JP2007214364A - 有機エレクトロルミネッセンス素子 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子に関し、詳しくは、環状芳香族第3級アミン類を正孔注入及び/又は輸送剤として用いてなる効率と耐久性にすぐれる有機エレクトロルミネッセンス素子に関する。
従来、光を照射することによって導電性や電荷生成等を生じる所謂光・電子機能を有する有機電子材料のうち、殆どの低分子量有機化合物は、それ自体では、薄膜形成能をもたないので、薄膜を形成するためには、バインダー樹脂に分散させて(即ち、希釈した状態で)、基材上に塗布し、薄膜化することが必要である。従って、従来、低分子量有機化合物からなる有機電子材料は、マトリックスであるバインダー樹脂の影響を受けると共に、希釈されているので、その本来の特性を十分に発揮することができない。更に、従来の低分子量有機化合物からなる有機電子材料は、バインダーの助けを借りて、常温で比較的安定な膜を形成させることができても、ガラス転移温度が低いので、耐熱性に劣り、実用的なデバイスに用いることが困難である。そこで、近年、常温でアモルファス性を有し、それ自体で薄膜を形成することができるアモルファス電子材料の開発が進められている。
他方、種々の電子デバイスのなかでも、特に、有機エレクトロルミネッセンス素子は、低電圧駆動、高効率、高輝度を有し、また、自己発光型デバイスであることから、薄型化できるので、近年、バックライトや照明装置のほか、ディスプレイ装置として、その実用化が進められている(例えば、特許文献1及び2参照)。
この有機エレクトロルミネッセンス素子は、代表的には、透明基板、例えば、ガラス基板上にITO膜(酸化インジウム−酸化スズ膜)のような透明電極からなる陽極が積層されており、この陽極上に正孔注入層、正孔輸送層、発光層及び金属電極からなる陰極がこの順序にて積層されてなるものであり、上記陽極と陰極は外部の電源に接続されている。場合によっては、正孔注入層と正孔輸送層が単層に形成されることもあり、また、発光層と陰極との間に電子輸送層が積層されることもある。このほかにも、種々の有機エレクトロルミネッセンス素子の層構成が知られている(例えば、特許文献1参照)。
このような有機エレクトロルミネッセンス素子においては、上記正孔注入層は、陽極に密着していて、この陽極から正孔を正孔輸送層に注入し、正孔輸送層はこの正孔を発光層に輸送し、注入すると共に、電子をブロックし、他方、電子輸送層は、陰極に密着していて、この陰極から電子を発光層に輸送し、注入し、そこで、発光層において、陰極から注入された電子と陽極から発光層に注入された正孔とが再結合するときに発光が生じ、これが透明電極(陽極)と透明基板を通して外部に放射される。このように、電極間に発光層を挟んで、正孔注入層と(正孔輸送層と)電子輸送層を積層することによって、有機エレクトロルミネッセンス素子において、発光効率が向上することが知られている。
従来の有機エレクトロルミネッセンス素子においては、正孔注入層、正孔輸送層又は正孔注入輸送層に用いられる有機電子材料、即ち、正孔注入及び/又は輸送剤としては、4,4’−ビス(N−(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ)ビフェニル(TPD)や(例えば、特許文献2参照)、また、4,4’−ビス(N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ))ビフェニル(α−NPD)等の芳香族第3級アミン化合物が知られているが(例えば、特許文献3参照)、しかし、これらの芳香族第3級アミン化合物は、尚、耐熱性が十分ではないので、これによって薄膜状に形成された正孔注入及び/又は輸送層が素子の駆動時の発熱によって結晶化が促進され、かくして、素子の発光効率の低下するのみならず、遂には、素子の破壊に至ることとなり、十分な耐久性をもたない。
他方、導電性支持体上に正孔発生層と正孔輸送層を積層して発光体とした電子写真用感光体において、ある種の環状芳香族第3級アミン類を正孔発生層上に塗布して、上記正孔輸送層とすることが知られているが(特許文献4参照)、そのような環状芳香族第3級アミン類を有機エレクトロルミネッセンス素子に用いることは、これまで知られていない。
本発明は、従来の正孔注入及び/又は輸送剤における上述したような問題を解決するために、鋭意、研究した結果、ある種の環状芳香族第3級アミン類が常温以上の温度で、それ自体で、即ち、バインダー樹脂の助けなしに、安定なアモルファス膜を形成することができ、しかも、高いガラス転移温度、即ち、すぐれた耐熱性を有する正孔注入及び/又は輸送剤として機能することを見出し、かくして、このような環状芳香族第3級アミン類からなる正孔注入及び/又は輸送剤を含む正孔注入及び/又は輸送層を備えた効率と耐久性にすぐれる有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することを目的とする。
本発明によれば、一般式(I)
(式中、Y1 はそれぞれ独立に置換若しくは無置換のアリーレン基を示し、Y2 はそれぞれ独立に置換若しくは無置換のアリール基を示し、pは0又は1から3の整数を示す。)で表される環状芳香族第3級アミン類を正孔注入及び/又は輸送剤として含む正孔注入及び/又は輸送層を備えていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子が提供される。
本発明によれば、上記一般式(I)で表される環状芳香族第3級アミン類からなる正孔注入及び/又は輸送剤を用いて形成した正孔注入及び/又は輸送層を有機エレクトロルミネッセンス素子に有せしめることによって、寿命を著しく改善することができ、更に、好ましい態様によれば、輝度も大幅に改善することができる。
本発明による有機エレクトロルミネッセンス素子は、一般式(I)
(式中、Y1 はそれぞれ独立に置換若しくは無置換のアリーレン基を示し、Y2 はそれぞれ独立に置換若しくは無置換のアリール基を示し、pは0又は1から3の整数を示す。)で表される環状芳香族第3級アミン類を正孔注入及び/又は輸送剤として含む正孔注入及び/又は輸送層を備えてなるものである。
上記一般式(I)で表される環状芳香族第3級アミン類において、Y1 はそれぞれ独立に置換若しくは無置換のアリーレン基を示し、このアリーレン基は、好ましくは、単環又は縮合多環芳香族炭化水素基であり、例えば、フェニレン基、ナフチレン基、アントラセンジイル基、フェナンスレンジイル基等を挙げることができるが、より好ましくは、フェニレン基又はナフチレン基であり、フェニレン基としては、1,4−又は1,3−フェニレン基であることが好ましく、ナフチレン基であるときは、1,4−又は1,5−ナフチレン基であることが好ましい。特に、本発明においては、Y1 は1,4−又は1,3−フェニレン基であることが好ましい。
また、Y1 が置換基を有するとき、その置換基と数は、特に限定されるものではないが、置換基としては、なかでも、炭素原子数1〜6のアルキル基又はヘテロ環基が好ましく、アルキル基の具体例として、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等を挙げることができ、アルキル基が炭素原子数が3以上のアルキル基であるとき、そのアルキル基は直鎖状でもよく、分岐鎖状でもよい。ヘテロ環基は、特に、限定されるものではなく、例えば、フリル、チエニル、ピロリル、ベンゾフラニル、ベンゾチオニル、インドリル、イソインドリル、クロメニル、キノリル、イソキノリル、ナフトチオフェニル基を挙げることができる。また、Y1 が置換基を有するとき、その置換基の数は、許容される範囲であればよく、通常、1〜4であればよいが、好ましくは、1である。
他方、上記一般式(I)で表される環状芳香族第3級アミン類において、Y2 はそれぞれ独立に置換若しくは無置換のアリール基を示し、このアリール基は、好ましくは、単環又は縮合多環芳香族炭化水素基であり、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基等を挙げることができるが、より好ましくは、フェニル基又はナフチル基である。ナフチル基であるときは、1−又は2−ナフチル基のいずれであってもよい。
また、Y2 が置換基を有するとき、Y1 が置換基を有するときと同様に、その置換基と数は、特に限定されるものではないが、置換基としては、なかでも、炭素原子数1〜6のアルキル基又はヘテロ環基が好ましく、アルキル基の具体例として、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等を挙げることができ、アルキル基が炭素原子数が3以上のアルキル基であるとき、そのアルキル基は直鎖状でもよく、分岐鎖状でもよい。ヘテロ環基は、特に、限定されるものではなく、例えば、フリル、チエニル、ピロリル、ベンゾフラニル、ベンゾチオニル、インドリル、イソインドリル、クロメニル、キノリル、イソキノリル、ナフトチオフェニル基を挙げることができる。また、Y1 が置換基を有するとき、その置換基の数は、許容される範囲、即ち、1〜5であればよいが、好ましくは、1である。
本発明において、上記一般式(I)で表される環状芳香族第3級アミン類において、pは0又は1から3の整数であり、好ましくは、1又は2であり、特に、pが1であり、上記アリーレン基Y1 又はアリール基Y2 が置換基を有するときは、その置換基はメチル基又はヘテロ環基であることが好ましい。
前記一般式(I)で表される環状芳香族第3級アミン類は、分子構造的には、前記置換又は無置換のアリーレン基Y1 と窒素原子が交互に結合して環状の分子鎖を形成しており、上記窒素原子に前記置換又は無置換のアリール基Y2 が結合している。
従って、本発明によれば、上記環状芳香族第3級アミン類の好ましい具体例として、例えば、
等を挙げることができる。
上述したような種々の環状芳香族第3級アミン類は、その構造に応じて適宜の芳香族アミンの1種又は2種を選択し、これとジハロゲン化ベンゼンとを銅粉の存在下に脱ハロゲン化水素、即ち、縮合させるウルマン縮合反応や、触媒の存在下に縮合させる方法によって得ることができる。
より詳細には、例えば、前記一般式(I)で表される第2の環状芳香族第3級アミン類において、pが0であるものは、その構造に応じて、置換若しくは無置換のアニリン1分子と置換若しくは無置換のN,N’−ジフェニルフェニレンジアミン1分子とを置換若しくは無置換のジハロゲン化ベンゼン2分子を介して縮合させることによって得ることができる。前記一般式(I)で表される環状芳香族第3級アミン類において、pが1であるものは、その構造に応じて、置換若しくは無置換のN,N’−ジフェニルフェニレンジアミン2分子を置換若しくは無置換のジハロゲン化ベンゼン2分子を介して縮合させることによって得ることができる。前記一般式(I)で表される環状芳香族第3級アミン類において、pが2であるものは、その構造に応じて、置換若しくは無置換のN,N−ビス(フェニルアミノフェニル)−N−フェニルトリアミン1分子と置換若しくは無置換のN,N’−ジフェニルフェニレンジアミン2分子とを置換若しくは無置換のジハロゲン化ベンゼン2分子を介して縮合させることによって得ることができる。また、前記一般式(I)で表される環状芳香族第3級アミン類において、pが3であるものは、その構造に応じて、置換若しくは無置換のN,N−ビス(フェニルアミノフェニル)−N−フェニルトリアミン2分子を置換若しくは無置換のジハロゲン化ベンゼン2分子を介して縮合させることによって得ることができる。
上述したような環状芳香族第3級アミン類は、その比較的小さい分子量を考慮すれば、非常に高いガラス転移温度を有し、また、その蒸着膜は、X線回折法にて分析しても、明確なピークを示さないこと等から、異方性をもたないアモルファス膜であり、従って、常温以上の温度で、それ自体で、即ち、バインダー樹脂の助けなしに、安定なアモルファス膜を形成することができ、しかも、高いガラス転移温度、即ち、すぐれた耐熱性を有し、従って、例えば、有機エレクトロルミネッセンス素子において、これを正孔注入剤として用いてなる正孔注入層を陽極と正孔輸送層との間に設けることによって、又はこれを正孔輸送剤として用いてなる正孔輸送層を正孔注入層と発光層との間に設けることによって、又はこれを正孔注入輸送剤として用いてなる正孔注入輸送層を陽極と発光層との間に設けることによって、低電圧にて駆動することができる耐久性にすぐれる高輝度の有機エレクトロルミネッセンス素子を得ることができる。しかし、本発明による芳香族第3級アミン類は、バインダー樹脂を用いて、薄膜からなる正孔注入及び/又は輸送層としてもよいことは勿論である。
このように、本発明による環状芳香族第3級アミン類は、有機エレクトロルミネッセンス素子における正孔注入層を形成するための正孔注入剤として用いることができ、従って、同じ機能を有する正孔輸送層を形成するための正孔輸送剤としても用いることができる。また、有機エレクトロルミネッセンス素子において、正孔注入層と正孔輸送層を単層に形成するときは、正孔注入輸送剤として用いることもできる。即ち、本発明による環状芳香族第3級アミン類は、正孔注入及び/又は輸送剤として用いることができ、また、このような正孔注入及び/又は輸送剤はそれぞれ、有機エレクトロルミネッセンス素子における正孔注入及び/又は輸送層を形成するために用いることができる。更に、本発明による環状芳香族第3級アミン類は、有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層におけるホスト剤としても用いることができる。
本発明による有機エレクトロルミネッセンス素子の好ましい一例を図1に示すように、例えば、ガラスのような透明基板1上にITOからなる透明な陽極2が密着して積層、支持されており、この陽極上に正孔注入層3aと正孔輸送層3bと発光層4と金属又はその化合物からなる陰極5がこの順序で積層されてなるものである。上記陽極と陰極は外部の電源6に接続されている。従って、このような有機エレクトロルミネッセンス素子においては、陽極から正孔注入層と正孔輸送層を経て発光層に正孔が容易に注入されるので、低電圧で素子を駆動することができる。発光層には上記陰極から電子が注入され、そこで、この発光層において、上記陰極から注入された電子と陽極から注入された正孔とが再結合して発光を生じ、この発光層における発光が上記透明電極(陽極)と透明基板を通して外部に放射される。
更に、本発明においては、場合によっては、前述したように、発光層と陰極との間に電子輸送層が積層されてもよく、また、余分な正孔が陰極側に抜け出るのを防止するために、ブロッキング層を設けてもよい。このように、本発明において、有機エレクトロルミネッセンス素子の積層構造は、特に、限定されるものではない。
即ち、本発明による有機エレクトロルミネッセンス素子は、上記正孔注入及び/又は輸送層が前述した芳香族第3級アミン類からなる正孔注入及び/又は輸送剤を含む点に特徴を有する。本発明による芳香族第3級アミン類は、それ自体でアモルファス膜を形成することができるので、例えば、真空蒸着装置を用いて、前記透明電極上に蒸着して、正孔注入層を形成することができる。その膜厚は、通常、10〜200nmの範囲であり、好ましくは、20〜80nmの範囲である。また、適宜に形成した正孔注入層上に蒸着して、正孔輸送層を形成することができ、この場合も、その膜厚は、通常、10〜200nmの範囲であり、好ましくは、20〜80nmの範囲である。勿論、透明電極上に本発明による芳香族第3級アミン類からなる単層の正孔注入及び/又は輸送層を形成することができる。
しかし、本発明によれば、この芳香族第3級アミン類を、必要に応じて適宜のバインダー樹脂と共に、適宜の有機溶媒に溶解させ、これを適宜の手段、例えば、スピンコート法によって、陽極上にコーティングし、乾燥して、正孔注入及び/又は輸送層を形成することもできる。この場合においても、その膜厚は上述したと同じである。
このようにして本発明による芳香族第3級アミン類から形成した正孔注入層の上に、常法に従って、例えば、α−NPD等の正孔輸送剤からなる正孔輸送層を積層し、更に、この上に発光層と陰極を積層すれば、有機エレクトロルミネッセンス素子を得ることができる。同様に、適宜に形成した正孔注入層上に本発明による芳香族第3級アミン類から正孔輸送層を積層し、更に、この上に発光層と陰極を積層すれば、有機エレクトロルミネッセンス素子を得ることができる。
本発明による有機エレクトロルミネッセンス素子においては、本発明による芳香族第3級アミン類からなる上記正孔注入及び/又は輸送層以外の層、即ち、透明基板、本発明による正孔注入及び/又は輸送層と組合わせる通常の正孔注入及び/又は輸送層、陽極、発光層、電子輸送層及び電極は、従来より知られているものが適宜に用いられる。陽極としては、酸化インジウム−酸化スズ(ITO)からなる透明電極が好ましく用いられ、陰極には、アルミニウム、マグネシウム、インジウム、銀等の単体金属やこれらの合金、例えば、Al−Mg合金、Ag−Mg合金、フッ化リチウム等が用いられ、透明基板としては、通常、ガラス基板が用いられる。
例えば、通常の正孔輸送剤としては、従来より知られている低分子量有機化合物、例えば、前述したようなα−NPDやTPDが用いられ、また、通常の正孔注入剤としては、銅フタロシアニン等が用いられる。その膜厚は、通常、10〜200nmの範囲である。
有機発光層には、例えば、トリス(8−キノリノール)アルミニウム(Alq3 )が用いられ、その膜厚は、通常、10〜200nmの範囲である。また、有機エレクトロルミネッセンス素子が電子輸送層を含むときは、その膜厚は、通常、10〜200nmの範囲である。
以下に幾つかの環状芳香族第3級アミン類の合成例と共に、実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではない。
合成例1
(式(5)で表される環状芳香族第3級アミンの合成)
1L容量セパラブルフラスコに1,3−ジブロモベンゼン47.2g(0.200モル)、N,N’−ジ(p−トリル)−1,3−フェニレンジアミン28.7g(0.100モル)、酢酸パラジウム0.225g(1.00ミリモル)、トリフェニルホスフィン0.525g(2.00ミリモル)及びナトリウムt−ブトキシド42.0g(0.437モル)を反応溶媒トルエン1000mLと共に仕込み、窒素気流下、温度100℃を保ちながら、4時間撹拌下に反応を行った。反応終了後、反応混合物を室温まで放冷し、トルエンで抽出し、これをカラムクロマトグラフィーに付して、目的物を得た後、これをトルエンから再結晶して、前記式(5)で表される環状芳香族第3級アミン8.0gを白色結晶として得た。収率は22.0%であった。
(式(5)で表される環状芳香族第3級アミンの合成)
1L容量セパラブルフラスコに1,3−ジブロモベンゼン47.2g(0.200モル)、N,N’−ジ(p−トリル)−1,3−フェニレンジアミン28.7g(0.100モル)、酢酸パラジウム0.225g(1.00ミリモル)、トリフェニルホスフィン0.525g(2.00ミリモル)及びナトリウムt−ブトキシド42.0g(0.437モル)を反応溶媒トルエン1000mLと共に仕込み、窒素気流下、温度100℃を保ちながら、4時間撹拌下に反応を行った。反応終了後、反応混合物を室温まで放冷し、トルエンで抽出し、これをカラムクロマトグラフィーに付して、目的物を得た後、これをトルエンから再結晶して、前記式(5)で表される環状芳香族第3級アミン8.0gを白色結晶として得た。収率は22.0%であった。
元素分析値(C52H44N4 として、重量%):
C H N
計算値 86.15 6.12 7.73
測定値 85.82 6.24 7.94
C H N
計算値 86.15 6.12 7.73
測定値 85.82 6.24 7.94
質量分析(M+ (m/e)):724
赤外線吸収スペクトル:
KBr錠剤法にて測定した。図2に示す。
赤外線吸収スペクトル:
KBr錠剤法にて測定した。図2に示す。
示差走査熱量分析測定(DSC):
DSCチャートを図3に示すように、ガラス転移温度(Tg)131℃、結晶化温度(Tc)186℃、融点(Tm)316℃であって、耐熱性にすぐれると共に、常温以上の温度で安定なアモルファス膜を形成することができることが示される。
DSCチャートを図3に示すように、ガラス転移温度(Tg)131℃、結晶化温度(Tc)186℃、融点(Tm)316℃であって、耐熱性にすぐれると共に、常温以上の温度で安定なアモルファス膜を形成することができることが示される。
熱重量測定/示差熱測定(TG/DTA):
測定結果を図4に示すように、分解温度は410℃であって、熱安定性にすぐれることが示される。
測定結果を図4に示すように、分解温度は410℃であって、熱安定性にすぐれることが示される。
サイクリックボルタンメトリー(CV):
CVチャートを図5に示すように、酸化電位は0.51V(vs Ag/Ag+ )であった。また、繰り返し安定性もよく、酸化還元過程の可逆性にもすぐれている。
CVチャートを図5に示すように、酸化電位は0.51V(vs Ag/Ag+ )であった。また、繰り返し安定性もよく、酸化還元過程の可逆性にもすぐれている。
合成例2
(式(7)で表される環状芳香族第3級アミンの合成)
500mL容量セパラブルフラスコに1,4−ジブロモベンゼン23.6g(0.10モル)、N,N’−ジフェニル−1,3−フェニレンジアミン26.0g(0.10モル)、酢酸パラジウム0.11g(0.5ミリモル)、トリフェニルホスフィン0.52g(2.0ミリモル)及びナトリウムt−ブトキシド21.1g(0.22モル)を反応溶媒トルエン300mLと共に仕込み、窒素気流下、温度100℃を保ちながら、12時間撹拌下に反応を行った。反応終了後、反応混合物を室温まで放冷し、トルエンで抽出し、これをカラムクロマトグラフィーに付して、目的物を得た後、これをトルエンから再結晶して、前記式(7)で表される環状芳香族第3級アミン3.3gを白色結晶として得た。収率は20%であった。
(式(7)で表される環状芳香族第3級アミンの合成)
500mL容量セパラブルフラスコに1,4−ジブロモベンゼン23.6g(0.10モル)、N,N’−ジフェニル−1,3−フェニレンジアミン26.0g(0.10モル)、酢酸パラジウム0.11g(0.5ミリモル)、トリフェニルホスフィン0.52g(2.0ミリモル)及びナトリウムt−ブトキシド21.1g(0.22モル)を反応溶媒トルエン300mLと共に仕込み、窒素気流下、温度100℃を保ちながら、12時間撹拌下に反応を行った。反応終了後、反応混合物を室温まで放冷し、トルエンで抽出し、これをカラムクロマトグラフィーに付して、目的物を得た後、これをトルエンから再結晶して、前記式(7)で表される環状芳香族第3級アミン3.3gを白色結晶として得た。収率は20%であった。
元素分析値(C48H36N4 として、重量%):
C H N
計算値 86.20 5.43 8.38
測定値 86.50 5.31 8.19
C H N
計算値 86.20 5.43 8.38
測定値 86.50 5.31 8.19
質量分析(M+ (m/e)):668
赤外線吸収スペクトル:
KBr錠剤法にて測定した。図6に示す。
赤外線吸収スペクトル:
KBr錠剤法にて測定した。図6に示す。
示差走査熱量分析測定(DSC):
DSCチャートを図7に示す。ガラス転移温度(Tg)及び結晶化温度(Tc)は観測されなかった。融点(Tm)は376℃であった。耐熱性にすぐれると共に、常温以上の温度で安定なアモルファス膜を形成することができることが示される。
DSCチャートを図7に示す。ガラス転移温度(Tg)及び結晶化温度(Tc)は観測されなかった。融点(Tm)は376℃であった。耐熱性にすぐれると共に、常温以上の温度で安定なアモルファス膜を形成することができることが示される。
熱重量測定/示差熱測定(TG/DTA):
測定結果を図8に示すように、分解温度は449℃であって、熱安定性にすぐれることが示される。
測定結果を図8に示すように、分解温度は449℃であって、熱安定性にすぐれることが示される。
サイクリックボルタンメトリー(CV):
CVチャートを図9に示すように、酸化電位は0.30V(vs Ag/Ag+ )であった。また、繰り返し安定性もよく、酸化還元過程の可逆性にもすぐれている。
CVチャートを図9に示すように、酸化電位は0.30V(vs Ag/Ag+ )であった。また、繰り返し安定性もよく、酸化還元過程の可逆性にもすぐれている。
合成例3
(式(8)で表される環状芳香族第3級アミンの合成)
合成例1において、1,3−ジブロモベンゼンに代えて、1,4−ジブロモベンゼンを用いた以外は、同様にして、前記式(8)で表される環状芳香族第3級アミン3.9gを白色結晶として得た。収率は19.2%であった。
(式(8)で表される環状芳香族第3級アミンの合成)
合成例1において、1,3−ジブロモベンゼンに代えて、1,4−ジブロモベンゼンを用いた以外は、同様にして、前記式(8)で表される環状芳香族第3級アミン3.9gを白色結晶として得た。収率は19.2%であった。
元素分析値(C52H44N4 として、重量%):
C H N
計算値 86.15 6.12 7.73
測定値 86.31 5.98 7.71
C H N
計算値 86.15 6.12 7.73
測定値 86.31 5.98 7.71
質量分析(M+ (m/e)):724
赤外線吸収スペクトル:
KBr錠剤法にて測定した。図10に示す。
赤外線吸収スペクトル:
KBr錠剤法にて測定した。図10に示す。
示差走査熱量分析測定(DSC):
DSCチャートを図11に示す。ガラス転移温度(Tg)は188℃であり、融点(Tm)は340℃であった。耐熱性にすぐれると共に、常温以上の温度で安定なアモルファス膜を形成することができることが示される。
DSCチャートを図11に示す。ガラス転移温度(Tg)は188℃であり、融点(Tm)は340℃であった。耐熱性にすぐれると共に、常温以上の温度で安定なアモルファス膜を形成することができることが示される。
熱重量測定/示差熱測定(TG/DTA):
測定結果を図12に示すように、分解温度は471℃であって、熱安定性にすぐれることが示される。
測定結果を図12に示すように、分解温度は471℃であって、熱安定性にすぐれることが示される。
サイクリックボルタンメトリー(CV):
CVチャートを図13に示すように、酸化電位は0.24V(vs Ag/Ag+ )であった。また、繰り返し安定性もよく、酸化還元過程の可逆性にもすぐれている。
CVチャートを図13に示すように、酸化電位は0.24V(vs Ag/Ag+ )であった。また、繰り返し安定性もよく、酸化還元過程の可逆性にもすぐれている。
合成例4
(式(22)で表される環状芳香族第3級アミンの合成)
合成例7において、N,N’−ジフェニル−1,3−フェニレンジアミン26.0g(0.10モル)に代えて、N,N’−ジ(2−ナフチル)−1,3−フェニレンジアミン40.1g(0.11モル)を用いた以外は、同様にして、前記式(22)で表される環状芳香族第3級アミン7.7gを淡黄色結晶として得た。収率は15.9%であった。
(式(22)で表される環状芳香族第3級アミンの合成)
合成例7において、N,N’−ジフェニル−1,3−フェニレンジアミン26.0g(0.10モル)に代えて、N,N’−ジ(2−ナフチル)−1,3−フェニレンジアミン40.1g(0.11モル)を用いた以外は、同様にして、前記式(22)で表される環状芳香族第3級アミン7.7gを淡黄色結晶として得た。収率は15.9%であった。
元素分析値(C64H46N4 として、重量%):
C H N
計算値 88.25 5.32 6.43
測定値 88.52 5.25 6.23
C H N
計算値 88.25 5.32 6.43
測定値 88.52 5.25 6.23
質量分析(M+ (m/e)):870
赤外線吸収スペクトル:
KBr錠剤法にて測定した。図14に示す。
赤外線吸収スペクトル:
KBr錠剤法にて測定した。図14に示す。
示差走査熱量分析測定(DSC):
DSCチャートを図15に示す。ガラス転移温度(Tg)は202℃であり、結晶化温度(Tc)は264℃であり、融点(Tm)は368℃であった。耐熱性にすぐれると共に、常温以上の温度で安定なアモルファス膜を形成することができることが示される。
DSCチャートを図15に示す。ガラス転移温度(Tg)は202℃であり、結晶化温度(Tc)は264℃であり、融点(Tm)は368℃であった。耐熱性にすぐれると共に、常温以上の温度で安定なアモルファス膜を形成することができることが示される。
熱重量測定/示差熱測定(TG/DTA):
測定結果を図16に示すように、分解温度は496℃であって、熱安定性にすぐれることが示される。
測定結果を図16に示すように、分解温度は496℃であって、熱安定性にすぐれることが示される。
サイクリックボルタンメトリー(CV):
CVチャートを図17に示すように、酸化電位は0.32V(vs Ag/Ag+ )であった。また、繰り返し安定性もよく、酸化還元過程の可逆性にもすぐれている。
CVチャートを図17に示すように、酸化電位は0.32V(vs Ag/Ag+ )であった。また、繰り返し安定性もよく、酸化還元過程の可逆性にもすぐれている。
合成例5
(式(23)で表される環状芳香族第3級アミンの合成)
合成例1において、1,3−ジブロモベンゼンに代えて、1,4−ジブロモベンゼンを用いると共に、N,N’−ジ(p−トリル)−1,3−フェニレンジアミンに代えて、N,N’−ジ(m−トリル)−1,3−フェニレンジアミンを用いた以外は、同様にして、前記式(23)で表される環状芳香族第3級アミン12.0gを白色結晶として得た。収率は15.0%であった。
(式(23)で表される環状芳香族第3級アミンの合成)
合成例1において、1,3−ジブロモベンゼンに代えて、1,4−ジブロモベンゼンを用いると共に、N,N’−ジ(p−トリル)−1,3−フェニレンジアミンに代えて、N,N’−ジ(m−トリル)−1,3−フェニレンジアミンを用いた以外は、同様にして、前記式(23)で表される環状芳香族第3級アミン12.0gを白色結晶として得た。収率は15.0%であった。
元素分析値(C52H44N4 として、重量%):
C H N
計算値 86.15 6.12 7.73
測定値 86.21 6.30 7.49
C H N
計算値 86.15 6.12 7.73
測定値 86.21 6.30 7.49
質量分析(M+ (m/e)):724
赤外線吸収スペクトル:
KBr錠剤法にて測定した。図18に示す。
赤外線吸収スペクトル:
KBr錠剤法にて測定した。図18に示す。
示差走査熱量分析測定(DSC):
DSCチャートを図19に示す。ガラス転移温度(Tg)は188℃であり、融点(Tm)は322℃であった。耐熱性にすぐれると共に、常温以上の温度で安定なアモルファス膜を形成することができることが示される。
DSCチャートを図19に示す。ガラス転移温度(Tg)は188℃であり、融点(Tm)は322℃であった。耐熱性にすぐれると共に、常温以上の温度で安定なアモルファス膜を形成することができることが示される。
熱重量測定/示差熱測定(TG/DTA):
測定結果を図20に示すように、分解温度は443℃であって、熱安定性にすぐれることが示される。
測定結果を図20に示すように、分解温度は443℃であって、熱安定性にすぐれることが示される。
サイクリックボルタンメトリー(CV):
CVチャートを図21に示すように、酸化電位は0.27V(vs Ag/Ag+ )であった。また、繰り返し安定性もよく、酸化還元過程の可逆性にもすぐれている。
CVチャートを図21に示すように、酸化電位は0.27V(vs Ag/Ag+ )であった。また、繰り返し安定性もよく、酸化還元過程の可逆性にもすぐれている。
実施例1〜23
厚み600nmのITO透明電極(陽極)上に表1に示す環状芳香族第3級アミンを厚み50nmに真空蒸着して正孔注入層を形成し、次いで、その上に4,4’−ビス(N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ)ビフェニル(α−NPD)を厚み10nmに真空蒸着して正孔輸送層を形成し、その上にトリス(8−キノリノール)アルミニウム(Alq3 )を厚み75nmに真空蒸着して発光層を形成した。更に、その上に陰極として、フッ化リチウム(0.5nm)とアルミニウム(100nm)をこの順序にて蒸着して、有機エレクトロルミネッセンス素子を作製した。
厚み600nmのITO透明電極(陽極)上に表1に示す環状芳香族第3級アミンを厚み50nmに真空蒸着して正孔注入層を形成し、次いで、その上に4,4’−ビス(N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ)ビフェニル(α−NPD)を厚み10nmに真空蒸着して正孔輸送層を形成し、その上にトリス(8−キノリノール)アルミニウム(Alq3 )を厚み75nmに真空蒸着して発光層を形成した。更に、その上に陰極として、フッ化リチウム(0.5nm)とアルミニウム(100nm)をこの順序にて蒸着して、有機エレクトロルミネッセンス素子を作製した。
このようにして得た有機エレクトロルミネッセンス素子について、電流密度25mA/cm2 のときの電流効率(発光効率)、初期輝度1000cd/m2 にて駆動したときに輝度が1/2になるまでの駆動時間で示す輝度半減寿命(時間)及び最高輝度を表1に示す。
比較例1
厚み600nmのITO透明電極(陽極)上に銅フタロシアニンを厚み50nmに真空蒸着して正孔注入層を形成し、次いで、その上に4,4’−ビス(N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ)ビフェニル(α−NPD)を厚み10nmに真空蒸着して正孔輸送層を形成し、その上にトリス(8−キノリノール)アルミニウム(Alq3 )を厚み75nmに真空蒸着して発光層を形成した。更に、その上に陰極として、フッ化リチウム(0.5nm)とアルミニウム(100nm)をこの順序にて蒸着して、有機エレクトロルミネッセンス素子を作製した。
厚み600nmのITO透明電極(陽極)上に銅フタロシアニンを厚み50nmに真空蒸着して正孔注入層を形成し、次いで、その上に4,4’−ビス(N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ)ビフェニル(α−NPD)を厚み10nmに真空蒸着して正孔輸送層を形成し、その上にトリス(8−キノリノール)アルミニウム(Alq3 )を厚み75nmに真空蒸着して発光層を形成した。更に、その上に陰極として、フッ化リチウム(0.5nm)とアルミニウム(100nm)をこの順序にて蒸着して、有機エレクトロルミネッセンス素子を作製した。
このようにして得た有機エレクトロルミネッセンス素子について、実施例と同様に、電流密度25mA/cm2 のときの電流効率(発光効率)、初期輝度1000cd/m2 にて駆動したときに輝度が1/2になるまでの駆動時間で示す輝度半減寿命(時間)及び最高輝度を調べた。結果を表1に示す。
実施例24〜35
厚み600nmのITO透明電極(陽極)上に銅フタロシアニンを厚み50nmに真空蒸着して正孔注入層を形成し、次いで、その上に表2に示す環状芳香族第3級アミンをそれぞれ厚み10nmに真空蒸着して正孔輸送層を形成し、その上にトリス(8−キノリノール)アルミニウム(Alq3 )を厚み75nmに真空蒸着して発光層を形成した。更に、その上に陰極として、フッ化リチウム(0.5nm)とアルミニウム(100nm)をこの順序にて蒸着して、有機エレクトロルミネッセンス素子を作製した。
厚み600nmのITO透明電極(陽極)上に銅フタロシアニンを厚み50nmに真空蒸着して正孔注入層を形成し、次いで、その上に表2に示す環状芳香族第3級アミンをそれぞれ厚み10nmに真空蒸着して正孔輸送層を形成し、その上にトリス(8−キノリノール)アルミニウム(Alq3 )を厚み75nmに真空蒸着して発光層を形成した。更に、その上に陰極として、フッ化リチウム(0.5nm)とアルミニウム(100nm)をこの順序にて蒸着して、有機エレクトロルミネッセンス素子を作製した。
このようにして得た有機エレクトロルミネッセンス素子について、前述したと同様にして、電流密度25mA/cm2 のときの電流効率(発光効率)、初期輝度1000cd/m2 にて駆動したときに輝度が1/2になるまでの駆動時間で示す輝度半減寿命(時間)及び最高輝度を調べた。結果を表2に示す。
1…透明基板
2…陽極
3a…正孔注入層
3b…正孔輸送層
4…発光層
5…陰極
6…電源
2…陽極
3a…正孔注入層
3b…正孔輸送層
4…発光層
5…陰極
6…電源
Claims (3)
- Y1 がそれぞれ独立に置換若しくは無置換のフェニレン基又はナフチレン基であり、Y2 はそれぞれ独立に置換若しくは無置換のフェニル基又はナフチル基である請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- Y1 がそれぞれ独立に置換基として炭素原子数1〜6のアルキル基又はヘテロ環基を有していてもよいフェニレン基であり、Y2 がそれぞれ独立に置換基として炭素原子数1〜6のアルキル基又はヘテロ環基を有していてもよいフェニル基又はナフチル基である請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
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- 2006-02-09 JP JP2006032685A patent/JP2007214364A/ja active Pending
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