JP2007185576A - Apparatus for dissolving gas and apparatus for preparing water wherein gas is dissolved - Google Patents
Apparatus for dissolving gas and apparatus for preparing water wherein gas is dissolved Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007185576A JP2007185576A JP2006004367A JP2006004367A JP2007185576A JP 2007185576 A JP2007185576 A JP 2007185576A JP 2006004367 A JP2006004367 A JP 2006004367A JP 2006004367 A JP2006004367 A JP 2006004367A JP 2007185576 A JP2007185576 A JP 2007185576A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- liquid
- path
- water
- dissolved
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Mixers With Rotating Receptacles And Mixers With Vibration Mechanisms (AREA)
Abstract
Description
本発明は、水、海水、各種飲料(飲料水、コーヒー飲料、果実飲料(ジュース)、お茶、清涼飲料)などの液体に、空気、酸素、オゾン、炭酸ガス、窒素、塩素、水素、アルゴンなどの気体(ガス)を溶解させるガス溶解装置およびガス溶解水生成装置に関する。 In the present invention, liquids such as water, seawater, various beverages (drinking water, coffee beverages, fruit beverages (juice), tea, soft drinks), air, oxygen, ozone, carbon dioxide, nitrogen, chlorine, hydrogen, argon, etc. The present invention relates to a gas dissolving device and a gas-dissolved water generating device for dissolving the gas (gas).
従来、液体にガスを溶解させる技術として、ガス気泡を液体中に放散させる技術が知られていたが、大きな気泡径のガスは浮力が大きくて、液体(液相)中を急速上昇して表面で破裂し気相へ放散してしまうため、液体中のガス溶解度が低かった。 Conventionally, as a technique for dissolving gas in a liquid, a technique for diffusing gas bubbles into the liquid has been known. However, a gas with a large bubble diameter has a large buoyancy and rapidly rises in the liquid (liquid phase). Ruptured and diffused into the gas phase, so the gas solubility in the liquid was low.
この改善策として、ガス溶解装置として、特開平10−66850号公報(特許文献1)の請求項3に記載された、円筒ケーシングと;二つの半楕円形翼盤をその弦側側縁を円筒ケーシングの軸芯に対して対称的に交差させて向き合わせ、交差部よりも上流側の翼盤相互の弦側側縁間を、前記円筒ケーシングの横断面をほぼ二等分する三角形の仕切板で閉塞するとともに、前記翼盤の円弧側縁を前記円筒ケーシング内周壁に結合した変流ガイドベインと;半球状の頭部と逆截頭円錐台形の脚部を有し、半球状頭部を円筒ケーシングの軸芯方向に向けて逆截頭円錐台形脚部と前記変流ガイドベインの下流側の円筒ケーシングの内周壁に放射状に固設した複数の撹拌体と;から構成されている気液混合装置が開発されていた。
しかしながら、この気液混合装置では、目視可能な細粒気泡から液体に溶解した目視不可能な微細気泡が混在生成され、実用稼働の製造装置では、処理槽内の液体中に無数の細粒気泡が浮遊して液体中をゆっくり上昇(浮遊上昇)し、細粒気泡混合水としては十分であったとしても、溶解度は見た目より低く、用途によっては、ガス溶解水としては不十分な溶解度であった。
As an improvement measure, as a gas dissolving device, a cylindrical casing described in
However, in this gas-liquid mixing device, invisible fine bubbles dissolved in the liquid are mixedly generated from the visible fine bubbles, and in a practically operating manufacturing device, countless fine bubbles are contained in the liquid in the processing tank. Floats slowly in the liquid (floating rise), and even if it is sufficient as fine-grained mixed water, the solubility is lower than it looks, and depending on the application, the solubility is insufficient as gas-dissolved water. It was.
そこで、ガス溶解水生成装置として、特開平10−66850号公報(特許文献1)の請求項2に記載された、ガス溶解処理槽に原水を連続供給する原水供給系路と、この処理槽から処理水を連続吐水させる処理水吐水系路と、この処理槽から排出させた水に、気液混合装置を介してガスを混合させた後、この処理槽に戻す循環系路を設けるとともに、これら原水供給系路、処理水吐水系路、循環系路の一つまたは二つ以上に流量調節自在の流量制御手段を設け、この流量制御手段により、原水供給系路と処理水吐水系路の流量を略同量にするとともに、原水供給系路または処理水吐水系路と前記循環系路の流量比を調節して処理槽内の処理水のガス溶解度を調節することができるようにした連続通水式ガス溶解装置が開発された。
しかしながら、この連続通水式ガス溶解装置で、ガス溶解度を上昇させたり、調節できる様になったが、ガス溶解装置(気液混合装置)による根本的な溶解度上昇の技術でなく、高い溶解度とするためには、循環比率、循環時間を上昇させたり、ポンプ能力を増強せねばならず、溶解効率が悪かった。
Therefore, as a gas-dissolved water generating device, a raw water supply path for continuously supplying raw water to a gas-dissolving treatment tank described in
However, with this continuous water-flow type gas dissolving device, the gas solubility can be increased or adjusted, but this is not a fundamental technology for increasing the solubility with a gas dissolving device (gas-liquid mixing device). In order to achieve this, the circulation ratio and the circulation time must be increased, and the pumping capacity must be increased, resulting in poor dissolution efficiency.
解決しようとする問題点は、ガス溶解度を上昇させる点である。 The problem to be solved is to increase the gas solubility.
本発明は、上記従来技術に基づく、ガス溶解度に限界が存在したり、溶解度上昇に別途機器を必要とした課題に鑑み、円筒ケーシングの上下流部に螺旋流形成部および気液反応部を夫々設け、螺旋流形成部または気液反応部内部の気液に超音波を照射する超音波照射体を円筒ケーシングに設けることによって、混合作用と超音波作用の併用で液体に大量の気体を溶解する様にして、上記課題を解決する。 The present invention is based on the above prior art, and in view of the problem that gas solubility is limited or a separate device is required for increasing the solubility, a spiral flow forming portion and a gas-liquid reaction portion are respectively provided in the upstream and downstream portions of the cylindrical casing. A large amount of gas is dissolved in the liquid by combining the mixing action and the ultrasonic action by providing an ultrasonic irradiator in the cylindrical casing that irradiates the liquid and gas inside the spiral flow forming part or gas-liquid reaction part with ultrasonic waves. In this way, the above problem is solved.
要するに本発明は、円筒ケーシングの上下流部に螺旋流形成部および気液反応部を夫々設け、螺旋流形成部または気液反応部内部の気液に超音波を照射する超音波照射体を円筒ケーシングに設けたので、螺旋流形成部および気液反応部による剪断・攪拌・衝突などによる混合作用と超音波による粒子の振動・圧力変化作用の併用により、気液接触を多様化して溶解度を上昇することが出来る。 In short, the present invention provides a spiral flow forming portion and a gas-liquid reaction portion in the upstream and downstream portions of a cylindrical casing, respectively, and an ultrasonic irradiator that irradiates the gas-liquid inside the spiral flow formation portion or the gas-liquid reaction portion with a cylinder. Because it is provided in the casing, the gas-liquid contact is diversified and the solubility is increased by combining the mixing action by shearing, stirring, collision, etc. by the spiral flow forming part and the gas-liquid reaction part and the action of vibration and pressure change of the particles by ultrasonic waves. I can do it.
請求項2に係る発明によれば、ガス溶解水を大容量の貯溜槽に一時貯溜して、吐出先の他系路の流量増減に容易に対応することが出来たり、貯溜槽で安定化、均等化処理などを行うことが出来る。
According to the invention according to
請求項3に係る発明によれば、貯溜槽のガス溶解水に溶解再処理を行って、溶解度の更なる上昇を図ることが出来る等その実用的効果甚だ大である。 According to the third aspect of the present invention, the practical effect such as the ability to further increase the solubility by dissolving and reprocessing the gas dissolved water in the storage tank is significant.
以下、本発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。
図1に示す様に、本発明に係る気体を液体に高濃度で溶解するガス溶解装置1は、連続通水式の気液混合装置(スタティックミキサー)2の所要位置に超音波照射体3を設けたものである。
基本構成としては、図1、2に示す様に、混合気液が連続通水される円筒ケーシング4の上下流部に剪断、攪拌、衝突、乱流などで気液混合する螺旋流形成部5および気液反応部6を設け、螺旋流形成部5または気液反応部6内部の気液に超音波を照射・作用させる超音波照射体3を円筒ケーシング4に設けたガス溶解装置1である。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
As shown in FIG. 1, a gas dissolving
As a basic configuration, as shown in FIGS. 1 and 2, a spiral
以下、具体例を説明する。
図1に示す様に、連続通水系路7は、溶媒となる水、清涼飲料などの液体(原水)を供給する液体供給系路8に、溶質となる酸素、オゾンなどの気体を供給する気体供給系路9を接続すると共に、中途部にポンプ10を中間接続して成り、ポンプ10より下流側で連続通水系路7にガス溶解装置1を設けている。
かかる構成により、液体と気体がポンプ10等で混合・圧送され、混合気液がガス溶解装置1の円筒ケーシング4内に流入し、気液混合装置2および超音波照射体3の作用で、ガス溶解水が生成される。
Specific examples will be described below.
As shown in FIG. 1, the continuous
With this configuration, the liquid and gas are mixed and pumped by the
尚、気液混合はポンプ10内の攪拌羽根で液体と気体を細粒化して行っているが、1次的な気液混合は別方式でも良く、例えば、密閉容器内に混流させた液体と気体を圧入して加圧溶解させても良い。
又、1次的な気液混合をポンプ10や密閉容器で行うに際して、液体供給系路8に気体供給系路9を接続し気液混合を行っているが、ポンプ10や密閉容器に気体を直接供給する様にしても良く、或いは、ポンプ10とガス溶解装置1の間や、ガス溶解装置1の直前や、ガス溶解装置1の螺旋流形成部5に気体を供給しても良い。
即ち、流通方向に圧力付与された混合気液がガス溶解装置1の円筒ケーシング4内に連続通水される形態であれば、1次的な気液混合の方式は問わない。
The gas-liquid mixing is performed by finely dividing the liquid and gas with the stirring blades in the
In addition, when primary gas-liquid mixing is performed with the
That is, the primary gas-liquid mixing method is not limited as long as the gas-liquid mixture applied with pressure in the flow direction is continuously passed through the
図2は螺旋流形成部5および超音波照射体3を非断面としたガス溶解装置1の断面図であり、出入口11、12を開口した円筒ケーシング4内部の上流部に螺旋流形成部5を内装すると共に、円筒ケーシング4内部の下流部に気液反応部6を内装し、螺旋流形成部5の下流端直後で気液反応部6の上流部の位置で円筒ケーシング4の外側に超音波照射体3を設けている。
尚、超音波照射体3の円筒ケーシング4への取付位置は、円筒ケーシング4内部を流通する混合気液に超音波を照射、作用させる位置であれば良く、例えば、螺旋流形成部5に照射する位置や、気液反応部6の中間位置、或いは、両者に照射する位置でも良く、又超音波照射体3は気液混合装置2の円筒ケーシング4の外側に取付けて内部の混合気液に間接的に照射しているが、円筒ケーシング4に取付孔を開設すると共に、該取付孔に超音波照射体3の照射部3aを取付けて混合気液に超音波を直接照射しても良い。
又、円筒ケーシング4の上下流端の外側に、連続通水系路7の配管その他に接触用のフランジ13、13a を設けている。
FIG. 2 is a cross-sectional view of the gas dissolving
Note that the position where the
Further, outside the upstream and downstream ends of the
次に、ガス溶解装置1の気液混合装置2に設けた螺旋流形成部5と気液反応部6の具体例の一例を説明する。
円筒ケーシング4の上流部に設けた螺旋流形成部5は、2枚の半楕円形板の翼盤14、14a を上下流方向に傾斜配置して成り、翼盤14、14a の弦側側縁15、15a を円筒ケーシング4の軸心に対して対称的に交差対向させると共に、翼盤14、14a の円弧側側縁16、16a を円筒ケーシング4の内周壁に接合させている。
又、2枚の翼盤14、14a の交差部の上流側で弦側側縁15、15a の間を、円筒ケーシング4の横断面を略2等分する略三角形板の仕切盤17で閉鎖している。
更に、2枚の翼盤14、14a と仕切盤17を一体化するために、円筒ケーシング4の軸心方向に丸棒の連結体18を配置すると共に、翼盤14、14a と仕切盤17の所要箇所を切り欠いて、連結体18に翼盤14、14a と仕切盤17を結合している。
Next, an example of a specific example of the spiral
The spiral
Also, between the
Further, in order to integrate the two
円筒ケーシング4の下流部に設けた気液反応部6は、下流側に向けて徐々に内径が縮小するテーパー壁19、内径が一定の水平壁20および徐々に内径が拡大するテーパー壁21から成る段丘部22と、該段丘部22の水平壁20から円筒ケーシング4の軸心方向に立設した多数の突起23、23a …から構成している。
突起23、23a …は後方傾斜状で、円周方向で90度毎に、且つ、隣接同志は上下に振り分け、全体的には、円筒ケーシング4の内部に螺旋状で90度毎に突起23、23a …を立設している。
The gas-
The
螺旋流形成部5と気液反応部6を有する気液混合装置2により、円筒ケーシング4の入口11から圧送流入した混合気液は、螺旋流形成部5の仕切盤17で2分割に分流されると共に、翼盤14、14a に沿って流動して螺旋流となって螺旋流形成部5を通過する。
螺旋流形成部5の通過時には、連結体18を含む翼盤14、14a と仕切盤17で流動形態が分断や方向変換で、混合気液に大きな剪断応力、乱流、攪拌作用などが発生する。
又、螺旋流形成部5の通過による螺旋流により、気液成分のうち、比較的に質量の大きい液体成分は慣性力で半径外側方向に移動し、比較的に質量の小さい気体成分は半径内側方向に移動し、この移動作用でも攪拌作用等が発生する。
The gas /
When passing through the spiral
Further, due to the spiral flow caused by the passage of the spiral
そして、気液混合装置2における上流部の螺旋流形成部5を通過した螺旋流の混合気液が下流部の気液反応部6に流入すると、螺旋流は段丘部22のテーパー壁19で円筒ケーシング4の軸心方向に移動し、段丘部22の水平壁20では多数の突起23、23a …に衝突し、剪断応力、攪拌作用等が発生する。
螺旋流形成部5と気液反応部6の通過時に発生する剪断応力、攪拌作用、衝突・乱流等により、気体と液体は細粒や微細な粒子、粒子郡となって、大量の粒子などは複雑な混合作用を受けて気体と液体が接触し、気体粒子の一部は液体に溶解すると共に、一部は細粒や微細の気泡となり、略同時に、後述する超音波による作用を粒子等は受ける。
Then, when the mixed gas / liquid in the spiral flow that has passed through the upstream spiral
Due to shear stress, stirring action, collision and turbulent flow generated when passing through the spiral
尚、気液混合装置2に設けた螺旋流形成部5は、翼盤14、14a 、仕切盤17および連結体18で構成しているが、円筒ケーシング4の入口11から流入した混合気液を螺旋流として気液反応部6へ流動させるものであれば、螺旋流形成部5の具体的構成を問わず、各種のものが使用可能である。
又、気液混合装置2に設けた気液反応部6は、段丘部22および突起23、23a …で構成しているが、細粒、微細の気液粒子の混合作用を励起させる剪断、攪拌、衝突、乱流などの発生要素は、段丘部22および突起23、23a …の他、各種のものが使用可能である。
例えば、多数の流通孔を有する蜂の巣状の抵抗流通体を間欠的に配置したり、流通孔の位相をずらして配置し、或いは、螺旋流形成部5における翼盤14、14a や仕切盤17の様な板体を流通方向と同一・傾斜・位相変化させて順次連続的に配置し、又突起23、23a …は各種異形のものとしたり、板状のものとしても良く、即ち、気液反応部6で螺旋流の混合気液を剪断、攪拌、衝突、乱流などで混合作用できれば、気液反応部6の具体的構成を問わず、各種のものが使用可能である。
The spiral
The gas-
For example, a honeycomb-like resistance circulation body having a large number of flow holes is intermittently arranged, or the flow holes are shifted in phase, or the
次に、本発明に係るガス溶解装置の作用について説明する。
気液混合装置2に超音波照射体3を設けたガス溶解装置1による全体的な作用は、気液混合装置2の螺旋流形成部5および気液反応部6による剪断・攪拌・混合などによる部分的な溶解作用と超音波による粒子等の振動・圧力変化作用の併用により、液体への気体の溶解速度、溶解度(過飽和を含む)、溶解効率を上昇、向上させている。
超音波照射体3から照射された20〜100KHzの超音波は、円筒ケーシング4を介して、超音波照射体3の照射部3aの中央から広がりを以て円筒ケーシング4内の混合気液に到達すると共に、円筒ケーシング4の内壁面や翼盤14、14a 、突起23、23a …等で反射して各種方向に伝播する。
Next, the operation of the gas dissolving apparatus according to the present invention will be described.
The overall action of the
The ultrasonic wave of 20 to 100 KHz irradiated from the
超音波が混合気液に到達すると、液体粒子・気体粒子・気体粒子郡(気泡)が圧力変化を受けたり、粒子などが相当な速度、加速度で振動、移動したり、運動エネルギーが上昇し、或いは、気泡体積が非線形性(膨張・収縮の時間差や方向差を有する状況)の膨張・収縮を繰り返す体積振動をすることにより、大量の異種粒子間における気液界面が多様に変化する。
気液界面の変化により、気体粒子と液体粒子の衝突、接触の面積・時間を増加させたり、接触粒子を変換させて、異種粒子の接触機会が飛躍的に増大して、気体は液体に溶解する。
When the ultrasonic wave reaches the gas-liquid mixture, the liquid particles, gas particles, gas particle groups (bubbles) undergo a pressure change, particles vibrate and move at a considerable speed and acceleration, and the kinetic energy rises. Alternatively, the gas-liquid interface between a large number of different kinds of particles changes variously by performing volume vibration that repeatedly expands and contracts in a non-linear manner (a situation where the bubble volume has a time difference or direction difference between expansion and contraction).
By changing the gas-liquid interface, the collision area between gas particles and liquid particles, the contact area / time is increased, or the contact particles are converted, so that the chances of contacting different particles dramatically increase, and the gas dissolves in the liquid. To do.
従って、気液混合装置2における気体・液体の混合による溶解、および、超音波照射体3から照射された超音波で発生する気体粒子・液体粒子・気体粒子郡(気泡)の振動・圧力変化等で励起される気液界面変化による溶解、が同時発生し、液体への気体の溶解度が上昇する。
Therefore, dissolution by mixing of gas and liquid in the gas-
本発明に係るガス溶解装置1と従来の気液混合装置2による比較テストを行ったので、以下、説明する。
従来の気液混合装置2は名古屋大島機械有限会社製のラインミキサー(型式MX−8X)で、ポンプ10は大島機械株式会社製の攪拌作用を有する混気ポンプ(型式OMC−20−6)を使用した。
本発明に係るガス溶解装置1は、従来の気液混合装置2(同一の型式MX−8X)に超音波照射体3を設けたものを使用すると共に、同一の混気ポンプ(型式OMC−20−6)を使用し、超音波照射体3は株式会社タムラ製作所製の超音波振動子(型式TBL4535D−40DB)を使用した。
テスト条件は両者共に、液体は水(水温20℃)、気体は酸素(濃度90%)で、液体流量15l/min、気体流量1.5Nl/minとし、超音波は共振周波数40KHz、出力40Wとした。
目視によるテスト結果では、従来のものでは、水中に細粒気泡が浮遊していたが、本件発明のものでは気泡が皆無で溶解度が上昇していた。
又、水温20℃における溶存酸素濃度の分析では、水温20℃における飽和溶存酸素濃度は8.84mg/lであるものが、従来のものでは36.5mg/lであるのに対して、本件発明によるものでは48.0mg/lであり、従来のものも本件発明によるものも過飽和であるが、本件発明によるものの方が更なる過飽和状態で溶解していた。
A comparative test using the
The conventional gas-
The
In both test conditions, the liquid is water (
As a result of visual test, fine bubbles were suspended in water in the conventional one, but in the case of the present invention, there was no bubble and the solubility increased.
Further, in the analysis of the dissolved oxygen concentration at a water temperature of 20 ° C., the saturated dissolved oxygen concentration at a water temperature of 20 ° C. is 8.84 mg / l, whereas the conventional one is 36.5 mg / l. According to the present invention, it was 48.0 mg / l, and both the conventional one and the one according to the present invention were supersaturated, but the one according to the present invention was dissolved in a further supersaturated state.
次に、本発明に係るガス溶解水生成装置について説明する。
図3に示す様に、ガス溶解水生成装置24は、ガス溶解装置1を設けた連続通水系路7を流通して生成されたガス溶解水を貯溜槽25に一時貯溜して平均化、安定化、二次処理などを実施し、ガス溶解水を他系路に吐出するものである。
具体的には、大容量の貯溜槽25の上下部に、ガス溶解水を生成し流入させる溶解水流入系路26および貯溜されたガス溶解水を他系路に吐出する貯水吐水系路27を夫々設けると共に、貯溜槽25にガス溶解水の液面高さを計測し、各種バルブ、接続機器を制御する液面制御装置28を設けて、ガス溶解水生成装置24の基本構成としている。
連続通水系路7である溶解水流入系路26の下流側にガス溶解装置1を設けると共に、溶解水流入系路26の上流側を気体および液体を供給し圧送する気液供給系路29と成し、ガス溶解装置1の出口12を貯溜槽25の下部に設けた流入口30に接続している。
溶解水流入系路26の上流側の気液供給系路29の具体的構成は図1に示す連続通水系路7の上流側と同様の構成であり、気液供給系路29は、液体供給系路8に気体供給系路9を接続すると共に、中途部にポンプ10を中間接続して成り、気液供給系路29のポンプ10より下流側で溶解水流入系路26にガス溶解装置1を設けている。
又、貯水吐水系路27の基端は貯溜槽25の上部に設けた流出口31に接続すると共に、貯水吐水系路27の先端を他系路に接続している。
Next, the gas dissolved water production | generation apparatus which concerns on this invention is demonstrated.
As shown in FIG. 3, the gas-dissolved
Specifically, a dissolved
The
The specific configuration of the gas-
The base end of the water storage /
かかる構成により、気液供給系路29で圧送された混合気液は、溶解水流入系路26に設けたガス溶解装置1の螺旋流形成部5および気液反応部6を通過して混合作用されると共に、超音波照射体3により超音波が照射されてガス溶解水が生成され、ガス溶解水は貯溜槽25の底部から流入し、貯溜槽25の上部からオーバーフロー方式で他系路に吐出される。
With this configuration, the gas / liquid mixture pumped in the gas / liquid
尚、溶解水流入系路26におけるポンプ10には圧力制御装置PS1、気液混合ポンプ圧力計PR2が備えられ、液体供給系路8には流入口バルブV1、ストレーナーS1が備えられ、気体供給系路9にはガス供給装置GG、供給ガス圧力計PR1、供給ガス流量計FM1、逆止弁CV1が備えられ、又貯水吐水系路27の中途部に処理バルブV2が備えられている。
The
次に、他例のガス溶解水生成装置24aについて説明する。
図4に示す他例のガス溶解水生成装置24aは、図3のものに比して、溶解度を上昇させたり、使用量の多寡に対応容易としたものである。
具体的には、大容量の貯溜槽25の上下部に、ガス溶解水を生成し流入させる溶解水流入系路26、貯溜されたガス溶解水を他系路に吐出する貯水吐水系路27、ガス溶解水の一部を溶解水流入系路26に戻す貯水戻水系路32および原水を供給する液体供給系路8を夫々設けると共に、貯溜槽25に液面制御装置28を設けている。
更に、下流端が貯溜槽25に接続される溶解水流入系路26と上流端が貯溜槽25に接続される貯水戻水系路32を接続して循環系路33を設けて、第2のガス溶解水生成装置24aの基本構成としている。
Next, another example of the gas-dissolved water generator 24a will be described.
The gas-dissolved water generating device 24a of another example shown in FIG. 4 increases the solubility or easily copes with a large amount of use compared to that of FIG.
Specifically, in the upper and lower portions of the large-
In addition, a dissolved water
連続通水系路7である溶解水流入系路26の下流側にガス溶解装置1を設けると共に、ガス溶解装置1の出口12を貯溜槽25の下部に設けた流入口30に接続し、溶解水流入系路26の上流側を気体および液体を供給し圧送する気液供給系路29と成し、貯溜槽25の下部に設けた流出口34に接続した貯水吐水系路27の下流側に気液供給系路29の上流側を接続して循環系路33を構成している。
又、循環系路33の一部である気液供給系路29の中途部に混合気液を圧送するポンプ10を中間接続すると共に、循環系路33の気液供給系路29に気体供給系路9を接続し、気液供給系路29のポンプ10より下流側で溶解水流入系路26にガス溶解装置1を設け、又貯溜槽25の上部に設けた流入口35に液体供給系路8を接続している。
尚、新規供給される液体(原水)の液体供給系路8は貯溜槽25に接続したが、気体供給系路9と同様に循環系路33に接続しても良い。
又、貯水吐水系路27の基端は貯溜槽25の下部に設けた流出口31に接続すると共に、貯水吐水系路27の先端を他系路に接続し、中途部にポンプ36を配置している。
The
In addition, a
Although the liquid
In addition, the proximal end of the water storage /
かかる構成により、貯溜槽25に貯溜されたガス溶解水(液体供給系路8で新規供給された液体(原水)とガス溶解水の混合水(以下、単に混合水と称する))の一部は、貯水戻水系路32から循環系路33に流通し、気体供給系路9から供給された新たな気体と混合流通すると共に、ポンプ10により溶解水流入系路26に圧送される。
溶解水流入系路26に圧送された混合気液(混合水と気体の混合気液)がガス溶解装置1の螺旋流形成部5および気液反応部6を通過して混合作用されると共に、超音波照射体3により超音波が照射されてガス溶解水(貯水吐水系路27から流通する混合水よりガス溶解度が高いガス溶解水)が生成され、ガス溶解水は貯溜槽25の下部から流入する。
又、貯溜槽25ではガス溶解水が貯溜されると共に、液体供給系路8から原水が供給されて混合し、貯溜槽25の下部から混合水の一部は貯水戻水系路32、循環系路33に流通すると共に、混合水の一部はポンプ36を有した貯水吐水系路27で他系路に吐出される。
With this configuration, part of the gas-dissolved water (liquid (raw water) newly supplied in the
The mixed gas / liquid (mixed water / gas mixed gas / liquid) pumped to the dissolved
In the
尚、ポンプ10および気体供給系路9には前例と同様に、各種器具が備えられ、液体供給系路8には流入口バルブV1が備えられ、貯水戻水系路32には循環バルブV3、ストレーナーS1が備えられ、又貯水吐水系路27の中途部にポンプ36および処理バルブV2が備えられている。
As in the previous example, the
尚、連続通水系路7でもある溶解水流入系路26におけるガス溶解装置1の出口12を貯溜槽25の流入口30に直結したが、ガス溶解装置1の下流側にパイプを接続して貯溜槽25に接続したり、ガス溶解装置1の全部または下流側一部を貯溜槽25内に配置しても良い。
又、図3のガス溶解水生成装置24における溶解水流入系路26は下部に、貯水吐水系路27は上部に夫々設けてオーバーフロー方式と成したり、図4のガス溶解水生成装置24における貯水吐水系路27にポンプ36を設けて流量制御しているが、これらは使い分け可能であり、又各種系路の貯溜槽25への取付位置なども適宜変更可能である。
In addition, although the
Also, the dissolved water
1 ガス溶解装置
2 気液混合装置
3 超音波照射体
4 円筒ケーシング
5 螺旋流形成部
6 気液反応部
7 連続通水系路
8 液体供給系路
9 気体供給系路
10 ポンプ
24、24a ガス溶解水生成装置
25 貯溜槽
26 溶解水流入系路
27 貯水吐水系路
29 気液供給系路
32 貯水戻水系路
33 循環系路
DESCRIPTION OF
10 Pump
24, 24a Gas dissolved water generator
25 Reservoir
26 Dissolved water inflow system
27 Reservoir system
29 Gas-liquid supply system
32 Reservoir return route
33 Circulation system
Claims (3)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006004367A JP2007185576A (en) | 2006-01-12 | 2006-01-12 | Apparatus for dissolving gas and apparatus for preparing water wherein gas is dissolved |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006004367A JP2007185576A (en) | 2006-01-12 | 2006-01-12 | Apparatus for dissolving gas and apparatus for preparing water wherein gas is dissolved |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007185576A true JP2007185576A (en) | 2007-07-26 |
Family
ID=38341114
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006004367A Pending JP2007185576A (en) | 2006-01-12 | 2006-01-12 | Apparatus for dissolving gas and apparatus for preparing water wherein gas is dissolved |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007185576A (en) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100948813B1 (en) * | 2009-09-21 | 2010-03-24 | 강형원 | High-thickness oxygen melting equipment used for supersonic |
WO2012023634A1 (en) * | 2010-08-20 | 2012-02-23 | 株式会社 アネモス | Gas-liquid contact method and gas-liquid contact apparatus |
JP2013000663A (en) * | 2011-06-16 | 2013-01-07 | Hitachi Plant Services Co Ltd | Soil remediation device and soil remediation method |
JP2014014358A (en) * | 2012-06-14 | 2014-01-30 | Takaaki Matsumoto | Oxygen-containing medium solution, cell cultivation medium, cell cultivation method, and production system for oxygen-containing medium solution |
CN105032261A (en) * | 2015-07-20 | 2015-11-11 | 中国石油天然气股份有限公司 | Method and device for preparing nano dispersion system |
WO2016155608A1 (en) * | 2015-03-30 | 2016-10-06 | 上海纳诺巴伯纳米科技有限公司 | Device for preparing gas solution and method for improving gas solubility in liquid |
JP2017221926A (en) * | 2016-06-17 | 2017-12-21 | 株式会社アスプ | Generation device for gas-containing liquid, and treatment mechanism for gas-containing liquid |
JP2017225959A (en) * | 2016-06-24 | 2017-12-28 | 株式会社アスプ | Gas-containing liquid generation device |
-
2006
- 2006-01-12 JP JP2006004367A patent/JP2007185576A/en active Pending
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013505120A (en) * | 2009-09-21 | 2013-02-14 | ヒョンウォン カン | High-concentration oxygen dissolver using ultrasonic waves |
WO2011034297A2 (en) * | 2009-09-21 | 2011-03-24 | Kang Hyung-Won | High-concentration oxygen-dissolving apparatus using ultrasonic waves |
WO2011034297A3 (en) * | 2009-09-21 | 2011-07-07 | Kang Hyung-Won | High-concentration oxygen-dissolving apparatus using ultrasonic waves |
KR100948813B1 (en) * | 2009-09-21 | 2010-03-24 | 강형원 | High-thickness oxygen melting equipment used for supersonic |
CN102596380A (en) * | 2009-09-21 | 2012-07-18 | 姜亨元 | High-concentration oxygen-dissolving apparatus using ultrasonic waves |
US8967596B2 (en) | 2009-09-21 | 2015-03-03 | Hyung Won Kang | High-concentration oxygen-dissolving apparatus using ultrasonic waves |
WO2012023634A1 (en) * | 2010-08-20 | 2012-02-23 | 株式会社 アネモス | Gas-liquid contact method and gas-liquid contact apparatus |
JP5938346B2 (en) * | 2010-08-20 | 2016-06-22 | 株式会社アネモス | Gas-liquid contact method and gas-liquid contact device |
JP2013000663A (en) * | 2011-06-16 | 2013-01-07 | Hitachi Plant Services Co Ltd | Soil remediation device and soil remediation method |
JP2014014358A (en) * | 2012-06-14 | 2014-01-30 | Takaaki Matsumoto | Oxygen-containing medium solution, cell cultivation medium, cell cultivation method, and production system for oxygen-containing medium solution |
WO2016155608A1 (en) * | 2015-03-30 | 2016-10-06 | 上海纳诺巴伯纳米科技有限公司 | Device for preparing gas solution and method for improving gas solubility in liquid |
CN105032261A (en) * | 2015-07-20 | 2015-11-11 | 中国石油天然气股份有限公司 | Method and device for preparing nano dispersion system |
JP2017221926A (en) * | 2016-06-17 | 2017-12-21 | 株式会社アスプ | Generation device for gas-containing liquid, and treatment mechanism for gas-containing liquid |
JP2017225959A (en) * | 2016-06-24 | 2017-12-28 | 株式会社アスプ | Gas-containing liquid generation device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2007185576A (en) | Apparatus for dissolving gas and apparatus for preparing water wherein gas is dissolved | |
US10596528B2 (en) | Nanobubble-producing apparatus | |
JP5028637B2 (en) | Microbubble generator | |
JP2007021343A (en) | Microbubble generator | |
JP6104399B2 (en) | Contaminated water purification system provided with fine bubble generating device and fine bubble generating device | |
JP6214515B2 (en) | Method for producing gas solution and apparatus for producing gas solution | |
KR101869487B1 (en) | Nano bubble generator for bathtub or sink with cleaning and sterilizing function | |
Xie et al. | Preparation of microbubbles with the generation of Dean vortices in a porous membrane | |
US8936392B2 (en) | Hydrodynamic cavitation device | |
KR101385163B1 (en) | Cyclone pressing tank and micro bubble generating system having the same | |
JP2010149041A (en) | System for injecting minute foam to liquid | |
WO2017056323A1 (en) | Device for dissolving oxygen in water and method for dissolving oxygen in water using same | |
JP2011183350A (en) | Gas-liquid mixing apparatus | |
KR101190788B1 (en) | Micro bubble head and apparatus for generating microbubble including the same | |
JP2009101263A (en) | Ultra-fine bubble generator and apparatus for purification of aqueous solution | |
JP2009226328A (en) | Gas dissolving vessel | |
JP2007330894A (en) | Activated sludge treatment apparatus | |
KR101213829B1 (en) | Micro-bubble generating system for purifying wastewater | |
JP2012091153A (en) | Fine-air-bubble generator | |
JP2007000848A (en) | Method for generating fine bubble | |
JP2008274394A (en) | Pickling apparatus and method | |
JP2006326484A (en) | Micro-bubbles generator | |
JP2008178780A (en) | Microbubble generating apparatus | |
JPH10230150A (en) | Aerator | |
JP4512897B2 (en) | Chemical injection method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090107 |
|
A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20101124 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20110628 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20111115 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |