JP2005538557A - 1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物を含んでなる光電池装置 - Google Patents
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Abstract
【化1】
2.9eVより大きいバンドギャップを有するn−タイプ半導体、分光増感剤および式(I)[式中、R1は−NR3R4基を表わし、ここでR3およびR4は、同一もしくは相異なり、置換された形態のアルキル基を包含するC2−C10アルキル基、ベンジル基、シクロアルキル基、またはアリール基を表わし、そしてR2は水素、置換された形態のアルキル基を包含するC2−C10アルキル基またはハロゲンを表わす]により表示される1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物を含んでなる光電池装置であって、1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物が場合によりカチオン形態であってもよい光電池装置、並びに1つの電極として導電層を有する支持体を準備し、支持体上の導電層に2.9eVより大きいバンドギャップを有するn−タイプ半導体を含んでなる層をコーティングし、n−タイプ半導体含有層を1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物またはそのカチオンを含んでなる溶液または分散液をコーティングして、乾燥後に1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物を含んでなる層を与え、そして導電層を1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物を含んでなる層に適用してそれにより第二の電極を与える段階を含んでなる、少なくとも1つの透明電極を有する上記の光電池装置の製造方法。
2.9eVより大きいバンドギャップを有するn−タイプ半導体、分光増感剤および式(I)[式中、R1は−NR3R4基を表わし、ここでR3およびR4は、同一もしくは相異なり、置換された形態のアルキル基を包含するC2−C10アルキル基、ベンジル基、シクロアルキル基、またはアリール基を表わし、そしてR2は水素、置換された形態のアルキル基を包含するC2−C10アルキル基またはハロゲンを表わす]により表示される1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物を含んでなる光電池装置であって、1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物が場合によりカチオン形態であってもよい光電池装置、並びに1つの電極として導電層を有する支持体を準備し、支持体上の導電層に2.9eVより大きいバンドギャップを有するn−タイプ半導体を含んでなる層をコーティングし、n−タイプ半導体含有層を1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物またはそのカチオンを含んでなる溶液または分散液をコーティングして、乾燥後に1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物を含んでなる層を与え、そして導電層を1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物を含んでなる層に適用してそれにより第二の電極を与える段階を含んでなる、少なくとも1つの透明電極を有する上記の光電池装置の製造方法。
Description
本発明は、場合によりカチオン形態であってもよい1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物を含んでなる光電池装置(photovoltaic device)に関する。
2つの基本的タイプの光電気化学的光電池がある。第一のタイプは、光を電力に転換させて実質的な化学変化を残さない再生電池である。バンドギャップ(band gap)のものを越えるエネルギーの光子が電子−正孔対を形成し、それらは空間−電荷層の中に存在する電場により分離される。負の電荷担体は半導体の塊を通って電流収集器および外部回路に移動する。正孔は表面に駆動され、そこでそれらはレドックスリレー分子(R)の還元された形態により捕集されて、それを酸化して酸化形態にする:h++R→O。電池を外部回路から再加入させる電子により、OはRに逆に還元される。第二のタイプである光合成電池では、一方が半導体電極の表面で正孔と反応しそして第二のものが逆電極に入る電子と反応するような2つのレドックスシステムがあること以外は同様な原理で作動する。そのような電池では、水は典型的には半導体光陽極で酸素に酸化されそして陰極で水素に還元される。二酸化チタンがこれらの研究に関して好ましい半導体であった。
分光増感種が吸着しうる面積を増加させることにより光捕獲効率を改良するために、巨大な内表面積を有する微細に構成された物質である中孔質またはナノ−多孔質半導体物質が第一のタイプの電池に関して開発された。酸化物、例えばTiO2、ZnO、SnO2およびNb2O5、またはカルコゲニド、例えばCdSeのナノ−結晶の列が好ましい半導体物質でありそしてそれらが内部連結されて電気伝導性を生ずる。これらの基本的技術は非特許文献1並びに特許文献1、特許文献2および特許文献3に開示されている。非特許文献1は、33%までの光子対電子転換効率を有する固態の染料で増感された中孔質TiO2太陽電池を報告した。
特許文献4は、増感性半導体をさらに含んでなることを特徴とする電子導電体および正孔導電体を含んでなる固態のp−nへテロ構造であって、該増感性半導体が該電子導電体と該正孔導電体との間の界面に置かれているp−nへテロ構造、並びに固態の増感された光電池におけるその用途を開示している。
従って、安定な透明層を形成することができ且つ固態の電池構成と相容性である熱安定性の有機正孔−導電性化合物に関する要望がある。
特許文献5は、下記の一般式:
[式中、R1は−NR3R4基を表わし、ここでR3およびR4は、同一もしくは相異なり、置換された形態のアルキル基を包含するC2−C10アルキル基、ベンジル基、シクロアルキル基、またはアリール基を表わし、そしてR2は水素、置換された形態のアルキル基を包含するアルキル基またはハロゲンを表わす]
に相当する化合物を開示している。そのような化合物は非特許文献2および非特許文献3に記載されているように正孔移送性質を示す。さらに、そのような化合物は非特許文献4により報告されているように100℃より高いガラス転移温度を有する熱安定性の非晶質層を形成する。この性質の組み合わせにより、非特許文献5および非特許文献6に報告されているように、そのようなスターバースト(starburst)化合物が有機エレクトロルミネッセント装置中での使用において特に興味をもたれた。
米国特許第4,927,721号明細書
米国特許第5,350,644号明細書
特開平第05−504023号公報
欧州特許出願公開第1176646号明細書
欧州特許第0349034号明細書
Graetzel et al.,Nature、353巻、737−740頁、1991
Novo et al.,Phys.Stat.Solidi(B),177巻、223頁、1993
Van der Auweraer et al.,Journal of Physical Chemistry,97巻、8808頁、1993
Inada et al.,Journal of Materials Chemistry,3巻、319−320頁、1993
Inada et al.,Mol.Cryst.Liq.Cryst.,280巻、331−336頁、1996
Shirota et al.,Journal of Luminescence,72−74巻、985−991頁、1996
に相当する化合物を開示している。そのような化合物は非特許文献2および非特許文献3に記載されているように正孔移送性質を示す。さらに、そのような化合物は非特許文献4により報告されているように100℃より高いガラス転移温度を有する熱安定性の非晶質層を形成する。この性質の組み合わせにより、非特許文献5および非特許文献6に報告されているように、そのようなスターバースト(starburst)化合物が有機エレクトロルミネッセント装置中での使用において特に興味をもたれた。
従って、安定な正孔導電性化合物を有する光電池を提供することが本発明の特徴である。
本発明の別の特徴および利点は以下の記述から明らかになるであろう。
発明の要旨
1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼンがカチオン形態で、固態光電池構成(solid state photovoltaic cell configuration)と相容性にさせる正孔移送特性を示すことが驚くべきことに見出された。
1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼンがカチオン形態で、固態光電池構成(solid state photovoltaic cell configuration)と相容性にさせる正孔移送特性を示すことが驚くべきことに見出された。
本発明の特徴は、2.9eVより大きいバンドギャップを有するn−タイプ半導体および式(I):
[式中、R1は−NR3R4基を表わし、ここでR3およびR4は、同一もしくは相異なり、置換された形態のアルキル基を包含するC2−C10アルキル基、ベンジル基、シクロアルキル基、またはアリール基を表わし、そしてR2は水素、置換された形態のアルキル基を包含するアルキル基またはハロゲンを表わす]
により示される1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物を含んでなる光電池装置であって、1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物が場合によりカチオン形態であってもよい光電池装置により実現される。
により示される1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物を含んでなる光電池装置であって、1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物が場合によりカチオン形態であってもよい光電池装置により実現される。
本発明の特徴は、一つの電極として導電層を有する支持体を準備し、支持体上の該導電層に2.9eVより大きいバンドギャップを有するn−タイプ半導体を含んでなる層をコーティングし、n−タイプ半導体含有層に1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物またはそのカチオンを含んでなる溶液または分散液をコーティングして、乾燥後に1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物を含んでなる層を与え、そして導電層を該1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物を含んでなる層に適用し、それにより第二の電極を与える段階を含んでなる、少なくとも1つの透明電極を有する上記の光電池装置の製造方法により実現される。
好ましい態様は従属請求項に開示されている。
発明の詳細な記述
定義
カルコゲニドという用語は、カルコゲンおよび電気陽性がより大きい元素または基を含有する二元化合物を意味する。カルコゲンは、酸素、硫黄、セレン、テルルおよびポロニウムを包含する周期表のIV族からの元素である。
発明の詳細な記述
定義
カルコゲニドという用語は、カルコゲンおよび電気陽性がより大きい元素または基を含有する二元化合物を意味する。カルコゲンは、酸素、硫黄、セレン、テルルおよびポロニウムを包含する周期表のIV族からの元素である。
用語「支持体」は「自己−支持性物質」を意味して、支持体上にコーティングされていてもよいがそれ自体は自己−支持性でない「層」と区別する。それは支持体に対する接着ために必要ないずれかの処理またはそれを助けるために適用される層も包含する。
連続層という用語は、単一面が支持体の全領域を被覆し且つ必ずしも支持体と直接接触する必要のない層をさす。
非連続層という用語は、単一面が支持体の全領域を被覆せず且つ必ずしも支持体と直接接触する必要のない層をさす。
コーティングという用語は、連続層を製造するための全ての技術、例えばカーテンコーティングおよびドクター−ブレードコーティング、並びに非連続層を製造するための全ての技術、例えばインクジェット印刷、フレキソグラフィー印刷、を包含する層に適用するための全ての手段を包含する一般用語である。
略語PEDOTはポリ(3,4−エチレンジオキシ−チオフェン)を表わす。
略語PSSはポリ(スチレンスルホン酸)またはポリ(スチレンスルホネート)を表わす。
光電池装置
本発明の特徴は、2.9eVより大きいバンドギャップを有するn−タイプ半導体および式(I):
本発明の特徴は、2.9eVより大きいバンドギャップを有するn−タイプ半導体および式(I):
[式中、R1は−NR3R4基を表わし、ここでR3およびR4は、同一もしくは相異なり、置換された形態のアルキル基を包含するC2−C10アルキル基、ベンジル基、シクロアルキル基、またはアリール基を表わし、そしてR2は水素、置換された形態のアルキル基を包含するアルキル基またはハロゲンを表わす]
により示される1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物を含んでなる光電池装置であって、そして1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物が場合によりカチオン形態であってもよい光電池装置により実現される。
により示される1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物を含んでなる光電池装置であって、そして1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物が場合によりカチオン形態であってもよい光電池装置により実現される。
本発明に従う光電池装置は、2つのタイプ:光を電力に転換させて実質的な化学変化を残さずに電流担持電子が陽極に移送されそして外部回路および正孔(hole)が陰極に移送されそれらが外部回路からの電子により酸化される再生タイプ、並びに1つが半導体電極の表面で正孔と反応しそして1つが逆電極に入る電子と反応し、例えば、水が半導体光陽極で酸化されそして陰極で水素に還元されるような2つのレドックスシステムがある光合成タイプでありうる。固態グラエッツエル電池により例示される光電池の再生タイプの場合、電荷移送方法はイオン性または電子性でありうる。
そのような再生光電池装置は最終用途に従い種々の内部構造を有することができる。考えられる形態は大よそ2つのタイプ:光を両面から受ける構造および光を一面から受けるものに分類される。前者の例は、透明な伝導層、例えばITO−層もしくはPEDOT/PSS−含有層および透明な逆電極電気伝導性層、例えば間に挟まれた感光層および電荷移送層を有するITO−層もしくはPEDOT/PSS−含有層から製造される構造である。そのような装置は好ましくは、内部物質の劣化または揮発を防止するために重合体、接着剤などで封着されたそれらの側面を有する。電気伝導性基質および逆電極とそれぞれの導線により連結された外部回路は既知である。
本発明に従う光電池装置の第一の態様によると、光電池装置は単一の層システムを含んでなる。
本発明に従う光電池装置の第二の態様によると、光電池装置は2.9eVより大きいバンドギャップを有するn−タイプ半導体が式(I)に従う1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物に隣接するかまたは分光増感剤が2.9eVより大きいバンドギャップを有するn−タイプ半導体と式(I)に従う1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物との間に挟まれる構成を含んでなる。
1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物
2.9eVより大きいバンドギャップを有するn−タイプ半導体および式(I):
2.9eVより大きいバンドギャップを有するn−タイプ半導体および式(I):
[式中、R1は−NR3R4基を表わし、ここでR3およびR4は、同一もしくは相異なり、置換された形態のアルキル基を包含するC2−C10アルキル基、ベンジル基、シクロアルキル基、またはアリール基を表わし、そしてR2は水素、置換された形態のアルキル基を包含するアルキル基またはハロゲンを表わす]
により示される1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物を含んでなる光電池装置であって、そして1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物が場合によりカチオン形態であってもよい光電池装置。
により示される1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物を含んでなる光電池装置であって、そして1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物が場合によりカチオン形態であってもよい光電池装置。
本発明に従う光電池装置の第三の態様によると、式(I)により表示される1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物は下記のものまたはそれらのカチオンから選択される:
本発明に従う適する1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン(TAPB)化合物は下記のものを包含する:
TAPB01は107℃のガラス転移温度を有する。
式(I)に従う1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物のカチオンは、例えばN(p−C6H4Br)3SbCl6の如き酸化剤を用いる特定の1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物の酸化により製造することができる。
n−タイプ半導体
本発明に従う光電池の第四の態様によると、n−タイプ半導体は6.0eVより小さいバンドギャップを有する。
本発明に従う光電池の第四の態様によると、n−タイプ半導体は6.0eVより小さいバンドギャップを有する。
本発明に従う光電池装置の第五の態様によると、n−タイプ半導体は酸化チタン、酸化錫、酸化二オブ、酸化タンタル、酸化タングステンおよび酸化亜鉛よりなる群から選択される。n−タイプ半導体は多孔質または非多孔質であってよいが、非多孔質n−タイプ半導体が好ましい。
本発明に従う光電池装置の第六の態様によると、n−タイプ半導体は二酸化チタンである。
n−タイプ半導体層の分光増感
本発明に従う光電池装置の第七の態様によると、光電池装置は少なくとも1種の分光増感剤をさらに含有する。
本発明に従う光電池装置の第七の態様によると、光電池装置は少なくとも1種の分光増感剤をさらに含有する。
本発明に従う光電池装置の第八の態様によると、光電池装置は2.9eVより小さく且つ1.5eVより大きいバンドギャップを有する金属カルコゲニドナノ粒子、有機染料および金属有機染料(metallo−organic dyes)よりなる群から選択される少なくとも1種の分光増感剤をさらに含有する。
本発明に従う光電池装置の第九の態様によると、光電池装置は金属酸化物、金属硫化物および金属セレン化物よりなる群から選択される少なくとも1種の分光増感剤をさらに含有する。
本発明に従う光電池装置の第十の態様によると、光電池装置は2.9eVより小さく且つ1.5eVより大きいバンドギャップを有する1種もしくはそれ以上の金属硫化物のナノ−粒子をさらに含有する。
本発明に従う光電池装置の第十一の態様によると、光電池装置は硫化鉛、硫化ビスマス、硫化カドミウム、硫化銀、硫化アンチモン、硫化インジウム、硫化銅、セレン化カドミウム、セレン化銅、セレン化インジウムおよびテルル化カドミウムよりなる群から選択される1種もしくはそれ以上の金属硫化物カルコゲニドナノ粒子をさらに含有する。
ボゲル(Vogel)らは1990年に引用することにより本発明の内容となるChemical Physics Letters、174巻、241頁に、その場で製造された量子寸法CdS粒子(40−200Å)を用いる高度に多孔質のTiO2の増感を報告しており、可視光線で400mVの光電圧が得られ、400nmおよび6.0%のエネルギー転換効率においてλ=460nmを有する単色照明下で70%より大きい高い光子対電流効率が得られた。1994年にホイヤー(Hoyer)らはApplied Physics、66巻、349頁に、多孔質二酸化チタンフィルムの内表面を単離された量子点で均一に被覆できたことを報告した。
ここに引用することにより本発明の内容となる欧州特許出願公開第1176646号明細書は、増感性半導体をさらに含んでなることを特徴とする電子導電体および正孔導電体を含んでなる固態のp−nへテロ構造であって、該増感性半導体が該電子導電体と該正孔導電体との間の界面に置かれているp−nへテロ構造、並びに固態の増感された光電池におけるその用途を開示している。好ましい態様では増感性半導体は該電子導電体の表面で吸着される粒子の形態でありそしてさらに好ましい態様では増感性半導体は量子点の形態であり、それは特に好ましい態様によるとPbs、CdS、Bi2S3、Sb2S3、Ag2S、InAs、CdTe、CdSeよりなる粒子もしくはHgTeまたはHgTe/CdTeもしくはHgSe/CdSeよりなる固溶体である。
適する分光増感性有機染料(SSOD)は、例えば下記のもののような、シアニン、メロシアニンおよびアニオン系染料を包含する:
太陽スペクトルの広域吸収を可能にする適当な分光増感性金属有機染料は下記のものを包含する:
光電池装置の製造方法
本発明の特徴は、一つの電極として導電層を有する支持体を準備し、支持体上の導電層に2.9eVより大きいバンドギャップを有するn−タイプ半導体を含んでなる層をコーティングし、n−タイプ半導体含有層に1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物またはそのカチオンを含んでなる溶液または分散液をコーティングして、乾燥後に該1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物を含んでなる層を与え、そして導電層を1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物を含んでなる層に適用し、それにより第二の電極を与える段階を含んでなる、少なくとも1つの透明電極を有する本発明に従う光電池装置の製造方法により実現される。
本発明の特徴は、一つの電極として導電層を有する支持体を準備し、支持体上の導電層に2.9eVより大きいバンドギャップを有するn−タイプ半導体を含んでなる層をコーティングし、n−タイプ半導体含有層に1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物またはそのカチオンを含んでなる溶液または分散液をコーティングして、乾燥後に該1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物を含んでなる層を与え、そして導電層を1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物を含んでなる層に適用し、それにより第二の電極を与える段階を含んでなる、少なくとも1つの透明電極を有する本発明に従う光電池装置の製造方法により実現される。
本発明に従う方法の第一の態様によると、式(I)に従う1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物またはそのカチオンの溶液または分散液は結合剤をさらに含有する。
本発明に従う方法の第二の態様によると、式(I)に従う1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物またはそのカチオンの溶液または分散液は電解質をさらに含有する。適する電解質はLi[(CF3SO2)2N]およびトリフルオロメタンスルホン酸リチウム(リチウムトリフラート)を包含する。
本発明に従う方法の第三の態様によると、この方法は分光増感剤溶液または分散液をn−タイプ半導体層に直接適用する段階をさらに含んでなる。
支持体
本発明に従う使用のための支持体は、場合により処理されてもよく、下塗り層または本発明に従う層構成に対する接着を助けるための他の接着促進手段が備えられていてもよい、重合体フィルム、珪素、セラミックス、酸化物、ガラス、重合体フィルム強化ガラス、ガラス/プラスチックラミネート、金属/プラスチックラミネート、紙および積層紙を包含する。適する重合体フィルムは、場合によりコロナ放電もしくはグロー放電により処理されてもよくまたは下塗り層が備えられていてもよい、ポリ(エチレンテレフタレート)、ポリ(エチレンナフタレート)、ポリスチレン、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリアミド、ポリイミド類、三酢酸セルロース、ポリオレフィン類およびポリ(塩化ビニル)である。
本発明に従う使用のための支持体は、場合により処理されてもよく、下塗り層または本発明に従う層構成に対する接着を助けるための他の接着促進手段が備えられていてもよい、重合体フィルム、珪素、セラミックス、酸化物、ガラス、重合体フィルム強化ガラス、ガラス/プラスチックラミネート、金属/プラスチックラミネート、紙および積層紙を包含する。適する重合体フィルムは、場合によりコロナ放電もしくはグロー放電により処理されてもよくまたは下塗り層が備えられていてもよい、ポリ(エチレンテレフタレート)、ポリ(エチレンナフタレート)、ポリスチレン、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリアミド、ポリイミド類、三酢酸セルロース、ポリオレフィン類およびポリ(塩化ビニル)である。
工業用途
本発明に従い製造される本発明に従う2.9eVより大きいバンドギャップを有するナノ−多孔質金属酸化物半導体の層は再生および光合成光電池装置の両方の中で使用することができる。
本発明に従い製造される本発明に従う2.9eVより大きいバンドギャップを有するナノ−多孔質金属酸化物半導体の層は再生および光合成光電池装置の両方の中で使用することができる。
本発明を以下で参考用および本発明の光電池装置により説明する。これらの実施例に示された百分率および比は断らない限り重量による。電池の基本的製法および構成がきちんとしているかどうかを検査するために、化学名2,2’,7,7’−テトラキス(N,N−ジ−p−メトキシフェニル−アミン)−9,9’−スピロビフルオレンを有するソラロニックス(SOLARONIX)からのスピロ−OMeTADが参照物質として使用された。
実施例1
固態有機正孔導電体および高温焼結ナノ−多孔質TiO2を有する光電池装置
光電池装置1〜3を下記の工程により製造した:
前面電極の製造:
約15オーム/平方の表面導電率を有する導電性SnO2:F(ピルキングトン(Pilkington)TEC15/3)でコーティングされたガラス板(2×7cm2)をイソプロパノール中で5分間にわたり超音波洗浄しそして次に乾燥した。
固態有機正孔導電体および高温焼結ナノ−多孔質TiO2を有する光電池装置
光電池装置1〜3を下記の工程により製造した:
前面電極の製造:
約15オーム/平方の表面導電率を有する導電性SnO2:F(ピルキングトン(Pilkington)TEC15/3)でコーティングされたガラス板(2×7cm2)をイソプロパノール中で5分間にわたり超音波洗浄しそして次に乾燥した。
短路を妨害するためにSnO2:Fの小片を除去した。ガラス電極を長辺でガラスおよびカバン(Kavan)L.他により引用することにより本発明の内容となるElectrochim.Acta(1995)、40(5)、643−52に記載されているエーロゾル形態のジイソプロポキシチタン−ビス(アセチルアセトン)のエタノール溶液の噴霧熱分解により適用される密な非多孔質正孔遮断二酸化チタン層で部分的に被覆した。
デグッサ(DEGUSSA)からの25nmの平均粒子寸法および55m2/gの比表面積を有する火炎熱分解により製造されたナノ−寸法二酸化チタンである5gのP25を15mLの水に加え、引き続き1mLのトリトン(Triton)X−100を加えた。生じた二酸化チタンコロイド分散液を氷中で冷却しそして5分間にわたり超音波処理した。この分散液を次に境界でテープ除去された非多孔質正孔遮断二酸化チタン層を有する電極の中央(0.7×4.5cm2)上にドクター−ブレードコーティングした。ナノ−寸法二酸化チタン分散液でコーティングガラス電極を450℃に30分間にわたり加熱し、次に150℃のホットプレート上で150℃に冷却し、それにより2μmのナノ−多孔質TiO2層厚さを生じた。150℃に冷却した後に、ナノ−多孔質TiO2層でコーティングされたガラス電極を直ちにルテニウム535ビス−TBA染料(ソラロニックスから)の2×10−4M溶液の中に15〜17時間にわたり浸漬し、引き続きアセトニトリルですすいで吸着されなかった染料を除去しそして50℃で数分間にわたり乾燥した。それにより製造された前面電極を直ちに光電池の組み立てにおいて使用した。
正孔移送物質の層を用いるコーティング
正孔移送物質の溶液を下記の通りにして製造した:
HTM溶液1:
60mg(53.1μモル)のスピロ−OMeTADを200μlのクロロベンゼン(アルドリッヒ(Aldrich))の中に、70℃に1時間加熱することにより、溶解させた。56.7μgのN(p−C6H4Br)3SbCl6(69.4nモル)(アルドリッヒ)および907μgのLi[(CF3SO2)2N](3.16μモル)(フルカ(Fluka))のアセトニトリル中溶液10.5μlを次にこの溶液に加えて0.25Mのスピロ−OMeTAD、0.33mMのN(p−C6H4Br)3SbCl6および15mMのLi[(CF3SO2)2N]のHTM溶液1を与えた。
HTM溶液2:
35mg(35.8μモル)のTABP01を200μlのクロロベンゼン(アルドリッヒ)の中に溶解させた。この溶液に、56.7mgのN(p−C6H4Br)3SbCl6(69.4nモル)(アルドリッヒ)および907mgのLi[(CF3SO2)2N](3.16μモル)(フルカ)のアセトニトリル中溶液10.5μlを次に溶液に加えて0.17MのTABP01、0.33mMのN(p−C6H4Br)3SbCl6および15mMのLi[(CF3SO2)2N]のHTM溶液2を与えた。
HTM溶液3:
35.4mg(35.8μモル)のTABP03を200μlのクロロベンゼン(アルドリッヒ)の中に溶解させた。この溶液に、56.7mgのN(p−C6H4Br)3SbCl6(69.4nモル)(アルドリッヒ)および907mgのLi[(CF3SO2)2N](3.16μモル)(フルカ)のアセトニトリル中溶液10.5μlを次に溶液に加えて0.17MのTABP03、0.33mMのN(p−C6H4Br)3SbCl6および15mMのLi[(CF3SO2)2N]のHTM溶液3を与えた。
正孔移送物質の層を用いるコーティング
正孔移送物質の溶液を下記の通りにして製造した:
HTM溶液1:
60mg(53.1μモル)のスピロ−OMeTADを200μlのクロロベンゼン(アルドリッヒ(Aldrich))の中に、70℃に1時間加熱することにより、溶解させた。56.7μgのN(p−C6H4Br)3SbCl6(69.4nモル)(アルドリッヒ)および907μgのLi[(CF3SO2)2N](3.16μモル)(フルカ(Fluka))のアセトニトリル中溶液10.5μlを次にこの溶液に加えて0.25Mのスピロ−OMeTAD、0.33mMのN(p−C6H4Br)3SbCl6および15mMのLi[(CF3SO2)2N]のHTM溶液1を与えた。
HTM溶液2:
35mg(35.8μモル)のTABP01を200μlのクロロベンゼン(アルドリッヒ)の中に溶解させた。この溶液に、56.7mgのN(p−C6H4Br)3SbCl6(69.4nモル)(アルドリッヒ)および907mgのLi[(CF3SO2)2N](3.16μモル)(フルカ)のアセトニトリル中溶液10.5μlを次に溶液に加えて0.17MのTABP01、0.33mMのN(p−C6H4Br)3SbCl6および15mMのLi[(CF3SO2)2N]のHTM溶液2を与えた。
HTM溶液3:
35.4mg(35.8μモル)のTABP03を200μlのクロロベンゼン(アルドリッヒ)の中に溶解させた。この溶液に、56.7mgのN(p−C6H4Br)3SbCl6(69.4nモル)(アルドリッヒ)および907mgのLi[(CF3SO2)2N](3.16μモル)(フルカ)のアセトニトリル中溶液10.5μlを次に溶液に加えて0.17MのTABP03、0.33mMのN(p−C6H4Br)3SbCl6および15mMのLi[(CF3SO2)2N]のHTM溶液3を与えた。
N(p−C6H4Br)3SbCl6は電荷移送化合物をそのカチオン塩に酸化し、Li[(CF3SO2)2N]は電解質として作用した。TABP01の場合には、1994年にボンボイシン(Bonvoisin)他によりJournal of Physical Chemistry、98巻、5052−5057頁に報告された吸収スペクトルに似ているカチオン状態の397nm、695nmおよび772nmピークを監視することにより分光法で測定された酸化工程が確実に完了するのに充分なN(p−C6H4Br)3SbCl6が存在した。ボンボイシン他は、TABP01上の巡回電圧電流計および電量計がトリカチオン発色団に相当するそれぞれ397nm、695nmおよび772nmにおける3つの帯の出現を伴う三電子方法(three−electron processes)に相当する独特な可逆的酸化波を示したことを報告した。TABP01およびTABP03はそれらのトリ−カチオンに酸化可能である、すなわち分子内の3つの窒素が酸化可能である、ようであるが、スピロ−OMeTADの場合には4つの窒素のなかの2つだけが酸化可能であるようである。
前面電極をスピンコーター上に置き、カバーを閉じそしてアルゴン流を2分間にわたり供給した。約150μlの溶液1を次に前面電極に滴下して全領域を被覆した。30〜60秒間待って滴が広がった後に、スピンコーターを再び閉じそしてアルゴン流を再び1分間にわたり供給した。スピンコーターを1000rpmに加速するのに5秒間かかり、その速度で溶液は30分間にわたり回転可能であった。
電荷移送化合物でコーティングされた前面電極を次に暗所でアルゴン下で25℃において30分間にわたり乾燥し、引き続き真空エキシケーター(exicator)中でさらに30分間にわたり暗所で乾燥した。最後に、金電極を頂部で蒸発させた。
光電池装置が暗所で25℃において1〜24時間かかって安定化した後にのみ、測定は行われた。同じ工程を6種全ての溶液に関して行った。これがPV装置1、2および3を生じた。
光電池装置特性
光電池装置構成は図1に示されている。電池に、金属ハライド1AM光源を有するステウエルナゲル・ソラー・コンスタント(Steuernagel Solar Constant)575太陽刺激剤を照射した。刺激剤は約1の日光当量に調節された。発生した電気をキースレー(Keithley)電位計(タイプ2400 SMU)を用いて電圧範囲−1〜+1ボルトで記録した。
光電池装置特性
光電池装置構成は図1に示されている。電池に、金属ハライド1AM光源を有するステウエルナゲル・ソラー・コンスタント(Steuernagel Solar Constant)575太陽刺激剤を照射した。刺激剤は約1の日光当量に調節された。発生した電気をキースレー(Keithley)電位計(タイプ2400 SMU)を用いて電圧範囲−1〜+1ボルトで記録した。
表1は装置に関する短路電流(Isc)および開路電圧(Voc)を示す。活性領域は0.14cm2であった。
トリ−カチオン形態の1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物TAPB01およびTAPB03並びに熱焼結された二酸化チタンを有する光電池装置2および3は光電池効果を示した。
実施例2
固態有機正孔導電体および高圧焼結されたナノ−多孔質TiO2を用いた光電池装置
光電池装置4〜6を下記の工程により製造した:
ナノ−二酸化チタン分散液でコーティングされたガラス電極を最初に110℃で5分間にわたり乾燥し、次に、室温に冷却した後に、500バールの圧力を5秒間にわたりかけたこと以外は、光電池装置1〜3に関して記載した通りにして光電池装置4〜6を製造した。この圧力焼結されたコーティングを次に150℃に加熱し、直ちにルテニウム535ビス−TBA染料の2×10−4M溶液の中に浸漬しそして次に光電池装置1〜3に関して記載した通りにして洗浄しそして乾燥した。
光電池装置7を下記の工程により製造した:
70オーム/平方の表面抵抗を有する(ISTからの)ITOでコーティングされた2×7cm2片をエタノール中でのすすぎおよびオゾン処理により清浄化した。電極を接着テープで部分的に被覆しそして電子線装置の中に入れた。それを真空中で連続的にポンプ操作しながら一晩にわたり入れ、そして非多孔質TiO2を基質に局部的に適用した。沈着後に、真空を開放して試料を使用準備状態にした。
実施例2
固態有機正孔導電体および高圧焼結されたナノ−多孔質TiO2を用いた光電池装置
光電池装置4〜6を下記の工程により製造した:
ナノ−二酸化チタン分散液でコーティングされたガラス電極を最初に110℃で5分間にわたり乾燥し、次に、室温に冷却した後に、500バールの圧力を5秒間にわたりかけたこと以外は、光電池装置1〜3に関して記載した通りにして光電池装置4〜6を製造した。この圧力焼結されたコーティングを次に150℃に加熱し、直ちにルテニウム535ビス−TBA染料の2×10−4M溶液の中に浸漬しそして次に光電池装置1〜3に関して記載した通りにして洗浄しそして乾燥した。
光電池装置7を下記の工程により製造した:
70オーム/平方の表面抵抗を有する(ISTからの)ITOでコーティングされた2×7cm2片をエタノール中でのすすぎおよびオゾン処理により清浄化した。電極を接着テープで部分的に被覆しそして電子線装置の中に入れた。それを真空中で連続的にポンプ操作しながら一晩にわたり入れ、そして非多孔質TiO2を基質に局部的に適用した。沈着後に、真空を開放して試料を使用準備状態にした。
5gのデグッサP25二酸化チタンのナノ−粒子を15mLの水に加えそして生じた二酸化チタンコロイド分散液を氷中で冷却しそして5分間にわたり超音波処理した。
この分散液を次に、境界でテープ除去された非多孔質の正孔遮断二酸化窒素層の中央(0.7×4.5cm2)にドクター−ブレード−コーティングした。
ナノ二酸化チタン分散液でコーティングされたPET電極を最初に110℃で5分間にわたり乾燥し、次に、室温に冷却した後に、500バールの圧力を5秒間にわたりかけた。この圧力焼結されたコーティングを次に150℃に加熱し、直ちにルテニウム535染料の2×10−4M溶液の中に浸漬しそして次に光電池装置1〜3に関して記載した工程を繰り返した。最後に、スピロ−OMeTADおよび金の層を光電池装置1に関して記載した通りにして適用した。
表2は、ガラス電極上およびITO−PET電極上で圧力焼結されたTiO2を用いた種々の正孔移送物質に関する結果を示す。
トリ−カチオン形態の1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物TAPB01およびTAPB03並びに圧力焼結された二酸化チタンを有する光電池装置5および6は光電池効果を示し、それらは熱焼結された二酸化チタンを有する光電池装置よりむしろスピロ−OMeTADを有する参考用光電池装置の性能の方にはるかに近い。
本発明は、ここにそれとなくまたは明瞭に開示されたいずれかの特徴もしくは特徴の組み合わせまたはそれがここで特許請求されている発明に関連するかどうかに無関係のいずれかの一般的事項を包括しうる。以上の記述に鑑みて、種々の改変を発明の範囲内で行い得ることは当業者に明らかであろう。
Claims (7)
- 2.9eVより大きいバンドギャップ(band−gap)を有するn−タイプ半導体および式(I):
により示される1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物を含んでなる光電池装置(photovoltaic device)であって、そして該1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物が場合によりカチオン形態であってもよい光電池装置。 - 該n−タイプ半導体が酸化チタン、酸化錫、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化タングステンおよび酸化亜鉛よりなる群から選択される請求項1に記載の光電池装置。
- 該光電池装置が少なくとも1種の分光増感剤をさらに含有する請求項1に記載の光電池装置。
- 該光電池装置が2.9eVより小さいバンドギャップを有する金属カルコゲニドナノ粒子、有機染料および金属有機染料よりなる群から選択される少なくとも1種の分光増感剤をさらに含有する請求項1に記載の光電池装置。
- 該光電池装置が金属酸化物、金属硫化物および金属セレン化物よりなる群から選択される少なくとも1種の分光増感剤をさらに含有する請求項1に記載の光電池装置。
- 一つの電極として導電層を有する支持体を準備し、支持体上の該導電層に2.9eVより大きいバンドギャップを有するn−タイプ半導体を含んでなる層をコーティングし、該n−タイプ半導体含有層に1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物またはそのカチオンを含んでなる溶液または分散液をコーティングして、乾燥後に該1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物を含んでなる層を与え、そして導電層を該1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物を含んでなる該層に適用し、それにより第二の電極を与える段階を含んでなる、2.9eVより大きいバンドギャップを有するn−タイプ半導体および式(I):
により示される1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物を含んでなる光電池装置であって、該1,3,5−トリス−アミノフェニル−ベンゼン化合物が場合によりカチオン形態であってもよい、少なくとも1つの透明電極を有する光電池装置の製造方法。
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