JP2001223325A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
の接続状態を目視確認して容易に検査し、また半導体装
置の部品点数を減らして構成を簡略化することにより、
積層した絶縁基板間を簡便にかつ確実に導通接続するこ
とができるようにする。 【解決手段】 電子部品12が搭載された複数の絶縁基
板10を順次積層してなる半導体装置において、各絶縁
基板10の周縁部から突出し、それぞれ所定形状に曲げ
て形成する1の導電性配線11と、積層した各絶縁基板
10のうちの最上層または最下層の周縁部から突出し、
最下層または最上層の絶縁基板10まで延在して形成す
る2の導電性配線11とを備え、1および2の絶縁基板
10を周縁部で導通接続するようにした。
Description
された複数の絶縁基板を順次積層してなる半導体装置に
関し、特に各絶縁基板の周縁部にて曲げられる導電性配
線を、各絶縁基板のうちの最上層から最下層または最下
層から最上層まで延在する導電性配線によって、当該絶
縁基板の周縁部で導通接続してなる半導体装置に適用し
て好適である。
小傾向を強め、高機能集積化および信号処理の高速化が
進んでいる。これに伴って半導体装置の形状も、例えば
QFP(Quad Flat Package)等のようなパッケージの
側面から導電性配線であるリード端子をガルウィング状
に引き出した形状から、例えばBGA(Ball Grid Arra
y)等のようなパッケージの下面側に金バンプ等を用い
て電極を形成した形状にすることにより、このような半
導体装置をマザー基板に実装する際の半導体装置の占有
面積を格段的に小型化し得る形状に移行してきている。
た半導体装置として、例えばセラミックスからなる絶縁
基板としてのリジッド基板等に電子部品である半導体チ
ップをフリップチップ実装法などの手法を用いて実装し
てなるCSP(Chip Size Package)等が注目を集めて
いる。
ような従来の半導体装置によると、パッケージを小型化
することにより、マザー基板上におけるこのような半導
体装置1つ分の占有面積を小さくすることはできるもの
の、近年のエレクトロニクス機器への新機能追加に伴
い、マザー基板上に実装される半導体装置の実装点数が
増加し続けていることから、これに対応させてマザー基
板が大型化する問題があった。
が大きくなるばかりでなく、主要な半導体装置から他の
半導体装置までのリード端子の長さが極めて長くなった
り、これに伴い信号の遅延、信号の歪み、消費電力の増
大などを招き、所定の電気的性能を得ることが困難な不
都合が生じる結果となる。特に、回路システムが、高速
化、大容量化するメディア機器にあっては、このリード
端子長の短縮は重要な課題であった。
も、マザー基板上における半導体装置1つ分の実装領域
に実装し得る半導体装置の点数は1つであるため、逆に
このマザー基板上に実装し得る半導体装置の点数を限定
するおそれもあった。
従来、例えば特開平10−223683号公報、実開昭63−6115
0号公報および特開平7−106509号公報等に開示されるよ
うに、半導体チップを搭載した絶縁フィルムや絶縁性シ
ートに、配線、はんだボール、インナーリード、バイア
ホールおよびスルーホール等を設け、この絶縁フィルム
や絶縁性シートを順次積層して、その絶縁フィルムや絶
縁性シート間を配線、はんだボール、インナーリード、
バイアホールおよびスルーホール等を介して導通接続す
るものが提案されていた。
性シート間の接続状態を目視確認することが困難であ
り、また積層した絶縁フィルムや絶縁性シートの一部ま
たは全体を樹脂で封止する必要があることから、一部に
不良が生じても修理するのが困難となり、未だ不十分な
問題があった。
るように、半導体メモリを搭載したリードレスのチップ
キャリアを、実装ケースの中に順次絶縁シートを介して
積層し、これら積層したチップキャリアを、その側面に
形成される端面スルーホール電極と、実装ケース内の信
号線とを接触するようにして、導通接続するものも提案
されていた。
ア間の接続状態を目視確認することが困難であり、また
各チップキャリア同士を接続するために、実装ケース
や、その内部の信号線等が別途必要となる分、部品点数
が増えて構成が煩雑となり、未だ不十分な問題があっ
た。
装置において、積層した半導体装置間の接続状態を目視
確認して容易に検査し、また半導体装置の部品点数を減
らして構成を簡略化することにより、積層した絶縁基板
間を簡便にかつ確実に導通接続することにある。
子部品の電極との接続の際に、その導電性配線が曲がる
のを防止することにある。
の絶縁基板を安定して積層することにあり、第4の課題
は、それら積層した絶縁基板が、導通接続前に崩れるの
を未然に防止することにある。
けるのを防止することにあり、第6の課題は、電子部品
が搭載された複数の絶縁基板を積層する際、これら絶縁
基板の位置決めを簡便にすることにある。
じる内部ひずみに起因して、各絶縁基板における隅部の
導電性配線間に発生する応力集中に、耐え得ることにあ
る。
く、位置決め用のアライメントマークを形成することに
あり、第9の課題は、その位置決め用のアライメントマ
ークを簡単に形成することにある。
載の発明は、上述した第1の課題を達成すべく、電子部
品が搭載された複数の絶縁基板を順次積層してなる半導
体装置において、各絶縁基板の周縁部から突出し、それ
ぞれ所定形状に曲げて形成する1の導電性配線と、積層
した各絶縁基板のうちの最上層または最下層の周縁部か
ら突出し、最下層または最上層の絶縁基板まで延在して
形成する2の導電性配線とを備え、1および2の絶縁基
板を周縁部で導通接続してなる、ことを特徴とする。
課題を達成すべく、電子部品が、各絶縁基板の一面上に
それぞれフリップチップ実装してなる、ことを特徴とす
る。
課題を達成すべく、積層する複数の絶縁基板を、順次隣
り合う下層の電子部品上に載置してなる、ことを特徴と
する。
課題を達成すべく、隣り合う絶縁基板と電子部品とが接
着剤を介在してなる、ことを特徴とする。
課題を達成すべく、1および2の導電性配線をそれぞれ
対応する絶縁基板上に複数並べて配列するとともに、最
上層または最下層まで延在する2の導電性配線の先端部
に、これら2の導電性配線を束ねる、ばらけ防止部材を
設けてなる、ことを特徴とする。
課題を達成すべく、各絶縁基板の四隅部分に、これら絶
縁基板を積層する際の位置決め用突起を有してなる、こ
とを特徴とする。
題を達成すべく、1および2の導電性配線のうちの隅部
の導電性配線が、それ以外の導電性配線よりも幅広でな
る、ことを特徴とする。
題を達成すべく、幅広の導電性配線に位置決め用のアラ
イメントマークが形成されてなる、ことを特徴とする。
題を達成すべく、アライメントマークが丸穴でなる、こ
とを特徴とする。
明の実施の形態について詳細に説明する。
装置の外観斜視図および縦断面構成図である。図示半導
体装置は、電子部品であるIC,LSI等の半導体チッ
プ12が搭載されてなる絶縁基板10が、順次下層の半
導体チップ12の上にその上層の絶縁基板10を重ねる
ように、例えば接着剤を介在して積層してなる。また、
この半導体装置における最下層の絶縁基板10の他面側
には、この半導体装置とマザー基板等とを導通接続する
ための電極10Aが、所定の配列で配設してなる。
キシや、ポリイミド等からなり、一面上に所定パターン
で導電性配線11が配設され、当該導電性配線11の一
端部11Aに半導体チップ12の電極12Aが、フリッ
プチップ実装法あるいはTAB方式で搭載されることに
より、それぞれモジュールMO1〜MO4を形成してなる。
る半導体装置の各絶縁基板10の導電性配線11の他端
部11Bは、この絶縁基板10の周縁部にて突出すると
ともに、例えば当該絶縁基板10の他面側に向かって下
向きに湾曲を有して曲げられて形成されてなる。
すような最上層の絶縁基板10、または図4に示すよう
な最下層の絶縁基板10の導電性配線11の他端部11
Bは、この絶縁基板10の周縁部にて突出するととも
に、対応する最下層または最上層の導電性配線11の他
端部11Bまで延在して形成されてなる。
縁基板10の導電性配線11の他端部11Bと、最上層
または最下層の絶縁基板10の導電性配線11の他端部
11B側とを、この半導体装置の周縁部で導通接続して
なる。
または最下層の絶縁基板10から延在する導電性配線1
1の他端部11Bの先端部には、例えば絶縁基板10と
同一材料で構成された、当該導電性配線11を束ねるた
めのばらけ防止部材13が設けられており、これによ
り、各導電性配線11がそれぞれ一定のピッチ精度を有
するように固定された構造となっている。
ップ12を絶縁基板10に搭載したモジュールMO1、
MO2、MO3、MO4を順次上層の絶縁基板10と、
その1つ下層の半導体チップ12とを接着剤を介して積
層した後、各層の導電性配線11を垂直方向に順次接合
し、各層間の電気的接続を完成させる。このとき、モジ
ュールMO1〜MO3の半導体チップ12において、そ
れぞれ当該半導体チップ12の電極と、導電性配線11
との接合部が絶縁材料等からなる封止樹脂FJによって
封止される。
により、最上層の絶縁基板10から順次折り曲げられた
導電性配線11の先端が、その1つ下層の絶縁基板10
上の導電性配線11の上面と接触する。そして、接触し
た導電性配線同士の接合は、はんだ付け、導電性ペース
ト材料または溶接等で行われる。
半導体チップ12が、それぞれ各絶縁基板10の導電性
配線11を順次介して導通接続されるとともに、最下層
の電極10Aを介してマザー基板の電極に導通接続する
ようになされている。
導電性配線11の配線パターンは、搭載される半導体チ
ップ12が異なる場合には、必ずしも同一の配線パター
ンではなく、共通でない半導体チップの電極を処理する
ために、配線構成が異なるものである。
2の厚さは、数10〔μm〕〜数100〔μm〕の厚さで構成
されるものである。半導体チップ12は、ウェハー状態
またはチップ状態で素子が形成されていない裏面をグラ
イディングやポリッシング等の機械的研磨法、HF液を
主体としたエッチング液で溶解する方法等の化学的研磨
法、またはこれらの手法を併用したCMP方法等によっ
て所望の厚さに研磨されるものである。
線11の他端部側11Bの曲げ部分は、図5(a)およ
び図5(b)に示すように、各絶縁基板10の端部を切
り欠いた状態で所定の治具20によって折り曲げること
により形成することができる。
ように、絶縁基板10上の複数並べて配列される導電性
配線11における少なくとも端部(コーナーに最も近い
ところ)に位置する導電性配線11の幅員を、この導電
性配線11よりも内側に位置する他の導電性配線11の
幅員よりも広く形成するようにしてもよい。
10との間の膨張の差に起因して、導電性配線11に応
力集中が発生したときに、これらが破断するのを防止で
き、高い信頼性を得ることができる。また、導電性配線
11の幅員は、絶縁基板10の寸法や環境条件により異
なるが、広い方の幅員は、狭い方の幅員よりも1.2倍
以上の大きさとすることが望ましい。
とも4隅に突起部15を設けた構成を示す。このよう
に、突起部15を、絶縁基板10と一体に、その外形寸
法よりもはみ出して形成する。因みに、この図6では、
導電性配線が長く形成される最上層または最下層の絶縁
基板10以外の層の絶縁基板10を用いて説明したが、
これに限るところではない。
位置は、突起部15よりも内側に位置することになる。
そして、絶縁基板10の周縁から折り曲げられた導電性
配線11が、外部部品と接触したり、操作中に導電性配
線を損傷することを未然に防止することができる。ま
た、この突起部15は、導電性配線を機械的、電気的に
保護することができるばかりでなく、絶縁基板10を積
層する際に絶縁基板10間の位置合わせに用いることも
でき、突起部15の先端を位置合わせの外形とすれば、
位置合わせを容易にすることもできる。
と、マザー基板の電極との接続用の電極10Aを有する
最下層の絶縁基板10の外形寸法をほぼ同じ寸法にすれ
ば、積層する絶縁基板の位置合わせが容易であるばかり
でなく、折り曲げた導電性配線領域、すなわち絶縁基板
の側面領域に保護樹脂を形成する場合にも、最下層の絶
縁基板10と他の絶縁基板10の突起部15の外形寸法
とをほぼ同じにすれば、容易に保護樹脂を形成できるば
かりでなく、保護樹脂の厚さも均一に形成することがで
きる。
た絶縁基板10間の導電性配線11の接続は、例えばそ
の導電性配線11にはんだ材料を配設しておき、このは
んだ材料をリフローさせることにより、折り曲げた導電
性配線11とその下層に位置する絶縁基板10上の導線
性配線11とが接触しているので、はんだを溶融させる
ことにより、容易に接続することができる。
はんだを溶融しておき、この溶融したはんだ中に、積層
したモジュールMO1〜MO4を浸漬して接続すること
もできる。
はんだ中に浸漬する工程では、溶融しているはんだから
半導体装置を引き上げるときには、六方体である半導体
装置の少なくとも一つのコーナーと溶融したはんだ面と
の成す角度θを30〔°〕〜60〔°〕にすれば、絶縁
基板10間を接続する導電性配線11の隣接間のショー
トを防ぐことができる。
は、マザー基板と接続するための外部接続用電極10A
が形成されている。この電極10Aとして、図1、2お
よび4の例では、はんだボールが形成され、いわゆるC
SP(Chip Size Package),BGA(Ball Grid Arra
y)の構造を示している。この最下層の絶縁基板10お
よびその上に形成された導電性配線11は、それより上
層の絶縁基板10と同じ工法で製作されるものである。
電子部品が搭載された複数の絶縁基板を順次積層してな
る半導体装置において、各絶縁基板間の導電性配線を、
これら絶縁基板の周縁部で接続することにより、接続箇
所を外部から目視確認することができ、接続箇所の検査
を極めて容易にすることができるとともに、絶縁基板間
における導通接続を確実に行うことができる。
層または最下層の絶縁基板の周縁から突出して延在した
導線性配線により、これら積層した絶縁基板の周縁部で
接続することにより、新たな接続用部品を追加すること
なく接続することができ、半導体装置の接続箇所を外部
から目視確認することができるため、接続箇所の検査を
極めて容易にすることができ、かくして絶縁基板間にお
ける導通接続を簡便にかつ確実に行うことができる。
行なっているので、万が一、積層した絶縁基板の一部に
不良が発生しても、容易にリペアーを実施することがで
きる。また、接続用の導電性配線が、絶縁基板の側面に
突出して形成されているので、はんだディップまたは、
はんだリフロー等の簡便な工程を用いて一括でかつ確実
に接続を実現できるために、低コストなモジュールを実
現することができる。
に導電性配線を配設するようにして、電子部品をフリッ
プチップ実装することにより、導電性配線の一端部と電
子部品の電極との接続の際に、絶縁基板によってその導
電性配線が曲がって変形するのを防止することができ
る。
の下層の電子部品上に、その1つ下層の絶縁基板を積層
することにより、複数の絶縁基板を積層する際の安定感
を高めることができる。
隣り合う絶縁基板と電子部品との間に接着剤を介在する
ようにしたことにより、積層した複数の絶縁基板が、導
通接続前に崩れるのを未然に防止することができる。
に複数の導電性配線が配列され、最上層または最下層の
絶縁基板における導電性配線の他端側の先端に、ばらけ
防止部材を設けるようにしたことにより、これら導電性
配線が、ばらけるのを防止するとともに、各導電性配線
が、それぞれ一定のピッチ精度を有するように固定する
ことができる。
隅部に突起部を設けるようにしたことにより、突起部を
用いて上下の絶縁基板の積層時の位置合わせを一層容易
にすることができ、高い位置合わせ精度を得ることがで
きる。また、実装体の樹脂成形時の外形基準となり、正
確な樹脂成形を行うこともできる。
よりも突出して突起部を設けるため、当該導電性配線に
外力が加えられ、これら導電性配線が変形したり、破損
するのを未然に防止することができる。
の複数の導電性配線における配列のうちの隅部の導電性
配線が、他の導電性配線よりも幅広なので、電子部品と
絶縁基板との膨張の差により、導電性配線に応力が加わ
ったときに破断するのを防止でき、接続のうえで信頼性
を向上することができる。
のうちの隅部の導電性配線にアライメントマークを設け
るようにしたことにより、複数の絶縁基板を積層する際
に、上下の絶縁基板間における位置決めをより一層簡略
化することができる。
トマークを丸穴で形成することにより、当該アライメン
トマークを他の工程で一括して簡単に形成することがで
きる。
て折り曲げられる手順を示す略断面図で、(a)は折曲
する前、(b)は折曲した後である。
電性配線のうちの隅部が幅広で形成されてなる絶縁基板
を示す平面図である。
Claims (9)
- 【請求項1】 電子部品が搭載された複数の絶縁基板を
順次積層してなる半導体装置において、 各上記絶縁基板の周縁部から突出し、それぞれ所定形状
に曲げて形成する第1の導電性配線と、 上記積層した各絶縁基板のうちの最上層または最下層の
周縁部から突出し、最下層または最上層の絶縁基板まで
延在して形成する第2の導電性配線とを備え、 上記1および2の絶縁基板を各上記絶縁基板の周縁部で
導通接続してなる、半導体装置。 - 【請求項2】 上記電子部品が、各上記絶縁基板の一面
上にそれぞれフリップチップ実装してなる、請求項1に
記載の半導体装置。 - 【請求項3】 上記積層する複数の絶縁基板を、順次隣
り合う下層の電子部品上に載置してなる、請求項1また
は2に記載の半導体装置。 - 【請求項4】 上記隣り合う絶縁基板と電子部品とが接
着剤を介在してなる、請求項3に記載の半導体装置。 - 【請求項5】 上記1および2の導電性配線をそれぞれ
の上記絶縁基板上に複数並べて配列するとともに、上記
最上層または最下層まで延在する上記2の導電性配線の
先端部に、これら2の導電性配線を束ねる、ばらけ防止
部材を設けてなる、請求項1、2、3または4、に記載
の半導体装置。 - 【請求項6】 各上記絶縁基板の四隅部分に、これら絶
縁基板を積層する際の位置決め用突起を有してなる、請
求項1、2、3、4または5に記載の半導体装置。 - 【請求項7】 上記1および2の導電性配線のうちの端
部の導電性配線が、それ以外の導電性配線よりも幅広で
なる、請求項1または5に記載の半導体装置。 - 【請求項8】 上記幅広の導電性配線に位置決め用のア
ライメントマークが形成されてなる、請求項7に記載の
半導体装置。 - 【請求項9】 上記アライメントマークが丸穴でなる、
請求項8に記載の半導体装置。
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