JP2001281412A

JP2001281412A - 反射防止部材とその製造方法

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Publication number: JP2001281412A
Application number: JP2000095981A
Authority: JP
Inventors: Yoshihide Inago; 吉秀稲子; Ryomei Men; 了明面
Original assignee: Nissha Printing Co Ltd
Current assignee: Nissha Printing Co Ltd
Priority date: 2000-03-31
Filing date: 2000-03-31
Publication date: 2001-10-10
Anticipated expiration: 2020-03-31
Also published as: JP3457620B2

Abstract

(57)【要約】【課題】汚染物の除去が容易で耐久性に優れた防汚層
を透明基板の片面のみに均一な膜厚で容易に形成するこ
とができる反射防止部材とその製造方法を提供する。【解決手段】透明基板１の一方の面に少なくとも低反
射層５と防汚層６とが順に積層され、低反射層５が無機
化合物からなり、防汚層６が一般式化１で示されるシラ
ン化合物からなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、携帯電話機、ビ
デオカメラ、デジタルカメラ、自動車用機器などのディ
スプレイ部分のカバー部品などに用いることができる反
射防止部材とその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】携帯電話機、ビデオカメラ、デジタルカ
メラ、自動車用機器などにおいて、ディスプレイ部分
は、液晶パネルあるいは有機ＥＬパネルとの組み合わせ
などにより構成されている。ディスプレイ部分は、液晶
パネルの破損を防止したり、液晶パネルの表示を拡大し
たり、液晶パネル近辺を装飾したりすることを目的とし
て、レンズ状に成形した透明基板や縁取りなどの図柄が
形成された透明基板により構成されるカバー部品により
覆われている。

【０００３】液晶パネルとの間に空間を設けて設置する
カバー部品の場合は、液晶パネルとカバー部品との間に
空気層が存在するため、液晶パネルからの光がカバー部
品を透過する際、カバー部品の裏面で反射が生じる。し
たがって、カバー部品の表面あるいは裏面からの外光が
反射して写り込み視認性が落ちるため、反射光をできる
だけ抑えたいという要求がある。また、液晶パネルのカ
ラー化が進むに伴い、カバー部品の表面あるいは裏面か
らの反射光がディスプレイ表示のコントラストに影響を
及ぼし表示品質を落とすことから、表面および裏面とも
に反射の少ないカバー部品が求められている。そこで、
カバー部品の反射率を低くするため、カバー部品の両面
に低反射層が形成されている。

【０００４】低反射層を形成する方法としては、真空成
膜法により無機酸化物系の低屈折材料を単層で透明基板
の両面に設ける方法がある。また、多重干渉を利用し、
低屈折材料と高屈折材料とを積層して低反射層を透明基
板の両面に設ける方法がある。また、フッ素化合物など
の有機系の低屈折物質あるいは常温硬化する無機系酸化
物の低屈折物質を溶液化して透明基板の両面にコーティ
ングする方法がある。

【０００５】このような方法で形成されたカバー部品
は、使用の際に、手垢、指紋、汗、化粧料などの付着が
あり、特に低反射層へ付着した場合には、汚れが目立ち
やすく、またその汚れがとれにくくなる。そこで、汚れ
にくく、あるいは汚れを拭き取りやすくするために、低
反射層上にさらに防汚層を設けることが必要となる。た
とえば、特開平４−３３８９０１号では、末端シラノー
ル有機ポリシロキサンを用いて防汚層を形成したＣＲＴ
用フィルターが提案されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかし、前述の防汚層
は、カバー部品などの反射防止部材においては十分なも
のでなかった。特に、指紋などの油性汚染については、
付着した汚染物を拭き取りにくいため、何度も拭き取り
布を摺動させたり、拭い取るのに強力な洗剤や有機溶剤
を用いたりすると防汚層が除去されてしまい、耐汚染性
が損なわれるという問題があった。

【０００７】また、スピンコート法などのコーティング
法によって防汚層を設けた場合、携帯電話機表示窓の四
隅のように三次元的に急峻な屈曲部位において液だまり
による膜厚むらが発生し、低反射性を劣化させ、外観的
にも色むらが生じるという問題があった。

【０００８】また、ディップコート法によって防汚層を
形成した場合は、成形品の両面に防汚層が形成されるの
で、成形品の裏面全体に撥油性および撥水性が発現し、
携帯電話機本体と貼り合わせるための両面テープを裏面
に貼り付けることができないという問題があった。そこ
で、片面のみに防汚層を形成したり、接着部位を除いて
防汚層を形成することも考えられるが、そのためにはマ
スキング工程が必要であり、その処理が煩雑になるとい
う問題があった。

【０００９】したがって、この発明は、上記のような欠
点を解消し、汚染物の除去が容易で耐久性に優れた防汚
層を透明基板の片面のみに均一な膜厚で容易に形成する
ことができる反射防止部材とその製造方法を提供するこ
とを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】この発明の反射防止部材
とその製造方法は、上記の目的を達成するために、つぎ
のように構成した。

【００１１】すなわち、この発明の反射防止部材は、透
明基板の一方の面に少なくとも低反射層と防汚層とが順
に積層され、低反射層が無機化合物からなり、防汚層が
一般式化１で示されるシラン化合物からなるように構成
した。

【００１２】また、上記の発明において、低反射層の下
に保護層を有するように構成してもよい。

【００１３】また、上記の発明において、低反射層の下
に図柄層を有するように構成してもよい。

【００１４】また、上記の発明において、透明基板の上
に接着層を有するように構成してもよい。

【００１５】また、上記の発明において、低反射層が単
層で構成され、透明基板より屈折率の小さい金属酸化物
からなる層であるように構成してもよい。

【００１６】また、上記の発明において、低反射層が複
数の層から構成され、防汚層と接する層が金属酸化物か
らなる層であるように構成してもよい。

【００１７】また、上記の発明において、低反射層が透
明基板の他方の面に形成されるように構成してもよい。

【００１８】また、上記の発明において、防汚層の厚さ
が３〜２００ｎｍであるように構成してもよい。

【００１９】また、この発明の反射防止部材の製造方法
は、基体シート上に少なくとも低反射層が形成された加
飾シートを基体シートがキャビティ面に接するように金
型にセットし、金型内に透明な溶融樹脂を射出して樹脂
からなる透明基板と加飾シートとの一体化物を得、次い
で基体シートを剥離し、次いで低反射層上に一般式化１
で示されるシラン化合物を用い蒸着法により防汚層を形
成するように構成した。

【００２０】また、基体シート上に少なくとも保護層が
形成された加飾シートを基体シートがキャビティ面に接
するように金型にセットし、金型内に透明な溶融樹脂を
射出して樹脂からなる透明基板と加飾シートとの一体化
物を得、次いで基体シートを剥離し、次いで保護層上に
低反射層を積層し、次いで低反射層上に一般式化１で示
されるシラン化合物を用い蒸着法により防汚層を形成す
るように構成した。

【００２１】また、基体シート上に少なくとも図柄層が
形成された加飾シートを基体シートがキャビティ面に接
するように金型にセットし、金型内に透明な溶融樹脂を
射出して樹脂からなる透明基板と加飾シートとの一体化
物を得、次いで基体シートを剥離し、次いで図柄層上に
低反射層を積層し、次いで低反射層上に一般式化１で示
されるシラン化合物を用い蒸着法により防汚層を形成す
るように構成した。

【００２２】また、基体シート上に少なくとも低反射層
が形成された加飾シートを基体シートと反対側の面がキ
ャビティ面に接するように金型にセットし、金型内に透
明な溶融樹脂を射出して樹脂からなる透明基板と加飾シ
ートとの一体化物を得、次いで低反射層上に一般式化１
で示されるシラン化合物を用い蒸着法により防汚層を形
成するように構成した。

【００２３】また、基体シート上に少なくとも保護層が
形成された加飾シートを基体シートと反対側の面がキャ
ビティ面に接するように金型にセットし、金型内に透明
な溶融樹脂を射出して樹脂からなる透明基板と加飾シー
トとの一体化物を得、次いで保護層上に低反射層を積層
し、次いで低反射層上に一般式化１で示されるシラン化
合物を用い蒸着法により防汚層を形成するように構成し
た。

【００２４】また、基体シート上に少なくとも図柄層が
形成された加飾シートを基体シートと反対側の面がキャ
ビティ面に接するように金型にセットし、金型内に透明
な溶融樹脂を射出して樹脂からなる透明基板と加飾シー
トとの一体化物を得、次いで図柄層上に低反射層を積層
し、次いで低反射層上に一般式化１で示されるシラン化
合物を用い蒸着法により防汚層を形成するように構成し
た。

【００２５】また、上記の発明において、透明基板の加
飾シートで加飾しなかった面に低反射層を形成するよう
に構成してもよい。

【００２６】

【発明の実施の形態】図面を参照しながらこの発明の実
施の形態について詳しく説明する。

【００２７】図１は、この発明の反射防止部材の一実施
例を示す断面図である。図２は、この発明の反射防止部
材の製造方法に用いる転写材の一実施例を示す断面図で
ある。図３は、この発明の反射防止部材の製造方法の一
工程を示す断面図である。図中、１は透明基板、２は接
着層、３は図柄層、４は保護層、５は低反射層、６は防
汚層、７は反射防止部材、９は金型、１０は加飾シー
ト、１１は基体シート、１２は転写層である。

【００２８】この発明の反射防止部材７は、透明基板１
の一方の面に少なくとも低反射層５と防汚層６とが順に
積層され、低反射層５が無機化合物からなり、防汚層６
が一般式化１で示されるシラン化合物からなるものであ
る（図１参照）。

【００２９】透明基板１に用いることができる樹脂とし
ては、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、Ａ
ＢＳ樹脂、ＡＳ樹脂、ＡＮ樹脂などの汎用樹脂を挙げる
ことができる。また、ポリフェニレンオキシド・ポリス
チレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアセター
ル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート変性ポリ
フェニレンエーテル樹脂、ポリブチレンテレフタレート
樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、超高分子量ポ
リエチレン樹脂などの汎用エンジニアリング樹脂や、ポ
リスルホン樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂、
ポリフェニレンオキシド系樹脂、ポリアリレート樹脂、
ポリエーテルイミド樹脂、ポリイミド樹脂、液晶ポリエ
ステル樹脂、ポリアリル系耐熱樹脂などのスーパーエン
ジニアリング樹脂を使用することもできる。

【００３０】透明基板１の形状は、平板状のものであっ
ても、二次元あるいは三次元の曲面を有するものであっ
てもよい。

【００３１】低反射層５は、透明基板１の反射を防止す
るための層である。低反射層５は少なくとも透明基板１
の一方の面に形成する。透明基板１の両面に低反射層５
を形成すると、反射防止部材７の表面および裏面で反射
防止作用が発揮されるので好ましい。

【００３２】低反射層５に用いる低屈折材料としては、
フッ化マグネシウム、酸化ケイ素などの金属化合物を用
いることができる。また、シリカあるいはオルガノポリ
シロキサンの少なくとも１種を含む有機金属化合物を用
いることもできる。また、これらの有機金属化合物の多
孔体を用いることもできる。また、フッ素系合成樹脂な
どの有機化合物を用いることも可能である。

【００３３】低反射層５の構成としては、微細孔を有す
る酸化ケイ素あるいは酸化アルミウムを酸化ケイ素に分
散し単層として使用したり、フッ化マグネシウムを単層
として用いるほか、酸化チタン層／酸化ケイ素層の２層
構成の低反射層５として使用したり、酸化チタン層／酸
化ケイ素層／酸化チタン層／酸化ケイ素層のように４層
構成の低反射層５など多重干渉を利用した多層構成の低
反射層５としてもよい。

【００３４】低反射層５は、単層あるいは複数の層から
構成される場合のどちらであっても、防汚層６に接する
層が金属酸化物からなるのが好ましい。金属酸化物はシ
ラン化合物からなる防汚層６との接着性に優れるからで
ある。低反射層５として、フッ化マグネシウムのような
金属ハロゲン化物を用いると、防汚層６との接着性が弱
く耐久性が得られにくくなる。

【００３５】低反射層５の製造方法としては、真空蒸着
法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などが
ある。あるいは金属アルコラート、金属キレートなどの
有機金属化合物を浸積法あるいは印刷法、コーティング
法などにより透明基板１上に塗布し、その後、光照射あ
るいは乾燥により金属酸化物皮膜を形成して低反射層５
を得る方法もある。また、後述する転写法またはインサ
ート法により形成することもできる。

【００３６】低反射層５の厚さは、０．０１〜２μｍの
範囲で適宜選択するとよい。これらの膜厚は、低屈折材
料の屈折率により、一般式ｎ×ｄ＝λ／４または一般式
ｎ×ｄ＝３λ／４（ただし、ｎは低屈折材料の屈折率、
ｄは低屈折材料の膜厚、λは低反射中心波長をそれぞれ
示す）を満たすように適宜選択するとよい。

【００３７】ただし、単層にて使用する場合は、その屈
折率は透明基板１の屈折率より小さい金属酸化物に限ら
れる。

【００３８】防汚層６は、低反射層５上に形成され低反
射層５が汚れるのを防ぎ、低反射層５の機能が損なわれ
るのを防止するための層である。防汚層６は、一般式化
１で示されるシラン化合物からなることが重要である。
ここで、一般式中、Ｘは水素原子または低級アルキル
基、Ｙは加水分解可能な基、ｍは１〜５０の整数、ｎは
０〜２の整数をそれぞれ示す。

【００３９】一般式化１で示されるシラン化合物は、通
常、１重量％以下のフッ素系溶媒溶液や石油系溶媒溶
液、アルコール系溶媒溶液などの低濃度希薄溶液状態に
て流通しており、スピンコート法やディップコート法に
より使用されている。しかし、成形同時転写された二次
元曲面形状あるいは三次元曲面形状を有する成形品に、
スピンコート法やディップコート法を適用すると、防汚
層６の膜厚を均一にすることは困難である。また、ディ
ップコート法では防汚層６が反射防止部材７の両面に形
成されることになる。

【００４０】この発明では、一般式化１で示されるシラ
ン化合物を用いて防汚層６を形成するために、蒸着法を
用いる。この発明でいう蒸着法とは、真空蒸着法、電子
線蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法
など、物理的方法で薄膜形成する方法をいう。このよう
な蒸着法において、シラン化合物を急激に加熱すると腐
食性を有するフッ酸を生じるので、真空または常圧で抵
抗加熱するような穏やかな条件で加熱を行うのが好まし
い。

【００４１】たとえば、シラン化合物の希薄溶液を蒸着
槽内にて加熱皿に適量量り取り、できる限り水分と反応
させないようにするため、低沸点フッ素系溶媒を蒸発排
気させたのち、加熱蒸発させる手法により成膜するとよ
い。その際、シラン化合物希薄溶液の濃度は高濃度であ
るほど処理所要時間が短縮され、シラン化合物の分解が
少なくなり、低反射層５との接着性に優れたものとな
る。したがって１０重量％以上の濃度であることが好ま
しい。この条件において実験を繰り返したところ、数あ
る材料の中でも一般式化１で示されるシラン化合物にお
いて最良の撥水性、撥油性、耐久性が得られた。また、
真空中にて成膜された防汚層６は、大気中においてディ
ップコート法により成膜された防汚層６に比べると、金
属酸化物の表面と状態が異なるためと思われるが、同一
膜厚において、撥水性、撥油性、耐久性が優れていた。

【００４２】一般式化１で示されるシラン化合物におい
て、Ｘにおける低級アルキル基としては通常、炭素数１
〜５のものが挙げられる。Ｙの加水分解可能な基として
は、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原
子、ＲＯ基、ＲＣＯＯ基、Ｒ_２Ｃ＝ＣＲＣＯ基、Ｒ_２Ｃ
＝ＮＯ基、ＲＣ＝ＮＯ基、Ｒ_２Ｎ基、及びＲＣＯＮＲ基
が好ましい。さらに好ましくは、塩素原子、ＣＨ_３Ｏ
基、Ｃ_２Ｈ_５Ｏ基である。ｍは１〜５０の整数である。
ｎは、０〜２の整数であり、好ましくは０である。

【００４３】なお、一般式化１で示されるシラン化合物
は湿度を含む大気中では不安定であり、パーフルオロヘ
キサンのような低沸点フッ素系溶媒に希釈して保存され
る。そのような溶媒としては、たとえば、パーフルオロ
ヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサン、パーフ
ルオロ−１、３−ジメチルシクロヘキサンなどの通常は
炭素数５〜１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素や、ビス
（トリフルオロメチル）ベンゼンなどの多フッ素化芳香
族炭化水素、多フッ素化脂肪族炭化水素などが挙げられ
る。

【００４４】また一般式化１で示されるシラン化合物
は、市販のパーフルオロポリエーテルをシラン処理する
ことによって容易に得ることができる。

【００４５】また、防汚層６の厚さは、汚染防止効果の
点から３．０〜２００ｎｍであるのが好ましい。３．０
ｎｍに満たない場合は防汚性が不足し、また、布などの
摺動により容易に剥がれるおそれがある。２００ｎｍを
越える場合は大気暴露により白濁したり、また、透明性
が低下したり、耐久性が劣ったりするおそれがある。

【００４６】また、必要に応じて図柄層３を透明基板１
の上または下の任意の位置に形成してもよい。図柄層３
は、反射防止部材７を装飾するための層である。

【００４７】図柄層３は、通常は印刷層として形成す
る。印刷層の材質としては、ポリビニル系樹脂、ポリア
ミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポ
リウレタン系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリ
エステルウレタン系樹脂、セルロースエステル系樹脂、
アルキド樹脂などの樹脂をバインダーとし、適切な色の
顔料または染料を着色剤として含有する着色インキを用
いるとよい。印刷層の形成方法としては、オフセット印
刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法などの通常の
印刷法などを用いるとよい。印刷層は、通常は、部分的
に設ける。

【００４８】また、図柄層３は、金属薄膜層からなるも
の、あるいは印刷層と金属薄膜層との組み合わせからな
るものでもよい。金属薄膜層は、図柄層３として金属光
沢を表現するためのものであり、真空蒸着法、スパッタ
リング法、イオンプレーティング法、鍍金法などで形成
する。表現したい金属光沢色に応じて、アルミニウム、
ニッケル、金、白金、クロム、鉄、銅、スズ、インジウ
ム、銀、チタニウム、鉛、亜鉛などの金属、これらの合
金または化合物を使用する。金属薄膜層は、通常は、部
分的に形成する。また、金属薄膜層を設ける際に、他の
層との密着性を向上させるために、前アンカー層や後ア
ンカー層を設けてもよい。

【００４９】また、必要に応じて保護層４を低反射層５
の下に形成してもよい。保護層４は、反射防止部材７の
表面強度を高めるための層である。

【００５０】保護層４としては、重合性二重結合を有す
るプレポリマーまたはオリゴマーあるいはエポキシ基を
有するプレポリマーまたはオリゴマーの組成物に反応型
希釈剤を混合し、必要により光重合開始剤を添加した化
合物を用いるとよい。具体的には、紫外線硬化性樹脂や
電子線硬化性樹脂として用いられる樹脂を用いるとよ
い。

【００５１】低反射層５、図柄層３、保護層４を透明基
板１の上に設けるには、加飾シート１０を利用した成形
同時加飾法を利用するのが好ましい。成形同時加飾法に
は、加飾シート１０として転写材を用いた成形同時転写
法や、加飾シート１０としてインサート材を用いたイン
サート法がある。

【００５２】成形同時転写法とは、基体シート１１上
に、剥離層、図柄層３、接着層２などからなる転写層１
２を形成した転写材を金型９内に挟み込み、金型９内に
溶融樹脂を射出し、冷却して樹脂成形品を得るのと同時
に成形品表面に転写材を接着した後、基体シート１１を
剥離して、樹脂成形品表面に転写層１２を転移して装飾
を行う方法である。

【００５３】インサート法とは、基体シート１１上に図
柄層３などが形成されたインサート材を金型９内に挟み
込み、金型９内に溶融樹脂を射出し、冷却して樹脂成形
品を得るのと同時に成形品表面にインサート材を接着し
て装飾を行う方法である。

【００５４】まず、転写材を利用する成形同時転写法に
ついて説明する。

【００５５】転写材は、基体シート１１上に、低反射層
５、図柄層３、保護層４などからなる転写層１２を設け
たものである（図２参照）。また、反射防止部材７の透
明基板１の上に形成するすべての層を成形同時転写法に
よって形成するのではなく、成形同時転写法によって形
成するのが好適な層のみを成形同時転写法によって形成
し、その他の層は先に述べた方法により別途形成するよ
うにしてもよい。特に、図柄層３および保護層４は成形
同時転写法によって形成するのに適している。

【００５６】基体シート１１の材質としては、ポリプロ
ピレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリアミド系樹
脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリ塩化ビ
ニル系樹脂などの樹脂シートなど、通常の転写材の基体
シートとして用いるものを使用することができる。

【００５７】基体シート１１からの転写層１２の剥離性
がよい場合には、基体シート１１上に転写層１２を直接
設ければよい。基体シート１１からの転写層１２の剥離
性を改善するためには、基体シート１１上に転写層１２
を設ける前に、離型層を全面的に形成してもよい。

【００５８】保護層４は、基体シート１１または離型層
上に全面的に形成する。保護層４は、成形同時転写後に
基体シート１１を剥離した際に、基体シート１１または
離型層から剥離して被転写物の最外面となり、反射防止
部材７の表面強度を高める層となる。保護層４の形成方
法としては、グラビアコート法、ロールコート法、コン
マコート法などのコート法、グラビア印刷法、スクリー
ン印刷法などの印刷法がある。

【００５９】また、転写層１２として保護層４を設けな
い場合は、保護層４に代えて剥離層を形成するとよい。
剥離層は、基体シート１１から転写層１２を容易に剥離
させるための層である。剥離層の材質としては、アクリ
ル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹
脂、セルロース系樹脂、ゴム系樹脂、ポリウレタン系樹
脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂などのほか、塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合体系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合
体系樹脂などのコポリマーを用いるとよい。剥離層の形
成方法としては、グラビアコート法、ロールコート法、
コンマコート法などのコート法、グラビア印刷法、スク
リーン印刷法などの印刷法がある。

【００６０】低反射層５は、保護層４または剥離層の上
に形成する。低反射層５を形成するには、低反射層５を
単層または多層で形成する場合と同様にするとよい。

【００６１】図柄層３は、転写層１２に低反射層５が含
まれる場合は低反射層５の上に、転写層１２に低反射層
５が含まれない場合は保護層４または剥離層の上に形成
する。図柄層３を形成するには、図柄層３を単独で形成
する場合と同様にするとよい。

【００６２】また、透明基板１の上に上記の各層を接着
するために接着層２を形成するとよい。接着層２として
は、透明基板１の素材に適した感熱性あるいは感圧性の
樹脂を適宜使用する。たとえば、透明基板１の材質がア
クリル系樹脂の場合はアクリル系樹脂を用いるとよい。
また、透明基板１の材質がポリフェニレンオキシド・ポ
リスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、スチレン
共重合体系樹脂、ポリスチレン系ブレンド樹脂の場合
は、これらの樹脂と親和性のあるアクリル系樹脂、ポリ
スチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂などを使用すればよ
い。さらに、透明基板１の材質がポリプロピレン樹脂の
場合は、塩素化ポリオレフィン樹脂、塩素化エチレン−
酢酸ビニル共重合体樹脂、環化ゴム、クマロンインデン
樹脂が使用可能である。接着層２の形成方法としては、
グラビアコート法、ロールコート法、コンマコート法な
どのコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法など
の印刷法がある。また上記材質よりなる接着性を持つシ
ートをラミネート法などにより貼り合せて接着層２とす
ることも可能である。

【００６３】転写層１２の構成は、上記した態様に限定
されるものではなく、たとえば、図柄層３の材質として
透明基板１との接着性に優れたものを使用する場合に
は、接着層２を省略することができる。

【００６４】次に、前記した転写材を用い、射出成形に
よる成形同時転写法を利用して被転写物である樹脂成形
品の面に装飾を行う方法について説明する。

【００６５】まず、可動型と固定型とからなる成形用金
型９内に加飾シート１０である転写材を送り込む（図３
参照）。その際、枚葉の転写材を１枚づつ送り込んでも
よいし、長尺の転写材の必要部分を間欠的に送り込んで
もよい。長尺の転写材を使用する場合、位置決め機構を
有する送り装置を使用して、転写材の図柄層３と成形用
金型９との見当が一致するようにするとよい。また、転
写材を間欠的に送り込む際に、転写材の位置をセンサー
で検出した後に転写材を可動型と固定型とで固定するよ
うにすれば、常に同じ位置で転写材を固定することがで
き、図柄層３の位置ずれが生じないので便利である。

【００６６】成形用金型９を閉じた後、固定型に設けた
ゲートより溶融樹脂を金型９内に射出充満させ、被転写
物を形成するのと同時にその面に転写材を接着させる。

【００６７】被転写物である樹脂成形品を冷却した後、
成形用金型９を開いて樹脂成形品を取り出す。最後に、
転写材の基体シート１１を剥離する。このようにして、
転写層１２のみを成形品に転移することができる。

【００６８】次に、インサート材を利用したインサート
法について説明する。

【００６９】インサート材を得るには、次のような方法
で行うとよい。

【００７０】インサート材は、基体シート１１上に低反
射層５、図柄層３、保護層４、接着層２などを設けたも
のである。基体シート１１としては、転写材の場合と同
様のものを用いるとよい。また、低反射層５、図柄層
３、保護層４、接着層２は、転写材の場合と同様にして
形成するとよい。なお、インサート法の場合は基体シー
ト１１を剥離除去しないので、基体シート１１の一方の
面に低反射層５、図柄層３、保護層４を形成し、他方の
面に接着層２を形成することになる。また、反射防止部
材７の透明基板１の上に形成するすべての層をインサー
ト法によって形成するのではなく、インサート法によっ
て形成するのが好適な層のみを成形同時転写法によって
形成し、その他の層は別途形成するようにしてもよいの
は成形同時転写法の場合と同様である。

【００７１】以上のようにしてインサート材を得ること
ができる。次に、インサート材の使用方法について説明
する。

【００７２】加飾シート１０であるインサート材を、イ
ンサート材送り装置などを使用して、ゲートを有するコ
ア型と、凹部を有するキャビティ型との間に配置し、ク
ランプなどの手段でキャビティ型内または周囲に固定す
る。成形形状が深絞りである場合、熱源によりインサー
ト材を加熱軟化させるとともにキャビティ型側から真空
吸引してキャビティ型の表面に密着させてもよい。ま
た、あらかじめインサート材を別型で予備成形しておい
てもよい。次いで、キャビティ型とコア型を型締めし、
インサート材とコア型との間に密閉空間を形成する。こ
の空間に溶融樹脂を射出する。キャビティ型とコア型を
型開きすれば、インサート材と成形樹脂とが一体化した
成形品を得ることができる。

【００７３】

【実施例】（実施例１）ポリエチレンテレフタレートフ
ィルムを基体シートとし、その片面にエポキシアクリレ
ート８０部、ヒドロキシエチルアクリレート１０部、テ
トラヒドロフルフリルアクリレート１０部、ベンゾイン
エチルエーテル３部からなる剥離層をグラビアコート法
により形成し、その上に接着性インキを用いて図柄層を
形成して転写材を得、加飾シートとした。

【００７４】また、携帯電話機のディスプレイ部分のカ
バー部品を成形する成形用金型を用意した。

【００７５】加飾シートの基体シート側が金型の凹部に
接するように加飾シートを載置し、その後溶融したアク
リル樹脂を金型内に射出し、透明基板の成形と同時に透
明基板と加飾シートを一体化し、次いで金型内から成形
品を取り出して基体シートを剥離し、表面の周囲に文字
や絵柄からなる図柄層を有する成形品を得た。

【００７６】次いで、８０ｗ／ｃｍ^２の高圧水銀灯１灯
で２秒間紫外線照射を施し、表面強度および耐薬品性に
優れた図柄を得た。

【００７７】続いて、この成形品を冶具に固定し、透明
基板の裏面に真空蒸着装置（株式会社昭和真空製）にて
二酸化珪素、二酸化チタン、二酸化珪素、二酸化チタ
ン、二酸化珪素の順序で所定の厚みになるように電子線
蒸着を行って低反射層を形成した。続いて冶具を反転さ
せ、保護層上に同様にして複数の層からなる低反射層を
形成した。

【００７８】引き続き、シラン化合物として下記構造式
のフッ素系シランを用い、これの２０重量％パーフルオ
ロヘキサン溶液を蒸着槽内の蒸発皿に０．１ｇ滴下し、
所定の加熱条件にて蒸発させ、厚さ１０ｎｍとなるよう
に蒸着して防汚層を形成した。

【００７９】

【化２】

【００８０】このようにして得た携帯電話機のディスプ
レイ部分のカバー部品である反射防止部材の各種物性を
測定したところ、透過率９８．０％、初期水接触角１１
２°、摺動後水接触角１１２°、ヘキサデカン転落角３
°であった。

【００８１】なお、透過率は低反射性の度合いを示し、
分光光度計を用い、波長５５０ｎｍにおける反射防止部
材の積分球による透過率を測定したものである。また、
初期水接触角は撥水性の度合いを示し、接触角計を使用
し、室温下で直径１．０ｍｍの水滴を針先につくり、こ
れを反射防止部材の表面に触れさせて液滴を作り、この
ときに生ずる液滴と面との角度を測定したものである。
また、摺動後水接触角は耐久性の度合いを示し、ポリエ
ステル製織布（帝人株式会社製ミクロスター）により、
反射防止部材の表面を２．４５Ｎ（２５０ｇ荷重）にて
５０往復させた後に、前述した方法で水に対する接触角
を測定したものである。また、ヘキサデカン転落角は撥
油性の度合いを示すものである。実施例１においては、
摺動後水接触角が初期水接触角と同一であり、耐久性に
優れたものであった。

【００８２】（比較例１）防汚層のシラン化合物とし
て、Ｃ_８Ｆ_１７Ｃ_２Ｈ_４Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３（ジーイー
東芝シリコーン株式会社製ＸＣ９８−Ａ５３８２）の１
０％イソブタノール溶液を用いた以外はすべて実施例１
と同様にして反射防止部材を得た。

【００８３】このようにして得た反射防止部材の各種物
性を測定したところ、透過率９８．０％、初期水接触角
１０８°、摺動後水接触角１００°、ヘキサデカン転落
角２２°であった。初期水接触角が実施例１と比較する
と４°低く、撥水性が劣るものであった。また、摺動後
水接触角が初期水接触角から８°減少し、耐久性に劣る
ものであった。また、ヘキサデカン転落角が実施例１と
比較すると１９°高く、撥油性に劣るものであった。

【００８４】（比較例２）実施例１と同様にして透明基
板上に、図柄層、保護層、低反射層を形成した。次い
で、防汚層のシラン化合物として実施例１と同様のもの
を使用し、０．１％にパーフルオロヘキサン溶液希釈を
行い、透明基板の裏面をマスク処理をしてディップコー
トすることにより、厚さ１０ｎｍの防汚層を形成した。

【００８５】このようにして得た反射防止部材の各種物
性を測定したところ、透過率９８．０％、初期水接触角
１１０°、摺動後水接触角１０５°、ヘキサデカン転落
角５°であった。初期水接触角が実施例１と比較すると
２°低く、撥水性が劣るものであった。また、摺動後水
接触角が初期水接触角から５°減少し、耐久性に劣るも
のであった。また、ヘキサデカン転落角が実施例１と比
較すると２°高く、撥油性に劣るものであった。

【００８６】

【発明の効果】この発明は、以上のような構成を採るの
で、以下のような効果を奏する。

【００８７】この発明の反射防止部材は、透明基板の一
方の面に少なくとも低反射層と防汚層とが順に積層さ
れ、低反射層が無機化合物からなり、防汚層が一般式化
１で示されるシラン化合物からなるので、透明基板の片
面のみに汚染物の除去が容易で耐久性に優れた防汚層を
有するものである。

【００８８】また、この発明の反射防止部材の製造方法
は、低反射層上に一般式化１で示されるシラン化合物を
用い蒸着法により防汚層を形成するので、汚染物の除去
が容易で耐久性に優れた防汚層を透明基板の片面のみに
均一な膜厚で容易に形成することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の反射防止部材の一実施例を示す断面
図である。

【図２】この発明の反射防止部材の製造方法に用いる転
写材の一実施例を示す断面図である。

【図３】この発明の反射防止部材の製造方法の一工程を
示す断面図である。

【符号の説明】

１透明基板２接着層３図柄層４保護層５低反射層６防汚層７反射防止部材９金型１０加飾シート１１基体シート１２転写層

フロントページの続きＦターム(参考） 2K009 AA05 AA07 BB11 BB24 CC03 CC06 CC09 CC42 DD01 DD02 DD03 DD04 DD07 EE05 4F100 AA00B AA17D AA20D AA21D AK25A AK52C AT00A BA03 BA04 BA07 BA10A BA10C EC031 EH361 EH66C EH662 GB32 GB41 GB48 HB00B JA20C JL00 JL06C JN01A JN06B YY00C

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明基板の一方の面に少なくとも低反射
層と防汚層とが順に積層され、低反射層が無機化合物か
らなり、防汚層が一般式化１で示されるシラン化合物か
らなることを特徴とする反射防止部材（一般式中、Ｘは
水素原子または低級アルキル基、Ｙは加水分解可能な
基、ｍは１〜５０の整数、ｎは０〜２の整数をそれぞれ
示す）。【化１】
【請求項２】低反射層の下に保護層を有する請求項１
に記載の反射防止部材。
【請求項３】低反射層の下に図柄層を有する請求項１
〜２のいずれかに記載の反射防止部材。
【請求項４】透明基板の上に接着層を有する請求項１
〜３のいずれかに記載の反射防止部材。
【請求項５】低反射層が単層で構成され、透明基板よ
り屈折率の小さい金属酸化物からなる層である請求項１
〜４のいずれかに記載の反射防止部材。
【請求項６】低反射層が複数の層から構成され、防汚
層と接する層が金属酸化物からなる層である請求項１〜
４のいずれかに記載の反射防止部材。
【請求項７】低反射層が透明基板の他方の面に形成さ
れている請求項１〜６のいずれかに記載の反射防止部
材。
【請求項８】防汚層の厚さが３〜２００ｎｍである請
求項１〜７のいずれかに記載の反射防止部材。
【請求項９】基体シート上に少なくとも低反射層が形
成された加飾シートを基体シートがキャビティ面に接す
るように金型にセットし、金型内に透明な溶融樹脂を射
出して樹脂からなる透明基板と加飾シートとの一体化物
を得、次いで基体シートを剥離し、次いで低反射層上に
一般式化１で示されるシラン化合物を用い蒸着法により
防汚層を形成することを特徴とする反射防止部材の製造
方法。
【請求項１０】基体シート上に少なくとも保護層が形
成された加飾シートを基体シートがキャビティ面に接す
るように金型にセットし、金型内に透明な溶融樹脂を射
出して樹脂からなる透明基板と加飾シートとの一体化物
を得、次いで基体シートを剥離し、次いで保護層上に低
反射層を積層し、次いで低反射層上に一般式化１で示さ
れるシラン化合物を用い蒸着法により防汚層を形成する
ことを特徴とする反射防止部材の製造方法。
【請求項１１】基体シート上に少なくとも図柄層が形
成された加飾シートを基体シートがキャビティ面に接す
るように金型にセットし、金型内に透明な溶融樹脂を射
出して樹脂からなる透明基板と加飾シートとの一体化物
を得、次いで基体シートを剥離し、次いで図柄層上に低
反射層を積層し、次いで低反射層上に一般式化１で示さ
れるシラン化合物を用い蒸着法により防汚層を形成する
ことを特徴とする反射防止部材の製造方法。
【請求項１２】基体シート上に少なくとも低反射層が
形成された加飾シートを基体シートと反対側の面がキャ
ビティ面に接するように金型にセットし、金型内に透明
な溶融樹脂を射出して樹脂からなる透明基板と加飾シー
トとの一体化物を得、次いで低反射層上に一般式化１で
示されるシラン化合物を用い蒸着法により防汚層を形成
することを特徴とする反射防止部材の製造方法。
【請求項１３】基体シート上に少なくとも保護層が形
成された加飾シートを基体シートと反対側の面がキャビ
ティ面に接するように金型にセットし、金型内に透明な
溶融樹脂を射出して樹脂からなる透明基板と加飾シート
との一体化物を得、次いで保護層上に低反射層を積層
し、次いで低反射層上に一般式化１で示されるシラン化
合物を用い蒸着法により防汚層を形成することを特徴と
する反射防止部材の製造方法。
【請求項１４】基体シート上に少なくとも図柄層が形
成された加飾シートを基体シートと反対側の面がキャビ
ティ面に接するように金型にセットし、金型内に透明な
溶融樹脂を射出して樹脂からなる透明基板と加飾シート
との一体化物を得、次いで図柄層上に低反射層を積層
し、次いで低反射層上に一般式化１で示されるシラン化
合物を用い蒸着法により防汚層を形成することを特徴と
する反射防止部材の製造方法。
【請求項１５】透明基板の加飾シートで加飾しなかっ
た面に低反射層を形成する請求項９〜１４のいずれかに
記載の反射防止部材の製造方法。