JP2003136103A - 異形条の製造方法およびリードフレームの製造方法 - Google Patents
異形条の製造方法およびリードフレームの製造方法Info
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Abstract
抑制して異形条の成形精度を高め、同時に製造コストを
削減する。 【解決手段】 軟化温度が250℃〜600℃の銅合金
製であり厚さが一定の金属板条材2を繰り出しつつ、こ
の金属板条材2を金型1とロール4の間に挟んで圧延す
ることにより、厚肉部14および薄肉部12を形成し、
異形条12を得る。焼鈍を行わずに異形条製品とする。
Description
部を有する異形条の製造方法およびリードフレームの製
造方法に関する。
に使用されるものであり、その幅方向における一部分が
厚肉部とされ、他の部分が薄肉部とされている。薄肉部
は主に半導体素子のリード部を形成するために利用さ
れ、厚肉部は半導体チップを載せて放熱性を高めるため
に利用される。
特開平6−269889号公報に記載されている。この
方法では、金属板条材を間歇的に金型に送り込みなが
ら、揺動ロールにより金属板条材を金型に押し当てて圧
延する。金型の表面には予め凹凸が形成されているた
め、図18に示すように、金属板条材20には長手方向
に連続する厚肉部22aと薄肉部22bがそれぞれ形成
され、異形条22となる。従来法では、さらにこの異形
条22に対し、表面の加工油等を除去するための脱脂処
理、および異形条を軟化させて仕上げ圧延を容易にする
ための焼鈍処理を施した後、異形条を最終寸法に近づけ
るための仕上げ圧延を行う。この仕上げ圧延では、異形
条22の厚肉部22aと薄肉部22bに、それぞれ同じ
圧下率(通常は10〜40%)で圧延を行い、厚肉部2
4aと薄肉部24bを有する異形条24を得る。さら
に、この異形条24の両側縁部をスリッターで切り落と
すことにより、異形条製品としていた。
導度および放熱性を高める観点から無酸素銅などの純銅
に近い材質が主に使用されている。
体素子のリードフレームに対する寸法精度上の要求がさ
らに厳しくなり、打ち抜き時のバリの発生や肉厚不均一
などを抑制して、異形条の成形精度を高める要望が強く
なってきている。それと同時に、製造コストの削減が強
く望まれている。
不均一などを抑制して異形条の成形精度を高めることが
でき、同時に製造コストを削減できる、異形条の製造方
法およびリードフレームの製造方法を提供することを課
題としている。
め、本発明に係る異形条の製造方法は、軟化温度が25
0℃〜600℃の銅合金製であり厚さが一定の金属板条
材を繰り出しつつ、この金属板条材を金型とロールの間
に挟んで圧延することにより、前記金属板条材の幅方向
における一部を相対的に低い圧下率で圧延して厚肉部を
形成する一方、金属板条材の幅方向における他の部分を
相対的に高い圧下率で圧延して薄肉部を形成した後、焼
鈍を行わずに異形条製品を得る。
または最終寸法に近い寸法を有する異形条を得るため、
得られた異形条は加工硬化した状態となり、その後の打
ち抜き加工時にバリが発生しにくい。さらに、異形条は
軟化温度が250℃〜600℃の銅合金で形成されてい
るから、例えば半導体素子製造プロセスで加熱されたと
しても再結晶化による軟化が生じにくく、リードの軟化
による不具合を防ぐことが可能となり、扱いやすいリー
ドフレーム等を得ることができる。さらに、焼鈍工程を
除いたことにより製造コストが削減できる。
肉部に対する圧下率がいずれも1%〜15%である仕上
げ圧延を行ってもよい。
の組成は本発明に好適である。 (1)0.05〜0.15wt%の鉄、0.015〜
0.05wt%のリン、不可避不純物、および銅からな
る銅合金。 (2)0.10〜0.20wt%の錫、0.003〜
0.024wt%のリン、不可避不純物、および銅から
なる銅合金。 (3)0.015〜0.15wt%のジルコニウム、不
可避不純物、および銅からなる銅合金。 (4)2.1〜2.6wt%の鉄、0.05〜0.20
wt%の亜鉛、0.015〜0.15wt%のリン、不
可避不純物、および銅からなる銅合金。 (5)0.015〜0.04wt%のリン、不可避不純
物、および銅からなる銅合金。 (6)0.002〜0.01wt%のリン、0.5〜
0.8wt%のマグネシウム、不可避不純物、および銅
からなる銅合金。 (7)0.01〜0.03wt%の珪素、0.2〜0.
4wt%のクロム、0.07〜0.13wt%のジルコ
ニウム、不可避不純物、および銅からなる銅合金。 これら合金を使用した場合、半導体製造プロセス等にお
いて再結晶化による軟化を効果的に防止できる。
れた異形条に対して打ち抜き加工を行い、リードフレー
ムを得てもよい。この場合、打ち抜き時のバリの発生や
肉厚不均一などを抑制してリードフレームの成形精度を
高めることができ、同時に製造コストを削減できる。
実施形態を説明するが、本発明はこの実施形態に限定さ
れるものではなく、必要に応じて適宜変更してよい。
方法に使用できるV型ミル圧延装置を示している。な
お、本発明を実施するための装置は、図示したV型ミル
圧延装置に限定されることはなく、遊星圧延装置など他
の形式の異形条圧延装置もしくは異形条鍛造装置も使用
できる。
走行させるアンコイラおよびリコイラ(図示略)と、金
属板条材2を挟んで圧延するための金型1および揺動ロ
ール4を具備している。金型1は、超硬合金等の硬質材
料で形成され、直方体状をなしており、金属板条材2の
走行方向にその長手方向を一致させて水平に配置されて
いる。金型1の下面には一対の凸部6が形成され、これ
ら凸部6は、金属板条材2の走行方向に延びる金型中心
線に対して対称となっている。ただし、本発明は凸部が
対称に形成された形状に限定されない。
をなし、その尖端6cを金属板条材2の走行方向上流側
へ向けてそれぞれ形成されている。凸部6同士の向かい
合う辺6aは、互いに平行とされており、これらの間
に、一定幅の凹部8が形成されている。凸部6の金型1
下面からの突出量は、製造すべき異形条の厚肉部14の
厚さW3から、薄肉部12の厚さW2を引いた寸法に略
一致する。これにより、凸部6により薄肉部12が圧延
される一方、凹部8により厚肉部14が圧延される。
りも若干下流側に設定されている。また、凸部6の斜辺
6bの末端は、金型1の下流側端部よりも若干上流側に
設定されている。凸部6の斜辺6bおよび平行辺6a
は、全長に亘って、金型1の下面に対して鈍角をなす傾
斜面で形成されている。
り図2に示すように、転がりながら水平に前進後退す
る。揺動ロール4の移動範囲は、この例では、金型1の
下流側端部から、凸部6の尖端6cに対向する位置まで
とされている。揺動ロール4の動作タイミングは以下の
動作を繰り返すように設定されている。
まで後退したら、金属板条材2を一定長下流側へ送る。 (2)送りが完了したら、揺動ロール4がスリップせず
に転がりながら上流側へ前進して、金型1へ金属板条材
2を押しつけ、凸部6を金属板条材2の上面に埋没させ
て薄肉部12を形成するとともに、凹部8により厚肉部
14を形成する。 (3)圧延が完了したら、揺動ロール4を後退させ、凸
部6の一部を金属板条材2の未圧延部分と対向させる。
軟化温度が250℃〜600℃の銅合金製であることが
必要である。軟化温度が前記範囲より低いと、例えば異
形条からリードフレームを形成し、このリードフレーム
を半導体製造に使用した場合に、半導体製造プロセスで
高温に曝されると、再結晶化を生じて軟化するおそれが
ある。そのような軟化が生じると、リードフレームのリ
ード部(端子ピン)が曲がりやすくなって使用上の不都
合が生じる。
では限定されないが、以下の銅合金が好適である。 (1)0.05〜0.15wt%の鉄、0.015〜
0.05wt%のリン、不可避不純物、および銅からな
る銅合金。例えば、三菱伸銅株式会社製「TAMAC
4」。 (2)0.10〜0.20wt%の錫、0.003〜
0.024wt%のリン、不可避不純物、および銅から
なる銅合金。例えば、三菱伸銅株式会社製「TAMAC
2」。 (3)0.015〜0.15wt%のジルコニウム、不
可避不純物、および銅からなる銅合金。三菱伸銅株式会
社製「ZC」。 (4)2.1〜2.6wt%の鉄、0.05〜0.20
wt%の亜鉛、0.015〜0.15wt%のリン、不
可避不純物、および銅からなる銅合金。三菱伸銅株式会
社製「TAMAC194」。 (5)0.015〜0.04wt%のリン、不可避不純
物、および銅からなる銅合金。例えば、リン脱酸銅。 (6)0.002〜0.01wt%のリン、0.5〜
0.8wt%のマグネシウム、不可避不純物、および銅
からなる銅合金。例えば、三菱伸銅株式会社製「MSP
1」。 (7)0.01〜0.03wt%の珪素、0.2〜0.
4wt%のクロム、0.07〜0.13wt%のジルコ
ニウム、不可避不純物、および銅からなる銅合金。例え
ば、三菱伸銅株式会社製「OMCL」。
プロセス等において再結晶化による軟化を効果的に防止
でき、しかも電気伝導性及び熱伝導性において純銅に比
べて遜色が少ないという利点がある。特に、銅合金
(3)を用いた場合には、再結晶温度が高いため、半導
体製造プロセスにおいて高温に曝されても軟化しにく
く、リードフレームのリード部の強度が低下しにくいと
いう利点が得られる。
さが一定の金属板条材2を間欠的に繰り出しつつ、金属
板条材2を金型1とロール4の間に挟んで圧延すること
により、金属板条材2の幅方向中央部を、凹部8により
相対的に低い圧下率で圧延して厚肉部14を形成する一
方、金属板条材2の幅方向両端部を、凸部6により相対
的に高い圧下率で圧延して薄肉部12を形成する。
は、図8において(W1−W2)/W1と定義され、本
発明では限定されないが、40〜90%であることが好
ましく、より好ましくは50〜80%である。また、厚
肉部14における金属板条材2の圧下率は、(W1−W
3)/W1と定義され、本発明では限定されないが、1
0〜50%であることが好ましく、より好ましくは15
〜40%である。これら範囲であれば、本発明の効果が
良好に得られる。一方、圧下率が大きすぎると金属板条
材2の割れなどが生じるおそれがあり、圧下率が小さす
ぎると加工硬化が不十分となる。
した後、焼鈍を行わずに、必要に応じて仕上げ圧延を行
い、周知のストレッチャーにより異形条10の歪みを除
去し、さらに薄肉部12の端部をスリッターにより厚肉
部14と平行に切り落として整形することにより、異形
条製品を得る。得られた異形条製品はリコイラに巻き取
られて次工程へ送られる。
工硬化した状態であるから、その後の打ち抜き加工時に
バリが発生しにくい。バリが発生しにくいと、端面形状
が良好になって寸法精度が高められるばかりか、バリが
剥がれて金属粉が発生することも少なく、これら金属粉
が打ち抜き加工時に異形条表面に付着し、異形条表面に
押し込み傷を生じることも少ない。
600℃の銅合金で形成されているから、例えば半導体
素子製造プロセスで加熱されたとしても、再結晶化によ
る軟化が生じにくく、リードや端子ピンの曲がり等の軟
化による不具合を防ぐことが可能となり、扱いやすいリ
ードフレーム等を製造できる。この点を図11を用いて
説明する。
れた異形条と、焼鈍工程を設けていた従来の異形条製造
方法で得られた異形条と、軟化温度の低い(約200
℃)の無酸素銅を本発明の加工条件で圧延した異形条
の、加熱後の硬度を比較したグラフである。本発明の加
工条件を採用しても、軟化温度の低い金属材料を使用す
ると、半導体製造プロセス等において加熱された場合に
再結晶化により硬度が低下し、使用に耐えなくなる。
た焼鈍工程および仕上げ圧延工程を除いたことにより製
造コストが削減できる。
後に焼鈍を行っていないから、異形化圧延によって生じ
た結晶粒状態が最終製品で維持される。薄肉部12は凸
部6によって圧延される際に、金属板条材2の幅方向へ
の材料流れが生じ、かつ高い圧下率が加わるため、圧下
方向に潰れて幅方向に延びた結晶粒が得られる。これに
より、リードフレーム等を打ち抜き加工する際に、結晶
粒の剪断が容易であり、この点からもバリが発生しにく
い利点が得られる。特に、薄肉部12は主としてリード
フレームのリード部(端子ピン)が形成される領域であ
り、打ち抜きにより微細加工を行う必要があるから、結
晶粒の剪断が容易でバリが発生しにくいことにより、い
っそうの微細加工が可能となる。
圧延の後に仕上げ圧延工程を設けてもよい。
限定されないが、例えば半導体素子製造用のリードフレ
ームの製造に使用することができる。この場合、得られ
た異形条に対して打ち抜き加工を行い、リードフレーム
を得ればよい。
を実証する。図1〜図6に示す装置を用いて、以下の各
条件で異形条を製造した。
t%Sn−0.01wt%P−残部Cu) 焼鈍:なし 仕上げ圧延:なし 異形化圧延後にストレッチャーで歪み除去後、スリッタ
ーにより整形
%Sn−0.01wt%P−残部Cu) 異形化圧延後の焼鈍:あり 焼鈍条件:570℃×60分加熱後、還元雰囲気で冷却 焼鈍後に酸洗い、仕上げ圧延 ストレッチャーで歪み除去後、スリッターにより整形
異形条を用いて、リードフレームの打ち抜き加工を行
い、リード部分に生じたバリの高さ、ダレ量、打ち抜き
断面における剪断面積の割合、打ち抜き断面における破
断面の割合、寸法精度、金型摩耗量、銅粉の発生量をそ
れぞれ比較した。その結果を表1に示す。
(b)で撮影した顕微鏡写真(200倍)を図12〜図
17に示す。図12(b)、図13(b)、および
図14(b)に示すように、実施例の異形条の薄肉部
では、個々の結晶粒が水平方向に平たく潰れていること
がわかる。これに対し、従来例の異形条の薄肉部では、
図15(b)、図16(b)、および図17
(b)に示すように、個々の結晶粒があまり潰れておら
ず、図10で模式的に表した通りの結果が確認できた。
の潰れによっても、バリおよびダレが抑制されているも
のと考えられる。
条の製造方法およびリードフレームの製造方法によれ
ば、一度の圧延で最終寸法または最終寸法に近い寸法を
有する異形条を得るため、厚さのばらつきが少ない異形
条を製造することが可能であるうえ、得られた異形条は
加工硬化した状態であるから、その後の打ち抜き加工時
にバリが発生しにくい。さらに、異形条は軟化温度が2
50℃〜600℃の銅合金で形成されているから、例え
ば半導体素子製造プロセスで加熱されたとしても再結晶
化による軟化が生じにくく、リードの曲がり等の軟化に
よる不具合を防ぐことが可能となり、扱いやすいリード
フレーム等を得ることができる。さらに、焼鈍工程を除
いたことにより製造コストが削減できる。
圧延装置の平面図である。
る。
る。
る。
る。
る。
る。
る。
る。
Claims (10)
- 【請求項1】 軟化温度が250℃〜600℃の銅合金
製であり厚さが一定の金属板条材を繰り出しつつ、この
金属板条材を金型とロールの間に挟んで圧延することに
より、前記金属板条材の幅方向における一部を相対的に
低い圧下率で圧延して厚肉部を形成する一方、金属板条
材の幅方向における他の部分を相対的に高い圧下率で圧
延して薄肉部を形成した後、焼鈍を行わずに異形条を得
ることを特徴とする異形条の製造方法。 - 【請求項2】 前記圧延の後に、前記厚肉部および前記
薄肉部に対する圧下率がいずれも1%〜15%である仕
上げ圧延を行うことを特徴とする請求項1記載の異形条
の製造方法。 - 【請求項3】 前記銅合金は、0.05〜0.15wt
%の鉄、0.015〜0.05wt%のリン、不可避不
純物、および銅からなることを特徴とする請求項1記載
の異形条の製造方法。 - 【請求項4】 前記銅合金は、0.10〜0.20wt
%の錫、0.003〜0.024wt%のリン、不可避
不純物、および銅からなることを特徴とする請求項1記
載の異形条の製造方法。 - 【請求項5】 前記銅合金は、0.015〜0.15w
t%のジルコニウム、不可避不純物、および銅からなる
ことを特徴とする請求項1記載の異形条の製造方法。 - 【請求項6】 前記銅合金は、2.1〜2.6wt%の
鉄、0.05〜0.20wt%の亜鉛、0.015〜
0.15wt%のリン、不可避不純物、および銅からな
ることを特徴とする請求項1記載の異形条の製造方法。 - 【請求項7】 前記銅合金は、0.015〜0.04w
t%のリン、不可避不純物、および銅からなることを特
徴とする請求項1記載の異形条の製造方法。 - 【請求項8】 前記銅合金は、0.002〜0.01w
t%のリン、0.5〜0.8wt%のマグネシウム、不
可避不純物、および銅からなることを特徴とする請求項
1記載の異形条の製造方法。 - 【請求項9】 前記銅合金は、0.01〜0.03wt
%の珪素、0.2〜0.4wt%のクロム、0.07〜
0.13wt%のジルコニウム、不可避不純物、および
銅からなることを特徴とする請求項1記載の異形条の製
造方法。 - 【請求項10】 請求項1記載の異形条の製造方法を行
った後に、得られた異形条に対して打ち抜き加工を行
い、リードフレームを得ることを特徴とするリードフレ
ームの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001338524A JP3798299B2 (ja) | 2001-11-02 | 2001-11-02 | 異形条の製造方法およびリードフレームの製造方法 |
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ID=19153003
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