JP2007278928A - Defect inspection device - Google Patents
Defect inspection device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007278928A JP2007278928A JP2006107466A JP2006107466A JP2007278928A JP 2007278928 A JP2007278928 A JP 2007278928A JP 2006107466 A JP2006107466 A JP 2006107466A JP 2006107466 A JP2006107466 A JP 2006107466A JP 2007278928 A JP2007278928 A JP 2007278928A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- defect
- image
- unit
- image data
- subject
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T7/00—Image analysis
- G06T7/0002—Inspection of images, e.g. flaw detection
- G06T7/0004—Industrial image inspection
- G06T7/001—Industrial image inspection using an image reference approach
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/9501—Semiconductor wafers
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T2207/00—Indexing scheme for image analysis or image enhancement
- G06T2207/30—Subject of image; Context of image processing
- G06T2207/30108—Industrial image inspection
- G06T2207/30148—Semiconductor; IC; Wafer
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Quality & Reliability (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Image Processing (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Image Analysis (AREA)
Abstract
Description
本発明は、基板の欠陥検査に用いられる欠陥検査装置に関する。 The present invention relates to a defect inspection apparatus used for defect inspection of a substrate.
半導体ウエハや、液晶ガラス基板、プリント配線板等の製造工程においては、基板表面の欠陥をラインセンサカメラを用いて検査する欠陥検査が実施されている。このような欠陥検査に使用される欠陥検査装置には、ラインセンサカメラを用いて撮像対象物の画像を読み取る画像読み取り装置が用いられている(例えば、特許文献1参照)。この種の画像読取装置では、ラインセンサカメラがマスクプレートによって部分的に遮光可能に構成されている。多種類の電子部品に対して同一のラインセンサカメラを用い、撮像対象物の大きさや形状に応じてマスクプレートを使用する。ラインセンサカメラの必要範囲のみに受光させるので、画像サイズを減少できる。 In the manufacturing process of a semiconductor wafer, a liquid crystal glass substrate, a printed wiring board, etc., a defect inspection for inspecting a substrate surface for defects using a line sensor camera is performed. As a defect inspection apparatus used for such defect inspection, an image reading apparatus that reads an image of an imaging object using a line sensor camera is used (for example, see Patent Document 1). In this type of image reading apparatus, the line sensor camera is configured to be partially shielded by a mask plate. The same line sensor camera is used for various types of electronic components, and a mask plate is used in accordance with the size and shape of the object to be imaged. Since the light is received only in the necessary range of the line sensor camera, the image size can be reduced.
また、欠陥を検出する手法としては、ラインセンサカメラから得られた二次元の原画像データを圧縮して、圧縮後の画像データに画像処理を行って欠陥位置を検出し、原画像データから欠陥位置の画像を復元するものが知られている(例えば、特許文献2参照)。
一般に半導体ウエハや、液晶ガラス基板などの製造工程の途中には、シリコン又はガラス板からなる基板上に成膜した後にレジストを塗布してからパターンを転写するフォト・リソグラフィ・プロセスが実施されている。このようなプロセスにおいて、基板表面に塗布したレジストに膜ムラあるいは塵埃の付着などがあると、エッチング後のパターンの線幅不良が生じたり、パターン内にピンホール等といった欠陥が生じたりする原因となる。そこで、エッチング前の工程では、欠陥の有無を全数検査することが通常行われている。 In general, during the manufacturing process of a semiconductor wafer, a liquid crystal glass substrate, etc., a photolithography process is performed in which a pattern is transferred after a resist is applied after forming a film on a substrate made of silicon or a glass plate. . In such a process, if the resist applied to the substrate surface has film unevenness or dust adhesion, it may cause defective line width of the pattern after etching or cause defects such as pinholes in the pattern. Become. Therefore, in the process before etching, it is usual to inspect all the presence of defects.
ここで、欠陥検査装置を用いて欠陥検出を行った場合も、欠陥原因の早期解明を図るために、画像処理で検出された欠陥を目視や顕微鏡により詳細に再確認することが行われている。つまり、欠陥の早期発見と原因の早期解明は、基板などの不良率の低減を実現する上で欠かせないことである。
その後、製造工程が安定してくるとそれまで現れていた基板上の欠陥は、ほとんど見られなくなる。この場合は、全数検査を継続する場合であっても基板の決まった領域を複数選択し、選択した領域のみを検査して良否判定をすることがある。その他、ウエハのエッジカット量や分布などの検査の際にも、ウエハエッジ部の決まった領域のみに検査を行い、良否判定をしたりする。
Here, even when a defect is detected using a defect inspection apparatus, the defect detected by the image processing is reconfirmed in detail by visual observation or a microscope in order to clarify the cause of the defect at an early stage. . In other words, early detection of defects and early clarification of the causes are indispensable for realizing a reduction in the defect rate of substrates and the like.
After that, when the manufacturing process is stabilized, the defects on the substrate which have appeared until then are hardly seen. In this case, even if the total inspection is continued, a plurality of predetermined regions on the substrate may be selected, and only the selected region may be inspected to determine pass / fail. In addition, when inspecting the edge cut amount and distribution of the wafer, the inspection is performed only on a predetermined area of the wafer edge portion, and the quality is determined.
しかしながら、近年では、検査解像度の向上が求められており、画像データのサイズが増大していた。データサイズが増大するとデータ処理に時間がかかるため、検査時間が長くなる原因となっていた。特に、基板が大型化した場合には、このような問題が顕著になってくる。
本発明は、上述の事情に鑑みてなされたものであり、基板などの被検体から必要な情報を素早く抽出して検査を速やかに実施できるようにすることを主な目的にする。
However, in recent years, improvement in inspection resolution has been demanded, and the size of image data has increased. When the data size increases, the data processing takes time, which causes a long inspection time. In particular, when the substrate is enlarged, such a problem becomes remarkable.
The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and a main object thereof is to quickly extract necessary information from a subject such as a substrate so that a test can be quickly performed.
上記の課題を解決する本発明は、被検体の光学画像情報として画像データを取り込む撮像手段と、前記撮像手段で取り込んだ画像データを原画像とし、これを圧縮して圧縮画像データを生成する画像圧縮部と、前記圧縮画像データから前記被検体の欠陥を含む欠陥領域を抽出する欠陥抽出部と、前記欠陥抽出部で抽出した前記欠陥領域を指定する領域指定部と、を備え、前記領域指定部によって指定されて取得された領域の原画像データに対して欠陥検査を行うことを特徴とする欠陥検査装置とした。 The present invention that solves the above-described problems is an imaging unit that captures image data as optical image information of a subject, and an image that generates compressed image data by compressing the image data captured by the imaging unit as an original image A compression unit; a defect extraction unit that extracts a defect region including a defect of the subject from the compressed image data; and a region designation unit that designates the defect region extracted by the defect extraction unit, and the region designation The defect inspection apparatus is characterized by performing defect inspection on the original image data of the area specified and acquired by the section.
この欠陥検査装置では、欠陥を抽出する段階では圧縮画像データを用いる。圧縮画像データで欠陥の存在が認められた場合には、欠陥の存在が認められた領域の画像を圧縮していない原画像から取得する。さらに、抽出した原画像と、予め登録されている欠陥情報と比較するなどして詳細な検査を実施する。 In this defect inspection apparatus, compressed image data is used at the stage of extracting defects. When the presence of a defect is recognized in the compressed image data, an image of a region where the presence of the defect is recognized is acquired from an uncompressed original image. Further, a detailed inspection is performed by comparing the extracted original image with previously registered defect information.
本発明によれば、圧縮画像データを用いて効率よく欠陥抽出を行い、欠陥抽出された領域について原画像と予め登録されている欠陥についての情報とを比較するなどの検査を行うようにしたので、欠陥の再確認や詳細な検査が行える。 According to the present invention, the defect extraction is efficiently performed using the compressed image data, and the inspection such as comparing the original image with information about the registered defect is performed on the defect extracted region. , Defect reconfirmation and detailed inspection can be performed.
本発明の第1の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
図1に示すように、欠陥検査装置1は、被検体Wの画像を取得して検査を実施する検査部2と、検査部2の制御を行いながら被検体Wの画像を取り込んで画像処理の前処理を行う制御部3と、制御部3からの情報を受けて画像処理を行う画像処理部4と、画像処理された欠陥画像や判定結果等を保存しておく画像保存部5とを有している。
A first embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
As shown in FIG. 1, the
図1及び図2に示すように、検査部2は、スキャンステージ10(保持部)を有し、スキャンステージ10にはモータ11Aを含むスキャンステージ駆動部11が設けられている。スキャンステージ駆動部11は、スキャンステージ10上に搭載された回転ステージ12(保持部)を矢印Aで示す直線方向に移動させる駆動部である。回転テーブル12は、内部に搭載されたモータ13Aを含む回転ステージ駆動部13によって矢印Bで示す回転方向に回転自在になっている。回転ステージ駆動部13は、ガラス基板やウエハなどの被検体Wの回転方向の位置合わせを行う駆動部である。回転テーブル12上端には、テーブル14が搭載されている。テーブル14は、吸着電磁弁15に接続されており、被検体Wを真空吸着によって固定することができる。
As shown in FIGS. 1 and 2, the
テーブル14の上方には、照明部20が被検体Wに向けて配置されている。照明部20は、照明用の光源及び光学系を有している。照明用の光源には、例えば、ハロゲンランプと熱線吸収フィルタとコンデンサレンズとを内部に備えたランプハウスが用いられている。照明用の光学系には、例えば、ランプハウスからの光束を収束させる集光レンズとライン照明を行うため出射端が直線状に形成されたファイバ束とを用いている。照明部20は、入射角θ0で被検体Wを照明するもので、被検体Wとの間には光束を収束させるシリンドリカルレンズ21及びスリット22が配置されている。照明部20、シリンドリカルレンズ21及びスリット22は、一体に構成され、照明角度駆動部23によって被検体W表面に対する角度を任意に変えられるようになっており、例えば、入射角θ0よりも大きい入射角θ1で被検体W表面を照明することも可能である。
An
さらに、ステージ14の上方には、被検体Wの光学画像情報を取得するラインセンサカメラ25(撮像手段)が照明部20からの反射光が入射可能に配置されている。ラインセンサカメラ25は、複数の撮像素子(センサ)がスキャン方向に直交する方向に直線状に配置されており、被検体Wの直線状の領域が結像される。ラインセンサカメラ25と被検体Wとの間には、フィルタ26がある。フィルタ26には、照明光の波長帯域を制限して干渉像が得られるように狭帯域フィルタが用いられており、フィルタ駆動部27によって光学経路に対して挿抜したり、フィルタ26の種類の切り替えができるようになっている。
Further, a line sensor camera 25 (imaging unit) that acquires optical image information of the subject W is disposed above the
図1に示す検査部2の各種センサ28は、被検体Wの吸着保持や、照明部20の傾斜角度などを検出して正しく検査が行えるようにするセンサである。操作入力部29は、作業者の操作を受け付けて後述する各種の処理を実施するためのものである。そして、このように構成した検査部2は、外来光の影響を受けないように不図示の暗箱状の筐体に収容されている。さらに、被検体Wへのパーティクル付着を防止するために、筐体の上部から空気清浄用のフィルタを通してダウンフローが流れるようになっている。
The
次に、制御部3は、画像取り込み回路31(画像取り込み部)を有する。画像取り込み回路31には、ラインセンサカメラ25で撮像された1ラインのデータがスキャンステージ10の移動に同期して、又は回転ステージ12の回転に同期して取り込まれる。1ラインのデータを垂直(ステージ10,12の移動方向)につなぎ合わせる処理を実施して被検体W全体を画像を1枚の二次元画像(原画像)にする。
画像取り込み回路31には、補正部32が接続されている。補正部32は、原画像のデータに対して各種補正を行う。例えば、照明部20の配光は一般的に均一ではなく、被検体Wの被照射部分には光量ムラがある。また、ラインセンサカメラ25の各撮像素子の感度が等しくない。このため、ラインセンサカメラ25の出力データには、シェーディングが現れることが知られている。補正部32は、予め記憶されているシェーディングのデータを用いて、本来の画像に修正すべく原画像のデータに対して補正を行う。また、被検体Wの照明部20からラインセンサカメラ25までの光路上に各種レンズが挿入されている場合は、レンズのばらつきや収差等でラインセンサカメラ25の出力データに歪が生じる。このような歪も補正部32に予め記憶されている歪のデータを用いて、本来の倍率がかけられた画像に修正される。
Next, the
A
補正部32には、画像前処理部33が接続されており、必要に応じてフィルタリング等の前処理を行うことができる。画像前処理部33には、画像圧縮部34と、画像記憶部35とが接続されている。
画像圧縮部34は、画像前処理部33において前処理が施された原画像データに対し、近接の画素との演算によって原画像データを圧縮して画像サイズを縮小させる処理を実施する。画像の圧縮方法としては、例えば、2×2画素の領域の各画素データの平均を取ったり、8×8画素の領域の最大輝度データ以外のデータを切り捨てたり、逆に最小輝度データ以外のデータを切り捨てるなど、選択可能となっている。
画像記憶部35は、画像前処理部33から出力される原画像データと、画像圧縮部34で圧縮された画像データ等に加え、任意の画像を記憶でき、さらにそれら画像を読み出せるようになっている。また、領域指定部36で指定された領域を原画像データから切り出す処理を実施する。なお、画像記憶部35は、画像処理部4の欠陥抽出部41や、欠陥分類部42に画像データを出力することができる。
An
The
The
領域指定部36は、操作入力部29からの指令を受け、又は画像処理部4からの指令を受けて駆動制御部37に対して被検体Wから取得する画像の領域を指定する。また、画像記憶部35に対して原画像データや圧縮画像データから所定の領域の画像データを抽出するように指令する。
駆動制御部37は、被検体Wを移動する為の制御や上述の光学系の各種駆動部を制御するもので、フィルタ駆動部27と、スキャンステージ駆動部11と、照明角度駆動部23と、回転ステージ駆動部13と、吸着電磁弁15と、各種センサ28等が接続されている。操作入力部29で指定された領域や欠陥抽出部41で抽出された欠陥領域を基に、各駆動部と画像取り込み回路31との制御を行い、領域指定部36で指定された領域のみの画像データを画像取り込み回路31にて取り込むことができる。
The
The
制御部3に接続された画像処理部4は、欠陥抽出部41を有する。欠陥抽出部41は、画像記憶部35に記憶されている画像データを受け取り、被検体Wの固有の画像である被検査体外形画像や、特定パターン画像等を除去し、パターンマッチングなどを利用して欠陥領域を抽出する。また、欠陥が抽出された領域を領域指定部36に通知する。
欠陥分類部42は、欠陥抽出部41において抽出された欠陥領域の画像と、欠陥辞書44に蓄えられたデータとを比較して欠陥を分類し、欠陥種類の特定を行う。特定された欠陥については、欠陥情報(欠陥の分類及び種類)を作成する。
欠陥判定部43は、欠陥抽出部41で欠陥が抽出されなければ良品とみなし、欠陥抽出部41で欠陥が抽出されたときは、欠陥分類部42が特定した欠陥情報の内容から欠陥が被検体Wに存在するか否かを判断する。さらに、欠陥の内容や位置から被検体Wを生産ラインの下流に流して良いか否かを判定する。ここでの判断基準となるデータは、予め登録されているものを使用する。欠陥判定部43の判定結果は、画像保存部5に受け渡される。
The image processing unit 4 connected to the
The
The
画像保存部5は、画像判定結果保存部51を有する。画像判定結果保存部51は、欠陥抽出部41で抽出された欠陥領域の原画像データ及び撮像条件を変えて撮像した場合の欠陥領域の原画像データ、欠陥分類部42で分類された欠陥の種類や名前の情報、欠陥判定部43での判定結果等が保存される。
The
次に、この実施の形態の作用について説明する。
まず、生産ラインの上流より送られた被検体Wは、人の手あるいは生産ラインの搬送装置(以下、搬送装置等という)により、図示しないキャリアに複数枚装填してセットされる。その後、搬送装置等によって、図1の操作入力部29に検査開始が入力されることにより、欠陥検査装置1が動作を開始する。
Next, the operation of this embodiment will be described.
First, a plurality of specimens W sent from the upstream of the production line are loaded and set on a carrier (not shown) by a human hand or a transport device of the production line (hereinafter referred to as a transport device or the like). After that, when the inspection start is input to the
搬送装置等は、キャリアから特定の被検体Wを取り出し、テーブル14上に被検体Wを偏芯が取れた状態で正確に載置する。テーブル14上に被検体Wが正確に載置されると、図1の駆動制御部37が吸着電磁弁15をONにしてテーブル14上の被検体Wを吸着固定する。その後、駆動制御部37は、スキャンステージ駆動部11に命令を出してスキャンステージ10を移動させ、各種センサ28に含まれるノッチ検出センサの測定領域内に被検体Wの周縁部を移動させる。さらに、駆動制御部37が回転ステージ駆動部13に命令を出して、回転ステージ12を回転させる。ノッチ検出センサが被検体Wの周縁部のノッチを検出したら、その位置を基準として登録する。その後は、被検体Wの回転位置が常に同じなるように回転ステージ12を回転させる。
The transport device or the like takes out a specific subject W from the carrier, and accurately places the subject W on the table 14 with the eccentricity removed. When the subject W is accurately placed on the table 14, the
ノッチ検出センサと回転ステージ12の回転位置を決めたら、駆動制御部37がフィルタ駆動部27に命令を出して狭帯域フィルタ26を光路上から抜き取る。また、照明角度駆動部23に命令を出して照明部20を被検体Wに例えば入射角θ1の角度で照明するように角度調整させる。ここまでの処理で、準備段階が終了したので、照明部20で被検体Wを照明させ、全体画像の取得を開始する。
When the rotational positions of the notch detection sensor and the
照明部20は、被検体Wを照明するが、照明部20から出た光束の内、入射角θ1以外の拡散する不要な光束は、スリット22によって遮られるので、ほぼ入射角θ1の角度で入射する光だけが被検体Wに当たる。このとき、ラインセンサカメラ25は、被検体Wに対し角度θ0´の位置に配置されているため、被検体Wに全く凹凸が無い場合には暗視野照明の状態となり、被検体Wの表面で正反射した光束はラインセンサカメラ25には結像しない。しかし、被検体Wに傷や、埃、欠陥又は正常なパターンなどがあった場合は、入射角θ1の角度で入射する光束の中に反射角θ0´(=θ0)で散乱する光束が発生し、この反射光がラインセンサカメラ25に像を結ぶ。
The illuminating
ラインセンサカメラ25は、結像光を電気信号を変換して1ライン毎に画像取り込み回路31に出力する。駆動制御部37は、画像取り込み回路31に撮像開始トリガ信号を出力すると共にスキャンステージ10を矢印Aで示す一軸方向にスキャンを開始させる。これによって、ラインセンサカメラ25に対して被検体Wが移動するので、ラインセンサカメラ25から出力されるデータを取り込んだ順番に足し合わせると、被検体Wの全体像が得られる。
The
ここまでの処理の具体例を図3を参照して説明する。図3において横方向は、スキャンステージ10のスキャン方向、つまり時間の経過を示す。縦方向は、ラインセンサカメラ25の画素(受光面)の配列に対応する。撮像開始トリガ信号によって画像取り込み回路31がラインセンサカメラ25から出力される電気信号(画像データ)の受け取りを開始する。画像取り込み回路31は、1ライン分の画像LPのうちで、両端の電気信号は取り込まずにキャプチャ開始画素位置SPから取り込みを開始して、キャプチャ終了画素位置EPで取り込みを終了する。キャプチャ開始画素位置SP及びキャプチャ終了画素位置EPは、駆動制御部37において予め定義されており、キャプチャされる範囲内に被検体Wが収まり、かつ被検体Wが入らない領域をカットして画像のデータサイズを少なくように設定されている。
A specific example of the processing so far will be described with reference to FIG. In FIG. 3, the horizontal direction indicates the scanning direction of the
さらに、撮像開始トリガ信号から画像を取り込むライン数(キャプチャライン数)も駆動制御部37によって予め定められており、画像取り込み回路31は、キャプチャライン数だけ画像の取り込みを行う。その結果、キャプチャ領域CAは、キャプチャ開始画素位置SPからキャプチャ終了画素位置EPまでの画像をキャプチャライン数だけ足し合わせた四角形の画像となる。なお、キャプチャ領域CAは、ラインセンサカメラ25に結像する領域(撮像領域PA)より小さくなっている。
Furthermore, the number of lines (capture line number) for capturing an image from the imaging start trigger signal is also determined in advance by the
このようにして取得したキャプチャ領域CAの画像に対応するデータに補正部32で予め記憶されているシェーディングのデータを用いてシェーディング補正をして本来の画像に修正する。また、予め記憶されている歪のデータを用いて歪補正をして本来の倍率がかけられた画像に修正する。さらに、必要であれば、画像前処理部33でフィルタリング等行った後、被検体W全体の原画像データ(二次元画像データ)を構築して画像記憶部35に記憶する。
The data corresponding to the image of the capture area CA acquired in this way is subjected to shading correction using the shading data stored in advance by the
次に、原画像に対して圧縮処理を行い、データサイズを縮小させてから欠陥の抽出を行う。
画像圧縮部34が原画像データから近接画像との演算によって原画像データを圧縮して画像サイズを縮小させて圧縮画像データを作成する。例えば、5×5画素の平均をとって1画素に圧縮すると、原画像の1/25の画像データサイズにできる。この圧縮画像データは、画像記憶部35に記憶される。
Next, compression processing is performed on the original image, and the defect size is extracted after reducing the data size.
The
画像記憶部35に記憶された圧縮画像データは、画像処理部4の欠陥抽出部41に送られ、画像記憶部35に記憶されている理想的な良品の被検体の画像と比較される。被検体Wの固有の画像である被検体外形画像、露光範囲の外形画像や特定パターン画像等を除去した後、良品の被検体との画像との相違点を画像処理によって抽出する。相違点を含む所定の領域は、欠陥抽出部41が欠陥と判定した領域(欠陥領域)として取り扱われる。欠陥抽出部41によって抽出された欠陥領域の座標データは、領域指定部36に送られる。
The compressed image data stored in the
次に、欠陥検査装置1は、欠陥領域の画像を再度取得して、圧縮してない画像で、かつ必要な領域の画像のみを取得し、欠陥を詳細に精度良く検査できるようにする。また、必要に応じて撮像条件を変えて検査できるようにしても良い。
ここでは、駆動制御部37は、フィルタ駆動部27に命令を出して狭帯域フィルタ26を光路上に挿入する。また、必要により照明角度駆動部23に命令を出し、詳細に検査するように被検体W全体を撮像した時の条件とは異なる条件を設定し、被検体Wに入射角θ0の角度で照明するよう照明部20を設定する。ここで、ラインセンサカメラ25の撮像角度を変更しても良い。領域指定部36は、欠陥抽出部41から入力された欠陥領域の座標データに基づいて駆動制御部37に撮像開始トリガ信号を出力するタイミングを設定し、さらに画像取り込み回路31に対しては、キャプチャライン数、キャプチャ開始画素位置、キャプチャ終了画素位置を設定する。図1の駆動制御部37は、スキャンステージ駆動部11に命令を出し、被検体Wを載置したスキャンステージ10を矢印Aで示す一軸方向に移動させる。駆動制御部37からは、領域指定部36で設定されたタイミングで撮像開始トリガ信号が画像取り込み回路31に対し出力される。
Next, the
Here, the
ラインセンサカメラ25は、照明部20で照明された被検体Wの反射光を取り込み、その結像光を電気信号に変換する。電気信号は、1ライン毎に画像取り込み回路31に出力される。このとき、画像取り込み回路31は、駆動制御部37が発生させた撮像開始トリガ信号が入力されるまで画像の取り込みを行わず、撮像開始トリガ信号が入力されときのラインから領域指定部36で指定されたキャプチャライン数までの間だけ電気信号の取り込みを実施する。さらに、各キャプチャラインにおいては、キャプチャ開始画素位置からキャプチャ終了画素位置の間の電気信号のみを取り込む。
The
ここまでの処理の具体例を図4を参照して説明する。欠陥抽出部41において8つの欠陥領域DA1〜DA8が抽出された場合には、領域指定部36が欠陥領域DA1〜DA8毎に撮像開始トリガ信号、キャプチャライン数、キャプチャ開始画素位置、キャプチャ終了画素位置を演算して設定する。欠陥領域DA1については、撮像開始トリガ信号T1と、スキャン方向の画像長さLG1に相当するキャプチャライン数と、ラインセンサカメラ25の長さ方向の画像長さWH1に相当するキャプチャ開始画素位置SP1及びキャプチャ終了画素位置EP1とを設定する。ラインセンサカメラ25は、連続して被検体Wを含む画像を取得するが、画像取り込み回路31は、キャプチャ開始画素位置SP1からキャプチャ終了画素位置EP1までの範囲の電気信号のみをキャプチャライン数だけ受け取る。その結果、画像長さLG1×画像長さWH1に相当する欠陥領域DA1のみが取り込まれる。欠陥領域DA1の画像サイズは、画像長さLG1に相当するラインセンサカメラ25の撮像領域PA1よりも十分に小さくなる。
A specific example of the processing so far will be described with reference to FIG. When eight defect areas DA1 to DA8 are extracted by the
以下、他の欠陥領域DA2〜DA8についても同様にして画像を取り込む。なお、欠陥領域DA7と欠陥領域DA8とは、スキャン方向に一部重複する部分があるが、この場合には、1ライン中でキャプチャ開始画素位置SP8からキャプチャ終了画素位置EP8までの画像取り込みと、キャプチャ開始画素位置SP7からキャプチャ終了画素位置EP7までの画像取り込みとが平行して実施される。欠陥領域DA7及び欠陥領域DA8の画像サイズは、画像長さLG2に相当するラインセンサカメラ25の撮像領域PA2よりも十分に小さくなる。
Hereinafter, images are captured in the same manner for the other defective areas DA2 to DA8. The defect area DA7 and the defect area DA8 have a part that overlaps in the scanning direction. In this case, image capture from the capture start pixel position SP8 to the capture end pixel position EP8 in one line, Image capture from the capture start pixel position SP7 to the capture end pixel position EP7 is performed in parallel. The image sizes of the defect area DA7 and the defect area DA8 are sufficiently smaller than the imaging area PA2 of the
このように指定された欠陥領域のみのデータに対して補正部32で同様にしてシェーディング補正、歪み補正を行い、必要であれば画像前処理部33でフィルタリング等行った後、欠陥領域ごとの原画像データを構築して画像記憶部35に記憶する。この際、前記と同様に画像圧縮部34が、原画像データを必要に応じて圧縮して画像記憶部35に記憶させても良い。画像記憶部35は、原画像データ、又は必要に応じて照明の角度の条件を変えて撮像した原画像データを欠陥分類部42に送る。
The
欠陥分類部42は、詳細な欠陥領域の画像データに基づいて、予め蓄えられた欠陥の情報を欠陥辞書44から読み込んで比較し、欠陥の種類を特定する。特性された欠陥には、予め登録されている欠陥の名前を付ける。このようにして作成された欠陥情報の内容から欠陥判定部43で欠陥が被検体Wに存在するか否かを判断すると共に、被検体Wを生産ラインの下流に流してよいか否かを判定する。例えば、欠陥が製品の品質に影響を与えない位置にある場合や、製品の品質に影響を与えない大きさである場合には、生産ラインの下流に流しても良いと判定する。欠陥が製品の品質に影響を与える場合には、その被検体Wを不良品として生産ラインから外すように指示を出力する。この場合、その被検体Wは自動的に生産ラインから外されるか、通知を受けた作業者がその被検体Wを生産ラインから外す。
そして、欠陥判定部43で良否判定を行った後、欠陥抽出部41で抽出された欠陥領域の原画像データ、撮像条件を変えて撮像した欠陥領域の原画像データ、欠陥情報、欠陥判定部43での判定結果等が画像保存部5の画像判定結果保存部51に保存される。
The
Then, after the pass / fail determination is performed by the
本実施の形態によれば、被検体W全体の画像から圧縮画像データを作成し、圧縮画像データを用いて欠陥を抽出するようにしたので、容量の大きい原画像データを処理する場合に比べて検査時間を短縮できる。圧縮画像データで欠陥抽出を行った後、抽出された領域についての圧縮していない画像を再度取得するようにしたので、圧縮していない画像を利用して欠陥領域の詳細な検査を行うことが可能になる。欠陥領域の画像のみを取得するので、画像処理等の時間を短縮できる。さらに、抽出された欠陥領域のみを再度取得する際には、ラインセンサカメラ25側に機械的なマスク等を使用する代わりに、制御部3の処理で必要な情報のみを取り出すようにしたので、装置構成が簡略化すると共に、取得領域の変更等に柔軟に対応することができる。さらに、撮像条件を変えて再度取得した場合は、さらなる詳細で精度の良い検査を行うことができる。
According to the present embodiment, compressed image data is created from an image of the entire subject W, and defects are extracted using the compressed image data. Therefore, compared with the case of processing large-capacity original image data. Inspection time can be shortened. After performing defect extraction with compressed image data, an uncompressed image of the extracted area is obtained again, so that a detailed inspection of the defective area can be performed using the uncompressed image. It becomes possible. Since only the image of the defective area is acquired, the time for image processing or the like can be shortened. Furthermore, when acquiring only the extracted defect area again, instead of using a mechanical mask or the like on the
本発明の第2の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
この実施の形態は、ウエハの周縁部(ウエハエッジ部)の検査を行うことを主な特徴とする。すなわち、ウエハにクラックが生じたままで生産を継続すると、生産途中でウエハが割れることがあるので、なるべく早い工程でウエハエッジ部におけるクラックの有無を検出して、ウエハの良否を決定することが望まれていた。
また、フォトリソグラフィ工程では、ウエハの表面上にフォトレジストの薄膜が塗布された後、リンス液を適量滴下させてウエハ周縁のフォトレジストを所定幅だけカットして、ウエハエッジ部を露出させていた。これは、不必要に裏面まで回り込んだフォトレジストからパーティクルが発生して欠陥となることを防ぐためである。
本実施の形態は、この段階でウエハエッジ部の検査を行うことが、それ以降の工程で処理を進めて良品の半導体ウエハを製造する上で重要な検査項目になることに着目してなされたものである。なお、装置構成は、第1の実施の形態と同様であるため、重複する説明は省略する。
A second embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
This embodiment is mainly characterized in that the peripheral edge portion (wafer edge portion) of the wafer is inspected. In other words, if production is continued with cracks occurring on the wafer, the wafer may break during production, so it is desirable to determine the quality of the wafer by detecting the presence or absence of cracks at the wafer edge as early as possible. It was.
In the photolithography process, after a thin film of photoresist is applied on the surface of the wafer, an appropriate amount of a rinsing liquid is dropped to cut the photoresist on the periphery of the wafer by a predetermined width to expose the wafer edge portion. This is to prevent particles from being generated from the photoresist that unnecessarily travels to the back surface and causing defects.
In the present embodiment, the inspection of the wafer edge portion at this stage is an important inspection item for manufacturing a good semiconductor wafer by proceeding with the subsequent processes. It is. Note that the apparatus configuration is the same as that of the first embodiment, and a duplicate description is omitted.
ウエハである被検体Wのエッジカットライン幅の測定では、ウエハエッジ部全ての領域を測定することはなく、例えば、周方向に90度ずつずれた計4箇所で被検体Wのエッジカットライン幅を測定するだけでも、ウエハエッジ部の分布を想定することができる。以下、操作入力部29に検査開始が入力されることにより、本装置が動作を開始するところから述べる。
In the measurement of the edge cut line width of the subject W that is a wafer, the entire area of the wafer edge portion is not measured. For example, the edge cut line width of the subject W is measured at a total of four positions shifted by 90 degrees in the circumferential direction. The distribution of the wafer edge portion can be assumed only by measurement. Hereinafter, the operation will be described from the start of the operation of the apparatus when the start of inspection is input to the
最初に、図1の操作入力部29から領域指定部36に測定領域の設定を行う。設定する領域は、前記したように90°ごとのウエハエッジ部に相当する領域である。
領域指定部36は、設定された領域に基づいて駆動制御部37に回転ステージ撮像開始トリガ信号を出力するパルス数を設定し、さらに画像取り込み回路31にキャプチャライン数、キャプチャ開始画素位置、キャプチャ終了画素位置を設定する。操作入力部29から検査開始信号が入力されると、前実施例と同様に被検体Wの位置決めをした後、図1の駆動制御部37がスキャンステージ駆動部11に命令を出し、被検体Wを載置したスキャンステージ10をラインセンサカメラ25の撮像ラインと被検体Wの中心が重なる位置まで移動させる。
次に、駆動制御部37は、回転ステージ駆動部13に命令を出して、被検体Wを載置した回転ステージ12を180度回転させる。このとき駆動制御部37からは、領域指定部36で設定されたタイミングで画像取り込み回路31に撮像開始トリガ信号が出力される。
First, a measurement region is set in the
The
Next, the
このとき、画像取り込み回路31は、駆動制御部37から出力される撮像開始トリガ信号を受け、その信号を受けたラインから領域指定部36で指定されたキャプチャライン数のうち、指定されたキャプチャ開始画素位置から指定されたキャプチャ終了画素位置までの電気信号のみを取り込む。
At this time, the
ここでの処理の具体例について、図5を参照して説明する。図5においてスキャン方向とは、回転ステージ12の回転量を示す。回転ステージ12が回転するのに対してラインセンサカメラ25は移動しないので、被検体Wの画像は四角形になり、スキャン方向に沿う両端にウエハエッジが現れる。ウエハエッジの内側には、レジストが除去されて被検体Wとなるウエハの表面が露出したエッジカットラインが現れる。画像取り込み回路31は、撮像開始トリガ信号T2からキャプチャ開始画素位置SP21からキャプチャ終了画素位置EP21までと、キャプチャ開始画素位置SP22からキャプチャ終了画素位置EP22までを取り込み、画像長さLG3に相当するキャプチャライン数で取り込みを終了する。検査領域EA1,EA2は、画像長さLG3に相当するラインセンサカメラ25の撮像領域PA3よりも十分に小さい。
A specific example of the processing here will be described with reference to FIG. In FIG. 5, the scan direction indicates the amount of rotation of the
さらに、回転ステージ12を90°回転させた位置に相当するタイミングで撮像開始トリガ信号T3が出力されるので、画像取り込み回路31は、前記と同様の画素位置SP21,EP21で検査領域EA3、画素位置SP22,EP22で検査領域EA4の画像を取り込む。検査領域EA3,EA4は、検査対象EA1,EA2に対して被検体Wの中心周りに90°回転させた位置の画像に相当する。検査領域EA3,EA4の画像サイズは、画像長さLG3に相当するラインセンサカメラ25の撮像領域PA3よりも十分に小さい。
Furthermore, since the imaging start trigger signal T3 is output at a timing corresponding to the position obtained by rotating the
この指定された欠陥領域のみのデータに対して補正部32で上記同様にシェーディング補正、歪み補正を行い、必要であれば画像前処理部33でフィルタリング等行った後、被検体W全体の原画像データを構築して画像記憶部35に記憶する。
また、この際、前記と同様に画像圧縮部34にて原画像データを近接画素との演算によって原画像データを圧縮し、圧縮画像データを画像記憶部35に記憶する。
The
At this time, in the same manner as described above, the
画像記憶部35は、圧縮画像データ、又は原画像データを欠陥抽出部41に送る。欠陥抽出部41では画像記憶部35に記憶された理想とする良品の画像と比較し、ウエハのエッジカットラインの幅を測定し、クラックや異物などが生じている欠陥領域のみを抽出する。欠陥抽出部41によって抽出された欠陥領域データは欠陥分類部42に送られ、欠陥分類部42ではその欠陥領域の画像データに基づいて、予め蓄えられた欠陥の情報を欠陥辞書44から読み込んで比較し、欠陥種類の特定を行う。欠陥辞書44に登録されている欠陥が発見された場合には、その欠陥の名前を抽出した欠陥領域に対して付与する。
さらに、欠陥情報の内容から欠陥判定部43で欠陥が被検体Wに存在するか否かを判断すると共に、被検体Wを生産ラインの下流に流してよいか否かを判定する。欠陥判定部43で良否判定を行った後には、欠陥抽出部41で抽出された欠陥領域の原画像データ、欠陥情報、判定結果等を画像保存部5の画像判定結果保存部51に保存する。なお、欠陥抽出部41で欠陥が抽出されなかった場合は、そのまま欠陥判定部43で良品と判断しても良い。
The
Further, the
この実施の形態によれば、予め検査する領域が決まっている場合は、検査領域を設定し検査開始することで、検査に必要な領域のみの容量の小さい画像データで効率よく検査することができる。エッジカットラインの検査を速やかに実施することで、被検体Wの割れなどを早期に発見することが可能になる。 According to this embodiment, when a region to be inspected is determined in advance, by setting the inspection region and starting the inspection, it is possible to efficiently inspect with small capacity image data of only the region necessary for the inspection. . By promptly inspecting the edge cut line, it becomes possible to detect a crack of the subject W at an early stage.
なお、本実施の形態は、エッジカットラインの検査に限定されずに、スパイラル測定をする場合などのように、作業者が設定した複数の検査点について検査する場合に適用することができる。このような場合でも検査を速やかに行うことが可能になる。 Note that the present embodiment is not limited to the inspection of the edge cut line, but can be applied to a case where a plurality of inspection points set by the operator are inspected, such as when spiral measurement is performed. Even in such a case, the inspection can be performed promptly.
本発明の第3の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
この実施の形態は、圧縮した画像のみで検査を行った場合には、大きい欠陥の検査は可能であるが、欠陥の種類や大きさによって正しい判断ができないという課題を解決するためになされたものである。さらに、欠陥の種類の分類などを自動的に行うことで検査効率を向上させるようにしたものである。なお、装置構成は、図1及び図2に示すような第1の実施の形態と同様であるため、説明を省略して以下に作用を説明する。
A third embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
This embodiment has been made to solve the problem that large defects can be inspected only when a compressed image is inspected, but correct judgment cannot be made depending on the type and size of the defect. It is. Further, the inspection efficiency is improved by automatically classifying the types of defects. Since the apparatus configuration is the same as that of the first embodiment as shown in FIGS. 1 and 2, the description will be omitted and the operation will be described below.
搬送装置等は、キャリアから特定の被検体Wを取り出し、テーブル14上に被検体Wを偏芯が取れた状態で正確に載置する。テーブル14上に被検体Wが正確に載置されると、図1の駆動制御部37が吸着電磁弁15をONにしてテーブ上の被検体Wを吸着固定する。その後、駆動制御部37は、スキャンステージ駆動部11に命令を出してスキャンステージ10を移動させ、各種センサ28に含まれるノッチ検出センサの測定領域内に被検体Wの周縁部を移動させる。さらに、駆動制御部37が回転ステージ駆動部13に命令を出して、回転ステージ12を回転させる。ノッチ検出センサが被検体Wの周縁部のノッチを検出したら、その位置を基準として登録する。その後は、被検体Wの回転位置が常に同じなるように回転ステージ12を回転させる。
The transport device or the like takes out a specific subject W from the carrier, and accurately places the subject W on the table 14 with the eccentricity removed. When the subject W is accurately placed on the table 14, the
ノッチ検出センサと回転ステージ12の回転位置を決めたら、駆動制御部37は、スキャンステージ駆動部11に命令を出し、被検体Wを載置したスキャンステージ12を一軸に移動する。被検体Wが一軸に移動していくと、図2の照明部20及びシリンドリカルレンズ21によって収束された光によって入射角θ0の角度で照明される。
被検体Wの照明された直線上の部分から反射した光束は、その光学系に挿入された狭帯域フィルタ26によって光線の特定の波長のみがラインセンサカメラ25に結像する。この時、被検体Wの表面に膜厚の変化などがある場合は、狭帯域フィルタ26を通過する波長同士の干渉が発生しており、膜厚変化を光量変化として検出することができる。
When the rotational positions of the notch detection sensor and the
Only a specific wavelength of the light beam reflected from the illuminated straight portion of the subject W is imaged on the
ラインセンサカメラ25は、結像光を電気信号に変換し、1ライン毎画像取り込み回路31に伝える。画像取り込み回路31は、図3に示す具体例と同様にして被検体Wが移動するのに応じて各ラインの電気信号をデータに変換する。さらに、画像取り込み回路31で取り込んだデータに対して補正部32でシェーディング補正や、歪み補正を行う。さらに、必要であれば画像前処理部33でフィルタリング等行った後、被検体W全体の原画像データを構築して画像記憶部35に記憶する。また、この際、画像圧縮部34にて原画像データを近接画素との演算によって圧縮し、圧縮画像データを画像記憶部35に記憶する。
The
ここで、画像記憶部35は、理想とする良品の被検体Wの画像を複数記憶している。画像記憶部35に記憶された圧縮画像データは、画像処理部4の欠陥抽出部41に送られ、画像記憶部35に記憶された理想とする良品の被検体Wの画像と比較し、被検体Wに固有の画像である被検体外形画像、露光範囲の外形画像や特定パターン画像等を除去し、良品の被検体との画像との相違点を画像処理によって抽出する。相違点を含む所定の領域は、欠陥抽出部41が欠陥と判定した領域(欠陥領域)として取り扱われる。欠陥抽出部41によって抽出された欠陥領域の座標データは、領域指定部36に送られる。
Here, the
画像記憶部35は、領域指定部36に送られた座標データに基づいて、原画像データから欠陥領域部分のみを切り取り、欠陥分類部42に欠陥領域を切り取って作られる詳細画像データを送る。例えば、図6に示すように、原画像I0中に座標データによって定義される欠陥領域DA31が存在する場合には、欠陥領域DA31に相当する画像データが詳細画像データとして取り出されることになる。
欠陥分類部42では、その詳細な欠陥領域の画像データに基づいて予め蓄えられた欠陥の情報を欠陥辞書44から読み込んで比較して欠陥種類の特定を行い、特定された欠陥に登録されている名前を付ける。
Based on the coordinate data sent to the
The
欠陥抽出部41で欠陥が抽出されなければ欠陥判定部43で良品とみなし、欠陥抽出部41で欠陥が抽出された場合は、欠陥分類部42で欠陥辞書44を参照しながら、その欠陥を分類及び種類の特定し、その欠陥情報の内容から欠陥判定部43で欠陥が被検体Wに存在するか否かを判断する。さらに、被検体Wを生産ラインの下流に流してよいか否かを判定する。前記と同様に、欠陥領域の原画像データ、欠陥情報、判定結果等を画像判定結果保存部51に保存する。この後、操作入力部29からの操作で、保存された欠陥領域画像データや判定結果をいつでも参照することができるようになる。
If no defect is extracted by the
本実施の形態によれば、適当な圧縮データで欠陥を抽出することにより、容量の大きい原画像データを転送したりする時間が省ける。欠陥抽出の際、容量の大きい原画像データで時間をかけて処理する必要がなくなる。容量の小さい圧縮データで欠陥抽出した後、抽出された欠陥領域のみ原画像データを取り出して詳細な欠陥を分類を行ったり、良否判定を行ったりするので、欠陥検査を効率よく行うことができる。欠陥分類部42及び欠陥辞書44を用いることで、予め登録されている欠陥との比較を行いながら欠陥検査を行えるので、発生頻度の高い欠陥や、同じ場所に発生し易い欠陥などを確認し易くなる。
According to the present embodiment, it is possible to save time for transferring large-capacity original image data by extracting defects with appropriate compressed data. At the time of defect extraction, it is not necessary to process the original image data having a large capacity over time. Since defect extraction is performed with compressed data having a small capacity, original image data is extracted only from the extracted defect area, and detailed defects are classified or quality determination is performed, so that defect inspection can be performed efficiently. By using the
なお、本発明は、前記の各実施の形態に限定されずに広く応用することができる。
例えば、欠陥領域を指定した後に使用する画像データは、必ずしも原画像データである必要はなく、必要に応じて圧縮をかけた圧縮画像データでも良い。比較的に大きい欠陥のみを検査するときには、処理時間を短縮できる。
ラインセンサカメラ25で被検体W全体を撮像できるような構成としたが、解像度をさらに上げるために、被検体Wを複数回に分けて撮像するように構成しても良い。
The present invention can be widely applied without being limited to the above-described embodiments.
For example, the image data used after designating the defective area is not necessarily the original image data, and may be compressed image data that is compressed as necessary. When inspecting only relatively large defects, the processing time can be shortened.
Although the configuration is such that the entire subject W can be imaged by the
第1の実施の形態では、圧縮画像データで検出された欠陥領域に対して照明部20の角度を変えて欠陥領域のみの画像データを再取得した方法を述べたが、これに限定されずに他の観察を有する装置としても良い。明視野観察、暗視野観察、回折光観察、裏面観察等異なる観察方法で欠陥領域画像を再取得してもよい。また、他の光学条件を有する装置であれば、フィルタの種類を変えたり、偏光板を挿抜したり、照明光を変えたり等、異なる光学条件で欠陥領域画像を再取得しても良い。
また、パラメータ(撮像開始トリガ信号タイミング、キャプチャライン数、キャプチャ開始画素位置、キャプチャ終了画素位置)設定を変更することにより、サイズの小さいウエハなど、サイズの異なる被検体であっても効率よく検査ができる。
In the first embodiment, the method in which the angle of the
In addition, by changing the parameter settings (imaging start trigger signal timing, number of capture lines, capture start pixel position, capture end pixel position), it is possible to efficiently inspect even specimens of different sizes, such as small wafers. it can.
1 欠陥検査装置
10 スキャンステージ(保持部)
12 回転ステージ(保持部)
14 テーブル(保持部)
25 ラインセンサカメラ(撮像手段)
29 操作入力部
31 画像取り込み回路
34 画像圧縮部
35 画像記憶部
36 領域指定部
42 欠陥分類部
43 欠陥判定部
44 欠陥辞書
51 画像判定結果保存部
1
12 Rotating stage (holding part)
14 Table (holding part)
25 Line sensor camera (imaging means)
DESCRIPTION OF
Claims (9)
前記撮像手段で取り込んだ画像データを原画像とし、これを圧縮して圧縮画像データを生成する画像圧縮部と、
前記圧縮画像データから前記被検体の欠陥を含む欠陥領域を抽出する欠陥抽出部と、
前記欠陥抽出部で抽出した前記欠陥領域を指定する領域指定部と、を備え、
前記領域指定部によって指定されて取得された領域の原画像データに対して欠陥検査を行うことを特徴とする欠陥検査装置。 Imaging means for capturing image data as optical image information of the subject;
An image compression unit that generates the compressed image data by compressing the image data captured by the imaging unit as an original image;
A defect extraction unit for extracting a defect region including a defect of the subject from the compressed image data;
An area designating unit for designating the defect area extracted by the defect extracting unit,
A defect inspection apparatus for performing defect inspection on original image data of an area specified and acquired by the area specifying unit.
前記撮像手段から出力される画像データを取り込んで前記被検体に関する画像を作成する画像取り込み部と、を備え、
前記撮像手段は、複数の撮像素子が直線状に配置されたラインセンサであり、
前記領域指定部は、前記撮像手段の前記複数の撮像素子の中から画像データを取り込む前記撮像素子を設定すると共に、その撮像素子で画像データを取り込む回数を前記保持部の移動に同期させて設定し、
前記画像取り込み部は、前記撮像素子の出力から前記領域指定部で設定された領域の画像を取り込むことを特徴とする請求項1に記載の欠陥検査装置。 A holding unit for holding the subject in a movable manner;
An image capturing unit that captures image data output from the imaging unit and creates an image related to the subject;
The imaging means is a line sensor in which a plurality of imaging elements are arranged in a straight line,
The area designating unit sets the image sensor that captures image data from the plurality of image sensors of the imaging unit, and sets the number of times image data is captured by the image sensor in synchronization with the movement of the holding unit. And
The defect inspection apparatus according to claim 1, wherein the image capturing unit captures an image of a region set by the region designating unit from an output of the image sensor.
欠陥情報を予め蓄えておく欠陥辞書と、
前記欠陥分類部で分類した欠陥情報と、前記欠陥辞書に含まれる欠陥情報とを比較し、その前記被検体が良品であるか不良品であるかを判定する欠陥判定部と、
をさらに備えることを特徴とする請求項6に記載の欠陥検査装置。 A defect classification unit for classifying defects included in the defect area acquired from the original image data, and identifying the type of defect;
A defect dictionary that stores defect information in advance;
A defect determination unit that compares the defect information classified by the defect classification unit with defect information included in the defect dictionary and determines whether the subject is a good product or a defective product;
The defect inspection apparatus according to claim 6, further comprising:
The image storage unit for storing the original image data is provided, and uncompressed image data of a defective area is cut out and acquired from the original image data stored in the image storage unit. Defect inspection equipment.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006107466A JP2007278928A (en) | 2006-04-10 | 2006-04-10 | Defect inspection device |
US11/784,361 US20070237385A1 (en) | 2006-04-10 | 2007-04-06 | Defect inspection apparatus |
CNA2007100910666A CN101055256A (en) | 2006-04-10 | 2007-04-06 | Defect inspection apparatus |
TW096112308A TW200745538A (en) | 2006-04-10 | 2007-04-09 | Defect inspection apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006107466A JP2007278928A (en) | 2006-04-10 | 2006-04-10 | Defect inspection device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007278928A true JP2007278928A (en) | 2007-10-25 |
Family
ID=38575316
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006107466A Pending JP2007278928A (en) | 2006-04-10 | 2006-04-10 | Defect inspection device |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20070237385A1 (en) |
JP (1) | JP2007278928A (en) |
CN (1) | CN101055256A (en) |
TW (1) | TW200745538A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009222611A (en) * | 2008-03-18 | 2009-10-01 | Hitachi High-Technologies Corp | Inspection apparatus and inspection method |
JP2013108799A (en) * | 2011-11-18 | 2013-06-06 | Keyence Corp | Image processor, image processing method and computer program |
Families Citing this family (36)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW200918853A (en) * | 2007-10-30 | 2009-05-01 | King Yuan Electronics Co Ltd | Coplanarity inspection device of printed circuit board |
KR101267530B1 (en) * | 2008-04-30 | 2013-05-23 | 엘지디스플레이 주식회사 | Apparatus and method for applying Photo-resist |
KR101610821B1 (en) * | 2008-05-21 | 2016-04-20 | 포톤 다이나믹스, 인코포레이티드 | Enhancement of detection of defects on display panels using front lighting |
US20100300259A1 (en) * | 2009-05-29 | 2010-12-02 | Applied Materials, Inc. | Substrate side marking and identification |
JP4933601B2 (en) * | 2009-08-18 | 2012-05-16 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | Inspection apparatus and inspection method |
JP2012049381A (en) * | 2010-08-27 | 2012-03-08 | Toshiba Corp | Inspection apparatus and inspection method |
CN102384908A (en) * | 2010-09-01 | 2012-03-21 | 台达电子工业股份有限公司 | Device and method for checking internal defects of base plate |
CN102621149B (en) * | 2012-03-21 | 2015-07-22 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Substrate detection device and method |
US20130278925A1 (en) * | 2012-04-19 | 2013-10-24 | Wen-Da Cheng | Detecting device and method for substrate |
JP2016076505A (en) * | 2013-01-23 | 2016-05-12 | 株式会社新川 | Die bonder and damage detection method for semiconductor die with die bonder |
CN103353459A (en) * | 2013-06-18 | 2013-10-16 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Detection apparatus and detection method |
CN103439339B (en) * | 2013-09-02 | 2015-11-25 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Be pasted with defect detecting device and the defect inspection method of the liquid crystal panel of polaroid |
CN103487442A (en) * | 2013-09-25 | 2014-01-01 | 华南理工大学 | Novel device and method for detecting defects of flexible circuit boards |
US9645092B2 (en) | 2013-10-14 | 2017-05-09 | Valco Cincinnati, Inc. | Device and method for verifying the construction of adhesively-attached substrates |
US9734568B2 (en) * | 2014-02-25 | 2017-08-15 | Kla-Tencor Corporation | Automated inline inspection and metrology using shadow-gram images |
KR102200303B1 (en) * | 2014-08-19 | 2021-01-07 | 동우 화인켐 주식회사 | Inspection device for optical film |
JP6818403B2 (en) * | 2015-07-22 | 2021-01-20 | キヤノン株式会社 | Optical property measuring device |
CN105160670A (en) * | 2015-08-27 | 2015-12-16 | 袁芬 | Glass defect type identification method |
CN105184783A (en) * | 2015-08-27 | 2015-12-23 | 袁芬 | Glass defect type identification system |
DE112016001723T5 (en) * | 2015-10-06 | 2018-01-04 | Ngk Insulators, Ltd. | Method for controlling a ceramic body surface |
CN108303640B (en) * | 2016-01-25 | 2020-06-05 | 深圳睿晟自动化技术有限公司 | Line detection method and device |
CN106706664A (en) * | 2016-12-28 | 2017-05-24 | 武汉华星光电技术有限公司 | Detection method, detection system and detection device for flexible substrate |
CH713447B1 (en) * | 2017-02-09 | 2020-08-14 | Besi Switzerland Ag | Method and device for the assembly of semiconductor chips. |
EP3635079B1 (en) * | 2017-06-02 | 2024-04-17 | Hindustan Petroleum Corporation Limited | A formulation for enhancing lubricity of fuels |
JP2019047461A (en) * | 2017-09-07 | 2019-03-22 | 富士通株式会社 | Image processing program, image processing method and image processing device |
JP6907881B2 (en) | 2017-10-24 | 2021-07-21 | オムロン株式会社 | Image processing device, image processing program |
US10957566B2 (en) * | 2018-04-12 | 2021-03-23 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Wafer-level inspection using on-valve inspection detectors |
CN108896904A (en) * | 2018-07-09 | 2018-11-27 | 武汉瑞莱保能源技术有限公司 | A kind of micro-circuit board fault detection machine people |
JP7166189B2 (en) * | 2019-02-15 | 2022-11-07 | 東京エレクトロン株式会社 | Image generation device, inspection device and image generation method |
WO2021029625A1 (en) * | 2019-08-09 | 2021-02-18 | 레이디소프트 주식회사 | Transmission image-based non-destructive inspecting method, method of providing non-destructive inspection function, and device therefor |
KR102252592B1 (en) * | 2019-08-16 | 2021-05-17 | 라온피플 주식회사 | Apparatus and method for inspecting substrate defect |
JP7170605B2 (en) * | 2019-09-02 | 2022-11-14 | 株式会社東芝 | Defect inspection device, defect inspection method, and program |
US20230025299A1 (en) * | 2019-12-16 | 2023-01-26 | Mitsubishi Electric Corporation | Image-based acceptance learning device, image-based acceptance determination device, and image reading device |
CN110940787B (en) * | 2019-12-29 | 2022-12-13 | 圣达电气有限公司 | Movable copper foil pinhole inspection device |
JP2023183106A (en) * | 2022-06-15 | 2023-12-27 | キヤノン株式会社 | Image processing device, image processing method, and program |
CN116879292B (en) * | 2023-07-11 | 2024-04-30 | 山东凯大新型材料科技有限公司 | Quality evaluation method and device for photocatalyst diatom mud board |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04177851A (en) * | 1990-11-13 | 1992-06-25 | Nec Kyushu Ltd | Device for inspecting wafer appearance |
JP2002077874A (en) * | 2000-08-31 | 2002-03-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Image pickup device and method |
JP2003090802A (en) * | 2001-09-18 | 2003-03-28 | Olympus Optical Co Ltd | Substrate inspection system |
JP2004226212A (en) * | 2003-01-22 | 2004-08-12 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Method and device for detecting pinhole defect and contamination defect on transparent object |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
IL99823A0 (en) * | 1990-11-16 | 1992-08-18 | Orbot Instr Ltd | Optical inspection method and apparatus |
US5586058A (en) * | 1990-12-04 | 1996-12-17 | Orbot Instruments Ltd. | Apparatus and method for inspection of a patterned object by comparison thereof to a reference |
US6366690B1 (en) * | 1998-07-07 | 2002-04-02 | Applied Materials, Inc. | Pixel based machine for patterned wafers |
TW526660B (en) * | 2000-08-07 | 2003-04-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Device and method for reading image, and recording medium for image reading program |
IL149588A (en) * | 2001-05-11 | 2007-07-24 | Orbotech Ltd | Image searching defect detector |
JP5006520B2 (en) * | 2005-03-22 | 2012-08-22 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | Defect observation apparatus and defect observation method using defect observation apparatus |
-
2006
- 2006-04-10 JP JP2006107466A patent/JP2007278928A/en active Pending
-
2007
- 2007-04-06 CN CNA2007100910666A patent/CN101055256A/en active Pending
- 2007-04-06 US US11/784,361 patent/US20070237385A1/en not_active Abandoned
- 2007-04-09 TW TW096112308A patent/TW200745538A/en unknown
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04177851A (en) * | 1990-11-13 | 1992-06-25 | Nec Kyushu Ltd | Device for inspecting wafer appearance |
JP2002077874A (en) * | 2000-08-31 | 2002-03-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Image pickup device and method |
JP2003090802A (en) * | 2001-09-18 | 2003-03-28 | Olympus Optical Co Ltd | Substrate inspection system |
JP2004226212A (en) * | 2003-01-22 | 2004-08-12 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Method and device for detecting pinhole defect and contamination defect on transparent object |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009222611A (en) * | 2008-03-18 | 2009-10-01 | Hitachi High-Technologies Corp | Inspection apparatus and inspection method |
JP2013108799A (en) * | 2011-11-18 | 2013-06-06 | Keyence Corp | Image processor, image processing method and computer program |
US9336586B2 (en) | 2011-11-18 | 2016-05-10 | Keyence Corporation | Image processing apparatus and image processing method using compressed image data or partial image data |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20070237385A1 (en) | 2007-10-11 |
CN101055256A (en) | 2007-10-17 |
TW200745538A (en) | 2007-12-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2007278928A (en) | Defect inspection device | |
US6928185B2 (en) | Defect inspection method and defect inspection apparatus | |
US9064922B2 (en) | Substrate inspection apparatus and substrate inspection method | |
TWI648534B (en) | Inspection method for back surface of epitaxial wafer, inspection device for back surface of epitaxial wafer, lift pin management method for epitaxial growth device, and manufacturing method for epitaxial wafer | |
JPWO2008139735A1 (en) | Surface inspection apparatus and surface inspection method | |
KR100411356B1 (en) | Apparatus for inspecting surface | |
JP2015227793A (en) | Inspection device of optical components and inspection method thereof | |
JP2011123019A (en) | Image inspection apparatus | |
KR20100053687A (en) | Inspection method based on captured image and inspection device | |
JP2007333491A (en) | Visual insepction device of sheet member | |
US8223328B2 (en) | Surface inspecting apparatus and surface inspecting method | |
JP2012083125A (en) | End face inspection device | |
JP2009236760A (en) | Image detection device and inspection apparatus | |
JP2005214980A (en) | Macro inspection method for wafer and automatic wafer macro inspection device | |
JP5212779B2 (en) | Surface inspection apparatus and surface inspection method | |
US20030160953A1 (en) | System for inspecting the surfaces of objects | |
JP2007093330A (en) | Defect extraction device and defect extraction method | |
JP2008064656A (en) | Peripheral edge inspecting apparatus | |
JP2010190740A (en) | Substrate inspection device, method, and program | |
JP2005077272A (en) | Method for inspecting defect | |
JP2009063365A (en) | Inspection device and inspection method | |
JP2000028535A (en) | Defect inspecting device | |
JP3865156B2 (en) | Image comparison apparatus, wafer inspection apparatus and wafer inspection system using the same | |
JP2001091474A (en) | Defect inspection system | |
JP4613090B2 (en) | Inspection device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090406 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110412 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110413 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20110802 |