JP2008054302A - 撮像装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 レンズ3から撮像素子5に至る光路20上に光学部材4を有する撮像装置1であって、光学部材4はレンズ3側から撥水性又は撥水撥油性を有する膜44、第一の反射防止膜43、赤外カットガラス41、ローパスフィルタ42及び第二の反射防止膜45又は赤外カット膜48をこの順に有する撮像装置1。
【選択図】 図1
Description
CF3(CF2)a(CH2)2SiRbXc ・・・(1)
(ただしRはアルキル基であり、Xはアルコキシ基又はハロゲン原子であり、aは0〜7の整数であり、bは0〜2の整数であり、cは1〜3の整数であって、b + c = 3である。)により表される化合物が挙げられる。式(1)により表される化合物の具体例として、CF3(CH2)2Si(OCH3)3、CF3(CH2)2SiCl3、CF3(CF2)5(CH2)2Si(OCH3)3、CF3(CF2)5(CH2)2SiCl3、CF3(CF2)7(CH2)2Si(OCH3)3、CF3(CF2)7(CH2)2SiCl3、CF3(CF2)7(CH2)3SiCH3(OCH3)2、CF3(CF2)7(CH2)2SiCH3Cl2等が挙げられる。有機ケイ素ポリマーの市販品の例としてはノベックEGC-1720(住友スリーエム株式会社製)やXC98-B2472(GE東芝シリコーン株式会社製)が挙げられる。
(a) 反射防止膜及び赤外カット膜の形成
水晶からなるローパスフィルタとIRガラスからなる赤外カットガラスとを熱硬化性樹脂を用いて貼りあわせた基板(京セラキンセキ株式会社製、CD-5000)の赤外カットガラス側の面に、フッ化マグネシウム層(厚さ67 nm)と、二酸化ケイ素層(厚さ17 nm)とを真空蒸着によってこの順に積層することにより、反射防止膜を形成した。またローパスフィルタ側の面には、五酸化タンタル層と二酸化ケイ素層とを交互に8層ずつ真空蒸着することにより、赤外カット膜を形成した。
工程(a) で得られた反射防止膜上に、フッ素系撥水剤(キャノンオプトロン株式会社製、「OF-110」)を厚さ0.01μmになるように真空蒸着によって成膜した。
(a) 反射防止膜の形成
実施例1で用いたのと同じ基板の両面に、基板から順にTa2O5層(厚さ16 nm)、MgF2層(厚さ32 nm)、Ta2O5層(厚さ55 nm)、MgF2層(厚さ15 nm)、Ta2O5層(厚さ45 nm)、MgF2層(厚さ76 nm)及びSiO2層(厚さ17 nm)を真空蒸着によって形成した。
工程(a) で得られた両反射防止膜上に、フッ素系表面処理剤(住友スリーエム株式会社製、「ノベックIGC-1720」)をディップコートし、撥水/撥油性膜(厚さ0.03μm、屈折率1.34)を成膜した。
γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン50 gを0.01 N塩酸で加水分解させたものにSb2O5ゾル[AMT130、日産化学工業(株)製]を50 g加え、さらにエタノールを10 g加えて、低表面抵抗コート液を調製した。水晶からなるローパスフィルタとIRガラスからなる赤外カットガラスとを熱硬化性樹脂を用いて貼りあわせた基板(京セラキンセキ株式会社製、CD-5000)を低表面抵抗コート液に浸漬し、基板の両面に低表面抵抗コート液を厚さ1μmに塗布し、140℃に1時間加熱し、低表面抵抗膜を形成した。
低表面抵抗コート液としてインジウム酸化錫(ITO)からなる透明導電性塗料を使用した以外実施例3と同様にして、光学部材を作製した。
水晶からなるローパスフィルタとIRガラスからなる赤外カットガラスとを熱硬化性樹脂を用いて貼りあわせた基板(京セラキンセキ株式会社製、CD-5000)の赤外カットガラス側の面に、フッ化マグネシウム層(厚さ67 nm)と、二酸化ケイ素層(厚さ17 nm)とを真空蒸着によってこの順に積層することにより、反射防止膜を形成した。この反射防止膜上にインジウム酸化錫(ITO)からなる低表面抵抗膜を真空蒸着により成膜した。この低表面抵抗膜上にフッ素系撥水剤(キャノンオプトロン株式会社製、「OF-110」)を厚さ0.01μmになるように真空蒸着した。またローパスフィルタ側の面に、五酸化タンタル層と二酸化ケイ素層とを交互に8層ずつ真空蒸着することにより、赤外カット膜を形成した。
実施例1で用いたのと同じ基板の両面にMgF2層(厚さ67 nm)を真空蒸着によって形成した。
赤外カットガラス側表面のゴミの付着し難さを次のようにして調べた。粒径5〜75μmのけい砂と、粒径15μmのポリアクリル樹脂製粒子の混合物(擬似ゴミ)を実施例1〜5で得た光学部材並びに比較例1の光学部材の赤外カットガラス側の面に均一に振りかけた後、圧電素子を使用し、光軸方向に加速度45000Gで振動を与えた。各光学部材の表面を目視で比較したところ、実施例1〜5で得た光学部材の表面には擬似ゴミが残留していなかったが、比較例1には残留していた。
実施例2の撮像装置と、ローパスフィルタと赤外カットガラスからなる光学部材をローパスフィルタがレンズ側で赤外カットガラスが撮像素子側になるように設置した撮像装置(比較例2)とを用意し、1万回ずつシャッターを切った。その後、レンズを外してそれぞれの光学部材を取り出し、メタノールを浸み込ませた綿棒でローパスフィルタ側の表面を30回擦った。その結果、実施例2の光学部材にはキズがつかなかったが、比較例2の光学部材のローパスフィルタには2本の線状のキズがついた。実施例2の光学部材は撥水/撥油性膜により異物が付着し難く、高い滑り性及び高い耐擦傷性を有するので、キズがつかなかったと考えられる。一方、比較例2の光学部材は撥水/撥油性膜を有さないので、シャッターを切る間に塵埃が比較的耐擦傷性が低い水晶からなるローパスフィルタに付着し、綿棒で擦ることでキズが生じたと推定される。
実施例3で作製した光学部材の低表面抵抗膜が形成された面の表面抵抗は8×1012Ω/□であった。また実施例4及び5で作製した光学部材の低表面抵抗膜が形成された面の表面抵抗1×105Ω/□であった。
2・・・カメラ本体
20・・・光路
3・・・レンズ群
3a,3b,3n・・・レンズ
4・・・光学部材
41・・・赤外カットガラス
42・・・ローパスフィルタ
43,45・・・第一及び第二の反射防止膜
44,47・・・撥水性又は撥水撥油性を有する膜(撥水/撥油性膜)
46・・・接着剤層
48・・・赤外カット膜
5・・・撮像素子
Claims (12)
- レンズから撮像素子に至る光路上に光学部材を有する撮像装置であって、前記光学部材は前記レンズ側から順に撥水性又は撥水撥油性を有する膜、反射防止膜、赤外カットガラス、及びローパスフィルタを有することを特徴とする撮像装置。
- 請求項1に記載の撮像装置において、前記光学部材が前記ローパスフィルタの撮像素子側の表面に別の反射防止膜を有することを特徴とする撮像装置。
- 請求項1又は2に記載の撮像装置において、前記光学部材がさらに前記撮像素子側の表面に撥水性又は撥水撥油性を有する膜を有することを特徴とする撮像装置。
- 請求項1〜3のいずれかに記載の撮像装置において、前記ローパスフィルタの前記撮像素子側の表面に赤外カット膜を有することを特徴とする撮像装置。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の撮像装置において、前記撥水性又は撥水撥油性を有する膜がフッ素を含有することを特徴とする撮像装置。
- 請求項1〜5のいずれかに記載の撮像装置において、前記撥水性又は撥水撥油性を有する膜の厚さが0.4〜100 nmであることを特徴とする撮像装置。
- 請求項1〜6のいずれかに記載の撮像装置において、前記撥水性又は撥水撥油性を有する膜に接する前記反射防止膜の最表層が二酸化ケイ素からなることを特徴とする撮像装置。
- 請求項1〜7のいずれかに記載の撮像装置において、前記撥水性又は撥水撥油性を有する膜と前記赤外カットガラスとの間に、導電性又は半導電性の金属酸化物からなる低表面抵抗膜が設けられていることを特徴とする撮像装置。
- 請求項8に記載の撮像装置において、前記光学部材のレンズ側の表面抵抗が1×104〜1×1013Ω/□であることを特徴とする撮像装置。
- 請求項1〜9のいずれかに記載の撮像装置において、前記撥水性又は撥水撥油性を有する膜と前記赤外カットガラスとの間に、導電性又は半導電性の金属酸化物からなる第一の低表面抵抗膜が設けられており、前記ローパスフィルタと前記撮像素子側の表面との間に、導電性又は半導電性の金属酸化物からなる第二の低表面抵抗膜が設けられていることを特徴とする撮像装置。
- 請求項10に記載の撮像装置において、前記光学部材の両面が1×104〜1×1013Ω/□の表面抵抗を有することを特徴とする撮像装置。
- 請求項8〜11のいずれかに記載の撮像装置において、前記金属酸化物が酸化アンチモン、インジウム酸化錫及びアンチモン酸化錫からなる群から選ばれた少なくとも一種であることを特徴とする撮像装置。
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