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JP2006031113A - 熱交換方法及び熱交換装置、露光装置、デバイスの製造方法 - Google Patents

熱交換方法及び熱交換装置、露光装置、デバイスの製造方法 Download PDF

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JP2006031113A JP2004205061A JP2004205061A JP2006031113A JP 2006031113 A JP2006031113 A JP 2006031113A JP 2004205061 A JP2004205061 A JP 2004205061A JP 2004205061 A JP2004205061 A JP 2004205061A JP 2006031113 A JP2006031113 A JP 2006031113A
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Abstract

【課題】 所定温度より低い温度の工場冷却水が供給される場合に、省電力で高効率、かつ低コストで小型、さらに負荷変動や工場冷却水の変動に対し極めて安定な温度制御が可能な冷却または熱回収を行う熱交換方法を提供できる。
【解決手段】 第1の媒体と第2の媒体との間で熱交換を行って第1の媒体の温度を制御する熱交換器の熱交換方法において、熱交換器の出口側における前記第1の媒体の温度と、該熱交換器の入口側における前記第1の媒体の温度と前記第2の媒体の温度を検出する。前記第1の媒体の目標温度と、前記検出工程で検出した前記熱交換器の入口側における第1の媒体の温度と前記第2の媒体の温度に基づいて、前記第2の媒体の流量を調整して、前記熱交換器の出口側における第1の媒体の温度を制御する。
【選択図】 図1

Description

本発明は、第1の媒体と第2の媒体との間で熱交換を行って第1の媒体の温度を制御する熱交換器の熱交換方法及び熱交換装置、露光装置、デバイスの製造方法に関するものである。
近年のICやLSI等の半導体集積回路は、高い生産性が要求され、これに伴い半導体露光装置の消費電力は増加する傾向にある。その一方で、回路パターンは益々微細化され、露光装置内の環境をより安定に維持する必要性が生じている。特に、消費電力の増加に伴い効率が良くかつ極めて高い温度安定性を有する冷却または熱回収装置が必要とされている。
冷却または熱回収装置としては、圧縮機、凝縮器、蒸発器により構成される冷凍サイクルを利用した装置が知られている(例えば、特許文献1)。この構成による冷却装置は、露光装置内の負荷熱を循環冷媒により回収し、その回収した熱を、工場から供給される比較的温度の高い工場冷却水に移動させて冷却及び熱回収を行うものである。
一般に、負荷変動に対しては、圧縮機の回転数をインバータにより制御し、また必要に応じて冷凍サイクルによる熱回収の後、循環冷媒を電気ヒータ等により再加熱して温度安定性を向上させている。
旧式の半導体製造工場では、工場冷却水は20℃〜30℃と比較的高い温度である場合が多かったが、近年の超微細化、高生産性の工場では、工場冷却水は10℃〜18℃前後と、低い温度である場合が多くなっている。
特開2002−48381号公報
しかしながら、先に示した従来技術は、近年の半導体製造工場のように低い温度の工場冷却水が供給される場合にも圧縮機や再加熱用電気ヒータを用いているため、電力が増大し効率の悪い冷却装置であると言う問題があった。また、温度安定性向上のためインバータ制御や電気ヒータ制御を行うため、構成部品が増加しコストが高くかつ装置が大型化していると言う問題があった。
さらに急激な負荷変動や工場冷却水の温度変動に対し十分な温度安定性が得られず、場合によっては微細な回路パターンの露光に対し影響を与えると言う問題があった。
本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、所定温度より低い温度の工場冷却水が供給される場合に、省電力で高効率、かつ低コストで小型、さらに負荷変動や工場冷却水の変動に対し極めて安定な温度制御が可能な冷却または熱回収を行う熱交換方法及び熱交換装置、露光装置、デバイスの製造方法を提供することを目的とする。
上記の目的を達成するための本発明による熱交換方法は以下の構成を備える。即ち、
第1の媒体と第2の媒体との間で熱交換を行って第1の媒体の温度を制御する熱交換器の熱交換方法であって、
前記熱交換器の出口側における前記第1の媒体の温度と、該熱交換器の入口側における前記第1の媒体の温度と前記第2の媒体の温度を検出する検出工程と、
前記第1の媒体の目標温度と、前記検出工程で検出した前記熱交換器の入口側における第1の媒体の温度と前記第2の媒体の温度に基づいて、前記第2の媒体の流量を調整して、前記熱交換器の出口側における第1の媒体の温度を制御する制御工程と
を備える。
また、好ましくは、前記制御工程は、
前記目標温度と、前記検出工程で検出した前記熱交換器の入口側における前記第1の媒体の温度に基づいて、目標熱量を算出する目標熱量算出工程と、
前記目標熱量算出工程で算出した目標熱量と、前記熱交換器の熱交換ゲインより、前記熱交換器における平均温度を算出する平均温度算出工程と、
前記平均温度算出工程で算出した平均温度と、前記目標温度と、前記検出工程で検出した前記熱交換器の入口側における前記第1の媒体の温度と第2の媒体の温度に基づいて、前記熱交換器における前記目標熱量の熱交換に必要な前記第2の媒体の流量を算出する流量算出工程とを備え、
前記制御工程は、前記流量算出工程で算出した前記第2の媒体の流量を示す流量信号を、前記第1の媒体の温度制御信号に加算することで前記第2の媒体の流量を調整して、前記第1の媒体の温度を制御する。
また、好ましくは、前記制御工程は、
前記目標温度と、前記検出工程で検出した前記熱交換器の入口側における前記第1の媒体の温度に基づいて、目標熱量を算出する目標熱量算出工程と、
前記目標温度と、前記検出工程で検出した前記熱交換器の入口側における第2の媒体の温度に基づいて、第1の温度差を算出する第1温度差算出工程と、
前記目標熱量と、前記第2の媒体の流量を設定して、前記検出工程で検出した前記熱交換器の入口側における前記第1の媒体と前記第2の媒体の温度に基づいて、第2の温度差を算出する第2温度差算出工程と、
前記第1の温度差と前記第2の温度差より、前記熱交換器における対数平均温度差または平均温度を算出する温度算出工程と、
前記対数平均温度差または平均温度と前記熱交換器の熱交換ゲインより、前記熱交換器における熱交換量を算出する熱交換量算出工程と、
前記熱交換量が前記目標熱量と等しいかもしくはほぼ等しくなる前記第2の媒体の流量を選定する選定工程とを備え、
前記制御工程は、前記選定工程で選定した前記第2の媒体の流量を示す流量信号を、前記第1の媒体の温度制御信号に加算することで前記第2の媒体の流量を調整して、前記第1の媒体の温度を制御する。
また、好ましくは、前記制御工程は、前記第1の媒体の温度制御信号と、前記流量信号を加算し、更に、前記第2の媒体の流量センサによる検出流量信号を減算することで前記第2の媒体の流量を調整して、前記第1の媒体の温度を制御する。
また、好ましくは、前記第2の媒体の流量に応じて、前記熱交換器の熱交換ゲインを補正する。
また、好ましくは、前記対数平均温度差信号または前記平均温度信号により、温度制御ゲイン補正を行う。
また、好ましくは、前記制御工程は、比例制御または積分制御または比例/積分制御または比例/積分/微分制御である。
上記の目的を達成するための本発明による熱交換装置は以下の構成を備える。即ち、
第1の媒体と第2の媒体との間で熱交換を行う熱交換装置であって、
前記第1の媒体と前記第2の媒体との間で熱交換を行う熱交換手段と、
前記熱交換手段の出口側における前記第1の媒体の温度を検出する第1の温度検出手段と、
前記熱交換手段の入口側における前記第1の媒体の温度を検出する第2の温度検出手段と、
前記熱交換手段の出口側における前記第1の媒体の目標温度値を算出する目標温度算出手段と、
前記熱交換手段の入口側における前記第2の媒体の温度を検出する第3の温度検出手段と、
前記第2の媒体の流量を制御する流量制御手段と、
前記目標温度算出手段と前記第2の温度検出手段と前記第3の温度検出手段からの信号に基づいて、前記第2の媒体の流量を算出する流量演算手段と、
前記流量演算手段からの信号に基づいて、前記第1の媒体の温度制御を行う温度制御手段と
を備える。
上記の目的を達成するための本発明による熱交換装置は以下の構成を備える。即ち、
第1の媒体と第2の媒体との間で熱交換を行う熱交換装置であって、
前記第1の媒体と前記第2の媒体との間で熱交換を行う熱交換手段と、
前記第1の媒体の目標温度値を算出する目標温度算出手段と、
前記熱交換手段の入口側における前記第2の媒体の温度を検出する第1の温度検出手段と、
前記第2の媒体の流量を制御する流量制御手段と、
前記目標温度算出手段と前記第1の温度検出手段からの信号に基づいて、前記第2の媒体の流量を算出する流量演算手段と、
前記流量演算手段からの信号に基づいて、前記流量制御手段によって前記第2の媒体の流量を制御することで、前記第1の媒体の温度制御を行う温度制御手段と
を備える。
上記の目的を達成するための本発明による熱交換装置は以下の構成を備える。即ち、
第1の媒体と第2の媒体との間で熱交換を行う熱交換装置であって、
前記第1の媒体と前記第2の媒体との間で熱交換を行う熱交換手段と、
前記第1の媒体の目標温度値を算出する目標温度算出手段と、
前記熱交換手段の入口側における前記第1の媒体の温度を検出する第1の温度検出手段と、
前記第2の媒体の流量を制御する流量制御手段と、
前記目標温度算出手段と前記第1の温度検出手段からの信号に基づいて、前記第2の媒体の流量を算出する流量演算手段と、
前記流量演算手段からの信号に基づいて、前記流量制御手段によって前記第2の媒体の流量を制御することで、前記第1の媒体の温度制御を行う温度制御手段と
を備える。
また、好ましくは、前記熱交換手段の出口側における前記第1の媒体の温度を検出する第2の温度検出手段を更に備え、
前記流量演算手段は、前記目標温度算出手段と前記第1の温度検出手段と前記第2の温度検出手段からの信号に基づいて、前記第2の媒体の流量を算出する。
以上説明したように、本発明によれば、所定温度より低い温度の工場冷却水が供給される場合に、省電力で高効率、かつ低コストで小型、さらに負荷変動や工場冷却水の変動に対し極めて安定な温度制御が可能な冷却または熱回収を行う熱交換方法及び熱交換装置、露光装置、デバイスの製造方法を提供できる。
以下、本発明の実施の形態について図面を用いて詳細に説明する。
(実施形態1)
まず、本発明の熱交換装置及び方法を適用可能な露光装置の構成について、図1を用いて説明する。
図1は一般的な露光装置の構成図である。
露光光源(不図示)より出射された露光光は、照明光学系100により、レチクルステージ120に設置されたレチクル110を照射する。レチクル110を透過した光は、投影光学系130を透過して、ウエハステージ140に載置されたウエハ150に到達し、レチクル110上に描かれた微細なパターンをウエハ150上の各ショットに焼き付ける。露光光源にはKrFレーザ光源や、更なる微細化のために波長の短いArFレーザ光源が用いられることが多い。
ステッパーと称される露光装置では、レチクルステージ120は静止し、ウエハステージ140は露光中は静止し、露光終了すると次のショットの露光のためにステップ駆動される。一方、スキャニングステッパーと称される露光装置では、レチクルステージ120とウエハステージ140は同期して逆方向に走査し、同期走査中に露光が行われ、露光終了すると次のショットの露光のためにウエハステージ140がステップ駆動される。
スキャニングステッパーでは、より生産性を向上させるため、レチクルステージ120及びウエハステージ140の各ステージは、より大きい加速度により加速され、より速い速度で同期走査露光される。一般に、縮小露光が行われ、レチクル110対ウエハ150の露光縮小率が4:1であるとすると、レチクルステージ120とウエハステージ140の加速度及び速度の比率は、同様に4:1となり、レチクルステージ120の方がウエハステージ140より加速度、速度ともに4倍高速となる。
生産性向上のため、各ステージの加速度及び加速度は益々増加し、ウエハステージ140の加速度は1G〜1.5G、速度は300mm/s〜500mm/s程度まで引き上げられている。
このように、レチクルステージ120及びウエハステージ140の各ステージは、生産性向上のために極めて高速に駆動され、かつ微細化露光のため極めて精密に位置または速度が制御されなければならない。
一般に、ステージは、エアーまたは磁力等により浮上された上でローレンツ力の原理を用いたリニアモータや、場合によっては平面モータ等のアクチュエータにより同期走査またはステップ駆動が行われることが多い。この場合、水平方向の摩擦力は極めて小さいため、同期走査またはステップ駆動の際に必要なアクチュエータの発生推力は、ステージの加速度と質量に比例する。
例えば、リニアモータの発生推力は駆動電流に比例し、リニアモータにおける発熱は、モータ巻き線抵抗値と駆動電流の2乗の積に等しい。従って、リニアモータにおける発熱は、発生推力、即ち、ステージの加速度に対し2乗に比例して増大する。つまり、加速度が2倍になるとリニアモータにおける発熱は4倍となる。
レチクルステージ120及びウエハステージ140の各ステージの位置をナノメーターオーダで精密に制御するため、一般にレーザ干渉計によりステージの位置が常に監視され、フィードバック制御されている。しかしながら、ステージ駆動による大きな発熱が発生すると、その熱量によりレーザ干渉計の光路が擾乱され、その結果、光路中の空気の屈折率が揺らいでステージの位置計測に大きな誤差が発生してしまう。そのため、ナノメーターオーダでステージを制御するには、干渉計光路の温度の揺らぎは0.01℃以下である必要がある。
従って、生産性が高くかつ超微細化露光を行うためには、大きな発熱をより正確に冷却して熱回収を行う冷却装置が必要となっている。
レチクルステージ120及びウエハステージ140の各ステージは、露光中は極めて大きな熱を発生するが、ウエハ150やレチクル110を交換する際は停止するため、発熱は殆どゼロとなる。つまり、冷却装置にとって、負荷変動の幅が非常に大きく、かつ急激に変動することになる。
また、ステージ以外にも、露光装置内には、精密計測系が多数あり、超微細化露光を行うためには、より正確に冷却して熱回収を行う冷却装置が必要となっている。
一方、旧式の半導体製造工場では、工場冷却水は20℃〜30℃と比較的高い温度である場合が多かったが、近年の超微細化、高生産性の工場では、工場冷却水は10℃〜18℃前後と、旧式の半導体製造工場で使用する工場冷却水よりも低い温度である場合が多くなり、圧縮機やインバータを用いた冷凍サイクルによる冷却装置は不要となる場合が多くなっている。
但し、工場冷却水の温度は低いが、その温度変動は1〜2℃ある場合もあり、かつ変動レートも急激であることもあり得る。
また、半導体製造工場では、省エネルギー化や製造ラインのスペース効率改善等、微細化以外でも多くの改善項目を挙げて取り組んでいる。
従って、低い温度の工場冷却水が供給される場合に省電力で高効率、かつ低コストで小型、さらに負荷変動や工場冷却水の変動に対し極めて安定な温度制御が可能な冷却または熱回収を行う露光装置における冷却装置が要求されている。
次に、実施形態1の露光装置における冷却装置について、図2を用いて説明する。
図2は本発明の実施形態1の露光装置における冷却装置の構成図である。
破線部10は、第1の媒体における回路全体を示し、破線部30は第2の媒体における回路全体を示し、破線部50は各種制御部全体を示している。12は第1の媒体の回路を示し、22は露光装置内における負荷を示し、図1の露光装置内のステージや各種精密計測系に相当する。第1の媒体は、負荷22を通過することにより負荷熱を回収するよう構成され、熱交換器40を通して熱を第2の媒体の回路32に移動させる。
第1の媒体の回路12において、熱交換器40の出口43側の回路には、第1の温度センサ16が取り付けられている。また、熱交換器40の入口41側の回路には、第2の温度センサ14が取り付けられている。第1の媒体は、循環系を構成するため、ポンプ20が構成される。ポンプ20は、熱交換器40の入口41側、出口43側のどちらに取り付けられてもよい。また、必要に応じてタンク18が取り付けられる。タンク18も熱交換器40の入口41側、出口43側のどちらに取り付けられてもよい。
また、第1の媒体の循環流量を計測するための流量センサ24は、必要に応じて取り付けてもよい。通常は、循環流量が所定値になるように第1の媒体の回路12の圧損及びポンプ20の回転数を調整するため、取り付ける必要はない。また、取り付ける際にも、特に場所の限定はない。
第1の媒体は、流体であればよく、液体または気体でもよい。液体としては純水やブライン等、冷媒として一般的に用いられているものが適用可能である。尚、気体を用いる場合はポンプ20はファンとなる。
第2の媒体は、工場から供給される工場冷却水39であり、一般的には、水、または純水であることが多い。近年の超微細化、高生産性の工場では、工場冷却水は10℃〜18℃前後であることが多い。工場冷却水は、制御弁34により主回路31と分岐回路37に分岐される。主回路31には、第3の温度センサ36と流量センサ38が取り付けられている。主回路31は、さらに熱交換器40の入口45に接続され、出口47は分岐回路37と合流した後、工場設備に接続される。
14、16、36の各温度センサは、例えば、熱電対や白金抵抗体のようなセンサで、要求される温度精度に応じて使い分けられる。制御弁34は、比例制御が可能なものが好ましく、比例3方弁や、図3に示す2つの比例2方弁(または比例電磁弁)33、35により構成されてもよい。2つの比例2方弁(または比例電磁弁)33、35を使用する場合は、プッシュプル駆動をする必要があるため、後述する制御部は、60bのようにプッシュ信号とプル信号の2つの信号が発生するよう構成する。
24、38の各流量センサは、カルマン渦式センサ、電磁式センサ、羽車式センサ等、どのようなタイプのセンサでも良い。尚、第1の媒体が気体の場合は、流量センサ24は、マスフローセンサ等が用いられる。
熱交換器40は、シェルアンドチューブ式熱交換器やブレージング式熱交換器等が用いられる。尚、第1の媒体が気体の場合は、クーリングコイル等が用いられる。実施形態1では、第1の媒体の入出力と第2の媒体の入出力は、対向するように接続されている。一般に、熱交換器は対向流による熱交換が最も効率が良いため多用されるが、第1の媒体と第2の媒体の入出力が並行する並行流も構成することは可能である。
各種制御部50において、目標温度52と第1の温度センサ16からの温度フィードバック信号を加減算器54に入力し、その偏差信号を温度制御部56に入力する。温度制御部56は、後述するように比例/積分/微分制御等による制御演算が成される。温度制御部56からの温度制御信号は、加減算器58にて流量演算部62からの流量信号と加算される。また、必要に応じて流量センサ38からの流量フィードバック信号を加減算器58に入力し、流量制御系を構成する。
流量制御部60は、流量制御を行う場合は、比例/積分/微分制御等による制御演算を実行する。一方、流量制御を行わない場合は、流量センサ38からの流量フィードバック信号を加減算器58に入力せず、必要に応じて比例ゲイン演算またはフィルタリングを行い、制御弁34に流量制御信号を印加する。
制御弁34は、印加された流量制御信号に応じて主回路31と分岐回路37の流路を調整することにより、主回路31に流れる流量を制御する。制御された主回路31の第2の媒体は、熱交換器40を通して第1の媒体から熱回収を行い、分岐回路37と合流した後、工場設備に熱を移動させる。
熱交換器40は、第2の媒体の主回路31の流量により、第1の媒体の熱回収量を調整することができ、上記構成により第1の媒体の温度が目標温度52と等しくなるように温度制御を行うことが可能となる。
この際、先に述べたように、負荷22は急激でかつ大きな負荷変動を伴うため、熱交換器40の入口41における第1の媒体の温度は急激かつ大きく変動する。上記露光装置のステージを駆動する際には、数kWの発熱が発生するため、第1の媒体の循環流量を数十L/min.としても数℃前後の温度変動が発生してしまう。
このような急激かつ大きな温度変動に対して、第1の温度センサ16によるフィードバック制御のみで対処しようとすると、フィードバック制御のデメリットである応答遅れにより、第1の媒体の熱回収を正確に行うことができず、数℃前後の大きな温度変動が生じてしまう。
また、工場冷却水39の温度も1〜2℃程度変動することがあるため、同様にして、第1の温度センサ16によるフィードバック制御のみで対処しようとすると、フィードバック制御のデメリットである応答遅れにより、第1の媒体の熱回収を正確に行うことができず、1℃前後の大きな温度変動が生じてしまう。
これら負荷22の変動や工場冷却水39の温度変動に対し、その温度変動を第2の温度センサ14及び第3の温度センサ36により検出して流量演算部62において第1の媒体の温度を目標温度とするために必要な第2の媒体の流量を算出し、制御弁34を調整することにより、各種の温度変動の影響を抑制する。
ここで、実施形態1の流量演算部62の動作について、図4及び図5を用いて説明する。
図4は本発明の実施形態1の熱交換器の温度特性の一例を示す図である。また、図5は本発明の実施形態1の流量演算部の演算フロー図である。
まず、図4について説明する。図4は対向流における第1の媒体と第2の媒体の温度特性を示し、熱交換器40の第1の媒体の入口41における温度をT11とする。横軸は、熱交換器40の通過位置を示し、出口43では第2の媒体により熱回収された結果、温度はT12となる。一方、第2の媒体の入口45における温度はT21で、熱交換器40の出口47では第1の媒体の熱回収をした結果、温度はT22となる。
ここで、熱交換器40において、第1の媒体から回収された熱量φ1と第2の媒体が回収した熱量φ2は等しい。従って、下式が成り立つ。
φ1=F1*ρ1*cp1*(T11−T12) (1)
φ2=F2*ρ2*cp2*(T22−T21) (2)
φ1=φ2 (3)
熱量[W]:φ1、φ2
流量[m3/s]:F1、F2
密度[kg/m3]:ρ1、ρ2
比熱[kJ/kg℃]:cp1、cp2
尚、添え字1、2は、それぞれ第1の媒体、第2の媒体を示し、W=J/sである。
熱交換器40の第1の媒体の入口側における第2の媒体との温度差Δθ1、及び第1の媒体の出口側における第2の媒体との温度差Δθ2は、下式で表される。
Δθ1=T11−T22 (4)
Δθ2=T12−T21 (5)
一般に、熱交換器40における熱交換量Q[W]は、下式で表される。
Q=KAΔTm (6)
熱通過率[W/m2℃]:K
伝熱面積[m2]:A
対数平均温度差[℃]:ΔTm
ΔTm=(Δθ2−Δθ1)/ln(Δθ2/Δθ1) (7)
尚、Kは熱交換器40の熱通過率、Aは熱交換器40の伝熱面積で、それぞれ熱交換器40の固有の値である。
ここで、Δθ2=Δθ1の場合、(7)式は不定となる。その特異点では、対数平均温度差の代わりに、下式の算術平均温度Taveを用いる。
ave=(Δθ2+Δθ1)/2 (8)
ここで、上記対数平均温度差と算術平均温度の特性を図6に示す。
横軸はΔθ2−Δθ1、縦軸が対数平均温度差と算術平均温度である。
横軸のゼロ点が上記対数平均温度差の特異点である。温度差が小さいところでは、対数平均温度差と算術平均温度差はほぼ等しいことが分かる。また、温度差が大きくなると徐々に両者の値に差が表れ、対数平均温度差に対し算術平均温度は高い傾向を示す。これより、Δθ2−Δθ1が小さい場合、もしくは、対数平均温度差に対する算術平均温度の誤差が無視できる場合は、熱交換器40における熱交換量は、下式で表すことができる。
Q=KATave (9)
また、第1の媒体と第2の媒体間の熱回収量は、熱交換器40における熱交換量と等しいため、下式が成り立つ。
φ1=φ2 =KATave (10)
次に、図5に従って流量演算部62における演算について説明する。
ステップS1では、目標温度52からの目標温度T1refと第2の温度センサ14からの温度T11より、目標熱量φrefを算出する。
φref=F1*ρ1*cp1*(T1ref−T11) (11)
1=ρ1*cp1 (12)
2=ρ2*cp2 (13)
尚、F1は、流量センサ24を取り付けた場合は、流量センサ24からの値を元に計算してもよいし、予め規定流量値に調整されている場合は、その規定流量値を代入して計算してもよい。
ステップS2では、(11)式による目標熱量φrefと(10)式による熱交換器40における熱交換量より、平均温度Taveを算出する。
ave=φref/G3 (14)
3=KA (15)
ステップS3では、目標温度T1ref、第3の温度センサ36からの温度T21、第2の温度センサ14からの温度T11より各種温度を算出する。
Δθ2=T1ref−T21 (16)
Δθ1=2Tave−Δθ2 (17)
22=T11−Δθ1 (18)
ステップS4では、算出した各値、及び(2)式、(3)式、(13)式より第2の媒体の目標流量F2refを算出する。
2ref=φref/(T22−T21)/G2 (19)
従って、本発明によれば、負荷22の変動による第1の媒体の温度変動を第2の温度センサ14により検出し、工場冷却水39の温度変動による第2の媒体の温度変動を第3の温度センサ36により検出し、流量演算部62において熱交換器40における平均温度を算出する。加えて、第1の媒体を所定温度とするために必要な第2の媒体の流量を算出して制御弁34を調整し、熱交換器40により第1の媒体の熱回収を行い、さらに第1の温度センサ16と温度制御部56により第1の媒体の温度制御を行う。
そのため、急激な負荷変動や工場冷却水の温度変動に対しても速やかに、かつ適切な熱回収を行うことが可能となり、安定な温度制御を行うことができる。
実施形態1によれば、従来技術で使用していた圧縮機やインバータ等の電力機器、凝縮器や蒸発器及び膨脹弁等の機械部品が不要となる。また、所定温度より低い温度の工場冷却水が供給される場合において、省電力で高効率、かつ低コストで小型、さらに負荷変動や工場冷却水の変動に対し安定な温度制御が可能な冷却または熱回収を行う冷却装置を構成することが可能となる。
尚、本発明は、熱交換器40におけるΔθ2−Δθ1が小さい場合、もしくは、対数平均温度差に対する算術平均温度の誤差が無視できる場合に用いることが望ましい。
ここで、制御弁34が、比例3方弁で構成される場合の特性の一例について、図7に示す。
図7において、横軸は流量制御部60からの操作量で、縦軸が第2の媒体の流量である。一般に、3方弁の入出力特性は、非線型性が強く、温度制御系の流量調整弁に用いると制御系が不安定となり易い。制御弁34の非線型性の改善として、先に説明したように、図3に示す2つの比例2方弁(または比例電磁弁)33、35を用いても良い。
また、図2の流量センサ38と流量制御部60により流量のフィードバック制御を行っても良い。先に述べたように、流量制御を行う場合の流量制御部60の演算は、比例/積分/微分制御等により構成される。
以上説明したように、実施形態1によれば、温度制御部56及び流量演算部62からの目標流量に対し、流量センサ38と流量制御部60により第2の媒体の流量が制御され、より正確な熱回収が行われ、ひいてはより安定した第1の媒体の温度制御が可能となる。
(実施形態2)
次に、本発明の実施形態2について、説明する。
実施形態2では、実施形態1の図2の冷却装置の構成図において、流量演算部62の演算方法が異なる。これを、図8に基づいて説明する。
図8は本発明の実施形態2の流量演算部の演算フロー図である。
ステップS1では、目標温度52からの目標温度T1refと第2の温度センサ14からの温度T11より目標熱量φrefを算出する。((11)式〜(13)式参照。)
F1は、流量センサ24を取り付けた場合は流量センサ24からの値を元に計算してもよいし、予め規定流量値に調整されている場合は、その規定流量値を代入して計算してもよい。
ステップS2では、目標温度T1refと第3の温度センサ36からの温度T21より、第1の温度差Δθ2を算出する。
Δθ2=T1ref−T21 (20)
ステップS3では、第2の媒体の流量F2setを設定/変更する。
ステップS4では、ステップS1で算出した目標熱量φrefと第2の媒体の流量F2setと温度T21より、第2の媒体の出力における温度T22を算出する。
22=φref/F2set/G2+T21 (21)
次に、温度T11と温度T22より第2の温度差Δθ1算出する。
Δθ1=T11−T22 (22)
次に、第1の温度差Δθ1及び第2の温度差Δθ2より、(7)式による対数平均温度差ΔTm、または(8)式による平均温度Taveを算出する。
次に、ステップS5では、対数平均温度差ΔTmを用いる場合は(6)式より、平均温度Taveを用いる場合は(9)式より、熱交換器40における熱交換量Qを算出する。
次に、ステップS6では、ステップS1で算出した目標熱量φrefとステップS5で算出した熱交換量Qを比較し、最小値判定等により両者が等しいか、またはほぼ等しくなったことを確認した場合にステップS7に移行する。そうでない場合は、ステップS3に戻り、第2の媒体の流量変更を行って、再度、ステップS3〜ステップS6の演算を繰り返す。
ステップS7では、ステップS6で決定された第2の媒体の流量を第2の媒体に対する目標流量F2refとして設定する。
尚、ステップS4における対数平均温度差は、Δθ2=Δθ1の点では特異点となり解が不定となってしまう。その特異点では、平均温度値を代入して計算する必要があるが、それ以外の点では熱交換器40の特性を正確に表しているため、より精度良く第2の媒体の流量を算出して安定な温度制御を実現することが可能である。
一方、平均温度を用いる場合は、熱交換器40におけるΔθ2−Δθ1が小さい場合、もしくは、対数平均温度差に対して平均温度の誤差が無視できる場合に用いることが望ましい。
従って、実施形態2によれば、負荷22の変動による第1の媒体の温度変動を第2の温度センサ14により検出し、工場冷却水39の温度変動による第2の媒体の温度変動を第3の温度センサ36により検出し、流量演算部62において熱交換器40における対数平均温度差または平均温度を算出する。加えて、第1の媒体を所定温度とするために必要な第2の媒体の流量を算出して制御弁34を調整し、熱交換器40により第1の媒体の熱回収を行い、さらに第1の温度センサ16と温度制御部56により第1の媒体の温度制御が行われる。
そのため、急激な負荷変動や工場冷却水の温度変動に対しても速やかに、かつ適切な熱回収を行うことが可能となり、極めて安定な温度制御を行うことができる。
実施形態2によれば、従来技術で使用していた圧縮機やインバータ等の電力機器、凝縮器や蒸発器及び膨脹弁等の機械部品が不要となる。また、所定温度より低い温度の工場冷却水が供給される場合において、省電力で高効率、かつ低コストで小型、さらに負荷変動や工場冷却水の変動に対し極めて安定な温度制御が可能な冷却または熱回収を行う冷却装置を構成することが可能となる。
尚、実施形態1と同様に、制御弁34の非線型性の改善として、図3に示す2つの比例2方弁(または比例電磁弁)33、35を用いても良い。
また、図2の流量センサ38と流量制御部60により流量のフィードバック制御を行っても良い。先に述べたように、流量制御を行う場合の流量制御部60の演算は、比例/積分/微分制御等により構成される。
従って、実施形態2によれば、温度制御部56及び流量演算部62aからの目標流量に対し、流量センサ38と流量制御部60により第2の媒体の流量が制御され、より正確な熱回収が行われ、ひいてはより安定した第1の媒体の温度制御が可能となる。
図9は実施形態2にさらに新たな機能を付加した冷却装置の構成図である。
尚、図2と同様の機能を有するものは同一の番号としている。ここでは、新たな機能を有する温度制御部56a、流量制御部60a、流量演算部62bについて説明を行う。
これらの温度制御部56a、流量制御部60a、流量演算部62bの詳細構成例について、図10に示す。
流量演算部62bは、目標流量計算部90、K値補正部92、ΔT補正部94により構成される。目標流量計算部90は、先に説明した図8の演算フローにより目標流量を算出する。
ここで、図11により熱交換器40の熱通過率Kの特性を説明する。
図11において、横軸は熱交換器40における第2の媒体の流量、縦軸は熱通過率Kを示す。一般に、熱交換器40の熱通過率は流量に対して一定ではなく、図11に示すような流量依存性を有する。この特性は、熱交換器40の特性としてデータを取得してもよいし、熱交換器メーカより特性式等を入手してもよい。流量を低下させると熱通過率Kは低下する場合が多い。熱通過率Kが低下すると、(9)式で与えられる熱交換器40における熱交換量も低下してしまうため、第2の媒体の目標流量の算出において誤差が発生してしまう。
図10に戻り説明を続けると、K値補正部92は、上記のような第2の媒体の流量に対する熱通過率Kの補正テーブルまたは特性式を有する。即ち、目標流量計算部90から入力される第2の媒体の流量に対し、熱通過率Kを補正して目標流量計算部90に出力する。
先に説明した図8の演算フローでは、K値補正部92により第2の媒体の設定流量F2setに応じてK値を補正し、ステップS5における熱交換量Qを算出する際に(15)式によるG3を変更して演算を行うよう構成される。
これにより、第2の媒体の流量に依存する熱交換器40の熱通過率の影響を抑制し、常に正確な熱交換を行うために必要な第2の媒体の流量を算出することができ、より安定な温度制御が可能な冷却または熱回収を行う冷却装置を構成することが可能となる。
また、K値補正部92は、温度制御部56aにおけるゲイン補正部78に対しゲイン補正信号を出力する。熱交換器40における熱交換量Qは、(6)式または(9)式で表される。ここで、第1の温度センサ16により温度をフィードバックして温度制御部56aによりフィードバック制御を行う場合、熱交換器40の熱通過率Kは制御ループにおけループゲインの一要素となっている。
先に説明したように、熱通過率Kは第2の媒体の流量により変化するため、結果として、温度制御系のループゲインも変化してしまう。ループゲインの変化により温度制御系は著しく応答が遅くなったり、場合によっては発振してしまったり、極めて大きな温度変動を伴うことがある。K値補正部92は、ゲイン補正部78にK値の変動分を出力し、ゲイン補正部78ではK値の変動分によらず温度制御系のループゲインが常に所定値となるようループゲインを補正する。
更に、ΔT補正部94は、温度制御部56aにおけるゲイン補正部78に対しΔT補正信号を出力する。熱交換器40における熱交換量Qは、(6)式または(9)式で表され、対数平均温度差ΔTmまたは平均温度Taveは、熱交換器40におけるゲインとなり、結果として温度制御ループにおけループゲインの一要素となっている。
対数平均温度差ΔTmまたは平均温度Taveは、負荷22の変動や工場冷却水39の温度変動及び設定された第2の媒体の流量により変化する。ΔT補正部94は、目標流量計算部90からの対数平均温度差ΔTmまたは平均温度Taveより、基準値として予め定めたΔTmまたはTaveからの変動分を算出してゲイン補正部78に出力し、ゲイン補正部78ではΔTの変動分によらず温度制御系のループゲインが常に所定値となるようループゲインを補正する。
尚、温度制御部56aにおける比例部70、積分部72、微分部74、加算部76は、先に説明した比例/積分/微分制御等を行う制御演算部である。
また、流量制御部60aは、ゲイン補正部87を有するよう構成されてもよい。図7で説明したように、制御弁34は非線型性を有する場合が多く、ゲイン補正部87にて流量センサ38からの流量フィードバック信号に基づき制御弁34の非線形性を補正するようゲイン補正を行う。制御弁34の非線型性は予めその特性を測定するか、もしくは、メーカより特性式を入手して、それらの特性に基づいてゲインを補正するよう構成されてもよい。
尚、流量制御部60aにおける比例部80、積分部82、微分部84、加算部86は、先に説明した比例/積分/微分制御等を行う制御演算部である。
従って、実施形態2によれば、第2の媒体の流量に依存した熱交換器40の特性変化をK値補正部92とΔT補正部94と温度制御部におけるゲイン補正部78により補正することができる。これにより、第2の媒体の流量によらず常に負荷変動や工場冷却水の変動に対し極めて安定な温度制御が可能な冷却または熱回収を行う冷却装置を構成することが可能となる。
(実施形態3)
次に、本発明による実施形態3について説明する。
実施形態3では、実施形態1の図2の冷却装置の構成図において、流量演算部62の演算方法が異なる。これを図12に基づいて説明する。
図12は本発明の実施形態3の流量演算部の演算フロー図である。
ステップS1では、目標温度52からの目標温度T1refと第2の温度センサ14からの温度T11より目標熱量φrefを算出する。((11)式〜(13)式参照。)
1は、流量センサ24を取り付けた場合は、流量センサ24からの値を元に計算してもよいし、予め規定流量値に調整されている場合は、その規定流量値を代入して計算してもよい。
ステップS2では、第2の温度センサ14からの温度T11と第3の温度センサ36からの温度T21より熱交換器40の第2の媒体の流量と熱交換量の関係を表す参照テーブルまたは特性式を用いて目標熱量φrefに等しいか、またはほぼ等しくなる第2の媒体の流量を算出する。
ここで、図13を用いて上記参照テーブルまたは特性式についての説明を行う。
図13は、温度T11を一定温度、温度T21をパラメータとしてTa、Tb、Tc(Ta<Tb<Tc)としたときの第2の媒体の流量に対する熱交換器40の熱交換量(冷却能力)を示している。
但し、T21<T11であり、第2の媒体により第1の媒体の冷却を行うものとする。この場合、第2の媒体の温度が低いほど、冷却能力は高く、より少ない流量により熱交換を行うことが可能となる。従って、温度T11の各温度に対して図13のような温度T21による第2の媒体の流量に対する熱交換量の特性を示す参照テーブル、もしくは特性式を有することにより、図12のステップS2におい目標熱量φrefに等しいか、またはほぼ等しくなる第2の媒体の流量を算出することができる。
尚、上記参照テーブルまたは特性式は予めその特性を測定するか、もしくは、メーカより特性式を入手するか、もしくは理論計算値に基づいて作成してもよい。
図12のステップS3では、ステップS2で算出された第2の媒体の流量を第2の媒体に対する目標流量F2refとして設定する。
従って、実施形態3によれば、負荷変動等による第1の媒体の温度変動を第2の温度センサ14により検出し、第2の媒体の温度変動を第3の温度センサ36により検出し、参照テーブルまたは特性式より第1の媒体を所定温度とするために必要な第2の媒体の流量を算出して制御弁34を調整し、熱交換器40により第1の媒体の熱回収を行い、さらに第1の温度センサ14と温度制御部56により第1の媒体の温度制御を行う。
これにより、急激な負荷変動や工場冷却水の温度変動に対しても速やかに、かつ適切な熱回収が行われ、安定な温度制御を行うことが可能となる。従って、所定温度より低い温度の工場冷却水が供給される場合において、省電力で高効率、かつ低コストで小型、さらに負荷変動や工場冷却水の変動に対し安定な温度制御が可能な冷却または熱回収を行う冷却装置を構成することが可能となる。
以上説明したように、本発明によれば、急激な負荷変動や工場冷却水の温度変動に対しても速やかに、かつ適切な熱回収が行われ、安定な温度制御を行うことが可能となる。したがって、低い温度の工場冷却水が供給される場合において、省電力で高効率、かつ低コストで小型、さらに負荷変動や工場冷却水の変動に対し安定な温度制御が可能な冷却または熱回収を行う冷却装置を構成することが可能となる。
また、本発明によれば、温度制御部及び流量演算部からの目標流量に対し、流量センサと流量制御弁により第2の媒体の流量が制御され、より正確な熱回収が行われ、ひいてはより安定した第1の媒体の温度制御が可能となる。
また、本発明によれば、第2の媒体の流量に依存した熱交換器の特性変化を熱交換ゲイン補正部及び温度制御ゲイン補正部により補正することができ、第2の媒体の流量によらず常に負荷変動や工場冷却水の変動に対し極めて安定な温度制御が可能な冷却または熱回収を行う冷却装置を構成することが可能となる。
尚、本発明は、圧縮機等を用いない冷却装置に限定されることなく、熱交換器を有する冷却装置または加熱または加温装置において広く適用することができる。
即ち、熱交換器の出口側における第1の媒体の温度を検出する第1の温度センサと、第1の媒体の温度目標値を生成する目標温度と、熱交換器への入口側における第1の媒体の温度を検出する第2の温度センサと第2の媒体の温度を検出する第3の温度センサを構成する。そして、第1乃至第3の温度センサの各温度センサから得られる信号に基づいて、流量演算部において常に目標温度とするために必要な第2の媒体の流量を算出して、その算出した流量に基づいて、制御弁等により流量を調整(制御)するように構成することにより、急激な負荷変動や熱交換器に入力される第2の媒体の温度変動に対しても速やかに、かつ適切な熱回収を行うことが可能となり、極めて安定な温度制御を行うことができる。
また、負荷変動が小さく、第1の媒体の熱交換器への入口側温度変動が小さい場合は、第2の温度センサを構成しなくてもよく、予め決められた第1の媒体の温度に基づき第2の媒体の温度を検出する温度センサと目標温度より第1の媒体を所定温度とするために必要な第2の媒体の流量を算出するよう構成してもよい。更に、第2の媒体の温度変動が小さい場合は、第3の温度センサを構成しなくてもよく、予め決められた第2の媒体の温度に基づき第1の媒体の温度を検出する第2の温度センサと目標温度より第1の媒体を所定温度とするために必要な第2の媒体の流量を算出するよう構成してもよい。
[露光装置の応用例]
次に上記の露光装置を利用した半導体デバイスの製造プロセスを説明する。
図14は半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す。
ステップ101(回路設計)では半導体デバイスの回路設計を行なう。ステップ102(マスク作製)では設計した回路パターンに基づいてマスクを作製する。一方、ステップ103(ウエハ製造)ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。
ステップ104(ウエハプロセス)は前工程と呼ばれ、上記のマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ105(組み立て)は後工程と呼ばれ、ステップ104によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)、パッケージング工程(チップ封入)等の組立て工程を含む。ステップ106(検査)では、ステップ105で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これを出荷(ステップ107)する。
図15は上記ウエハプロセスの詳細なフローを示す。
ステップ111(酸化)では、ウエハの表面を酸化させる。ステップ112(CVD)では、ウエハ表面に絶縁膜を成膜する。ステップ113(電極形成)では、ウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップ114(イオン打込み)では、ウエハにイオンを打ち込む。ステップ15(レジスト処理)では、ウエハに感光剤を塗布する。
ステップ16(露光)では、上記の露光装置によって回路パターンをウエハに転写する。ステップ17(現像)では、露光したウエハを現像する。ステップ18(エッチング)では、現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ19(レジスト剥離)では、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行なうことによって、ウエハ上に多重に回路パターンを形成する。
一般的な露光装置の構成図である。 本発明の実施形態1の露光装置における冷却装置の構成図である。 本発明の実施形態1の制御弁の構成の一例を示す図である。 本発明の実施形態1の熱交換器の温度特性の一例を示す図である。 本発明の実施形態1の流量演算部の演算フロー図である。 本発明の実施形態1の熱交換器の温度特性の一例を図である。 本発明の実施形態1の制御弁の流量特性の一例を示す図である。 本発明の実施形態2の流量演算部の演算フロー図である。 本発明の実施形態2の露光装置における冷却装置の構成図である。 本発明の実施形態2の流量演算部、温度制御部、流量制御部の一例を示す図である。 本発明の実施形態2の熱交換器の熱通過率特性の一例を示す図である。 本発明の実施形態3の流量演算部の演算フロー図である。 本発明の実施形態3の熱交換器の熱交換特性の一例を示す図である。 半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す図である。 図14におけるウエハプロセスの詳細なフローを示す図である。
符号の説明
10 第1の媒体の回路全体
12 回路
14、16 温度センサ
18 タンク
20 ポンプ
22 負荷
30 第2の媒体の回路全体
31 主回路
32 回路
34 制御弁
36 温度センサ
38 流量センサ
39 工場冷却水
40 熱交換器
41、45 入口
43 47 出口
50 各種制御部
52 目標温度
54、58 加減算器
56 温度制御部
60 流量制御部
62 流量演算部

Claims (13)

  1. 第1の媒体と第2の媒体との間で熱交換を行って第1の媒体の温度を制御する熱交換器の熱交換方法であって、
    前記熱交換器の出口側における前記第1の媒体の温度と、該熱交換器の入口側における前記第1の媒体の温度と前記第2の媒体の温度を検出する検出工程と、
    前記第1の媒体の目標温度と、前記検出工程で検出した前記熱交換器の入口側における第1の媒体の温度と前記第2の媒体の温度に基づいて、前記第2の媒体の流量を調整して、前記熱交換器の出口側における第1の媒体の温度を制御する制御工程と
    を備えることを特徴とする熱交換方法。
  2. 前記制御工程は、
    前記目標温度と、前記検出工程で検出した前記熱交換器の入口側における前記第1の媒体の温度に基づいて、目標熱量を算出する目標熱量算出工程と、
    前記目標熱量算出工程で算出した目標熱量と、前記熱交換器の熱交換ゲインより、前記熱交換器における平均温度を算出する平均温度算出工程と、
    前記平均温度算出工程で算出した平均温度と、前記目標温度と、前記検出工程で検出した前記熱交換器の入口側における前記第1の媒体の温度と第2の媒体の温度に基づいて、前記熱交換器における前記目標熱量の熱交換に必要な前記第2の媒体の流量を算出する流量算出工程とを備え、
    前記制御工程は、前記流量算出工程で算出した前記第2の媒体の流量を示す流量信号を、前記第1の媒体の温度制御信号に加算することで前記第2の媒体の流量を調整して、前記第1の媒体の温度を制御する
    ことを特徴とする請求項1に記載の熱交換方法。
  3. 前記制御工程は、
    前記目標温度と、前記検出工程で検出した前記熱交換器の入口側における前記第1の媒体の温度に基づいて、目標熱量を算出する目標熱量算出工程と、
    前記目標温度と、前記検出工程で検出した前記熱交換器の入口側における第2の媒体の温度に基づいて、第1の温度差を算出する第1温度差算出工程と、
    前記目標熱量と、前記第2の媒体の流量を設定して、前記検出工程で検出した前記熱交換器の入口側における前記第1の媒体と前記第2の媒体の温度に基づいて、第2の温度差を算出する第2温度差算出工程と、
    前記第1の温度差と前記第2の温度差より、前記熱交換器における対数平均温度差または平均温度を算出する温度算出工程と、
    前記対数平均温度差または平均温度と前記熱交換器の熱交換ゲインより、前記熱交換器における熱交換量を算出する熱交換量算出工程と、
    前記熱交換量が前記目標熱量と等しいかもしくはほぼ等しくなる前記第2の媒体の流量を選定する選定工程とを備え、
    前記制御工程は、前記選定工程で選定した前記第2の媒体の流量を示す流量信号を、前記第1の媒体の温度制御信号に加算することで前記第2の媒体の流量を調整して、前記第1の媒体の温度を制御する
    ことを特徴とする請求項1に記載の熱交換方法。
  4. 前記制御工程は、前記第1の媒体の温度制御信号と、前記流量信号を加算し、更に、前記第2の媒体の流量センサによる検出流量信号を減算することで前記第2の媒体の流量を調整して、前記第1の媒体の温度を制御する
    ことを特徴とする請求項2または3に記載の熱交換方法。
  5. 前記第2の媒体の流量に応じて、前記熱交換器の熱交換ゲインを補正する
    ことを特徴とする請求項3及び4に記載の熱交換方法。
  6. 前記対数平均温度差信号または前記平均温度信号により、温度制御ゲイン補正を行う
    ことを特徴とする請求項5に記載の熱交換方法。
  7. 前記制御工程は、比例制御または積分制御または比例/積分制御または比例/積分/微分制御である
    ことを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の熱交換方法。
  8. 第1の媒体と第2の媒体との間で熱交換を行う熱交換装置であって、
    前記第1の媒体と前記第2の媒体との間で熱交換を行う熱交換手段と、
    前記熱交換手段の出口側における前記第1の媒体の温度を検出する第1の温度検出手段と、
    前記熱交換手段の入口側における前記第1の媒体の温度を検出する第2の温度検出手段と、
    前記熱交換手段の出口側における前記第1の媒体の目標温度値を算出する目標温度算出手段と、
    前記熱交換手段の入口側における前記第2の媒体の温度を検出する第3の温度検出手段と、
    前記第2の媒体の流量を制御する流量制御手段と、
    前記目標温度算出手段と前記第2の温度検出手段と前記第3の温度検出手段からの信号に基づいて、前記第2の媒体の流量を算出する流量演算手段と、
    前記流量演算手段からの信号に基づいて、前記流量制御手段によって前記第2の媒体の流量を制御することで、前記第1の媒体の温度制御を行う温度制御手段と
    を備えることを特徴とする熱交換装置。
  9. 第1の媒体と第2の媒体との間で熱交換を行う熱交換装置であって、
    前記第1の媒体と前記第2の媒体との間で熱交換を行う熱交換手段と、
    前記第1の媒体の目標温度値を算出する目標温度算出手段と、
    前記熱交換手段の入口側における前記第2の媒体の温度を検出する第1の温度検出手段と、
    前記第2の媒体の流量を制御する流量制御手段と、
    前記目標温度算出手段と前記第1の温度検出手段からの信号に基づいて、前記第2の媒体の流量を算出する流量演算手段と、
    前記流量演算手段からの信号に基づいて、前記流量制御手段によって前記第2の媒体の流量を制御することで、前記第1の媒体の温度制御を行う温度制御手段と
    を備えることを特徴とする露光装置。
  10. 第1の媒体と第2の媒体との間で熱交換を行う熱交換装置であって、
    前記第1の媒体と前記第2の媒体との間で熱交換を行う熱交換手段と、
    前記第1の媒体の目標温度値を算出する目標温度算出手段と、
    前記熱交換手段の入口側における前記第1の媒体の温度を検出する第1の温度検出手段と、
    前記第2の媒体の流量を制御する流量制御手段と、
    前記目標温度算出手段と前記第1の温度検出手段からの信号に基づいて、前記第2の媒体の流量を算出する流量演算手段と、
    前記流量演算手段からの信号に基づいて、前記流量制御手段によって前記第2の媒体の流量を制御することで、前記第1の媒体の温度制御を行う温度制御手段と
    を備えることを特徴とする露光装置。
  11. 前記熱交換手段の出口側における前記第1の媒体の温度を検出する第2の温度検出手段を更に備え、
    前記流量演算手段は、前記目標温度算出手段と前記第1の温度検出手段と前記第2の温度検出手段からの信号に基づいて、前記第2の媒体の流量を算出する
    ことを特徴とする請求項9また10に記載の露光装置。
  12. 請求項8〜11のいずれか1項に記載の熱交換装置を有する露光装置。
  13. デバイスの製造方法であって、
    請求項12に記載の露光装置を用いて、感光材が塗布された基板にパターンを転写する工程と、
    前記基板を現像する工程と、
    を含むことを特徴とするデバイスの製造方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8164735B2 (en) 2008-03-03 2012-04-24 Canon Kabushiki Kaisha Regulating device, exposure apparatus and device manufacturing method
US8199313B2 (en) 2007-10-04 2012-06-12 Canon Kabushiki Kaisha Temperature regulating apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
KR101208033B1 (ko) 2010-07-29 2012-12-04 한국전력공사 열교환기의 온도제어 방법 및 장치
JP2013024493A (ja) * 2011-07-22 2013-02-04 Seiko Epson Corp 熱交換装置および熱交換方法

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ES2584409T3 (es) * 2011-07-29 2016-09-27 Carrier Corporation Sistemas de HVAC
JP6270310B2 (ja) 2011-12-12 2018-01-31 ギガフォトン株式会社 冷却水温度制御装置
CH706736A1 (de) * 2012-07-09 2014-01-15 Belimo Holding Ag Verfahren zum Betrieb eines Wärmetauschers sowie HVAC-Anlage zur Durchführung des Verfahrens.
GB2510654B (en) * 2013-05-15 2016-09-07 Rolls Royce Plc Method and system for monitoring the performance of a heat exchanger
WO2014183868A2 (en) * 2013-05-16 2014-11-20 Belimo Holding Ag Device and method for controlling opening of a valve in an hvac system
EP3770518A3 (en) 2013-12-20 2021-06-23 Belimo Holding AG Valve control in an hvac system with sensors
CN111174527B (zh) * 2019-12-23 2020-12-22 珠海格力电器股份有限公司 冷库的控制方法及装置、模块冷库
US11744039B2 (en) * 2020-09-04 2023-08-29 Jdi Design Inc. System and method for transferring thermal energy from integrated circuits

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3651370B2 (ja) 2000-07-31 2005-05-25 ダイキン工業株式会社 冷凍装置
US7735744B2 (en) * 2004-03-11 2010-06-15 Nissan Technical Center North America, Inc. Control of coolant flow rate for vehicle heating

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8199313B2 (en) 2007-10-04 2012-06-12 Canon Kabushiki Kaisha Temperature regulating apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US8164735B2 (en) 2008-03-03 2012-04-24 Canon Kabushiki Kaisha Regulating device, exposure apparatus and device manufacturing method
KR101208033B1 (ko) 2010-07-29 2012-12-04 한국전력공사 열교환기의 온도제어 방법 및 장치
JP2013024493A (ja) * 2011-07-22 2013-02-04 Seiko Epson Corp 熱交換装置および熱交換方法

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