JP2007200942A - 光モジュール - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 280
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims abstract description 14
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims abstract description 14
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims abstract description 14
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 64
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 5
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 18
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 15
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 14
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 8
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 210000001503 joint Anatomy 0.000 description 2
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 2
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
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- G02B6/12002—Three-dimensional structures
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/026—Monolithically integrated components, e.g. waveguides, monitoring photo-detectors, drivers
- H01S5/0265—Intensity modulators
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/1028—Coupling to elements in the cavity, e.g. coupling to waveguides adjacent the active region, e.g. forward coupled [DFC] structures
- H01S5/1032—Coupling to elements comprising an optical axis that is not aligned with the optical axis of the active region
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- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/1082—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region with a special facet structure, e.g. structured, non planar, oblique
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/14—External cavity lasers
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/06—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
- H01S5/062—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium by varying the potential of the electrodes
- H01S5/0625—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium by varying the potential of the electrodes in multi-section lasers
- H01S5/06255—Controlling the frequency of the radiation
- H01S5/06256—Controlling the frequency of the radiation with DBR-structure
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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Abstract
【解決手段】利得部材1と、利得部材1に接続された部分反射部2と、部分反射部2に接続された光デバイス部3と、が一体に形成され、部分反射部2が、利得部材1に接続される第1光導波路2aと、第1光導波路2aとは異なる光軸を有しながら第1光導波路2aに光学的に結合され且つ光デバイス部3を光学的に接続する第2光導波路2bと、をそなえる光学的結合導波路部2Aとともに、第1光導波路2aにおける光デバイス部3側の端部に形成された第1全反射ミラー2Bをそなえるように構成する。
【選択図】図1
Description
ここで、発光波長が固定された光源では仕様が多様化して在庫問題を発生したりする場合があるため、レーザ発振される波長を可変に調整可能な光源が求められていた。この波長調整可能な光源としては、共振条件を可変することによりレーザ発振の発振波長を可変することができる外部共振器型のレーザ光源などが提案されている。外部共振器型レーザ光源としては、例えば図10に示すものがある。
なお、特許文献2〜5に記載されている技術においても、上述のごとき課題を解決する外部変調器一体型のレーザ光源について開示するものではない。
また、発振波長の帯域を広帯域化させることを目的とする。
さらに、好ましくは、該第1全反射ミラーに該光学的結合導波路部および該利得部材を介して対向配置され、且つ該第1全反射ミラーおよび該利得部材によりレーザ発振を行なうレーザ発振部を構成する第2全反射ミラーと、該レーザ発振の発振条件を可変設定する発振条件設定部と、をそなえることとしてもよい。
なお、上述の本願発明の目的のほか、他の技術的課題,その技術的課題を解決する手段及び作用効果についても、以下の実施の形態による開示によって明らかとなる。
〔A1〕第1実施形態の説明
図1は本発明の第1実施形態にかかる光モジュールを示す模式図である。この図1に示す光モジュール10は、特に光通信システムにおける光送信機モジュールとして適用することができるものであって、利得部材1,部分反射部2および外部変調器(光デバイス部)3が基板上に一体に形成された光モジュールとしての光サブアセンブリ5をそなえるとともに、全反射ミラー4をそなえている。尚、図1中、1bは利得部材1をなす活性層であり、1cは電流注入電極である。
すなわち、利得部材1の全反射ミラー4側端面には、反射防止膜(ARコート)1aが形成されるとともに、全反射ミラー4は、反射防止膜1aに対向して必要な空間を空けて配置される。これにより、利得部材1で発生する自然放出光が部分反射部2および全反射ミラー4間の往復光路を伝搬することで、レーザ光が発振される。
ここで、この図1に示す光モジュール1においては、前述の図11に示すものと同様に、レーザ発振部11を構成する利得部材1および部分反射部2が、外部変調器3と一体に形成されているが、部分反射部2における構成が前述の図11に示すものとは異なり、光学的結合導波路部2Aおよび全反射ミラー2Bにより構成されており、これにより、特許文献1に記載された技術の場合よりもレーザ発振部11としてのレーザ発振作用の安定化を図っている。
図2および図3は、図1に示す光モジュール10についての製造工程を説明するための図である。光モジュール10を作製する際には、第1に光サブアセンブリ5を作製し(図2のステップS1〜ステップ6,図3のステップS7〜ステップS10)、そして、作製された光サブアセンブリ5に対して前後移動可能な全反射ミラー4をそなえることで、光モジュール10を完成させる。
つづいて、光学的結合導波路部2Aをなす第1光導波路2aおよび利得部材1の活性層1bのための導波路層25を、ステップS4で形成されたクラッド層23,24の上部に積層し、更にその上部にクラッド層26を結晶成長により積層する(ステップS5)。
この他、平面方向については異なる軸に沿い高さ方向については共通の軸に沿って形成することも可能である。このようにすれば、活性層1a,第1,第2光導波路2a,2bおよび光導波路3bを同一の積層段に形成することができるので、これら活性層1a,第1,第2光導波路2a,2bおよび光導波路3bについての形成プロセスを更に共用化させることができるようになる。
このとき、上述のレーザ発振によって、利得部材1から第1光導波路2aに導かれる光のうち、全反射ミラー2B側の光は反射する一方、方向性結合される第2光導波路2bに導かれる側の光は光導波路3bを通じて外部変調器3に出力されるため、一部の光のみを透過させ残りを反射させることができる。これにより、レーザ発振部11においては、全反射ミラー4の配置に応じて設定される波長の光を発振させて、外部変調器3に供給することができる。
すなわち、第1実施形態の部分反射部2は、従来技術のようなエッチングファセット型部分反射器にあるような多重反射を抑制することができ、導波路ループ鏡による場合よりもデバイス規模を縮小化させることができるほか、光学的結合導波路部2Aが非常に小さい波長依存特性を有していることから広い帯域で部分反射を実現することができる、などの点で優れているため、広可変範囲、即ち外部共振器11Aの共振長などを調整することのみで発振波長を広帯域化させ、かつ、出力されるレーザ光の安定性の向上を図ることができる。
このように、本発明の第1実施形態にかかる光モジュール10によれば、部分反射部2が光学的結合導波路部2Aと第1全反射ミラー2Bにより構成されているので、モジュール規模の縮小化を図りながら、発振波長を広帯域化させ、かつ、出力されるレーザ光の安定性の向上を図ることができる利点がある。
図4は、本発明の第1実施形態の第1変形例にかかる光モジュール10−1を示す模式図である。この図4に示す光モジュール10−1は、前述の第1実施形態の場合と異なる構成の光学的結合導波路部2A−1をそなえている。尚、図4中、図1の構成に対応する箇所には同一の符号を付している。
図5は、本発明の第1実施形態の第2変形例にかかる光モジュール10−2を示す模式図である。この図5に示す光モジュール10−2は、前述の第1実施形態の場合と異なる構成の光学的結合導波路部2A−2をそなえている。尚、図5中、図1の構成に対応する箇所には同一の符号を付している。
〔A4〕第1実施形態の第3変形例の説明
図6は、本発明の第1実施形態の第3変形例にかかる光モジュール10−3を示す模式図である。この図6に示す光モジュール10−3は、前述の第1実施形態の場合と異なる構成の光学的結合導波路部2A−3をそなえている。尚、図6中、図1の構成に対応する箇所には同一の符号を付している。
〔A5〕第1実施形態の第4変形例の説明
図7は、本発明の第1実施形態の第4変形例にかかる光モジュール10−4を示す模式図である。この図7に示す光モジュール10−4は、前述の第1実施形態の場合と異なる構成の部分反射部2−1をそなえている。尚、図7中、図1の構成に対応する箇所には同一の符号を付している。
〔A6〕第1実施形態の第5変形例の説明
図8は、本発明の第1実施形態の第5変形例にかかる光モジュール10−5を示す模式図である。この図8に示す光モジュール10−5は、前述の第1実施形態の場合と異なる構成の可変外部共振器11Bをそなえている。尚、図8中、図1の構成に対応する箇所には同一の符号を付している。
すなわち、光モジュール10−5においては、部分反射部2をなす全反射ミラー2Bの形成面とは反対側の端面に全反射ミラー4が形成されるとともに、この全反射ミラー4側から、グレーティング部11B−1および位相調整部11B−2が、利得部材1,部分反射部2および外部変調器3としての構成に、同一基板上で一体に構成される。
このように構成した場合においても、前述の第1実施形態の場合と同様の作用効果を得ることができるが、第5変形例においては、更に発振条件設定部としてのグレーティング部11B−1および位相調整部11B−2ならびに第2全反射ミラー4についても、利得部材1,部分反射部2および外部変調器3に一体に構成することができるので、更なる集積化が進められ装置規模の縮小化が進められた光モジュール10−5として実現することができる。
上述の図5〜図8としての構成は、図4に示す光モジュール10−1に適宜適用することができるほか、これらの図5〜図8としての構成を適宜組み合わせて、図1又は図4に示す光モジュール10,10−1に適用することもできる。又、図8に示す変形例において、発振条件設定部としては、電気光学効果によって発振条件を設定して、発振波長を設定するようになっているが、本発明によれば、例えば熱光学効果等によって発振条件を設定することとしてもよい。その他、公知の外部変調器構成を適宜採用することは可能である。
図9は、本発明の第2実施形態にかかる光モジュール30を示す模式図である。この図9に示す光モジュール30は、前述の第1実施形態の場合と機能は共通であるが構成が異なる光サブアセンブリ35をそなえるとともに、前述の第1実施形態の場合と同様の全反射ミラー(第2全反射ミラー)4が配置されている。
そして、前述の第1実施形態の場合と同様に、利得部材31の活性層31bおよび活性層31bに連続する光学的結合導波路部32Aの第1光導波路32aを、上段部に積層させて構成する一方、第1光導波路32aに方向性結合される第2光導波路32bおよび第2光導波路32bに連続する(外部変調器33をなす)光導波路33bを、下段部に積層させて構成する。しかし、光サブアセンブリ35の第2光導波路32bは、前述の第1実施形態の場合における第2光導波路32bとは異なる構成を有している。
この湾曲光導波路部32b−2により、レーザ光が発振する第1光導波路32aおよび活性層31bの平面方向についての軸と、外部変調器33における光導波路33bの平面方向についての軸をずらすことができるようになり、全反射ミラー32Bの形成を容易にすることができるとともに、光導波路33bと電極33aとの間の間隔を確保して、外部変調器33をなす電極33aによる光吸収を抑制した光導波路33bを形成することが容易になる。
このとき、上述のレーザ発振によって、利得部材31から第1光導波路32aに導かれる光のうち、全反射ミラー32B側の光は反射する一方、方向性結合される第2光導波路32bに導かれる側の光は光導波路33bを通じて外部変調器33に出力されるため、一部の光のみを透過させ残りを反射させることができる。これにより、レーザ発振部41においては、全反射ミラー4の配置に応じて設定される波長の光を発振させて、外部共振器33に供給することができる。
上述の各実施形態の開示にかかわらず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々変形して実施することが可能である。
例えば、上述の第1,第2実施形態における外部変調器3,33については、他の機能を持つ光デバイスにより構成することとしてもよい。具体的には、光強度の調整機能が追加された光源として用いる場合の光アッテネータとして構成してもよいし、光のスイッチング機能が追加された光源として用いる場合の光スイッチとして構成してもよい。
さらに、上述した実施形態の開示により、本発明の装置を製造することが可能となる。
〔D〕付記
(付記1)
利得部材と、該利得部材に接続された部分反射部と、該部分反射部に接続された光デバイス部と、が一体に形成され、
該部分反射部が、
該利得部材に接続される第1光導波路と、該第1光導波路とは異なる光軸を有しながら該第1光導波路に光学的に結合され且つ該光デバイス部を光学的に接続する第2光導波路と、をそなえる光学的結合導波路部とともに、
該第1光導波路における該光デバイス部側の端部に形成された第1全反射ミラーをそなえたことを特徴とする、光モジュール。
該光学的結合導波路部が、該第1光導波路および該第2光導波路が方向性結合する方向性結合導波路部として構成されたことを特徴とする、付記1記載の光モジュール。
(付記3)
該光学的結合導波路部が、該第1光導波路および該第2光導波路を接続する多モード干渉型導波路をそなえたことを特徴とする、付記1記載の光モジュール。
該第2光導波路が、湾曲光導波路部を含んで構成されたことを特徴とする、付記1記載の光モジュール。
(付記5)
該第1光導波路および該第2光導波路の太さが非対称に構成されたことを特徴とする、付記1記載の光モジュール。
該第2光導波路における該利得部材側の端部には光吸収部材が形成されていることを特徴とする、付記1記載の光モジュール。
(付記7)
該部分反射部は、該利得部材から該第1光導波路を通じて入力された光のうちの一部を該第1全反射ミラーで全反射するとともに、残りを該第2光導波路を通じて該光デバイス部に出力することを特徴とする、付記1記載の光モジュール。
該光デバイスが光変調器、光アッテネータ又は光スイッチであることを特徴とする、付記1記載の光モジュール。
(付記9)
該第1全反射ミラーに該光学的結合導波路部および該利得部材を介して対向配置され、且つ該第1全反射ミラーおよび該利得部材によりレーザ発振を行なうレーザ発振部を構成する第2全反射ミラーと、
該レーザ発振の発振条件を可変設定する発振条件設定部と、
をそなえたことを特徴とする、付記1〜8のいずれか1項記載の光モジュール。
該発振条件設定部が、該第2全反射ミラーと該利得部材との距離を可変に設定する距離設定機構により構成されたことを特徴とする、付記9記載の光モジュール。
(付記11)
該発振条件設定部が、該利得部材に一体に形成されたことを特徴とする、付記9記載の光モジュール。
1a ARコート
1b,31b 活性層
1c,1d,31c 電極
2,32 部分反射部
2A,2A−1〜2A−3,32A 光学的結合導波路部
2B,32B 全反射ミラー(第1全反射ミラー)
2C 光吸収部材
2a,2a′,32a 第1光導波路
2b,2b′,32b 第2光導波路
2b−1,32b−1 導波路部
2b−2,32b−2 湾曲光導波路部
2c MMI型光導波路
3,33 外部変調器
3a,33a 電極
3b,33b 光導波路
4 全反射ミラー(第2全反射ミラー)
4a 距離設定機構(発振条件設定部)
5,35 光サブアセンブリ(光モジュール)
10,10−1〜10−5,30 光モジュール
11,41 レーザ発振部
11A,11B,42 可変外部共振器
11B−1 グレーティング部
11B−2 位相調整部
11a 光導波路
11b,11c 制御電極
20 半導体基板
21,23,24,26 クラッド層
22,25 導波路層
100 外部共振器型レーザ光源
101 利得部材
101a ARコート
101b 部分反射ミラー
102 全反射ミラー
102A 可変外部共振器
103 部分反射器
104 外部変調器
Claims (5)
- 利得部材と、該利得部材に接続された部分反射部と、該部分反射部に接続された光デバイス部と、が一体に形成され、
該部分反射部が、
該利得部材に接続される第1光導波路と、該第1光導波路とは異なる光軸を有しながら該第1光導波路に光学的に結合され且つ該光デバイス部を光学的に接続する第2光導波路と、をそなえる光学的結合導波路部とともに、
該第1光導波路における該光デバイス部側の端部に形成された第1全反射ミラーをそなえたことを特徴とする、光モジュール。 - 該光学的結合導波路部が、該第1光導波路および該第2光導波路が方向性結合する方向性結合導波路部として構成されたことを特徴とする、請求項1記載の光モジュール。
- 該第1全反射ミラーに該光学的結合導波路部および該利得部材を介して対向配置され、且つ該第1全反射ミラーおよび該利得部材によりレーザ発振を行なうレーザ発振部を構成する第2全反射ミラーと、
該レーザ発振の発振条件を可変設定する発振条件設定部と、
をそなえたことを特徴とする、請求項1または2項記載の光モジュール。 - 該発振条件設定部が、該第2全反射ミラーと該利得部材との距離を可変に設定する距離設定機構により構成されたことを特徴とする、請求項3記載の光モジュール。
- 該発振条件設定部が、該利得部材に一体に形成されたことを特徴とする、請求項3記載の光モジュール。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006014329A JP5028805B2 (ja) | 2006-01-23 | 2006-01-23 | 光モジュール |
US11/392,646 US7437037B2 (en) | 2006-01-23 | 2006-03-30 | Optical module having gain member and partial reflection section waveguides formed on a substrate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006014329A JP5028805B2 (ja) | 2006-01-23 | 2006-01-23 | 光モジュール |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007200942A true JP2007200942A (ja) | 2007-08-09 |
JP5028805B2 JP5028805B2 (ja) | 2012-09-19 |
Family
ID=38285659
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006014329A Expired - Fee Related JP5028805B2 (ja) | 2006-01-23 | 2006-01-23 | 光モジュール |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7437037B2 (ja) |
JP (1) | JP5028805B2 (ja) |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110119 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120611 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |