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JP2005170890A - アリルエーテル化合物 - Google Patents

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Abstract

【課題】反応性希釈剤;架橋剤;難燃剤などの添加剤;光硬化性モノマーの原料などとして有用な新規なアリルエーテル化合物を提供すること。
【解決手段】 下記式(1)
【化1】

Figure 2005170890

で示されるアリルエーテル化合物。
【選択図】 なし

Description

本発明は新規なアリルエーテル化合物に関する。
従来、エチレングリコールモノアリルエーテル、レゾルシノールジアリルエーテル、カテコールジアリルエーテル、1,4−ビス(アリルオキシメチル)シクロヘキサンなどのアリルエーテル化合物は、反応性希釈剤(例えば、特許文献1および特許文献2参照)、架橋剤(例えば、特許文献3参照)、難燃剤などの添加剤(例えば、特許文献4参照)、光硬化性モノマーの原料(例えば、特許文献5参照)などとして利用されてきた。
特開昭63−23913号公報 特開平8−59533号公報 特開2001−122922号公報 特開平8−337681号公報 特開2001−278829号公報
アリルエーテル化合物は、エーテル部分を構成する基の構造の違いにより物性が異なることが知られている。従って、このようなアリルエーテル化合物として、従来知られているものとは異なる骨格を有する新規な化合物を提供することができれば、従来とは異なる物性を持ち得る反応性希釈剤、架橋剤、添加剤、光硬化性組成物などを提供することが可能となり、その技術的意味は大きい。
しかして、本発明の目的は、新規なアリルエーテル化合物を提供することにある。
本発明によれば、上記した目的は、
下記式(1)
Figure 2005170890
で示されるアリルエーテル化合物[以下、アリルエーテル化合物(1)と略称する]を提供することにより達成される。
本発明によれば、反応性希釈剤;架橋剤;難燃剤などの添加剤;光硬化性モノマーの原料などとして有用な、新規なアリルエーテル化合物が提供される。
本発明の新規なアリルエーテル化合物(1)の製造方法に特に制限はなく、例えば塩基性物質の存在下、下記式(2)
Figure 2005170890
で示されるジオール化合物[以下、ジオール化合物(2)と略称する]とハロゲン化アリルを反応させることにより製造することができる。以下、この方法について説明する。
ハロゲン化アリルとしては、例えばアリルクロリド、アリルブロミド、アリルヨージドなどが挙げられる。ハロゲン化アリルの使用量に特に制限は無いが、ジオール化合物(2)に対して、通常、0.5〜20倍モルの範囲であるのが好ましく、反応速度および容積効率の観点からは、1.2〜10倍モルの範囲であるのがより好ましい。
塩基性物質としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物;水素化ナトリウム、水素化カリウムなどのアルカリ金属の水素化物などが挙げられる。塩基性物質の使用量は、ジオール化合物(2)に対して0.5〜30倍モルの範囲であるのが好ましく、2〜15倍モルの範囲であるのがより好ましい。
反応は、溶媒の存在下または不存在下に実施できる。溶媒としては、反応に悪影響を与えない限り特に制限はないが、例えばベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素;ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンなどの飽和脂肪族炭化水素;ジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル;酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル;塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素;ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、スルホランなどが挙げられる。これらは一種を単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。溶媒を使用する場合、その使用量に特に制限はないが、ジオール化合物(2)に対して、通常、0.01〜20倍質量の範囲であるのが好ましく、0.1〜10倍質量の範囲であるのがより好ましい。本反応の場合、溶媒を特に使用しなくてもアリルエーテル化合物(1)を効率よく製造することができる。
特に、塩基性物質を水溶液として反応に用いる場合、反応を促進させるために相間移動触媒を使用するのが極めて好ましい。相間移動触媒に特に制限はないが、例えばトリオクチルメチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムブロミドなどの第四級アンモニウム塩;テトラブチルホスホニウムクロリドなどのホスホニウム塩;15−クラウン−5、18−クラウン−6などのクラウンエーテルなどが挙げられる。相間移動触媒を使用する場合、その使用量は、ジオール化合物(2)に対して、通常、0.001〜0.5倍モルの範囲であるのが好ましく、0.01〜0.2倍モルの範囲であるのがより好ましい。
反応温度は、通常、−30〜150℃の範囲であるのが好ましく、−10〜120℃の範囲であるのがより好ましい。−30℃未満では反応速度が極めて小さくなる傾向となる。一方、150℃を超えると、例えば重合などの副反応が起こり易くなり、収率が低下する傾向にある。また、反応時間は10分〜15時間の範囲であるのが好ましく、副反応抑制の観点からは10分〜10時間の範囲であるのが好ましい。
反応は、窒素、アルゴンのような不活性ガス雰囲気下で実施するのが好ましい。また、反応は大気圧下でも加圧下でも実施できるが、製造設備面の観点からは、大気圧下で実施するのが好ましい。
反応は、例えば攪拌型反応装置に塩基性物質の水溶液、ジオール化合物(2)、ハロゲン化アリルならびに必要に応じて溶媒および相間移動触媒を一度に、または分割して仕込み、所定温度で所定時間反応させることにより行なうことができる。
反応終了後、得られた反応混合液中に含まれる塩基性物質を中和した後、必要に応じて水、飽和食塩水などで洗浄してから濃縮し、さらに蒸留、カラムクロマトグラフィーなどの、有機化合物の精製において通常用いられる精製操作を行なうことによって、純度の高いアリルエーテル化合物(1)を取得できる。
本発明の方法で原料として使用するジオール化合物(2)は、フマル酸エステルまたはマレイン酸エステルとシクロペンタジエンとを150〜250℃で1〜30時間反応(Diels−Alder反応)させて得られるエステル化合物を、銅系触媒存在下に水素添加することにより製造することができる。
なお、本発明のアリルエーテル化合物(1)を異性化させることにより、下記式(3)
Figure 2005170890
で示されるプロペニルエーテル化合物[以下、プロペニルエーテル化合物(3)と略称する]を製造することができる。異性化させる方法に特に制限はなく、公知の異性化技術を用いることができる。例えば、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、シクロヘキサン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、酢酸エチルなどの溶媒の存在下または不存在下に、温度20〜250℃で、アリルエーテル化合物(1)をパラジウムカーボン、ジクロロトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム、クロロトリス(トリフェニルホスフィン)イリジウムなどの周期表第8〜10族の金属を用いた触媒と接触させることにより、プロペニルエーテル化合物(3)を容易に得ることができる。
かかるプロペニルエーテル化合物(3)は、例えば紫外線・電子線などの活性エネルギー線硬化型または熱硬化型のインキ・塗料・コーティング剤などの原料用途に利用することができる。
以下、実施例により本発明を更に詳しく説明するが、本発明はかかる実施例により何ら限定されるものではない。
<実施例1>
2,3−エンド−エキソ−ビス(アリルオキシメチル)ノルボルナンの製造
内容積1Lのオートクレーブに、2,3−エンド−エキソ−ノルボルナンジメタノール120g(0.768mol)、アリルクロリド352.7g(4.609mol)、50質量%水酸化ナトリウム水溶液491.5g(水酸化ナトリウム換算で6.144mol相当)、テトラブチルアンモニウムクロリド21.3g(0.0766mol)を仕込み、オートクレーブ内を窒素置換した。その後、攪拌しながら内温を90℃まで昇温した後、4.5時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、上下二層(上層:有機層、下層:水層)に分かれた反応混合液の下層を抜き取り、n−ヘキサン200mlで2回抽出した。抽出液を、残留している反応混合液の上層と合わせ、この混合液を蒸留水100mlで3回洗浄した。有機層を分離し、濃縮後、減圧蒸留(109℃/120Pa)することにより2,3−エンド−エキソ−ビス(アリルオキシメチル)ノルボルナン154.8g(無色透明液体;単離収率85.0%、純度97.9%)を得た。物性値を以下に示す。
2,3−エンド−エキソ−ビス(アリルオキシメチル)ノルボルナン
H−NMR(500MHz、CDCl、TMS)δ:1.10−1.20(m,3H)、1.31−1.66(m,5H)、2.15(d,1H,J=4.0Hz)、2.27(s,1H)、3.35(t,1H,J=9.5Hz)、3.44(dd,1H,J=9.5,6.0Hz)、3.93−3.96(m,4H)、5.14(dd,2H,J=11.0,1.0Hz)、5.25(dd,2H,J=17.0,1.0Hz)、5.86−5.94(m,2H)
13C−NMR(125MHz、CDCl、TMS)δ:22.25、29.85、36.82、38.27、39.06、44.63、46.64、71.60、71.93、71.94、74.07、116.56、116.58、135.11、135.16
<参考例1>
2,3−エンド−エキソ−ビス(プロペニルオキシメチル)ノルボルナンの製造
実施例1で得られた2,3−エンド−エキソ−ビス(アリルオキシメチル)ノルボルナン100gおよびジクロロトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム81.1mgを内容積200mlの反応容器に仕込み、窒素置換した。その後、攪拌しながら内温を120℃まで昇温した後、5時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、減圧蒸留により2,3−エンド−エキソ−ビス(プロペニルオキシメチル)ノルボルナン90.2g(無色透明液体;単離収率90.2%、純度99.9%)を得た。物性値を以下に示す。
2,3−エンド−エキソ−ビス(プロペニルオキシメチル)ノルボルナン
H−NMR(500MHz、CDCl、TMS)δ:1.09−1.78、2.12−2.34、3.38−3.78、4.32−4.40、4.72−4.80、5.91−5.95、6.19−6.23
13C−NMR(125MHz、CDCl、TMS)δ:9.21、12.54、22.25、29.79、36.83、38.28、38.86、39.02、43.92、44.46、45.94、46.34、70.13、72.32、73.16、75.27、98.16、100.63、145.66、146.70
<実施例2>
2,3−エキソ−エキソ−ビス(アリルオキシメチル)ノルボルナンの製造
内容積100mlのオートクレーブに、2,3−エキソ−エキソ−ノルボルナンジメタノール10g(0.064mol)、アリルクロリド29.4g(0.384mol)、50質量%水酸化ナトリウム水溶液41.0g(水酸化ナトリウム換算で0.513mol)、テトラブチルアンモニウムクロリド1.76g(6.333mol)を仕込み、オートクレーブ内を窒素置換した。その後、攪拌しながら内温を90℃まで昇温した後、6時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、上下二層(上層:有機層、下層:水層)に分かれた反応混合液の下層を抜き取り、n−ヘキサン20mlで2回抽出した。抽出液を、残留している反応混合液の上層と合わせ、この混合液を蒸留水10mlで3回洗浄した。有機層を分離し、濃縮後、減圧蒸留(96℃/106Pa)することにより2,3−エキソ−エキソ−ビス(アリルオキシメチル)ノルボルナンを主成分とする留分16.06g(無色透明液体;単離収率67.2%、純度95.6%)を得た。物性値を以下に示す。
2,3−エキソ−エキソ−ビス(アリルオキシメチル)ノルボルナン
H−NMR(500MHz、CDCl、TMS)δ:1.30−1.47(m,6H)、2.18−2.23(m,2H)、2.30(s,2H)、3.36−3.51(m,4H)、3.94(d,4H,J=4.0Hz)、5.15(dd,2H,J=10.0,1.0Hz)、5.25(dd,2H,J=17.0,1.0Hz)、5.86−5.94(m,2H)
13C−NMR(125MHz、CDCl、TMS)δ:22.39、39.60、39.79、40.16、68.39、72.01、116.75、135.16
<参考例2>
2,3−エキソ−エキソ−ビス(プロペニルオキシメチル)ノルボルナンの製造
実施例2で得られた2,3−エキソ−エキソ−ビス(アリルオキシメチル)ノルボルナン15gおよびジクロロトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム12.2mgを内容積100mlの反応容器に仕込み、窒素置換した。その後、攪拌しながら内温を120℃まで昇温した後、7時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、減圧蒸留により2,3−エキソ−エキソ−ビス(プロペニルオキシメチル)ノルボルナン11.92g(無色透明液体;単離収率74.8%、純度94.1%)を得た。物性値を以下に示す。
2,3−エキソ−エキソ−ビス(プロペニルオキシメチル)ノルボルナン
H−NMR(500MHz、CDCl、TMS)δ:1.31−1.60、2.27−2.33、3.56−3.85、4.34−4.40、4.71−4.79、5.91−5.93、6.19−6.22
13C−NMR(125MHz、CDCl、TMS)δ:9.25、12.61、22.39、39.66、39.73、40.18、67.20、70.21、98.29、101.08、145.59、146.61

Claims (1)

  1. 下記式(1)
    Figure 2005170890
    で示されるアリルエーテル化合物。

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