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JP2010182137A - Touch panel and method for manufacturing the same - Google Patents

Touch panel and method for manufacturing the same Download PDF

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JP2010182137A
JP2010182137A JP2009025762A JP2009025762A JP2010182137A JP 2010182137 A JP2010182137 A JP 2010182137A JP 2009025762 A JP2009025762 A JP 2009025762A JP 2009025762 A JP2009025762 A JP 2009025762A JP 2010182137 A JP2010182137 A JP 2010182137A
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JP
Japan
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touch panel
groove
transparent substrate
substrate
transparent electrode
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Application number
JP2009025762A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroto Kawaguchi
裕人 川口
Kazutomo Miyata
一智 宮田
Katsunori Sato
克則 佐藤
Yuko Senda
優子 千田
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a touch panel and a method for manufacturing the same, inexpensively and stably reducing a width of an area where signal wiring lines are formed. <P>SOLUTION: In the touch panel, a transparent substrate 13 is injection molded, grooves 22 each having a narrow width HW can be stably formed in the frame area H at narrow intervals K with high accuracy, and the signal wiring lines 16 can be formed in the grooves 22. As shown in Fig.12, a signal wiring line 16A having a width W and a thickness T is formed in a substrate 10B in a conventional art, while the width HW of the signal wiring line 16 and the interval K between the signal wiring lines 16 can be reduced in the touch panel. As a result, the width of the frame area H where the plurality of signal wiring lines 16 are formed can be reduced. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、タッチパネル及びタッチパネルの製造方法に関する。   The present invention relates to a touch panel and a method for manufacturing a touch panel.

従来、タッチパネルは、透明電極膜や保護膜、光学膜が付加された各種のフィルムを数種類重ね合わせ製造されている。フィルムはロールTOロールの製法で製造される。   Conventionally, a touch panel has been manufactured by superposing several kinds of various films to which a transparent electrode film, a protective film, and an optical film are added. The film is manufactured by a roll-to-roll manufacturing method.

図31は静電容量式のタッチパネル100を製造する方法の概念図である。この方法では、まず、フィルム101の表面に形成されている透明電極膜102の選択的除去を行うことにより、静電容量式のタッチパネル100において対向して配置される一対の透明電極103a,103bを形成する。次いで、各透明電極103a,103bそれぞれに接続される信号配線104a,104bを印刷する。そして、フィルム101上の一方の透明電極103bとその周囲を含む領域に粘着シート105を貼り付ける。次に、フィルム101から各透明電極103a,103bそれぞれの領域と周囲を含む領域を切り出し、これらを互いに貼り合わせる。これにより、表示部分に縦横にN×M個の容量素子が配列された静電容量式のタッチパネルが得られる。ここで、N,Mは、縦横の電極数(信号配線数)である。   FIG. 31 is a conceptual diagram of a method for manufacturing the capacitive touch panel 100. In this method, first, by selectively removing the transparent electrode film 102 formed on the surface of the film 101, a pair of transparent electrodes 103a and 103b disposed opposite to each other on the capacitive touch panel 100 are obtained. Form. Next, signal wirings 104a and 104b connected to the respective transparent electrodes 103a and 103b are printed. And the adhesive sheet 105 is affixed on the area | region including the one transparent electrode 103b on the film 101, and its circumference | surroundings. Next, the transparent electrodes 103a and 103b are cut out from the film 101 and the area including the periphery, and these are bonded together. As a result, a capacitive touch panel in which N × M capacitive elements are arranged vertically and horizontally in the display portion is obtained. Here, N and M are the number of vertical and horizontal electrodes (number of signal wires).

図32は抵抗膜式のタッチパネル200を製造する方法の概念図である。この方法では、まず、フィルム101の表面の透明電極膜102の選択的除去を行うことにより、抵抗膜式のタッチパネル200において対向して配置される電極膜109a、109bを形成する。次いで、電極膜109a、109bそれぞれに接続される引き出し電極110a、110bを印刷する。そして、短絡防止のためのドットスペーサー111の電極膜109aへの印刷や、引き出し電極110bの一部を覆う絶縁レジスト112の形成などを行った後に、フィルム101を打ち抜き、フィルム115、116を製造する。その後、スペーサー材117を介して、2枚のフィルム115、116を貼り合わせる。これにより、抵抗膜式のタッチパネル200が完成する。(例えば、特許文献1参照)。   FIG. 32 is a conceptual diagram of a method for manufacturing a resistive film type touch panel 200. In this method, first, the transparent electrode film 102 on the surface of the film 101 is selectively removed, thereby forming electrode films 109 a and 109 b that are arranged to face each other on the resistive touch panel 200. Next, the extraction electrodes 110a and 110b connected to the electrode films 109a and 109b are printed. Then, after printing on the electrode film 109a of the dot spacer 111 for preventing a short circuit and forming the insulating resist 112 covering a part of the extraction electrode 110b, the film 101 is punched to manufacture the films 115 and 116. . Thereafter, the two films 115 and 116 are bonded together via the spacer material 117. Thereby, the resistive touch panel 200 is completed. (For example, refer to Patent Document 1).

特許第4139091号公報(図1、図2)Japanese Patent No. 4139091 (FIGS. 1 and 2)

しかしながら、上述した技術では、静電容量式のタッチパネル100は2枚のフィルム106、107が必要であり、これらのフィルム106、107を精度良く貼り合わせる必要がある。   However, in the above-described technology, the capacitive touch panel 100 requires two films 106 and 107, and these films 106 and 107 need to be bonded with high accuracy.

抵抗膜式のタッチパネル200の場合、信号配線数は、図32に示すように4本〜5本である。これに対して、静電容量式のタッチパネル100の場合には、各々のフィルム106、107には、図31に示すようにそれぞれ、N本、M本の信号配線104a、104bが必要となる。この場合、分解能を向上させるために透明電極103a、103bの分割数を増やすことが望ましく、結果的に信号配線104a、104bの数が増える傾向にある。図33に示すように例えばN=6、M=10の場合、信号配線数として16本が必要になる。この他シールドのためのGNDが必要になる場合もある。   In the case of the resistive touch panel 200, the number of signal wires is 4 to 5 as shown in FIG. On the other hand, in the case of the capacitive touch panel 100, each of the films 106 and 107 requires N and M signal wirings 104a and 104b, respectively, as shown in FIG. In this case, it is desirable to increase the number of divisions of the transparent electrodes 103a and 103b in order to improve the resolution, and as a result, the number of signal wirings 104a and 104b tends to increase. As shown in FIG. 33, for example, when N = 6 and M = 10, 16 signal wires are required. In addition, a GND for shielding may be required.

以上のように、抵抗膜式に対して静電容量式のタッチパネルは信号配線の数が増え、これが結果的にタッチパネル100の表示領域以外の領域の増大を招く。   As described above, the capacitive touch panel has a larger number of signal wirings than the resistive touch panel, which results in an increase in the area other than the display area of the touch panel 100.

図34において、一般的にタッチパネルの表示領域を囲む枠とタッチパネル外形の間の領域Hは額縁領域と呼ばれる。静電容量式のタッチパネル100は、上記の理由から、額縁領域のサイズが抵抗膜式のタッチパネル200に対して大きくなる。そこで、額縁寸法を小さくする方法が検討されている。   In FIG. 34, a region H between the frame surrounding the display region of the touch panel and the outer shape of the touch panel is generally called a frame region. In the capacitive touch panel 100, the size of the frame area is larger than that of the resistive touch panel 200 for the above reason. Therefore, a method for reducing the frame size has been studied.

額縁領域を小さくするためには、信号配線104aの幅h1と信号配線104a同士の間隔h2をできるだけ小さくすることが必要となる。信号配線104aの形成は、一般的にはスクリーン印刷などにより行うが、印刷品質上の限界や信号配線印刷部の密着性・配線抵抗等の制約で信号配線の幅を狭くすることが難しい。なお、図34に示す幅h3は、透明電極103aと、信号配線104aとの間隔であり、幅h4は、フィルム106の外形と信号配線104aとの間隔である。   In order to reduce the frame area, it is necessary to make the width h1 of the signal wiring 104a and the interval h2 between the signal wirings 104a as small as possible. The signal wiring 104a is generally formed by screen printing or the like, but it is difficult to reduce the width of the signal wiring due to limitations in print quality, restrictions on the adhesion of the signal wiring printing portion, wiring resistance, and the like. 34, the width h3 is the distance between the transparent electrode 103a and the signal wiring 104a, and the width h4 is the distance between the outer shape of the film 106 and the signal wiring 104a.

信号配線104aが形成された後に、図35に示すように切断刃118によりフィルム106の外形抜きを行うが、外形抜きを行う際のフィルム106の変形による信号配線ダメージを防ぐために配線部と外形抜き部にはある程度のマージンが必要となり、このマージンが額縁寸法を増大させる。   After the signal wiring 104a is formed, the outer shape of the film 106 is removed by the cutting blade 118 as shown in FIG. 35. To prevent signal wiring damage due to deformation of the film 106 when the outer shape is removed, the wiring portion and the outer shape are removed. A certain margin is required for the part, and this margin increases the frame size.

加えて、2枚のフィルム106、107の貼り合わせを行う際の図36に示す貼りズレも考慮する必要があり、この貼りズレ量も額縁寸法を増大させる要因となり得る。   In addition, it is necessary to consider the misalignment shown in FIG. 36 when the two films 106 and 107 are bonded, and this misalignment amount can also be a factor for increasing the frame size.

一方、図32に示すように、従来の抵抗膜式のタッチパネル200は、2枚の平坦なフィルム115、116と外周部のみ所定の厚さ、幅を持つスペーサー材117の計3枚が最小単位であるが、スペーサー材117の幅を狭くすることが難しい。これは、スペーサー材117は粘着シートを打ち抜きなどにより枠形状に打ち抜いて形成されるが、幅が狭くなるにつれ形状維持が難しくなることが主な要因である。   On the other hand, as shown in FIG. 32, the conventional resistive film type touch panel 200 is composed of two flat films 115 and 116 and a spacer material 117 having a predetermined thickness and width only at the outer peripheral portion for a minimum unit. However, it is difficult to reduce the width of the spacer material 117. The spacer material 117 is formed by punching an adhesive sheet into a frame shape by punching or the like, but the main factor is that it becomes difficult to maintain the shape as the width becomes narrower.

また、フィルム115、116の外周部に透明電極109からの引き出し電極110を形成する場合、フィルム115、116の外形に対する位置精度を確保するために各工程での位置出しを行う必要がある。このため、各工程の累積位置バラツキを考慮したマージンが必要となる。   Further, when forming the extraction electrode 110 from the transparent electrode 109 on the outer periphery of the films 115 and 116, it is necessary to perform positioning in each process in order to ensure the positional accuracy with respect to the outer shape of the films 115 and 116. For this reason, a margin in consideration of the accumulated position variation of each process is required.

また、信号配線の形成は、一般的にはスクリーン印刷などにより行うが、印刷品質上の限界や配線印刷部の密着性・配線抵抗等の制約で信号配線幅を狭くすることが難しい。   In addition, the signal wiring is generally formed by screen printing or the like, but it is difficult to narrow the signal wiring width due to limitations in print quality, restrictions on the adhesion and wiring resistance of the printed wiring portion, and the like.

抵抗膜式のタッチパネル200は、最終的には2枚のフィルム115、116とスペーサー材117を所定の位置精度で重ね合わせ、スペーサー材117の粘着力により合体される。このため、この時の各部材の形状寸法のバラツキと位置決めバラツキを考慮したマージンが必要となる。   The resistive film type touch panel 200 is finally combined with the adhesive force of the spacer material 117 by superimposing the two films 115 and 116 and the spacer material 117 with a predetermined positional accuracy. For this reason, the margin which considered the variation of the shape dimension of each member at this time and the positioning variation is needed.

以上のように、従来の抵抗膜式のタッチパネルでは表示部分に対する外周部の幅を減らすことが難しい。一方で、図37に示すように表示領域120の周りの狭い額縁領域121に対する要求は高い。例えば1mm以下の額縁領域の幅Hを実現するために各工程、各部材の改善検討が進められているが、これを安価にかつ安定的に実現する事は難しい。   As described above, it is difficult to reduce the width of the outer peripheral portion with respect to the display portion in the conventional resistive film type touch panel. On the other hand, as shown in FIG. 37, the demand for a narrow frame area 121 around the display area 120 is high. For example, in order to realize the width H of the frame area of 1 mm or less, improvement studies of each process and each member are underway, but it is difficult to stably realize this at a low cost.

以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、信号配線が形成された領域の幅を安価・安定的に狭くすることが可能なタッチパネル及びタッチパネルの製造方法を提供することにある。   In view of the circumstances as described above, an object of the present invention is to provide a touch panel and a touch panel manufacturing method capable of stably and inexpensively reducing the width of a region where signal wiring is formed.

上記目的を達成するため、本発明に係るタッチパネルは、第1の透明基板と、第1の配線と、第1の透明電極とを有する。上記第1の透明基板は、射出成形により形成され、第1の面に第1の溝を有する。上記第1の配線は、上記第1の溝に設けられている。上記第1の透明電極は、上記第1の透明基板の上記第1の面に設けられ、上記第1の配線と接続されている。   In order to achieve the above object, a touch panel according to the present invention includes a first transparent substrate, a first wiring, and a first transparent electrode. The first transparent substrate is formed by injection molding and has a first groove on a first surface. The first wiring is provided in the first groove. The first transparent electrode is provided on the first surface of the first transparent substrate and connected to the first wiring.

本発明では、第1の透明基板の第1の面に射出成形により第1の溝が形成されているので、幅の狭い第1の溝を精度よくかつ安定的に形成することができ、第1の配線が形成されている領域の幅を安価・安定的に狭くすることができる。   In the present invention, since the first groove is formed by injection molding on the first surface of the first transparent substrate, the narrow first groove can be formed accurately and stably. The width of the region in which one wiring is formed can be reduced inexpensively and stably.

上記第1の透明基板は、上記第1の透明電極が設けられた第1の表示領域と、上記第1の表示領域の周りの第1の配線領域とを有し、上記第1の溝は上記第1の配線領域に形成されているようにしてもよい。   The first transparent substrate has a first display region provided with the first transparent electrode, and a first wiring region around the first display region, and the first groove is It may be formed in the first wiring region.

これにより、タッチパネルの第1の配線領域に形成される第1の配線の幅を狭くし、第1の配線領域の幅を狭くすることができる。第1の配線が複数配置される場合に特に効果的である。   Thereby, the width | variety of the 1st wiring formed in the 1st wiring area | region of a touchscreen can be narrowed, and the width | variety of a 1st wiring area | region can be narrowed. This is particularly effective when a plurality of first wirings are arranged.

上記第1の透明基板は、上記第1の面の反対側の第2の面に第2の溝を更に有し、当該タッチパネルは、上記第2の溝に設けられた上記第2の配線と、上記第1の透明基板の上記第2の面に設けられ、上記第2の配線と接続された第2の透明電極とを更に具備するようにしてもよい。   The first transparent substrate further includes a second groove on a second surface opposite to the first surface, and the touch panel includes the second wiring provided in the second groove. A second transparent electrode provided on the second surface of the first transparent substrate and connected to the second wiring may be further provided.

これにより、第1の透明基板の両面に幅の狭い第1の配線と第2の配線とを形成することができる。つまり、第1の透明基板一枚でタッチパネルを製造することができる。   Thereby, a narrow 1st wiring and 2nd wiring can be formed in both surfaces of a 1st transparent substrate. That is, the touch panel can be manufactured with a single first transparent substrate.

上記第1の溝は、上記第1の面から突出する複数の第1の凸部により形成され、かつ上記第2の溝は、上記第2の面から突出する複数の第2の凸部により形成されているようにしてもよい。これにより、隣り合う凸部の間に幅の狭い溝を形成し、この溝に配線を配置することができる。   The first groove is formed by a plurality of first protrusions protruding from the first surface, and the second groove is formed by a plurality of second protrusions protruding from the second surface. It may be formed. Thereby, a narrow groove | channel can be formed between adjacent convex parts, and wiring can be arrange | positioned in this groove | channel.

射出成形により形成され、第3の面に第3の溝を有する第2の透明基板とを更に具備し、上記第2の透明基板は、上記第2の透明電極が設けられた第2の表示領域と、上記第2の表示領域の周りの第2の配線領域とを有し、上記第1の透明基板及び上記第2の透明基板のうち少なくとも一方の上記配線領域の溝の形成面が上記表示領域の透明電極の形成面から突出され、上記第1の透明基板と上記第2の透明基板とは、上記第1の透明電極と上記第2の透明電極とが隙間を挟んで対向するように上記第1の配線領域と上記第2の配線領域で結合されているようにしてもよい。   A second transparent substrate formed by injection molding and having a third groove on the third surface, wherein the second transparent substrate is provided with the second transparent electrode. An area and a second wiring area around the second display area, and a groove forming surface of at least one of the first transparent substrate and the second transparent substrate has the groove forming surface. The first transparent substrate and the second transparent substrate protrude from the transparent electrode forming surface in the display area so that the first transparent electrode and the second transparent electrode face each other with a gap therebetween. The first wiring area and the second wiring area may be coupled to each other.

これにより、第1の透明電極と上記第2の透明電極とが隙間を挟んで対向するので、抵抗膜式のタッチパネルを構成することができる。例えばユーザが第1の透明基板又は第2の透明基板にタッチしていないときには、第1の透明電極と、第2の透明電極とが接触しないが、ユーザが第1の透明基板又は第2の透明基板をタッチしたときには、第1の透明電極と、第2の透明電極とが接触し、第1の透明電極、第2の透明電極の抵抗値が変化する。この抵抗値の変化を第1の配線又は第2の配線を介して外部で検出することができる。   As a result, the first transparent electrode and the second transparent electrode face each other with a gap therebetween, so that a resistive film type touch panel can be configured. For example, when the user does not touch the first transparent substrate or the second transparent substrate, the first transparent electrode and the second transparent electrode do not contact, but the user does not touch the first transparent substrate or the second transparent substrate. When the transparent substrate is touched, the first transparent electrode and the second transparent electrode come into contact with each other, and the resistance values of the first transparent electrode and the second transparent electrode change. This change in resistance value can be detected externally via the first wiring or the second wiring.

上記第1の溝は、上記第1の面から突出する複数の第1の凸部により形成され、かつ上記第3の溝は、上記第3の面から突出する複数の第3の凸部により形成されているようにしてもよい。これにより、隣り合う凸部の間に幅の狭い溝が配置される。   The first groove is formed by a plurality of first protrusions protruding from the first surface, and the third groove is formed by a plurality of third protrusions protruding from the third surface. It may be formed. Thereby, a narrow groove | channel is arrange | positioned between adjacent convex parts.

本発明に係るタッチパネルの製造方法は、第1の面に第1の溝を有する第1の透明基板を射出成形することを含む。上記第1の透明基板の第1の面の上記第1の溝とは異なる領域に第1の透明電極が形成される。上記第1の溝に第1の配線を設けることで、上記第1の透明電極と上記第1の配線とが接続される。   The touch panel manufacturing method according to the present invention includes injection-molding a first transparent substrate having a first groove on a first surface. A first transparent electrode is formed in a region different from the first groove on the first surface of the first transparent substrate. By providing the first wiring in the first groove, the first transparent electrode and the first wiring are connected.

本発明では、第1の透明基板の第1の面に射出成形により第1の溝が形成するので、幅の狭い第1の溝を精度よくかつ安定的に形成することができ、第1の配線が形成されている領域の幅を安価・安定的に狭くすることができる。   In the present invention, since the first groove is formed by injection molding on the first surface of the first transparent substrate, the narrow first groove can be formed with high accuracy and stability. The width of the region where the wiring is formed can be reduced at low cost and stably.

上記射出成形時に、上記第1の透明基板の上記第1の透明電極が設けられた第1の表示領域の周りの第1の配線領域に上記第1の溝を形成するようにしてもよい。   During the injection molding, the first groove may be formed in a first wiring region around the first display region where the first transparent electrode of the first transparent substrate is provided.

上記射出成形時に、上記第1の透明基板の上記第1の面とは反対側の第2の面に第2の溝を形成し、上記第2の溝に上記第2の配線を設け、上記第1の透明基板の上記第2の面に、上記第2の配線と接続するように第2の透明電極を設けるようにしてもよい。   During the injection molding, a second groove is formed on the second surface opposite to the first surface of the first transparent substrate, the second wiring is provided in the second groove, A second transparent electrode may be provided on the second surface of the first transparent substrate so as to be connected to the second wiring.

上記射出成形時に、上記第1の面から突出する複数の第1の凸部を形成することにより上記第1の溝を形成し、かつ上記第2の面から突出する複数の第2の凸部を形成することにより上記第2の溝を形成するようにしてもよい。   At the time of injection molding, a plurality of first protrusions protruding from the first surface are formed to form the first groove, and a plurality of second protrusions protruding from the second surface. The second groove may be formed by forming.

射出成形により、第2の透明基板の第2の透明電極が設けられる第2の表示領域の周りの第2の配線領域の第3の溝の形成面を、上記第2の透明電極の形成面から突出するように形成し、上記第1の透明電極と上記第2の透明電極とが隙間を挟んで対向するように上記第1の配線領域と上記第2の配線領域で第1の透明基板と第2の透明基板とを結合するようにしてもよい。   By forming the second groove on the second wiring region around the second display region on which the second transparent electrode of the second transparent substrate is provided by injection molding, the surface on which the second transparent electrode is formed. The first transparent substrate is formed in the first wiring region and the second wiring region so that the first transparent electrode and the second transparent electrode face each other with a gap therebetween. And the second transparent substrate may be combined.

上記第1の透明基板の射出成形時に、上記第1の面から突出する複数の第1の凸部を形成することにより上記第1の溝を形成し、かつ上記第2の透明基板の射出成形時に、上記第3の面から突出する複数の第2の凸部を形成することにより上記第3の溝を形成するようにしてもよい。   At the time of injection molding of the first transparent substrate, the first groove is formed by forming a plurality of first protrusions protruding from the first surface, and the injection molding of the second transparent substrate. Sometimes, the third groove may be formed by forming a plurality of second protrusions protruding from the third surface.

以上のように、本発明によれば、タッチパネルの信号配線が形成された領域の幅を安価・安定的に狭くすることができる。   As described above, according to the present invention, the width of the region where the signal wiring of the touch panel is formed can be reduced inexpensively and stably.

本発明の一実施形態に係る電子機器の概略を示す平面図である。It is a top view which shows the outline of the electronic device which concerns on one Embodiment of this invention. 図1に示す電子機器の側面図である。It is a side view of the electronic device shown in FIG. 電子機器のタッチパネルの透明基板の平面図、側面図及び底面図である。It is the top view, side view, and bottom view of the transparent substrate of the touch panel of an electronic device. 図3に示すタッチパネルの透明基板のA−A’断面図である。It is A-A 'sectional drawing of the transparent substrate of the touch panel shown in FIG. 図1に示す電子機器の製造工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing process of the electronic device shown in FIG. タッチパネルの透明基材の射出成形工程(ST501)を説明する図である。It is a figure explaining the injection molding process (ST501) of the transparent base material of a touch panel. 透明基材に透明電極膜を形成する工程(ST502)を説明する図である。It is a figure explaining the process (ST502) which forms a transparent electrode film in a transparent substrate. 透明電極膜を分割する工程(ST503)を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the process (ST503) which divides | segments a transparent electrode film. 透明基材の溝に信号配線を形成する工程(ST504)を説明する図である。It is a figure explaining the process (ST504) which forms a signal wiring in the groove | channel of a transparent base material. 図9に示す信号配線を形成する工程の詳細を説明する図である。It is a figure explaining the detail of the process of forming the signal wiring shown in FIG. 加飾工程(ST505)〜FPC接続工程(ST508)の説明図である。It is explanatory drawing of a decoration process (ST505)-FPC connection process (ST508). 透明基板の額縁領域の形状を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the shape of the frame area | region of a transparent substrate. 第1の変形例の透明電極膜の形成工程を説明する図である。It is a figure explaining the formation process of the transparent electrode film of the 1st modification. 第2の変形例の透明基板の額縁領域の断面図である。It is sectional drawing of the frame area | region of the transparent substrate of a 2nd modification. 第3の変形例の信号配線を形成する工程を説明する図である。It is a figure explaining the process of forming the signal wiring of the 3rd modification. 第4の変形例の信号配線を形成する工程を説明する図である。It is a figure explaining the process of forming the signal wiring of the 4th modification. 本発明の第2の実施の形態に係る電子機器の概略を示す平面図である。It is a top view which shows the outline of the electronic device which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 図17に示す電子機器の側面図である。It is a side view of the electronic device shown in FIG. 電子機器のタッチパネルの第1の透明基板の平面図、縦横断面図である。It is the top view of a 1st transparent substrate of the touchscreen of an electronic device, and a longitudinal cross-sectional view. 図19に示す第1の透明基板のB−B’断面図である。FIG. 20 is a B-B ′ cross-sectional view of the first transparent substrate shown in FIG. 19. 電子機器のタッチパネルの第2の透明基板の平面図、縦横断面図である。It is the top view of a 2nd transparent substrate of the touchscreen of an electronic device, and a longitudinal cross-sectional view. 図17に示す電子機器の製造工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing process of the electronic device shown in FIG. 第1の透明基材を製造する工程(ST2201)を説明する図である。It is a figure explaining the process (ST2201) which manufactures a 1st transparent base material. 透明電極膜を形成する工程(ST2202)を説明する図である。It is a figure explaining the process (ST2202) which forms a transparent electrode film. 信号配線を形成する工程(ST2203)を説明する図である。It is a figure explaining the process (ST2203) of forming signal wiring. 第1と第2の透明基板の接合工程(ST2207)の説明図である。It is explanatory drawing of the joining process (ST2207) of the 1st and 2nd transparent substrate. 第1の透明基板の額縁領域の形状を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the shape of the frame area | region of a 1st transparent substrate. 第5の変形例の透明電極膜の形成工程を説明する図である。It is a figure explaining the formation process of the transparent electrode film of the 5th modification. 第6の変形例のタッチパネルを構成する基板の位置合わせを示す図である。It is a figure which shows alignment of the board | substrate which comprises the touchscreen of a 6th modification. 第7の変形例のタッチパネルの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the touchscreen of the 7th modification. 従来の静電容量式タッチパネルの製造工程を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing process of the conventional electrostatic capacitance type touch panel. 従来の抵抗膜式タッチパネルの製造工程を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing process of the conventional resistive film type touch panel. 図31に示す静電容量式タッチパネルの配線数を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the number of wiring of the capacitive touch panel shown in FIG. 図31に示す静電容量式タッチパネルの額縁領域を示す図である。It is a figure which shows the frame area | region of the electrostatic capacitance type touch panel shown in FIG. 図31に示すフィルムの切り出し工程を説明する図である。It is a figure explaining the cutting-out process of the film shown in FIG. 図31に示す2枚のフィルムの貼り合わせのずれを説明する図である。It is a figure explaining the shift | offset | difference of bonding of the two films shown in FIG. 要求されるタッチパネルの額縁領域のサイズを説明するための図である。It is a figure for demonstrating the size of the frame area of a required touch panel.

以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。
<第1の実施の形態>
[電子機器の構成]
図1は本発明の一実施形態に係る電子機器の概略を示す平面図、図2は図1に示す電子機器の側面図である。
電子機器1は、静電容量型のタッチパネル2と、タッチパネル2に接続されたフレキシブル回路基板(FPC:Flexible Printed Circuits)3とを備える。タッチパネル2とフレキシブル回路基板3とは、図2に示すように異方性導電フィルム(Anisotropic Conductive Film)や異方性導電ペースト(Anisotropic Conductive Paste)6を介して接続されている。具体的には、基板10の一面側に設けられた異方性導電フィルム6に、基板10の他面側に形成された端子4がスルーホール5を介して接続されている。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
<First Embodiment>
[Configuration of electronic equipment]
FIG. 1 is a plan view schematically showing an electronic apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a side view of the electronic apparatus shown in FIG.
The electronic device 1 includes a capacitive touch panel 2 and a flexible circuit board (FPC: Flexible Printed Circuits) 3 connected to the touch panel 2. As shown in FIG. 2, the touch panel 2 and the flexible circuit board 3 are connected via an anisotropic conductive film (Anisotropic Conductive Film) or an anisotropic conductive paste (Anisotropic Conductive Paste) 6. Specifically, the terminal 4 formed on the other surface side of the substrate 10 is connected to the anisotropic conductive film 6 provided on the one surface side of the substrate 10 through the through hole 5.

タッチパネル2は、図2に示すように基板10と、基板10の一面側に形成された保護コート層11と、基板10の他面側に形成された保護コート層12とを備える。基板10はその両面を保護コート層11、12により保護されている。   As shown in FIG. 2, the touch panel 2 includes a substrate 10, a protective coat layer 11 formed on one surface side of the substrate 10, and a protective coat layer 12 formed on the other surface side of the substrate 10. The both sides of the substrate 10 are protected by protective coating layers 11 and 12.

[基板10の構成]
図3はタッチパネル2の基板10の平面図、側面図及び底面図である。
基板10は、後述するように射出成形により形成された略矩形状の透明基板13を備える。透明基板13は、基板10の基材である。透明基板13の材料としては、例えばポリカーボネート(PC)アクリル(PMMA)、ポリプロピレン(PP)、ポリテチレンテフタレート(PET)、その他の樹脂を用いることが可能である。透明基板13の一面13A側には、矩形状の透明電極15が基板10の長手方向に配列して複数形成されている。透明電極15が配列された領域の周り付近には、配線領域としての矩形枠状の額縁領域Hが形成されている。額縁領域Hには、信号配線16、端子17が複数形成されている。信号配線16は、それぞれ透明電極15に接続されていると共に、端子17に接続されている。
[Configuration of Substrate 10]
FIG. 3 is a plan view, a side view, and a bottom view of the substrate 10 of the touch panel 2.
The substrate 10 includes a substantially rectangular transparent substrate 13 formed by injection molding as will be described later. The transparent substrate 13 is a base material of the substrate 10. As a material of the transparent substrate 13, for example, polycarbonate (PC) acrylic (PMMA), polypropylene (PP), polyethylene terephthalate (PET), and other resins can be used. A plurality of rectangular transparent electrodes 15 arranged in the longitudinal direction of the substrate 10 are formed on the surface 13 </ b> A side of the transparent substrate 13. A rectangular frame-shaped frame region H as a wiring region is formed in the vicinity of the periphery of the region where the transparent electrodes 15 are arranged. A plurality of signal wires 16 and terminals 17 are formed in the frame region H. The signal wiring 16 is connected to the transparent electrode 15 and to the terminal 17.

透明基板13の他面13B側には、矩形状の透明電極19が基板10の長手方向に直交する方向に配列して複数形成されている。透明電極19が配列された領域の周り付近には、矩形枠状の額縁領域Hが形成されている。額縁領域Hには、信号配線20、端子4が複数形成されている。信号配線20は、それぞれ透明電極19に接続されていると共に、端子4に接続されている。これらの複数の透明電極15と、透明電極19とにより複数の容量素子が形成される。   On the other surface 13 </ b> B side of the transparent substrate 13, a plurality of rectangular transparent electrodes 19 are arranged in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the substrate 10. A rectangular frame-shaped frame region H is formed near the periphery of the region where the transparent electrodes 19 are arranged. In the frame region H, a plurality of signal wires 20 and terminals 4 are formed. The signal wiring 20 is connected to the transparent electrode 19 and to the terminal 4. The plurality of transparent electrodes 15 and the transparent electrode 19 form a plurality of capacitive elements.

図4は図3に示すタッチパネル2の基板10のA−A’断面図である。
透明基板13の一面13Aには、射出成形により形成された凹形状の溝22が複数形成されている。溝22は、基板10の一面13Aに対して凹んでいる。それぞれの溝22内には信号配線16が形成されている。複数の信号配線16のうち最も内側に形成された信号配線16は、透明電極15に接続されている。なお、他の信号配線16も同様にそれぞれ図4では図示しない別の透明電極15に接続されている。
4 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of the substrate 10 of the touch panel 2 shown in FIG.
A plurality of concave grooves 22 formed by injection molding are formed on one surface 13A of the transparent substrate 13. The groove 22 is recessed with respect to the one surface 13 </ b> A of the substrate 10. A signal wiring 16 is formed in each groove 22. The signal wiring 16 formed on the innermost side among the plurality of signal wirings 16 is connected to the transparent electrode 15. The other signal wirings 16 are similarly connected to other transparent electrodes 15 not shown in FIG.

信号配線16の幅は、幅HW、厚さは厚さHTになっている。具体的には、幅HWと厚さHTとはほぼ同じ長さである。より具体的には、信号配線16の幅TWは0.05mmであり、厚さHTは0.05mmである。なお、幅HWと、厚さHTとは同じにする必要はなく、また、信号配線16の幅及び厚さは適宜変更可能であり、より狭い幅や厚い厚さにするようにしてもよい。信号配線16の底面、両側面は、凹形状の溝22の凹んだ面(3面P、Q、R)に密着している。隣合う溝22の間隔は、間隔Kとなっている。   The signal wiring 16 has a width HW and a thickness HT. Specifically, the width HW and the thickness HT are substantially the same length. More specifically, the signal wire 16 has a width TW of 0.05 mm and a thickness HT of 0.05 mm. The width HW and the thickness HT do not have to be the same, and the width and thickness of the signal wiring 16 can be changed as appropriate, and may be made narrower or thicker. The bottom surface and both side surfaces of the signal wiring 16 are in close contact with the concave surfaces (three surfaces P, Q, R) of the concave groove 22. An interval between adjacent grooves 22 is an interval K.

[電子機器1の製造方法]
次に、電子機器1の製造方法について図面を参照しながら説明する。
図5は図1に示す電子機器1の製造工程を示すフローチャートである。なお、図6はタッチパネル2の透明基板13の射出成形工程(ST501)を説明する図、図7は透明基板13に透明電極膜を形成する工程(ST502)を説明する図、図8は透明電極膜を分割する工程(ST503)を説明する図、図9は透明基板13の溝22に信号配線16を形成する工程(ST504)を説明する図、図10は図9に示す信号配線16を形成する工程の詳細を説明する図、図11は加飾工程(ST505)〜FPC接続工程(ST508)の説明図である。
[Method for Manufacturing Electronic Device 1]
Next, a method for manufacturing the electronic device 1 will be described with reference to the drawings.
FIG. 5 is a flowchart showing manufacturing steps of the electronic device 1 shown in FIG. 6 is a diagram illustrating an injection molding process (ST501) of the transparent substrate 13 of the touch panel 2, FIG. 7 is a diagram illustrating a process of forming a transparent electrode film (ST502) on the transparent substrate 13, and FIG. 8 is a transparent electrode. FIG. 9 is a diagram for explaining a step (ST504) of forming the signal wiring 16 in the groove 22 of the transparent substrate 13, and FIG. 10 is a diagram for explaining the step of forming the signal wiring 16 shown in FIG. The figure explaining the detail of the process to perform, FIG. 11 is explanatory drawing of a decoration process (ST505)-FPC connection process (ST508).

まず、図6に示すように、射出成形金型25を用いて、透明基板13を製造する。このとき、透明基板13の一面13Aに、後に信号配線16が形成される溝22、後に端子17が形成される溝23を同時に形成すると共に、他面13Bに、後に信号配線20が形成される図示しない溝、後に端子4が形成される図示しない溝を同時に形成する(ST501)。なお、信号配線20が形成される図示しない溝、端子4が形成される図示しない溝は、それぞれ信号配線20、端子4に対応する位置に形成された断面が凹形状の溝である。   First, as shown in FIG. 6, the transparent substrate 13 is manufactured using an injection mold 25. At this time, the groove 22 in which the signal wiring 16 is formed later and the groove 23 in which the terminal 17 is formed later are simultaneously formed on one surface 13A of the transparent substrate 13, and the signal wiring 20 is formed later on the other surface 13B. A groove (not shown) and a groove (not shown) in which the terminal 4 is formed later are formed simultaneously (ST501). A groove (not shown) in which the signal wiring 20 is formed and a groove (not shown) in which the terminal 4 is formed are grooves having a concave cross section formed at positions corresponding to the signal wiring 20 and the terminal 4, respectively.

ここで、射出成形(法)とは、軟化温度まで加熱したプラスティック樹脂に射出圧を加えて射出成形金型25に充填する製法であり、射出成形金型25の形状を精度よく転写することができる。   Here, the injection molding (method) is a manufacturing method in which an injection pressure is applied to a plastic resin heated to a softening temperature to fill the injection mold 25, and the shape of the injection mold 25 is accurately transferred. it can.

射出成形後の冷却過程ではプラスティック樹脂の1次収縮が起こる。この1次収縮時の1次収縮量を見越して射出成形金型25の設計を行うことが重要である。例えば1次収縮が0.5%程度の場合、目標とする製品寸法に対して射出成形金型25の寸法は1/0.995≒1.005倍とする。   In the cooling process after injection molding, primary shrinkage of the plastic resin occurs. It is important to design the injection mold 25 in anticipation of the primary shrinkage during the primary shrinkage. For example, when the primary shrinkage is about 0.5%, the size of the injection mold 25 is 1 / 0.995≈1.005 times the target product size.

次に、図7に示すように、スパッタ装置26を用いて、マスク27を介して、表示領域とほぼ対応する透明基板13の所定の領域に、透明電極膜15Aを形成する(ST502)。透明電極膜15Aは、例えば酸化インジウム及び酸化スズの化合物(ITO:Indium Tin Oxide)又は酸化インジウム及び酸化亜鉛の化合物により形成する。なお、この透明電極膜15Aの形成方法は、特に限定されず、例えば蒸着法などの真空プロセスを用いるたり、或いは塗布したりしてもよい。また、上述したITOの代わりに、ポニアニリン、バイトロン(PEDOT)、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリイソチアナフテン等の導電性ポリマーを塗布してもよい。   Next, as shown in FIG. 7, using the sputtering apparatus 26, the transparent electrode film 15A is formed in a predetermined region of the transparent substrate 13 substantially corresponding to the display region through the mask 27 (ST502). The transparent electrode film 15A is formed of, for example, a compound of indium oxide and tin oxide (ITO: Indium Tin Oxide) or a compound of indium oxide and zinc oxide. In addition, the formation method of this transparent electrode film 15A is not specifically limited, For example, you may use vacuum processes, such as a vapor deposition method, or may apply | coat. Moreover, instead of ITO described above, a conductive polymer such as ponianiline, vitron (PEDOT), polypyrrole, polythiophene, or polyisothianaphthene may be applied.

次いで、図8に示すように、レーザ光を透明電極膜15Aに照射することにより、透明電極膜15Aの所定の領域を除去する。これにより、透明電極膜15Aを分離し、複数の透明電極15を形成する(ST503)。   Next, as shown in FIG. 8, a predetermined region of the transparent electrode film 15A is removed by irradiating the transparent electrode film 15A with laser light. Thereby, the transparent electrode film 15A is separated to form a plurality of transparent electrodes 15 (ST503).

次に、図9に示すように、スタンパ30を用いて、信号配線16、端子17となるインクを透明基板13の溝22、溝23内に転写することで、溝22、溝23内にインクを充填し、その後、所定のインク硬化処理を行う。具体的には、インクの硬化処理とは、インクの加熱や紫外線照射等のインクの硬化条件に合わせた硬化処理である。これにより、溝22内に信号配線16が形成され、溝23内に端子17が形成される(ST504)。このとき、信号配線16は、それぞれ透明電極15と端子17とに接続される。   Next, as shown in FIG. 9, by using the stamper 30, the ink that becomes the signal wiring 16 and the terminal 17 is transferred into the groove 22 and the groove 23 of the transparent substrate 13. After that, a predetermined ink curing process is performed. Specifically, the ink curing process is a curing process in accordance with ink curing conditions such as ink heating and ultraviolet irradiation. As a result, the signal wiring 16 is formed in the groove 22, and the terminal 17 is formed in the groove 23 (ST504). At this time, the signal wiring 16 is connected to the transparent electrode 15 and the terminal 17, respectively.

より具体的には、図10に示すように、凸型のスタンパ30にインク33を転写した後に、溝22にインク33を転写する。この転写されたインク33は溝22内でレベリングされ溝22内に充填される。充填されたインク33は、溝22の凹んだ面に密着するように広がる。なお、透明基板13の電極貫通が必要な場合には、予め形成されている穴(スルーホール5)に電極ペーストを充填しこれを硬化させる。   More specifically, as shown in FIG. 10, the ink 33 is transferred to the groove 22 after the ink 33 is transferred to the convex stamper 30. The transferred ink 33 is leveled in the groove 22 and filled in the groove 22. The filled ink 33 spreads in close contact with the concave surface of the groove 22. In addition, when the electrode penetration of the transparent substrate 13 is required, the hole (through hole 5) formed beforehand is filled with an electrode paste, and this is hardened.

次いで、図11に示すように、基板10の額縁領域Hに対応する領域を例えば黒色のインク31で加飾する(ST505)。なお、加飾工程(ST505)は、必要に応じて行われる。この加飾工程(ST505)では、例えばスクリーン印刷、フレキソ印刷、グラビア印刷、フィルム転写等の一般的な印刷手法が選択できる。   Next, as shown in FIG. 11, the region corresponding to the frame region H of the substrate 10 is decorated with, for example, black ink 31 (ST505). In addition, a decorating process (ST505) is performed as needed. In this decoration process (ST505), for example, a general printing technique such as screen printing, flexographic printing, gravure printing, film transfer, or the like can be selected.

続いて、更に透明基板13の一面13Aに保護コート層12を形成する(ST506)。これにより、透明基板13の一面13A側が保護コート層12で覆われる。保護コート層11、12は、光学的な特性(反射低減やギラツキ低減)や防傷、防汚などのための層であり、保護コート層11、12は、単層でも多層でもよく要求特性に合わせて設けられる。   Subsequently, the protective coat layer 12 is further formed on the one surface 13A of the transparent substrate 13 (ST506). Thereby, the one surface 13A side of the transparent substrate 13 is covered with the protective coating layer 12. The protective coating layers 11 and 12 are layers for optical characteristics (reflection reduction and glare reduction), scratch protection, and antifouling, and the protective coating layers 11 and 12 may be a single layer or a multilayer and have required characteristics. It is provided together.

次いで、透明基板13の一面13A側と同様にして、透明基板13の他面13B側に、透明電極19、信号配線20、端子4及び保護コート層11を形成する(ST507)。なお、保護コート層11、12の形成工程(ST506、ST507)は、必要に応じて行われる。   Next, similarly to the one surface 13A side of the transparent substrate 13, the transparent electrode 19, the signal wiring 20, the terminal 4 and the protective coat layer 11 are formed on the other surface 13B side of the transparent substrate 13 (ST507). In addition, the formation process (ST506, ST507) of the protective coat layers 11 and 12 is performed as necessary.

そして、タッチパネル2と、フレキシブル回路基板3とを、異方性導電フィルム6等を介して接続する。これにより、電子機器1を製造する(ST508)。   And the touch panel 2 and the flexible circuit board 3 are connected via the anisotropic conductive film 6 grade | etc.,. Thereby, the electronic device 1 is manufactured (ST508).

[作用等]
このように本実施形態によれば、透明基板13を射出成形するので、額縁領域Hに幅HWの狭い溝22を狭い間隔Kで精度よくかつ安定的に形成し、溝22内に信号配線16を形成することができる。つまり、図12に示すように、従来、基板10Bに、幅W、厚さTの信号配線16Aを形成していたのに対して、本実施形態では、信号配線16の幅HW及び信号配線16の間隔Kを狭くすることができる。この結果、複数の信号配線16が形成される額縁領域Hの幅を狭くすることができる。
[Action etc.]
As described above, according to the present embodiment, since the transparent substrate 13 is injection-molded, the narrow groove 22 having the narrow width HW is accurately and stably formed in the frame region H at the narrow interval K, and the signal wiring 16 is formed in the groove 22. Can be formed. That is, as shown in FIG. 12, the signal wiring 16A having the width W and the thickness T is conventionally formed on the substrate 10B, whereas in the present embodiment, the width HW of the signal wiring 16 and the signal wiring 16 are formed. The interval K can be reduced. As a result, the width of the frame region H where the plurality of signal wirings 16 are formed can be reduced.

例えば信号配線16の幅HW=0.05mm、信号配線16の間隔K=0.05mmとして、額縁領域Hに5本の信号配線16(両側の額縁で計10本)を形成した場合、信号配線16に必要な額縁領域Hの幅は0.05×5+0.05×4=0.45mmで済む。なお、原理的にはより細い信号配線を形成することも可能である。   For example, when the signal wiring 16 has a width HW = 0.05 mm, and the signal wiring 16 has an interval K = 0.05 mm, and five signal wirings 16 (total of 10 on both sides of the frame) are formed in the frame region H, the signal wiring The width of the frame area H required for 16 is 0.05 × 5 + 0.05 × 4 = 0.45 mm. In principle, it is possible to form a thinner signal wiring.

また、図12に示すように、従来のように基板10Bの一面に信号配線16Aを印刷法により形成する場合、信号配線16Aの幅Wを狭くすると信号配線16Aの厚さTも薄くなり、信号配線16Aの抵抗が上昇する問題があった。これに対して、本実施形態では、予め形成された溝22内にインクを充填する方法を採るので、信号配線16の幅HWに対する厚さHT(高さ)を増やすことが可能で、細くかつ低抵抗の信号配線16を実現することができる。従来の印刷による場合、T/W<<1となる。これに対して、本実施形態では、図12に示すように厚さHT≒幅HWとすることも可能である。   In addition, as shown in FIG. 12, when the signal wiring 16A is formed on one surface of the substrate 10B by a printing method as in the prior art, if the width W of the signal wiring 16A is reduced, the thickness T of the signal wiring 16A is also reduced. There was a problem that the resistance of the wiring 16A increased. On the other hand, in the present embodiment, since the ink is filled in the groove 22 formed in advance, the thickness HT (height) with respect to the width HW of the signal wiring 16 can be increased. A low-resistance signal wiring 16 can be realized. In the case of conventional printing, T / W << 1. On the other hand, in the present embodiment, as shown in FIG. 12, it is possible to make the thickness HT≈the width HW.

従来の印刷法により信号配線16Aを形成する場合、信号配線16Aの幅Wを狭くすると基板10Bと接触面積が減り密着力が低下し、信号配線16Aの密着強度が低下することが懸念されていた。本実施形態では、信号配線16は、溝22の凹んだ面(3面P、Q、R)に密着して設けられている。これにより、信号配線16の透明基板13への密着力を向上させることができる。   When the signal wiring 16A is formed by the conventional printing method, there is a concern that if the width W of the signal wiring 16A is narrowed, the contact area with the substrate 10B is reduced and the adhesion strength is lowered, and the adhesion strength of the signal wiring 16A is lowered. . In the present embodiment, the signal wiring 16 is provided in close contact with the concave surface (three surfaces P, Q, R) of the groove 22. Thereby, the adhesive force of the signal wiring 16 to the transparent substrate 13 can be improved.

また、従来では、図31に示すように、2枚のフィルム106、107を貼り合わせることで、タッチパネル100を製造していた。しかし、本実施形態では、1枚の透明基板13の一面13Aに図3に示す透明電極15と信号配線16と端子17とを形成し、他面13Bに透明電極19と信号配線20と端子とを形成しており、貼り合わせの必要がない。このため、製造工程数を減少させることができると共に、タッチパネル2の薄型化を図ることができる。   Conventionally, as shown in FIG. 31, the touch panel 100 is manufactured by bonding two films 106 and 107 together. However, in this embodiment, the transparent electrode 15, the signal wiring 16 and the terminal 17 shown in FIG. 3 are formed on one surface 13A of one transparent substrate 13, and the transparent electrode 19, the signal wiring 20 and the terminal are formed on the other surface 13B. There is no need for bonding. For this reason, the number of manufacturing steps can be reduced, and the touch panel 2 can be thinned.

図13は第1の変形例の透明電極膜15Aの形成工程を説明する図である。なお、本変形例以降では、上記第1の実施形態と同様の構成部材には同一の符号を付しその説明を省略し異なる箇所を中心的に説明する。   FIG. 13 is a diagram for explaining a process of forming the transparent electrode film 15A of the first modification. In addition, after this modification, the same code | symbol is attached | subjected to the structural member similar to the said 1st Embodiment, the description is abbreviate | omitted and it demonstrates centering on a different location.

上記第1の実施の形態では、図7に示すように、透明基板13の一面13Aに透明電極膜15Aを形成する例を示した。これに対して、本変形例では、第1の実施の形態に比べて、透明基板13の一面13Aに透明電極膜15Aを形成する代わりに、透明基板13の一面13Aに下地膜35を形成し、下地膜35の上に金属マスク36を介して透明電極膜15Aを形成する点が異なる。これにより、下地膜35には、金属マスク36で覆われた位置に、透明電極膜15Aが形成されない非成膜部37が形成される。   In the first embodiment, as shown in FIG. 7, an example in which the transparent electrode film 15A is formed on the one surface 13A of the transparent substrate 13 has been described. On the other hand, in the present modification, a base film 35 is formed on one surface 13A of the transparent substrate 13 instead of forming the transparent electrode film 15A on the one surface 13A of the transparent substrate 13 as compared with the first embodiment. The difference is that the transparent electrode film 15A is formed on the base film 35 via the metal mask 36. As a result, a non-film forming portion 37 in which the transparent electrode film 15 </ b> A is not formed is formed in the base film 35 at a position covered with the metal mask 36.

このように本変形例によれば、透明基板13の一面13Aに下地膜35を形成しておき、下地膜35の上に透明電極膜15Aを形成するので、透明電極膜15Aの密着力を高めることができる。   As described above, according to this modification, the base film 35 is formed on the one surface 13A of the transparent substrate 13, and the transparent electrode film 15A is formed on the base film 35. Therefore, the adhesion of the transparent electrode film 15A is increased. be able to.

図14は第2の変形例の透明基板の額縁領域の断面図である。
上記第1の実施の形態では、射出成形により、図4に示すように、基板10の額縁領域Hに一面13Aから凹む凹形状の溝22を複数形成し、溝22内に信号配線16が充填されている例を示した。これに対して、本変形例では、射出成形により、複数の凸状部41が透明基板13’の一面13A’に直交する方向に突出して配列して形成されている。隣接する凸状部41の間には凹形状の溝22’が形成される。これらの溝22’内に信号配線16Aが充填して設けられている。信号配線16A間に凸状部41が位置する。複数の信号配線16Aのうち最も内側の信号配線16Aは、透明電極15に接続されている。なお、他の信号配線16Aも同様にそれぞれ図14では図示しない別の透明電極15に接続されている。
FIG. 14 is a cross-sectional view of the frame region of the transparent substrate of the second modification.
In the first embodiment, as shown in FIG. 4, a plurality of concave grooves 22 recessed from one surface 13 </ b> A are formed in the frame region H of the substrate 10 by injection molding, and the signal wirings 16 are filled in the grooves 22. An example that has been shown. On the other hand, in the present modification, a plurality of convex portions 41 are formed by injection molding so as to protrude in a direction perpendicular to the one surface 13A ′ of the transparent substrate 13 ′. A concave groove 22 ′ is formed between the adjacent convex portions 41. Signal grooves 16A are filled in these grooves 22 ′. The convex portion 41 is located between the signal wirings 16A. The innermost signal wiring 16 </ b> A among the plurality of signal wirings 16 </ b> A is connected to the transparent electrode 15. The other signal wirings 16A are also connected to other transparent electrodes 15 not shown in FIG.

このように本変形例によれば、射出成形により、透明基板13’の一面13A’の額縁領域Hに対応する領域に、複数の凸状部41が形成されているので、溝22’の幅HWと、凸状部41の幅K’とを狭くすることができる。従って、額縁領域H(の幅)を狭くすることができる。また、凸状部41の高さHTを高くすることができるので、凸状部41で形成される溝22’の3つの面に信号配線16Aを密着させ、信号配線16Aの密着力を向上させることができる。また、信号配線16Aの断面積を大きくし、信号配線16Aの抵抗を低減することができる。   Thus, according to this modification, since the plurality of convex portions 41 are formed in the region corresponding to the frame region H of the one surface 13A ′ of the transparent substrate 13 ′ by injection molding, the width of the groove 22 ′. HW and the width K ′ of the convex portion 41 can be reduced. Therefore, the frame area H (the width thereof) can be narrowed. Further, since the height HT of the convex portion 41 can be increased, the signal wiring 16A is brought into close contact with the three surfaces of the groove 22 ′ formed by the convex portion 41, thereby improving the adhesive strength of the signal wiring 16A. be able to. Further, the cross-sectional area of the signal wiring 16A can be increased, and the resistance of the signal wiring 16A can be reduced.

図15は第3の変形例の信号配線16を形成する工程を説明する図である。
上記第1の実施の形態では、スタンパ30により信号配線16を形成する例を示した。これに対して、本変形例では、スタンパ30の代わりに、インクジェット50により溝22内にインク滴51を導入し、その後、レベリングにより溝22内にインクを充填する。これにより、上記第1の実施形態と同様に、溝22内に信号配線16等を形成することができる。
FIG. 15 is a diagram illustrating a process of forming the signal wiring 16 of the third modification.
In the first embodiment, the example in which the signal wiring 16 is formed by the stamper 30 has been described. On the other hand, in this modified example, instead of the stamper 30, the ink droplet 51 is introduced into the groove 22 by the inkjet 50, and then the ink is filled into the groove 22 by leveling. Thereby, the signal wiring 16 etc. can be formed in the groove | channel 22 similarly to the said 1st Embodiment.

図16は第4の変形例の信号配線16を形成する工程を説明する図である。
上記第1の実施形態では、スタンパ30により信号配線16を形成する例を示した。これに対して、本変形例では、スタンパ30の代わりに、ディスペンサ55によりインク52を端子17が形成される溝23内に滴下し、毛細管力により溝22内にインク52を充填する。この結果、溝23内に端子17を形成し、溝22内に信号配線16を形成することができる。
FIG. 16 is a diagram illustrating a process of forming the signal wiring 16 of the fourth modified example.
In the first embodiment, the example in which the signal wiring 16 is formed by the stamper 30 has been described. On the other hand, in this modified example, instead of the stamper 30, the ink 52 is dropped into the groove 23 where the terminal 17 is formed by the dispenser 55, and the ink 52 is filled into the groove 22 by capillary force. As a result, the terminal 17 can be formed in the groove 23, and the signal wiring 16 can be formed in the groove 22.

なお、図9、図15及び図16に示すインクの供給方法については、使用するインクの粘度に応じて、最適な方法を選択することが好ましい。具体的には、スクリーン印刷、フレキソ印刷、グラビア印刷、オフセット印刷等が適応可能である。インクの転写・充填が終了した後は、加熱や紫外線照射などのインクの硬化条件に合わせた硬化処理を行う。また、透明基板13の電極貫通が必要な場合には、予め形成されている穴(スルーホール)に電極ペーストを充填しこれを硬化させる。   As for the ink supply method shown in FIGS. 9, 15 and 16, it is preferable to select an optimum method according to the viscosity of the ink to be used. Specifically, screen printing, flexographic printing, gravure printing, offset printing, and the like are applicable. After the ink transfer / filling is completed, a curing process is performed in accordance with the ink curing conditions such as heating and ultraviolet irradiation. Further, when it is necessary to penetrate the transparent substrate 13, an electrode paste is filled in a hole (through hole) formed in advance and cured.

<第2の実施の形態>
図17は本発明の第2の実施の形態に係る電子機器の概略を示す平面図、図18は図17に示す電子機器の側面図である。
[電子機器の構成]
本実施形態の電子機器60は、抵抗膜型のタッチパネル61と、タッチパネル61に接続されたフレキシブル回路基板3とを備える。タッチパネル61の後述する端子70は、スルーホールを介してACF等の異方性導電フィルム6Aに接続され、異方性導電フィルム6Aがフレキシブル回路基板3の図示しない配線等に接続されている。
<Second Embodiment>
FIG. 17 is a plan view schematically showing an electronic apparatus according to the second embodiment of the present invention, and FIG. 18 is a side view of the electronic apparatus shown in FIG.
[Configuration of electronic equipment]
The electronic device 60 of this embodiment includes a resistive film type touch panel 61 and a flexible circuit board 3 connected to the touch panel 61. A terminal 70 to be described later of the touch panel 61 is connected to an anisotropic conductive film 6A such as ACF through a through hole, and the anisotropic conductive film 6A is connected to a wiring or the like (not shown) of the flexible circuit board 3.

タッチパネル61は、第1の基板62、第2の基板63、及びこれらの基板62,63同士を接続する接着剤64を備える。   The touch panel 61 includes a first substrate 62, a second substrate 63, and an adhesive 64 that connects the substrates 62 and 63 to each other.

図19はタッチパネル61の第1の基板62の平面図、縦横断面図である。
第1の基板62は、射出成形により形成された矩形状の第1の透明基板58を備える。第1の透明基板58は、第1の基板62の基材である。第1の透明基板58の中央の領域には、例えばITO等からなる略矩形状の透明電極膜65が形成されている。第1の透明基板58の中央の領域は、ほぼ表示領域に対応する。第1の透明基板58の一面58Aのうち透明電極膜65の周りの配線領域としての額縁領域Hには、透明電極膜65に接続された一対の信号配線66が形成されている。信号配線66は、透明電極膜65の長手方向の一対の側縁に接続されていると共に、第1の透明基板58の一面58A側で引き回されて端子67に接続されている。
FIG. 19 is a plan view and vertical and horizontal cross-sectional views of the first substrate 62 of the touch panel 61.
The first substrate 62 includes a rectangular first transparent substrate 58 formed by injection molding. The first transparent substrate 58 is a base material of the first substrate 62. In the central region of the first transparent substrate 58, a substantially rectangular transparent electrode film 65 made of, for example, ITO or the like is formed. The central area of the first transparent substrate 58 substantially corresponds to the display area. A pair of signal wirings 66 connected to the transparent electrode film 65 is formed in a frame region H as a wiring region around the transparent electrode film 65 on one surface 58A of the first transparent substrate 58. The signal wiring 66 is connected to a pair of side edges in the longitudinal direction of the transparent electrode film 65, and is led to the one surface 58 </ b> A side of the first transparent substrate 58 and connected to the terminal 67.

第1の透明基板58の厚さTH1は、額縁領域Hの厚さTH2より薄い。つまり、図19に示すように第1の透明基板58は、矩形枠状の額縁領域Hに対応する位置に矩形枠状の厚肉部58Cを備える。すなわち、第1の透明基板58の額縁領域Hの溝22Bの形成面F1が表示領域の透明電極膜65の形成面F2から突出している。   The thickness TH1 of the first transparent substrate 58 is thinner than the thickness TH2 of the frame region H. That is, as shown in FIG. 19, the first transparent substrate 58 includes a rectangular frame-shaped thick portion 58C at a position corresponding to the rectangular frame-shaped frame region H. That is, the formation surface F1 of the groove 22B in the frame region H of the first transparent substrate 58 protrudes from the formation surface F2 of the transparent electrode film 65 in the display region.

図20は図19に示す第1の基板62のB−B’断面図である。
第1の透明基板58の一面58Aの額縁領域Hに対応する位置には、凹形状の溝22Bが形成されている。溝22B内には、信号配線66が充填されていると共に、透明電極膜65の端縁部が延在して配置されている。溝22B内で、信号配線66と、透明電極膜65とが接続されている。信号配線66の幅は幅HW、厚さは厚さHTになっている。具体的には、幅HWは0.05mm、厚さHTは0.05mmになっている。幅HWと、厚さHTとがほぼ同じ長さになっている。なお、幅HWと、厚さHTとは同じにする必要はない。なお、本実施形態でも、第1の透明基板58の一面58Aに、一面58Aから突出する図示しない複数の凸状部を射出成形により成形し、これにより、これらの凸状部の間に凹形状部を形成し、この凹形状部に信号配線66を配置するようにしてもよい。
FIG. 20 is a cross-sectional view taken along the line BB ′ of the first substrate 62 shown in FIG.
A concave groove 22 </ b> B is formed at a position corresponding to the frame region H of the one surface 58 </ b> A of the first transparent substrate 58. In the groove 22B, the signal wiring 66 is filled, and the edge portion of the transparent electrode film 65 is extended and disposed. The signal wiring 66 and the transparent electrode film 65 are connected in the groove 22B. The signal wiring 66 has a width HW and a thickness HT. Specifically, the width HW is 0.05 mm and the thickness HT is 0.05 mm. The width HW and the thickness HT are substantially the same length. Note that the width HW and the thickness HT need not be the same. In this embodiment as well, a plurality of convex portions (not shown) protruding from the one surface 58A are formed on the one surface 58A of the first transparent substrate 58 by injection molding, whereby a concave shape is formed between these convex portions. May be formed, and the signal wiring 66 may be disposed in the concave portion.

図21はタッチパネル61の第2の基板63の平面図、縦横断面図である。
第2の基板63は、射出成形により形成された矩形状の第2の透明基板59を備える。第2の透明基板59の中央の領域に例えばITO等からなる略矩形状の透明電極膜68が形成されている。透明電極膜68が形成されている領域は、ほぼ表示領域に対応している。第2の透明基板59の一面59Aのうち透明電極膜68の周りの額縁領域Hには、信号配線69が形成されている。信号配線69は、透明電極膜68の長手方向に直交する方向に平行な透明電極膜68の一対の端縁に接続されている。信号配線69は、第2の透明基板59の一面59A側で引き回されて端子70に接続されている。信号配線69は、射出成形により第2の透明基板59の一面59Aに形成された溝内に配置されている。
FIG. 21 is a plan view and vertical and horizontal sectional view of the second substrate 63 of the touch panel 61.
The second substrate 63 includes a rectangular second transparent substrate 59 formed by injection molding. A substantially rectangular transparent electrode film 68 made of, for example, ITO or the like is formed in the central region of the second transparent substrate 59. The region where the transparent electrode film 68 is formed substantially corresponds to the display region. A signal wiring 69 is formed in a frame region H around the transparent electrode film 68 on one surface 59A of the second transparent substrate 59. The signal wiring 69 is connected to a pair of edges of the transparent electrode film 68 parallel to the direction orthogonal to the longitudinal direction of the transparent electrode film 68. The signal wiring 69 is routed on the one surface 59 </ b> A side of the second transparent substrate 59 and connected to the terminal 70. The signal wiring 69 is disposed in a groove formed on one surface 59A of the second transparent substrate 59 by injection molding.

第2の透明基板59の厚さTH3は、額縁領域Hの厚さTH4より薄い。つまり、図21に示すように第2の透明基板59は、矩形枠状の額縁領域Hに対応する位置に矩形枠状の厚肉部59Cを備える。すなわち、第2の透明基板59の額縁領域Hの形成面F3が表示領域の透明電極膜68の形成面F4から突出している。透明電極膜65と透明電極膜68とが隙間を挟んで対向するように第1の透明基板58と、第2の透明基板59とが接合されている。   The thickness TH3 of the second transparent substrate 59 is thinner than the thickness TH4 of the frame region H. That is, as shown in FIG. 21, the second transparent substrate 59 includes a rectangular frame-shaped thick portion 59 </ b> C at a position corresponding to the rectangular frame-shaped frame region H. That is, the formation surface F3 of the frame region H of the second transparent substrate 59 protrudes from the formation surface F4 of the transparent electrode film 68 in the display region. The first transparent substrate 58 and the second transparent substrate 59 are bonded so that the transparent electrode film 65 and the transparent electrode film 68 face each other with a gap therebetween.

[電子機器60の製造方法]
次に、第2の実施の形態の電子機器60の製造方法について図面を参照しながら説明する。
[Method for Manufacturing Electronic Device 60]
Next, a method for manufacturing the electronic device 60 according to the second embodiment will be described with reference to the drawings.

図22は図17に示す電子機器60の製造工程を示すフローチャートである。なお、図23は第1の透明基板58を製造する工程(ST2201)を説明する図、図24は透明電極膜65を形成する工程(ST2202)を説明する図、図25は信号配線66を形成する工程(ST2203)を説明する図、図26は第1と第2の基板62、63の接合工程(ST2207)の説明図である。   FIG. 22 is a flowchart showing manufacturing steps of the electronic device 60 shown in FIG. 23 is a diagram for explaining the step (ST2201) for manufacturing the first transparent substrate 58, FIG. 24 is a diagram for explaining the step (ST2202) for forming the transparent electrode film 65, and FIG. FIG. 26 is a diagram for explaining the step (ST2207) for joining the first and second substrates 62 and 63. FIG.

まず、図23に示すように、射出成形金型25Aを用いて、第1の透明基板58を形成する。このとき、第1の基板62の周縁部に厚肉部58Cを形成すると共に、第1の透明基板58の一面58Aに後に信号配線66が形成される溝71と、後に端子67が形成される溝72とを形成する(ST2201)。   First, as shown in FIG. 23, a first transparent substrate 58 is formed using an injection mold 25A. At this time, the thick portion 58C is formed on the peripheral portion of the first substrate 62, the groove 71 in which the signal wiring 66 is later formed on one surface 58A of the first transparent substrate 58, and the terminal 67 later. A groove 72 is formed (ST2201).

次に、図24に示すように、スパッタ装置26を用いて、マスク27を介して、表示領域とほぼ対応する所定の領域に、選択的に透明電極膜65を形成する(ST2202)。透明電極膜65は、例えばITO(Indium Tin Oxide)である。このとき、透明電極膜65が溝71内に入り込むようにする。   Next, as shown in FIG. 24, the transparent electrode film 65 is selectively formed in a predetermined region substantially corresponding to the display region through the mask 27 using the sputtering apparatus 26 (ST2202). The transparent electrode film 65 is, for example, ITO (Indium Tin Oxide). At this time, the transparent electrode film 65 enters the groove 71.

次いで、図25に示すように、スタンパ30Aを用いて、信号配線66、端子67となるインクを第1の透明基板58の溝71、溝72内に転写することで、溝71、溝72内にインクを充填し、その後、所定のインク硬化処理を行う。これにより、溝71内に信号配線66が形成され、溝72内に端子67が形成される(ST2203)。このとき、信号配線66は、それぞれ透明電極膜65と端子67とに接続される。   Next, as shown in FIG. 25, the stamper 30 </ b> A is used to transfer the ink to be the signal wiring 66 and the terminal 67 into the groove 71 and the groove 72 of the first transparent substrate 58. The ink is filled in, and then a predetermined ink curing process is performed. Thereby, the signal wiring 66 is formed in the groove 71, and the terminal 67 is formed in the groove 72 (ST2203). At this time, the signal wiring 66 is connected to the transparent electrode film 65 and the terminal 67, respectively.

次いで、第1の透明基板58と同様に、射出成形により、図21に示す信号配線69が充填される溝や端子70が充填される溝や厚肉部59Cが形成された第2の透明基板59を形成する(ST2204)。   Next, similarly to the first transparent substrate 58, the second transparent substrate in which the groove filled with the signal wiring 69 shown in FIG. 21, the groove filled with the terminal 70, and the thick portion 59C are formed by injection molding. 59 is formed (ST2204).

続いて、第1の基板62と同様にして、第2の透明基板59に透明電極膜68を形成する(ST2205)。   Subsequently, the transparent electrode film 68 is formed on the second transparent substrate 59 in the same manner as the first substrate 62 (ST2205).

次いで、第1の基板62と同様にして、第2の透明基板59の一面59A側に、信号配線69、端子70を形成する(ST2206)。このとき、信号配線69を端子70に接続すると共に透明電極膜68に接続する。   Next, similarly to the first substrate 62, the signal wiring 69 and the terminal 70 are formed on the one surface 59A side of the second transparent substrate 59 (ST2206). At this time, the signal wiring 69 is connected to the terminal 70 and to the transparent electrode film 68.

続いて、図26に示すように、第1の基板62と、第2の基板63とを、接着剤64を介して所定の圧着条件で圧着し、接着剤64の所定の硬化処理を行うことで、第1の基板62と第2の基板63とを一体化する(ST2207)。これにより、タッチパネル61が製造される。   Subsequently, as shown in FIG. 26, the first substrate 62 and the second substrate 63 are bonded under a predetermined pressure bonding condition via an adhesive 64, and a predetermined curing process of the adhesive 64 is performed. Thus, the first substrate 62 and the second substrate 63 are integrated (ST2207). Thereby, the touch panel 61 is manufactured.

そして、タッチパネル61と、フレキシブル回路基板3とを、例えば異方性導電フィルム6を介して接続する。これにより、電子機器60を製造する(ST2208)。   And the touch panel 61 and the flexible circuit board 3 are connected through the anisotropic conductive film 6, for example. Thereby, the electronic device 60 is manufactured (ST2208).

[作用等]
このように本実施形態によれば、第1の透明基板58を射出成形するので、額縁領域Hに幅HWの狭い溝22Bを精度良くかつ安定的に形成することができる。このため、溝22B内に幅HWの狭い信号配線66を形成することができる。つまり、図27に示すように信号配線66の幅HWを従来に比べて狭くすることができる。この結果、信号配線66が形成される額縁領域(の幅)Hの幅を狭くすることができる。
[Action etc.]
As described above, according to the present embodiment, since the first transparent substrate 58 is injection-molded, the groove 22B having a narrow width HW can be accurately and stably formed in the frame region H. For this reason, the signal wiring 66 having a narrow width HW can be formed in the groove 22B. That is, as shown in FIG. 27, the width HW of the signal wiring 66 can be made narrower than in the prior art. As a result, the width of the frame region (width) H in which the signal wiring 66 is formed can be reduced.

また、第1の基板62の内面と、第2の基板63の内面との間の距離は、第1の基板62の表示領域の厚さTH3と厚肉部58Cの厚さTH4との差と、第2の基板63の表示領域の厚さTH3と厚肉部59Cの厚さTH4との差との和により決まる。これらの差の和=(TH4−TH3)+(TH4−TH3)の精度は、射出成形の成形精度に依存する。本実施形態では、射出成形により第1の透明基板58及び第2の透明基板59の厚さTH3、TH4の精度を向上させることができる。従って、第1の基板62の透明電極膜65の形成面F2と第2の基板63の透明電極膜68の形成面F4との間の距離の精度を安定させることができる。なお、第1の基板62及び第2の基板63の厚さTH3、TH4は、適宜変更可能である。   Further, the distance between the inner surface of the first substrate 62 and the inner surface of the second substrate 63 is the difference between the thickness TH3 of the display area of the first substrate 62 and the thickness TH4 of the thick portion 58C. This is determined by the sum of the difference between the thickness TH3 of the display area of the second substrate 63 and the thickness TH4 of the thick portion 59C. The accuracy of the sum of these differences = (TH4-TH3) + (TH4-TH3) depends on the molding accuracy of injection molding. In the present embodiment, the accuracy of the thicknesses TH3 and TH4 of the first transparent substrate 58 and the second transparent substrate 59 can be improved by injection molding. Therefore, the accuracy of the distance between the formation surface F2 of the transparent electrode film 65 of the first substrate 62 and the formation surface F4 of the transparent electrode film 68 of the second substrate 63 can be stabilized. Note that the thicknesses TH3 and TH4 of the first substrate 62 and the second substrate 63 can be changed as appropriate.

また、図27に示すように、従来のように基板10Bの一面に信号配線16Aを印刷法により形成する場合、信号配線16Aの幅Wを狭くすると信号配線16Aの厚さTも薄くなり、信号配線16Aの抵抗が上昇する問題があった。これに対して、本実施形態では、予め形成された溝22B内にインクを充填する方法を採るので、信号配線66の幅HWに対する厚さHT(高さ)を増やすことが可能である。この結果、細くかつ低抵抗の信号配線66を実現することができる。従来の印刷による場合、T/W<<1となる。これに対して、本実施形態では、図27に示すように厚さHT≒幅HWとすることも可能である。   As shown in FIG. 27, when the signal wiring 16A is formed on one surface of the substrate 10B by a printing method as in the prior art, if the width W of the signal wiring 16A is narrowed, the thickness T of the signal wiring 16A is also reduced. There was a problem that the resistance of the wiring 16A increased. On the other hand, in this embodiment, since a method of filling ink into the groove 22B formed in advance is employed, it is possible to increase the thickness HT (height) of the signal wiring 66 with respect to the width HW. As a result, a thin and low resistance signal wiring 66 can be realized. In the case of conventional printing, T / W << 1. On the other hand, in the present embodiment, as shown in FIG. 27, it is possible to make the thickness HT≈the width HW.

従来の印刷法により信号配線16Aを形成する場合、信号配線16Aの幅Wを狭くすると基板10Bと接触面積が減り密着力が低下し、信号配線16Aの密着強度が低下することが懸念されていた。本実施形態では、信号配線66は、溝22Bの凹んだ面(3面P、Q、R)に密着して設けられている。これにより、信号配線66の第1の透明基板58への密着力を向上させることができる。なお、第2の透明基板59についても、第1の透明基板58と同様の効果がある。   When the signal wiring 16A is formed by the conventional printing method, there is a concern that if the width W of the signal wiring 16A is narrowed, the contact area with the substrate 10B is reduced and the adhesion strength is lowered, and the adhesion strength of the signal wiring 16A is lowered. . In the present embodiment, the signal wiring 66 is provided in close contact with the concave surface (three surfaces P, Q, R) of the groove 22B. Thereby, the adhesive force of the signal wiring 66 to the first transparent substrate 58 can be improved. The second transparent substrate 59 has the same effect as the first transparent substrate 58.

また、従来、図32に示すように2枚のフィルム115、116を一体化するために、スペーサー材117が必要であった。スペーサー材117は、薄いフィルムであるため、幅を狭くするとその形状の維持が容易でない。このため、スペーサー材117の幅を狭くすることは困難であった。しかし、第2の実施形態では、第1の基板62、第2の基板63がそれぞれ厚肉部58C、59Cを備えるので、スペーサー材117が必要ない。第1の基板62と第2の基板63とを接着剤64を介して一体化すればよい。このため、第1の基板62、第2の基板63の外周縁部に位置する厚肉部58C、59Cの幅を狭くし、結果的に額縁領域Hの幅を狭くすることが可能となる。   Conventionally, as shown in FIG. 32, a spacer material 117 has been required to integrate the two films 115 and 116. Since the spacer material 117 is a thin film, its shape cannot be easily maintained if the width is narrowed. For this reason, it is difficult to reduce the width of the spacer material 117. However, in the second embodiment, since the first substrate 62 and the second substrate 63 include the thick portions 58C and 59C, respectively, the spacer material 117 is not necessary. What is necessary is just to integrate the 1st board | substrate 62 and the 2nd board | substrate 63 through the adhesive agent 64. FIG. For this reason, the width of the thick portions 58C and 59C located at the outer peripheral edge portions of the first substrate 62 and the second substrate 63 can be reduced, and as a result, the width of the frame region H can be reduced.

また、従来、図32に示すように、フィルム115、116及びスペーサー材117の3個の部品の貼り合わせが必要であったが、本実施形態では第1の基板62と第2の基板63との2個の部品を接着剤64を介して接続すればよい。つまり、タッチパネル61を製造するために必要となる部品数を減少させることができる。この結果、各部品の位置精度バラツキの影響を減らすことが可能となり、更に額縁領域Hを狭めることができると共に、貼り合せ工程も簡略化できる。   Conventionally, as shown in FIG. 32, it was necessary to bond three parts of the films 115 and 116 and the spacer material 117. In the present embodiment, the first substrate 62 and the second substrate 63 These two parts may be connected via the adhesive 64. That is, the number of components required for manufacturing the touch panel 61 can be reduced. As a result, it is possible to reduce the influence of the positional accuracy variation of each component, and the frame region H can be further narrowed, and the bonding process can be simplified.

図28は第5の変形例の透明電極膜の形成工程を説明する図である。
上記第1の実施の形態では、図7に示すように、透明基板13の一面13Aに透明電極膜15Aを形成する例を示した。これに対して、本変形例では、第1の実施の形態に比べて、透明基板13の一面13Aに透明電極膜15Aを形成する代わりに、透明基板58Dの一面58Eに下地膜35Aを形成し、マスク36Aを介して、下地膜35Aの上に透明電極膜65を形成する点が異なる。下地膜35Aは、透明基板58Dの一面58Eの全域に亘って形成されている。下地膜35Aの上には、透明基板58Dの薄肉部から厚肉部の一部に形成されている。下地膜35Aには、マスク36Aで覆われた位置に、透明電極膜65が形成されない非成膜部37Aが形成される。
FIG. 28 is a diagram for explaining a process for forming a transparent electrode film according to a fifth modification.
In the first embodiment, as shown in FIG. 7, an example in which the transparent electrode film 15A is formed on the one surface 13A of the transparent substrate 13 has been described. On the other hand, in this modification, instead of forming the transparent electrode film 15A on the one surface 13A of the transparent substrate 13, the base film 35A is formed on the one surface 58E of the transparent substrate 58D, as compared with the first embodiment. The difference is that the transparent electrode film 65 is formed on the base film 35A via the mask 36A. The base film 35A is formed over the entire surface 58E of the transparent substrate 58D. On the base film 35A, the transparent substrate 58D is formed from a thin part to a part of the thick part. In the base film 35A, a non-film forming portion 37A where the transparent electrode film 65 is not formed is formed at a position covered with the mask 36A.

このように本変形例によれば、透明基板58Dの一面58Eに下地膜35Aを形成しておき、下地膜35Aの上に透明電極膜65を形成する。このため、透明電極膜65の密着力を高めることができる。   Thus, according to this modification, the base film 35A is formed on the one surface 58E of the transparent substrate 58D, and the transparent electrode film 65 is formed on the base film 35A. For this reason, the adhesive force of the transparent electrode film 65 can be increased.

本発明は、上述した実施形態や変形例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々更新を加え得ることは勿論である。   The present invention is not limited to the above-described embodiments and modifications, and it is needless to say that various updates can be added without departing from the gist of the present invention.

例えば上記第1の実施の形態では、図8に示すように、レーザ光を透明電極膜15Aに照射することにより、透明電極膜15Aの所定の領域を除去し、透明電極膜15Aを分離し、複数の透明電極15を形成する例を示した。しかし、これに限定されず、例えばエッチング等により透明電極膜15Aを分離するようにしてもよい。   For example, in the first embodiment, as shown in FIG. 8, by irradiating the transparent electrode film 15A with laser light, a predetermined region of the transparent electrode film 15A is removed, and the transparent electrode film 15A is separated, The example which forms the some transparent electrode 15 was shown. However, the present invention is not limited to this. For example, the transparent electrode film 15A may be separated by etching or the like.

図29は第6の変形例のタッチパネルを構成する基板の位置合わせ工程を示す図である。
上記第2の実施の形態では、図26に示すように、第1の基板62の厚肉部58Cと、第2の基板63の厚肉部59Cとを位置合わせし接着剤64により接続する例を示した。しかし、本変形例では、第1の基板80と第2の基板81との位置合わせ時に、第1の基板80及び第2の基板81を所定の位置に案内するための手段を備える点が異なる。
FIG. 29 is a diagram showing an alignment process of a substrate constituting the touch panel of the sixth modified example.
In the second embodiment, as shown in FIG. 26, the thick portion 58C of the first substrate 62 and the thick portion 59C of the second substrate 63 are aligned and connected by the adhesive 64. showed that. However, the present modification is different in that it includes means for guiding the first substrate 80 and the second substrate 81 to predetermined positions when the first substrate 80 and the second substrate 81 are aligned. .

具体的には、図29に示すように、第1の基板80は、その外周縁部に厚肉部80Cを備え、第2の基板81は、その外周縁部に厚肉部81Cを備える。第1の基板80の厚肉部80Cは、位置合わせ時に厚肉部81Cに対面する面に位置合わせ用凸状部83を備える。位置合わせ用凸状部83は、厚肉部81Cに向けて突出して形成されている。第2の基板81の厚肉部81Cには、位置合わせ時に、位置合わせ用凸状部83が嵌る位置合わせ用凹状部84が形成されている。   Specifically, as shown in FIG. 29, the first substrate 80 includes a thick portion 80C at the outer peripheral edge portion, and the second substrate 81 includes a thick portion 81C at the outer peripheral edge portion. The thick portion 80C of the first substrate 80 includes an alignment convex portion 83 on the surface facing the thick portion 81C during alignment. The alignment convex portion 83 is formed to project toward the thick portion 81C. The thick portion 81C of the second substrate 81 is formed with an alignment concave portion 84 into which the alignment convex portion 83 is fitted during alignment.

第1の基板80の厚肉部80Cの位置合わせ用凸状部83は、射出成形により、厚肉部80C等と同時に精度よく形成される。また、第2の基板81の厚肉部81Cの位置合わせ用凹状部84は、射出成形により、厚肉部81C等と同時に精度よく形成される。   The alignment convex portion 83 of the thick portion 80C of the first substrate 80 is accurately formed simultaneously with the thick portion 80C by injection molding. Further, the concave portion 84 for alignment of the thick portion 81C of the second substrate 81 is formed with high precision simultaneously with the thick portion 81C and the like by injection molding.

このように本変形例によれば、第1の基板80と、第2の基板81とを位置合わせするときに、第1の基板80の位置合わせ用凸状部83を、第2の基板81の位置合わせ用凹状部84内に嵌めて位置合わせし、接合することができる。   As described above, according to the present modification, when the first substrate 80 and the second substrate 81 are aligned, the alignment convex portion 83 of the first substrate 80 is replaced with the second substrate 81. Can be fitted and aligned in the concave portion 84 for alignment.

また、射出成形により、厚肉部80C等と同時に位置合わせ用凸状部83を形成し、同様に射出成形により、厚肉部81C等と同時に位置合わせ用凹状部84を形成することができる。従って、第1の基板80の射出成形工程時と同時に位置合わせ用凸状部83を形成したり、第2の基板81の射出成形工程と同時に位置合わせ用凹状部84を形成したりすることができる。   Further, it is possible to form the alignment convex portion 83 simultaneously with the thick portion 80C and the like by injection molding, and similarly form the alignment concave portion 84 simultaneously with the thick portion 81C and the like by injection molding. Therefore, the alignment convex part 83 may be formed simultaneously with the injection molding process of the first substrate 80, or the alignment concave part 84 may be formed simultaneously with the injection molding process of the second substrate 81. it can.

なお、本変形例では、第1の基板80に位置合わせ用凸状部83が1個形成され、第2の基板81に位置合わせ用凹状部84が1個形成されている例を示した。しかし、位置合わせ時に互いに嵌り合う形状であれば、位置合わせ用凸状部83や位置合わせ用凹状部84の形状や形成位置や個数はこれに限定されない。また、第1の基板80と、第2の基板81とを位置合わせした後に、第1の基板80と、第2の基板81とを例えば超音波溶着や熱圧着により接合することも可能である。   In this modification, an example in which one alignment convex portion 83 is formed on the first substrate 80 and one alignment concave portion 84 is formed on the second substrate 81 is shown. However, the shape, the formation position, and the number of the alignment convex portion 83 and the alignment concave portion 84 are not limited to this as long as the shapes fit with each other at the time of alignment. In addition, after the first substrate 80 and the second substrate 81 are aligned, the first substrate 80 and the second substrate 81 can be joined by, for example, ultrasonic welding or thermocompression bonding. .

図30は第7の変形例のタッチパネルの構成を示す断面図である。
上記第2の実施の形態では、図26に示すように、外周縁部に矩形枠状の厚肉部58Cを備える第1の基板62と、外周縁部に矩形枠状の厚肉部59Cを備える第2の基板63とを接着剤64を介して接合する例を示した。しかし、本変形例では、第1の基板62及び第2の基板63のうち一方の透明基板に、外周縁部に厚肉部が形成されていない平板状の透明基板又は透明フィルムが用いられる点が異なる。本変形例では、例えば図30に示すように、平板状の基板(又はフィルム)62’と、第2に基板63とが図示しない接着剤により接合される。つまり、基板(又はフィルム)62’の外周縁部と、第2の基板63の厚肉部59Cとが図示しない接着剤等により接合される。
FIG. 30 is a cross-sectional view showing the configuration of the touch panel of the seventh modified example.
In the second embodiment, as shown in FIG. 26, the first substrate 62 having a rectangular frame-shaped thick portion 58C at the outer peripheral edge and the rectangular frame-shaped thick portion 59C at the outer peripheral edge. The example which joined the 2nd board | substrate 63 provided with the adhesive agent 64 was shown. However, in this modification, a flat transparent substrate or transparent film in which a thick portion is not formed on the outer peripheral edge is used for one of the first substrate 62 and the second substrate 63. Is different. In this modification, for example, as shown in FIG. 30, a flat substrate (or film) 62 ′ and secondly the substrate 63 are joined by an adhesive (not shown). That is, the outer peripheral edge portion of the substrate (or film) 62 ′ and the thick portion 59 </ b> C of the second substrate 63 are joined by an adhesive or the like (not shown).

このように本変形例では、上記第2の実施形態と同様に、射出成形により形成された第2の基板63の厚肉部59Cの厚さを精度よく製造することができる。従って、第2の実施の形態とは異なる厚さのタッチパネルを精度よく製造することができる。   As described above, in the present modification, the thickness of the thick portion 59C of the second substrate 63 formed by injection molding can be accurately manufactured, as in the second embodiment. Therefore, a touch panel having a thickness different from that of the second embodiment can be manufactured with high accuracy.

H 額縁領域
1、60 電子機器
2、61 タッチパネル
10 基板
13、58D 透明基板
13A、58A、59A 一面
13B 他面
15、19 透明電極
16、20、66、69 信号配線
22、22’、22B、23、71 溝
25、25A 射出成形金型
35A…下地膜
41 凸状部
58 第1の透明基板
58C、59C、80C、81C 厚肉部
59 第2の透明基材
62、80 第1の基板
63、81 第2の基板
83 位置合わせ用凸状部
84 位置合わせ用凹状部
F1〜F4 形成面
H Frame area 1, 60 Electronic device 2, 61 Touch panel 10 Substrate 13, 58D Transparent substrate 13A, 58A, 59A One side 13B Other side 15, 19 Transparent electrode 16, 20, 66, 69 Signal wiring 22, 22 ′, 22B, 23 , 71 Grooves 25, 25A Injection mold 35A ... Base film 41 Convex part 58 First transparent substrate 58C, 59C, 80C, 81C Thick part 59 Second transparent base material 62, 80 First substrate 63, 81 Second substrate 83 Convex part for alignment 84 Concave part for alignment F1 to F4 Forming surface

Claims (12)

射出成形により形成され、第1の面に第1の溝を有する第1の透明基板と、
前記第1の溝に設けられた第1の配線と、
前記第1の透明基板の前記第1の面に設けられ、前記第1の配線と接続された第1の透明電極と
を具備するタッチパネル。
A first transparent substrate formed by injection molding and having a first groove on a first surface;
A first wiring provided in the first groove;
A touch panel comprising: a first transparent electrode provided on the first surface of the first transparent substrate and connected to the first wiring.
請求項1に記載のタッチパネルであって、
前記第1の透明基板は、前記第1の透明電極が設けられた第1の表示領域と、前記第1の表示領域の周りの第1の配線領域とを有し、
前記第1の溝は前記第1の配線領域に形成されている
タッチパネル。
The touch panel according to claim 1,
The first transparent substrate has a first display area provided with the first transparent electrode, and a first wiring area around the first display area,
The first groove is formed in the first wiring region.
請求項2に記載のタッチパネルであって、
前記第1の透明基板は、前記第1の面の反対側の第2の面に第2の溝を更に有し、
当該タッチパネルは、
前記第2の溝に設けられた前記第2の配線と、
前記第1の透明基板の前記第2の面に設けられ、前記第2の配線と接続された第2の透明電極と
を更に具備するタッチパネル。
The touch panel according to claim 2,
The first transparent substrate further includes a second groove on a second surface opposite to the first surface,
The touch panel
The second wiring provided in the second groove;
A touch panel further comprising: a second transparent electrode provided on the second surface of the first transparent substrate and connected to the second wiring.
請求項3に記載のタッチパネルであって、
前記第1の溝は、前記第1の面から突出する複数の第1の凸部により形成され、かつ前記第2の溝は、前記第2の面から突出する複数の第2の凸部により形成されている
タッチパネル。
The touch panel according to claim 3,
The first groove is formed by a plurality of first protrusions protruding from the first surface, and the second groove is formed by a plurality of second protrusions protruding from the second surface. Formed touch panel.
請求項2に記載のタッチパネルであって、
射出成形により形成され、第3の面に第3の溝を有する第2の透明基板とを更に具備し、
前記第2の透明基板は、前記第2の透明電極が設けられた第2の表示領域と、前記第2の表示領域の周りの第2の配線領域とを有し、
前記第1の透明基板及び前記第2の透明基板のうち少なくとも一方の前記配線領域の溝の形成面が前記表示領域の透明電極の形成面から突出され、
前記第1の透明基板と前記第2の透明基板とは、前記第1の透明電極と前記第2の透明電極とが隙間を挟んで対向するように前記第1の配線領域と前記第2の配線領域で結合されている
タッチパネル。
The touch panel according to claim 2,
A second transparent substrate formed by injection molding and having a third groove on the third surface;
The second transparent substrate has a second display area provided with the second transparent electrode, and a second wiring area around the second display area,
The groove forming surface of at least one of the wiring regions of the first transparent substrate and the second transparent substrate protrudes from the transparent electrode forming surface of the display region,
The first transparent substrate and the second transparent substrate are formed such that the first transparent electrode and the second transparent electrode face each other with a gap therebetween. Touch panel combined in the wiring area.
請求項5に記載のタッチパネルであって、
前記第1の溝は、前記第1の面から突出する複数の第1の凸部により形成され、かつ前記第3の溝は、前記第3の面から突出する複数の第3の凸部により形成されている
タッチパネル。
The touch panel according to claim 5,
The first groove is formed by a plurality of first protrusions protruding from the first surface, and the third groove is formed by a plurality of third protrusions protruding from the third surface. Formed touch panel.
第1の面に第1の溝を有する第1の透明基板を射出成形し、
前記第1の透明基板の第1の面の前記第1の溝とは異なる領域に第1の透明電極を形成し、
前記第1の溝に第1の配線を設けることで、前記第1の透明電極と前記第1の配線とを接続する
タッチパネルの製造方法。
Injection-molding a first transparent substrate having a first groove on a first surface;
Forming a first transparent electrode in a region different from the first groove on the first surface of the first transparent substrate;
A method for manufacturing a touch panel, wherein the first transparent electrode and the first wiring are connected by providing a first wiring in the first groove.
請求項7に記載のタッチパネルの製造方法であって、
前記射出成形時に、前記第1の透明基板の前記第1の透明電極が設けられた第1の表示領域の周りの第1の配線領域に前記第1の溝を形成する
タッチパネルの製造方法。
It is a manufacturing method of the touch panel according to claim 7,
A method for manufacturing a touch panel, wherein the first groove is formed in a first wiring region around a first display region provided with the first transparent electrode of the first transparent substrate during the injection molding.
請求項8に記載のタッチパネルの製造方法であって、
前記射出成形時に、前記第1の透明基板の前記第1の面とは反対側の第2の面に第2の溝を形成し、
前記第2の溝に前記第2の配線を設け、
前記第1の透明基板の前記第2の面に、前記第2の配線と接続するように第2の透明電極を設ける
タッチパネルの製造方法。
It is a manufacturing method of the touch panel according to claim 8,
During the injection molding, a second groove is formed on the second surface opposite to the first surface of the first transparent substrate,
Providing the second wiring in the second groove;
A method for manufacturing a touch panel, wherein a second transparent electrode is provided on the second surface of the first transparent substrate so as to be connected to the second wiring.
請求項9に記載のタッチパネルの製造方法であって、
前記射出成形時に、前記第1の面から突出する複数の第1の凸部を形成することにより前記第1の溝を形成し、かつ前記第2の面から突出する複数の第2の凸部を形成することにより前記第2の溝を形成する
タッチパネルの製造方法。
It is a manufacturing method of the touch panel according to claim 9,
At the time of the injection molding, the first grooves are formed by forming the plurality of first protrusions protruding from the first surface, and the plurality of second protrusions protruding from the second surface A method for manufacturing a touch panel, in which the second groove is formed by forming.
請求項8に記載のタッチパネルの製造方法であって、
射出成形により、第2の透明基板の第2の透明電極が設けられる第2の表示領域の周りの第2の配線領域の第3の溝の形成面を、前記第2の透明電極の形成面から突出するように形成し、
前記第1の透明電極と前記第2の透明電極とが隙間を挟んで対向するように前記第1の配線領域と前記第2の配線領域で前記第1の透明基板と前記第2の透明基板とを結合する
タッチパネルの製造方法。
It is a manufacturing method of the touch panel according to claim 8,
By forming the second transparent electrode on the second transparent electrode, the third groove forming surface of the second wiring region around the second display region on which the second transparent electrode of the second transparent substrate is provided is formed as the second transparent electrode forming surface. Formed to protrude from the
The first transparent substrate and the second transparent substrate in the first wiring region and the second wiring region such that the first transparent electrode and the second transparent electrode face each other with a gap therebetween. A method for manufacturing a touch panel.
請求項11に記載のタッチパネルの製造方法であって、
前記第1の透明基板の射出成形時に、前記第1の面から突出する複数の第1の凸部を形成することにより前記第1の溝を形成し、かつ前記第2の透明基板の射出成形時に、前記第3の面から突出する複数の第2の凸部を形成することにより前記第3の溝を形成する
タッチパネルの製造方法。
It is a manufacturing method of the touch panel according to claim 11,
At the time of injection molding of the first transparent substrate, the first groove is formed by forming a plurality of first protrusions protruding from the first surface, and the injection molding of the second transparent substrate. Sometimes, the third groove is formed by forming a plurality of second protrusions protruding from the third surface. A method of manufacturing a touch panel.
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