JP2009143983A - 光酸発生剤及びフォトリソグラフィ用樹脂組成物 - Google Patents
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- Materials For Photolithography (AREA)
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Abstract
Description
T. Asakura, H. Yamato, M. Ohwa, J. Photopolym. Sci. Technol., 13, 223 (2000). H. Okamura, Y. Watanabe, M. Tsunooka, M. Shirai, T. Fujiki, S. Kawasaki, M. Yamada, J. Photopolym. Sci. Technol., 15, 145 (2002). H. Okamura, K. Sakai, M. Tsunooka, M. Shirai, J. Photopolym. Sci. Technol., 16, 87 (2003). C. Iwashima, G. Imai, H. Okamura, M. Tsunooka, M. Shirai, J. Photopolym. Sci. Technol., 16, 91 (2003). H. Okamura, R. Matsumori, M. Shirai, J. Photopolym. Sci. Technol., 17,131, (2004).
式(I)及び式(II)
図1、図2に示す合成経路に従って、複数のイオン型酸光発生剤を合成し、その物性等について評価した。以下にその詳細について説明する。なお、図1、図2と以下の説明との関係を明確にするため、同一の化合物には同一の番号を付与した。
tert-ブチルベンゼン(以下、化合物1と略記する。)、4,5-ジクロロフタル酸イミド(以下、化合物3と略記する。)はアルドリッチより購入したものをそのまま使用した。二塩化二硫黄、アニソール、五酸化二リン、メタンスルホン酸は和光純薬より購入したものをそのまま使用した。トリフルオロメタンスルホン酸カリウム、パーフルオロ-1-ブタンスルホン酸カリウム、ヘキサフルオロリン酸カリウムは東京化成工業より購入したものをそのまま使用した。亜鉛はキシダ化学より購入したものをそのまま使用した。NITfはミドリ化学から購入したものをそのまま使用した。ホルムアミドはナカライテスクより購入したものをそのまま使用した。N,N'-ジメチルホルムアミド(DMF)、トルエン、アセトニトリル、シクロヘキサノンはCaH2により蒸留したものを使用した。tert-THITfは発明者らが既に開発している方法に沿って合成したものを使用した。
1H NMRスペクトルはFT-NMRスペクトロメーター(JEOL、GX-270)により測定した。IRスペクトルはFT-IRスペクトロメーター(JASCO、FT/IR-410)により測定した。質量分析は、質量分析装置(島津製作所製 GCMS QP2010plus)によって行った。UV-VisスペクトルはUV-Visスペクトロメーター(島津製作所、UV2400PC)により測定した。分解点(Td)は熱重量分析器(島津製作所、TGA-50)により測定した。
(i)4-tert-ブチルベンゼン-1,2-ジチオールの合成
特開平07−173130号公報に従って合成した。化合物1(91.0g,679mmol)、ヨウ素(107g,423mmol)、二塩化二硫黄(84.9ml)、クロロホルム(257ml)を四つ口フラスコに入れ、42℃で環流しながら24時間反応させた。反応系を室温に戻し、亜鉛(164g,2.51mol)と35% 塩酸(780ml,1.06mol)を加えて60℃で還流しながら2時間反応させた。
窒素下、化合物2(0.500g,2.52mmol)、水酸化カリウム(0.480g,8.58mmol)、DMF(12.0ml)及びトルエン(5.00ml)の混合溶液をフラスコに入れ、ディーンスターク装置を組立てたのち、フラスコの内容物を130℃で18時間撹拌して反応させた。その際、反応系より生成する水をトルエンと共に随時排出した。反応系を60℃に冷却し、化合物3(1.00g,4.65mmol)を加え、90℃で18時間撹拌した。
化合物4(5.67g,15.9mmol)、酢酸(80ml)を四つ口フラスコに入れ、撹拌しながら1M硝酸(6.0ml)をゆっくりと滴下した。滴下が終了したのち、125℃で20分間還流させた。反応液を室温に戻し、氷水(400ml)に注ぎ入れた。析出した固体をイオン交換水で4回洗浄した。洗浄したものを真空乾燥させることにより、淡黄色の固体である7-tert-ブチルチアントレン-(5 or 10)-オキシド-2,3-ジカルボン酸イミド(以下、化合物5と略記する。)を得た(5.23g,収率88%)。なお、この化合物5は以下に示す分析結果から同定した。
(a)7-tert-ブチル-(5 or 10)-(4-メトキシフェニル)チアントレニウム-2,3-ジカルボン酸イミド トリフルオロメタンスルホン酸塩の合成
五酸化二リン(1.14g,4.02mmol)とメタンスルホン酸(14.5ml,164mmol)をナスフラスコに入れ、溶けるまで撹拌した。二口フラスコに化合物5(4.99g,14.0mmol)とアニソール(0.77ml,14.3mmol)とを入れ、撹拌して溶解した。パスツールピペットを使用して、五酸化二リンとメタンスルホン酸の溶液を氷浴で冷やした二口フラスコにゆっくりと滴下した。滴下が終了したのち、湯浴(30℃)で2時間反応させ、室温で一晩放置した。得られた液状の反応物を氷水にゆっくりと滴下し、そこにトリフルオロメタンスルホン酸カリウム(2.98g,15.8mmol)を加えてガラス棒で撹拌すると、パールイエローの固体が析出した。
五酸化二リン(1.04g,365mmol)とメタンスルホン酸(7.00ml,79.2mmol)をナスフラスコに入れ、溶けるまで撹拌した。二口フラスコに化合物5(2.50g,7.00mmol)とアニソール(0.77ml,14.3mmol)とを入れ、撹拌して溶解した。パスツールピペットを使用して、五酸化二リンとメタンスルホン酸の溶液を氷浴で冷やした二口フラスコにゆっくりと滴下した。滴下が終了したのち、湯浴(30℃)で2時間反応させ、室温で一晩反応させた。得られた液状の反応物を氷水にゆっくりと滴下し、そこにヘキサフルオロリン酸カリウム(1.32g,7.17mmol)を加えてガラス棒で撹拌すると、パールイエローの固体が析出した。
五酸化二リン(0.56g,196mmol)とメタンスルホン酸(9.00ml,101mmol)をナスフラスコ内に入れ、溶解するまで撹拌した。また、二口フラスコに化合物5(1.32g,3.70mmol)とアニソール(1.00ml,18.6mmol)を入れ、撹拌して溶解した。二口フラスコを氷浴により冷却しながら、ナスフラスコから五酸化二リンとメタンスルホン酸の溶液を、パスツールピペットを使用して、ゆっくりと二口フラスコに滴下した。滴下が終了したのち、湯浴(30℃)で2時間反応させ、液状の反応物を室温で一晩放置した。反応物を氷水にゆっくりと滴下して、そこにパーフルオロ-1-ブタンスルホン酸カリウム(2.06g,6.10mmol)を加えてガラス棒で撹拌すると、パールイエローの固体が析出した。
五酸化二リン(0.48g,170mmol)とメタンスルホン酸(2.80ml,31.6mmol)をナスフラスコに入れ、溶解するまで撹拌した。また、化合物5(1.00g,2.80mmol)とn-ブチルフェニルエーテル(0.841g,5.6mmol)を二口フラスコに入れ、撹拌して溶解した。二口フラスコを氷浴で冷却しながら、ナスフラスコ中の五酸化二リンとメタンスルホン酸の溶液を、パスツールピペットを使用して、ゆっくりと二口フラスコに滴下した。滴下が終了したのち、湯浴(30℃)で2時間反応させ、液状の反応物を室温で一晩放置した。反応物を氷水にゆっくりと滴下し、そこにトリフルオロメタンスルホン酸カリウム(0.60g,3.2mmol)を加えてガラス棒で撹拌すると、淡黄色の固体が析出した。
(i)ジクロロフタル酸イミドの合成
(a)4,5-ジクロロフタル酸イミドの合成
4,5-ジクロロフタル酸無水物(21.0g,96.8mmol)とホルムアミド(84.0g,1.86mmol)を四つ口フラスコに入れ、100℃で25時間熟成させた。反応液を冷水(5℃以下,525ml)にパージして減圧ろ過したのち、40℃で減圧乾燥し、白色個体である4,5-ジクロロフタル酸イミド(以下、化合物9aと略記する。)を得た(収量20.2g,収率96%)。なお、純度をHPLCと吸光光度計(UV:254nm)により測定したところ、99.5 Area%であった。
4,5-ジクロロフタル酸無水物(10.0g,46mmol)、酢酸(69.3g)、DMF(54.2g)を四つ口フラスコに入れて攪拌した。アニリン(4.29g,46mmol)を添加して、DMF(13.3g)により洗い込み、100℃で5時間熟成させた。反応液を減圧ろ過したのち、40℃で減圧乾燥し、白色固体であるN-フェニル-4,5-ジクロロフタル酸イミド(以下、化合物9bと略記する。)を得た(収量11.1g,収率83%)。なお、純度をHPLCと吸光光度計(UV:254nm)により測定したところ、100 Area%であった。
4,5-ジクロロフタル酸無水物(15.2g,70mmol)、酢酸(105.3g)、DMF(82.3g)を四つ口フラスコに入れて攪拌したのち、ベンジルアミン(7.43g,70mmol)を添加して、DMF(20.2g)により洗い込み、100℃で3時間熟成させた。反応液を減圧ろ過したのち、40℃で減圧乾燥して、白色固体であるN-ベンジル-4,5-ジクロロフタル酸イミド(以下、化合物9cと略記する。)を得た(収量17.9g,収率84%)。なお、純度をHPLCと吸光光度計(UV:254nm)により測定したところ、100 Area%であった。
(a)7-メチルチアントレン-2,3-ジカルボン酸イミドの合成
トルエン-3,4-ジチオール(以下、化合物8と略記する。12.5g,80mmol)、DMF(347.8g)、カリウム-t-ブトキシド(22.4g,200mmol)を四つ口フラスコに入れ、95℃で2時間加温してカリウム塩化した。反応液に化合物9a(16.4g,76mmol)を加え、65℃にて6時間熟成させた。反応液に水100mlとメタノール100mlとを加えて0℃以下まで冷却したのち、減圧ろ過し、40℃で減圧乾燥することによって、黄色固体である7-メチルチアントレン-2,3-ジカルボン酸イミド(以下、化合物10aと略記する。)を得た(収量18.8g,収率83%)。なお、純度をHPLCと吸光光度計(UV:254nm)により測定したところ、98.5 Area%であった。
化合物8(2.81g,18mmol)、DMF(73.9g)、カリウム-t-ブトキシド(5.05g,45mmol)を四つ口フラスコに入れ、95℃で2時間加温してカリウム塩化した。反応液に化合物9b(4.97g,17mmol)を加え、65℃で20時間熟成させた。反応液に水24mlとメタノール240mlとを加えて0℃以下まで冷却したのち、減圧ろ過し、40℃で減圧乾燥することによって、黄色固体であるN-フェニル-7-メチルチアントレン-2,3-ジカルボン酸イミド(以下、化合物10bと略記する。)を得た(収量5.48g,収率85%)。なお、純度をHPLCと吸光光度計(UV:254nm)により測定したところ、99.7 Area%であった。
化合物8(8.75g,56mmol)、DMF(233.0g)、カリウム-t-ブトキシド(15.7g,140mmol)を四つ口フラスコに入れ、95℃で2時間加温してカリウム塩化した。反応液に化合物9c(16.3g,53mmol)を加え、65℃で2時間熟成させた。反応液に水70mlとメタノール70mlとを加えて0℃以下まで冷却したのち、減圧ろ過し、40℃で減圧乾燥することによって、黄色固体であるN-ベンジル-7-メチルチアントレン-2,3-ジカルボン酸イミド(以下、化合物10cと略記する。)を得た(収量17.1g,収率82%)。なお、純度をHPLCと吸光光度計(UV:254nm)により測定したところ、96.8 Area%であった。
(a)7-メチルチアントレン-(5 or 10)-オキシド-2,3-ジカルボン酸イミドの合成
化合物10a(4.79g,16mmol)、酢酸(83.9g)を四つ口フラスコに入れて攪拌した。反応液に1M 硝酸(20ml)を添加し、100℃で11時間熟成させた。反応液を冷水(5℃以下,400ml)にパージして減圧ろ過したのち、40℃で減圧乾燥することによって、淡黄色固体である7-メチルチアントレン-(5 or 10)-オキシド-2,3-ジカルボン酸イミド(以下、化合物11aと略記する。)を得た(収量3.74g,収率74%)。なお、純度をHPLCと吸光光度計(UV:254nm)により測定したところ、95.7Area%であった。
化合物10b(4.51g,12mmol)、酢酸(62.9g)を四つ口フラスコに入れて攪拌した。反応液に1M 硝酸(9.2ml)を添加し、100℃で4時間熟成させた。反応液を冷水(5℃以下,300ml)にパージして減圧ろ過したのち、40℃で減圧乾燥し、淡黄色固体であるN-フェニル-7-メチルチアントレン-(5 or 10)-オキシド-2,3-ジカルボン酸イミド(以下、化合物11bと略記する。)を得た(収量3.46g,収率73%)。なお、純度をHPLCと吸光光度計(UV:254nm)により測定したところ、86.7 Area%であった。
化合物10c(5.06g,13mmol)、酢酸(68.2g)を四つ口フラスコに入れて攪拌した。反応液に1M 硝酸(7.8ml)を添加し、100℃で5時間熟成させた。反応液を冷水(5℃以下,330ml)にパージして減圧ろ過したのち、40℃で減圧乾燥し、淡黄色固体であるN-ベンジル-7-メチルチアントレン-(5 or 10)-オキシド-2,3-ジカルボン酸イミド(以下、化合物11cと略記する。)を得た(収量4.46g,収率85%)。なお、純度をHPLCと吸光光度計(UV:254nm)により測定したところ、97.4 Area%であった。
(a)7-メチル-(5 or 10)-(4-メトキシフェニル)チアントレニウム-2,3-ジカルボン酸イミド トリフルオロメタンスルホン酸塩の合成
メタンスルホン酸(7.60g)、アニソール(0.56g)、化合物11a(1.58g,5.00mmol)を四つ口フラスコに入れて攪拌した。反応液に五酸化二リン(0.2g)/メタンスルホン酸(7.60g)溶液をゆっくりと滴下し、30℃で22時間熟成させた。反応液14.4gを冷水(5℃以下,150ml)にパージして減圧ろ過したのち、ろ液にトリフルオロメタンスルホン酸カリウム(2.30g)を加えて攪拌してアニオン交換した。
メタンスルホン酸(6.09g)、アニソール(0.44g)、化合物12b(1.57g,4.0mmol)を四つ口フラスコに入れ攪拌した。反応液に五酸化二リン(0.16g)/メタンスルホン酸(6.09g)溶液をゆっくり滴下し、30℃で44時間熟成させた。反応液12.0gを水(180ml)にパージして減圧ろ過したのち、ろ液にトリフルオロメタンスルホン酸カリウム(2.26g)を加えたのち、攪拌してアニオン交換した。
メタンスルホン酸(8.99g)、アニソール(0.89g)、化合物11c(3.24g,8.0mmol)を四つ口フラスコに入れて攪拌した。反応液に五酸化二リン(0.3g)/メタンスルホン酸(8.99g)溶液をゆっくり滴下し、30℃で19時間熟成させた。反応液11.1gを冷水(5℃以下,225ml)にパージして減圧ろ過したのち、ろ液にトリフルオロメタンスルホン酸カリウム(0.85g)を加え、攪拌してアニオン交換した。
(i)UV-Visスペクトルの測定
合成した化合物6a及び化合物6bのアセトニトリル中でUV-Visスペクトルを測定した。その結果を図3に示す。図3のUV-Visスペクトルから、合成した2種類の光酸発生剤はi線(365nm)に吸収を有することが確認できた。なお、測定した化合物6aの濃度は1.55×10-5Mであり、化合物6bの濃度は1.52×10-5Mであった。
化合物6a、化合物6bの分解点(Td)を窒素雰囲気下、加熱速度10℃/minで熱重量測定法により測定した。その結果であるTGA曲線を図4に示す。また、測定した分解点(Td)を表1に記載した。なお、比較のため、tert-THITf及びNITfの分解点(Td)についても合わせて記載した。
一般的に光分解性化合物は光を吸収することによって分解し、UV-Visスペクトルの吸光度変化を起こす。そこで、化合物6a、化合物6bにアセトニトリル中で光(波長365nm)を照射して光分解させ、そのUV-Visスペクトルの変化を測定した。その結果を図5に示す。なお、測定した化合物6aの濃度は1.74×10-5Mであり、6bの濃度は1.55×10-5Mであった。
実施例1で合成した光酸発生剤を含むフォトリソグラフィ用樹脂組成物を調製し、これを光重合することによってフィルムを作製し、このフィルムの性質を評価した。なお、フォトリソグラフィ用樹脂組成物の樹脂成分には、ポリグリシジルメタクリレート(以下、PGMAと略記する。)を使用した。
グリシジルメタクリレート(以下、GMAと略記する。)は、東京化成から購入したものを蒸留して使用した。また、2,2'-アゾビスイソブチロニトリル(以下、AIBNと略記する。)は、ナカライテスクから購入したもの再結晶(溶媒:クロロホルム)して使用した。さらに、NITf、tert-THITfは、実施例1と同様の方法で入手、合成したものを使用した。
PGMAのMn及びMwは、ポンプ(JASCO,880-PU)、検出器(JASCO,RI-1530,870-UV)、デガッサー(JASCO,DG-980-53)、恒温槽(クロマトサイエンス,CS-600H)、カラム(TOSOH,GMHHR-N,GMHHR-H)で構成したSEC測定装置を使用して、GCP法により測定した。なお、溶離液にはTHFを使用し、その流速は0.8ml/minに設定した。また、分子量標準物質にはポリスチレン(東ソー)を使用した。
(i)ポリグリシジルメタクリレート(PGMA)の合成
まず、GMA(4.26g,66.4mmol)、AIBN(244mg,1.49mmol)、イソプロピルベンゼン(23.2ml)、DMF(21ml)の混合物をアルゴンでバブリングしてアルゴン置換したのち、60℃で2時間重合した。つぎに、反応液をメタノールに滴下して、生じた沈殿をろ別した。最後に、THF/メタノール系にて再沈精製を3回行った。その結果、白色粉末であるPGMAを得た(収量2.20g,収率26%)。なお、1H NMRよりモノマーが残留していないことを確認した。また、GPC法により求めた分子量は、ポリスチレンに換算してMn=34000,Mw=55800,Mw/Mn=1.64であった。
まず、PGMA(20.0mg)に対して各光酸発生剤を約1mol%(化合物6a:0.69mg,化合物6b0.69mg,tert-THITf:0.688mg,NITf:0.480mg)となるように添加し、これをシクロヘキサノン218mgに溶解させ、スピンコーターによりSi板上に塗布した。つぎに、残存溶媒除去のためプリベークしてフィルムを得た。
光酸発生剤の違いがフィルムの不溶化率に与える影響について調べた。具体的には、作製したフィルムに波長365nmの光を異なる照射光量で照射したのち、THF中に浸漬し、浸漬前後の膜厚比から不溶化率を求めた。なお、図7に、光照射により光酸発生剤から酸が発生し、この酸により、PGMA側鎖のエポキシ基が架橋して不溶化するメカニズムを示す。
光分解によってトリフルオロメタンスルホン酸を生成する光酸発生剤である化合物6a、tert-THITf、NITfを使用して、光酸発生剤の違いがフィルムの不溶化率に与える影響を調べた。その結果を図8に示す。なお、フィルムを作製する際のプリベーク温度は80℃、プリベーク時間は5分であり、作製したフィルムの厚さは0.3μmであった。また、THFへの浸漬時間は10分であった。
同じイオン型光酸発生剤である化合物6a、化合物6b、NITfを使用して、光酸発生剤の違いがフィルムの不溶化率に与える影響を調べた。その結果を図9に示す。なお、フィルムを作製する際のプリベーク温度は90℃、プリベーク時間は5分であり、作製したフィルムの厚さは0.4〜0.5μmであった。また、THFへの浸漬時間は5分であった。
Claims (6)
- 式(I)及び式(II)において、R1がメチル基又はブチル基である請求項1記載の光酸発生剤。
- 式(I)及び式(II)において、R2がt-ブチル基又はメチル基である請求項1又は請求項2に記載の光酸発生剤。
- 式(I)及び式(II)において、R3が水素、フェニル基、ベンジル基のうちの何れか一つである請求項1から請求項3の何れか一つの請求項に記載の光酸発生剤。
- 式(I)及び式(II)において、X-がCF3SO3 -、PF6 -、C4F9SO3 -のうちの何れか一つである請求項1から請求項4の何れか一つの請求項に記載の光酸発生剤。
- 請求項1から請求項5の何れか一つの請求項に記載の光酸発生剤を含むフォトリソグラフィ用樹脂組成物。
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Citations (1)
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Non-Patent Citations (1)
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---|
JPN7012003003; Journal of Photopolymer Science and Technology Vol.17 No.1, 2004, p.131-134 * |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012155115A (ja) * | 2011-01-26 | 2012-08-16 | Jsr Corp | ポジ型感放射線性組成物、層間絶縁膜及びその形成方法 |
JP2012155200A (ja) * | 2011-01-27 | 2012-08-16 | Jsr Corp | 感放射線性組成物、硬化膜及びその形成方法 |
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