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JP2003316291A - 発光装置 - Google Patents

発光装置

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JP2003316291A
JP2003316291A JP2002049185A JP2002049185A JP2003316291A JP 2003316291 A JP2003316291 A JP 2003316291A JP 2002049185 A JP2002049185 A JP 2002049185A JP 2002049185 A JP2002049185 A JP 2002049185A JP 2003316291 A JP2003316291 A JP 2003316291A
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Japan
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electrode
light emitting
auxiliary wiring
wiring
extending
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JP2002049185A
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JP4183951B2 (ja
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Shunpei Yamazaki
舜平 山崎
Jun Koyama
潤 小山
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Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Original Assignee
Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 有機発光媒体上に100nm程度の厚さで形成
する透明導電膜の抵抗率を1×10-3Ωcm以下にするこ
とは困難でありシート抵抗は100Ω/□以上に増大し
てしまう。このような場合、画面サイズを大型化する場
合には電圧降下により面内電位分布が不均一になり、画
像表示画面における輝度にバラツキが生じるといった問
題が発生する。 【解決手段】 マトリクス状に配置された複数個の第1
電極と、有機発光媒体と、第2電極とから発光性の画素
が形成されて画像表示領域を形成する発光装置であり、
第1電極のそれぞれの周辺端部を囲む電気絶縁性の隔壁
と、第2電極と電気的に接触する第1補助配線とを有
し、第1補助配線は前記画像表示領域の外側まで延在
し、その端部において第2補助配線と電気的に接続し、
第2補助配線は入力端子部から延在する配線と電気的に
接続している。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は有機発光素子を備え
た発光装置に係り、特に多色表示を行う表示部が形成さ
れた発光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】複数の発光画素をマトリクス状(行と
列)に配置させて多色画像表示を行う発光装置は、特開
平8−227276号公報などで開示されている。同公
報で開示の技術は、第1表示電極が形成された基板と、
該第1電極の各々を囲み基板上に突出する電気絶縁性の
隔壁と、隔壁内に形成された少なくとも1層の有機エレ
クトロルミネセンス媒体の薄膜と、ストライプ状に形成
された第2電極とが備えられている。
【0003】また、多色表示を行うように、隔壁内の第
1表示電極を露出せしめる複数の開口を有するマスクを
隔壁の上面に載置して、有機エレクトロルミネセンス媒
体なる薄膜を第1電極上に形成するものであり、1つの
開口が1つの第1電極上からその隣接する第1電極上へ
配置されるようにマスクを順次移動せしめることによ
り、精度良く異なる媒体の塗り分けができることが開示
されている。
【0004】多色表示を行うには、このようにRGBな
どの発光色の異なる薄膜を各画素毎に形成する方式の他
に、白色光を発光する有機発光素子とカラーフィルター
を組み合わせた方式、青色に発光する有機発光素子と色
変換層を組み合わせた方式などが知られている。
【0005】近年では、画像表示における画面の大型化
や高精細化が進み、XGA(1024×768ドット)
やSXGA(1365×1024ドット)、さらにはU
XGA(1600×1200ドット)などのように画素
密度が高まっている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】有機発光媒体上に形成
した第2電極を光放射面とする発光性の画素が備えられ
た画像表示部を有する発光装置では、第2電極を透明導
電膜で形成する必要があり、且つ光透過率を高めるため
に、光吸収損失と干渉の影響を考慮して薄く形成する必
要がある。
【0007】しかしながら、画像表示部の大画面化が進
むと透明導電膜の抵抗により、有機発光素子の応答速度
の低下や消費電力の増加を招き、実用に供与し得る発光
装置を提供することが実質的に出来なくなる。
【0008】有機発光媒体上に、概ね100℃程度で形
成しなければならない透明導電膜の抵抗率を1×10-3
Ωcm以下にすることは困難であり、100nm程度で形成
する第2電極のシート抵抗は100Ω/□以上に増大し
てしまう。特に画面サイズを20〜50インチ型(51
〜101cm)を実現しようとする場合には、電気抵抗に
よる電圧降下により面内電位分布が不均一になり、画像
表示画面における輝度にバラツキが生じるといった問題
が発生する。
【0009】勿論、特開平11−8073号公報にある
ように、対向電極(第2電極を指す)上に補助配線を形
成することにより透明導電膜の抵抗による電力損失を補
う方法もあるが、補助配線を形成することにより開口率
が低下することが問題となる。
【0010】本発明は、有機発光媒体上に形成する第2
電極を光の放射面とする高精細な発光装置を提供するこ
とを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに本発明の構成は、マトリクス状に配置された複数個
の第1電極と、第1電極に対応するように形成された発
光性材料を含む有機発光媒体と、第1電極と対向して形
成される第2電極とから発光性の画素が形成されて画像
表示部を形成する発光装置であり、該画像表示部におい
て、第1電極のそれぞれの周辺端部を囲む電気絶縁性の
隔壁と、当該隔壁上においてマトリクスの行配列方向又
は列配列方向に延在し、第2電極と電気的に接触すると
共にその下層側に形成された第1補助配線とを有してい
て、第1補助配線は前記画像表示部の外側まで延在する
と共に、その端部において該第1補助配線と交差する方
向に延在する第2補助配線と電気的に接続し、第2補助
配線は、入力端子部から延在する配線と電気的に接続し
ているものである。
【0012】また、他の発明の構成は、マトリクス状に
配置された複数のTFTのゲート電極と接続し行配列方
向に延在する第1配線と、ソース又はドレインに接続し
列配列方向に延在する第2配線と、第1及び第2配線上
に形成され略平坦化表面を形成する層間絶縁膜と、該層
間絶縁膜上にTFTに対応して配置された複数個の第1
電極と、第1電極に対応するように形成された発光性材
料を含む有機発光媒体と、第1電極と対向して形成され
る第2電極とから発光性の画素が形成され、画像表示部
を形成する発光装置であり、第1電極のそれぞれの周辺
端部を囲む電気絶縁性の隔壁と、当該隔壁上において前
記マトリクスの行配列方向又は列配列方向に延在し、第
2電極と電気的に接触すると共にその下層側の形成され
た第1補助配線とを有し、第1補助配線は前記画像表示
部の外側まで延在し、その端部において、該第1補助配
線と交差する方向に延在する第2補助配線と電気的に接
続し、第2補助配線は、入力端子部から延在する配線と
電気的に接続しているものである。また、この構成にお
いて、第2補助配線は入力端子部から延在する配線と前
記層間絶縁膜に形成されたコンタクトホールを介して電
気的に接続している構成をしても良い。
【0013】有機発光媒体は第1補助配線と平行方向に
ストライプ状に形成されていても良く、第1補助配線
は、行配列方向に延在する第1配線又は列配列方向に延
在する第2配線と、平行方向に延在し、且つ前記隔壁層
を介して重畳して設けられた構成とすることができる。
【0014】また、上記発明の構成においいて、画像表
示部にある第2電極を透明導電膜で形成し、それに対向
する面にカラーフィルターの着色層が配置され、多色表
示を可能とする構成とすることもできる。
【0015】上記発明の構成によれば、第1補助配線を
設けることにより、第2電極を形成する透明導電膜が薄
膜化し、又は/且つ画像表示部の面積が拡大し第画面化
しても、抵抗値の増大による有機発光素子の応答速度の
低下や消費電力の増加を防ぐことができる。また、面内
電位分布を均一化し、画像表示画面における輝度にバラ
ツキをなくすことができる。さらに、第1補助配線を隔
壁上に設けることにより、開口率を損なうことなく上述
の効果を奏することができる。
【0016】上記発明の構成によれば、第2補助配線を
設けることにより、第2電極と接続すべき配線との接続
を容易とし、且つ引き回しに要する配線による抵抗損失
を小さくすることができる。さらに、画像表示部を具備
する発光装置の額縁領域(即ち、画像表示部の周辺部
位)の面積を縮小することができる。
【0017】上述の第1電極、第2電極及び有機発光媒
体の積層体により、有機発光素子が構成される。本発明
においては、第2電極を透光性として透明電極で形成す
ることにより、この面から光を放射させるものとしてい
る。
【0018】有機発光素子から蛍光又は燐光による発光
を得るためには第1電極と第2電極間に電圧を印加する
必要があるが、その極性により便宜上陽極と陰極として
区別することができる。陰極は仕事関数が小さく、多く
の有機発光媒体に電子を注入するのに適した導電性材料
が適用され、陽極は相対的に仕事関数が大きく、おおく
の有機発光媒体に正孔を注入するのに適した材料が適用
される。
【0019】第1電極を陰極とし第2電極を陽極とする
場合には、第1電極を周期律表1属又は2属にある元素
の合金又は化合物で形成され、アルミニウムや銀との合
金、若しくはそのフッ化物で形成する。或いは、窒化チ
タンなど窒化物金属で代用しても良い。第2電極は酸化
インジウム・スズ、酸化亜鉛、ガリウムが添加された酸
化亜鉛、若しくはこれらの化合物が適用される。この第
2電極と有機発光媒体とを良好に接触させるためには、
その界面に抵抗加熱蒸着法で形成されるような薄い金属
層を介在させても良い。
【0020】第1電極を陽極とし第2電極を陰極とする
場合には、第1電極を酸化インジウム・スズ、酸化亜
鉛、ガリウムが添加された酸化亜鉛、若しくはこれらの
化合物、又はこれらと同等の仕事関数を有する導電性材
料で形成する。第2電極は第1電極を周期律表1属又は
2属にある元素の合金又は化合物で形成され、アルミニ
ウムや銀との合金、若しくはそのフッ化物で形成するの
が好ましいが、光透過性を持たせるために極めて薄く形
成し(例えば、膜厚を0.5〜5nmとして)有機発光媒
体と接触させ、その上に酸化インジウム・スズなどの透
明導電膜を積層させても良い。
【0021】第1補助電極及び第2補助電極は、第2電
極を形成する導電性材料と接触性の良い材料であり、且
つ抵抗率の小さい導電性材料が選択される。具体的に
は、アルミニウム、アルミニウムとチタン、スカンジウ
ム、ニオブ、銅又はシリコンとの合金、或いはチタン、
窒化チタン、タンタル、タングステン、モリブデンの単
体又はこれらの合金で形成することができる。
【0022】第1補助配線は、第2電極の下層に形成さ
れ、その場合の被覆性を高め、段差部において亀裂など
が生じないように端部をテーパー形状に加工する。
【0023】有機発光媒体は、陽極側にある正孔注入輸
送層、陰極側にある電子注入輸送層、発光層等を適宜組
み合わせた構造である。正孔注入輸送層又は電子注入輸
送層は、電極からの正孔又は電子の注入効率と、輸送性
(移動度)が特に重要な特性として着目されるものであ
るが、さらに発光層としての機能も兼ね備えた発光性電
子注入輸送層などを組み合わせても良い。
【0024】カラーフィルターとの好適な組み合わせに
おいては、白色発光を呈するものが好ましく、発光層に
含まれる単一の色素で白色発光が得られない場合は、複
数の色素を発光中心として使用し、同時に発光させて加
法混色により白色化する。この場合には、異なる発光色
を有する発光層を積層する方法や、一つ又は複数の発光
層に複数の発光中心を含有させる方法などを適用するこ
とができる。
【0025】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して詳細に説明する。
【0026】本実施の形態に係る発光装置は有機発光媒
体を用い、電界により蛍光又は燐光により発光する性質
を応用して所定の表示を行うものである。図1(A)は
外部回路などを除いた発光装置の構成を示す斜視図であ
り、図1(B)はA−A'線の縦断面図、図1(C)は
B−B'線の縦断面図である。
【0027】これらの図に示されるように、発光装置は
画像表示部12、走査線駆動回路13、データ線駆動回
路14、入出力端子15などが備えられた素子基板10
と、カラーフィルター18が備えられた対向基板11が
シール材19により固着された構成となっている。
【0028】素子基板10にはガラスや石英、プラスチ
ック、若しくは半導体などが用いられるが、対向基板1
1には少なくとも可視光を透過する透光性のガラス、石
英、プラスチックなどが部材として用いられる。基板は
板状物、フィルム状物、シート状物のいずれの形態であ
っても良く、単層構造又は積層構造のいずれの構造を有
していても良い。ガラスでは市販されている無アルカリ
ガラスなどの透明ガラスが好ましく、表面を酸化珪素膜
で被覆したアルカリガラスを適用することもできる。プ
ラスチックを用いる場合には、ポリエチレンナフタレー
ト(PEN)、ポリエチレンテレフタレート(PE
T)、ポリエーテルサルフォン(PES)、透光性のポ
リイミドなどを適用することができる。その他、透光性
アルミナ、ZnS焼結体などの透明セラミックを適用す
ることもできる。
【0029】また、シール材19は対向基板11の周辺
部に沿って形成されるが、素子基板との位置関係におい
ては、層間絶縁膜16を介して走査線駆動回路13やデ
ータ線駆動回路14と重畳して形成されている。層間絶
縁膜16はその形成表面を平坦に形成するものである
が、最表面及び側面部は窒化珪素又は酸窒化珪素などで
形成する。
【0030】画像表示部12は、走査線駆動回路13や
データ線駆動回路14から延在する走査線とデータ線に
よりマトリクス態様が形成され、各所の適宜配列したス
イッチング素子群と、そのスイッチング素子群に電気的
に接続する有機発光素子群17とから画素マトリクスが
形成されている。走査線駆動回路13は画像表示部12
の両側から駆動する構成となっているが、信号遅延が問
題にならない場合には片側一方のみとしても良い。
【0031】多色表示を可能とする有機発光素子群17
は白色発光の素子を全面一様に形成する。画像表示部に
対向するカラーフィルター18は各画素に対応して所定
の着色層を配列したものであり、白色発光に対しては各
色の光を透過させる機能を持ち、R(赤)G(緑)B
(青)の各色を発光する有機発光素子に対してはその色
純度を高める機能を持っている。
【0032】素子基板10の外周部分には、入力端子部
15が形成され、外部回路から各種信号が入力され、ま
た電源と接続している。
【0033】また、素子基板10及び対向基板11とシ
ール材19により囲まれた空間には不活性気体が充填さ
れ有機発光素子群17の腐食を防いでいる。この空間に
は酸化バリウムなどの乾燥剤があっても良い。
【0034】図2は素子基板10の構成をより詳細に示
す上面図であり、画像表示部12の2辺を囲む走査線駆
動回路13と、他の1辺に隣接するデータ線駆動回路1
4、入力端子部15の配置を示している。
【0035】画像表示部12において示す区画化された
一画素分の領域23はマトリクス状に配列され、便宜上
行配列方向と列配列方向とに区分して見ることができ
る。第1補助電極20は列配列方向と平行な方向にスト
ライプ状に形成され、その両端部又は片端部は画像表示
部の外側に延在している。第1補助配線20は一画素分
の領域23とは重ならない位置に形成され開口率を損な
うことがないように配慮されている。第1補助電極20
と電気的に接続する第2補助配線21は行配列方向と平
行な方向に延在し、その両端部又は片端部において入力
端子部15から延びる配線22と電気的に接続してい
る。配線22の電位は有機発光素子の駆動方法により一
定電位又は交番電位が印加されていても良い。
【0036】図3はこの画像表示部12、第1補助電極
20、第2補助電極21及び配線22のより詳細な配設
関係を説明するものであり、各構成要素には図2と同じ
符号を付与している。第2補助配線21と入力端子部か
ら延びる配線22とは図示しない層間絶縁膜に形成され
るコンタクトホール25を介して電気的に接続してい
る。また、一画素分の領域23の列方向と平行方向に延
在する第1補助配線20、行方向と平行な方向に延在す
る第2補助配線21、入力端子から延びる配線22の接
続関係は、A−A'線及びB−B'線に沿った縦断面図で
説明される。
【0037】図4はA−A'線に対応する縦断面図であ
り、第1補助配線20は抵抗率の小さい導電性材料で形
成され、具体的には、アルミニウム、アルミニウムとチ
タン、スカンジウム、ニオブ、銅又はシリコンとの合
金、或いはチタン、窒化チタン、タンタル、タングステ
ン、モリブデンの単体又はこれらの合金で形成すること
ができる。特に、アルミニウムを含む材料が適している
が、耐熱性や耐腐食性を考慮するとその上下にチタンな
どの高融点金属層を形成しおくことが望ましい。第1補
助配線20は、側面部にテーパー部を形成し、第2補助
配線の被覆性を確保している。これは厳密な意味で角度
を規定されるテーパー形状とする必要はなく、シャドー
マスクと組み合わせた蒸着又はスパッタリング法により
必然的に作り込まれても良いし、勿論エッチング加工時
に形成しても良い。
【0038】いずれにしても、この補助配線は抵抗率で
みて1×10-5Ωcm以下の材料で形成することが望まし
く、補助配線1cm当たりの抵抗値は100Ω以下とする
ことが望まれる。勿論、補助配線の抵抗値は、形成する
材質の他に線幅、厚さにより決まるものである。例え
ば、画素列間のピッチが200μmで形成されるような
場合には、画素電極の幅が概略120μmであるとする
と、隔壁層上に形成される第1補助配線の幅は20〜4
0μmが適当である。これを抵抗率4×10-6Ωcmのア
ルミニウム合金を用い0.4μmの厚さで形成した場
合、線幅20μmでは1cm当たり50Ωとなる。
【0039】即ち、補助配線の厚さは0.1〜5μm程
度で形成することが望ましく、0.1μmよりも薄い場
合は薄膜化の効果により1×10-5Ωcm以下の抵抗率を
得ることが困難となり、厚くしすぎると対向基板を適当
な間隔で固着するのを困難にし、また視覚的にも外観上
の品質を損なうことになる。
【0040】第1補助配線20と電気的に接続される第
2補助配線21も同様な導電性材料で形成され、隔壁2
6に形成されたコンタクトホール25において入力端子
から延びる配線22と電気的な接触を形成している。隔
壁26は無機絶縁材料又は有機絶縁材料のどちらを適用
しても良い。入力端子から延びる配線22は無機絶縁材
料又は有機絶縁材料で形成される層間絶縁膜27上に形
成される。
【0041】図5はB−B'線に対応する縦断面図であ
り、第1補助配線20を形成した後、有機発光媒体3
0、第2電極24を形成している。有機発光媒体30は
高分子系有機化合物又は低分子系有機化合物のどちらを
適用しても良く、陽極側にある正孔注入輸送層、陰極側
にある電子注入輸送層、発光層等を適宜組み合わせた構
造である。正孔注入輸送層又は電子注入輸送層は、電極
からの正孔又は電子の注入効率と、輸送性(移動度)が
特に重要な特性として着目されるものであるが、さらに
発光層としての機能も兼ね備えた発光性電子注入輸送層
などを組み合わせても良い。
【0042】これらの有機発光媒体又は各有機層は1種
又は複数種の有機材料によって形成されるが、有機発光
材料と電子注入輸送性材料及び又は正孔注入輸送材料と
の混合物や、当該混合物若しくは有機発光材料又は金属
錯体を分散させた高分子材料などで形成されていれば良
い。
【0043】一画素分の領域23は画素毎の個別電極で
ある第1電極29、有機発光媒体30、画像表示部の全
面に渡って形成される共通の第2電極34が重畳した領
域であり、実質的にはこの領域が発光に寄与する。
【0044】図4で示した入力端子から延びる配線22
と第1電極29は同じ絶縁表面、即ち層間絶縁膜27上
に形成される。隔壁26は、図示のように隣接する画素
の領域を分離するものであり、第1電極29の周辺端部
を囲むことにより、有機発光素子の短絡不良を防いでい
る。また、隔壁26は画像表示部にある走査線又はデー
タ線などの配線28を覆い、その上に第1補助電極を重
畳させることで開口率の低下を防いでいるし、他に遮光
膜としての機能も兼ね備えている。これによりコントラ
スト比の低下を防ぐこともできる。
【0045】本発明の発光装置の主要構成は、以上説明
した部位より構成されるものである。このような本発明
の発光装置は、後述する作製方法により得ることができ
る。本発明において、素子基板の対向面側に位置する第
2電極は透明導電膜で形成され、隔壁上に形成される補
助配線によって見かけ上に抵抗値を小さくすることがで
きる。即ち、補助配線の材質、線幅、厚さを適宜選択す
ることにより、透明電極の厚さを100nm以下と薄くす
る場合においても、その見かけ上のシート抵抗を20Ω
/□以下にすることができる。即ち、本発明の発光装置
は、素子基板と反対側の面(対向面側)を光の放射面と
する場合においても、高精細で明るい画像表示を可能と
するものである。
【0046】以下の説明においては、上記本発明の発光
装置の作製方法を、特に画像表示部の構成について図面
を参照しながら説明する。
【0047】図6(A)は素子基板の画像表示部におけ
る縦断面図を示し、基板101上にスイッチング素子と
して薄膜トランジスタ(以下、TFTと記す)201〜
203が形成された状態を示している。基板101上に
はTFTの構成部材である半導体膜やゲート電極の他
に、基板側から第1絶縁膜102、第2絶縁膜103、
第3絶縁膜104、第4絶縁膜105、第5絶縁膜10
6が形成されている。これらの機能的な表現は、第1絶
縁膜102はブロッキング層、第2絶縁膜103はゲー
ト絶縁膜、第3絶縁膜104はパッシベーション膜、第
4絶縁膜105は層間絶縁膜、第5絶縁膜106はブロ
ッキング層であり、有機材料で形成される層間絶縁膜の
脱ガスを防ぐ機能を持っている。
【0048】図6(B)は第2絶縁膜乃至第5絶縁膜を
貫通するコンタクトホール107を形成し、TFT20
1〜203の半導体膜表面を露出させた状態を示してい
る。
【0049】図7(A)は、データ線108a、108
b、有機発光素子の電源線109a〜109c、第1電
極111a〜111cとTFT201〜203とを接続
する接続配線110a〜110cを形成した状態を示し
ている。また、この段階での画素の上面図を図10に示
す。図10では図7(A)と同じ符号を用いて示してい
る。
【0050】図7(C)は第1電極及びこれらの配線を
覆う隔壁112を形成し、その上に第1補助配線113
a〜113cを形成した状態を示している。隔壁112
は第1電極111a〜111cの周辺端部を覆うように
すると共に、その側面部に30〜70度傾斜を持たせて
形成する。第1補助配線113a〜113cを形成す
る。第1補助配線は隔壁112を介してデータ線108
a、108b、有機発光素子の電源線109a〜109
cなどと重畳するように形成する。このような構成とす
ることで画素領域の面積を損なうことなく、開口率を確
保することができる。
【0051】隔壁112の開口部は、非感光性有機材料
を用いる場合にはマスクを形成し、ドライエッチング法
により行う。感光性有機材料で形成する場合には、フォ
トマスクを用い露光及び現像処理を行う。この開口部
は、隔壁112が第1電極113と接する下側端部及び
上側端部に0.2〜3μmの曲率を持たせて形成する。
これにより、有機発光媒体の被覆性と熱ストレスによる
亀裂などの発生を抑制することができる。この段階での
画素の上面図を図11に示す。図11では図7(B)と
同じ符号を用いて示している。
【0052】隔壁層112を形成した後有機発光媒体の
形成を行う。図8で示される様に、第1電極111a〜
111cに対応して形成される有機発光媒体116a〜
116cは正孔注入輸送層、陰極側にある電子注入輸送
層、発光層等を適宜組み合わせた構造で形成するもので
あり、低分子系有機材料又は高分子系有機材料の両者を
適用することができる。この場合、少なくとも隔壁上の
第1補助配線に有機発光媒体が付着しないように形成す
ることが望ましい。そのために、図8で示す如くシャド
ーマスク114を用いる。低分子系有機材料から成る各
層は真空蒸着法で形成することが可能であり、高分子系
有機化合物材料を用いる場合にはスプレー法や散布法で
形成することができる。
【0053】いずれにしても、全ての画素の有機発光媒
体を同じ積層構造で形成することにより、当該被膜を形
成する場合において、シャドーマスクを各画素の第1電
極に対応して順次移動せしめるといった高いマスク合わ
せ精度が要求される煩雑な作業が不要となり、生産性を
飛躍的に向上させることができる。また、隔壁や形成さ
れた有機発光媒体の層に損傷を与える心配がなく、製造
歩留まりが格段に向上する。
【0054】こうして有機発光媒体を形成した後、図9
に示すように第2電極117を第1補助配線113a〜
113cに接して形成する。第2電極117は透明導電
膜で形成する。透明導電膜の厚さは30〜200nm程度
の厚さで形成されるものであるが、導波光として損失し
てしまう割合を低減するには30〜40nm程度の厚さと
することが望ましい。勿論、この程度の厚さにおいて、
透明導電膜のシート抵抗は100Ω/□以上になるが、
第1補助配線により見かけ上のシート抵抗は20Ω/□
以下とすることができる。即ち、このような電極構成と
することにより、有機発光媒質の光を有効に取り出すこ
とが可能となり、しかも電力損失を補い低消費電力化を
図ると共に、画像表示部面内の輝度の均一性を高めるこ
とができる。
【0055】対向基板118にはカラーフィルターが設
けられ、各画素に対応して着色層119r、119g、
119bと保護膜120が形成されている。有機発光媒
体で発光した白色光は、この着色層を透過することによ
り、特定の波長の光、視覚的には特定の色光が映像信号
に基づいて発色し、多色表示を可能としている。
【0056】白色発光を得る方法は、図15(A)のよ
うに光の3原色であるR(赤)G(緑)B(青)の各色
を発光する発光層を積層して加法混色する方式と、図1
5(B)のように2色の補色の関係を利用する方式とが
ある。補色を用いる場合には、青−黄色又は青緑−橙色
の組み合わせが知られている。特に、後者の方が比較的
視感度の高い波長領域の発光を利用できる点で有利であ
ると考えられている。
【0057】図12はこのような原理を用いた有機発光
媒体の構成の一例を示しており、いずれも本発明に適用
することができるものである。図12(A)は低分子系
有機発光媒体を用いる一例であり、第1電極(陰極)2
01上に電子注入輸送層203、赤色発光層204、緑
色発光層205、正孔輸送層206、青色発光層20
7、第2電極202が積層された構造である。具体的に
は、正孔輸送層206として1,2,4-トリアゾール誘導体
(p−EtTAZ)を適用し3nmにすると、p−EtT
AZ層中の正孔通過量が増えて緑色発光層205として
用いるトリス(8−キノリラト)アルミニウム(Alq
3)にも正孔が注入されて発光が得られる。この構造に
おいては青色発光層207としてTPDの青色にAlq
3の緑色が混ざった青緑色の発光が得られる。この発光
に赤色を加え白色発光を実現するには赤色発光層204
としてAlq3かTPDのどちらかに赤色発光色素をド
ープすれば良い。赤色発光色素としてはナイルレッドな
どを適用することができる。
【0058】また、他の構成として、第1電極(陰極)
201側から、電子注入輸送層203、電子輸送層20
4、発光層205、正孔輸送層206、正孔注入輸送層
207、第2電極(陽極)202とすることもできる。
この場合適した材料の組み合わせは、電子注入輸送層2
03としてAlq3を15nmの厚さで、電子輸送層20
4としてフェニルアントラセン誘導体を20nmの厚さで
形成する。発光層205は、テトラアリールベンジジン
誘導体とフェニルアントラセン誘導体とが体積比1:3
で混合し、且つスチリルアミン誘導体を3体積%含ませ
る25nmの第1発光層と、テトラアリールベンジジン誘
導体と10,10'−ビス[2-ビフェニルイル]−9,9'−ビアン
スリル(フェニルアントラセン誘導体)とを体積比1:
3で混合し、且つナフタセン誘導体を3重量%含ませる
40nmの第2発光層とを積層させた構成とする。正孔輸
送層206はN,N,N',N'−テトラキス−(3-ビフェニル-
1-イル)ベンジジン(テトラアリールベンジジン誘導
体)を20nmの厚さに形成し、正孔注入層としてN,N'−
ジフェニル-N,N'−ビス[N-フェニル-N-4-トリル(4-ア
ミノフェニル)]ベンジジンを30nmの厚さに形成す
る。
【0059】図12(B)は第1電極(陰極)201上
に電子注入輸送層203として電子輸送性の高いAlq
3を用い、その上に高分子系有機発光媒体208、20
9を用いる一例であり、20nm程度のTAZ及びPVK
(ポリ(N-ビニルカルバゾール))を形成した3層構造
とするものである。注入された電子及び正孔の再結合は
PVKで起こり、短波長にピークを持つカルバゾール基
が励起され発光する。これに長波長光の発光を加えるた
めに適当な色素をドープすると白色発光を得ることがで
きる。例えば、1,1,4,4-テトラフェニル-1,3-ブタジエ
ニン(TPB)を2〜3mol%ドープすることにより45
0nmの発光が得られ、緑や赤もクマリン6やDCM1を
ドープすることにより得ることができる。いずれにして
も白色発光を得るには多種の色素をPVK中にドープし
て可視光域全体をカバーすれば良い。
【0060】この構造において、電子注入輸送層203
を無機電子注入輸送層を用いても良い。無機電子輸送層
としてはn型化したダイヤモンドライクカーボン(DL
C)を適用することができる。DLC膜のn型化には燐
などを適宜ドープすれば良い。その他に、アルカリ金属
元素、アルカリ土類金属元素、及びランタノイド系元素
から選択される一種の酸化物と、Zn、Sn、V、R
u、Sm、Inから選択される1種以上の無機材料を適
用することができる。
【0061】図12(C)は第1電極(陰極)201上
に電子及び正孔の両キャリアの輸送性を備えたバイポオ
ーラ性の高分子系発光媒体211を用いた例であり、こ
こに多種の色素を分散させることにより白色発光を得る
ことができる。バイポオーラ性の高分子系発光媒体21
1としては、ホール輸送性のPVKに電子輸送性のPB
Dを分散する方法や、電気的に不活性な高分子中に電子
輸送性のAlqとホール輸送性の芳香族アミンを分子分
散する方法などがある。
【0062】図12(D)は4,4'-ビス-[N-(ナフチル)-
N-フェニル-アミノ]ビフェニル(α−NPD)のみから
成る正孔注入輸送層212を形成し、その上にα−NP
Dと電子輸送性材料であるBAlqを混合させた発光層
213を形成し、その上にBAlqのみから成る電子注
入輸送層214を形成した構成である。この発光層は青
色の発光をするので、第2の発光材料として黄色蛍光色
素215であるルブレンを添加した領域を形成する。こ
れにより白色発光を得ることができる。
【0063】いずれにしても、視覚的に自然な白色発光
を実現し、より高品質な多色表示をしようとする場合に
は、各色に発光する有機発光素子とカラーフィルターの
組み合わせを最適化して色バランスを考慮する必要があ
る。また、発光輝度が経時変化する場合に対応して駆動
回路側で便宜を図る必要がある。
【0064】2色の補色の関係を利用する方式では、青
−黄色又は青緑−橙色の組み合わせが通常適用されるの
で、それぞれに色の光を発光する有機発光素子が経時変
化により劣化することにより色バランスが崩れるといっ
た問題点がある。また、それぞれの有機発光素子の発光
効率が違うので、同じ駆動電圧又は駆動電流を印加する
のでは色バランスが崩れるといった問題点がある。
【0065】通常はカラーフィルターの着色層の厚さを
変えて透過光量を制御したり、画素の面積を変えて光量
を制御したりする方法がある。しかし、着色層の厚さを
変える場合には数μmの割合でその厚さを変える必要が
あり、対向基板として固着する場合に平坦化膜を厚くす
るかシール材の厚さを厚くする必要があり、封止構造に
おける信頼性を損なう可能性がある。また、画素の面積
を変える場合には、TFTの配置やサイズに制限があ
り、面積を有効に活用できないという弊害がある。
【0066】図14に示す画素構造は、図10で説明し
た構造と同じ構成であるが、その差異は赤、緑、青の各
画素を形成するTFT201〜203のチャネル幅を異
ならせている点である。即ち、チャネル幅を異ならせる
ことにより、各色の画素を形成する有機発光素子に流れ
る電流を異ならせ、色バランスを制御するものである。
例えば、青色画素のTFT203はチャネル幅を狭くし
て電流量を減らし、図15(B)で示すように2色のピ
ークの谷である緑画素のTFT202はチャネル幅を広
くして電流量を増やすものである。このように画素回路
により発光輝度を制御することにより色バランスを整え
ることができる。さらに、映像信号のダイナミックレン
ジを広く使うことができる。
【0067】次いで、上記の如く構成を有する発光装置
を作製するための製造装置の一例を図13に示す。ここ
で示す装置は、有機発光媒体の形成、陰極の形成、保護
膜及びパッシベーション膜の形成、プラズマ処理、封止
までを連続的に大気に触れさせることなく行うことがで
きる。
【0068】図13において、100a〜100k、1
00m〜100uはゲート、101、119は受渡室、
102、104a、107、108、111、114は
搬送室、105、106R、106B、106G、10
9、110、112、113は成膜室、103は前処理
室、117a、117bは封止基板ロード室、115は
ディスペンサ室、116は封止室、118は紫外線照射
室、120は基板反転室である。
【0069】以下、予めTFT、第1電極、隔壁層及び
隔壁層上の第1補助配線が形成された状態の基板を図1
3に示す製造装置に搬入し発光装置を完成させる手順を
示す。
【0070】最初に、受渡室301にTFT及び陰極が
設けられた基板をセットする。次いで受渡室301に連
結された搬送室302に搬送する。予め、搬送室内には
極力水分や酸素が存在しないよう、真空排気した後、不
活性ガスを導入して大気圧にしておくことが好ましい。
【0071】搬送室302には、搬送室内を真空にする
真空排気処理室と連結されている。真空排気処理室とし
ては、磁気浮上型のターボ分子ポンプ、クライオポン
プ、またはドライポンプが備えられている。これにより
搬送室の到達真空度を10-5〜10-6Paにすることが可
能であり、さらにポンプ側および排気系からの不純物の
逆拡散を制御することができる。装置内部に不純物が導
入されるのを防ぐため、導入するガスとしては、窒素や
希ガス等の不活性ガスを用いる。装置内部に導入される
これらのガスは、装置内に導入される前にガス精製機に
より高純度化されたものを用いる。従って、ガスが高純
度化された後に成膜装置に導入されるようにガス精製機
を備えておく必要がある。これにより、ガス中に含まれ
る酸素や水、その他の不純物を予め除去することができ
るため、装置内部にこれらの不純物が導入されるのを防
ぐことができる。
【0072】また、基板に含まれる水分やその他のガス
を除去するために、脱気のためのアニールを真空中で行
うことが好ましく、搬送室302に連結された前処理室
303に搬送し、そこでアニールを行えばよい。さら
に、電極の表面をクリーニングする必要があれば、搬送
室302に連結された前処理室303に搬送し、そこで
クリーニングを行えばよい。
【0073】電極上に形成する電子注入輸送層、発光
層、正孔注入輸送層などにおいて、低分子系有機発光媒
体を用いる場合には、各層毎に分離成膜を行う目的で成
膜室306a〜306dを用いれば良い。また、高分子
系有機発光媒体で正孔注入輸送層や発光層を形成する場
合にはスピン塗布法、スプレー法、インクジェット法な
どで成膜を行う成膜室305を適用する。正孔注入輸送
層としてポリ(エチレンジオキシチオフェン)/ポリ
(スチレンスルホン酸)水溶液(REDOT/PSS)
を全面に形成してもよい。また、図12(C)で示した
ようにバイポオーラ性の高分子系発光媒体を形成しても
良い。また、無機電子輸送層としてDLC膜を形成する
には、プラズマCVD法で成膜を行う成膜室313を用
いる。成膜室305と搬送室302との間に設けられた
基板反転室320で基板を適宜反転させる。また、水溶
液を用いた成膜を行った後は、前処理室303に搬送
し、そこで真空中での加熱処理を行って水分を気化させ
ることが好ましい。
【0074】第1電極上に所望の有機発光媒体を形成し
た後、大気に触れさせることなく、搬送室304から搬
送室307に基板を搬送した後、さらに、大気に触れさ
せることなく、搬送室307から搬送室308に基板を
搬送する。
【0075】この段階で、基板をプラズマ処理室に搬送
し、水素又はハロゲン元素を含む非堆積性の気体を導入
し、プラズマ処理を行って有機発光媒体に水素又はハロ
ゲンを添加しても良い。
【0076】陽極の形成は、搬送室308内に設置され
ている搬送機構によって、成膜室310に搬送し、有機
発光媒体上に薄い金属層を形成した後、成膜室309に
搬送して透光性導電膜を形成し、薄い金属層と透光性導
電膜との積層からなる陽極を適宜形成する。ここでは、
成膜室310は、MgとAgを蒸着源に備えた蒸着装置
とし、成膜室309は、透明導電材料からなるターゲッ
トを少なくとも有しているスパッタ装置とする。
【0077】有機発光媒体上に形成する第2電極として
酸化インジウム・スズを形成するにはシャドーマスクを
用い、画像表示部の全面に形成する。さらに第2補助電
極としてシャドーマスクを用い、成膜室310でアルミ
ニウム膜の形成を行う。
【0078】搬送室308内に設置されている搬送機構
によって、成膜室313に搬送し、有機発光媒体及び配
線が耐えうる温度範囲で水素を含むパッシベーション膜
を形成する。ここでは成膜室313にプラズマCVD装
置を備え、成膜に用いる反応ガスは、水素ガスと、炭化
水素系のガス(例えばCH4、C22、C66など)と
を用いて水素を含むDLC膜を形成する。なお、水素ラ
ジカルが発生する手段を備えていれば特に限定されず、
上記水素を含むDLC膜の成膜の際、プラズマ化された
水素によって有機発光媒体における欠陥を水素で終端さ
せる。
【0079】次いで、大気に触れさせることなく、搬送
室108から成膜室309に搬送して水素又はハロゲン
を含む保護膜上にパッシベーションを形成する。ここで
は、成膜室309内に、珪素からなるターゲットまたは
窒化珪素からなるターゲットを備えたスパッタ装置とす
る。成膜室雰囲気を窒素雰囲気または窒素とアルゴンを
含む雰囲気とすることによって窒化シリコン膜を形成す
ることができる。
【0080】以上の工程で基板上にパッシベーション膜
で有機発光素子を覆うことができる。
【0081】次いで、有機発光素子が形成された基板を
大気に触れさせることなく、搬送室308から搬送室3
11に搬送し、さらに搬送室311から搬送室314に
搬送する。有機発光素子が形成された基板を搬送室31
4から封止室316に搬送する。なお、封止室316に
は、シール材が設けられた封止基板を用意しておくこと
が好ましい。
【0082】封止材は、封止材ロード室317a、31
7bに外部からセットされる。なお、水分などの不純物
を除去するために予め真空中でアニール、例えば、封止
材ロード室317a、317b内でアニールを行うこと
が好ましい。そして、封止基板にシール材を形成する場
合には、搬送室308を大気圧とした後、封止基板を封
止基板ロード室からディスペンサ室315に搬送して、
発光素子が設けられた基板と貼り合わせるためのシール
材を形成し、シール材を形成した封止材を封止室316
に搬送する。
【0083】次いで、有機発光素子が設けられた基板を
脱気するため、真空または不活性雰囲気中でアニールを
行った後、シール材が設けられた封止基板と、有機発光
素子が形成された基板とを貼り合わせる。また、密閉さ
れた空間には窒素又はヘリウムなどの不活性気体、又は
当該不活性気体と水素又はアンモニアを混合させた気体
を充填させる。尚、ここでは、封止基板にシール材を形
成した例を示したが、特に限定されず、発光素子が形成
された基板にシール材を形成してもよい。
【0084】次いで、貼り合わせた一対の基板を搬送室
314から紫外線照射室318に搬送する。次いで、紫
外線照射室318でUV光を照射してシール材を硬化さ
せる。なお、ここではシール材として紫外線硬化樹脂を
用いたが、接着材であれば、特に限定されない。次い
で、搬送室314から受渡室319に搬送して取り出
す。
【0085】以上のように、図13に示した製造装置を
用いることで完全に発光素子を密閉空間に封入するまで
外気に晒さずに済むため、信頼性の高い発光装置を作製
することが可能となる。なお、搬送室302、314に
おいては、真空と大気圧とを繰り返すが、搬送室304
a、308は常時、真空が保たれる。尚、インライン方
式の成膜装置とすることも可能である。
【0086】以上のようにして、有機発光素子を封止し
て発光装置を形成することができる。この後、さらに好
ましくは安定化処理を行い、水素又はハロゲンを有機発
光媒体中に拡散させても良い。有機発光媒体に供給され
る水素又はハロゲンは、活性な未結合手のあるところに
拡散し、その結合を終端することで不活性にすることが
できる。
【0087】以上説明した本発明の発光装置により様々
な電子装置を完成させることができる。その一例は、携
帯情報端末(電子手帳、モバイルコンピュータ、携帯電
話など)、ビデオカメラ、デジタルカメラ、パーソナル
コンピュータ、テレビ受像器、携帯電話などが挙げられ
る。
【0088】図16はこれらの電子機器に組み込まれる
モジュールの回路構成を示すブロック図であり、(A)
はアナログ駆動の場合、(B)はデジタル駆動の場合の
モジュール構成を示している。発光装置の表示パネル4
01には画像表示部402、走査線駆動回路403、デ
ータ線駆動回路404が形成され、この構成は図1〜1
1により説明したものと同様な構成となっている。外部
回路405にはアナログ駆動の場合にはカウンター、コ
ントローラ、γ補正回路、D/A変換回路などが組み込ま
れている。また、デジタル駆動の場合にはカウンター、
コントローラ、メモリなどが組み込まれている。
【0089】電源は、駆動回路の電源の他に、有機発光
素子を駆動する駆動電源と共通電位を与えるコモン電源
があり、RGBの3色の発光をする場合に比べ電源の数
を減らすことができる。さらに、図14で説明したよう
に各画素のTFTのチャネル幅を変えることにより、駆
動電源をRGBに対応する各画素において共通にして
も、それぞれに最適な電流を供給することができる。以
下、このようなモジュールを組み込んだ電子装置の一例
を図17に示す。
【0090】図17(A)は本発明を適用してテレビ受像
器を完成させる一例であり、筐体3001、支持台30
02、表示部3003などにより構成されている。本発
明によりテレビ受像器を完成させることができる。
【0091】図17(B)は本発明を適用してビデオカメ
ラを完成させた一例であり、本体3011、表示部30
12、音声入力部3013、操作スイッチ3014、バ
ッテリー3015、受像部3016などにより構成され
ている。本発明によりビデオカメラを完成させることが
できる。
【0092】図17(C)は本発明を適用してノート型の
パーソナルコンピュータを完成させた一例であり、本体
3021、筐体3022、表示部3023、キーボード
3024などにより構成されている。本発明によりパー
ソナルコンピュータを完成させることができる。
【0093】図17(D)は本発明を適用してPDA(Per
sonal Digital Assistant)を完成させた一例であり、本
体3031、スタイラス3032、表示部3033、操
作ボタン3034、外部インターフェース3035など
により構成されている。本発明によりPDAを完成させ
ることができる。
【0094】図17(E)は本発明を適用して音響再生装
置を完成させた一例であり、具体的には車載用のオーデ
ィオ装置であり、本体3041、表示部3042、操作
スイッチ3043、3044などにより構成されてい
る。本発明によりオーディオ装置を完成させることがで
きる。
【0095】図14(F)は本発明を適用してデジタルカ
メラを完成させた一例であり、本体3051、表示部
(A)3052、接眼部3053、操作スイッチ305
4、表示部(B)3055、バッテリー3056などによ
り構成されている。本発明によりデジタルカメラを完成
させることができる。
【0096】図17(G)は本発明を適用して携帯電話を
完成させた一例であり、本体3061、音声出力部30
62、音声入力部3063、表示部3064、操作スイ
ッチ3065、アンテナ3066などにより構成されて
いる。本発明により携帯電話を完成させることができ
る。
【0097】尚、ここで示す電子装置はごく一例であ
り、これらの用途に限定するものではない。
【0098】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
第1補助配線を設けることにより、第2電極を形成する
透明導電膜が薄膜化し、又は/且つ画像表示部の面積が
拡大し第画面化しても、抵抗値の増大による有機発光素
子の応答速度の低下や消費電力の増加を防ぐことができ
る。また、面内電位分布を均一化し、画像表示画面にお
ける輝度にバラツキをなくすことができる。さらに、第
1補助配線を隔壁上に設けることにより、開口率を損な
うことなく上述の効果を奏することができる。さらに、
第2補助配線を設けることにより、第2電極と接続すべ
き配線との接続を容易とし、且つ引き回しに要する配線
による抵抗損失を小さくすることができる。さらに、画
像表示部を具備する発光装置の額縁領域(即ち、画像表
示部の周辺部位)の面積を縮小することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施形態に係る発光装置の構成を説
明する斜視図(A)、縦断面図(B)(C)。
【図2】
【図3】 本発明の発光装置の画像表示部の構成を説明
する上面図。
【図4】 本発明の発光装置において第1及び第2補助
配線と入力端子から延在する配線との接続関係を説明す
る縦断面図。
【図5】 本発明の発光装置の画像表示部の構成を説明
する縦断面図。
【図6】 本発明の発光装置の作製工程を説明する縦断
面図。
【図7】 本発明の発光装置の作製工程を説明する縦断
面図。
【図8】 本発明の発光装置の作製工程を説明する縦断
面図。
【図9】 本発明の発光装置の作製工程を説明する縦断
面図。
【図10】 本発明の発光装置の作製工程を説明する上
面図。
【図11】 本発明の発光装置の作製工程を説明する上
面図。
【図12】 白色発光を呈する有機発光素子の構成を説
明する部分縦断面図。
【図13】 本発明の発光装置の作製に適した製造装置
の構成の一例を示す図。
【図14】 本発明の発光装置の画素部の構成の一例を
示す上面図。
【図15】 3波長型と2波長型の白色スペクトルの一
例を模式的に示すグラフ。
【図16】 本発明の発光装置のモジュール構成を示す
図。
【図17】 本発明により完成する電子装置の一例を説
明する図。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05B 33/22 H05B 33/22 Z Fターム(参考) 3K007 AB04 AB17 BB06 DB03 GA00 5C094 AA04 AA10 AA15 AA48 AA55 BA03 BA27 CA19 CA24 DA13 DB02 DB04 EA04 EA05 EA10 ED03 FA01 FA02 FB01 FB20

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】マトリクス状に配置された複数個の第1電
    極と、前記第1電極に対応するように形成された発光性
    材料を含む有機発光媒体と、前記第1電極と対向して形
    成される第2電極とから発光性の画素が形成されて画像
    表示部を形成する発光装置であって、前記第1電極のそ
    れぞれの周辺端部を囲む電気絶縁性の隔壁と、当該隔壁
    上において前記マトリクスの行配列方向又は列配列方向
    に延在し、前記第2電極と電気的に接触すると共にその
    下層側に形成された第1補助配線とを有し、前記第1補
    助配線は前記画像表示部の外側まで延在し、その端部に
    おいて該第1補助配線と交差する方向に延在する第2補
    助配線と電気的に接続し、前記第2補助配線は入力端子
    部から延在する配線と電気的に接続していることを特徴
    とする発光装置。
  2. 【請求項2】マトリクス状に配置された複数個の第1電
    極と、前記第1電極に対応するように形成された発光性
    材料を含む有機発光媒体と、前記第1電極と対向して形
    成される第2電極とから発光性の画素が形成されて前記
    第2の電極に対向する面にカラーフィルターの着色層が
    配置された画像表示部を形成する発光装置であって、前
    記第1電極のそれぞれの周辺端部を囲む電気絶縁性の隔
    壁と、当該隔壁上において前記マトリクスの行配列方向
    又は列配列方向に延在し、前記第2電極は透明導電膜で
    形成され、前記第2電極と電気的に接触すると共にその
    下層側に形成された第1補助配線とを有し、前記第1補
    助配線は前記画像表示部の外側まで延在し、その端部に
    おいて該第1補助配線と交差する方向に延在する第2補
    助配線と電気的に接続し、前記第2補助配線は入力端子
    部から延在する配線と電気的に接続していることを特徴
    とする発光装置。
  3. 【請求項3】マトリクス状に配置された複数の薄膜トラ
    ンジスタのゲート電極と接続し行配列方向に延在する第
    1配線と、ソース又はドレインに接続し列配列方向に延
    在する第2配線と、前記第1及び第2配線上に形成され
    略平坦化表面を形成する層間絶縁膜と、該層間絶縁膜上
    に前記薄膜トランジスタに対応して配置された複数個の
    第1電極と、前記第1電極に対応するように形成された
    発光性材料を含む有機発光媒体と、前記第1電極と対向
    して形成される第2電極とから発光性の画素が形成され
    て画像表示部を形成する発光装置であって、前記第1電
    極のそれぞれの周辺端部を囲む電気絶縁性の隔壁と、当
    該隔壁上において前記マトリクスの行配列方向又は列配
    列方向に延在し、前記第2電極と電気的に接触すると共
    にその下層側の形成された第1補助配線とを有し、前記
    第1補助配線は前記画像表示部の外側まで延在し、その
    端部において該第1補助配線と交差する方向に延在する
    第2補助配線と電気的に接続し、前記第2補助配線は入
    力端子部から延在する配線と電気的に接続していること
    を特徴とする発光装置。
  4. 【請求項4】マトリクス状に配置された複数の薄膜トラ
    ンジスタのゲート電極と接続し行配列方向に延在する第
    1配線と、ソース又はドレインに接続し列配列方向に延
    在する第2配線と、前記第1及び第2配線上に形成され
    略平坦化表面を形成する層間絶縁膜と、該層間絶縁膜上
    に前記薄膜トランジスタに対応して配置された複数個の
    第1電極と、前記第1電極に対応するように形成された
    発光性材料を含む有機発光媒体と、前記第1電極と対向
    して形成される第2電極とから発光性の画素が形成され
    て前記第2の電極に対向する面にカラーフィルターの着
    色層が配置された画像表示部を形成する発光装置であっ
    て、前記第1電極のそれぞれの周辺端部を囲む電気絶縁
    性の隔壁と、当該隔壁上において前記マトリクスの行配
    列方向又は列配列方向に延在し、前記第2電極は透明導
    電膜で形成され、前記第2電極と電気的に接触すると共
    にその下層側に形成された第1補助配線とを有し、前記
    第1補助配線は前記画像表示部の外側まで延在し、その
    端部において該第1補助配線と交差する方向に延在する
    第2補助配線と電気的に接続し、前記第2補助配線は入
    力端子部から延在する配線と前記層間絶縁膜に形成され
    たコンタクトホールを介して電気的に接続していること
    を特徴とする発光装置。
  5. 【請求項5】請求項1乃至請求項4のいずれか一項にお
    いて、前記有機発光媒体が前記第1補助配線と平行方向
    にストライプ状に形成されていることを特徴とする発光
    装置。
  6. 【請求項6】請求項3又は4において、前記第1補助配
    線は、行配列方向に延在する前記第1配線又は列配列方
    向に延在する前記第2配線と、平行方向に延在し、且つ
    前記隔壁層を介して重畳して設けられていることを特徴
    とする発光装置。
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