JP2009212010A - 軟x線発生装置及び該軟x線発生装置を用いた除電装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】密閉可能な筒状の真空ハウジング内に、ハウジングの内壁面の長手方向に沿ってX線放出物質により構成されたわん曲面を有する陽極を設け、基材表面に針状体を密集して形成させた電極材料からなる冷陰極を前記陽極と間隔を空けて平行に配置してなり、陽極から発生するX線を冷陰極側に放射することを特徴とする軟X線発生装置。
【選択図】図2
Description
従来の装置では、タングステンフィラメント等の比較的小径の熱陰極を用い、陰極から発生した熱電子が陽極電圧により加速され、ベリリウムのようなX線透過材料(窓)の表面に数μmの厚みで成膜されたタングステン等のX線発生材料からなる陽極に衝突することで、発生したX線が透過窓を透過して外部に放射される。
しかしながら、従来のX線管においては、点光源的な線源から放射されるX線の放射角度は90〜150度程度である。したがって、対象物に近づけると小面積しか除電することができないので、通常は対象物から1m程度離した位置にX線管を配置する。このため、X線強度の距離による低下や、照射面積内でのX線の強度分布が生じ、均一な除電を短時間で行うことができない。また、装置を小型化した場合には、自然冷却方式で使用する場合、通常9〜10kVの電圧で0.1〜0.2mA程度の小出力となり、大出力の装置とすることは困難である。
また、従来のX線除電装置では、帯電物体に対して線源から発生するX線を集中的に照射して効率良く除電することはできなかった。
また、本発明は、帯電物体に近接して前記軟X線発生装置を配置した、小型化可能で除電性能に優れた除電装置を提供することを目的とする。
すなわち、本発明はつぎの1〜15の構成を採用するものである。
1.密閉可能な筒状の真空ハウジング内に、ハウジングの内壁面の長手方向に沿ってX線放出物質により構成されたわん曲面を有する陽極を設け、基材表面に針状体を密集して形成させた電極材料からなる冷陰極を前記陽極と間隔を空けて平行に配置してなり、陽極から発生するX線を冷陰極側に放射することを特徴とする軟X線発生装置。
2.前記冷陰極と前記陽極の間にメッシュ状又は格子状のわん曲した引き出し電極を前記陽極と略平行に配置したことを特徴とする1に記載の軟X線発生装置。
3.前記ハウジングの冷陰極側に、X線透過性物質により構成された窓を設けたことを特徴とする1又は2に記載の軟X線発生装置。
4.前記陽極をX線反射層としたことを特徴とする1〜3のいずれかに記載の軟X線発生装置。
5.前記冷陰極を構成する電極材料が、導電性繊維の円周方向に放射状に針状体を形成したものであることを特徴とする1〜4のいずれかに記載の軟X線発生装置。
6.前記針状体が、先端部に導電性被膜を設けたものであることを特徴とする1〜5のいずれかに記載の軟X線発生装置。
7.前記針状体が、基部にその周囲を壁状に取り囲む炭素膜を有し、その中央部に炭素により構成された針状体を形成したものであることを特徴とする1〜6のいずれかに記載の軟X線発生装置。
8.前記陽極を板状体により構成したことを特徴とする1〜7のいずれかに記載の軟X線発生装置。
9.前記陽極を複数の棒状体又は管状体により構成したことを特徴とする1〜7のいずれかに記載の軟X線発生装置。
10.前記陽極を構成するそれぞれの棒状体又は管状体に印加する電圧を、他の棒状体又は管状体とは独立して制御可能としたことを特徴とする9に記載の軟X線発生装置。
11.前記陽極のわん曲面の焦点又はその近傍に前記冷陰極を配置して、軟X線発生装置から放射されるX線が平行に放射されるように構成したことを特徴とする1〜10のいずれかに記載の軟X線発生装置。
12.前記電極間に印加する電圧が0.5〜10keVであることを特徴とする1〜11のいずれかに記載の軟X線発生装置。
13.1〜12のいずれかに記載された軟X線発生装置と、前記軟X線発生装置に近接して配置した帯電物体を支持する支持手段を有することを特徴とする除電装置。
14.前記軟X線発生装置を、前記帯電物体の幅方向の全長にわたって配置したことを特徴とする13に記載の除電装置。
15.前記軟X線発生装置を、前記帯電物体を挟んで前記帯電物体の両側に配置したことを特徴とする13又は14に記載の除電装置。
また、この軟X線発生装置を用いた除電装置では、帯電物体に近接した位置にX線源を配置することが可能となるので、装置の小型化と低価格化が可能となる。さらに、発生したX線を帯電物体の幅方向全体にわたって効率良く集中させて照射することができ、かつ陽極電極を制御することで帯電物体との距離が変更されても必要なX線量を照射することができるので、除電性能を大幅に改善することが可能となる。
図1〜図3は、本発明のX線発生装置の1例を示す図である。図1は装置全体の構成を示す概念図、図2の(A)は装置の構成を示す模式図(斜視図)、図2の(B)は装置の縦断面模式図、そして図3は冷陰極を構成する電極材料の拡大模式図である。
このX線発生装置1は、ベリリウム等のX線透過材料からなる窓3を設けた密閉可能な円筒状の真空ハウジング2内に、導電性繊維の円周方向に放射状に針状体を密集して形成させた電極材料101により構成された冷陰極4をハウジングの中心に配置し、陽極5を間隔を空けて冷陰極4と平行に対向配置したものである。
この装置1は、高真空状態で稼動させるものであり(ハウジングの真空度は、1×10−2〜1×10−7Pa程度、特に1×10−3〜1×10−5Pa程度とすることが好ましい。)、ハウジング2及びステム12、13並びに排気管16は金属、ガラス等の密封可能な耐圧性材料によって構成するが、これらの部材を同質の材料により構成した場合には、水素ガス炎等を用いて溶接することにより各部材を容易に接合することができるで好ましい。また、ハウジング2の形状は、円筒形の他断面が楕円形や四角形の筒状体等、任意の形状とすることができる。
この電極材料101は、炭素繊維等の導電性繊維102の円周方向において、放射状に針状体103を成長させたものである。この電極材料101では、針状体103の先端部104における数密度が、根元部105における数密度に比較して大幅に減少したものとなる。したがって、この電極材料101を冷陰極4とし、これに対向する陽極5を設けた本発明のX線発生装置では、針状体103の先端部104に集中する電界が大幅に増加するので、低い陽極電圧により必要量の電子を引き出すことが可能となり、この電子により陽極5からX線を効率よく発生させることができる。
このような針状体としては、特許文献5に記載されたプラズマCVD法により形成される針状炭素膜、特に基部にその周囲を壁状に取り囲む炭素膜を有し、その中央部に炭素により構成された針状体を形成した針状体(以下、「カーボンナノエックス:CNX」と略記することがある)が挙げられる。(図4にCNXのSEM映像を示す。)
また、特許文献6に記載された大気開放型CVD法により形成される、酸化亜鉛をはじめとする金属酸化物の針状体を使用してもよい。
この導電性繊維の円周方向に針状体を成長させた電極材料は、小さな電界で大きな放射電流特性を示すことから、X線発生装置の冷陰極を構成する材料として好適に用いられる。針状体の先端部には、所望により金属酸化物膜又はアモルファス炭素系膜等から選択された導電性被膜(トップコート)を設けることによって、電界集中係数をさらに向上させることができる。トップコートを構成する好ましい材料としては、酸化マグネシウム、酸化イットリウム、アモルファス水素化窒化炭素、ダイヤモンド、カーボンナノチューブ等が挙げられる。
このような電極材料を使用することによって、本発明のX線発生装置では電極間に印加する電圧が0.5keV〜10keV、特に1keV〜4keVといった低電圧においても、効率良くX線を発生させることが可能となる。針状体を形成する基材としては、導電性繊維に代えて幅の狭い長尺の板状体を使用するようにしてもよい。
この装置11では、陽極5’を断面が円形の多数の棒状体9を長手方向に並べて、陽極5’の断面がわん曲面となるように接合することによって構成したものである。また、陽極5’を構成する各棒状体を両外側から順次1本ずつ導線7で1対にして、それぞれ可変直流高電圧電源8’に接続することによって、各対となる棒状体に印加する電圧を他の棒状体から独立して制御することができるようにしたものである。陽極5’を構成する各棒状体は、ハウジング2の両側に設けたボタン型ステムのフィールドスルー端子に溶接することによって固定している。この装置11の他の構成は、図1〜図3のX線発生装置1と同様である。このX線発生装置11では、各棒状体陽極9に印加する電圧により、冷陰極表面の電界を精密に制御できる。冷陰極から制御されて放射される電子の量とその加速速度が変更可能となるために、例えば除電装置のX線源に使用した場合に、照射距離、対象物質の形状、及び不均一帯電等に関係なく、効率的に除電を行うことができる。
この例では、X線発生装置の陽極5’を、断面が円形の多数の棒状体9を長手方向に並べて接合することによって構成したが、棒状体に代えて中空の管状体を接合することによって、陽極5’を構成するようにしてもよい。
この装置21は、図1のX線発生装置1において、冷陰極4と陽極5の間に、例えばステンレス鋼等の金属材料により構成されたメッシュ状或いは格子状の引出し電極(ゲート電極)6を設けると共に、冷陰極4と引出し電極6を導線7により電極間に電圧を印加する高電圧電源10に接続したものである。装置21の他の構成は、図1の装置1と同様である。この装置21では、冷陰極4のウィスカー先端から放出された電子は、引出し電極6により陽極電圧とは独立して非常に低電圧で必要な電子量を引き出すことができ、この引き出された電子を陽極電圧によりターゲット(陽極)に衝突させてX線エネルギーを制御することができる。引き出し電極6の形状や寸法は任意であるが、陽極5の形状と同様にわん曲させるとともに、陽極の寸法に見合うものとすることが好ましい。
また、図6に示す配線において、引き出し電極6を接地し、陽極5と引き出し電極6間に正極電源8を、陰極4と引き出し電極6間に負極電源10を結線してもよい。
この装置201では、図5の装置21において、陽極5’を断面が円形の棒状体a〜j及びa’〜j’を楕円の片側の円周上に配置することによって構成し、この楕円の長軸と短軸の交点に冷陰極4を配置したものである。また、断面が円弧状の真空ハウジング2には、ベリリウム等のX線透過材料からなる窓3が設けられている。
この例では、上記の構成を採用することによって、対となる電極毎に独立して印加する電圧を制御可能としてX線の照射量を均一にするとともに、窓3からX線が略平行に放射されるようにしたものである。この装置201の他の構成は、図5の装置21と同様である。
この除電装置31は、液晶基板等の帯電物体32を支持し搬送するベルトコンベヤーからなる支持手段33、及び該支持手段33に近接して配置した本発明のX線発生装置1を具備するものである。X線発生装置1は、帯電物体32を支持するベルトコンベヤーの幅方向の全長にわたる長さのものとし、発生するX線を帯電物体32全体に均等に照射することができるように構成している。ベルトコンベヤー33は、複数のロール34によって支持され、基板32を矢印方向に搬送する。除電装置31の要部を構成するこれらの部材は、X線の漏洩を防止するために、アルミニウムのような金属薄板からなる遮蔽カバー(図示せず)により覆うことが好ましい。また、ベルトコンベヤー33に代えてチェインコンベヤー等他の搬送手段を使用することもできる。
この除電装置41では、1つ或いは複数の点線源に近いX線発生装置1’をX線源として使用することから、帯電物体32全体にX線を照射するためには、X線発生装置1’は帯電物体32から少なくとも60cm以上離れた位置に設置する必要がある。
また、図10の点線で示したように、X線は線源から広く拡散するように放射されるために、帯電物体に対してX線を集中的に照射することはできない。除電装置の除電性能は、X線源と帯電物体との距離の3乗に反比例して低下することから、この除電装置41の除電性能は充分なものとは言えなかった。
この除電装置51は、図9の除電装置31において、ベルトコンベヤー33に代えて多数の細長い剛性棒状体の両端をチェインで連結したチェインコンベヤー53を使用している。そして、2つのX線発生装置1、1を帯電物体32を挟むように帯電物体32を支持するチェインコンベヤー53の両側に配置している。装置51の他の構成は、図9の除電装置31と同様である。
この装置51では、図11の点線で示したように、帯電物体32の表裏両側からX線を照射することができるので、帯電物体32の除電効率を一段と向上させることができる。
(製造例1:冷陰極構成材料(エミッタ)の作製)
基材となる直径1mmで長さ68mmのSUS304製線材を、プラズマCVD装置成膜室内の陽極電極上にセットし成膜室内を真空排気した。メタン(CH4)/H2ガスの混合比1/12で、成膜室内にメタンとH2を流し、室内圧力を80Torrとなるように制御した。次に、陽極電極と陰極電極間に5kwの電力を投入し、メタン/H2による混合プラズマを生成させた。プラズマ中で、約1000℃に加熱されたSUS304線材表面上に効率よくメタンが分解されたカーボンプリカーサが堆積し、成膜時間30分でナノカーボン薄膜(CNX)が成膜された。電力投入を停止後装置内を冷却し、N2で成膜室内をパージした後に、CNXが成膜されたSUS線材を取り出す。CNXが成膜されたSUS304線材からなる基材を以降エミッタと呼ぶ。
エミッタの電気特性(電流−電圧特性)を1×10-4Paの真空度で測定したところ、エミッタ表面上に2.5V/μmの電界を印加すると、10A/cm2の電流が得られた。また走査型電子顕微鏡(SEM)でエミッタを観察した結果を図4の(A)及び(B)(部分拡大図)に示す。これらの図に見られるように、エミッタには下部がピラミット型で頂上部にスピンドル状の長い太針が形成されており、その密度は1×107本/cm2であった。全体の長さは数10μmである。
図1〜図3のX線発生装置1において、上記製造例1で得られた径1mm、長さ68mmのCNXエミッタ陰極4と、板状体をわん曲加工した内径13mm、板厚0.5mm、長さ70mmのタングステン製陽極5を、ベリリウムにより構成されたX線取り出し窓3があらかじめ溶接されたガラス製真空ハウジング2内に、エミッタ陰極4が中心となり、陽極5がハウジング2と同軸円筒状(半円部のみ)となるように配置した。
エミッタ陰極4と陽極5は、ハウジングの両側のガラスステム12、13に溶接加工した。この両側ステム12、13を真空ハウジング2に挿入し、水素炎等の加熱手段を用いて溶接することにより、X線発生装置1を作製した。組立を終了した装置1を排気管16を介して超高真空排気装置(図示せず)に接続し、装置1を300℃程度に加熱し、1×10−5Pa程度の真空度で約1夜真空排気したのち、冷却後排気管16を水素炎で封止切断した。真空度を保持するために、ゲッターを入れておくことが好ましい。
上記のように、非常に低い電圧で高出力の軟X線が発生するのを確認した。
製造例1で得られた径1mm長さ68mmのCNXエミッタ陰極と、径1mmで長さ80mmのタングステン製棒状体20本を用いて、図7及び8のX線発生装置201を作製した。図7に示すように楕円の長軸と短軸の交点(中心)にエミッタ陰極4をおき、楕円の半円周上に円周と短軸との交点から左右対称に、陽極5’を構成する棒状体a,b,c…,j,a’,b’,c’…,j’をピッチ1mmで各10本配置した。
各陽極棒状体をハウジング2の両側のボタン型ガラスステムのフィードスルー端子に溶接して固定し、エミッタ陰極4も同様に固定した。次に、ベリリウムにより構成された窓3をあらかじめ溶接(Be/ユバール/ユバールガラス)したガラス製の真空ハウジング2に挿入した後、ハウジング2と左右ステムを溶接し、X線発生装置201を組み立てた。次に、装置を300℃のベーク温度で加熱しながら1×10−5Pa以下の真空度で1夜排気し、冷却後排気管を水素炎等で溶解封止してX線発生装置を完成させた。組立完成したX線発生装置の陽極側電極(10本、左右対称のため)を一括して接続し、直流電源の+極につなぎ、また陰極電極4を−極につないだ。
その結果、2.2kvで1μSu/hのX線の発生があり、3.0kvで10μSu/hと非常に大きな出力が得られた。また、図8の端子接続図において、対電極(a,a’等)毎に電源と接続することにより、これらに印加する電圧を独立して制御することが可能となり、外周部においてX線発生量が低下することを防止することができた。この方法により、X線巾20mmで均一な10μSu/h以上のX線発生を確認した。
2 真空ハウジング
3 窓
4 冷陰極
5 陽極
6 引出し電極
7 導線
8、8’、10 電源
12、13 ステム
14,15 端子
16 排気管
31,41,51、 除電装置
32 帯電物体
33 ベルトコンベヤー
34 ロール
53 チェーンコンベヤー
101 電極材料
102 導電性繊維
103 針状体
104 先端部
105 根元部
Claims (15)
- 密閉可能な筒状の真空ハウジング内に、ハウジングの内壁面の長手方向に沿ってX線放出物質により構成されたわん曲面を有する陽極を設け、基材表面に針状体を密集して形成させた電極材料からなる冷陰極を前記陽極と間隔を空けて平行に配置してなり、陽極から発生するX線を冷陰極側に放射することを特徴とする軟X線発生装置。
- 前記冷陰極と前記陽極の間にメッシュ状又は格子状のわん曲した引き出し電極を前記陽極と略平行に配置したことを特徴とする請求項1に記載の軟X線発生装置。
- 前記ハウジングの冷陰極側に、X線透過性物質により構成された窓を設けたことを特徴とする請求項1又は2に記載の軟X線発生装置。
- 前記陽極をX線反射層としたことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の軟X線発生装置。
- 前記冷陰極を構成する電極材料が、導電性繊維の円周方向に放射状に針状体を形成したものであることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の軟X線発生装置。
- 前記針状体が、先端部に導電性被膜を設けたものであることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の軟X線発生装置。
- 前記針状体が、基部にその周囲を壁状に取り囲む炭素膜を有し、その中央部に炭素により構成された針状体を形成したものであることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の軟X線発生装置。
- 前記陽極を板状体により構成したことを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の軟X線発生装置。
- 前記陽極を複数の棒状体又は管状体により構成したことを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の軟X線発生装置。
- 前記陽極を構成するそれぞれの棒状体又は管状体に印加する電圧を、他の棒状体又は管状体とは独立して制御可能としたことを特徴とする請求項9に記載の軟X線発生装置。
- 前記陽極のわん曲面の焦点又はその近傍に前記冷陰極を配置して、軟X線発生装置から放射されるX線が平行に放射されるように構成したことを特徴とする請求項1〜10のいずれかに記載の軟X線発生装置。
- 前記電極間に印加する電圧が0.5〜10keVであることを特徴とする請求項1〜11のいずれかに記載の軟X線発生装置。
- 請求項1〜12のいずれかに記載された軟X線発生装置と、前記軟X線発生装置に近接して配置した帯電物体を支持する支持手段を有することを特徴とする除電装置。
- 前記軟X線発生装置を、前記帯電物体の幅方向の全長にわたって配置したことを特徴とする請求項13に記載の除電装置。
- 前記軟X線発生装置を、前記帯電物体を挟んで前記帯電物体の両側に配置したことを特徴とする請求項13又は14に記載の除電装置。
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2533266A1 (en) * | 2010-02-04 | 2012-12-12 | Energy Resources International Co. Ltd | X-ray electron beam generation device and cathode thereof |
JP2014075190A (ja) * | 2012-10-02 | 2014-04-24 | Futaba Corp | X線発生装置及び除電装置 |
JP2014075189A (ja) * | 2012-10-02 | 2014-04-24 | Futaba Corp | X線管 |
KR101537520B1 (ko) * | 2014-02-28 | 2015-07-17 | (주)선재하이테크 | 다방향 제전 기능을 갖는 x선 튜브관 |
EP2958127A1 (fr) * | 2014-06-19 | 2015-12-23 | Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives | Anode structurée en multiple sites de génération de photons x, tube de rayons x et utilisation pour imagerie de source codée |
EP3686913A4 (en) * | 2017-09-18 | 2021-10-27 | Nuctech Company Limited | ANODE TARGET, LIGHT RADIATION SOURCE, COMPUTED COMPUTER AND IMAGING PROCESS |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11404235B2 (en) * | 2020-02-05 | 2022-08-02 | John Thomas Canazon | X-ray tube with distributed filaments |
US20220384137A1 (en) * | 2020-02-05 | 2022-12-01 | John Thomas Canazon | X-Ray Tube with Distributed Filaments |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58176355U (ja) * | 1982-05-21 | 1983-11-25 | 日本電子株式会社 | 走査電子顕微鏡等の対物レンズ |
JPH0288607U (ja) * | 1988-12-28 | 1990-07-13 | ||
JPH076859A (ja) * | 1993-06-18 | 1995-01-10 | Hamamatsu Photonics Kk | 静電気除電装置および静電気除電方法 |
JP2003131000A (ja) * | 2001-10-26 | 2003-05-08 | Japan Science & Technology Corp | 投影型x線顕微鏡 |
JP2007070140A (ja) * | 2005-09-05 | 2007-03-22 | Dialight Japan Co Ltd | 炭素膜および電界放射型の電子放出源 |
WO2007119873A1 (ja) * | 2006-04-12 | 2007-10-25 | Hitachi High-Technologies Corporation | 走査型電子顕微鏡 |
JP2007305565A (ja) * | 2006-04-11 | 2007-11-22 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | 軟x線発生装置および除電装置 |
JP2007538359A (ja) * | 2004-05-19 | 2007-12-27 | コメット ホールディング アーゲー | 高線量x線管 |
-
2008
- 2008-03-05 JP JP2008055468A patent/JP5288839B2/ja active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58176355U (ja) * | 1982-05-21 | 1983-11-25 | 日本電子株式会社 | 走査電子顕微鏡等の対物レンズ |
JPH0288607U (ja) * | 1988-12-28 | 1990-07-13 | ||
JPH076859A (ja) * | 1993-06-18 | 1995-01-10 | Hamamatsu Photonics Kk | 静電気除電装置および静電気除電方法 |
JP2003131000A (ja) * | 2001-10-26 | 2003-05-08 | Japan Science & Technology Corp | 投影型x線顕微鏡 |
JP2007538359A (ja) * | 2004-05-19 | 2007-12-27 | コメット ホールディング アーゲー | 高線量x線管 |
JP2007070140A (ja) * | 2005-09-05 | 2007-03-22 | Dialight Japan Co Ltd | 炭素膜および電界放射型の電子放出源 |
JP2007305565A (ja) * | 2006-04-11 | 2007-11-22 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | 軟x線発生装置および除電装置 |
WO2007119873A1 (ja) * | 2006-04-12 | 2007-10-25 | Hitachi High-Technologies Corporation | 走査型電子顕微鏡 |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2533266A1 (en) * | 2010-02-04 | 2012-12-12 | Energy Resources International Co. Ltd | X-ray electron beam generation device and cathode thereof |
JP2013519195A (ja) * | 2010-02-04 | 2013-05-23 | 能▲資▼国▲際▼股▲ふん▼有限公司 | X線電子ビーム発生器及びその陰極 |
EP2533266A4 (en) * | 2010-02-04 | 2014-01-01 | Energy Resources Internat Co Ltd | X-RAY ELECTRON BEAM GENERATION DEVICE AND CATHODE THEREFOR |
JP2014075190A (ja) * | 2012-10-02 | 2014-04-24 | Futaba Corp | X線発生装置及び除電装置 |
JP2014075189A (ja) * | 2012-10-02 | 2014-04-24 | Futaba Corp | X線管 |
KR101537520B1 (ko) * | 2014-02-28 | 2015-07-17 | (주)선재하이테크 | 다방향 제전 기능을 갖는 x선 튜브관 |
EP2958127A1 (fr) * | 2014-06-19 | 2015-12-23 | Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives | Anode structurée en multiple sites de génération de photons x, tube de rayons x et utilisation pour imagerie de source codée |
FR3022683A1 (fr) * | 2014-06-19 | 2015-12-25 | Commissariat Energie Atomique | Anode structuree en multiples sites de generation de photons x, tube de rayons x et utilisation pour imagerie de source codee |
EP3686913A4 (en) * | 2017-09-18 | 2021-10-27 | Nuctech Company Limited | ANODE TARGET, LIGHT RADIATION SOURCE, COMPUTED COMPUTER AND IMAGING PROCESS |
US11315750B2 (en) | 2017-09-18 | 2022-04-26 | Nuctech Company Limited | Anode target, ray light source, computed tomography scanning device, and imaging method |
US11456146B2 (en) | 2017-09-18 | 2022-09-27 | Nuctech Company Limited | Anode target, ray light source, computed tomography device, and imaging method |
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