 2010237435
Examples of the structure of the specific polymer that can be suitably used in the present invention are shown below by combinations of the respective structural units. The numerical values are molar ratios.
Figure 2010237435

記録層中における特定ポリマーの含有量としては、記録層の全固形分中、5質量%〜95質量%であることが好ましく、10質量%〜90質量%であることがより好ましい。
なお、本発明の平版印刷版原版において記録層が重層構造の記録層である場合には、この特定ポリマーは支持体と近接して位置する下部記録層に含まれることが好ましく、そのような態様を取る場合には、下部記録層中における特定ポリマーの含有量としては、下部記録層の全固形分中、40質量%〜95質量%であることが好ましく、50量%〜95質量%であることがより好ましい。下層にはノボラック樹脂を含有しない方が好ましい。
As content of the specific polymer in a recording layer, it is preferable that it is 5 mass%-95 mass% in the total solid of a recording layer, and it is more preferable that it is 10 mass%-90 mass%.
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, when the recording layer is a recording layer having a multilayer structure, the specific polymer is preferably contained in the lower recording layer located in the vicinity of the support. In this case, the content of the specific polymer in the lower recording layer is preferably 40% by mass to 95% by mass, and 50% by mass to 95% by mass in the total solid content of the lower recording layer. It is more preferable. The lower layer preferably contains no novolac resin.

<ノボラック樹脂>
ノボラック樹脂は、フェノール類とホルムアルデヒドの反応により得られる樹脂を広くさす。フェノール類としては、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、2,3−キシレノール、2,5−キシレノール、3,5−キシレノール、レゾルシノール、ピロガロール、ビスフェノールを挙げることができ、単独でも複数混合して用いても良い。このうち、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、2,3−キシレノールの単独もしくは複数混合が好ましい。
本発明に用いるノボラック樹脂としては、GPC法で測定した重量平均分子量が500〜20,000であり、数平均分子量が200〜10,000のものが好ましい。
具体例を以下に示す。
(i)フェノール/m−クレゾール/p−クレゾール=50/30/20(モル比)よりなるノボラック樹脂、重量平均分子量8,000
(ii)m−クレゾール/p−クレゾール=60/40(モル比)よりなるノボラック樹脂、重量平均分子量6,000
(iii)2,3−キシレノール/m−クレゾール/p−クレゾール=10/40/50(モル比)よりなるノボラック樹脂、重量平均分子量5,000
(iv)2,5−キシレノール/フェノール/m−クレゾール=20/40/40(モル比)よりなるノボラック樹脂、重量平均分子量8,000
<Novolac resin>
Novolac resins broaden the resins obtained by reaction of phenols with formaldehyde. Examples of phenols include phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, 2,3-xylenol, 2,5-xylenol, 3,5-xylenol, resorcinol, pyrogallol, and bisphenol alone. You may mix and use two or more. Of these, phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, and 2,3-xylenol are preferably used alone or in combination.
The novolak resin used in the present invention preferably has a weight average molecular weight of 500 to 20,000 and a number average molecular weight of 200 to 10,000 as measured by GPC method.
Specific examples are shown below.
(i) novolak resin comprising phenol / m-cresol / p-cresol = 50/30/20 (molar ratio), weight average molecular weight 8,000
(ii) novolak resin comprising m-cresol / p-cresol = 60/40 (molar ratio), weight average molecular weight 6,000
(iii) 2,3-xylenol / m-cresol / p-cresol = 10/40/50 (molar ratio) novolak resin, weight average molecular weight 5,000
(iv) novolak resin comprising 2,5-xylenol / phenol / m-cresol = 20/40/40 (molar ratio), weight average molecular weight 8,000

記録層におけるノボラック樹脂の含有量としては、単層の記録層の場合、その全固形分中、3質量%〜50質量%であることが好ましく、5質量%〜40質量%であることがより好ましい。
なお、記録層が重層構造の記録層である場合には、ノボラック樹脂は表面(露光面)近傍に位置する上部記録層に含まれることが好ましく、そのような態様を取る場合には、上部記録層中におけるノボラック樹脂の含有量としては、上部記録層の全固形分中、10質量%〜95質量%であることが好ましく、20質量%〜90質量%であることがより好ましい。
The content of the novolak resin in the recording layer is preferably 3% by mass to 50% by mass and more preferably 5% by mass to 40% by mass in the total solid content in the case of a single recording layer. preferable.
In the case where the recording layer is a recording layer having a multilayer structure, the novolak resin is preferably contained in the upper recording layer located near the surface (exposed surface). The content of the novolak resin in the layer is preferably 10% by mass to 95% by mass and more preferably 20% by mass to 90% by mass in the total solid content of the upper recording layer.

<赤外線吸収剤>
本発明におけるポジ型記録層は、光熱変換機能を発現する構成成分である赤外線吸収剤を含有する。この赤外線吸収剤は、吸収した赤外線を熱に変換する機能を有しており、レーザ走査により相互作用の解除、現像インヒビターの分解、酸の発生等が起こり、現像液に対する溶解性が大きく増加する。また、この赤外線吸収剤自体が、アルカリ可溶性樹脂と相互作用を形成し、アルカリ可溶性を抑制させる場合もある。
このような赤外線吸収剤は記録層が重層構造の場合、上部記録層、下部記録層の少なくとも一方に含まれていればよいが、感度の観点からは、上部記録層に含まれることが好ましい。
また、下部記録層に含まれる場合、特定ポリマーとこれ相溶しないアルカリ可溶性ポリマーと併用する場合には、赤外線吸収剤は分散相を形成する他のアルカリ可溶性ポリマーに含まれ、分散相に赤外線吸収剤が局在化することになり、相互作用解除性を向上させたり、酸発生剤が含まれる場合にはその分解性を向上させるものと考えられる。
本発明において使用される赤外線吸収剤は、波長760nmから1200nmの赤外線を有効に吸収する染料又は顔料である。好ましくは、波長760nmから1200nmに吸収極大を有する染料又は顔料である。
<Infrared absorber>
The positive recording layer in the present invention contains an infrared absorber, which is a component that exhibits a photothermal conversion function. This infrared absorber has a function of converting the absorbed infrared rays into heat, and the laser scanning causes the cancellation of the interaction, the decomposition of the development inhibitor, the generation of acid, etc., and the solubility in the developer is greatly increased. . In addition, the infrared absorber itself may interact with the alkali-soluble resin to suppress alkali solubility.
When the recording layer has a multilayer structure, such an infrared absorber may be contained in at least one of the upper recording layer and the lower recording layer, but is preferably contained in the upper recording layer from the viewpoint of sensitivity.
In addition, when included in the lower recording layer, when used in combination with a specific polymer and an insoluble alkali-soluble polymer, the infrared absorber is contained in another alkali-soluble polymer that forms the dispersed phase, and the dispersed phase absorbs infrared rays. It is considered that the agent is localized and the interaction release property is improved or the decomposition property is improved when the acid generator is contained.
The infrared absorber used in the present invention is a dye or pigment that effectively absorbs infrared rays having a wavelength of 760 nm to 1200 nm. A dye or pigment having an absorption maximum at a wavelength of 760 nm to 1200 nm is preferable.

以下に、本発明の平版印刷版原版に好適に使用できる赤外線吸収剤について詳述する。
染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
The infrared absorber that can be suitably used for the lithographic printing plate precursor according to the invention will be described in detail below.
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, etc. Is mentioned.

好ましい染料としては、例えば、特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭59−202829号、特開昭60−78787号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げることができる。   Preferred dyes include, for example, cyanine dyes described in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787, and the like. Methine dyes described in JP-A-58-173696, JP-A-58-181690, JP-A-58-194595, JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59- 48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, etc., naphthoquinone dyes, JP-A-58-112792, etc. And cyanine dyes described in British Patent 434,875.

また、米国特許第5,156,938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−19702号に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。   Also, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) pyrylium salt described in US Pat. No. 3,881,924, Trimethine thiapyrylium salts described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, 58-220143, 59-41363, 59-84248 Nos. 59-84249, 59-146063, 59-146061, pyranlium compounds, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, US Pat. No. 4,283,475 The pentamethine thiopyrylium salts described above and the pyrylium compounds disclosed in Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702 are also preferably used. .

また、染料として好ましい別の例として米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。
Another example of a preferable dye is a near-infrared absorbing dye described in US Pat. No. 4,756,993 as formulas (I) and (II).
Among these dyes, particularly preferred are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and nickel thiolate complexes.

本発明において使用される顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。   Examples of the pigment used in the present invention include commercially available pigments and color index (CI) manual, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986), “Printing Ink Technology”, CMC Publishing, 1984) can be used.

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。   Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used.

これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (eg, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Applications of Metal Soap” (Yokoshobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.

顔料の粒径は、記録層用塗布液の安定性や形成される記録層の均一性の観点から、0.01μm〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μmの範囲にあることが好ましい。   The particle diameter of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, from the viewpoint of the stability of the recording layer coating liquid and the uniformity of the recording layer to be formed. Is more preferable, and it is particularly preferable to be in the range of 0.1 μm to 1 μm.

顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

本発明の平版印刷版原版はポジ型の記録層を有するため、特定の官能基を有するバインダーポリマーとの相互作用によりポジ作用(未露光部はアルカリ現像液に対する溶解が抑制され、露光部ではその溶解抑制作用が解除される。)を生じさせる赤外線吸収剤を用いることが好ましく、その点でオニウム塩型構造を有するものが特に好ましい。具体的には、前記した赤外線吸収剤のうち、特にシアニン色素、ピリリウム塩が好ましい。シアニン色素、ピリリウム塩の詳細については前述の通りである。   Since the lithographic printing plate precursor of the present invention has a positive recording layer, the positive action is caused by the interaction with the binder polymer having a specific functional group (dissolution in the unexposed area is suppressed in an alkaline developer, and It is preferable to use an infrared absorber that causes the dissolution inhibiting action to be released, and in that respect, those having an onium salt structure are particularly preferable. Specifically, among the above-described infrared absorbers, cyanine dyes and pyrylium salts are particularly preferable. The details of the cyanine dye and the pyrylium salt are as described above.

さらに、特開平11−338131号公報に記載のアニオン性赤外線吸収剤も好適に使用することができる。このアニオン性赤外線吸収剤は、実質的に赤外線を吸収する色素の母核にカチオン構造が無く、アニオン構造を有するものを指す。
例えば、(a−1)アニオン性金属錯体、(a−2)アニオン性フタロシアニンが挙げられる。
ここで、(a−1)アニオン性金属錯体とは、実質的に光を吸収する錯体部の中心金属及び配位子全体でアニオンとなるものを指す。
(a−2)アニオン性フタロシアニンは、フタロシアニン骨格に、置換基としてスルホン酸、カルボン酸、ホスホン酸基等のアニオン基が結合し、全体としてアニオンとなっているものを指す。
さらに特開平11−338131号の[0014]ないし[0105]に記載の[Ga-−M−Gb]mm+で示されるアニオン性赤外線吸収剤〔Ga-はアニオン性置換基を表し、Gbは中性の置換基を表す。Xm+は、プロトンを含む1〜m価のカチオンを表し、mは1ないし6の整数を表す。〕を挙げることができる。
Furthermore, an anionic infrared absorber described in JP-A-11-338131 can also be suitably used. This anionic infrared absorber refers to one having an anion structure without a cation structure in the mother nucleus of a dye that substantially absorbs infrared rays.
For example, (a-1) anionic metal complex and (a-2) anionic phthalocyanine are mentioned.
Here, the (a-1) anionic metal complex refers to an anion that becomes an anion in the central metal and the entire ligand of the complex part that substantially absorbs light.
(A-2) Anionic phthalocyanine refers to a phthalocyanine skeleton having an anion group such as a sulfonic acid, a carboxylic acid, or a phosphonic acid group bonded as a substituent to form an anion as a whole.
Furthermore, an anionic infrared absorber represented by [Ga -M-Gb] m X m + described in [0014] to [0105] of JP-A-11-338131 [Ga represents an anionic substituent, and Gb represents Represents a neutral substituent. X m + represents a 1 to m-valent cation containing a proton, and m represents an integer of 1 to 6. Can be mentioned.

赤外線吸収剤としては、染料であることが好ましく、好適な例として、特開平11−291652号公報の段落番号[0018]乃至[0034]に記載のオニウム塩構造を有する赤外線吸収剤が挙げられる。   The infrared absorber is preferably a dye, and suitable examples include infrared absorbers having an onium salt structure described in paragraphs [0018] to [0034] of JP-A No. 11-291605.

記録層には、さらに感度及び現像ラチチュードを向上させる目的で、上記のシアニン色素、ピリリウム塩、アニオン系色素などの溶解抑制能を発現する赤外線吸収剤と、それ以外の染料又は顔料等を併用することもできる。   For the purpose of further improving the sensitivity and development latitude, the recording layer is used in combination with an infrared absorber that exhibits the ability to suppress dissolution of the above cyanine dyes, pyrylium salts, anionic dyes, and other dyes or pigments. You can also

本発明において、赤外線吸収剤の含有量は、単層の記録層の場合、その全固形分中、2質量%〜20質量%であることが好ましく、3質量%〜15質量%であることがより好ましい。また、重層構造の記録層の場合、下部記録層及びその他の記録層において、それぞれの記録層の全固形分に対し、画像形成性、非画像部の汚れ発生抑制の観点から、0.01〜50質量%添加することが好ましく、より好ましくは0.1〜20質量%、さらに好ましくは0.5〜15質量%である。   In the present invention, in the case of a single recording layer, the content of the infrared absorber is preferably 2% by mass to 20% by mass and preferably 3% by mass to 15% by mass in the total solid content. More preferred. Further, in the case of a recording layer having a multi-layer structure, from the viewpoint of image formability and suppression of occurrence of stains in the non-image area, the lower recording layer and other recording layers have a total solid content of 0.01 to It is preferable to add 50 mass%, More preferably, it is 0.1-20 mass%, More preferably, it is 0.5-15 mass%.

赤外線吸収剤は2種以上のポリマーを併用することにより分散相が形成された記録層中に含まれる場合には、マトリックス相、分散相のいずれに含まれていてもよく、双方に含まれていてもよい。前記の如き分散相を構成するラテックスに、開始剤や赤外線吸収剤等の所望の成分を含有させる際には、ラテックス粒子形成時に原料とともに添加してもよく、またラテックス形成後に導入してもよい。
ラテックス形成後に導入する方法としては、水系に分散したラテックス中に、導入する開始剤、色系、架橋剤など所望の成分を有機溶剤に溶解させて分散媒に添加する方法が挙げられる。
When the infrared absorber is contained in the recording layer in which the dispersed phase is formed by using two or more kinds of polymers in combination, it may be contained in either the matrix phase or the dispersed phase. May be. When the latex constituting the dispersed phase as described above contains desired components such as an initiator and an infrared absorber, it may be added together with raw materials when forming latex particles, or may be introduced after forming the latex. .
Examples of the method of introducing after forming the latex include a method in which desired components such as an initiator, a color system, and a crosslinking agent to be introduced are dissolved in an organic solvent and added to a dispersion medium.

<芳香族基を有するスルホニウム塩/ヨードニウム塩>
芳香族基を有するスルホニウム塩及び/又はヨードニウム塩は、記録層が重層構造の場合、上部記録層、下部記録層の少なくとも一方に含まれていればよいが、感度の観点からは、上部記録層に含まれることが好ましい。
芳香族基を有するスルホニウム塩およびヨードニウム塩としては、例えば特開2001−133969号公報、特開2002−268217号公報等に記載されている化合物を用いることができる。芳香族基を有するスルホニウム塩およびヨードニウム塩として、各々、下記一般式で示される構造の化合物が挙げられる。

Figure 2010237435

上記式において、R11〜R16はそれぞれ任意の置換基を表し、好ましくは水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6の直鎖アルキル、炭素数1〜6の枝分かれアルキル、炭素数1〜6のアルコキシを表す。特に好ましくは、水素原子、炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシル基、クロル原子、臭素原子を表す。Xは有機もしくは無機の対アニオンを表す。特にスルホニウム塩が好ましい。 <Sulfonium salt having an aromatic group / iodonium salt>
When the recording layer has a multilayer structure, the sulfonium salt and / or iodonium salt having an aromatic group may be contained in at least one of the upper recording layer and the lower recording layer. From the viewpoint of sensitivity, the upper recording layer It is preferable that it is contained in.
As the sulfonium salt and iodonium salt having an aromatic group, for example, compounds described in JP-A Nos. 2001-133969 and 2002-268217 can be used. Examples of the sulfonium salt and the iodonium salt having an aromatic group include compounds having a structure represented by the following general formula.
Figure 2010237435

In the above formula, R 11 to R 16 each represent an arbitrary substituent, preferably a hydrogen atom, a halogen atom, a linear alkyl having 1 to 6 carbon atoms, a branched alkyl having 1 to 6 carbon atoms, or a 1 to 6 carbon atoms. Represents alkoxy. Particularly preferably, it represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 3 carbon atoms, a chloro atom, or a bromine atom. X represents an organic or inorganic counter anion. A sulfonium salt is particularly preferable.

芳香族基を有するスルホニウム塩及びヨードニウム塩の具体例を以下に示す。

Figure 2010237435
Specific examples of the sulfonium salt and iodonium salt having an aromatic group are shown below.
Figure 2010237435

本発明において、これらの芳香族基を有するスルホニウム塩及びヨードニウム塩から選ばれる少なくとも1種は、画像形成性、非画像部の汚れ防止の観点から、単層の記録層の場合、その全固形分中、0.01〜50質量%であることが適当であり、好ましくは0.1〜25質量%、より好ましくは0.5〜20質量%含まれる。また、重層構造の記録層の場合、含有させる層の全固形分に対して、0.01〜50質量%であることが適当であり、好ましくは0.1〜25質量%、より好ましくは0.5〜20質量%含まれる。   In the present invention, at least one selected from the sulfonium salt and iodonium salt having these aromatic groups is the total solid content in the case of a single recording layer from the viewpoint of image formation and prevention of stains in the non-image area. The content is suitably 0.01 to 50% by mass, preferably 0.1 to 25% by mass, more preferably 0.5 to 20% by mass. In the case of a recording layer having a multilayer structure, the content is suitably 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1 to 25% by weight, more preferably 0, based on the total solid content of the layer to be contained. 0.5 to 20% by mass.

本発明の平版印刷版原版の記録層には、上記特定ポリマー及びノボラック樹脂に加え、他の公知のアルカリ可溶性高分子を目的に応じて使用することができる。他の高分子化合物を含有させても良い。含有可能な高分子化合物としては、特開2008−64959号公報の[0027]〜[0044]に記載した高分子化合物をあげることができる。   In the recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention, in addition to the specific polymer and the novolak resin, other known alkali-soluble polymers can be used depending on the purpose. Other polymer compounds may be included. Examples of the polymer compound that can be contained include the polymer compounds described in JP-A-2008-64959, [0027] to [0044].

各記録層には、画像部領域の耐現像性を向上させる目的でフッ素ポリマーを添加することが好ましい。画像記録層に使用されるフッ素含有ポリマーとしては、特開平11−288093号公報、特開2000−187318号公報に記載されているようなフッ素含有のモノマー共重合体が挙げられる。   It is preferable to add a fluoropolymer to each recording layer for the purpose of improving the development resistance of the image area. Examples of the fluorine-containing polymer used in the image recording layer include fluorine-containing monomer copolymers as described in JP-A Nos. 11-288093 and 2000-187318.

フッ素ポリマーの好ましい具体例としては、特開平11−288093号公報に記載されているP−1〜P−13のフッ素を含有するアクリル系ポリマーや特開2000−187318号公報に記載されているA−1〜A33のフッ素を含有するアクリル系モノマーを任意のアクリルモノマーと共重合して得られたフッ素含有ポリマーなどを挙げることが出来る。   Preferable specific examples of the fluoropolymer include acrylic polymers containing P-1 to P-13 fluorine described in JP-A-11-288093 and A described in JP-A-2000-187318. Examples thereof include fluorine-containing polymers obtained by copolymerizing acrylic monomers having fluorine atoms of −1 to A33 with any acrylic monomer.

以上に挙げたフッ素含有ポリマーの分子量としては、重量平均分子量が2000以上、数平均分子量が1000以上のものが好ましく用いられる。更に好ましくは重量平均分子量が5000〜300000、数平均分子量が2000〜250000である。   As the molecular weight of the fluorine-containing polymer mentioned above, those having a weight average molecular weight of 2000 or more and a number average molecular weight of 1000 or more are preferably used. More preferably, the weight average molecular weight is 5000 to 300000, and the number average molecular weight is 2000 to 250,000.

また、フッ素含有ポリマーとして、前記好ましい分子量を有する化合物である、市販のフッ素系界面活性剤を用いることもできる。具体例として、大日本インキ化学工業(株)製、メガファックF−171、F−173、F−176、F−183、F−184、F―780、F−781(いずれも商品名)を挙げることができる。   In addition, as the fluorine-containing polymer, a commercially available fluorine-based surfactant that is a compound having the preferred molecular weight can also be used. As specific examples, MegaFuck F-171, F-173, F-176, F-183, F-184, F-780, F-781 (all trade names) manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. are used. Can be mentioned.

これらフッ素含有ポリマーは1種類用いてもよいし、2種以上を併用することもできる。添加量としては、画像記録層固形分に対し1.4質量%以上が適当である。好ましい添加量は、1.4〜5.0質量%である。1.4質量%を下回る場合は、フッ素含有ポリマーの添加目的である画像記録層の現像ラチチュード向上効果が十分に得られないときがある。なお、5.0質量%を越えて添加しても現像ラチチュードの改善効果は向上せず、却ってフッ素含有ポリマーの影響により画像記録層表面の難溶化が進み、感度を低下させる懸念がある。   These fluorine-containing polymers may be used alone or in combination of two or more. The addition amount is suitably 1.4% by mass or more based on the solid content of the image recording layer. A preferable addition amount is 1.4 to 5.0% by mass. When the amount is less than 1.4% by mass, the effect of improving the development latitude of the image recording layer, which is the purpose of adding the fluorine-containing polymer, may not be sufficiently obtained. Note that even if it exceeds 5.0 mass%, the effect of improving the development latitude is not improved, and on the contrary, there is a concern that the surface of the image recording layer becomes slightly soluble due to the influence of the fluorine-containing polymer and the sensitivity is lowered.

本発明における下部記録層或いは他の記録層には更に必要に応じて、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、o−キノンジアジド化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物等の熱分解性であり、分解しない状態ではアルカリ水可溶性高分子化合物の溶解性を実質的に低下させる物質(溶解抑制剤)を併用することができる。溶解抑制剤の添加により、画像部の現像液への溶解阻止性が向上されるとともに、この化合物を添加することにより赤外線吸収剤としてアルカリ可溶性樹脂との間に相互作用を形成しないものを用いることも可能となる。   If necessary, the lower recording layer or other recording layers in the present invention are thermally decomposable such as diazonium salt, ammonium salt, phosphonium salt, o-quinonediazide compound, aromatic sulfone compound, aromatic sulfonic acid ester compound, etc. In the state where it does not decompose, a substance (dissolution inhibitor) that substantially reduces the solubility of the alkaline water-soluble polymer compound can be used in combination. By adding a dissolution inhibitor, the ability to dissolve the image area into the developer is improved, and by adding this compound, an infrared absorber that does not form an interaction with an alkali-soluble resin should be used. Is also possible.

好適なものとしては、例えば、S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Baletal,Polymer,21,423(1980)、特開平5−158230号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号、特開平3−140140号の明細書に記載のアンモニウム塩、D.C.Neckeretal,Macromolecules,17,2468(1984)、C.S.Wenetal,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号に記載のホスホニウム塩、   Suitable examples include S.I. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T.A. S. Baletal, Polymer, 21, 423 (1980), diazonium salts described in JP-A-5-158230, US Pat. Nos. 4,069,055, 4,069,056, and JP-A-3-140140 Ammonium salts described in the C. Necker et al., Macromolecules, 17, 2468 (1984), C.I. S. Wenetal, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), U.S. Pat. Nos. 4,069,055 and 4,069,056,

本発明に用いうる溶解抑制剤としては、ジアゾニウム塩が特に好ましい。また、特に好適なジアゾニウム塩としては、特開平5−158230号公報記載のものが挙げられる。
オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることができる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適である。
As a dissolution inhibitor that can be used in the present invention, a diazonium salt is particularly preferable. Particularly suitable diazonium salts include those described in JP-A-5-158230.
The counter ion of the onium salt includes tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 5-nitro-o-toluenesulfonic acid, 5-sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2-nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfone Examples include acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoyl-benzenesulfonic acid, and paratoluenesulfonic acid. Of these, particularly preferred are alkyl aromatic sulfonic acids such as hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid.

好適なキノンジアジド類としては、o−キノンジアジド化合物を挙げることができる。本発明に用いられるo−キノンジアジド化合物は、少なくとも1個のo−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分解によりアルカリ可溶性を増すものであり、種々の構造の化合物を用いることができる。つまり、o−キノンジアジドは熱分解により結着剤の溶解抑制能を失うことと、o−キノンジアジド自身がアルカリ可溶性の物質に変化することの両方の効果により感材系の溶解性を助ける。
本発明に用いられるo−キノンジアジド化合物としては、例えば、J.コーサー著「ライト センシティブ・システムズ」(John Wiley & Sons.Inc.)第339〜352頁に記載の化合物が使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物あるいは芳香族アミノ化合物と反応させたo−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスルホン酸アミドが好適である。また、特公昭43−28403号公報に記載されているようなベンゾキノン(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許第3,046,120 号及び同第3,188,210 号に記載されているベンゾキノン−(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルも好適に使用される。
Suitable quinonediazides include o-quinonediazide compounds. The o-quinonediazide compound used in the present invention is a compound having at least one o-quinonediazide group, which increases alkali solubility by thermal decomposition, and compounds having various structures can be used. That is, o-quinonediazide helps the solubility of the sensitive material system by both the effect of losing the ability to suppress the dissolution of the binder due to thermal decomposition and the change of o-quinonediazide itself into an alkali-soluble substance.
Examples of the o-quinonediazide compound used in the present invention include J. Although the compounds described in pages 339 to 352 of “Light Sensitive Systems” (John Wiley & Sons. Inc.) by Korser can be used, o-reacted with various aromatic polyhydroxy compounds or aromatic amino compounds. Preferred are sulfonic acid esters or sulfonic acid amides of quinonediazide. Further, benzoquinone (1,2) -diazidosulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide-5-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin as described in JP-B-43-28403 Esters of benzoquinone- (1,2) -diazide sulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide- described in U.S. Pat. Nos. 3,046,120 and 3,188,210. Esters of 5-sulfonic acid chloride and phenol-formaldehyde resin are also preferably used.

さらに、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−4−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアルデヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステル、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−4−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステルも同様に好適に使用される。その他の有用なo−キノンジアジド化合物としては、数多くの特許に報告され知られている。例えば特開昭47−5303号、特開昭48−63802号、特開昭48−63803号、特開昭48−96575号、特開昭49−38701号、特開昭48−13354号、特公昭41−11222号、特公昭45−9610号、特公昭49−17481号、米国特許第2,797,213号、同第3,454,400号、同第3,544,323号、同第3,573,917号、同第3,674,495号、同第3,785,825号、英国特許第1,227,602号、同第1,251,345号、同第1,267,005号、同第1,329,888号、同第1,330,932号、ドイツ特許第854,890号などの各明細書中に記載されているものを挙げることができる。   Further, esters of naphthoquinone- (1,2) -diazido-4-sulfonic acid chloride with phenol formaldehyde resin or cresol-formaldehyde resin, naphthoquinone- (1,2) -diazido-4-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin Similarly, the esters are also preferably used. Other useful o-quinonediazide compounds are reported and known in numerous patents. For example, JP-A-47-5303, JP-A-48-63802, JP-A-48-63803, JP-A-48-96575, JP-A-49-38701, JP-A-48-13354, Japanese Patent Publication Nos. 41-11222, 45-9610, 49-17474, U.S. Pat. Nos. 2,797,213, 3,454,400, 3,544,323, 3,573,917, 3,674,495, 3,785,825, British Patents 1,227,602, 1,251,345, 1,267, No. 005, No. 1,329,888, No. 1,330,932, German Patent No. 854,890, and the like.

o−キノンジアジド化合物の添加量は、好ましくは各記録層の全固形分に対し、1〜50質量%、更に好ましくは5〜30質量%、特に好ましくは10〜30質量%の範囲である。これらの化合物は単一で使用できるが、数種の混合物として使用してもよい。
o−キノンジアジド化合物以外の添加剤の添加量は、好ましくは1〜50質量%、更に好ましくは5〜30質量%、特に好ましくは10〜30質量%である。
The addition amount of the o-quinonediazide compound is preferably in the range of 1 to 50% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, and particularly preferably 10 to 30% by mass with respect to the total solid content of each recording layer. These compounds can be used alone, but may be used as a mixture of several kinds.
The amount of additives other than the o-quinonediazide compound is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, and particularly preferably 10 to 30% by mass.

また、画像のディスクリミネーションの強化や表面のキズに対する抵抗力を強化する目的で、特開2000−87318明細書に記載されているような、分子中に炭素数3〜20のパーフルオロアルキル基を2又は3個有する(メタ)アクリレート単量体を重合成分とする重合体を併用することが出来る。   Further, for the purpose of enhancing the discrimination of the image and the resistance to scratches on the surface, a perfluoroalkyl group having 3 to 20 carbon atoms in the molecule as described in JP-A-2000-87318. A polymer having 2 or 3 (meth) acrylate monomers as polymerization components can be used in combination.

また、更に感度を向上させる目的で、環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類を併用することもできる。環状酸無水物としては米国特許第4,115,128号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−エンドオキシ−Δ4−テトラヒドロ無水フタル酸、トラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。フェノール類としては、ビスフェノールA、p−ニトロフェノール、p−エトキシフェノール、2,4,4’−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,4’,4”−トリヒドロキシトリフェニルメタン、4,4’,3”,4”−テトラヒドロキシ−3,5,3’,5’−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。更に、有機酸類としては、特開昭60−88942号、特開平2−96755 号公報などに記載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類及びカルボン酸類などがあり、具体的には、p−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−トルイル酸、3,4−メトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げられる。上記の環状酸無水物、フェノール類及び有機酸類の記録層固形分中に占める割合は、0.05〜20質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5質量%、特に好ましくは0.1〜10質量%である。   Further, for the purpose of further improving sensitivity, cyclic acid anhydrides, phenols, and organic acids can be used in combination. Examples of cyclic acid anhydrides include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 3,6-endooxy-Δ4-tetrahydrophthalic anhydride described in US Pat. No. 4,115,128, Trachlorophthalic anhydride, maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic anhydride and the like can be used. As phenols, bisphenol A, p-nitrophenol, p-ethoxyphenol, 2,4,4′-trihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone, 4,4 ′, 4 “-Trihydroxytriphenylmethane, 4,4 ′, 3”, 4 ”-tetrahydroxy-3,5,3 ′, 5′-tetramethyltriphenylmethane and the like. There are sulfonic acids, sulfinic acids, alkylsulfuric acids, phosphonic acids, phosphoric acid esters, carboxylic acids, and the like described in Japanese Laid-Open Patent Application No. 60-88942 and Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2-96755. p-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid, ethyl sulfate, Phenylphosphonic acid, phenylphosphinic acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate, benzoic acid, isophthalic acid, adipic acid, p-toluic acid, 3,4-methoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 4-cyclohexene-1,2 -Dicarboxylic acid, erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid, ascorbic acid, etc. The proportion of the cyclic acid anhydride, phenols and organic acids in the solid content of the recording layer is 0.05-20. % By mass is preferable, more preferably 0.1 to 5% by mass, and particularly preferably 0.1 to 10% by mass.

本発明における記録層には例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として添加することができる。具体的には、オイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)、アイゼンスピロンブルーC−RH(保土ヶ谷化学(株)製)等、及び特開昭62−293247号に記載されている染料を挙げることができる。   For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be added to the recording layer in the present invention as an image colorant. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (orientated chemistry) Manufactured by Kogyo Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000), Methylene Blue (CI52015), Eisenspiron Blue C-RH ( Hodogaya Chemical Co., Ltd.) and the dyes described in JP-A-62-293247.

これらの染料を添加することにより、画像形成後、画像部と非画像部の区別が明瞭となるため、添加する方が好ましい。なお、添加量は、記録層全固形分に対し0.01〜10質量%の範囲が好ましい。   By adding these dyes, the image portion and the non-image portion are clearly distinguished after the image formation, so that it is preferable to add them. The addition amount is preferably in the range of 0.01 to 10% by mass with respect to the total solid content of the recording layer.

また、本発明における記録層中には、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭62−251740号公報や特開平3−208514号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭59−121044号公報、特開平4−13149号公報に記載されているような両性界面活性剤、EP950517公報に記載されているようなシロキサン系化合物、特開平11−288093号公報に記載されているようなフッ素モノマー含有の共重合体を添加することができる。   Further, in the recording layer in the present invention, a nonionic surfactant as described in JP-A-62-251740 and JP-A-3-208514 is used in order to broaden the processing stability against the development conditions. , Amphoteric surfactants as described in JP-A-59-121044 and JP-A-4-13149, siloxane-based compounds as described in EP950517, JP-A-11-288093 Copolymers containing fluorine monomers as described can be added.

非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。両面活性剤の具体例としては、アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名「アモーゲンK」:第一工業(株)製)等が挙げられる。シロキサン系化合物としては、ジメチルシロキサンとポリアルキレンオキシドのブロック共重合体が好ましく、具体例として、(株)チッソ社製(株)チッソ社製DBE−224、DBE−621、DBE−712、DBP−732、DBP−534、独国Tego社製Tego Glide100等のポリアルキレンオキシド変性シリコーンを挙げることができる。
上記の非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の記録層中に占める割合は、0.05〜15質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5質量%である。
Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan trioleate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonylphenyl ether and the like. Specific examples of the double-sided activator include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N, N-betaine. Type (for example, trade name “Amorgen K” manufactured by Daiichi Kogyo Co., Ltd.). As the siloxane compound, a block copolymer of dimethylsiloxane and polyalkylene oxide is preferable. Specific examples include DBE-224, DBE-621, DBE-712, DBP- manufactured by Chisso Corporation. And polyalkylene oxide-modified silicones such as 732, DBP-534, and Tego Glide 100 manufactured by Tego, Germany.
The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the recording layer is preferably 0.05 to 15% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass.

本発明の平版印刷版原版には、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。焼き出し剤としては、露光による加熱によって酸を放出する化合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染料の組合せを代表として挙げることができる。
具体的には、例えば、特開昭50−36,209号、同53−8128号の各公報に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭53−36223号、同54−74728号、同60−3626号、同61−143748号、同61−151644号及び同63−58440号の各公報に記載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せが挙げられ、かかるトリハロメチル化合物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。その他の光酸放出剤としては、特開昭55−62444号公報に記載されている種々のo−ナフトキノンジアジド化合物;特開昭55−77742号公報に記載されている2−トリハロメチル−5−アリール−1,3,4−オキサジアゾール化合物;ジアゾニウム塩などを挙げることができる。
To the lithographic printing plate precursor according to the invention, a printing-out agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure or a dye or pigment as an image colorant can be added. Typical examples of the printing-out agent include a combination of a compound that releases an acid by heating by exposure (photoacid releasing agent) and an organic dye that can form a salt.
Specifically, for example, combinations of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halides and salt-forming organic dyes described in JP-A Nos. 50-36,209 and 53-8128, Trihalomethyl compounds and salts described in JP-A Nos. 53-36223, 54-74728, 60-3626, 61-143748, 61-151644 and 63-58440 Examples of such trihalomethyl compounds include oxazole-based compounds and triazine-based compounds, both of which have excellent temporal stability and give clear printout images. Examples of other photoacid releasing agents include various o-naphthoquinonediazide compounds described in JP-A-55-62444; 2-trihalomethyl-5--5 described in JP-A-55-77742. Examples include aryl-1,3,4-oxadiazole compounds; diazonium salts.

〔塗布溶剤及び塗布方法〕
本発明の平版印刷版原版は、単層構成の場合は、高分子化合物及び赤外線吸収剤等の成分を溶媒に溶かした塗布液を調製して、親水性表面を有する支持体に塗布することにより製造形成することができる。
重層構成の場合も、前述の下層及び上層に含有される高分子化合物及び赤外線吸収剤等の成分を溶媒に溶かした塗布液を調製して、親水性表面を有する支持体上に下層用塗布液、上層用塗布液の順に塗布することにより、前記支持体上に下層、上層を製造形成することができる。
また、目的に応じて、後述する保護層、樹脂中間層、バックコート層なども同様にして形成することができる。
[Coating solvent and coating method]
When the lithographic printing plate precursor according to the present invention has a single-layer structure, a coating solution in which components such as a polymer compound and an infrared absorber are dissolved in a solvent is prepared and applied to a support having a hydrophilic surface. Can be manufactured.
Also in the case of a multilayer structure, a coating solution in which components such as the polymer compound and infrared absorber contained in the lower layer and the upper layer are dissolved in a solvent is prepared, and the lower layer coating solution is formed on a support having a hydrophilic surface. By applying the upper layer coating solution in this order, the lower layer and the upper layer can be produced and formed on the support.
Further, depending on the purpose, a protective layer, a resin intermediate layer, a backcoat layer and the like which will be described later can be formed in the same manner.

ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン等をあげることができるが、これらに限定されるものではない。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用される。
前記塗布液中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜50質量%である。
Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Examples include ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, toluene, and the like. It is not limited to. These solvents are used alone or in combination.
The concentration of the above components (total solid content including additives) in the coating solution is preferably 1 to 50% by mass.

また、塗布、乾燥後に得られる支持体上の固形分塗布量は、単層の場合は0.5〜3.0g/m2が好ましく、特に好ましくは0.8〜2.0g/m2である。
重層構成の場合は、上層は0.05〜2.0g/m2、下層は0.3〜5.0g/m2がそれぞれ好ましく、より好ましくは上層は0.1〜1.0g/m2、下層は0.5〜3.0g/m2の範囲である。また上層と下層との塗布量の比(上層/下層)は、0.05〜1が好ましく、より好ましくは0.1〜0.8の範囲である。
In addition, the solid coating amount on the support obtained after coating and drying is preferably 0.5 to 3.0 g / m 2 , particularly preferably 0.8 to 2.0 g / m 2 in the case of a single layer. is there.
In the case of a multi-layer structure, the upper layer is preferably 0.05 to 2.0 g / m 2 and the lower layer is preferably 0.3 to 5.0 g / m 2 , more preferably the upper layer is 0.1 to 1.0 g / m 2. , lower in the range of 0.5 to 3.0 g / m 2. Moreover, 0.05-1 are preferable, and, as for ratio (upper layer / lower layer) of the coating amount of an upper layer and a lower layer, More preferably, it is the range of 0.1-0.8.

各塗布液を塗布する方法としては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、感光膜の皮膜特性は低下する。   Various methods can be used as a method for applying each coating solution. Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating. be able to. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film properties of the photosensitive film deteriorate.

〔支持体〕
本発明の平版印刷版原版に使用される支持体としては、親水性表面を有するものを用いる。
支持体としては、寸度的に安定な板状物であり、必要な強度、可撓性などの物性を満たすものであれば特に制限はなく、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフイルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上記のごとき金属がラミネート、もしくは蒸着された紙、もしくはプラスチックフイルム等が挙げられる。
[Support]
As the support used in the lithographic printing plate precursor according to the invention, a support having a hydrophilic surface is used.
The support is a dimensionally stable plate-like material and is not particularly limited as long as it satisfies physical properties such as necessary strength and flexibility. For example, paper, plastic (for example, polyethylene, polypropylene, Paper, metal plates (eg, aluminum, zinc, copper), plastic films (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene) Terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), paper laminated with metal as described above, or vapor-deposited paper, or plastic film.

平版印刷版原版に適用し得る支持体としては、ポリエステルフイルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ましい。
好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板又は微量の異元素を含むアルミニウムを主成分とした合金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフイルムでもよい。
前記アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々10質量%以下である。
本発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。
As a support that can be applied to a lithographic printing plate precursor, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable.
A suitable aluminum plate is a pure aluminum plate or an alloy plate mainly composed of aluminum containing a trace amount of foreign elements, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited.
Examples of the different elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is at most 10% by mass.
Particularly suitable aluminum in the present invention is pure aluminum, but completely pure aluminum is difficult to produce in the refining technique, and may contain slightly different elements.

このように本発明に適用できるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本発明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程度、好ましくは0.12mm〜0.4mmである。   As described above, the composition of the aluminum plate applicable to the present invention is not specified, and an aluminum plate made of a publicly known material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.12 mm to 0.4 mm.

アルミニウム板は粗面化し、表面を親水性処理して用いるが、粗面化するに先立ち、所望により表面の圧延油を除去するため、例えば界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が行われる。   The aluminum plate is roughened and used with a hydrophilic surface. Prior to the roughening, the surface of the aluminum plate is removed if desired. For example, a degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution is performed. Done.

アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。
機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、特開昭54−63902号公報に開示されているように両者を組合せた方法も利用することができる。
このうち、少なくとも塩酸電解液中で粗面化する工程を含むことが好ましい。
The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, a method of mechanically roughening, a method of electrochemically dissolving and roughening a surface, and a method of selectively dissolving a surface chemically. This is done by the method of
As the mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing alternating current or direct current in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 54-63902, a method in which both are combined can also be used.
Among these, it is preferable to include a step of roughening at least in a hydrochloric acid electrolyte.

この様に粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。
アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。
それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
陽極酸化の処理条件は用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質の濃度が1〜80質量%溶液、液温は5〜70℃、電流密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分の範囲であれば適当である。
陽極酸化皮膜の量は1.0g/m2より少ないと耐刷性が不充分であったり、平版印刷版原版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。
The roughened aluminum plate is subjected to alkali etching treatment and neutralization treatment as necessary, and then subjected to anodization treatment if desired in order to enhance the water retention and wear resistance of the surface.
As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixed acid thereof is used.
The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.
The treatment conditions for anodization vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be specified in general. In general, however, the electrolyte concentration is 1 to 80% by mass solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A / dm 2. A voltage of 1 to 100 V and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are suitable.
When the amount of the anodized film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient, or the non-image part of the lithographic printing plate precursor is easily scratched, and ink adheres to the scratched part during printing. The so-called “scratch stain” is likely to occur.

陽極酸化処理を施された後、アルミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発明に使用される親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、第3,280,734号及び第3,902,734号に開示されているようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸ナトリウム水溶液)法がある。この方法においては、支持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか又は電解処理される。他に特公昭36−22063号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号、同第4,689,272号に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。   After the anodizing treatment, the aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment if necessary. The hydrophilization treatment used in the present invention is disclosed in US Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734 and 3,902,734. There are alkali metal silicate (such as aqueous sodium silicate) methods. In this method, the support is immersed in an aqueous sodium silicate solution or electrolytically treated. In addition, it is disclosed in potassium fluoride zirconate disclosed in Japanese Patent Publication No. 36-22063 and US Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461, and 4,689,272. A method of treating with polyvinylphosphonic acid is used.

〔下塗り層〕
本発明の平版印刷版原版は、支持体上に先述したような下層を設けたものであるが、必要に応じて支持体と下層との間に下塗り層を設けることができる。
この下塗り層を設けることで、支持体と下層との間の下塗り層が断熱層として機能し、赤外線レーザの露光により発生した熱が支持体に拡散せず、効率よく使用されることから、高感度化が図れるという利点を有する。
また、本発明に係る下層は、この下塗り層を設ける際にも、露光面或いはその近傍に位置するため、赤外線レーザに対する感度は良好に維持される。
なお、未露光部においては、アルカリ現像液に対して非浸透性である下層自体が下塗り層の保護層として機能するために、現像安定性が良好になるとともにディスクリミネーションに優れた画像が形成され、且つ、経時的な安定性も確保されるものと考えられる。
また、露光部においては、溶解抑制能が解除された下層の成分が速やかに現像液に溶解、分散し、さらには、支持体に隣接して存在するこの下塗り層自体がアルカリ可溶性高分子からなるものであるため、現像液に対する溶解性が良好で、例えば、活性の低下した現像液などを用いた場合でも、残膜などが発生することなく速やかに溶解し、現像性の向上にも寄与し、この下塗り層は有用であると考えられる。
(Undercoat layer)
The lithographic printing plate precursor according to the invention has a lower layer as described above on a support, but an undercoat layer can be provided between the support and the lower layer as necessary.
By providing this undercoat layer, the undercoat layer between the support and the lower layer functions as a heat insulating layer, and heat generated by the exposure of the infrared laser does not diffuse to the support and is used efficiently. There is an advantage that sensitivity can be improved.
In addition, since the lower layer according to the present invention is located on the exposed surface or in the vicinity thereof even when the undercoat layer is provided, the sensitivity to the infrared laser is favorably maintained.
In the unexposed area, the lower layer itself, which is impermeable to the alkaline developer, functions as a protective layer for the undercoat layer, so that an image with excellent development stability and excellent discrimination is formed. In addition, it is considered that stability over time is also ensured.
In the exposed area, the lower layer component whose dissolution inhibiting ability is released is quickly dissolved and dispersed in the developer, and further, the undercoat layer itself adjacent to the support is made of an alkali-soluble polymer. Therefore, the solubility in the developer is good.For example, even when a developer with reduced activity is used, it dissolves quickly without the formation of a residual film, contributing to the improvement of the developability. This subbing layer is considered useful.

下塗り層成分としては種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及びエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸及びグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、及びトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれるが、2種以上混合して用いてもよい。   Various organic compounds are used as the undercoat layer component. For example, phosphonic acids having an amino group such as carboxymethylcellulose, dextrin, gum arabic, 2-aminoethylphosphonic acid, phenylphosphonic acid which may have a substituent, Organic phosphonic acids such as naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid, optionally substituted phenylphosphoric acid, naphthylphosphonic acid, alkylphosphoric acid and glycerophosphoric acid Organic phosphoric acid, optionally substituted phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, organic phosphinic acids such as alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid, amino acids such as glycine and β-alanine, and hydrochloride of triethanolamine Hydroxy groups such as Selected from hydrochloride of the amine to be, but may be used by mixing two or more.

さらに下記式で示される構造単位を有する有機高分子化合物群から選ばれる少なくとも1種の化合物を含む下塗り層も好ましい。

Figure 2010237435

式中、R11は水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基を表し、R12及びR13はそれぞれ独立して、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、−OR14、−COOR15、−CONHR16、−COR17若しくは−CNを表す。尚、R12及びR13が結合して環を形成してもよい。R14〜R17はそれぞれ独立してアルキル基又はアリール基を表し、Xは水素原子、金属原子、NR18192021を表し、R18〜R21はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基若しくは置換アリール基を表すか、又はR18及びR19が結合して環を形成してもよく、mは1〜3の整数を表す。 Furthermore, an undercoat layer containing at least one compound selected from the group of organic polymer compounds having a structural unit represented by the following formula is also preferred.
Figure 2010237435

In the formula, R 11 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, and R 12 and R 13 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, -OR 14, -COOR 15, represents a -CONHR 16, -COR 17 or -CN. R 12 and R 13 may combine to form a ring. R 14 to R 17 each independently represents an alkyl group or an aryl group, X represents a hydrogen atom, a metal atom, or NR 18 R 19 R 20 R 21 , and R 18 to R 21 each independently represents a hydrogen atom , An alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group or a substituted aryl group, or R 18 and R 19 may be bonded to form a ring, and m represents an integer of 1 to 3.

また、本発明における好適な下塗層成分として、特開2000−241962号公報に記載の酸基を有する構成単位とオニウム基を有する構成単位とを有する高分子化合物を挙げることができる。
具体的には、酸基を有するモノマーとオニウム基を有するモノマーの共重合体が挙げられる。
酸基として好ましいのは酸解離指数(pKa)が7以上の酸基であり、より好ましくは−COOH、−SO3H、−OSO3H、−PO32、―OPO32、―CONHSO2―、または−SO2NHSO2−であり、特に好ましくは−COOHである。
酸基を有するモノマーの具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、上記酸基を有するスチレンなどが挙げられる。
オニウム基として好ましいのは、周期表V族あるいは第VI族の原子からなるオニウム基であり、より好ましくは窒素原子、リン原子あるいは硫黄原子から成るオニウム基であり、特に好ましくは窒素原子から成るオニウム基である。オニウム基を有するモノマーの具体例としては、側鎖にアンモニウム基を有するメタクリレート、メタクリルアミド、第4級アンモニウム基などのオニウム基を含む置換基などのオニウム基を含む置換基を有するスチレン等が挙げられる。
さらに、特開2000−108538号公報、特願2002−257484号公報、特願2003−78699号公報、等に記載されているような化合物についても、必要に応じて用いることができる。
Moreover, as a suitable undercoat layer component in the present invention, there can be mentioned a polymer compound having a structural unit having an acid group and a structural unit having an onium group, as described in JP-A No. 2000-241962.
Specific examples include a copolymer of a monomer having an acid group and a monomer having an onium group.
An acid group having an acid dissociation index (pKa) of 7 or more is preferred as the acid group, and more preferably —COOH, —SO 3 H, —OSO 3 H, —PO 3 H 2 , —OPO 3 H 2 , — CONHSO 2 — or —SO 2 NHSO 2 —, particularly preferably —COOH.
Specific examples of the monomer having an acid group include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, itaconic acid, maleic acid, maleic anhydride, and styrene having the acid group.
Preferred as the onium group is an onium group composed of Group V or Group VI atoms, more preferably an onium group composed of nitrogen, phosphorus or sulfur atoms, and particularly preferably an onium group composed of nitrogen atoms. It is a group. Specific examples of the monomer having an onium group include styrene having a substituent containing an onium group such as a methacrylate having an ammonium group in the side chain, a methacrylamide, a substituent containing an onium group such as a quaternary ammonium group, and the like. It is done.
Furthermore, compounds as described in JP-A No. 2000-108538, Japanese Patent Application No. 2002-257484, Japanese Patent Application No. 2003-78699, and the like can be used as necessary.

これらの下塗り層は次のような方法で設けることができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合物を吸着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して下塗層を設ける方法である。   These undercoat layers can be provided by the following method. That is, a method in which water or an organic solvent such as methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or a mixed solvent thereof is dissolved and applied on an aluminum plate and dried, and water, methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, etc. In this method, an aluminum plate is immersed in a solution in which the above organic compound is dissolved in the above organic solvent or a mixed solvent thereof to adsorb the above compound, and then washed and dried with water or the like to provide an undercoat layer.

前者の方法では、上記の有機化合物の0.005〜10質量%の濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。
また後者の方法では、溶液の濃度は0.01〜20質量%、好ましくは0.05〜5質量%であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜50℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは2秒〜1分である。これに用いる溶液は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりpH1〜12の範囲に調整することもできる。
また、下塗り層には画像記録材料の調子再現性改良のために黄色染料を添加することもできる。
In the former method, a solution having a concentration of 0.005 to 10% by mass of the organic compound can be applied by various methods.
In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by mass, preferably 0.05 to 5% by mass, the immersion temperature is 20 to 90 ° C., preferably 25 to 50 ° C., and the immersion time is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute. The solution used for this can be adjusted to a pH range of 1 to 12 with basic substances such as ammonia, triethylamine, potassium hydroxide, and acidic substances such as hydrochloric acid and phosphoric acid.
In addition, a yellow dye can be added to the undercoat layer in order to improve the tone reproducibility of the image recording material.

下塗り層の被覆量は、2〜200mg/m2が適当であり、好ましくは5〜100mg/m2である。上記の被覆量が2mg/m2よりも少ないと十分な耐刷性能が得られない。また、200mg/m2より大きくても同様である。 The coating amount of the undercoat layer is suitably 2 to 200 mg / m 2 , preferably 5 to 100 mg / m 2 . If the coating amount is less than 2 mg / m 2 , sufficient printing durability cannot be obtained. Moreover, even if it is larger than 200 mg / m 2, it is the same.

〔露光〕
本発明の平版印刷版原版は熱により画像形成される。具体的には、波長700〜1200nmの赤外線を放射する半導体レーザ、YAGレーザ等の固体高出力赤外線レーザによる露光により画像形成される。
熱記録ヘッド等による直接画像様記録、キセノン放電灯などの高照度フラッシュ露光や赤外線ランプ露光などが用いることもできる。
赤外線レーザの出力は100mW以上が好ましく、露光時間を短縮するため、マルチビームレーザデバイスを用いることが好ましい。また、1画素あたりの露光時間は20μ秒以内であることが好ましく、平版印刷版原版に照射されるエネルギーは10〜500mJ/cm2であることが好ましい。
〔exposure〕
The planographic printing plate precursor of the present invention is image-formed by heat. Specifically, an image is formed by exposure with a solid-state high-power infrared laser such as a semiconductor laser or a YAG laser that emits infrared light having a wavelength of 700 to 1200 nm.
Direct image-like recording by a thermal recording head or the like, high-illuminance flash exposure such as a xenon discharge lamp, or infrared lamp exposure can also be used.
The output of the infrared laser is preferably 100 mW or more, and a multi-beam laser device is preferably used in order to shorten the exposure time. The exposure time per pixel is preferably within 20 μsec, and the energy applied to the lithographic printing plate precursor is preferably from 10 to 500 mJ / cm 2 .

〔現像〕
本発明においては、平版印刷版原版は、実質的に有機溶剤を含まないpH12以上のアルカリ性水溶液で現像されることが好ましい。ここで「実質的に有機溶剤を含まない」とは、環境衛生、安全性、作業性等の観点からみて不都合を生じる程度までは有機溶剤を含有しない、の意味であるが、本発明においては現像液中の有機溶剤の割合が0.5重量%以下であることをいい、好ましくは0.3重量%以下、全く含有しないのが最も好ましい。またpHは12.0以上であるが、より好ましくは12.0〜14.0である。
〔developing〕
In the present invention, the lithographic printing plate precursor is preferably developed with an alkaline aqueous solution having a pH of 12 or higher that does not substantially contain an organic solvent. Here, “substantially free of organic solvent” means that it does not contain an organic solvent to the extent of causing inconvenience in terms of environmental health, safety, workability, etc. The ratio of the organic solvent in the developer is 0.5% by weight or less, preferably 0.3% by weight or less, and most preferably not contained at all. Moreover, although pH is 12.0 or more, More preferably, it is 12.0-14.0.

現像液(以下、補充液も含めて現像液と呼ぶ)には、従来より知られているアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウムおよび同リチウムなどの無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤が挙げられる。これらのアルカリ水溶液は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。   A conventionally known alkaline aqueous solution can be used as the developer (hereinafter referred to as developer including the replenisher). For example, sodium silicate, potassium, trisodium phosphate, potassium, ammonium, dibasic sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, Examples thereof include inorganic alkali salts such as ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, ammonium, potassium and lithium. Moreover, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine are listed. These alkaline aqueous solutions may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

上記のアルカリ水溶液の内、本発明による効果が発揮される現像液は、一つは塩基としてケイ酸アルカリを含有した、又は塩基にケイ素化合物を混ぜてケイ酸アルカリとしたものを含有した、いわゆる「シリケート現像液」と呼ばれるpH12以上の水溶液で、もう一つのより好ましい現像液は、ケイ酸アルカリを含有せず、非還元糖(緩衝作用を有する有機化合物)と塩基とを含有したいわゆる「ノンシリケート現像液」である。   Among the above alkaline aqueous solutions, one of the developing solutions that exert the effect according to the present invention is a so-called one containing an alkali silicate as a base, or containing an alkali silicate by mixing a silicon compound with a base. Another more preferable developer, which is an aqueous solution called “silicate developer” having a pH of 12 or more, does not contain an alkali silicate, and contains a non-reducing sugar (an organic compound having a buffering action) and a base. Silicate developer ".

前記シリケート現像液においては、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液はケイ酸塩の成分である酸化ケイ素SiO2とアルカリ金属酸化物M2Oの比率(一般に〔SiO2〕/〔M2O〕のモル比で表す)と濃度によって現像性の調節が可能であり、例えば、特開昭54−62004号公報に開示されているような、SiO2/Na2Oのモル比が1.0〜1.5(即ち〔SiO2〕/〔Na2O〕が1.0〜1.5)であって、SiO2の含有量が1〜4質量%のケイ酸ナトリウムの水溶液や、特公昭57−7427号公報に記載されているような、〔SiO2〕/〔M〕が0.5〜0.75(即ち〔SiO2〕/〔M2O〕が1.0〜1.5)であって、SiO2の濃度が1〜4質量%であり、かつ該現像液がその中に存在する全アルカリ金属のグラム原子を基準にして少なくとも20%のカリウムを含有している、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液が好適に用いられる。 In the silicate developer, the aqueous solution of alkali metal silicate is a ratio of silicon oxide SiO 2 and alkali metal oxide M 2 O (generally [SiO 2 ] / [M 2 O]). And the developing property can be adjusted by the concentration. For example, as disclosed in JP-A-54-62004, the molar ratio of SiO 2 / Na 2 O is 1.0 to 1.5 ( That is, [SiO 2 ] / [Na 2 O] is 1.0 to 1.5), and the content of SiO 2 is 1 to 4% by mass of an aqueous solution of sodium silicate, or Japanese Patent Publication No. 57-7427. [SiO 2 ] / [M] is 0.5 to 0.75 (ie, [SiO 2 ] / [M 2 O] is 1.0 to 1.5), total alkali metal 2 concentrations from 1 to 4 wt%, and the developing solution is present therein Based on the gram atom containing potassium at least 20%, aqueous solution of an alkali metal silicate it is preferably used.

また、ケイ酸アルカリを含有せず、非還元糖と塩基とを含有したいわゆる「ノンシリケート現像液」の場合、pHの変動を抑える緩衝性を有する非還元糖を含有することが好ましい。
非還元糖とは、遊離のアルデヒド基やケトン基を持たず、還元性を示さない糖類であり、還元基同士の結合したトレハロース型少糖類、糖類の還元基と非糖類が結合した配糖体、及び糖類に水素添加して還元した糖アルコールに分類され、何れも本発明において用いることができる。なお、本発明においては、特開平8−305039号公報に記載された非還元糖を好適に使用することができる。
In the case of a so-called “non-silicate developer” that does not contain an alkali silicate and contains a non-reducing sugar and a base, it is preferable to contain a non-reducing sugar having a buffering property that suppresses fluctuations in pH.
Non-reducing sugars are saccharides that do not have a free aldehyde group or ketone group and do not exhibit reducibility, trehalose-type oligosaccharides in which reducing groups are bonded, and glycosides in which reducing groups of saccharides are combined with non-saccharides. , And sugar alcohols reduced by hydrogenation of sugars, any of which can be used in the present invention. In the present invention, non-reducing sugars described in JP-A-8-305039 can be preferably used.

前記トレハロース型少糖類としては、例えば、サッカロース、トレハロース等が挙げられる。前記配糖体としては、例えば、アルキル配糖体、フェノール配糖体、カラシ油配糖体等が挙げられる。前記糖アルコールとしては、例えば、D,L−アラビット、リビット、キシリット、D,L−ソルビット、D,L−マンニット、D,L−イジット、D,L−タリット、ズリシット、アロズルシット等が挙げられる。更に、二糖類のマルトースに水素添加したマルチトール、オリゴ糖の水素添加で得られる還元体(還元水あめ)等が好適に挙げられる。これらの非還元糖の中でも、トレハロース型少糖類、糖アルコールが好ましく、その中でも、D−ソルビット、サッカロース、還元水あめ、等が適度なpH領域に緩衝作用があり、低価格である点で好ましい。
これらの非還元糖は、一種単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。
前記非還元糖の前記ノンシリケート現像液中における含有量としては、0.1〜30質量%が好ましく、1〜20質量%がより好ましい。前記の含有量が0.1〜30質量%の範囲内であると、適切な緩衝作用が得られ、また高濃縮化及び原価低減の点で好ましい。
Examples of the trehalose type oligosaccharides include saccharose and trehalose. Examples of the glycoside include alkyl glycosides, phenol glycosides, and mustard oil glycosides. Examples of the sugar alcohol include D, L-arabit, rebit, xylit, D, L-sorbit, D, L-mannit, D, L-exit, D, L-talit, zulsiit, allozulcit and the like. . Further, maltitol hydrogenated to disaccharide maltose, reduced form obtained by hydrogenation of oligosaccharide (reduced water candy), and the like are preferable. Among these non-reducing sugars, trehalose-type oligosaccharides and sugar alcohols are preferable, and among them, D-sorbitol, saccharose, reduced syrup, etc. are preferable in that they have a buffering action in an appropriate pH region and are inexpensive.
These non-reducing sugars may be used alone or in combination of two or more.
The content of the non-reducing sugar in the non-silicate developer is preferably 0.1 to 30% by mass, and more preferably 1 to 20% by mass. When the content is in the range of 0.1 to 30% by mass, an appropriate buffer action is obtained, and it is preferable in terms of high concentration and cost reduction.

また、前記非還元糖と組合せて用いられる塩基としては、従来より公知のアルカリ剤、例えば、無機アルカリ剤、有機アルカリ剤等が挙げられる。無機アルカリ剤としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸三アンモニウム、リン酸二ナトリウム、リン酸二カリウム、リン酸二アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、硼酸ナトリウム、硼酸カリウム、硼酸アンモニウム等が挙げられる。
有機アルカリ剤としては、例えば、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン等が挙げられる。
前記塩基は、一種単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。これらの塩基の中でも、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。また、本発明においては、前記ノンシリケート現像液として、非還元糖と塩基との併用に代えて、非還元糖のアルカリ金属塩を主成分としたものを用いることもできる。
Examples of the base used in combination with the non-reducing sugar include conventionally known alkali agents such as inorganic alkali agents and organic alkali agents. Examples of the inorganic alkaline agent include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, triammonium phosphate, disodium phosphate, dipotassium phosphate, diammonium phosphate, Examples thereof include sodium carbonate, potassium carbonate, ammonium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, ammonium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, and ammonium borate.
Examples of the organic alkali agent include monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanol. Examples include amine, diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine.
The said base may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. Among these bases, sodium hydroxide and potassium hydroxide are preferable. In the present invention, as the non-silicate developer, a non-reducing sugar alkali metal salt as a main component can be used instead of the non-reducing sugar and the base.

また、前記ノンシリケート現像液に、前記非還元糖以外の弱酸と強塩基とからなるアルカリ性緩衝液を併用することができる。前記弱酸としては、解離定数(pKa)が10.0〜13.2のものが好ましく、例えば、Pergmon Press 社発行のIonization Constants of Organic Acidsin Aqueous Solution 等に記載されているものから選択できる。
具体的には、2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール−1、トリフルオロエタノール、トリクロロエタノール等のアルコール類、ピリジン−2−アルデヒド(、ピリジン−4−アルデヒド(等のアルデヒド類、サリチル酸、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、カテコール、没食子酸、スルホサリチル酸、3,4−ジヒドロキシスルホン酸、3,4−ジヒドロキシ安息香酸、ハイドロキノン(同11.56)、ピロガロール、o−、m−,p−クレゾール、レゾルソノール等のフェノール性水酸基を有する化合物、アセトキシム、2−ヒドロキシベンズアルデヒドオキシム、ジメチルグリオキシム、エタンジアミドジオキシム、アセトフェノンオキシム等のオキシム類、アデノシン、イノシン、グアニン、シトシン、ヒポキサンチン、キサンチン等の核酸関連物質、その他に、ジエチルアミノメチルホスホン酸、ベンズイミダゾール、バルビツル酸等が好適に挙げられる。
In addition, an alkaline buffer composed of a weak acid other than the non-reducing sugar and a strong base can be used in combination with the non-silicate developer. The weak acid preferably has a dissociation constant (pKa) of 10.0 to 13.2, and can be selected from, for example, those described in Ionization Constants of Organic Acids Solution issued by Pergmon Press.
Specifically, alcohols such as 2,2,3,3-tetrafluoropropanol-1, trifluoroethanol, and trichloroethanol, pyridine-2-aldehyde (, aldehydes such as pyridine-4-aldehyde (such as salicylic acid, 3-hydroxy-2-naphthoic acid, catechol, gallic acid, sulfosalicylic acid, 3,4-dihydroxysulfonic acid, 3,4-dihydroxybenzoic acid, hydroquinone (11.56), pyrogallol, o-, m-, p -Compounds having a phenolic hydroxyl group such as cresol, resorsonol, oximes such as acetoxime, 2-hydroxybenzaldehyde oxime, dimethylglyoxime, ethanediamide dioxime, acetophenone oxime, adenosine, inosine, guanine, cytosine, hypoxanthine, chitosan Nucleic acid-related substances such as Nchin, other, diethylaminomethyl acid, benzimidazole, and the like barbituric acid is preferably exemplified.

前記現像液には、現像性の促進や抑制、現像カスの分散または、印刷版画像部の親インキ性を高める目的で、必要に応じて、種々の界面活性剤や有機溶剤を添加できる。前記界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系および両性界面活性剤が好ましい。更に、前記現像液には、必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤等を加えることができる。   Various surfactants and organic solvents can be added to the developer as necessary for the purpose of promoting or suppressing developability, dispersing development residue, or improving ink affinity of the printing plate image area. As the surfactant, anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants are preferable. Furthermore, in the developer, if necessary, reducing agents such as sodium salt and potassium salt of inorganic acids such as hydroquinone, resorcin, sulfurous acid, and bisulfite, organic carboxylic acid, antifoaming agent, water softener, etc. Can be added.

前記現像液を用いて現像処理された平版印刷版原版は、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。前記画像形成材料を印刷版として使用する場合の後処理としては、これらの処理を種々組合せて用いることができる。
更に自動現像機を用いて現像する場合には、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)を現像液に加えた現像液を用いることによって、長時間現像タンク中の現像液を交換する事なく、多量のPS版を処理できることが知られている。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用される。
上記現像液を用いて現像処理された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。本発明の平版印刷版原版の後処理としては、これらの処理を種々組合せて用いることができる。
The lithographic printing plate precursor developed using the developer is post-treated with a desensitizing solution containing washing water, a rinse solution containing a surfactant or the like, gum arabic or a starch derivative. As the post-treatment when the image forming material is used as a printing plate, these treatments can be used in various combinations.
Further, when developing using an automatic developing machine, the developer in the developing tank is replaced for a long time by using a developer obtained by adding an aqueous solution (replenisher) having a higher alkali strength than the developer to the developer. It is known that a large amount of PS plate can be processed without any problems. This replenishment method is also preferably applied in the present invention.
The printing plate developed with the developer is post-treated with a desensitizing solution containing washing water, a rinsing solution containing a surfactant and the like, gum arabic and starch derivatives. As the post-treatment of the lithographic printing plate precursor according to the invention, these treatments can be used in various combinations.

近年、製版・印刷業界では製版作業の合理化及び標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽及びスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールなどによって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知られている。このような自動処理においては、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理することができる。また、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。   In recent years, automatic developing machines for printing plates have been widely used in the plate making and printing industries in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine is generally composed of a developing unit and a post-processing unit, and includes an apparatus for transporting the printing plate, each processing liquid tank and a spray device, and each pumped up by a pump while transporting the exposed printing plate horizontally. A developing solution is sprayed from a spray nozzle. In addition, recently, a method is also known in which a printing plate is dipped and conveyed by a submerged guide roll in a processing liquid tank filled with the processing liquid. In such automatic processing, each processing solution can be processed while being supplemented with a replenisher according to the processing amount, operating time, and the like. In addition, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing solution can also be applied.

本発明の平版印刷版原版においては、画像露光し、現像し、水洗及び/又はリンス及び/又はガム引きして得られた平版印刷版原版に不必要な画像部(例えば原画フイルムのフイルムエッジ跡など)がある場合には、その不必要な画像部の消去が行なわれる。このような消去は、例えば特公平2−13293号公報に記載されているような消去液を不必要画像部に塗布し、そのまま所定の時間放置したのちに水洗することにより行う方法が好ましいが、特開平59−174842号公報に記載されているようなオプティカルファイバーで導かれた活性光線を不必要画像部に照射したのち現像する方法も利用できる。   In the lithographic printing plate precursor according to the present invention, an image portion unnecessary for the lithographic printing plate precursor obtained by image exposure, development, washing and / or rinsing and / or gumming (for example, film edge trace of the original film). Etc.), the unnecessary image portion is erased. Such erasing is preferably performed by applying an erasing solution as described in, for example, Japanese Patent Publication No. 2-13293 to an unnecessary image portion, leaving it for a predetermined time, and then washing with water. As described in JP-A-59-174842, a method of developing after irradiating an unnecessary image portion with an actinic ray guided by an optical fiber can also be used.

以上のようにして得られた平版印刷版原版は所望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供することができるが、より一層の高耐刷力平版印刷版原版としたい場合には、所望によりバーニング処理が施される。
平版印刷版原版をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61−2518号、同55−28062号、特開昭62−31859号、同61−159655号の各公報に記載されているような整面液で処理することが好ましい。
その方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版原版上に塗布するか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コーターによる塗布などが適用される。また、塗布した後でスキージ、あるいは、スキージローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与える。
整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8g/m2(乾燥質量)が適当である。整面液が塗布された平版印刷版原版は必要であれば乾燥された後、バーニングプロセッサー(たとえば富士写真フイルム(株)より販売されているバーニングプロセッサー:「BP−1300」)などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、180〜300℃の範囲で1〜20分の範囲が好ましい。
The lithographic printing plate precursor obtained as described above can be subjected to a printing process after applying a desensitized gum if desired, but if it is desired to make a lithographic printing plate precursor with a higher printing durability, A burning process is performed if desired.
When burning a lithographic printing plate precursor, it is described in JP-B-61-2518, JP-A-55-28062, JP-A-62-31859, JP-A-61-159655 before burning. It is preferable to treat with a surface conditioning liquid.
As a method thereof, a method of applying the lithographic printing plate precursor with a sponge or absorbent cotton soaked with the surface-adjusting liquid, or immersing and applying the printing plate in a vat filled with the surface-adjusting liquid, Application by an automatic coater is applied. Further, it is more preferable to make the coating amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after coating.
In general, the amount of surface-adjusting solution applied is suitably 0.03 to 0.8 g / m 2 (dry mass). The lithographic printing plate precursor coated with the surface-adjusting solution is dried if necessary, and then heated to a high temperature with a burning processor (for example, burning processor “BP-1300” sold by Fuji Photo Film Co., Ltd.). Is done. In this case, the heating temperature and time are in the range of 180 to 300 ° C. and preferably in the range of 1 to 20 minutes, although depending on the type of components forming the image.

バーニング処理された平版印刷版原版は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行なわれている処理を施こすことができるが水溶性高分子化合物等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなどのいわゆる不感脂化処理を省略することができる。この様な処理によって得られた平版印刷版原版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。   The lithographic printing plate precursor that has been burned can be subjected to conventional treatments such as washing and gumming as needed, but a surface-conditioning solution containing a water-soluble polymer compound is used. In such a case, so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted. The lithographic printing plate precursor obtained by such treatment is applied to an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.

以下、本発明を実施例に従って説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。
[実施例1]
厚さ0.3mmのJIS−A−1050アルミニウム板を用いて、下記に示す工程を経て処理することで支持体Aを作製した。
上述のアルミニウム板に温度70℃のNaOH水溶液(濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%)をスプレーしてエッチング処理を行い、アルミニウム板を6g/m2溶解した。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
次に温度30℃の硝酸濃度1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、塩酸7.5g/リットル水溶液(アルミニウムイオンを5g/リットル含む)、温度35℃であった。交流電源波形は矩形波であり、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽はラジアルセルタイプのものを使用した。
電流密度は電流のピーク値で25A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で450C/dm2であった。
その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated according to an Example, the scope of the present invention is not limited to these Examples.
[Example 1]
Using a JIS-A-1050 aluminum plate having a thickness of 0.3 mm, a support A was produced by processing through the following steps.
The above aluminum plate was sprayed with an aqueous NaOH solution (concentration 26 mass%, aluminum ion concentration 6.5 mass%) at a temperature of 70 ° C. to dissolve the aluminum plate 6 g / m 2 . Thereafter, washing with water was performed using well water.
Next, desmutting treatment was performed by spraying with a 1% by weight aqueous solution of nitric acid having a temperature of 30 ° C. (containing 0.5% by weight of aluminum ions), and then washed with water by spraying.
An electrochemical surface roughening treatment was continuously performed using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a hydrochloric acid 7.5 g / liter aqueous solution (containing 5 g / liter of aluminum ions) at a temperature of 35 ° C. The AC power supply waveform was a rectangular wave, and an electrochemical surface roughening treatment was performed using a carbon electrode as a counter electrode. Ferrite was used for the auxiliary anode. The electrolytic cell used was a radial cell type.
The current density was 25 A / dm 2 at the peak current value, and the amount of electricity was 450 C / dm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode.
Thereafter, washing with water was performed using well water.

アルミニウム板をカセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%でスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.10g/m2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
温度60℃の硫酸濃度25質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
次いで陽極酸化処理を行った。電解液は、硫酸濃度170g/リットル(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)、温度は43℃であった。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
ここまでで得られたアルミニウム板の表面粗さを、東京精密(株)製サーフコムを用い触針先端径2μmで測定したところ、Ra表示で0.45μmであった。
電流密度はともに約30A/dm2であった。最終的な酸化皮膜量は2.7g/m2であった。
更にその後、0.5%のポリビニルホスホン酸水溶液を60℃に加熱した液に、陽極酸化処理したアルミニウム板を5秒間浸漬し、スプレーにて水洗した。
以上のようにして、感光性平版印刷版用の支持体Aを得た。
The aqueous solution having a caustic soda concentration of 26 wt%, performed an aluminum ion concentration of 6.5 wt% to etching treatment by spraying at 32 ° C., the aluminum plate 0.10 g / m 2 was dissolved, electrochemical by using the alternating current in the previous stage The smut component mainly composed of aluminum hydroxide generated during the roughening treatment was removed, and the edge portion of the generated pit was melted to smooth the edge portion. Thereafter, washing with water was performed using well water.
A desmut treatment by spraying was performed with a 25% by mass aqueous solution of sulfuric acid at a temperature of 60 ° C. (containing 0.5% by mass of aluminum ions), and then water washing by spraying was performed using well water.
Subsequently, anodizing treatment was performed. The electrolytic solution had a sulfuric acid concentration of 170 g / liter (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and a temperature of 43 ° C. Thereafter, washing with water was performed using well water.
When the surface roughness of the aluminum plate obtained so far was measured with a stylus tip diameter of 2 μm using a surfcom manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd., it was 0.45 μm in Ra display.
Both current densities were about 30 A / dm 2 . The final oxide film amount was 2.7 g / m 2 .
Further, an anodized aluminum plate was immersed for 5 seconds in a solution obtained by heating a 0.5% polyvinylphosphonic acid aqueous solution to 60 ° C., and washed with water by spraying.
Thus, a support A for a photosensitive lithographic printing plate was obtained.

上記で得られた支持体に、下記組成の下層用塗布液Aをワイヤーバーで塗布したのち、140℃に設定した乾燥用オーブンで70秒間乾燥して下層を得た。乾燥後の塗布量は1.0g/m2であった。
<下層用塗布液A>
・特定ポリマー(上述の構造例(1)) 0.80g
・クリスタルバイオレットのナフタレンスルホン酸塩 0.10g
・フッ素系界面活性剤F−780−F(大日本インキ(株)製) 0.01g
・メチルエチルケトン 5.00g
・1−メトキシ−2−プロパノール 5.00g
・N,N−ジメチルホルムアミド 10.00g
The lower layer coating liquid A having the following composition was coated on the support obtained above with a wire bar, and then dried for 70 seconds in a drying oven set at 140 ° C. to obtain a lower layer. The coating amount after drying was 1.0 g / m 2 .
<Coating liquid A for lower layer>
・ Specific polymer (structure example (1) above) 0.80g
-Crystal violet naphthalene sulfonate 0.10g
・ Fluorine-based surfactant F-780-F (Dainippon Ink Co., Ltd.) 0.01g
・ Methyl ethyl ketone 5.00g
・ 1-methoxy-2-propanol 5.00g
・ N, N-dimethylformamide 10.00g

このようにして得られた下層の上に、下記組成の上層用塗布液Bをワイヤーバーで塗布したのち、130℃に設定した乾燥用オーブンで60秒間乾燥して上層を得た。乾燥後の塗布量は0.5g/m2であった。
<上層用塗布液B>
・上述のノボラック樹脂(i) 0.80g
(フェノール/m−クレゾール/p−クレゾール=50/30/20(モル比)よりなるノボラック樹脂、重量平均分子量8,000)
・芳香族基を有するスルホニウム塩(上述の例(A)) 0.20g
・下記構造のシアニン染料P 0.10g

Figure 2010237435

・フッ素系界面活性剤F−780−F(大日本インキ(株)製) 0.02g
・メチルエチルケトン 10.00g
・1−メトキシ−2−プロパノール 10.00g
このようにして、記録層が重層構造である感光性平版印刷版原版を得た。 On the lower layer thus obtained, an upper layer coating solution B having the following composition was coated with a wire bar, and then dried for 60 seconds in a drying oven set at 130 ° C. to obtain an upper layer. The coating amount after drying was 0.5 g / m 2 .
<Upper layer coating solution B>
・ The above-mentioned novolac resin (i) 0.80 g
(Novolak resin consisting of phenol / m-cresol / p-cresol = 50/30/20 (molar ratio), weight average molecular weight 8,000)
・ Sulphonium salt having an aromatic group (the above example (A)) 0.20 g
・ Cyanine dye P of the following structure: 0.10 g
Figure 2010237435

・ Fluorine-based surfactant F-780-F (Dainippon Ink Co., Ltd.) 0.02g
・ Methyl ethyl ketone 10.00g
1-methoxy-2-propanol 10.00g
Thus, a photosensitive lithographic printing plate precursor having a multi-layered recording layer was obtained.

[実施例2]〜[実施例14]
実施例1で、下層の特定ポリマー(1)、上層のノボラック樹脂(i)、スルホニウム塩(A)を表1に記載の化合物に変更したほかは実施例1と同様にして、感光性平版印刷版原版を得た。
[実施例15]
実施例1で、上層に使用しているシアニン染料Pを、下層にも0.10g加えたほかは実施例1と同様にし、感光性平版印刷版原版を得た。
[実施例16]
実施例15で、上層にシアニン染料Pを使用せず、下層への添加量を0.15gとしたほかは実施例15と同様にし、感光性平版印刷版原版を得た。
[Example 2] to [Example 14]
Photosensitive lithographic printing in the same manner as in Example 1 except that the specific polymer (1) in the lower layer, the novolak resin (i) in the upper layer, and the sulfonium salt (A) in Example 1 were changed to the compounds shown in Table 1. I got the original version.
[Example 15]
In Example 1, a photosensitive lithographic printing plate precursor was obtained in the same manner as in Example 1 except that 0.10 g of the cyanine dye P used in the upper layer was also added to the lower layer.
[Example 16]
A photosensitive lithographic printing plate precursor was obtained in the same manner as in Example 15, except that the cyanine dye P was not used in the upper layer and the amount added to the lower layer was 0.15 g.

[実施例17]
実施例1で、支持体Aの作成における電気化学的な粗面化処理に使用する電解液を、塩酸7.5g/リットル水溶液(アルミニウムイオンを5g/リットル含む)に変えて、硝酸10g/リットル水溶液(アルミニウムイオンを5g/リットル含む)とし、電気量をアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で300C/dm2とした(この支持体を以下支持体Bとする)ほかは実施例1と同様にし、感光性平版印刷版原版を得た。なおこの支持体Bの表面粗さを、東京精密(株)製サーフコムを用い触針先端径2μmで測定したところ、Ra表示で0.25μmであった。
[Example 17]
In Example 1, the electrolyte used for the electrochemical surface roughening treatment in the preparation of the support A was changed to a 7.5 g / liter aqueous solution of hydrochloric acid (containing 5 g / liter of aluminum ions), and 10 g / liter of nitric acid. Example 1 except that the aqueous solution (containing 5 g / liter of aluminum ions) and the amount of electricity was 300 C / dm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was an anode (this support is hereinafter referred to as support B). In the same manner, a photosensitive lithographic printing plate precursor was obtained. The surface roughness of the support B was measured with a stylus tip diameter of 2 μm using a surfcom manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd. and found to be 0.25 μm in Ra display.

[実施例18]
実施例1で得られた支持体Aに、下記組成の塗布液Cをワイヤーバーで塗布したのち、140℃に設定した乾燥用オーブンで80秒間乾燥して記録層を得た。乾燥後の塗布量は1.5g/m2であった。
<塗布液C>
・特定ポリマー(上述の構造例(1)) 0.50g
・上述のノボラック樹脂(i) 0.50g
・芳香族基を有するスルホニウム塩(A) 0.10g
・下記構造のシアニン染料P 0.10g

Figure 2010237435

・クリスタルバイオレットのナフタレンスルホン酸塩 0.10g
・フッ素系界面活性剤F−780−F(大日本インキ(株)製) 0.02g
・メチルエチルケトン 5.00g
・1−メトキシ−2−プロパノール 5.00g
・N,N−ジメチルホルムアミド 10.00g
このようにして、記録層が単層である感光性平版印刷版原版を得た。 [Example 18]
A coating liquid C having the following composition was applied to the support A obtained in Example 1 with a wire bar, and then dried in an oven for drying set at 140 ° C. for 80 seconds to obtain a recording layer. The coating amount after drying was 1.5 g / m 2 .
<Coating liquid C>
・ Specific polymer (structure example (1) above) 0.50g
・ The above-mentioned novolak resin (i) 0.50 g
・ Sulfonium salt having an aromatic group (A) 0.10 g
・ Cyanine dye P of the following structure: 0.10 g
Figure 2010237435

-Crystal violet naphthalene sulfonate 0.10g
・ Fluorine-based surfactant F-780-F (Dainippon Ink Co., Ltd.) 0.02g
・ Methyl ethyl ketone 5.00g
・ 1-methoxy-2-propanol 5.00g
・ N, N-dimethylformamide 10.00g
Thus, a photosensitive lithographic printing plate precursor having a single recording layer was obtained.

[実施例19]〜[実施例31]
実施例18で、特定ポリマー(1)、ノボラック樹脂(i)、スルホニウム塩(A)、を表1に記載の化合物に変更したほかは実施例18と同様にし、感光性平版印刷版原版を得た。
[実施例32]
実施例18で、支持体Aの代わりに実施例17に記載した支持体Bを用いたほかは実施例18と同様にし、感光性平版印刷版原版を得た。
[Example 19] to [Example 31]
A photosensitive lithographic printing plate precursor was obtained in the same manner as in Example 18 except that the specific polymer (1), novolak resin (i) and sulfonium salt (A) were changed to the compounds shown in Table 1 in Example 18. It was.
[Example 32]
A photosensitive lithographic printing plate precursor was obtained in the same manner as in Example 18 except that the support B described in Example 17 was used instead of the support A in Example 18.

[比較例1]
実施例1で、下層の特定ポリマー(1)のかわりに、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド/メタクリル酸メチル/アクリロニトリル=35/35/30(モル比)の共重合体(重量平均分子量65,000、以下ポリマー(X)と記載)を使用したほかは、実施例1と同様にし、感光性平版印刷版原版を得た。
[比較例2]
実施例1で、下層の特定ポリマー(1)のかわりに、N−フェニルマレイミド/メタクリルアミド/メタクリル酸=45/35/20(モル比)の共重合体(重量平均分子量20,000、以下ポリマー(Y)と記載)を使用したほかは、実施例1と同様にし、感光性平版印刷版原版を得た。
[Comparative Example 1]
In Example 1, instead of the specific polymer (1) in the lower layer, a copolymer of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide / methyl methacrylate / acrylonitrile = 35/35/30 (molar ratio) (weight average) A photosensitive lithographic printing plate precursor was obtained in the same manner as in Example 1, except that a molecular weight of 65,000 was used (hereinafter referred to as polymer (X)).
[Comparative Example 2]
In Example 1, instead of the lower layer specific polymer (1), a copolymer of N-phenylmaleimide / methacrylamide / methacrylic acid = 45/35/20 (molar ratio) (weight average molecular weight 20,000, hereinafter polymer) A photosensitive lithographic printing plate precursor was obtained in the same manner as in Example 1, except that (Y) was used.

[比較例3]
実施例1で、下層のスルホニウム塩(A)を使用しなかったほかは実施例1と同様にし、感光性平版印刷版原版を得た。
[比較例4]
実施例18で、特定ポリマー(1)のかわりに、比較例1のポリマー(X)を使用したほかは実施例18と同様にし、感光性平版印刷版原版を得た。
[Comparative Example 3]
A photosensitive lithographic printing plate precursor was obtained in the same manner as in Example 1 except that the lower layer sulfonium salt (A) was not used in Example 1.
[Comparative Example 4]
A photosensitive lithographic printing plate precursor was obtained in the same manner as in Example 18 except that instead of the specific polymer (1) in Example 18, the polymer (X) of Comparative Example 1 was used.

[比較例5]
実施例18で、特定ポリマー(1)のかわりに、比較例2のポリマー(Y)を使用したほかは実施例18と同様にし、感光性平版印刷版原版を得た。
[比較例6]
実施例18で、ノボラック樹脂(i)を使用せず、特定ポリマー(1)の量を1.00gとしたほかは実施例18と同様にし、感光性平版印刷版原版を得た。
[比較例7]
実施例18で、スルホニウム塩(A)を使用しなかったほかは実施例18と同様にし、感光性平版印刷版原版を得た。
[Comparative Example 5]
A photosensitive lithographic printing plate precursor was obtained in the same manner as in Example 18 except that instead of the specific polymer (1) in Example 18, the polymer (Y) of Comparative Example 2 was used.
[Comparative Example 6]
A photosensitive lithographic printing plate precursor was obtained in the same manner as in Example 18 except that novolac resin (i) was not used and the amount of the specific polymer (1) was 1.00 g.
[Comparative Example 7]
A photosensitive lithographic printing plate precursor was obtained in the same manner as in Example 18 except that the sulfonium salt (A) was not used in Example 18.

[現像性の評価]
得られた感光性平版印刷版を、富士フイルム(株)製Luxel PLATESETTER T−9800HSにて、ビーム出力100%、ドラム回転速度150rpmの条件で、175lpi/2400dpiの網点面積率1〜99%のチャートが入ったテストパタ−ンの画像状に描き込み(露光)を行った。
次に、AGFA社製AutolithPN85CE自動現像機を用い、現像液温を30度、現像時間25秒で現像処理を行った。このとき、現像液としては下記組成の濃縮現像液1を水で希釈し、80〜100mS/cmの間で2mS/cmおきに電導度を変えた現像液を使用した。またガム液としては、富士フイルム(株)製FG−1を水で1:1に希釈した液を用いた。このようにして、現像性の評価を行った。
<濃縮現像液1組成>
・3号珪酸ナトリウム(38.5%水溶液) 150g
・水酸化ナトリウム(50%水溶液) 70g
・リン酸(p−メチルフェノキシポリオキシエチレン)の2カリウム塩 10g
・プルロニックTR704(ADEKA(株)製) 2g
・エレミノールMON−2(三洋化成(株)製、48.5%水溶液) 1g
・純水 267g
[Evaluation of developability]
The obtained photosensitive lithographic printing plate was printed on a Fujifilm Corporation Luxel PLASETTER T-9800HS with a beam output of 100% and a drum rotation speed of 150 rpm, with a dot area ratio of 175 lpi / 2400 dpi of 1-99%. Drawing (exposure) was performed on an image of a test pattern containing a chart.
Next, development processing was performed using an Autolith PN85CE automatic developing machine manufactured by AGFA with a developer temperature of 30 degrees and a development time of 25 seconds. At this time, as a developing solution, a concentrated developing solution 1 having the following composition was diluted with water, and a developing solution whose conductivity was changed every 2 mS / cm between 80 and 100 mS / cm was used. As the gum solution, a solution obtained by diluting FG-1 manufactured by Fuji Film Co., Ltd. with water 1: 1. In this way, the developability was evaluated.
<Concentrated developer 1 composition>
・ No.3 sodium silicate (38.5% aqueous solution) 150g
・ 70 g of sodium hydroxide (50% aqueous solution)
・ Dipotassium salt of phosphoric acid (p-methylphenoxypolyoxyethylene) 10 g
・ Pluronic TR704 (manufactured by ADEKA Corporation) 2g
・ Eleminol MON-2 (manufactured by Sanyo Chemical Co., Ltd., 48.5% aqueous solution) 1 g
・ Pure water 267g

現像液の液感が低い場合、露光部の現像が不十分となり、非画像部に残膜が発生する。また現像液の液感が高い場合、未露光部の表面が現像され膜減りを起こし、良好な画像が得られない。このように非画像部の残膜と画像部の膜減りとの両方が発生しない現像液の電導度の幅を、現像性ラチチュードの指標として、各平版印刷版原版で評価した。結果を表1に示す。
表1に示すように、本発明に従った実施例により得られた平版印刷版原版では、いずれも上記の電導度の幅が広く、すなわち現像性ラチチュードが広く、現像性に優れていた。これに対し、比較例により得られた平版印刷版原版では、実施例の平版印刷版原版に比べて上記電導度の幅が狭かった。
When the developer feel is low, development in the exposed area becomes insufficient and a residual film is generated in the non-image area. If the developer feels high, the surface of the unexposed area is developed and the film is reduced, and a good image cannot be obtained. Thus, the width of the electric conductivity of the developing solution in which both the residual film in the non-image area and the film reduction in the image area did not occur was evaluated for each lithographic printing plate precursor as an index of developability latitude. The results are shown in Table 1.
As shown in Table 1, the lithographic printing plate precursors obtained by the examples according to the present invention all had a wide range of the above-described conductivity, that is, a wide developability latitude and excellent developability. On the other hand, in the planographic printing plate precursor obtained by the comparative example, the conductivity range was narrower than that of the planographic printing plate precursor of the example.

[耐薬品性の評価]
得られた感光性平版印刷版原版を、上述の現像性の評価と同様に露光、現像して、平版印刷版を得た。このときの現像液は、現像性評価において判明した電導度の幅の中心となる電導度の現像液を使用した。
次に、このようにして得られた平版印刷版を用いて印刷を行なった。このとき、印刷機としては小森コーポレーション(株)製のリスロン印刷機を、インキとしては大日本インキ化学工業(株)製のバリウスGの墨インキを、湿し水としては富士フイルム(株)製のIF−102を水で4%の濃度に希釈した液を、それぞれ用いた。また5000枚印刷するごとに、富士フイルム(株)製マルチクリーナーで版面を拭くことを行った。上質紙に印刷し、ベタ画像の濃度が薄くなり始めたと目視で認められた時点の印刷枚数により、耐刷性を評価した。この数値が大きいほど耐薬品性が良好であることを意味する。結果を表1に示す。
表1に示すように、本発明に従った実施例により得られた平版印刷版原版から製版した版は、いずれも良好な耐薬品性を示した。これに対し、比較例により得られた平版印刷版原版からの版は、いずれも耐薬品性が劣っていた。
[Evaluation of chemical resistance]
The obtained photosensitive lithographic printing plate precursor was exposed and developed in the same manner as the evaluation of developability described above to obtain a lithographic printing plate. As the developer at this time, a developer having an electric conductivity that becomes the center of the electric conductivity width found in the evaluation of developability was used.
Next, printing was performed using the lithographic printing plate thus obtained. At this time, the Lislon printer manufactured by Komori Corporation was used as the printing machine, the Varius G black ink manufactured by Dainippon Ink and Chemicals was used as the ink, and Fuji Film Co., Ltd. was used as the fountain solution. Each of IF-102 was diluted with water to a concentration of 4%. Further, every time 5000 sheets were printed, the plate surface was wiped with a multi-cleaner manufactured by Fuji Film Co., Ltd. Printing durability was evaluated based on the number of printed sheets when printed on high-quality paper and visually recognized that the density of the solid image started to decrease. A larger value means better chemical resistance. The results are shown in Table 1.
As shown in Table 1, all the plates made from the lithographic printing plate precursors obtained by the examples according to the present invention exhibited good chemical resistance. On the other hand, the plates from the lithographic printing plate precursors obtained by the comparative examples were all poor in chemical resistance.

[バーニングの評価]
得られた感光性平版印刷版原版のうち、実施例(1)、(18)の感光性平版印刷版原版について、耐薬品性の評価と同様に露光、現像して、平版印刷版を得た。
次にこの版を水洗しガム液を落とした後、整面液として富士フイルム(株)製のBC−5をスポンジに含ませて塗布し、自然乾燥させた。その後にWisconsin社製バーニングオーブンで、260℃5分間加熱処理した。室温に冷却させてから水洗し整面液を落とした後、富士フイルム(株)製ガムコーターG−800を用い、ガム引きを行った。ガムとしては富士フイルム(株)製GU−7を水で1:1に希釈した液を用いた。
このようにしてバーニング処理した板を、耐薬品性の評価と同様に印刷して、耐刷性を評価した。その結果、それぞれ38万、34万の印刷物を得ることができ、バーニングで更に耐薬品性が向上することが分かった。
[Burning Evaluation]
Of the obtained photosensitive lithographic printing plate precursors, the lithographic printing plate precursors of Examples (1) and (18) were exposed and developed in the same manner as in the evaluation of chemical resistance to obtain lithographic printing plates. .
Next, this plate was washed with water and the gum solution was dropped. Then, BC-5 manufactured by Fuji Film Co., Ltd. was included in the sponge as a surface-adjusting solution and dried naturally. Thereafter, it was heated at 260 ° C. for 5 minutes in a burning oven manufactured by Wisconsin. After cooling to room temperature and washing with water and dropping the surface-adjusting solution, gumming was performed using a gum coater G-800 manufactured by FUJIFILM Corporation. As a gum, a solution obtained by diluting GU-7 manufactured by Fuji Film Co., Ltd. 1: 1 with water was used.
The plate subjected to the burning treatment in this way was printed in the same manner as in the chemical resistance evaluation to evaluate the printing durability. As a result, it was found that 380,000 and 340,000 prints could be obtained, respectively, and that the chemical resistance was further improved by burning.

[その他の評価]
得られた感光性平版印刷版原版のうち、実施例(1)、(18)の感光性平版印刷版原版について、現像液を変えた以外は現像性の評価と同様に露光、現像して、平版印刷版を得た。現像液としては、下記組成の濃縮現像液2を水で希釈し、電導度を43mS/cmとしたものを使用した。その結果、残色も膜減りも発生せず良好な平版印刷版が得られ、このように珪酸成分を含有しない現像液でも良好な印刷版を得ることができた。
<濃縮現像液2組成>
・水酸化カリウム(48%水溶液) 200g
・ソルビトール 450g
・クエン酸三カリウム 100g
・パイオニンC−158G(竹本油脂(株)製) 10g
・純水 240g
[Other evaluations]
Of the obtained photosensitive lithographic printing plate precursor, the photosensitive lithographic printing plate precursors of Examples (1) and (18) were exposed and developed in the same manner as in the evaluation of developability except that the developer was changed. A lithographic printing plate was obtained. As the developer, a concentrated developer 2 having the following composition was diluted with water to have a conductivity of 43 mS / cm. As a result, a good lithographic printing plate with no residual color or film loss was obtained, and a good printing plate could be obtained even with a developer containing no silicic acid component.
<Concentrated developer 2 composition>
・ Potassium hydroxide (48% aqueous solution) 200g
・ 450g sorbitol
・ Tripotassium citrate 100g
・ Pionine C-158G (Takemoto Yushi Co., Ltd.) 10g
・ 240g of pure water

以上の実施例に示したように、本発明によれば、現像性と耐薬品性のいずれにも優れた感光性平版印刷版原版を得ることができる。またこの感光性平版印刷版原版は、バーニングでより高耐刷性を得ることも可能である。   As shown in the above examples, according to the present invention, a photosensitive lithographic printing plate precursor excellent in both developability and chemical resistance can be obtained. This photosensitive lithographic printing plate precursor can also obtain higher printing durability by burning.

Figure 2010237435
実施例15、16は、赤外線吸収染料を含めている層に差異がある。
Figure 2010237435
Examples 15 and 16 differ in the layer containing the infrared absorbing dye.

Claims (3)

親水性表面を有する支持体上に、下記一般式(1)で示される構造単位を有するアルカリ可溶性または膨潤性のポリマー、ノボラック樹脂、赤外線吸収剤、並びに芳香族基を有するスルホニウム塩及びヨードニウム塩から選ばれる少なくとも1種を含有する記録層を設けたポジ型感光性平版印刷版原版。
Figure 2010237435
…(1)

(式中、R1は水素原子もしくはメチル基を表し、Xは単結合、−COO−、又は−CONH−を表し、Ar1、Ar2は、それぞれ置換基を有してもよい芳香族基又は複素芳香族基を表し、Yは−SO2NH−、又は−NHSO2−を表す。)
On a support having a hydrophilic surface, an alkali-soluble or swellable polymer having a structural unit represented by the following general formula (1), a novolac resin, an infrared absorber, and a sulfonium salt and an iodonium salt having an aromatic group A positive photosensitive lithographic printing plate precursor provided with a recording layer containing at least one selected from the above.
Figure 2010237435
... (1)

(In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, X represents a single bond, —COO—, or —CONH—, and Ar 1 and Ar 2 each represents an aromatic group that may have a substituent. Or a heteroaromatic group, and Y represents —SO 2 NH— or —NHSO 2 —.)
親水性表面を有する支持体上に、下記一般式(1)で示される構造単位を有するアルカリ可溶性または膨潤性のポリマーを含有する記録層を設け、更にその上に、ノボラック樹脂、赤外線吸収剤、並びに芳香族基を有するスルホニウム塩及びヨードニウム塩から選ばれる少なくとも1種を含有する記録層を設けたポジ型感光性平版印刷版原版。
Figure 2010237435
…(1)

(式中、R1は水素原子もしくはメチル基を表し、Xは単結合、−COO−、又は−CONH−を表し、Ar1、Ar2は、それぞれ置換基を有してもよい芳香族基又は複素芳香族基を表し、Yは−SO2NH−、又は−NHSO2−を表す。)
A recording layer containing an alkali-soluble or swellable polymer having a structural unit represented by the following general formula (1) is provided on a support having a hydrophilic surface, and a novolac resin, an infrared absorber, And a positive photosensitive lithographic printing plate precursor provided with a recording layer containing at least one selected from sulfonium salts and iodonium salts having an aromatic group.
Figure 2010237435
... (1)

(In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, X represents a single bond, —COO—, or —CONH—, and Ar 1 and Ar 2 each represents an aromatic group that may have a substituent. Or a heteroaromatic group, and Y represents —SO 2 NH— or —NHSO 2 —.)
一般式(1)で示される構造単位を有するアルカリ可溶性または膨潤性のポリマーにおいて、式中Ar1が芳香族基を表し、Ar2が複素芳香族基を表す、請求項1又は2記載のポジ型感光性平版印刷版原版。 3. The positive electrode according to claim 1, wherein in the alkali-soluble or swellable polymer having the structural unit represented by the general formula (1), Ar 1 represents an aromatic group, and Ar 2 represents a heteroaromatic group. Type photosensitive lithographic printing plate precursor.
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