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JP2002025291A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

Info

Publication number
JP2002025291A
JP2002025291A JP2000207151A JP2000207151A JP2002025291A JP 2002025291 A JP2002025291 A JP 2002025291A JP 2000207151 A JP2000207151 A JP 2000207151A JP 2000207151 A JP2000207151 A JP 2000207151A JP 2002025291 A JP2002025291 A JP 2002025291A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
spare
circuit
signal
memory cell
normal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2000207151A
Other languages
English (en)
Inventor
Jun Otani
順 大谷
Katsumi Dosaka
勝己 堂阪
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP2000207151A priority Critical patent/JP2002025291A/ja
Priority to US09/754,123 priority patent/US6545921B2/en
Publication of JP2002025291A publication Critical patent/JP2002025291A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/08Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
    • G11C29/12Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details
    • G11C29/18Address generation devices; Devices for accessing memories, e.g. details of addressing circuits
    • G11C29/24Accessing extra cells, e.g. dummy cells or redundant cells

Landscapes

  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Dram (AREA)
  • Techniques For Improving Reliability Of Storages (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 スペアメモリセルに対する動作テストを効率
的に実行可能な半導体記憶装置を提供する。 【解決手段】 セレクタ回路72は、正規メモリセルア
レイから読出された複数のデータのうち、テスト動作時
における1回の読出動作当たりの出力データ個数に相当
する8個のデータを選択的に出力する。セレクタ回路7
4は、スペアメモリセルアレイから読出された複数のデ
ータのうち、8個のデータを選択的に出力する。セレク
タ回路75は、テストモード時において、セレクタ回路
72および74の出力を受けて、動作テストの対象がス
ペアメモリセルである場合には、セレクタ回路74の出
力をテスト出力データTDoutとして、試験装置に対
して出力する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は半導体記憶装置に
関し、より特定的には、冗長救済のためのスペアメモリ
セルを有する半導体記憶装置に関する。
【0002】
【従来の技術】高いメモリバンド幅を要求する画像処理
等の一部のアプリケーションに対応して、広いデータI
/O幅を実現するためのメモリセルアレイ構成が半導体
記憶装置に採用されるようになっている。
【0003】代表的には、ロジック部とDRAM(Dyna
mic Random Access Memory)とを同一チップ上に搭載し
たロジック混載メモリが開発されている。ロジック混載
メモリにおいては、従来のプロセッサ部とDRAMコア
との間に存在したI/Oピンおよび外部バスを省略し
て、自由度の高いデータ転送を実行可能な構成とすると
ともに、DRAMコアに対して同時にデータ入出力可能
な多数のグローバルデータ入出力線を設けて、広いデー
タI/O幅を実現している。
【0004】ロジック混載メモリにおいては、ロジック
部とDRAMコアとの間に配置されるグローバルデータ
入出力線の数は、汎用メモリに比べてはるかに多く、そ
の数は200以上もしくは500以上にも達する。ロジ
ック混載メモリに搭載される内蔵メモリコアのテスト
は、このようなグローバルデータ入出力線によって伝達
されるデータを用いて実行されるが、メモリテスタ等の
外部試験装置で一度に判定可能なデータは限られてい
る。また、動作テストを効率的に実行するためには、複
数のメモリコアを同時並列にテストする必要がある。
【0005】このような理由からロジック混載メモリに
は、動作テスト時において、並列に多数配置されたグロ
ーバルデータ入出力線の一部を選択して、選択されたグ
ローバルデータ入出力線に伝達されるデータのみを外部
試験装置に対して出力するための回路が一般的に搭載さ
れる。
【0006】また、ロジック混載メモリに搭載される大
規模メモリコアにおいては、歩留まりを向上させるため
に不良の正規メモリセルを救済するためのスペアメモリ
セルが、一定区分の正規メモリセルアレイごとに設けら
れる構成が採用される。一般的にスペアメモリセルの動
作テストは、正規メモリセルの動作テストとは分離して
行なわれ、スペアメモリセルのテスト結果と正規メモリ
セルのテスト結果とを照合して、冗長救済のための置換
パターンが決定される。
【0007】大規模メモリコアにおいては、スペアメモ
リセル自体もかなりの規模を占めるため、正規メモリセ
ルに対する動作テストのみならず、スペアメモリセルに
対する動作テストを効率的に行なうことも重要な課題で
ある。
【0008】図12は、テスト動作時における従来の出
力データ選択を説明するブロック図である。図12にお
いては、一例としてテスト動作時(以下、テストモード
時とも称する)において、1回の読出動作に対応して出
力されるテスト出力データTDoutの個数が8個であ
る場合について説明する。
【0009】図12を参照して、動作テストの対象とな
るメモリセルアレイは、各々が正規メモリセルアレイの
一定区分に相当する複数のメモリマットから構成され
る。図12においては、一例としてメモリセルアレイが
8個のメモリマットMT0〜MT7から構成される場合
を示している。
【0010】メモリセルアレイ中の正規メモリセルに入
出力されるデータを伝達するために、256本の正規グ
ローバルデータ入出力線GIO(1)〜GIO(25
5)が配置される。各メモリマットごとにスペアメモリ
セルが配置され、スペアメモリセルに入出力されるデー
タを伝達するために、スペアグローバルデータ入出力線
線SGIO(0)〜SGIO(7)がメモリマットMT
0〜MT7に対応してそれぞれ設けられる。
【0011】正規グローバルデータ入出力線GIO
(0)〜GIO(255)は、テスト動作時における出
力データ個数に相当する8本ずつの複数のグループに分
割され、それぞれのグループに対応する8本の正規グロ
ーバルデータ入出力線は、内部ノード群N0〜N31に
それぞれ統合される。たとえば、内部ノード群N0に
は、正規グローバルデータ入出力線GIO(0)〜GI
O(7)が集められる。
【0012】スペアメモリセルの動作テストに対応する
ために、メモリマットMT0〜MT7にそれぞれ対応し
て、スペア選択回路510−0〜510−7が設けられ
る。各スペア選択回路は、同一メモリマット中の正規グ
ローバルデータ入出力線のうちの1本と、スペアグロー
バルデータ入出力線を入力として受けて、テストモード
信号STMODに対応して、いずれか一方に伝達される
データを出力する。テストモード信号STMODは、テ
ストモード時において動作テストの対象がスペアメモリ
セルである場合に活性化され、それ以外の場合には非活
性化される信号である。
【0013】一例として、スペア選択回路510−0
は、正規グローバルデータ入出力線GIO(0)および
スペアグローバルデータ入出力線SGIO(0)を受け
て、モード信号STMODが活性化および非活性化され
ている場合にそれぞれ対応して、スペアグローバルデー
タ入出力線SGIO(0)の伝達データおよび正規グロ
ーバルデータ入出力線GIO(0)の伝達データをそれ
ぞれ出力する。
【0014】スペア選択回路510−0〜510−7
は、共通のモード制御信号STMODに応じて動作す
る。したがって、スペアメモリセルが動作テストの対象
である場合には、各メモリマットにおいて複数のノード
群のうちのいずれか1つに対して、スペアグローバルデ
ータ入出力線が伝達するデータを読出すことができる。
【0015】セレクタ回路520は、内部ノード群N0
〜N31のうちのいずれか1個を、選択信号SEL0〜
SEL4に応じて選択して、選択された内部ノード群に
対応する8個のデータを出力する。
【0016】スペアメモリセルが動作テストの対象であ
る場合には、スペア選択回路510−0〜510−7と
対応する内部ノード群N0,N4,…,N28を1個ず
つ順に選択するように選択信号SEL0〜SEL4を変
化させれば、各メモリマットからスペアグローバルデー
タ入出力線の伝達データを外部試験装置に対して出力す
ることが可能となる。
【0017】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成の下で、スペアメモリセルを対象とする動作テ
ストを実行すれば、セレクタ回路520からの8個のテ
スト出力データのうち、スペアメモリセルに対応するデ
ータは1個のみであり、他の7個のデータは、スペアメ
モリセルの動作テストには無関係である。したがって、
スペアメモリセルを対象とする動作テストにおいて、無
駄なテストデータを出力していることになり、図12の
構成において、すべてのスペアグローバルデータ入出力
線SGIO(0)〜SGIO(7)の伝達データを出力
するためには、8回の読出動作を実行することが必要と
なる。この結果、スペアメモリセルの動作テスト時間が
増加してしまう。また、セレクタ回路520が出力する
複数の出力データのうち、スペアメモリセルに対応する
出力データを外部試験装置側で認識させる必要が生じる
ため、これに応じて動作テスト実行時のプログラムが複
雑になってしまう。
【0018】次に、スペアメモリセルテスト時のテスト
モードの生成についての問題点を説明する。
【0019】図13は、従来のコマンドデコードを説明
するブロック図である。図13を参照して、ロウアドレ
スストローブ信号/RAS、コラムアドレスストローブ
信号/CASおよびライトイネーブル信号/WEの3つ
のコマンド制御信号の信号レベルの組合せに応じて、2
3=8個のコマンドのうちのいずれか1つが生成され
る。
【0020】生成されるコマンドは、ノーオペレーショ
ンコマンド(NOP)、アクティベーションコマンド
(ACT)、リードコマンド(READ)、ライトコマ
ンド(WRT)、プリチャージコマンド(PRE)、モ
ードセットコマンド(MST)、オートリフレッシュコ
マンド(AREF)、およびセルフリフレッシュコマン
ド(SREF)のうちのいずれか1つである。
【0021】これらのコマンド群は、論理ゲート群LG
50によって生成される。モードセットコマンドMST
が生成される場合には、さらに、モードセットシーケン
スが起動される。モードセットシーケンスにおいては、
アドレス端子に入力されるアドレス信号A0〜A10の
信号レベルの組合せに応じて、モードテーブル530内
に設定された複数のモードのうちの1個が選択される。
【0022】リードコマンドREADが生成された場合
には、モードテーブル530が参照されて、正規メモリ
セルを対象とする読出動作およびスペアメモリセルを対
象とする読出動作のいずれか一方が選択的に実行され
る。同様に、ライトコマンドWRTが生成された場合に
おいても、モードテーブルが参照されて、正規メモリセ
ルおよびスペアメモリセルの一方を対象とする書込動作
が実行される。
【0023】図14は、従来のコマンドデコードに基づ
くスペアメモリセルの動作テストを説明するタイミング
チャートである。
【0024】図14を参照して、クロック信号の活性化
タイミングに対応する時刻T0〜T5のそれぞれにおい
て、コマンド制御信号が取込まれ、コマンド制御信号の
信号レベルの組合せに応じたコマンドが生成される。
【0025】時刻T0およびT1のクロック活性化タイ
ミングにおいては、正規メモリセルを対象とするリード
コマンドREAD1およびREAD2がそれぞれ生成さ
れ、CASレイテンシが1クロックサイクルであること
に対応して、時刻T1およびT2に、リードコマンドR
EAD1およびREAD2にそれぞれ対応するテスト出
力データD1およびD2が出力される。
【0026】ここで、スペアメモリセルアレイに対する
動作テストを実行するためには、モードセットシーケン
スを起動してモードテーブル530の選択を変更する必
要がある。時刻T2において、コマンド制御信号および
アドレス信号のそれぞれの信号レベルを適正に設定し
て、モードセットコマンドMSTを生成するとともに、
モードテーブル530におけるモード選択をスペアメモ
リセルアレイにアクセスするためのスペアモードに切換
える。
【0027】この後、時刻T3およびT4において、リ
ードコマンドREAD3およびREAD4を生成すれ
ば、スペアメモリセルセルを対象とする読出動作を実行
することができ、時刻T4および時刻T5において、ス
ペアメモリセルからのテスト出力データD3およびD4
を出力することができる。
【0028】このように、正規メモリセルを対象とする
通常のリードコマンドから、スペアメモリセルを対象と
するリードコマンドに切換えるためには、独立に1クロ
ックサイクルを要するモードセットシーケンスを実行す
る必要があった。このため、正規メモリセルおよびスペ
アメモリセルに連続したクロックサイクルでアクセスで
きず、正規メモリセルに対応する正規ワード線と隣接す
るスペアワード線との間におけるお互いの干渉試験や、
物理的に連続しているメモリセル行に対して一定間隔で
連続的にアクセスする試験等を実行できないという問題
点があった。
【0029】この発明は、このような問題点を解決する
ためになされたものであって、この発明の目的は、正規
メモリセルの欠陥部を救済するために設けられたスペア
メモリセルの動作テストを効率的に実行することが可能
な半導体記憶装置の構成を提供することである。
【0030】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の半導体記
憶装置は、テストモード時において、1回の読出動作に
対応してN個(N:自然数)のデータを出力する半導体
記憶装置であって、第1の方向に沿って複数のメモリマ
ットに分割されるメモリセルアレイを備え、各メモリマ
ットは、第1の方向および第2の方向に沿って行列状に
配置された複数の正規メモリセルと、複数の正規メモリ
セルと第1の方向に隣接して配置される複数のスペアメ
モリセルとを含み、第2の方向に沿って配置される、複
数の正規メモリセルに対する入出力データを伝達するた
めの複数の正規データ入出力線と、第2の方向に沿って
配置される、複数のスペアメモリセルに対する入出力デ
ータを伝達するための複数のスペアデータ入出力線と、
テストモード時において、複数の正規データ入出力線の
うちのN本によって伝達されるN個のデータを出力する
第1のテスト出力選択回路と、テストモード時におい
て、複数のスペアデータ入出力線のうちのN本によって
伝達されるN個のデータを出力する第2のテスト出力選
択回路と、テストモード時におけるテスト対象が複数の
正規メモリセルおよび複数のスペアメモリセルのいずれ
であるかに応じて、第1および第2のテスト出力選択回
路の出力のいずれか一方を選択的に出力する第3のテス
ト出力選択回路とを備える。
【0031】請求項2記載の半導体記憶装置は、請求項
1記載の半導体記憶装置であって、複数のスペアデータ
入出力線は、メモリセルアレイ全体でN本設けられる。
【0032】請求項3記載の半導体記憶装置は、請求項
1記載の半導体記憶装置であって、メモリセルアレイ
は、N個のメモリマットに分割され、複数のスペアデー
タ入出力線は、各メモリマットごとに1本ずつ設けられ
る。
【0033】請求項4記載の半導体記憶装置は、クロッ
ク信号を受ける第1の入力ノードと、複数の制御信号を
受ける第2の入力ノードと、テストモード時において、
テスト対象が複数の正規メモリセルおよび複数のスペア
メモリセルのいずれであるかを示すための電圧レベルが
印加される第3の入力ノードと、行列状に配置された複
数の正規メモリセルおよび複数のスペアメモリセルを有
するメモリセルアレイと、クロック信号に応答したタイ
ミングで第2および第3の入力ノードに対する入力を取
込み、複数の制御信号の信号レベルの組合わせおよび第
3の入力ノードの電圧レベルに応じて、メモリセルアレ
イに対する動作コマンドを生成するコマンドデコード回
路とを備え、コマンドデコード回路は、メモリセルアレ
イに対して読出動作、書込動作、および行選択活性化動
作のうちの1つが指示される場合には、対象が複数の正
規メモリセルおよび複数のスペアメモリセルのいずれで
あるかに応じて、独立した動作コマンドを生成する。
【0034】請求項5記載の半導体記憶装置は、請求項
4記載の半導体記憶装置であって、コマンドデコード回
路は、複数の制御信号の信号レベルの組合わせに応じ
て、読出動作、書込動作、および行選択活性化動作読出
動作のうちの1つが指示される場合には、第3の入力ノ
ードの電圧レベルに応じて、複数の正規メモリセルを対
象とする動作コマンドと、複数のスペアメモリセルを対
象とする動作コマンドとのうちのいずれか一方を生成す
る。
【0035】請求項6記載の半導体記憶装置は、行列状
に配置された複数の正規メモリセルおよび複数のスペア
メモリセルを有するメモリセルアレイと、複数の正規メ
モリセルの行に対応してそれぞれ配置されるL本(L:
自然数Mを用いて2M-1<L≦2Mで表わされる自然数)
の正規ワード線と、複数のスペアメモリセルの行に対応
してそれぞれ配置されるN本(L:2M未満の自然数)
のスペアワード線と、一定周期でカウントアップされる
カウント値に対応する(M+1)ビットのリフレッシュ
アドレス信号を生成するリフレッシュアドレス生成回路
と、L本の正規ワード線およびN本のスペアワード線の
うちの少なくとも1本を選択的に活性化するワード線駆
動回路とを備え、ワード線駆動回路は、テストモード時
においてリフレッシュ動作が指示された場合には、(M
+1)ビットのリフレッシュアドレス信号に基づいて動
作する。
【0036】請求項7記載の半導体記憶装置は、請求項
6記載の半導体記憶装置であって、リフレッシュアドレ
ス信号のうちの所定の1ビットの信号レベルは、L本の
正規ワード線を活性化の対象とする場合およびN本のス
ペアワード線を活性化の対象とする場合において、第1
および第2の信号レベルにそれぞれ設定され、リフレッ
シュアドレス生成回路は、通常動作時において、リフレ
ッシュアドレス信号の所定の1ビットの信号レベルを第
1の信号レベルに固定する電位固定回路を含む。
【0037】請求項8記載の半導体記憶装置は、請求項
6記載の半導体記憶装置であって、リフレッシュアドレ
ス生成回路は、第1の状態から第2の状態への第1の状
態遷移と第2の状態から第1の状態への第2の状態遷移
とを一定周期で繰り返すリフレッシュクロックを生成す
るクロック発生部と、リフレッシュクロックの第1およ
び第2の状態遷移の一方に応答して、(M+1)ビット
のリフレッシュアドレス信号に反映されるカウント値を
カウントアップするカウンタ回路と、正規ワード線およ
びスペアワード線の本数の総和に相当する(L+N)を
カウント上限値として保持するレジスタ回路と、カウン
ト値がカウント上限値と一致する場合に、カウント値を
強制的に初期値に復帰させるためのリセット回路とを含
む。
【0038】請求項9記載の半導体記憶装置は、請求項
8記載の半導体記憶装置であって、レジスタ回路は、カ
ウント上限値に対応するリフレッシュアドレス信号の各
ビットの値を保持し、リフレッシュアドレス生成回路
は、リフレッシュアドレス信号の各ビットに対応して設
けられ、リフレッシュアドレス信号とレジスタ回路の保
持データとの間において対応するビット同士の信号レベ
ルの一致比較結果を出力する一致比較部と、全ての一致
比較部において、対応するビット同士の信号レベルが一
致する場合にのみ一致検出信号を活性化する一致検出部
とをさらに含み、リセット回路は、リフレッシュクロッ
クの第1および第2の状態遷移の他の一方に応答して、
一致検出信号の信号レベルをリセット信号に反映し、カ
ウンタ回路は、リセット信号の活性化に応答して、リフ
レッシュアドレス信号の全ビットを初期値に対応する所
定の信号レベルに設定する。
【0039】
【発明の実施の形態】以下において、本発明の実施の形
態について図面を参照して説明する。
【0040】[実施の形態1]図1は、本発明の実施の
形態1に従う半導体記憶装置10の構成を示すブロック
図である。
【0041】図1においては、半導体記憶装置10は、
ロジック部15と同一チップCH上に搭載され、いわゆ
るロジック混載メモリを構成する。半導体記憶装置10
とロジック部15との間におけるデータの授受は、デー
タバスDBを介して実行される。
【0042】半導体記憶装置10は、クロック入力ノー
ド11、コマンド制御信号入力ノード12、およびアド
レス信号入力ノード14と、コントロール回路20と、
アドレスバッファ22と、デコード回路30およびWL
/CSLドライブ回路40と、メモリセルアレイ50
と、データ入出力回路60と、テスト出力データ選択回
路70と、テストデータ出力ノード16とを備える。
【0043】クロック入力ノード11には、半導体記憶
装置10を同期動作させるためのクロック信号CLKが
入力される。クロック信号は、一定周期で非活性状態
(Lレベル)および活性状態(Hレベル)を繰り返す。
【0044】コマンド制御信号入力ノード12は、ロウ
アドレスストローブ信号/RAS、コラムアドレススト
ローブ信号/CAS、ライトイネーブル信号/WE、お
よびチップセレクト信号/CS等のコマンド制御信号を
受ける。アドレス信号入力ノード14は、たとえば、1
1ビットのアドレス信号A0〜A10を受ける。アドレ
ス信号A0〜A10は、アドレスバッファ22を介して
デコード回路30に伝達される。
【0045】コントロール回路20は、クロック信号C
LKの活性化タイミング(Lレベル→Hレベルへの遷移
タイミング)に応答して、コマンド制御信号入力ノード
12からコマンド制御信号を取込み、取込んだコマンド
制御信号の信号レベルの組合せに応答してコマンドを生
成するコマンドデコーダ25を含む。コントロール回路
20は、生成されたコマンドに対応する各種制御信号を
出力して、半導体記憶装置10の全体動作を制御する。
【0046】デコード回路30は、コントロール回路2
0に指示されたタイミングにおいて、アドレスバッファ
22から受けたアドレス信号A0〜A10に基づくデコ
ード処理を実行する。WL/CSLドライブ回路40
は、メモリセルアレイ50の各行および各列に対応して
それぞれ配置されるワード線およびコラム選択線を選択
的に駆動する。
【0047】ワード線およびコラム選択線の配置を含む
メモリセルアレイ50の構成については後ほど詳細に説
明するが、メモリセルアレイ50には、データを保持す
るための複数のメモリセルが行列状に配置されている。
メモリセルアレイ50には、複数のグローバルデータ線
GDLsが配置される。データ入出力回路60は、デー
タバスDBと複数のグローバルデータ線GDLsとの間
でロジック部15と入出力されるデータの授受を実行す
る。
【0048】テスト出力データ選択回路70は、テスト
モード時において、複数のグローバルデータ線GDLs
に伝達される読出データのうちの一部を、選択信号SE
L0〜SEL4に応じて選択して、テスト出力データT
Doutを出力する。実施の形態1においては、一例と
して、テストモード時おいて外部に出力されるテスト出
力データTDoutの個数を8個とする。すなわち、デ
ータ選択回路70は、複数のグローバルデータ線GDL
sによって伝達される読出データのうち8個を選択して
テストデータ出力ノード16に出力するものとする。
【0049】テストモード時において、出力されたテス
ト出力データTDoutは、メモリテスタ等の外部試験
装置に伝達される。コマンド制御信号入力ノード12お
よびアドレス信号入力ノード14に対しては、テストモ
ード時においては、外部試験装置からコマンド制御信号
およびアドレス信号がそれぞれ伝達され、通常動作時に
おいては、ロジック部15からコマンド制御信号および
アドレス信号がそれぞれ伝達される。
【0050】次に、メモリセルアレイ50の構成および
グローバルデータ線GDLsの配置について詳細に説明
する。
【0051】図2は、メモリセルアレイ50の構成を示
すブロック図である。図2を参照して、メモリセルアレ
イ50は、メモリセルの列方向に沿って複数のメモリマ
ットに分割される。図2においては、一例として、メモ
リセルアレイ50は、8個のメモリマットMT0〜MT
7から構成される。ワード線およびコラム選択線は、メ
モリマットMT0〜MT7に対して共通に、メモリセル
の行方向に沿って配置される。
【0052】各メモリマットは、正規メモリセルの行に
対応して配置される、行アドレス信号のビット数に対応
する2048本(=211本)の正規ワード線WL0〜W
L2047と、スペアメモリセルの行に対応して配置さ
れるスペアワード線SWL0〜SWL8とを共有する。
同様に、各メモリマットは、列選択を実行するための2
56本(=28本)のコラム選択線CSL0〜CSL2
55を共有する。ワード線WL0〜WL2047、スペ
アワード線SWL0〜SWL8およびコラム選択線CS
L0〜CSL255は、行選択および列選択を行なうた
めのアドレス信号のデコード結果に基づいて、WL/C
SLドライブ回路40によって選択的に活性化される。
【0053】各メモリマットには、メモリセルの列方向
に沿って、32本の正規グローバルデータ入出力線と、
1本のスペアグローバルデータ入出力線とが配置され
る。たとえば、メモリマットMT0に対しては、正規グ
ローバルデータ入出力線GIO(0)〜GIO(31)
と、スペアグローバルデータ入出力線SGIO(0)と
が配置される。メモリセルアレイ50全体に対しては、
図1に示した複数のグローバルデータ線GDLsを構成
する、256本のグローバルデータ入出力線GIO
(0)〜GIO(255)および8本のスペアグローバ
ルデータ入出力線SGIO(0)〜SGIO(7)が配
置される。
【0054】図3は、メモリマットの構成を示すブロッ
ク図である。各メモリマットの構成は同様であるため、
図3においては代表的にメモリマットMT0の構成が示
される。
【0055】図3を参照して、メモリマットMT0は、
8行×33列に行列状に配置された複数の基本アレイユ
ニットMAUを含む。
【0056】各基本アレイユニットMAUは、256行
×16列の正規メモリセルを有する。同一行に配置され
る基本アレイユニットMAU間において、正規ワード
線、スペアワード線およびコラム選択線が共有される。
【0057】同一列に属する基本アレイユニットMAU
に対して共通に、正規グローバルデータ入出力線もしく
はスペアグローバルデータ入出力線が配置される。した
がって、16個のメモリセル列ごとに、正規グローバル
データ入出力線もしくはスペアグローバルデータ入出力
線が配置される。
【0058】スペアグローバルデータ入出力線SGIO
(0)に対応する基本アレイユニットには、冗長救済用
のスペアメモリセルが配置される。したがって、各メモ
リマットにおいて、スペアメモリセルは、図3中の斜線
で示した領域に配置され、各基本アレイユニットMAU
中のスペアワード線に対応する領域と、スペアグローバ
ルデータ入出力線SGIO(0)に対応する基本アレイ
ユニット全体とに配置される。
【0059】各スペアワード線に対応するスペアメモリ
セルは、同一基本アレイユニットMAU中の正規メモリ
セル行を置換するために設けられる。一方、スペアグロ
ーバルデータ入出力線SGIO(0)による置換救済
は、1本の正規グローバルデータ入出力線に対応する基
本アレイユニットMAU群ごとに一括して実行される。
【0060】図4は、基本アレイユニットの構成を示す
ブロック図である。各基本アレイユニットMAUは、同
様の構成を有するため、図4においては、図3におい
て、最左上に配置される基本アレイユニットの構成につ
いて代表的に説明する。
【0061】図4を参照して、基本アレイユニットMA
Uは、256行×16列に配置された正規メモリセルN
MCと、1行×16列に配置されたスペアメモリセルS
MCとを有する。正規メモリセルNMCおよびスペアメ
モリセルSMCのそれぞれの行に対応して、正規ワード
線WL0〜WL255およびスペアワード線SWL0が
配置される。
【0062】各スペアメモリセルSMCは、正規メモリ
セルNMCとメモリセル列を共有するように配置され
る。16個のメモリセル列にそれぞれ対応して、ビット
線対BL0,/BL0〜BL15,/BL15、センス
アンプSA0〜SA15、およびコラム選択ゲートCS
G0〜CSG15が配置される。
【0063】ビット線対BL0,/BL0〜BL15,
/BL15には、正規ワード線WL0〜WL255およ
びスペアワード線SWL0のうちの活性化された1本に
対応する正規メモリセルNMCもしくはスペアメモリセ
ルSMCに保持されたデータが出力される。
【0064】センスアンプSA0〜SA15の各々は、
対応するビット線対間に生じる電位レベル差を増幅す
る。コラム選択ゲートCSG0〜CSG15は、コラム
選択線CSL0〜CSL15の電位レベルに応じて、対
応するビット線対と正規グローバルデータ入出力線GI
O(0)との間を接続する。正規グローバルデータ入出
力線GIO(0)は、相補のデータを伝達するデータ線
GLおよび/GLとを有する。
【0065】コラム選択ゲートCSG0〜CSG15を
介して、データ線GLは、コラム選択線CSL0〜CS
L15によって選択されたビット線対の一方BL0〜B
L15のうちのいずれか1本と接続される。同様に、も
う1本のデータ線/GLは、選択されたビット線対の一
方の相補線である/BL0〜/BL15のうちのいずれ
か1本に接続される。
【0066】スペアワード線SWL0は、256本のワ
ード線WL0〜WL255のどれか1本が不良であった
場合に、その不良ワード線に代えて使用される。スペア
ワード線SWL0による置換救済は、デコード回路30
によって指示される。すなわち、デコード回路30中に
はテストモード時に判明した不良ワード線のアドレスが
プログラムされる。通常動作時において、デコード回路
30は、アドレス信号によってプログラムされた不良ワ
ード線が選択された場合には、当該不良ワード線に代え
て、スペアワード線SWL0の活性化を指示する。
【0067】なお、メモリセルアレイ50中のメモリセ
ル行の数は、アドレス信号が11ビットであることに対
応して定めたものであり、Nビット(N:自然数)のア
ドレス信号に対応して、2N個のメモリセル行を配置す
る構成とすることが一般的である。1本のグローバルデ
ータ線に対応するメモリセル列の個数を16個としたの
も同様に例示に過ぎない。
【0068】また、メモリセルアレイ50を8個のメモ
リマットMT0〜MT7に分割し、各メモリマットは、
8行×33列の基本アレイユニットMAUに分割される
構成を説明したが、これらの分割は例示にすぎず、配置
されるグローバルデータ線GDLsの本数および1本の
グローバルデータ線に対応するメモリセル列の個数等に
対応して、分割数は適宜定めることができる。
【0069】図5は、テスト出力データ選択回路70の
構成を示すブロック図である。図5を参照して、正規グ
ローバルデータ入出力線GIO(0)〜GIO(25
5)は、テスト出力データTDoutの個数に相当する
8本ずつのグループに分割される。これらの複数のグル
ープにそれぞれ対応して、内部ノード群N0〜N31が
配置される。たとえば、内部ノード群N0には、正規グ
ローバルデータ入出力線GIO(0)〜GIO(7)が
対応付けられる。
【0070】セレクタ回路72には、内部ノード群N0
〜N31のうちのいずれか1個を選択するための選択信
号SEL0〜SEL4が入力される。選択信号SEL0
〜SEL4の個数は、内部ノード群の個数に対応して定
められる。すなわち、32個の内部ノード群N0〜N3
1の1個を選択するためには、5個の選択信号SEL0
〜SEL4が必要である。
【0071】セレクタ回路72は、正規グローバルデー
タ入出力線GIO(0)〜GIO(255)によって伝
達される256個のデータのうち、選択信号SEL0〜
SEL4に応じて選択される内部ノード群に対応する8
個のデータを選択的に出力する。
【0072】一方、スペアグローバルデータ入出力線に
対応して、セレクタ回路74が配置される。セレクタ回
路74は、スペアグローバルデータ入出力線によって伝
達される複数のデータのうちの8個を選択的に出力する
ために設けられる。
【0073】なお、実施の形態1の構成においては、ス
ペアグローバルデータ入出力線SGIO(0)〜SGI
O(7)の本数と、テストデータ出力ノード16から出
力されるデータの個数とが等しい場合を示したので、セ
レクタ回路74において、選択信号に基づいた選択動作
を実行する必要はない。すなわち、セレクタ回路74
は、スペアグローバルデータ入出力線SGIO(0)〜
SGIO(7)が統合される内部ノード群Nsを含み、
内部ノードNs群に伝達される8個のデータは、そのま
ま出力される。
【0074】このように、スペアグローバルデータ入出
力線の本数と、テスト動作時における1回の読出動作あ
たりの出力データ数とを同一とすれば、スペアメモリセ
ルを対象とする動作テストを効率的に実行するために配
置されるセレクタ回路74の構成を簡略化できる。
【0075】テスト出力データ選択回路70は、さら
に、テストモード信号STMODに応答して動作するセ
レクタ回路75をさらに含む。すでに説明したように、
テストモード信号STMODは、テストモード時におい
て、動作テストの対象がスペアメモリセルである場合に
活性化され、それ以外の場合には非活性化される信号で
ある。
【0076】セレクタ回路75は、テストモード信号S
TMODが活性化されている場合には、セレクタ回路7
4の出力をテストデータ出力ノード16に伝達し、テス
トモード信号STMODが非活性化されている場合に
は、セレクタ回路72の出力をテストデータ出力ノード
16に伝達する。これにより、スペアメモリセルを対象
とするテストモード時においては、テスト出力データT
Doutはスペアメモリセルからの読出データのみで構
成され、正規メモリセルを対象とするテストモード時に
おいては、テスト出力データTDoutは正規メモリセ
ルからの読出データのみで構成される。
【0077】このような構成とすることにより、スペア
メモリセルの動作テストを短時間で実行可能である。さ
らに、かつ外部試験装置側でスペアメモリセルに対応す
る出力データの識別が不要になるため、スペアメモリセ
ルを対象とする動作テストを効率的に実行することがで
きる。
【0078】[実施の形態2]実施の形態2において
は、テストモード時において、正規メモリセルとスペア
メモリセルとに連続的にアクセス可能な構成について説
明する。
【0079】図6は、本発明の実施の形態2に従うコマ
ンドデコーダ25の構成を示す回路図である。
【0080】図6を参照して、実施の形態2に従う半導
体記憶装置においては、新たに、スペアモード認識ノー
ド18が新たに配置される。スペアモード認識ノード1
8に対しては、テストモード時において、Hレベルもし
くはLレベルの電位レベルが印加される。
【0081】コマンドデコーダ25は、コマンド制御信
号/RAS、/CASおよび/WEの信号レベルの組合
せに応答して、コマンドを生成する論理ゲート群LG1
0と、コマンド制御信号を/RAS,/CAS,/WE
の信号レベルの組合わせ、およびテストモード認識ノー
ド18の電位レベルVsmに応じて、コマンドを生成す
る論理ゲート群LG20とを含む。
【0082】論理ゲート群LG10は、データ線のプリ
チャージ動作を指示するプリチャージコマンドPRE、
モードテーブルの選択を指示するモードセットコマンド
MST、リフレッシュ動作を指示するオートリフレッシ
ュコマンドAREFおよびセルフリフレッシュコマンド
SREF、および特に動作指示を行なわないノーオペレ
ーションコマンドNOPを生成する。
【0083】プリチャージコマンドPREは、/RAS
=/CAS=Lレベル、/WE=Hレベルの場合に、対
応する論理ゲートの出力がHレベルに設定されることに
応じて生成される。同様に、モードセットコマンドMS
Tは、/RAS=/CAS=定=Lレベルの場合に生成
され、オートリフレッシュコマンドAREFは、/RA
S=/WE=Lレベル、/CAS=Hレベルの場合に生
成される。セルフリフレッシュコマンドSREFは、/
RES=/CAS=Hレベル、/WE=Lレベルの場合
に生成され、ノーオペレーションコマンドNOPは、/
RAS=/CAS=/WE=Hレベルの場合に生成され
る。
【0084】読出動作を指示するライトコマンド、書込
動作を指示するリードコマンドおよび行選択動作の活性
化を指示するアクティベートコマンドについては、スペ
アモード認識ノード18の電位レベルVsmに応じて、
スペアメモリセルを対象とするコマンドと正規メモリセ
ルを対象とするコマンドとが独立に生成される。
【0085】たとえば、コマンド制御信号について、/
RAS=/WE=Hレベル、/CAS=Lレベルである
場合には読出動作が指示されるが、VsmがHレベルで
ある場合には、スペアメモリセルを対象とするリードコ
マンドSRDが生成され、VsmがLレベルであるとき
には、正規メモリセルを対象とするリードコマンドNR
Dが生成される。
【0086】同様に、コマンド制御信号について/RA
S=Hレベル、/CAS=/WE=Lレベルである場合
には、スペアモード認識ノード18に印加された電位レ
ベルVsmに応じて、正規メモリセルを対象とするライ
トコマンドNWTおよびスペアメモリセルを対象とする
ライトコマンドSWTのいずれか一方が生成される。ア
クティベートコマンドACTに関しても同様に、コマン
ド制御信号の同一信号レベルの組合せ(/RAS=Lレ
ベル、/CAS=/WE=Hレベル)に対応して、スペ
アモード認識ノード18の電位レベルVsmに応じて、
正規メモリセルを対象とする行選択動作を開始するため
のノーマルアクティベートコマンドNACTおよびスペ
アメモリセルを対象とする行選択動作を開始するための
スペアアクティベートコマンドSACTのいずれか一方
が生成される。
【0087】このような構成とすることにより、クロッ
ク信号の各立上がりタイミングにおいて、コマンド制御
信号の信号レベルおよびスペアモード認識ノード18の
電位レベルVsmに応じて、同一のサイクルクロック内
において正規メモリセルを対象とするコマンドとスペア
メモリセルを対象とするコマンドとを選択的に生成する
ことができる。このため、図13で示したように、アク
ティベートコマンド、リードコマンドおよびライトコマ
ンドの対象を、正規メモリセルとスペアメモリセルとの
間で切換える場合において、1クロックサイクルを要す
るモードセットシーケンスを実行して、モードテーブル
の内容を変更する必要がない。
【0088】図7は、コマンドデコーダ25によるスペ
アメモリセルの動作テストを説明するタイミングチャー
トである。
【0089】図7を参照して、コマンドデコーダ25
は、クロック信号CLKの各活性化タイミング(Lレベ
ル→Hレベルへの遷移タイミング)に相当する時刻T0
〜T5において、コマンド制御信号/RAS,/CA
S,/WEおよびスペアモード認識ノード18に印加さ
れた電位レベルVsmとを取込んで、これに応じたコマ
ンドを生成する。
【0090】時刻T0〜T5のそれぞれにおいて、コマ
ンド制御信号の信号レベルの組合せは、読出動作を指示
するために/RAS=/WE=Hレベル、/CAS=L
レベルに設定されているものとする。
【0091】時刻T0およびT1のクロック信号の活性
化タイミングにおいては、スペアモード認識ノード18
に印加される電位Vsmは、Lレベルであるので、正規
メモリセルを対象とするリードコマンドNRD1および
NRD2がそれぞれ生成される。
【0092】時刻T1およびT2の間に、スペアモード
認識ノード18の電位レベルVsmをLレベルからHレ
ベルに変化させることによって、時刻T2において、ス
ペアメモリセルを対象とするリードコマンドSRD3を
直ちに生成することができる。すなわち、図14で説明
したように、スペアメモリセルをテスト対象とするため
に、モードセットコマンドMSTを生成してモードセッ
トシーケンスを実行するために1クロックサイクルを要
することがない。したがって、正規メモリセルを対象と
するリードコマンドNRD2とスペアメモリセルを対象
とするリードコマンドSRD3とを連続的に生成するこ
とができる。
【0093】時刻T3においても、VsmはHレベルに
設定されているため、スペアメモリセルを対象とするリ
ードコマンドSRD4が生成される。時刻T3とT4と
の間に再びVsmがHレベルからLレベルに変化する
と、時刻T4において、正規メモリセルを対象とするリ
ードコマンドNRD5が生成される。
【0094】その後、時刻T4とT5との間に、Vsm
をLレベルからHレベルに変化させると、時刻T5にお
いては、再びスペアメモリセルを対象とするリードコマ
ンドSRD6を生成することができる。
【0095】これらのリードコマンドに対応して、CA
Sレイテンシに相当する1クロックサイクル経過後の、
時刻T1〜T5において、スペアメモリセルからの読出
データと正規メモリセルからの読出データとを混在させ
て、連続的に出力できる。
【0096】したがって、実施の形態2に従うコマンド
デコーダによれば、隣接ワード線間の干渉試験等を正規
メモリセル内のみでなく、正規メモリセルとスペアメモ
リセルの間においても実行することが可能となる。ま
た、物理的に連続しているメモリセル行に対して、一定
間隔で連続的にアクセスする試験も実行可能であり、ス
ペアメモリセルに対する動作テスト内容を向上させるこ
とができる。
【0097】[実施の形態3]実施の形態3において
は、スペアメモリセルに対するリフレッシュ動作につい
て説明する。
【0098】図8は、実施の形態3に従うリフレッシュ
アドレス信号の生成を説明するブロック図である。
【0099】図8を参照して、実施の形態3に従う半導
体記憶装置は、図1に示した半導体記憶装置10の構成
に加えて、リフレッシュアドレス生成回路100、セレ
クタ27、およびスペアワード線選択回路29をさらに
備える。
【0100】アドレスバッファ22は、アドレス信号入
力ノード14に入力されたアドレス信号A0〜A10に
基づいて、アドレスビットA<0>〜A<10>を生成
する。スペアワード線選択回路29は、アドレスビット
A<11>を生成する。アドレスビットA<11>は、
行選択の対象が正規ワード線とスペアワード線とのいず
れであるかを指定するためのビットである。アドレスビ
ットA<0>〜A<10>は、正規ワード線(211本)
およびスペアワード線のそれぞれのうちから1本ずつを
選択するためのビットである。以下においては、アドレ
スビットA<0>〜A<11>を総括して内部アドレス
信号とも称する。
【0101】スペアワード線選択回路29は、制御信号
TSLの信号レベルに応じて、アドレスビットA<11
>の信号レベルを、HレベルおよびLレベルのいずれか
一方に設定する。制御信号TSLは、スペアワード線を
強制的に行選択の対象とするための信号であり、たとえ
ばスペアメモリセルを対象とするアクティベートコマン
ドNACT、リードコマンドSRD、およびライトコマ
ンドSWDに対応して活性化される信号とすればよい。
【0102】スペアワード線選択回路29は、アドレス
ビットA<11>のHレベルに相当する電源電位Vcc
とLレベルに対応する接地電位Vssとの間に直列に結
合されるP型MOSトランジスタQ10およびN型MO
SトランジスタQ15とを有する。スペアワード線選択
回路29は、さらに制御信号TSLの信号レベルを反転
するインバータIV10を有する。インバータIV10
の出力は、トランジスタQ10およびQ15のゲートに
入力される。結合されたトランジスタQ10およびトラ
ンジスタQ15のドレインに、アドレスビットA<11
>が生成される。
【0103】制御信号TSLが活性状態(Hレベル)で
ある場合においては、アドレスビットA<11>の信号
レベルはLレベルに設定され、スペアワード線SWL0
〜SWL7のいずれか1本が外部から入力されるアドレ
ス信号A0〜A10に応答して選択される。一方、制御
信号TSLが非活性状態(Lレベル)である場合におい
ては、アドレスビットA<11>の信号レベルはHレベ
ルに設定され、スペアワード線は選択されず正規のワー
ド線WL0〜WL2047うちのいずれか1本が、外部
から入力されるアドレス信号A0〜A10の組合せに応
じて選択される。
【0104】リフレッシュアドレス生成回路100は、
リフレッシュ活性化信号ARFに応答して動作する。リ
フレッシュ活性化信号ARFは、セルフリフレッシュコ
マンドSREFもしくはオートリフレッシュコマンドA
REFの生成に応答して活性化される。
【0105】リフレッシュアドレス生成回路100は、
半導体記憶装置内部で、リフレッシュ動作の対象となる
ワード線を指定するための12ビットのリフレッシュア
ドレス信号RFA<0>〜RFA<11>を出力する。
なお、以下においては、リフレッシュアドレス信号RF
A<0>〜RFA<11>のような複数ビットの信号
を、総括的にRFA<0:11>のようにも表記するも
のとする。
【0106】リフレッシュアドレス信号RFA<0:1
1>には、一定周期でカウントアップされるカウント値
が反映される。リフレッシュアドレス信号のビット数
を、外部から入力されるアドレス信号A0〜A10のビ
ット数よりも1ビット多く設定することによって、スペ
アメモリセルに対応して配置されるスペアワード線SW
L0〜SWL7をも自動的なリフレッシュ動作の対象と
することができる。
【0107】リフレッシュアドレス生成回路100は、
リフレッシュ活性化信号ARFに応答してカウントアッ
プ動作を開始するが、スペアメモリセルを対象とするテ
ストモード時以外においては、最上位ビットRFA<1
1>の信号レベルをLレベルに固定することとすれば、
リフレッシュアドレス生成回路100を、テストモード
時と通常動作時とにおいて共通に使用できる。
【0108】この際において、スペアメモリセルを対象
とするテストモード時であるかどうかどうかの判断は、
たとえば実施の形態2で説明したスペアモード認識ノー
ド18の電位レベルVsmによって行なうことができ
る。
【0109】図8においては、デコード回路30および
WL/CSLドライバ40のうち、行選択に関連する機
能を抜き出して行デコーダ35およびWLドライバ45
が示される。WLドライバ45は、正規ワード線WL0
〜WL2047およびスペアワード線SWL0〜SWL
7を行デコーダ35のデコード結果に基づいて選択的に
活性化する。
【0110】セレクタ27は、リフレッシュ活性化信号
ARFの信号レベルに応じて、リフレッシュアドレス生
成回路100が生成するリフレッシュアドレス信号RF
A<0:11>と、アドレスバッファ11およびスペア
ワード線選択回路29が生成する内部アドレス信号A<
0:11>のいずれか一方を、ロウアドレス信号RA<
0>〜RA<11>として出力する。ロウアドレス信号
RA<0:11>は、行デコーダ35に伝達される。
【0111】図9は、リフレッシュアドレス生成回路1
00の構成を示すブロック図である。
【0112】図9を参照して、リフレッシュアドレス生
成回路100は、リフレッシュクロックRCLKを生成
するクロック発生器110と、リフレッシュクロックR
CLKの活性化タイミングに応答してカウント値をカウ
ントアップして、カウント値を反映したリフレッシュア
ドレス信号RAF<0:11>を出力するカウント回路
120と、カウンタ回路120のカウント値をリセット
するためのリセット回路130と、正規ワード線本数と
スペアワード線本数との合計値に相当するデータを保持
するためのレジスタ回路150と、レジスタ回路150
の保持データとリフレッシュアドレス信号RFA<0:
11>とを比較するための一致比較回路140−0〜1
40−11と、一致比較回路140−0〜140−11
の比較結果に応じて、リセット回路130を活性化する
ための一致検出信号MCAを生成する一致検出回路16
0とを含む。
【0113】図10は、カウンタ回路120の動作を説
明するためのタイミングチャートである。
【0114】図10を参照して、クロック発生回路11
0が生成するリフレッシュクロックRCLKは、一定間
隔で活性状態(Hレベル)と非活性状態(Lレベル)と
を周期的に繰返す。
【0115】リフレッシュクロックRCLKの各活性化
タイミング(Lレベル→Hレベルへの遷移タイミング)
に応答してカウント値は1ずつインクリメントされ、対
応するカウント信号であるリフレッシュアドレス信号R
FA<0:11>の各ビットの値も変化する。
【0116】リフレッシュアドレス信号の最下位ビット
RFA<0>は、クロック信号CLKの各活性化タイミ
ングに応答して、交互に活性化(Lレベル→Hレベル)
もしくは非活性化(Hレベル→Lレベル)される。リフ
レッシュアドレス信号のうちのRFA<2>およびRF
A<3>は、クロック信号CLKが2回および4回それ
ぞれ活性化されるごとに1回の割合で、交互に活性化も
しくは非活性化される。このようにして、リフレッシュ
アドレス信号の第iビットRFA<i>(i:0〜11
の整数)は、クロック信号CLKが2i回活性化される
ごとに、交互に活性化もしくは非活性化される。
【0117】このように、リフレッシュクロックRCL
Kの各活性化タイミングに応答して、リフレッシュアド
レス信号RFA<0:11>が1つずつカウントアップ
される。時刻Txにおいて、リフレッシュクロックが合
計212回活性化されると、カウント値はフルに達し、リ
フレッシュアドレス信号RFA<0:11>の全ビット
はHレベルに設定される。時刻Txの次のリフレッシュ
クロックRCLK活性化タイミングである時刻Tyにお
いて、カウント値は初期化されて、リフレッシュアドレ
ス信号RFA<0:11>の全ビットは、初期状態であ
るLレベルに復帰する。以降において、リフレッシュク
ロックRCLKの各活性化タイミングに応答して、リフ
レッシュアドレス信号RFA<0:11>が再びカウン
トアップされる。
【0118】再び図9を参照して、レジスタ回路150
は、正規ワード線およびスペアワード線の本数の合計、
すなわち本発明の実施の形態においては、2048+8
=2056のカウント値に対応するリフレッシュアドレ
ス信号RFA<0:11>の各ビットの値を保持する。
【0119】一致比較回路140−0〜140−11
は、リフレッシュアドレス信号RFA<0:11>のそ
れぞれのビットに対応して設けられ、レジスタ回路15
0に保持される12ビットデータとリフレッシュアドレ
ス信号RFA<0:11>との対応するビット同士の間
で一致比較を行なう。
【0120】一致比較回路140−0〜140−11
は、対応するビット同士の一致比較結果が反映された検
出信号MC<0>〜MC<11>をそれぞれ出力する。
検出信号MC<0>〜MC<11>の各々は、対応する
一致検出回路において、比較の対象となるビット同士の
信号レベルが一致した場合にHレベルに活性化される。
【0121】一致検出回路160は、検出信号MC<0
>〜MC<11>を受けて、12個の検出信号すべてが
活性化された場合に、一致検出信号MCAをHレベルに
活性化する。
【0122】たとえば、一致比較回路140−0〜14
0−11は、2入力のAND回路で構成でき、一致検出
回路160は、12入力のAND回路で構成できる。
【0123】リセット回路130は、一致検出信号MC
Aが活性化された場合、すなわちカウンタ回路によるリ
フレッシュアドレス信号RFA<0:11>が示すカウ
ント値が、正規ワード線とスペアワード線との合計本数
に達した場合において、リセット信号RSを活性化す
る。リセット回路130は、リフレッシュクロックRC
LKの非活性化タイミング(Hレベル→Lレベルへの状
態遷移タイミング)に応答して動作し、一致検出信号M
CAを入力とするCKフリップフロップで構成すればよ
い。
【0124】カウンタ回路120は、リセット端子RS
Tに入力されるリセット信号RSの活性化に応答して、
カウント値を初期化するためにリフレッシュアドレス信
号RFA<0:11>の全ビットの信号レベルをLレベ
ルにリセットする。
【0125】なお、スペアワード線をリフレッシュの対
象外とするための制御信号NRFをさらに設け、リフレ
ッシュ生成回路100が、制御信号NRFが活性状態で
ある場合において、リフレッシュアドレス信号のうちの
1ビットRFA<11>の信号レベルを常にLレベルに
固定する信号レベル固定回路125をさらに含む構成と
すれば、リフレッシュ生成回路100をスペアワード線
のリフレッシュを実行しない通常動作時においても共有
することができる。この制御信号NRFは、たとえば通
常動作時において、セルフリフレッシュコマンドSRE
FもしくはオートリフレッシュコマンドAREFの生成
に応答して活性化すればよい。
【0126】図11は、リフレッシュアドレス生成回路
100の動作を説明するタイミングチャートである。
【0127】図11を参照して、時刻T0のリフレッシ
ュクロックRCLKの活性化タイミングから、リフレッ
シュアドレス信号RFA<0:11>のカウントアップ
が開始される。リフレッシュアドレス信号の各ビットの
状態の遷移に応じて、一致比較回路140−0〜140
−11が出力する検出信号MC<0>〜MC<11>の
信号レベルは適宜変化していくが、リフレッシュアドレ
ス信号RFA<0:11>で示されるカウント値が、レ
ジスタ回路150に保持される正規ワード線とスペアワ
ード線との総本数に相当する所定値に達するまでは、検
出信号MC<0>〜MC<11>のすべての信号レベル
がHレベルになることはない。
【0128】図10に示したカウント値がフルに達する
時刻Txより前の時刻Taにおいて、リフレッシュアド
レス信号RFA<0:11>で示されるカウント値がす
なわち正規ワード線とスペアワード線との合計数に達し
た場合には、リフレッシュアドレス信号RFA<0:1
1>とレジスタ回路150の12ビットの保持データと
の間で各ビットの信号レベルが一致し、一致比較回路1
40−0〜140−11がそれぞれ出力する検出信号M
C<0>〜MC<11>がすべてHレベルに設定され
る。これにより、一致検出信号MCAが活性化(Hレベ
ル)される。
【0129】これに応じて、時刻Tbにおけるリフレッ
シュクロックRCLKの非活性化タイミング(Hレベル
→Lレベルへの遷移タイミング)に応答して、リセット
回路130は、リセット信号RSを活性化(Lレベル→
Hレベル)する。
【0130】これに対応して、次のリフレッシュクロッ
クRCLKの活性化タイミングである時刻Tcにおい
て、リフレッシュアドレス信号RFA<0:11>はリ
セットされ、全ビットの信号レベルはにLレベルに設定
される。リフレッシュアドレス信号RFA<0:11>
がリセットされると、レジスタ回路150の保持データ
とは一致しなくなるので、検出信号MC<0>〜MC<
11>のうちの少なくとも1個が非活性状態(Lレベ
ル)となり、一致検出信号MCAは再び非活性化(Hレ
ベル→Lレベル)される。
【0131】これに応じて、時刻Tdのリフレッシュク
ロックRCLKの非活性化タイミング(Hレベル→Lレ
ベル)に応答して、リセット回路130は、リセット信
号RSを再び非活性状態(Lレベル)に復帰させる。こ
れに応じて、次のリフレッシュクロックRCLKの活性
化タイミングより、リフレッシュアドレス信号RFA<
0:11>のカウントアップが再開される。
【0132】このような構成とすることにより、リフレ
ッシュアドレス生成回路100は、テストモード時にお
いて、スペアワード線SWL0〜SWL7をもリフレッ
シュ動作の対象としてテストすることができる。
【0133】さらに、レジスタ回路150を設けて、正
規ワード線およびスペアワード線の総本数に対応する所
定値を保持するので、スペアワード線を選択するために
リフレッシュアドレス信号のビット数を外部から入力さ
れるアドレス信号より1ビット増やす一方で、無駄なカ
ウントアップ動作を省略することができる。
【0134】また、既に述べたように、リフレッシュア
ドレス信号のうちのスペアワード線に対応するビットR
FA<11>の信号レベルを、スペアメモリセルのテス
トモード時以外においては固定的にLレベルとすること
によって、リフレッシュアドレス生成回路100を、ス
ペアメモリセルのテストモード時以外についても使用す
ることが可能となる。
【0135】今回開示された実施の形態はすべての点で
例示であって制限的なものではないと考えられるべきで
ある。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求
の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味お
よび範囲内でのすべての変更が含まれることが意図され
る。
【0136】
【発明の効果】請求項1記載の半導体記憶装置は、テス
トモード時において、スペアデータ入出力線によって伝
達される読出データのみを選択的に出力できるので、ス
ペアメモリセルに対する試験時間を短縮することができ
る。
【0137】請求項2および3記載の半導体記憶装置
は、請求項1記載の半導体記憶装置が奏する効果に加え
て、第2のテスト出力選択回路においてスペアデータ入
出力線の選択を実行する必要がないので、回路構成を簡
略化できる。
【0138】請求項4および5記載の半導体記憶装置
は、モードを切換えるためのクロックサイクルを要する
ことなく、動作テストの対象を正規メモリセルアレイと
スペアメモリセルアレイとの間で切換えることができ
る。したがって、テストモード時において、正規メモリ
セルアレイおよびスペアメモリセルアレイに対する連続
的なアクセスを実行できる。
【0139】請求項6記載の半導体記憶装置は、正規ワ
ード線の本数に対応するビット数よりも1ビット多いリ
フレッシュアドレスに応じてリフレッシュ動作を実行す
るので、テストモード時において、正規ワード線および
スペアワード線に対するリフレッシュ動作試験を一括し
て実行できる。これにより、スペアメモリセルに対する
試験を効率的に実行できる。
【0140】請求項7記載の半導体記憶装置は、請求項
5記載の半導体記憶装置が奏する効果に加えて、リフレ
シュアドレス生成回路を通常動作時においても適用でき
る。
【0141】請求項8および9記載の半導体記憶装置
は、請求項5記載の半導体記憶装置が奏する効果に加え
て、リフレッシュアドレスの無駄なカウントアップ動作
を回避して、テストモード時におけるリフレッシュ動作
試験を効率的に短時間で実行できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施の形態1に従う半導体記憶装置
10の構成を示すブロック図である。
【図2】 メモリセルアレイ50の構成を示すブロック
図である。
【図3】 メモリマットの構成を示すブロック図であ
る。
【図4】 基本アレイユニットの構成を示すブロック図
である。
【図5】 テスト出力データ選択回路70の構成を示す
ブロック図である。
【図6】 本発明の実施の形態2に従うコマンドデコー
ダ25の構成を示す回路図である。
【図7】 コマンドデコーダ25によるスペアメモリセ
ルの動作テストを説明するタイミングチャートである。
【図8】 実施の形態3に従うリフレッシュアドレス信
号の生成を説明するブロック図である。
【図9】 リフレッシュアドレス生成回路100の構成
を示すブロック図である。
【図10】 カウンタ回路120の動作を説明するため
のタイミングチャートである。
【図11】 リフレッシュアドレス生成回路100の動
作を説明するタイミングチャートである。
【図12】 テスト動作時における従来の出力データ選
択を説明するブロック図である。
【図13】 従来のコマンドデコードを説明するブロッ
ク図である。
【図14】 従来のコマンドデコードに基づくスペアメ
モリセルの動作テストを説明するタイミングチャートで
ある。
【符号の説明】
12 コマンド制御信号入力ノード、14 アドレス信
号入力ノード、16テストデータ出力ノード、18 ス
ペアモード認識ノード、20 コントロール回路、25
コマンドデコーダ、27 セレクタ、30 デコード
回路、35行デコーダ、40 WL/CSLドライブ回
路、45 WLドライバ、50 メモリセルアレイ、7
0 テスト出力データ選択回路、72,74,75 セ
レクタ回路、110 クロック発生器、120 カウン
タ回路、130 リセット回路、140−0〜140−
11 一致比較回路、150 レジスタ回路、160一
致検出回路、DB データバス、GIO(0)〜GIO
(255) 正規グローバルデータ入出力線、MAU
基本アレイユニット、MT〜MT7 メモリマット、S
GIO(0)〜SGIO(7) スペアグローバルデー
タ入出力線、SWL0〜SWL7 スペアワード線、W
L0〜WL2047 正規ワード線。
フロントページの続き Fターム(参考) 5B018 GA03 MA40 NA02 QA13 5B024 AA15 BA13 BA20 BA29 CA16 CA17 DA08 DA10 DA20 EA02 5L106 AA01 AA15 CC01 CC11 CC17 EE02 EE06 GG03

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 テストモード時において、1回の読出動
    作に対応してN個(N:自然数)のデータを出力する半
    導体記憶装置であって、 第1の方向に沿って複数のメモリマットに分割されるメ
    モリセルアレイを備え、 各前記メモリマットは、 前記第1の方向および第2の方向に沿って行列状に配置
    された複数の正規メモリセルと、 前記複数の正規メモリセルと前記第1の方向に隣接して
    配置される複数のスペアメモリセルとを含み、 前記第2の方向に沿って配置される、前記複数の正規メ
    モリセルに対する入出力データを伝達するための複数の
    正規データ入出力線と、 前記第2の方向に沿って配置される、前記複数のスペア
    メモリセルに対する入出力データを伝達するための複数
    のスペアデータ入出力線と、 前記テストモード時において、前記複数の正規データ入
    出力線のうちのN本によって伝達されるN個のデータを
    出力する第1のテスト出力選択回路と、 前記テストモード時において、前記複数のスペアデータ
    入出力線のうちのN本によって伝達されるN個のデータ
    を出力する第2のテスト出力選択回路と、 前記テストモード時におけるテスト対象が前記複数の正
    規メモリセルおよび前記複数のスペアメモリセルのいず
    れであるかに応じて、前記第1および第2のテスト出力
    選択回路の出力のいずれか一方を選択的に出力する第3
    のテスト出力選択回路とを備える、半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 前記複数のスペアデータ入出力線は、前
    記メモリセルアレイ全体でN本設けられる、請求項1記
    載の半導体記憶装置。
  3. 【請求項3】 前記メモリセルアレイは、N個の前記メ
    モリマットに分割され、 前記複数のスペアデータ入出力線は、各前記メモリマッ
    トごとに1本ずつ設けられる、請求項1記載の半導体記
    憶装置。
  4. 【請求項4】 クロック信号を受ける第1の入力ノード
    と、 複数の制御信号を受ける第2の入力ノードと、 前記テストモード時において、テスト対象が前記複数の
    正規メモリセルおよび前記複数のスペアメモリセルのい
    ずれであるかを示すための電圧レベルが印加される第3
    の入力ノードと、 行列状に配置された複数の正規メモリセルおよび複数の
    スペアメモリセルを有するメモリセルアレイと、 前記クロック信号に応答したタイミングで前記第2およ
    び第3の入力ノードに対する入力を取込み、前記複数の
    制御信号の信号レベルの組合わせおよび前記第3の入力
    ノードの電圧レベルに応じて、前記メモリセルアレイに
    対する動作コマンドを生成するコマンドデコード回路と
    を備え、 前記コマンドデコード回路は、前記メモリセルアレイに
    対して読出動作、書込動作、および行選択活性化動作の
    うちの1つが指示される場合には、対象が前記複数の正
    規メモリセルおよび前記複数のスペアメモリセルのいず
    れであるかに応じて、独立した前記動作コマンドを生成
    する、半導体記憶装置。
  5. 【請求項5】 前記コマンドデコード回路は、前記複数
    の制御信号の信号レベルの組合わせに応じて、前記読出
    動作、書込動作、および行選択活性化動作読出動作のう
    ちの1つが指示される場合には、前記第3の入力ノード
    の電圧レベルに応じて、前記複数の正規メモリセルを対
    象とする前記動作コマンドと、前記複数のスペアメモリ
    セルを対象とする前記動作コマンドとのうちのいずれか
    一方を生成する、請求項4記載の半導体記憶装置。
  6. 【請求項6】 行列状に配置された複数の正規メモリセ
    ルおよび複数のスペアメモリセルを有するメモリセルア
    レイと、 前記複数の正規メモリセルの行に対応してそれぞれ配置
    されるL本(L:自然数Mを用いて2M-1<L≦2Mで表
    わされる自然数)の正規ワード線と、 前記複数のスペアメモリセルの行に対応してそれぞれ配
    置されるN本(L:2 M未満の自然数)のスペアワード
    線と、 一定周期でカウントアップされるカウント値に対応する
    (M+1)ビットのリフレッシュアドレス信号を生成す
    るリフレッシュアドレス生成回路と、前記L本の正規ワ
    ード線およびN本のスペアワード線のうちの少なくとも
    1本を選択的に活性化するワード線駆動回路とを備え、 前記ワード線駆動回路は、前記テストモード時において
    リフレッシュ動作が指示された場合には、前記(M+
    1)ビットのリフレッシュアドレス信号に基づいて動作
    する、半導体記憶装置。
  7. 【請求項7】 前記リフレッシュアドレス信号のうちの
    所定の1ビットの信号レベルは、前記L本の正規ワード
    線を活性化の対象とする場合および前記N本のスペアワ
    ード線を活性化の対象とする場合において、第1および
    第2の信号レベルにそれぞれ設定され、 前記リフレッシュアドレス生成回路は、通常動作時にお
    いて、前記リフレッシュアドレス信号の前記所定の1ビ
    ットの信号レベルを前記第1の信号レベルに固定する電
    位固定回路を含む、請求項6記載の半導体記憶装置。
  8. 【請求項8】 前記リフレッシュアドレス生成回路は、 第1の状態から第2の状態への第1の状態遷移と前記第
    2の状態から前記第1の状態への第2の状態遷移とを前
    記一定周期で繰り返すリフレッシュクロックを生成する
    クロック発生部と、 前記リフレッシュクロックの前記第1および第2の状態
    遷移の一方に応答して、前記(M+1)ビットのリフレ
    ッシュアドレス信号に反映される前記カウント値をカウ
    ントアップするカウンタ回路と、 前記正規ワード線およびスペアワード線の本数の総和に
    相当する(L+N)をカウント上限値として保持するレ
    ジスタ回路と、 前記カウント値が前記カウント上限値と一致する場合
    に、前記カウント値を強制的に初期値に復帰させるため
    のリセット回路とを含む、請求項6記載の半導体記憶装
    置。
  9. 【請求項9】 前記レジスタ回路は、前記カウント上限
    値に対応する前記リフレッシュアドレス信号の各ビット
    の値を保持し、 前記リフレッシュアドレス生成回路は、 前記リフレッシュアドレス信号の各ビットに対応して設
    けられ、前記リフレッシュアドレス信号と前記レジスタ
    回路の保持データとの間において対応するビット同士の
    信号レベルの一致比較結果を出力する一致比較部と、 全ての前記一致比較部において、前記対応するビット同
    士の信号レベルが一致する場合にのみ一致検出信号を活
    性化する一致検出部とをさらに含み、 前記リセット回路は、前記リフレッシュクロックの前記
    第1および第2の状態遷移の他の一方に応答して、前記
    一致検出信号の信号レベルをリセット信号に反映し、 前記カウンタ回路は、前記リセット信号の活性化に応答
    して、前記リフレッシュアドレス信号の全ビットを前記
    初期値に対応する所定の信号レベルに設定する、請求項
    8記載の半導体記憶装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009008079A1 (ja) * 2007-07-11 2009-01-15 Fujitsu Microelectronics Limited 半導体記憶装置及びシステム
JP2009157957A (ja) * 2007-12-25 2009-07-16 Elpida Memory Inc 半導体記憶装置、および冗長領域のリフレッシュ方法

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100319886B1 (ko) * 1999-05-04 2002-01-10 윤종용 외부 어드레스에 의해 자동 리프레쉬 동작이 수행될 수 있는 테스트 모드를 갖는 동기식 디램 및 자동 리프레쉬 방법
JP2003085997A (ja) * 2001-09-07 2003-03-20 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
JP2004296040A (ja) * 2003-03-28 2004-10-21 Renesas Technology Corp 半導体記憶装置
JP2005174379A (ja) * 2003-12-08 2005-06-30 Toshiba Corp 半導体集積回路及びアドレスデータ転送方法
US8020053B2 (en) * 2008-10-29 2011-09-13 Hewlett-Packard Development Company, L.P. On-line memory testing
KR101559549B1 (ko) * 2008-12-08 2015-10-13 삼성전자주식회사 모바일 SoC 및 모바일 단말기
US8786449B1 (en) * 2009-12-16 2014-07-22 Applied Micro Circuits Corporation System-on-chip with thermal management core
US10957376B1 (en) * 2019-12-18 2021-03-23 Winbond Electronics Corp. Refresh testing circuit and method

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3133063B2 (ja) * 1990-05-10 2001-02-05 シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト 並列検査可能性および冗長方法を有する集積半導体メモリ
KR0133832B1 (ko) 1993-12-28 1998-04-23 김주용 리던던시 로오/컬럼 프리테스트 장치
JP2629645B2 (ja) * 1995-04-20 1997-07-09 日本電気株式会社 半導体記憶装置
JP3865828B2 (ja) 1995-11-28 2007-01-10 株式会社ルネサステクノロジ 半導体記憶装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009008079A1 (ja) * 2007-07-11 2009-01-15 Fujitsu Microelectronics Limited 半導体記憶装置及びシステム
JPWO2009008079A1 (ja) * 2007-07-11 2010-09-02 富士通マイクロエレクトロニクス株式会社 半導体記憶装置及びシステム
US8184493B2 (en) 2007-07-11 2012-05-22 Fujitsu Semiconductor Limited Semiconductor memory device and system
JP5104864B2 (ja) * 2007-07-11 2012-12-19 富士通セミコンダクター株式会社 半導体記憶装置及びシステム
JP2009157957A (ja) * 2007-12-25 2009-07-16 Elpida Memory Inc 半導体記憶装置、および冗長領域のリフレッシュ方法

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