JP2005527850A - 薄膜偏光スプリッター、該薄膜偏光スプリッターの製造、及び該薄膜偏光スプリッターを有する投影挿入体を含む眼科用レンズ - Google Patents
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Abstract
Description
を満たす偏光スプリッターを提供する。
一つの実施態様によれば、該有機支持体はポリチオウレタンである。
第2材料は二酸化ケイ素となることができる。
(i) 支持体を準備し;
(ii) 上記に定義されているような厚さe1のチタン酸プラセオジミウム層を堆積し;
(iii) 上記に定義されているような、厚さe2の、より低い屈折率の第2の材料から成る層を堆積し;そして
(iv) 工程(ii)及び(iii)を少なくとも1回繰り返す
ことを含んで成る偏光スプリッターの製造方法が提供される。
支持体は工程(ii)〜(iv)中に、周囲温度よりも高い温度で維持されることが好ましい。
支持体は工程(ii)〜(iv)中に、80〜120℃の温度で維持されることが好ましい。
一つの実施態様の場合、工程(ii)前に、支持体にイオン清浄化が施される。
イオン清浄化はアルゴン下で行われるのが好ましい。
工程(ii)及び(iii)中の蒸発速度は好ましくは1〜10nm/秒、特に好ましくは2〜5nm/秒である。
偏光スプリッターは立方体の形を成していてよい。
使用者に向かって像を投影するための装置であって、上記レンズを含む装置も提供される。この投影装置はさらに、液晶マイクロディスプレイを含むことができる。
本発明による偏光スプリッターの一つの実施態様が、図1に概略的に示されている。
このスプリッターは、屈折率n3の支持体上に、それぞれ屈折率n1及び屈折率n2の2つの材料から交互に成る層の積み重ねとを含む。屈折率n1の材料は高屈折率材料、すなわちPrTiO3であるか、又は低屈折率材料であってよい。実際、偏光スプリッターは両事例において好ましく動作する。それぞれの波長λに応じて、厚さe1及びe2の相応の層対が形成される。これらの厚さの構成要素はそれぞれ、屈折率n1及びn2から下記のように計算される:
PrTiO3は、高屈折率材料として採用される。好ましくはこの材料は、非化学量論的組成物(Substance H2の商品名でMerckから入手可能)から出発して、支持体上に堆積される。この組成物は酸素の存在において真空蒸着される。この組成物はその結果、酸化された形態となり、式PrTiO3の透明フィルムを形成する。
有機支持体として、例えばCorning Glassから1.6材料、コード60043を使用することができる。この材料の光定数はMR8の光定数と実質的に同じである。
厚さ6.8mm、直径65〜70mmのバイプラナーMR8を超音波浴内で清浄化し、次いでこれに、加熱炉内で3時間にわたって60℃で熱処理を施す。
こうして調製された支持体を、次いで真空下でデポジション装置内に導入する。次いでこれに、アノードの電圧120V、電流1Aで2分間にわたって圧力3・10-5mbarのアルゴン下でイオン清浄化を施す。
蒸発速度:3nm/秒
酸素圧力:5・10-5mbar;
蒸発源:電子銃
で、2.5・10-5mbarの圧力で、表1に示された厚さを有するように堆積する。
堆積された層の厚さを石英秤を用いてモニタリングし、表1に示した厚さに達した時に蒸発を停止させる。
こうして全部で12層を交互に堆積する。最後に、こうして処理された支持体を切断することにより、所望の形状の偏光スプリッターを得る。こうして得られた偏光スプリッターの特性を、入射角45°に関して図2に示す。図1は、垂直偏光及び平行偏光に対する偏光スプリッターのそれぞれの透過率を示している。ここから明らかなように、透過率はP-偏光に関しては平均して約95%であるのに対して、S-偏光は平均で90%だけ反射させられる。
続いて実施例1と同じ手順を行う。但しこの実施例2では、全処理サイクルにわたって、支持体を80℃の温度まで加熱する。
続いて実施例1と同じ手順を行う。但しこの実施例3では、PrTiO3の代わりにZrO2を使用する。層のそれぞれの厚さを表2に示す。
実施例1〜3によって生成された偏光スプリッターを、これらの耐熱能力に関して試験した。
この試験のために、偏光スプリッターを、60℃まで加熱された加熱炉内に1時間にわたって置いた。これに続いて、支持体の視覚的な外観を評価した。支持体がひび割れを示さない時には、加熱炉の設定点温度を10℃だけ高くし、そして試験を再び始めた。臨界温度はここで、支持体がひび割れを示した温度として定義する。
こうして測定された臨界温度を表3に示す。
Claims (17)
- 該支持体が有機物である、請求項1に記載の偏光スプリッター。
- 該有機支持体がポリチオウレタンである、請求項2に記載の偏光スプリッター。
- 該第2材料が二酸化ケイ素である、請求項1から3までのいずれか1項に記載の偏光スプリッター。
- チタン酸プラセオジミウム層及び第2材料層をそれぞれ6層以上有している、請求項1から4までのいずれか1項に記載の偏光スプリッター。
- 2つのプリズムから形成された立方体の形態を成しており、該プリズムのうちの一方に、請求項1から5までのいずれか1項に記載の、PrTiO3の層とより低い屈折率を有する材料の層とがコートされている、請求項1から5までのいずれか1項に記載の偏光スプリッター。
- 偏光スプリッターの製造方法であって:
(i) 支持体を準備し;
(ii) 請求項1に定義されている厚さe1のチタン酸プラセオジミウム層を堆積し;
(iii) 請求項1に定義されている厚さe2の、より低い屈折率の第2の材料から成る層を堆積し;そして
(iv) 工程(ii)及び(iii)を少なくとも1回繰り返す
ことを含んで成る偏光スプリッターの製造方法。 - 工程(iv)が、工程(ii)及び(iii)を少なくとも5回繰り返すことを含む、請求項7に記載の方法。
- 該支持体が工程(ii)〜(iv)中に、周囲温度よりも高い温度で維持される、請求項8に記載の方法。
- 該支持体が工程(ii)〜(iv)中に、80〜120℃の温度で維持される、請求項7から9までのいずれか1項に記載の方法。
- 工程(ii)前に、該支持体にイオン清浄化が施される、請求項7から10までのいずれか1項に記載の方法。
- 該イオン清浄化がアルゴン下で行われる、請求項11に記載の方法。
- 工程(ii)及び(iii)中の蒸発速度が1〜10nm/秒、好ましくは2〜5nm/秒である、請求項7から12までのいずれか1項に記載の方法。
- 請求項1から6までのいずれか1項に記載の偏光スプリッターを含む、使用者に向かって像を投影するための挿入体を有する眼科用レンズ。
- 該偏光スプリッターが立方体の形を成している、請求項14に記載の眼科用レンズ。
- 請求項14又は15に記載のレンズを含む、使用者に向かって像を投影するための装置。
- さらに液晶マイクロディスプレイを含む、請求項16に記載の投影装置。
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