JP2001133968A - 感光性組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 作業性、経済性、保存安定性に優れ、ＣＴＰ
システムに適合した走査露光用平版印刷版または安価な
短波半導体レーザの発振波長に対し高感度な平版印刷版
用原版の材料として用いることができ、広く３５０ｎｍ
から４５０ｎｍの波長に対し高感度な新規な光重合開始
系を用いる感光性組成物を提供する。 【解決手段】（ｉ）極大吸収波長を350〜450 nmに有す
る三重項増感色素、（ｉｉ）アシルホスフィン化合物及
び、（ｉｉｉ）ラジカルおよび酸の少なくともいずれか
によって反応し、その物理的および化学的特性の少なく
ともいずれかが変化して保持される化合物を含有する感
光性組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は新規な光開始系、特
に、高感度でかつ、安定性に優れた光開始系を含有する
感光性組成物に関する。また、本発明は、特に、ディジ
タル信号に基づいた走査露光により製版可能な平版印刷
版用原版の材料として優れた感光性組成物に関する。さ
らに、例えば、光造形、ホログラフィー、カラーハード
コピーといった画像形成や、フォトレジスト等の電子材
料製造分野、インクや塗料、接着剤等の光硬化樹脂材料
用途に利用される感応性組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、平版印刷版としては親水性支持体
上に親油性の感光性樹脂層を設けた構成を有するＰＳ版
が広く用いられ、その製版方法として、通常は、リスフ
イルムを介してマスク露光（面露光）後、非画像部を溶
解除去することにより所望の印刷版を得ていた。

【０００３】近年、画像情報をコンピュータを用いて電
子的に処理、蓄積、出力する、ディジタル化技術が広く
普及し、それに対応した新しい画像出力方式が種々実用
される様になってきた。その結果レーザ光のような指向
性の高い光をディジタル化された画像情報に従って走査
し、リスフイルムを介す事無く、直接印刷版を製造する
コンピュータ トゥ プレート（ＣＴＰ）技術が望ま
れ、これに適応した印刷版用原版を得ることが重要な技
術課題となっている。

【０００４】このような走査露光可能な平版印刷版を得
る方式の一つとして、従来より、親水性支持体上にもう
けるインク受容性の感光性樹脂層（以下、感光層とい
う）として、感光スピードに優れた光重合系組成物を用
いた構成が提案され、既に上市されている。

【０００５】上記光重合性組成物は基本的にはエチレン
性不飽和化合物、光重合開始系、バインダー樹脂からな
り、画像形成は、光開始系が光吸収し、活性ラジカルを
生成、エチレン性不飽和化合物の付加重合を引き起こ
し、感光層の不溶化を生じるものである。従来の、走査
露光可能な光重合性組成物に関する提案の大部分は、感
光性に優れた光開始系の使用を開示したものである。

【０００６】これらの光開始系からなる光重合性組成物
と光源としてＡｒレーザー（４８８ｎｍ）やＦＤ−ＹＡ
Ｇレーザー（５３２ｎｍ）の様な長波長の可視光源を用
いた、従来のＣＴＰシステムに関しては、製版行程の生
産性をあげるために、さらに高速で書き込む事が望まれ
ている。

【０００７】一方、近年、例えば、ＩｎＧａＮ系の材料
を用い、３５０ｎｍから４５０ｎｍ域で連続発振可能な
半導体レーザが実用段階となっている。これらの短波光
源を用いた走査露光システムは、半導体レーザが構造
上、安価に製造出来るため、十分な出力を有しながら、
経済的なシステムを構築できるといった長所を有する。
さらに、従来のＦＤ−ＹＡＧやＡｒレーザを使用するシ
ステムに比較して、より明るいセーフライト下での作業
が可能な感光域が短波な感材が使用できる。

【０００８】さらに、感度の高い光開始系を得る事は、
広く、イメージング分野において尚、切望される技術で
ある。色素と活性剤からなる光開始系は、活性剤の選択
により、上記活性ラジカルの他、酸、塩基を発生する事
ができる。しかしながら、３５０ｎｍから４５０ｎｍの
短波長域で走査露光に十分な感度を有する光開始系は現
在までに知られていない。

【０００９】アシルホスフィン化合物を光開始剤として
用いた光重合性組成物は良く知られており、インキ、コ
ーティング材料、印刷版などに用いられている。米国特
許第4,292,152号には、重合性組成物の感光性を改良す
るために、酸化アシルホスフィン開始剤を使用すること
が記載されている。アシルホスフィン光開始剤は、単独
でも用いることができるが、適当な化合物を添加するこ
とで増感作用が得られることも知られている。特開平4-
220404号にはベンゾフェノンとの組み合わせ、特開平8-
305018号にはクマリンやチオフェンとの組み合わせ、WO
97/31051号にはフルオランテンとの組み合わせが開示
されている。また、特開平3-296759には、ベンズジチオ
ール型化合物を光重合開始剤として用いる方法が開示さ
れている。これらは確かに高感度であったが十分でな
く、また、450 nm以下の波長を有するレーザー光源を用
いた場合には実用上十分な感度が得られない。特開平10
-101719では、５員ヘテロ環酸性核を有する色素とチタ
ノセンの組み合わせが開示されており、高感度だが、チ
タノセン自身が550 nm付近まで光吸収を有するため、黄
色灯安全性の点で好ましくないのが現状である。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、作業性、経済性、保存安定性に優れた、ＣＴＰシス
テムに適合した走査露光用平版印刷版または安価な短波
半導体レーザの発振波長に対し高感度な平版印刷版用原
版の材料として用いられる感光性組成物を提供すること
にある。また、本発明の他の目的は、広く３５０ｎｍか
ら４５０ｎｍの波長に対し高感度な新規な光重合開始系
を用いる感光性組成物を提供することである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成すべく、短波長光で対応でき、カブリ（黄色灯安
全性）の問題がない光重合開始系を鋭意検討を重ねた結
果、光開始剤として、アシルホスフィン化合物を用い、
極大吸収波長を350 nm〜450 nmに有する三重項増感色素
を組み合わせた光重合性組成物を感光層として用いた場
合、短波半導体レーザの発振波長に対して十分な感度を
有し、しかも、保存安定性に優れた光重合性組成物が得
られることを見いだし、本発明に到達したものである。

【００１２】すなわち、本発明は以下の通りである。 （１）（ｉ）極大吸収波長を350〜450 nmに有する三重
項増感色素、（ｉｉ）アシルホスフィン化合物及び、
（ｉｉｉ）ラジカルおよび酸の少なくともいずれかによ
って反応し、その物理的および化学的特性の少なくとも
いずれかが変化して保持される化合物を含有する感光性
組成物。 （２）前記（ｉ）の増感色素が、下記一般式（１）で表
される増感色素および下記一般式（２）で表される増感
色素の少なくともいずれかである前記（１）に記載の感
光性組成物。

【００１３】

【化３】

【００１４】（式中、ＡはＳ原子もしくは、ＮＲ₁をあ
らわし、Ｒ₁は置換もしくは非置換のアルキル基、置換
もしくは非置換のアリール基を表し、Ｙは隣接するＡお
よび、隣接炭素原子と共同して色素の塩基性核を形成す
る非金属原子団をあらわし、Ｘ₁，Ｘ₂はそれぞれ独立
に、水素原子または一価の非金属原子団であり、Ｘ₁、
Ｘ₂は互いに結合して、色素の酸性核を形成してもよ
い。WはO原子または硫黄原子をあらわす。）

【００１５】

【化４】

【００１６】（式中、Ar₁およびAr₂はそれぞれ独立に置
換もしくは非置換のアリール基を表し、-Z-による結合
を介して連結している。ここで、Zは−O−又は-S-を表
す。また、Wは一般式１に示したものと同義である。） （３）前記（ｉｉｉ）のラジカルおよび酸の少なくとも
いずれかによって反応し、その物理的および化学的特性
の少なくともいずれかが変化して保持される化合物がエ
チレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であ
る前記（１）に記載の感光性組成物。 （４）前記（１）に記載の光重合性組成物を４５０ｎｍ
以下の波長を有するレーザー光で露光することを特徴と
する光重合方法。

【００１７】本発明の感光性組成物は、平版印刷版用原
版の感光層に用いることにより上記ＩｎＧａＮの様な短
波長の半導体レーザによる走査露光に適した十分な感度
を有し、かつ耐刷性・汚れ性に優れたものとすることが
できる。本発明の感光性組成物を感光層に用いた走査露
光用平版印刷版は黄色灯下でのカブリが著しく改良され
ており、版を取り扱う作業性が大幅に改善する事ができ
る。本発明の感光性組成物は３５０〜４５０ｎｍの波長
に対して優れた感度を有すると同時に、非常に優れた保
存安定性を示すという効果が得られる。

【００１８】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について詳細
に説明する。本発明の感光性組成物は、（Ａ）光重合開
始系、（Ｂ）少なくとも一個の、ラジカルおよび酸の少
なくともいずれかによって反応し、その物理的および化
学的特性の少なくともいずれかが変化して保持される化
合物を必須成分とし、さらに必要に応じ、（Ｃ）バイン
ダーポリマーを含んで成る。以下、これらの成分につい
て具体的に説明する。

【００１９】本発明の光重合層の必須成分である光重合
開始系は(I)特定構造を有する増感色素と(II)アシルホ
スフィン化合物を含有する。本発明における開始系は、
主として増感色素が光吸収し、共存するアシルホスフィ
ン化合物からの開始ラジカル発生を促進するものと考え
られる（この様なプロセスを以下、色素増感という）。
本発明者らは、増感色素として、三重項増感色素を用い
ることで、アシルホスフィン化合物を色素増感すること
を見出した。そのような増感色素の例としては、（一般
式１）に示す構造を有する場合に、特に強く、上記のよ
うな特性が得られることを見出し、本発明に至った。本
発明における特定構造の増感色素が特に色素増感能に優
れる理由は色素増感の機構が不明のため、詳述する事は
できないが、以下の様に考えることができる。すなわ
ち、本発明の増感色素は高強度の燐光スペクトルを示
す。これは、これらの色素が三重項増感色素であること
を示し、光開始剤を三重項増感することができることを
意味する。ここで、アシルホスフィン化合物は光重合反
応において、三重項状態を経由してラジカル発生するこ
とが知られている。これらの事を考え合わせると、上記
部分構造を有する本発明の増感色素が比較的長い寿命を
持つ三重項励起状態を形成し、光開始剤のラジカル発生
を効率化するように作用していることが考えられる。

【００２０】（Ａ１）増感色素 本発明に用いられる増感色素は、極大吸収波長を350 nm
〜450 nmに有する、三重項増感が可能な色素ならいずれ
でも良く、具体的には、チオキサントン、ナフタレン、
シアニン色素、メロシアニン色素などが挙げられる。本
発明に用いられる増感色素において、好ましい例は、下
記一般式（１）および一般式（２）のいずれかであらわ
されるものである。

【００２１】

【化5】

【００２２】（式中、ＡはＳ原子もしくは、ＮＲ₁をあ
らわし、Ｒ₁は置換もしくは非置換のアルキル基、置換
もしくは非置換のアリール基を表し、Ｙは隣接するＡお
よび、隣接炭素原子と共同して色素の塩基性核を形成す
る非金属原子団をあらわし、Ｘ₁，Ｘ₂はそれぞれ独立
に、水素原子または一価の非金属原子団であり、Ｘ₁、
Ｘ₂は互いに結合して、色素の酸性核を形成してもよ
い。WはO原子または硫黄原子をあらわす。）

【００２３】

【化６】

【００２４】（式中、Ａｒ₁およびＡｒ₂はそれぞれ独立
に置換もしくは非置換のアリール基を表し、−Z−によ
る結合を介して連結している。ここで、Zは−O−又は−
S−を表す。また、Wは一般式(１)に示したものと同義で
ある。）

【００２５】一般式（１）について詳しく説明する。Ａ
はＳ原子もしくは、ＮＲ₁をあらわし、Ｒ₁は置換もしく
は非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアリール
基を表し、Ｙは隣接するＡおよび、隣接炭素原子と共同
して色素の塩基性核を形成する非金属原子団を表す。

【００２６】Ｒ₁の好ましい例について具体的に述べ
る。好ましいアルキル基の例としては、炭素原子数が１
から２０までの直鎖状、分岐状、および環状のアルキル
基を挙げることができ、その具体例としては、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘ
キシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル
基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサ
デシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピ
ル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イ
ソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、
イソヘキシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘ
キシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２−
ノルボルニル基を挙げることができる。これらの中で
は、炭素原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３
から１２までの分岐状、ならびに炭素原子数５から１０
までの環状のアルキル基がより好ましい。

【００２７】置換アルキル基の置換基としては、水素を
除く一価の非金属原子団が用いられ、好ましい例として
は、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒ
ドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカ
プト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジ
チオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルア
ミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールア
ミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−
Ｎ−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイル
オキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−ア
リールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカル
バモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオ
キシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキ
シ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、
アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルア
ミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、
Ｎ′−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウ
レイド基、Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジ
アリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール
ウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウ
レイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、
Ｎ′−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′
−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−
ジアルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アリール
−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリ
ールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキ
ルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリール
ウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−ア
ルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−
Ｎ−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ
基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−
Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ
−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ
−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−
アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル
基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリー
ロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカ
ルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ
−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバ
モイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル
基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル
基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ス
ルホ基（−ＳＯ₃Ｈ）及びその共役塩基基（以下、スル
ホナト基と称す）、アルコキシスルホニル基、アリーロ
キシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキル
スルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモ
イル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ
アリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリ
ールスルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アル
キルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモ
イル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジア
リールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリール
スルファモイル基、ホスフォノ基（−ＰＯ₃Ｈ₂）及びそ
の共役塩基基（以下、ホスフォナト基と称す）、ジアル
キルホスフォノ基（−ＰＯ₃(alkyl)₂）、ジアリールホ
スフォノ基（−ＰＯ₃(aryl)₂）、アルキルアリールホス
フォノ基（−ＰＯ₃(alkyl)(aryl)）、モノアルキルホス
フォノ基（−ＰＯ₃Ｈ(alkyl)）及びその共役塩基基（以
後、アルキルホスフォナト基と称す）、モノアリールホ
スフォノ基（−ＰＯ ₃Ｈ(aryl)）及びその共役塩基基
（以後、アリールホスフォナト基と称す）、ホスフォノ
オキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ₂）及びその共役塩基基（以後、
ホスフォナトオキシ基と称す）、ジアルキルホスフォノ
オキシ基（−ＯＰＯ₃(alkyl)₂）、ジアリールホスフォ
ノオキシ基（−ＯＰＯ₃(aryl)₂）、アルキルアリールホ
スフォノオキシ基（−ＯＰＯ3(alkyl)(aryl)）、モノア
ルキルホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ(alkyl)）及び
その共役塩基基（以後、アルキルホスフォナトオキシ基
と称す）、モノアリールホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ
₃Ｈ(aryl)）及びその共役塩基基（以後、アリールフォ
スホナトオキシ基と称す）、シアノ基、ニトロ基、アリ
ール基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル
基が挙げられる。

【００２８】これらの置換基における、アルキル基の具
体例としては、前述のアルキル基が挙げられ、アリール
基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフ
チル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル
基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチ
ルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニ
ル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、ア
セトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチ
ルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルア
ミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチル
アミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカ
ルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、
フェノキシカルボニルフェニル基、Ｎ−フェニルカルバ
モイルフェニル基、フェニル基、シアノフェニル基、ス
ルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスフォノフ
ェニル基、ホスフォナトフェニル基等を挙げることがで
きる。

【００２９】ヘテロアリール基としては、窒素、酸素、
硫黄原子の少なくとも一つを含有する単環、もしくは多
環芳香族環が用いられ、好ましくは、フラン、ピロー
ル、ピリジン、等の５員、または６員環芳香族置換基が
使用できる。

【００３０】また、アルケニル基の例としては、ビニル
基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、シンナミル
基、２−クロロ−１−エテニル基、等が挙げられ、アル
キニル基の例としては、エチニル基、１−プロピニル
基、１−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等が
挙げられる。アシル基（Ｇ₁ＣＯ^-）におけるＧ₁として
は、水素、ならびに上記のアルキル基、アリール基を挙
げることができる。これら置換基の内、更により好まし
いものとしてはハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、
−Ｉ）、アルコキシ基、アリーロキシ基、、アルキルチ
オ基、アリールチオ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ
−ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、Ｎ−アルキル
カルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキ
シ基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボ
キシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカル
ボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリール
カルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモ
イル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、
Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルス
ルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ−
アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホスフォノ
基、ホスフォナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジアリ
ールホスフォノ基、モノアルキルホスフォノ基、アルキ
ルホスフォナト基、モノアリールホスフォノ基、アリー
ルホスフォナト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナト
オキシ基、アリール基、アルケニル基が挙げられる。

【００３１】一方、置換アルキル基におけるアルキレン
基としては前述の炭素数１から２０までのアルキル基上
の水素原子のいずれか１つを除し、２価の有機残基とし
たものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数１か
ら１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐
状ならびに炭素原子数５から１０までの環状のアルキレ
ン基を挙げることができる。

【００３２】該置換基とアルキレン基を組み合わせる事
により得られるＲ₁として好ましい置換アルキル基の、
具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基、２
−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメ
チル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチ
ル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリ
ルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミ
ノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシ
メチル基、ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ−シクロヘキ
シルカルバモイルオキシエチル基、Ｎ−フェニルカルバ
モイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、Ｎ−
メチルベンゾイルアミノプロピル基、２−オキソエチル
基、２−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メ
トキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブ
チル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバ
モイルメチル基、Ｎ−メチルカルバモイルエチル基、
Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルメチル基、Ｎ−（メト
キシフェニル）カルバモイルエチル基、Ｎ−メチル−Ｎ
−（スルホフェニル）カルバモイルメチル基、スルホブ
チル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル
基、Ｎ−エチルスルファモイルメチル基、Ｎ，Ｎ−ジプ
ロピルスルファモイルプロピル基、Ｎ−トリルスルファ
モイルプロピル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスフォノフェ
ニル）スルファモイルオクチル基、ホスフォノブチル
基、ホスフォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチ
ル基、ジフェニルホスフォノプロピル基、メチルホスフ
ォノブチル基、メチルホスフォナトブチル基、トリルホ
スフォノヘキシル基、トリルホスフォナトヘキシル基、
ホスフォノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシブチ
ル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル
基、１−メチル−１−フェニルエチル基、ｐ−メチルベ
ンジル基、シンナミル基、アリル基、１−プロペニルメ
チル基、２−ブテニル基、２−メチルアリル基、２−メ
チルプロペニルメチル基、２−プロピニル基、２−ブチ
ニル基、３−ブチニル基、等を挙げることができる。

【００３３】Ｒ₁として好ましいアリール基の具体例と
しては、１個から３個のベンゼン環が縮合環を形成した
もの、ベンゼン環と５員不飽和環が縮合環を形成したも
のを挙げることができ、具体例としては、フェニル基、
ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデ
ニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、を挙げる
ことができ、これらのなかでは、フェニル基、ナフチル
基がより好ましい。

【００３４】Ｒ₁として好ましい置換アリール基の具体
例としては、前述のアリール基の環形成炭素原子上に置
換基として、水素を除く一価の非金属原子団を有するも
のが用いられる。好ましい置換基の例としては前述のア
ルキル基、置換アルキル基、ならびに、先に置換アルキ
ル基における置換基として示したものを挙げることがで
きる。この様な、置換アリール基の好ましい具体例とし
ては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル
基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル
基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル基、ト
リフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、
メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル基、ア
リルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチル
チオフェニル基、トリルチオフェニル基、エチルアミノ
フェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフ
ェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキ
シフェニル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシ
フェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシフェニル
基、アセチルアミノフェニル基、Ｎ−メチルベンゾイル
アミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカ
ルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル
基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモ
イルフェニル基、Ｎ−メチルカルバモイルフェニル基、
Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルフェニル基、Ｎ−（メ
トキシフェニル）カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチル
−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモイルフェニル基、ス
ルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイ
ルフェニル基、Ｎ−エチルスルファモイルフェニル基、
Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルフェニル基、Ｎ−ト
リルスルファモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホ
スフォノフェニル）スルファモイルフェニル基、ホスフ
ォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基、ジエチルホ
スフォノフェニル基、ジフェニルホスフォノフェニル
基、メチルホスフォノフェニル基、メチルホスフォナト
フェニル基、トリルホスフォノフェニル基、トリルホス
フォナトフェニル基、アリル基、１−プロペニルメチル
基、２−ブテニル基、２−メチルアリルフェニル基、２
−メチルプロペニルフェニル基、２−プロピニルフェニ
ル基、２−ブチニルフェニル基、３−ブチニルフェニル
基、等を挙げることができる。

【００３５】次に、一般式（１）におけるＸ₁およびＸ₂
について具体的に説明する。Ｘ₁およびＸ₂はそれぞれ独
立して、水素原子または一価の非金属原子団、例えば、
ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロ
キシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ
基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ
基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ
基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−
アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキ
シ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリー
ルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモ
イルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ
基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ
基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、ア
シルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミ
ノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ′
−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウレイ
ド基、Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリ
ールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリールウレ
イド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイ
ド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′
−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジ
アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジア
ルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ
−アルキルウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリール
ウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキルウ
レイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリールウレ
イド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキ
ルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−
アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、
アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−
アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−ア
リーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−ア
ルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリ
ーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、
カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキ
シカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバ
モイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−ア
リールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイ
ル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、ア
ルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アル
キルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基
（−ＳＯ₃Ｈ）及びその共役塩基基（以下、スルホナト
基と称す）、アルコキシスルホニル基、アリーロキシス
ルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフ
ィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル
基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリ
ールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリール
スルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アルキル
スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル
基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリー
ルスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスル
ファモイル基、ホスフォノ基（−ＰＯ₃Ｈ₂）及びその共
役塩基基（以下、ホスフォナト基と称す）、ジアルキル
ホスフォノ基（−ＰＯ₃(alkyl)₂）、ジアリールホスフ
ォノ基（−ＰＯ₃(aryl)₂）、アルキルアリールホスフォ
ノ基（−ＰＯ₃(alkyl)(aryl)）、モノアルキルホスフォ
ノ基（−ＰＯ3Ｈ(alkyl)）及びその共役塩基基（以後、
アルキルホスフォナト基と称す）、モノアリールホスフ
ォノ基（−ＰＯ₃Ｈ(aryl)）及びその共役塩基基（以
後、アリールホスフォナト基と称す）、ホスフォノオキ
シ基（−ＯＰＯ₃Ｈ₂）及びその共役塩基基（以後、ホス
フォナトオキシ基と称す）、ジアルキルホスフォノオキ
シ基（−ＯＰＯ₃(alkyl)₂）、ジアリールホスフォノオ
キシ基（−ＯＰＯ₃(aryl)₂）、アルキルアリールホスフ
ォノオキシ基（−ＯＰＯ3(alkyl)(aryl)）、モノアルキ
ルホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ(alkyl)）及びその
共役塩基基（以後、アルキルホスフォナトオキシ基と称
す）、モノアリールホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ
(aryl)）及びその共役塩基基（以後、アリールフォスホ
ナトオキシ基と称す）、シアノ基、ニトロ基、置換もし
くは非置換のアリール基、ヘテロアリール基、アルケニ
ル基、アルキニル基が挙げられ、これらのより具体的な
例は、先のＲ₁に関して説明したものである。

【００３６】また、Ｘ₁とＸ₂は互いに結合して、先述の
L.G.Brooker et al.,J.Am.Chem.Soc.,73,5326-5358(19
51).及び参考文献に記載されるメロシアニン色素類にお
ける酸性核を構成してもよい。

【００３７】酸性核の具体例としては、１，３−ジカル
ボニル核（例えば，１，３−インダンジオン、１，３−
シクロヘキサンジオン、５，５−ジメチルシクロヘキサ
ンジオン、１，３−ジオキサン−４，６−ジオン等）、
ピラゾリノン核（例えば、３−メチルー１−フェニルー
２−ピラゾリン−５−オン、１−フェニル−２−ピラゾ
リン−５−オン、１−（２−ベンゾチアゾリル）−３−
メチル−２−ピラゾリン−５−オン等）、イソオキサゾ
リノン核（例えば、３−フェニル−２−イソオキサゾリ
ン−５−オン、３−メチル−２−イソオキサゾリン−５
−オン等）、オキシインドール核（例えば、１−アルキ
ル−２，３−ジヒドロ−２−オキシインドール等）、
２，４，６−トリオキソヘキサヒドロピリミジン核（例
えば、バルビツル酸または２−チオバルビツル酸および
そのＮ置換誘導体、例えば、１，３−ジエチルバルビツ
ル酸、１，３−ジエチル−２−チオバルビツル酸、１，
３−ジブチルバルビツル酸、１，３−ジブチル−２−チ
オバルビツル酸、１，３−ジフェニルバルビツル酸、
１，３−ジフェニル−２−チオバルビツル酸、１，３−
ジメトキシカルボニルメチルバルビツル酸、１，３−ジ
メトキシカルボニルメチル−２−チオバルビツル酸
等）、２−チオ−２，４−チアゾリジンジオン核（例え
ば、ローダニンおよびそのＮ置換誘導体、例えば、３−
メチルローダニン、３−エチルローダニン、３−フェニ
ルローダニン、３−アリルローダニン、３−ベンジルロ
ーダニン、３−カルボキシメチルローダニン、３−カル
ボキシエチルローダニン、３−メトキシカルボニルメチ
ルローダニン、３−ヒドロキシエチルローダニン、３−
モルフォリノエチルローダニン、等）、２−チオ−２，
４−オキサゾリジンジオン核（すなわち、２−チオ−
２，４−（３Ｈ，４Ｈ）−オキサゾールジオン核、例え
ば、２−エチル−２−チオ−２，４−オキサゾリジンジ
オン等）、チアナフテノン核（例えば、３（２Ｈ）−チ
アナフテノン、３（２Ｈ）−チアナフテノン−１，１−
ジオキサイド等）、２−チオ−２，５−チアゾリジンジ
オン核（例えば、３−エチル−２−チオ２，５−チアゾ
リジンジオン等）、２，４−チアゾリジンジオン核（例
えば、２，４−チアゾリジンジオン、３−エチル−２，
４−チアゾリジンジオン、３−フェニル−２，４−チア
ゾリジンジオン等）、チアゾリジノン核（例えば、４−
チアゾリジノン、３−エチル−４−チアゾリジノン、２
−エチルメルカプト−４−チゾリジノン、２−メチルフ
ェニルアミノ−４−チゾリジノン等）、２−イミノ−２
−オキサゾリン−４−オン核（即ち、擬ヒダントイン
核）、２，４−イミダゾリジンジオン核（即ち、ヒダン
トイン核、例えば、２，４−イミダゾリジンジオン、３
−エチル−２，４−イミダゾリジンジオン、１，３−ジ
エチル−２，４−イミダゾリジンジオン等）、２−チオ
−２，４−イミダゾリジンジオン核（即ち、チオヒダン
トイン核、例えば、２−チオ−２，４−イミダゾリジン
ジオン、３−エチル−２−チオ−２，４−イミダゾリジ
ンジオン、１，３−ジエチル−２−チオ−２，４−イミ
ダゾリジンジオン等）、イミダゾリン−５−オン核（例
えば、２−プロピルメルカプト−２−イミダゾリン−５
−オン等）、フラン−５−オン核、４−ヒドロキシ−２
（１Ｈ）−ピリジノン核（例えば、Ｎ−メチル−４−ヒ
ドロキシ−２（１Ｈ）−ピリジノン、Ｎ−メチル−４−
ヒドロキシ−２（１Ｈ）−キノリノン、Ｎ−ブチル−４
−ヒドロキシ−２（１Ｈ）−キノリノン等）、４−ヒド
ロキシ−２Ｈ−ピラン−２−オン核（例えば、４−ヒド
ロキシクマリン等）、チオインドキシル核（例えば、５
−メチルチオインドキシル等）等があげられ、これらの
酸性核はさらに置換基を有してもよい。

【００３８】次に、一般式（１）におけるＹについて説
明する。Ｙは上述のＡおよび、隣接炭素原子と共同し
て、複素環を形成するのに必要な非金属原子団を表す。
この様な複素環としては５、６、７員の含窒素、あるい
は含硫黄複素環があげられ、好ましくは５、６員の複素
環がよい。

【００３９】含窒素複素環の例としては、L.G.Brooker
et al.,J.Am.Chem.Soc.,73,5326-5358(1951).及び参考
文献に記載されるメロシアニン色素類における塩基性核
を構成するものとして知られるものをいずれも好適に用
いることができる。具体例としては、チアゾール類（例
えば、チアゾール、４−メチルチアゾール、４ーフェニ
ルチアゾール、５−メチルチアゾール、５−フェニルチ
アゾール、４，５−ジメチルチアゾール、４，５−ジフ
ェニルチアゾール、４，５−ジ（ｐ−メトキシフェニル
チアゾール）、４−（２−チエニル）チアゾール、
等）、ベンゾチアゾール類（例えば、ベンゾチアゾー
ル、４−クロロベンゾチアゾール、５−クロロベンゾチ
アゾール、６−クロロベンゾチアゾール、７−クロロベ
ンゾチアゾール、４−メチルベンゾチアゾール、５−メ
チルベンゾチアゾール、６−メチルベンゾチアゾール、
５−ブロモベンゾチアゾール、４−フェニルベンゾチア
ゾール、５−フェニルベンゾチアゾール、４−メトキシ
ベンゾチアゾール、５−メトキシベンゾチアゾール、６
−メトキシベンゾチアゾール、５−ヨードベンゾチアゾ
ール、６−ヨードベンゾチアゾール、４−エトキシベン
ゾチアゾール、５−エトキシベンゾチアゾール、テトラ
ヒドロベンゾチアゾール、５，６−ジメトキシベンゾチ
アゾール、５，６−ジオキシメチレンベンゾチアゾー
ル、５−ヒドロキシベンゾチアゾール、６−ヒドロキシ
ベンゾチアゾール、６ージメチルアミノベンゾチアゾー
ル、５−エトキシカルボニルベンゾチアゾール、等）、
ナフトチアゾール類（例えば、ナフト［１，２］チアゾ
ール、ナフト［２，１］チアゾール、５−メトキシナフ
ト［２，１］チアゾール、５−エトキシナフト［２，
１］チアゾール、８−メトキシナフト［１，２］チアゾ
ール、７−メトキシナフト［１，２］チアゾール、
等）、チアナフテノ−７’，６’，４，５−チアゾール
類（例えば、４’−メトキシチアナフテノ−７’，
６’，４，５−チアゾール、等）、オキサゾール類（例
えば、４−メチルオキサゾール、５−メチルオキサゾー
ル、４−フェニルオキサゾール、４，５−ジフェニルオ
キサゾール、４−エチルオキサゾール、４，５−ジメチ
ルオキサゾール、５−フェニルオキサゾール等）、ベン
ゾオキサゾール類（ベンゾオキサゾール、５−クロロベ
ンゾオキサゾール、5ーメチルベンゾオキサゾール、５−
フェニルベンゾオキサゾール、６−メチルベンゾオキサ
ゾール、５，６−ジメチルベンゾオキサゾール、４，６
−ジメチルベンゾオキサゾール、６−メトキシベンゾオ
キサゾール、５−メトキシベンゾオキサゾール、４−エ
トキシベンゾオキサゾール、５−クロロベンゾオキサゾ
ール、６ーメトキシベンゾオキサゾール、５−ヒドロキ
シベンゾオキサゾール、６−ヒドロキシベンゾオキサゾ
ール、等）、ナフトオキサゾール類（例えば、ナフト
［１，２］オキサゾール、ナフト［２，１］オキサゾー
ル、等）、セレナゾール類（例えば、４−メチルセレナ
ゾール、４−フェニルセレナゾール、等）、ベンゾセレ
ナゾール類（例えば、ベンゾセレナゾール、５−クロロ
ベンゾセレナゾール、５−メトキシベンゾセレナゾー
ル、５−ヒドロキシベンゾセレナゾール、テトラヒドロ
ベンゾセレナゾール、等）、ナフトセレナゾール類（例
えば、ナフト［１，２］セレナゾール、ナフト［２，
１］セレナゾール、等）、チアゾリン類（例えば、チア
ゾリン、４−メチルチアゾリン、等）、２−キノリン類
（例えば、キノリン、３−メチルキノリン、５−メチル
キノリン、７−メチルキノリン、８−メチルキノリン、
６−クロロキノリン、８−クロロキノリン、６−メトキ
シキノリン、６−エトキシキノリン、６ーヒドロキシキ
ノリン、８−ヒドロキシキノリン、等）、４−キノリン
類（例えば、キノリン、６−メトキシキノリン、７−メ
チルキノリン、８−メチルキノリン、等）、１−イソキ
ノリン類（例えば、イソキノリン、３，４−ジヒドロイ
ソキノリン、等）、３−イソキノリン類（例えば、イソ
キノリン等）、ベンズイミダゾール類（例えば、１，３
−ジエチルベンズイミダゾール、１−エチル−３−フェ
ニルベンズイミダゾール、等）、３，３−ジアルキルイ
ンドレニン類（例えば、３，３−ジメチルインドレニ
ン、３，３，５，−トリメチルインドレニン、３，３，
７，−トリメチルインドレニン、等）、２−ピリジン類
（例えば、ピリジン、５−メチルピリジン、等）、４−
ピリジン（例えば、ピリジン等）等をあげることができ
る。

【００４０】また、含硫黄複素環の例としては、例え
ば、特開平３−２９６７５９記載の色素類におけるジチ
オール部分構造をあげることができる。ジチオールの具
体例としては、ベンゾジチオール類（例えば、ベンゾジ
チオール、５−ｔ−ブチルベンゾジチオール、５−メチ
ルベンゾジチオール、等）、ナフトジチオール類（例え
ば、ナフト［１，２］ジチオール、ナフト［２，１］ジ
チオール、等）、ジチオール類（例えば、４，５−ジメ
チルジチオール類、４−フェニルジチオール類、４−メ
トキシカルボニルジチオール類、４，５−ジメトキシカ
ルボニルベンゾジチオール類、４，５−ジトリフルオロ
メチルジチオール、４，５−ジシアノジチオール、４−
メトキシカルボニルメチルジチオール、４−カルボキシ
メチルジチオール、等）等を挙げることができる。

【００４１】以上に述べた一般式（１）におけるＹが、
上述のＡおよび、隣接する炭素原子と共同して、形成す
る含窒素あるいは硫黄複素環の例の内、下記、一般式
（３）および一般式（４）であらわされる構造を有する
色素は、高い増感能を有する上、保存安定性にも非常に
優れた、光重合性組成物を与えるため、特に好ましい。

【００４２】

【化７】

【００４３】一般式（３）および一般式（４）中、
Ｒ₁、X₁、X₂、WおよびZは一般式（１）および一般式
（２）中と同義であり、R2およびR3はそれぞれ独立に、
水素原子、置換もしくは非置換のアルキル基、アリール
基、ヘテロアリール基をあらわし、R2、R3が互いに結合
して５、６、もしくは７員環を形成してもよい。Ｒ₂、
Ｒ₃の具体例としては、先に、Ｒ₁の例としてあげた、置
換もしくは非置換のアルキル基、アリール基の例があげ
られる。次に、一般式（２）について詳しく説明する。

【００４４】

【化８】

【００４５】（式中、Ar₁およびAr₂はそれぞれ独立に置
換もしくは非置換のアリール基を表し、-Z-による結合
を介して連結している。ここで、Zは−O−又は-S-を表
す。また、Wは一般式１に示したものと同義である。） Ar₁およびAr₂における置換もしくは非置換のアリール基
としては、一般式１中で詳しく説明したものと同様のも
のがあげられる。一般式（２）であらわされる構造中、
下記、一般式（５）であらわされる構造を有する色素
は、高い増感能を有する上、保存安定性にも非常に優れ
た、光重合性組成物を与えるため、特に好ましい。

【００４６】

【化９】

【００４７】（式中、R₄〜R₁₁ははそれぞれ独立に、水
素原子又は一価の非金属原子団であり、互いに結合して
も良い。）

【００４８】以下に一般式（１）で表される化合物の好
ましい具体例として（D-1）から（D27）、（E-1）から
（E-28）、また、一般式（２）で表される化合物の好ま
しい具体例として（F-1）から（F-17）を示すが、本発
明はこれに限定されるものではない。また、酸性核と塩
基性核を結ぶ２重結合による異性体については明らかで
なく、本発明はどちらかの異性体に限定されるものでも
ない。

【００４９】

【化１０】

【００５０】

【化１１】

【００５１】

【化１２】

【００５２】

【化１３】

【００５３】

【化１４】

【００５４】

【化１５】

【００５５】（Ａ２）アシルホスフィン化合物 本発明において光重合性開始系として用いられるアシル
ホスフィン化合物は、前記した増感色素との共存下で光
照射した場合、活性ラジカルを発生し得るアシルホスフ
ィン化合物であればいずれであってもよく、例えば、特
開平5-345790、特公平9-2604172、特開平7-278215、特
開平10-29997、特表平10-505352、特開平10-95788、米
国特許第5,407,969号公報に記載されている公知の化合
物を適宜に選択して用いることができる。

【００５６】さらに具体的には、2,4,6-トリメチルベン
ゾイルージフェニルホスフィンオキシド（BASF社のルシ
リン^R ＴＰＯ）（以下「ＡＰ−３」とよぶ）、ビス（2,
6-ジメトキシベンゾイル）-2,4,4-トリメチルペンチル
ホスフィンオキシド（チバ社から入手可能なCGI^R 40
3））（以下「ＡＰ−４」とよぶ）、ビス（２，４，６
−トリメチルベンゾイル）イソブチルホスフィンオキシ
ド、２，６−ジメチトキシベンゾイル−２，４，６−ト
リメチルベンゾイル−ｎ−ブチルホスフィンオキシド、
ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホ
スフィンオキシド（以下「ＡＰ−１」とよぶ）、ビス
（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−2,4-ジブトキ
シフェニルホスフィンオキシド（以下「ＡＰ−２」とよ
ぶ）、１，１０−ビス［ビス（２，４，６−トリメチル
ベンゾイル）ホスフィンオキシド］デカン、トリス（２
−メチルベンゾイル）ホスフィンオキシド等を挙げるこ
とができる。

【００５７】本発明のアシルホスフィン化合物に関して
も、先の増感色素と同様、さらに、感光層の特性を改良
するための様々な化学修飾を行うことも可能である。例
えば、増感色素や、付加重合性不飽和化合物その他のラ
ジカル発生パートとの結合、親水性部位の導入、相溶性
向上、結晶析出抑制のための置換基導入、密着性を向上
させる置換基導入、ポリマー化等の方法が利用できる。

【００５８】これらのアシルホスフィン化合物の使用法
に関しても、先述の付加重合性化合物、増感色素同様、
感材の性能設計により適宜、任意に設定できる。例え
ば、２種以上併用することで、感光層への相溶性を高め
る事ができる。アシルホスフィン化合物の使用量は通常
多い方が感光性の点で有利であり、感光層成分１００重
量部に対し、０. ５〜８０重量部、好ましくは１〜５０
重量部、範囲で用いることで十分な感光性が得られる。
また、本発明の増感色素との組み合わせによりアシルホ
スフィンの使用量は６重量部以下、さらに１．９重量部
以下、さらには１．４重量部以下にまで下げても十分な
感光性を得ることができる。

【００５９】（Ｂ）少なくとも一個の、ラジカルおよび
酸の少なくともいずれかによって反応し、その物理的お
よび化学的特性の少なくともいずれかが変化して保持さ
れる化合物 本発明に於ける第３の必須成分（ｉｉｉ）は上述の光開
始系の光反応により生じた、活性種の作用により、その
物理的もしくは化学的特性が変化して保持される化合物
であり、成分（ｉｉｉ）は、このような性質を有するも
のであれば特に制限なく任意のものを使用でき、例え
ば、上述の開始系にあげた化合物自身がそのような性質
を有する場合も多い。光開始系から生成したラジカル、
酸、および／または塩基により、変化する成分（ｉｉ
ｉ）の特性としては、例えば、吸収スペクトル（色）、
化学構造、分極率等の分子的な物性や、溶解性、強度、
屈折率、流動性、粘着性、等の材料的な物性の変化を含
む。

【００６０】例えば、成分（ｉｉｉ）として、ｐＨ指示
薬のように、ｐＨによって吸収スペクトルの変化する化
合物を用い、開始系から酸または塩基を発生させれば、
露光部のみの色味をかえる事ができるが、この様な組成
物は画像形成材料として有用である。同様に、（ｉｉ
ｉ）として、酸化・還元や求核付加反応により吸収スペ
クトルが変化する化合物を用いた場合、開始系から生成
するラジカルによる酸化、還元等を引き起こし画像形成
が可能である。そのような例は例えば、J.Am.Chem.So
c.,108,128(1986). 、 J.Imaging.Sci.,30,215(198
6).、Israel.J.Chem.,25,264(1986).に開示されてい
る。

【００６１】また、（ｉｉｉ）として付加重合または、
重縮合可能な化合物を用い、開始系と組み合わせる事に
より、光硬化性樹脂、あるいはネガ型フォトポリマーを
形成可能である。（ｉｉｉ）としては、ラジカル重合性
化合物（エチレン性不飽和結合を有する化合物等）やカ
チオン重合性化合物（エポキシ化合物、ビニルエーテル
化合物、メチロール化合物等）、アニオン重合性化合物
（エポキシ化合物等）が用いられ、そのような例は、例
えば、フォトポリマー懇話会編、フォトポリマーハンド
ブック、工業調査会（１９８９）や、高分子,45,786(19
96).等に記載される。また、（ｉｉｉ）としてチオール
化合物を用い、光ラジカル発生系と組み合わせた組成物
も良く知られる。

【００６２】（ｉｉｉ）として酸分解性の化合物を用
い、光酸発生剤と組み合わせる事も有用である。例え
ば、側鎖や、主鎖が酸で分解する高分子を用い、光によ
り溶解性や親疎水性等を変化させる材料は光分解型感光
性樹脂、ポジ型フォトポリマーとして広く実用されてい
る。そのような具体例は例えば、ACS.Symp.Ser.242,11
(1984).、特開昭６０−３６２５、ＵＳＰ−５１０２７
７１，５２０６３１７，５２１２０４７，特開平４−２
６８５０，特開平３−１９２１７３１，特開昭６０−１
０２４７，特開昭６２−４０４５０等があげられる。

【００６３】以下には本発明の目的の一つである、高感
度な平版印刷版用原版を得る目的に対し特に優れた成分
（ｉｉｉ）である、付加重合可能な化合物に関しより詳
しく述べる。 （Ｂ−１）付加重合性化合物 本発明に使用される好ましい成分（ｉｉｉ）である、少
なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加
重合性化合物は、末端エチレン性不飽和結合を少なくと
も１個、好ましくは２個以上有する化合物から選ばれ
る。この様な化合物群は当該産業分野において広く知ら
れるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無
く用いる事ができる。これらは、例えばモノマー、プレ
ポリマー、すなわち２量体、３量体およびオリゴマー、
またはそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの
化学的形態をもつ。モノマーおよびその共重合体の例と
しては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタ
クリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、
マレイン酸など）や、そのエステル類、アミド類があげ
られ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アル
コール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族
多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒ
ドロキシル基や、アミノ基、メルカプト基等の求核性置
換基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単
官能もしくは多官能イソシアネート類、エポキシ類との
付加反応物、単官能もしくは、多官能のカルボン酸との
脱水縮合反応物等も好適に使用される。

【００６４】また、イソシアナト基や、エポキシ基、等
の親電子性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステ
ル、アミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、
アミン類、チオール類との付加反応物、ハロゲン基や、
トシルオキシ基、等の脱離性置換基を有する、不飽和カ
ルボン酸エステル、アミド類と単官能もしくは多官能の
アルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も
好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボ
ン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニル
エーテル等に置き換えた化合物群を使用する事も可能で
ある。

【００６５】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテト
ラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソ
ルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオ
キシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレ
ートオリゴマー等がある。

【００６６】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリ
ルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメ
チルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキ
シ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。

【００６７】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、
１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。

【００６８】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。

【００６９】イソクロトン酸エステルとしては、エチレ
ングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトー
ルジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロト
ネート等がある。

【００７０】マレイン酸エステルとしては、エチレング
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等がある。

【００７１】その他のエステルの例として、例えば、特
公昭４６−２７９２６、特公昭５１−４７３３４、特開
昭５７−１９６２３１記載の脂肪族アルコール系エステ
ル類や、特開昭５９−５２４０、特開昭５９−５２４
１、特開平２−２２６１４９記載の芳香族系骨格を有す
るもの、特開平１−１６５６１３記載のアミノ基を含有
するもの等も好適に用いられる。さらに、前述のエステ
ルモノマーは混合物としても使用することができる。

【００７２】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。

【００７３】その他の好ましいアミド系モノマーの例と
しては、特公昭５４−２１７２６記載のシクロへキシレ
ン構造を有すものをあげる事ができる。

【００７４】また、イソシアネートと水酸基の付加反応
を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適
であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭４
８−４１７０８号公報中に記載されている１分子に２個
以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化
合物に、下記一般式（６）で示される水酸基を含有する
ビニルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合
性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げら
れる。

【００７５】 CH₂=C(R)COOCH₂CH(R′)OH (6) （ただし、ＲおよびＲ'はＨあるいはＣＨ₃を示す。）

【００７６】また、特開昭５１−３７１９３号、特公平
２−３２２９３号、特公平２−１６７６５号に記載され
ているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８−
４９８６０号、特公昭５６−１７６５４号、特公昭６２
−３９４１７、特公昭６２−３９４１８号記載のエチレ
ンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適で
ある。

【００７７】さらに、特開昭６３−２７７６５３，特開
昭６３−２６０９０９号、特開平１−１０５２３８号に
記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有
する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常
に感光スピードに優れた感光性組成物を得ることができ
る。

【００７８】その他の例としては、特開昭４８−６４１
８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０
４９０号、各公報に記載されているようなポリエステル
アクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を
反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリ
レートやメタクリレートをあげることができる。また、
特公昭４６−４３９４６号、特公平１−４０３３７号、
特公平１−４０３３６号記載の特定の不飽和化合物や、
特開平２−２５４９３号記載のビニルホスホン酸系化合
物等もあげることができる。また、ある場合には、特開
昭６１−２２０４８号記載のペルフルオロアルキル基を
含有する構造が好適に使用される。さらに日本接着協会
誌 vol. ２０、No. ７、３００〜３０８ページ（１９８
４年）に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介
されているものも使用することができる。

【００７９】これらの、付加重合性化合物について、ど
の様な構造を用いるか、単独で使用するか併用するか、
添加量はどうかといった、使用方法の詳細は、最終的な
感材の性能設計にあわせて、任意に設定できる。例えば
次のような観点から選択される。感光スピードの点では
１分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多
くの場合、２官能以上が好ましい。また、画像部すなわ
ち硬化膜の強度を高くするためには、３官能以上のもの
が良く、さらに、異なる官能数・異なる重合性基（例え
ばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレ
ン系化合物、ビニルエーテル系化合物）のものを併用す
ることで、感光性と、強度を両方を調節する方法も有効
である。大きな分子量の化合物や、疎水性の高い化合物
は感光スピードや、膜強度に優れる反面、現像スピード
や現像液中での析出といった点で好ましく無い場合があ
る。

【００８０】また、感光性組成物中の他の成分（例えば
バインダーポリマー、開始剤、着色剤等）との相溶性、
分散性に対しても、付加重合化合物の選択・使用法は重
要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、２種
以上の併用により相溶性を向上させうる事がある。ま
た、平版印刷版用原版とする場合、後述の支持体、オー
バーコート層等の密着性を向上せしめる目的で特定の構
造を選択することもあり得る。感光性組成物中の付加重
合性化合物の配合比に関しては、多い方が感度的に有利
であるが、多すぎる場合には、好ましく無い相分離が生
じたり、感光性組成物の粘着性による製造工程上の問題
（例えば、感材成分の転写、粘着に由来する製造不良）
や、平版印刷版用原版とした場合、現像液からの析出が
生じる等の問題を生じうる。これらの観点から、好まし
い配合比は、多くの場合、組成物全成分に対して５〜８
０重量％、好ましくは２５〜７５重量％である。また、
これらは単独で用いても２種以上併用してもよい。その
ほか、付加重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合
阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着
性等の観点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択
でき、さらに場合によっては下塗り、上塗りといった層
構成・塗布方法も実施しうる。

【００８１】（Ｃ）バインダーポリマー 本発明の好ましい実施形態である、平版印刷版用原版へ
の適用に際しては、その感光層にさらにバインダーポリ
マーを使用することが好ましい。バインダーとしては線
状有機高分子重合体を含有させることが好ましい。この
ような「線状有機高分子重合体」としては、どれを使用
しても構わない。好ましくは水現像あるいは弱アルカリ
水現像を可能とする水あるいは弱アルカリ水可溶性また
は膨潤性である線状有機高分子重合体が選択される。線
状有機高分子重合体は、組成物の皮膜形成剤としてだけ
でなく、水、弱アルカリ水あるいは有機溶剤現像剤とし
ての用途に応じて選択使用される。例えば、水可溶性有
機高分子重合体を用いると水現像が可能になる。このよ
うな線状有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸
基を有する付加重合体、例えば特開昭５９−４４６１５
号、特公昭５４−３４３２７号、特公昭５８−１２５７
７号、特公昭５４−２５９５７号、特開昭５４−９２７
２３号、特開昭５９−５３８３６号、特開昭５９−７１
０４８号に記載されているもの、すなわち、メタクリル
酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合
体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エ
ステル化マレイン酸共重合体等がある。また同様に側鎖
にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体がある。
この他に水酸基を有する付加重合体に環状酸無水物を付
加させたものなどが有用である。

【００８２】特にこれらの中で〔ベンジル（メタ）アク
リレート／（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他の
付加重合性ビニルモノマー〕共重合体および〔アリル
（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／必要に応
じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体は、
膜強度、感度、現像性のバランスに優れており、好適で
ある。

【００８３】また、特公平７−１２００４号、特公平７
−１２００４１号、特公平７−１２００４２号、特公平
８−１２４２４号、特開昭６３−２８７９４４号、特開
昭６３−２８７９４７号、特開平１−２７１７４１号、
特願平１０−１１６２３２号等に記載される、酸基を含
有するウレタン系バインダーポリマーは、非常に、強度
に優れるので、耐刷性・低露光適性の点で有利である。

【００８４】また、特開平１１−１７１９０７記載のア
ミド基を有するバインダーは優れた現像性と膜強度をあ
わせもち、好適である。

【００８５】さらにこの他に水溶性線状有機高分子とし
て、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等
が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにアル
コール可溶性ナイロンや２，２−ビス−（４−ヒドロキ
シフェニル）−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエ
ーテル等も有用である。これらの線状有機高分子重合体
は全組成物中に任意な量を混和させることができる。し
かし９０重量％を超える場合には形成される画像強度等
の点で好ましい結果を与えない。好ましくは３０〜８５
重量％である。また光重合可能なエチレン性不飽和二重
結合を有する化合物と線状有機高分子重合体は、重量比
で１／９〜７／３の範囲とするのが好ましい。

【００８６】好ましい実施様態においてバインダーポリ
マーは実質的に水不要でアルカリに可溶なものが用いら
れる。そうすることで、現像液として、環境上好ましく
ない有機溶剤を用いないかもしくは非常に少ない使用量
に制限できる。この様な使用法においてはバインダーポ
リマーの酸価（ポリマー１ｇあたりの酸含率を化学等量
数で表したもの）と分子量は画像強度と現像性の観点か
ら適宜選択される。好ましい酸価は、０．４〜３．０ｍ
ｅｑ／ｇであり好ましい分子量は３０００から５０万の
範囲で、より好ましくは、酸価が０．６〜２．０分子量
が１万から３０万の範囲である。

【００８７】（Ｄ）その他の成分 本発明の感光性組成物には、さらにその用途、製造方法
等に適したその他の成分を適宜添加することができる。
以下、好ましい添加剤に関し例示する。 （D１）共増感剤 ある種の添加剤（以後、共増感剤という）を用いること
で、感度をさらに向上させる事ができる。これらの作用
機構は、明確ではないが、多くは次のような化学プロセ
スに基づくものと考えられる。即ち、先述の開始系の光
吸収により開始される光反応、と、それに引き続く付加
重合反応の過程で生じる様々な中間活性種（ラジカル、
過酸化物、酸化剤、還元剤等）と、共増感剤が反応し、
新たな活性ラジカルを生成するものと推定される。これ
らは、大きくは、（ａ）還元されて活性ラジカルを生成
しうるもの、（ｂ）酸化されて活性ラジカルを生成しう
るもの、（ｃ）活性の低いラジカルと反応し、より活性
の高いラジカルに変換するか、もしくは連鎖移動剤とし
て作用するもの、に分類できるが、個々の化合物がこれ
らのどれに属するかに関しては、通説がない場合も多
い。

【００８８】（ａ）還元されて活性ラジカルを生成する
化合物 炭素−ハロゲン結合結合を有する化合物：還元的に炭素
−ハロゲン結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考
えられる。具体的には、例えば、トリハロメチル−ｓ−
トリアジン類や、トリハロメチルオキサジアゾール類等
が好適に使用できる。 窒素−窒素結合を有する化合物：還元的に窒素−窒素結
合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具
体的にはヘキサアリールビイミダゾール類等が好適に使
用される。酸素−酸素結合を有する化合物：還元的に酸
素−酸素結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考え
られる。具体的には、例えば、有機過酸化物類等が好適
に使用される。

【００８９】「有機過酸化物」としては分子中に酸素−
酸素結合を１個以上有する有機化合物のほとんど全てが
含まれるが、その例としては、例えばメチルエチルケト
ンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、
３，３，５−トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイ
ド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチル
アセトンパーオキサイド、１，１―ビス（ｔ―ブチルパ
ーオキシ）―３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、
１，１―ビス（ｔ―ブチルパーオキシ）シクロヘキサ
ン、２，２―ビス（ｔ―ブチルパーオキシ）ブタン、ｔ
―ブチルハイドローオキサイド、クメンハイドロパーオ
キサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサ
イド、パラメタンハイドロパーオキサイド、２，５―ジ
メチルヘキサンー２，５―ジハイドロパーオキサイド、
１，１，３，３―テトラメチルブチルハイドロパーオキ
サイド、ジーｔ―ブチルパーオキサイド、ｔ―ブチルク
ミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ビス
（ｔ―ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン、２，
５―ジメチルー２，５―ジ（ｔ―ブチルパーオキシ）ヘ
キサン、２，５―ジメチルー２，５―ジ（ｔ―ブチルパ
ーオキシ）ヘキシンー３―アセチルパーオキサイド、イ
ソブチリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイ
ド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサ
イド、３，３，５−トリメチルヘキサノイルパーオキサ
イド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、

【００９０】２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイ
ド、メタートルオイルパーオキサイド、ジイソプロピル
パーオキシジカーボネート、ジー２−エチルヘキシルパ
ーオキシジカーボネート、ジー２−エトキシエチルパー
オキシジカーボネート、ジメトキシジイソプロピルパー
オキシカーボネート、ジ（３−メチルー３−メトキシブ
チル）パーオキシジカーボネート、ｔ―ブチルパーオキ
シアセテート、ｔ―ブチルパーオキシビバレート、ｔ―
ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ―ブチルパーオ
キシオクタノエート、ｔ―ブチルパーオキシー３，５，
５−トリメチルヘキサノエート、ｔ―ブチルパーオキシ
ラウレート、ｔ―ブチルパーオキシベンゾエート、ジー
ｔ―ブチルパーオキシイソフタレート、２，５―ジメチ
ルー２，５―ジ（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ
―ブチル過酸化マレイン酸、ｔ―ブチルパーオキシイソ
プロピルカーボネート、３，３′４，４′−テトラ−
（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、
３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−アミルパーオキシカ
ルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ
−（ｔ−ヘキシルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノ
ン、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−オクチルパーオ
キシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−
テトラ−（クミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノ
ン、ト３，３′４，４′−テトラ−（ｐ−イソプロピル
クミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、カルボ
ニルジ（ｔ−ブチルジパーオキシ二水素二フタレー）、
カルボニルジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレ
ート）等がある。

【００９１】これらの中で、３，３′４，４′−テトラ
−（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノ
ン、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−アミルパーオキ
シカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テ
トラ−（ｔ−ヘキシルパーオキシカルボニル）ベンゾフ
ェノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−オクチルパ
ーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，
４′−テトラ−（クミルパーオキシカルボニル）ベンゾ
フェノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｐ−イソプロ
ピルクミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、ジ
（ｔ−ブチルジパーオキシイソフタレートなどの過酸化
エステル系が好ましい。

【００９２】オニウム化合物：還元的に炭素−ヘテロ結
合や、酸素−窒素結合が解裂し、活性ラジカルを発生す
ると考えられる。具体的には例えば、ジアリールヨード
ニウム塩類、トリアリールスルホニウム塩類、Ｎ−アル
コキシピリジニウム（アジニウム）塩類等が好適に使用
される。 フェロセン、鉄アレーン錯体類：還元的に活性ラジカル
を生成しうる。

【００９３】（ｂ）酸化されて活性ラジカルを生成する
化合物 アルキルアート錯体：酸化的に炭素−ヘテロ結合が解裂
し、活性ラジカルを生成すると考えられる。具体的には
例えば、トリアリールアルキルボレート類が好適に使用
される。 アルキルアミン化合物：酸化により窒素に隣接した炭素
上のＣ−Ｘ結合が解裂し、活性ラジカルを生成するもの
と考えられる。Ｘとしては、水素原子、カルボキシル
基、トリメチルシリル基、ベンジル基等が好適である。
具体的には、例えば、エタノールアミン類、Ｎ−フェニ
ルグリシン類、Ｎ−トリメチルシリルメチルアニリン類
等があげられる。 含硫黄、含錫化合物：上述のアミン類の窒素原子を硫黄
原子、錫原子に置き換えたものが、同様の作用により活
性ラジカルを生成しうる。また、Ｓ−Ｓ結合を有する化
合物もＳ−Ｓ解裂による増感が知られる。

【００９４】α−置換メチルカルボニル化合物：酸化に
より、カルボニル−α炭素間の結合解裂により、活性ラ
ジカルを生成しうる。また、カルボニルをオキシムエー
テルに変換したものも同様の作用を示す。具体的には、
２−アルキル−１−［４−（アルキルチオ）フェニル］
−２−モルフォリノプロノン−１類、並びに、これら
と、ヒドロキシアミン類とを反応したのち、Ｎ−ＯＨを
エーテル化したオキシムエーテル類をあげる事ができ
る。 スルフィン酸塩類：還元的に活性ラジカルを生成しう
る。具体的は、アリールスルフィン酸ナトリウム等をあ
げる事ができる。

【００９５】（ｃ）ラジカルと反応し高活性ラジカルに
変換、もしくは連鎖移動剤として作用する化合物：例え
ば、分子内にＳＨ、ＰＨ、ＳｉＨ、ＧｅＨを有する化合
物群が用いられる。これらは、低活性のラジカル種に水
素供与して、ラジカルを生成するか、もしくは、酸化さ
れた後、脱プロトンする事によりラジカルを生成しう
る。具体的には、例えば、２−メルカプトベンズイミダ
ゾール類等があげられる。

【００９６】これらの共増感剤のより具体的な例は、例
えば、特開昭９−２３６９１３中に、感度向上を目的と
した添加剤として、多く記載されている。以下に、その
一部を例示するが、本発明はこれらに限定されるものは
ない。

【００９７】

【化１６】

【００９８】これらの共増感剤に関しても、先の増感色
素と同様、さらに、感光層の特性を改良するための様々
な化学修飾を行うことも可能である。例えば、増感色素
や活性剤、付加重合性不飽和化合物その他のパートとの
結合、親水性部位の導入、相溶性向上、結晶析出抑制の
ための置換基導入、密着性を向上させる置換基導入、ポ
リマー化等の方法が利用できる。

【００９９】これらの共増感剤は、単独でまたは２種以
上併用して用いることができる。使用量はエチレン性不
飽和二重結合を有する化合物１００重量部に対し０．０
５〜１００重量部、好ましくは１〜８０重量部、さらに
好ましくは３〜５０重量部の範囲が適当である。

【０１００】（D２）重合禁止剤 また、本発明においては以上の基本成分の他に感光性組
成物の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレ
ン性不飽和二重結合を有する化合物の不要な熱重合を阻
止するために少量の熱重合防止剤を添加することが望ま
しい。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、ｐ
−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾー
ル、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノ
ン、４，４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチル
フェノール）、２，２′−メチレンビス（４−メチル−
６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒ
ドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。熱重合
防止剤の添加量は、全組成物の重量に対して約０．０１
重量％〜約５重量％が好ましい。また必要に応じて、酸
素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸
アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、平版印
刷版用原版とする場合、支持体等への塗布後の乾燥の過
程でその感光層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸
誘導体の添加量は、全組成物の約０．５重量％〜約１０
重量％が好ましい。

【０１０１】（D３）着色剤等 さらに、本発明の感光性組成物を平版印刷版用原版に用
いる場合、その感光層の着色を目的として染料もしくは
顔料を添加してもよい。これにより、印刷版としての、
製版後の視認性や、画像濃度測定機適性といったいわゆ
る検版性を向上させる事ができる。着色剤としては、多
くの染料は光重合系感光層の感度の低下を生じるので、
着色剤としては、特に顔料の使用が好ましい。具体例と
しては例えばフタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カー
ボンブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレ
ット、クリスタルバイオレット、アゾ系染料、アントラ
キノン系染料、シアニン系染料などの染料がある。染料
および顔料の添加量は全組成物の約０．５重量％〜約５
重量％が好ましい。

【０１０２】（D４）その他の添加剤 さらに、本発明の感光性組成物を平版印刷版用原版に用
いる場合、硬化皮膜の物性を改良するために無機充填剤
や、その他可塑剤、感光層表面のインク着肉性を向上さ
せうる感脂化剤等の公知の添加剤を加えてもよい。

【０１０３】可塑剤としては例えばジオクチルフタレー
ト、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジ
カプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリク
レジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチル
セバケート、トリアセチルグリセリン等があり、結合剤
を使用した場合、エチレン性不飽和二重結合を有する化
合物と結合剤との合計重量に対し１０重量％以下添加す
ることができる。

【０１０４】また、後述する膜強度（耐刷性）向上を目
的とした、現像後の加熱・露光の効果を強化するため
の、ＵＶ開始剤や、熱架橋剤等の添加もできる。

【０１０５】その他、感光層と支持体との密着性向上
や、未露光感光層の現像除去性を高めるための添加剤、
中間層を設ける事を可能である。例えば、ジアゾニウム
構造を有する化合物や、ホスホン化合物、等、基板と比
較的強い相互作用を有する化合物の添加や下塗りによ
り、密着性が向上し、耐刷性を高める事が可能であり、
一方ポリアクリル酸や、ポリスルホン酸のような親水性
ポリマーの添加や下塗りにより、非画像部の現像性が向
上し、汚れ性の向上が可能となる。

【０１０６】平版印刷版を提供するために、本発明の感
光性組成物を支持体上に塗布する際には、種々の有機溶
剤に溶かして使用に供される。ここで使用する溶媒とし
ては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサ
ン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロ
フラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエー
テル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレ
ングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール
モノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチル
エーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジア
セトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルア
セテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテ
ル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテー
ト、

【０１０７】３−メトキシプロパノール、メトキシメト
キシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエー
テル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエ
チレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチ
ルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチ
ルエーテルアセテート、３−メトキシプロピルアセテー
ト、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルな
どがある。これらの溶媒は、単独あるいは混合して使用
することができる。そして、塗布溶液中の固形分の濃度
は、２〜５０重量％が適当である。

【０１０８】前記感光層の支持体被覆量は、主に、感光
層の感度、現像性、露光膜の強度・耐刷性に影響しうる
もので、用途に応じ適宜選択することが望ましい。被覆
量が少なすぎる場合には、耐刷性が十分でなくなる。一
方多すぎる場合には、感度が下がり、露光に時間がかか
る上、現像処理にもより長い時間を要するため好ましく
ない。本発明の主要な目的である走査露光用平版印刷版
としては、その被覆量は乾燥後の重量で約０．１ｇ／ｍ
²〜約１０ｇ／ｍ²の範囲が適当である。より好ましくは
０．５〜５ｇ／ｍ²である。

【０１０９】〔支持体〕本発明の主要な目的の一つであ
る、平版印刷版を得るには上記感光層を、表面が親水性
の支持体上に設ける事が望ましい。親水性の支持体とし
ては、従来公知の、平版印刷版に使用される親水性支持
体を限定無く使用することができる。使用される支持体
は寸度的に安定な板状物であることが好ましく、例え
ば、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金
属板（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等）、プラスチ
ックフィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セル
ロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢
酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピ
レン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等）、
上記の如き金属がラミネート若しくは蒸着された紙若し
くはプラスチックフィルム等が含まれ、これらの表面に
たいし、必要に応じ親水性の付与や、強度向上、等の目
的で適切な公知の物理的、化学的処理を施しても良い。

【０１１０】特に、好ましい支持体としては、紙、ポリ
エステルフィルム又はアルミニウム板があげられ、その
中でも寸法安定性がよく、比較的安価であり、必要に応
じた表面処理により親水性や強度にすぐれた表面を提供
できるアルミニウム板は特に好ましい。また、特公昭４
８−１８３２７号に記載されているようなポリエチレン
テレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合
された複合体シートも好ましい。好適なアルミニウム板
は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、
微量の異元素を含む合金板であり、更ノアルミニウムが
ラミネート又は蒸着されたプラスチックフィルムでもよ
い。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、
鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビス
マス、ニッケル、チタン等がある。合金中の異元素の含
有量は高々１０重量％以下である。本発明において特に
好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全
に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるの
で、僅かに異元素を含有するものでもよい。このように
本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定
されるものではなく、従来より公知公用の素材のAルミ
ニウム板を適宜に利用することができる。本発明で用い
られるアルミニウム板の厚みはおよそ０．１ｍｍ〜０．
６ｍｍ程度、好ましくは０．１５ｍｍ〜０．４ｍｍ、特
に好ましくは０．２ｍｍ〜０．３ｍｍである。

【０１１１】また金属、特にアルミニウムの表面を有す
る支持体の場合には、粗面化（砂目立て）処理、珪酸ソ
ーダ、弗化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液
への浸漬処理、あるいは陽極酸化処理などの表面処理が
なされていることが好ましい。

【０１１２】アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種
々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化す
る方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化
学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械
的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラス
ト研磨法、バフ、磨法等の公知の方法を用いることがで
きる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸、硝酸
等の電解液中で交流又は直流により行う方法がある。ま
た、特開昭５４−６３９０２号に開示されているように
両者を組み合わせた方法も利用することができる。ま
た、アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望によ
り、表面の圧延油を除去するために、例えば、界面活性
剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液等による脱脂処理が
行われる。

【０１１３】さらに、粗面化したのちに珪酸ナトリウム
水溶液に浸漬処理されたアルミニウム板が好ましく使用
できる。特公昭４７−５１２５号に記載されているよう
にアルミニウム板を陽極酸化処理したのちに、アルカリ
金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したものが好適に使用さ
れる。陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、硫
酸、硼酸等の無機酸、もしくは蓚酸、スルファミン酸等
の有機酸またはそれらの塩の水溶液または非水溶液の単
独または二種以上を組み合わせた電解液中でアルミニウ
ム板を陽極として電流を流すことにより実施される。

【０１１４】また、米国特許第３６５８６６２号に記載
されているようなシリケート電着も有効である。さら
に、特公昭４６−２７４８１号、特開昭５２−５８６０
２号、特開昭５２−３０５０３号に開示されているよう
な電解グレインを施した支持体と、上記陽極酸化処理お
よび珪酸ソーダ処理を組合せた表面処理も有用である。

【０１１５】また、特開昭５６−２８８９３号に開示さ
れているような機械的粗面化、化学的エッチング、電解
グレイン、陽極酸化処理さらに珪酸ソーダ処理を順に行
ったものも好適である。さらに、これらの処理を行った
後に、水溶性の樹脂、例えばポリビニルホスホン酸、ス
ルホン酸基を側鎖に有する重合体および共重合体、ポリ
アクリル酸、水溶性金属塩（例えば硼酸亜鉛）もしく
は、黄色染料、アミン塩等を下塗りしたものも好適であ
る。

【０１１６】さらに特開平７−１５９９８３号に開示さ
れているようなラジカルによって付加反応を起こし得る
官能基を共有結合させたゾル−ゲル処理基板も好適に用
いられる。

【０１１７】その他好ましい例として、任意の支持体上
に表面層として耐水性の親水性層を設けたものも上げる
ことができる。この様な表面層としては例えばＵＳ３０
５５２９５や、特開昭５６−１３１６８号記載の無機顔
料と結着剤とからなる層、特開平９−８０７４４記載の
親水性膨潤層、特表平８−５０７７２７記載の酸化チタ
ン、ポリビニルアルコール、珪酸類からなるゾルゲル膜
等を上げる事ができる。

【０１１８】これらの親水化処理は、支持体の表面を親
水性とするために施される以外に、その上に設けられる
光重合性組成物の有害な反応を防ぐため、かつ感光層の
密着性の向上等のために施されるものである。

【０１１９】〔保護層〕本発明の望ましい様態である、
走査露光用平版印刷版においては、通常、露光を大気中
で行うため、光重合性組成物の層の上に、さらに、保護
層を設ける事が好ましい。保護層は、感光層中で露光に
より生じる画像形成反応を阻害する大気中に存在する酸
素、や塩基性物質等の低分子化合物の感光層への混入を
防止し、大気中での露光を可能とする。従って、この様
な保護層に望まれる特性は、酸素等の低分子化合物の透
過性が低いことであり、さらに、露光に用いる光の透過
は実質阻害せず、感光層との密着性に優れ、かつ、露光
後の現像工程で容易に除去できる事が望ましい。

【０１２０】この様な、保護層に関する工夫が従来より
なされており、米国特許第３、４５８、３１１号、特開
昭５５−４９７２９号に詳しく記載されている。保護層
に使用できる材料としては例えば、比較的、結晶性に優
れた水溶性高分子化合物を用いる事がよく、具体的に
は、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、酸
性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリ
ル酸などのような水溶性ポリマーが知られていが、これ
らの内、ポリビニルアルコールを主成分として用いる事
が、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性的にもっ
とも良好な結果を与える。保護層に使用するポリビニル
アルコールは、必要な酸素遮断性と水溶性を有するため
の、未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部
がエステル、エーテル、およびアセタールで置換されて
いても良い。また、同様に一部が他の共重合成分を有し
ていても良い。

【０１２１】ポリビニルアルコールの具体例としては７
１〜１００％加水分解され、分子量が３００から２４０
０の範囲のものをあげる事ができる。具体的には、株式
会社クラレ製のＰＶＡ−１０５、ＰＶＡ−１１０、ＰＶ
Ａ−１１７、ＰＶＡ−１１７Ｈ、ＰＶＡ−１２０、ＰＶ
Ａ−１２４、ＰＶＡ−１２４Ｈ、ＰＶＡ−ＣＳ、ＰＶＡ
−ＣＳＴ、ＰＶＡ−ＨＣ、ＰＶＡ−２０３、ＰＶＡ−２
０４、ＰＶＡ−２０５、ＰＶＡ−２１０、ＰＶＡ−２１
７、ＰＶＡ−２２０、ＰＶＡ−２２４、ＰＶＡ−２１７
ＥＥ、ＰＶＡ−２１７Ｅ、ＰＶＡ−２２０Ｅ、ＰＶＡ−
２２４Ｅ、ＰＶＡ−４０５、ＰＶＡ−４２０、ＰＶＡ−
６１３、Ｌ−８等があげられる。

【０１２２】保護層の成分（ＰＶＡの選択、添加剤の使
用）、塗布量等は、酸素遮断性・現像除去性の他、カブ
リ性や密着性・耐傷性を考慮して選択される。一般には
使用するＰＶＡの加水分解率が高い程（保護層中の未置
換ビニルアルコール単位含率が高い程）、膜厚が厚い程
酸素遮断性が高くなり、感度の点で有利である。しかし
ながら、極端に酸素遮断性を高めると、製造時・生保存
時に不要な重合反応が生じたり、また画像露光時に、不
要なカブリ、画線の太りが生じたりという問題を生じ
る。また、画像部との密着性や、耐傷性も版の取り扱い
上極めて重要である。即ち、水溶性ポリマーからなる親
水性の層を親油性の重合層に積層すると、接着力不足に
よる膜剥離が発生しやすく、剥離部分が酸素の重合阻害
により膜硬化不良などの欠陥を引き起こす。

【０１２３】これに対し、これら２層間の接着性を改す
べく種々の提案がなされている。たとえば米国特許第２
９２、５０１号、米国特許第４４、５６３号には、主に
ポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、ア
クリル系エマルジョンまたは水不溶性ビニルピロリドン
−ビニルアセテート共重合体などを２０〜６０重量％混
合し、重合層の上に積層することにより、十分な接着性
が得られることが記載されている。本発明における保護
層に対しては、これらの公知の技術をいずれも適用する
事ができる。このような保護層の塗布方法については、
例えば米国特許第３,４５８,３１１号、特開昭５５−４
９７２９号に詳しく記載されている。

【０１２４】さらに、保護層に他の機能を付与する事も
できる。例えば、露光に使う、３５０ｎｍから４５０ｎ
ｍの光の透過性に優れ、かつ５００ｎｍ以上の光を効率
良く吸収しうる、着色剤（水溶性染料等）の添加によ
り、感度低下を起こすことなく、セーフライト適性をさ
らに高める事ができる。

【０１２５】本発明の感光性組成物を用いた感光材料を
画像形成材料として使用する際には、通常、画像露光し
たのち、現像液で感光層の未露光部を除去し、画像を得
る。これらの光重合性組成物を平版印刷版の作成に使用
する際の好ましい現像液としては、特公昭５７−７４２
７号に記載されているような現像液が挙げられ、ケイ酸
ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、
第二リン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第二
リン酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭酸ナ
トリウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤や
モノエタノールアミンまたはジエタノールアミンなどの
ような有機アルカリ剤の水溶液が適当である。このよう
なアルカリ溶液の濃度が０．１〜１０重量％、好ましく
は０．５〜５重量％になるように添加される。

【０１２６】また、このようなアルカリ性水溶液には、
必要に応じて界面活性剤やベンジルアルコール、２−フ
ェノキシエタノール、２−ブトキシエタノールのような
有機溶媒を少量含むことができる。例えば、米国特許第
３３７５１７１号および同第３６１５４８０号に記載さ
れているものを挙げることができる。さらに、特開昭５
０−２６６０１号、同５８−５４３４１号、特公昭５６
−３９４６４号、同５６−４２８６０号の各公報に記載
されている現像液も優れている。

【０１２７】その他、本発明の感光性組成物を用いた平
版印刷版用原版の製版プロセスとしては、必要に応じ、
露光前、露光中、露光から現像までの間に、全面を加熱
しても良い。この様な加熱により、感光層中の画像形成
反応が促進され、感度や耐刷性の向上、や、感度の安定
化といった利点が生じ得る。さらに、画像強度・耐刷性
の向上を目的として、現像後の画像に対し、全面後加熱
もしくは、全面露光を行う事も有効である。通常現像前
の加熱は１５０℃以下の穏和な条件で行う事が好まし
い。温度が高すぎると、非画像部迄がかぶってしまう等
の問題を生じる。現像後の加熱には非常に強い条件を利
用する。通常は２００〜５００℃の範囲である。温度が
低いと十分な画像強化作用が得られず、高すぎる場合に
は支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を生じ
る。

【０１２８】本発明の感光性組成物を用いた走査露光平
版印刷版の露光方法は、公知の方法を制限なく用いる事
ができる。望ましい、光源の波長は３５０ｎｍから４５
０ｎｍであり、具体的にはＩｎＧａＮ系半導体レーザが
好適である。露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム
方式、フラットベッド方式等の何れでも良い。また、本
発明の感光性組成物は、高い水溶性のものを使用する事
で、中性の水や弱アルカリ水に可溶とすることもできる
が、この様な構成の平版印刷版用原版は印刷機上に装填
後、機上で露光−現像といった方式を行う事もできる。

【０１２９】３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの入手可能なレー
ザー光源としては以下のものを利用することができる。
ガスレーザーとして、Ａｒイオンレーザー（３６４ｎ
ｍ、３５１ｎｍ、１０ｍＷ〜１Ｗ）、Ｋｒイオンレーザ
ー（３５６ｎｍ、３５１ｎｍ、１０ｍＷ〜１Ｗ）、Ｈｅ
−Ｃｄレーザー（４４１ｎｍ、３２５ｎｍ、１ｍＷ〜１
００ｍＷ）、固体レーザーとして、Ｎｄ：ＹＡＧ（ＹＶ
Ｏ₄）とＳＨＧ結晶×２回の組み合わせ（３５５ｎｍ、
５ｍＷ〜１Ｗ）、Ｃｒ：ＬｉＳＡＦとＳＨＧ結晶の組み
合わせ（４３０ｎｍ、１０ｍＷ）、

【０１３０】半導体レーザー系として、ＫＮｂＯ₃リン
グ共振器（４３０ｎｍ、３０ｍＷ）、導波型波長変換素
子とＡｌＧａＡｓ、ＩｎＧａＡｓ半導体の組み合わせ
（３８０ｎｍ〜４５０ｎｍ、５ｍＷ〜１００ｍＷ）、導
波型波長変換素子とＡｌＧａＩｎＰ、ＡｌＧａＡｓ半導
体の組み合わせ（３００ｎｍ〜３５０ｎｍ、５ｍＷ〜１
００ｍＷ）、ＡｌＧａＩｎＮ（３５０ｎｍ〜４５０ｎ
ｍ、５ｍＷ〜３０ｍＷ）、その他、パルスレーザーとし
てＮ₂レーザー（３３７ｎｍ、パルス０．１〜１０ｍ
Ｊ）、ＸｅＦ（３５１ｎｍ、パルス１０〜２５０ｍＪ）
等が使用される。

【０１３１】特にこの中でＡｌＧａＩｎＮ半導体レーザ
ー（市販ＩｎＧａＮ系半導体レーザー４００〜４１０ｎ
ｍ、５〜３０ｍＷ）が波長特性、コストの面で好適であ
る。

【０１３２】また走査露光方式の平版印刷版露光装置と
しては、露光機構として内面ドラム方式、外面ドラム方
式、フラットベッド方式があり、光源としては上記光源
の中で連続発振可能なものが好ましく利用することがで
きる。現実的には感材感度と製版時間の関係で、以下の
露光装置が特に好ましい。

【０１３３】・内面ドラム方式で総出力２０ｍＷ以上の
半導体レーザーとなる様に、ガスレーザーあるいは固体
レーザー光源を１個以上使用するシングルビーム〜トリ
プルビームの露光装置 ・フラットベッド方式で総出力２０ｍＷ以上となる様
に、半導体レーザー、ガスレーザーあるいは固体レーザ
ーを１個以上使用したマルチビーム（１〜１０本）の露
光装置 ・外面ドラム方式で総出力２０ｍＷ以上となる様に、半
導体レーザー、ガスレーザーあるいは固体レーザーを１
個以上使用したマルチビーム（１〜９本）の露光装置 ・外面ドラム方式で総出力２０ｍＷ以上となる様に、半
導体レーザーあるいは固体レーザーを１個以上使用した
マルチビーム（１０本以上）の露光装置

【０１３４】以上のようなレーザー直描型の平版印刷版
においては、一般に感材感度Ｘ（Ｊ／ｃｍ²）、感材の
露光面積Ｓ（ｃｍ²）、レーザー光源１個のパワーｑ
（Ｗ）、レーザー本数ｎ、全露光時間ｔ（ｓ）との間に
式（ｅｑ 1）が成立する。

【０１３５】 Ｘ・Ｓ＝ｎ・ｑ・ｔ −−（ｅｑ 1）

【０１３６】ｉ）内面ドラム（シングルビーム）方式の
場合 レーザー回転数ｆ（ラジアン／ｓ）、感材の副走査長Ｌ
ｘ（ｃｍ）、解像度Ｚ（ドット／ｃｍ）、全露光時間ｔ
（ｓ）の間には一般的に式（ｅｑ 2）が成立する。

【０１３７】 ｆ・Ｚ・ｔ＝Ｌｘ −−（ｅｑ 2）

【０１３８】 ii）外面ドラム（マルチビーム）方式の場合 ドラム回転数Ｆ（ラジアン／ｓ）、感材の副走査長Ｌｘ
（ｃｍ）、解像度Ｚ（ドット／ｃｍ）、全露光時間ｔ
（ｓ）、ビーム数（ｎ）の間には一般的に式（ｅｑ 3）
が成立する。

【０１３９】 Ｆ・Ｚ・ｎ・ｔ＝Ｌｘ −−（ｅｑ 3）

【０１４０】 iii）フラットヘッド（マルチビーム）方式の場合 ポリゴンミラーの回転数Ｈ（ラジアン／ｓ）、感材の副
走査長Ｌｘ（ｃｍ）、解像度Ｚ（ドット／ｃｍ）、全露
光時間ｔ（ｓ）、ビーム数（ｎ）の間には一般的に式
（ｅｑ 4) が成立する。

【０１４１】 Ｆ・Ｚ・ｎ・ｔ＝Ｌｘ −−（ｅｑ 4）

【０１４２】実際の印刷版に要求される解像度（２５６
０ｄｐｉ）、版サイズ（Ａ１／Ｂ１、副走査長４２ｉｎ
ｃｈ）、２０枚／１時間程度の露光条件と本発明の感光
性組成物の感光特性（感光波長、感度：約０．１ｍＪ／
ｃｍ²）を上記式に代入することで、本発明の感光性組
成物を用いた感材においては総出力２０ｍＷ以上のレー
ザーを用いたマルチビーム露光方式との組み合わせが特
に好ましいことが理解できる。さらに操作性、コスト等
を掛け合わせることにより外面ドラム方式の半導体レー
ザーマルチビーム（１０本以上）露光装置との組み合わ
せが最も好ましいことになる。

【０１４３】また、本発明の感光性組成物に対するその
他の露光光線としては、超高圧、高圧、中圧、低圧の各
水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン
灯、メタルハライド灯、可視および紫外の各種レーザー
ランプ、蛍光灯、タングステン灯、太陽光等も使用でき
る。また、本発明の感光性組成物の用途としては走査露
光用平版印刷版の他、広く、光硬化樹脂の用途として知
られるものに制限なく適用できる。例えば、必要に応じ
カチオン重合性化合物と併用した液状の感光性組成物に
適用することで、高感度な光造形用材料が得られる。ま
た、光重合にともなう、屈折率の変化を利用し、ホログ
ラム材料とすることもできる。光重合に伴う、表面の粘
着性の変化を利用して様々な転写材料（剥離感材、トナ
ー現像感材等）にも応用できる。マイクロカプセルの光
硬化にも適用できる。フォトレジスト等の電子材料製
造、インクや塗料、接着剤等の光硬化樹脂材料にも応用
できる。

【０１４４】

〔実施例１〜７、比較例１〜６〕

（支持体の調製）厚さ０．３ｍｍのアルミニウム板を１
０重量％水酸化ナトリウムに６０℃で２５秒間浸漬して
エッチングした後、流水で水洗後２０重量％硝酸で中和
洗浄し、次いで水洗した。これを正弦波の交番波形電流
を用いて１重量％硝酸水溶液中で３００クーロン／ｄｍ
²の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。引き続い
て１重量％水酸化ナトリウム水溶液中に４０℃で５秒間
浸漬後３０重量％の硫酸水溶液中に浸漬し、６０℃で４
０秒間デスマット処理した後、２０重量％硫酸水溶液
中、電流密度２Ａ／ｄｍ² において、陽極酸化皮膜の厚
さが２．７ｇ／ｍ²になるように、２分間陽極酸化処理
した。その表面粗さを測定したところ、０．３μm （Ｊ
ＩＳ Ｂ０６０１によるＲａ表示）であった。

【０１４５】このように処理された基板の裏面に下記の
ゾル−ゲル反応液をバーコーターで塗布し１００℃で１
分間乾燥し、乾燥後の塗布量が７０ｍｇ／ｍ² のバック
コート層を設けた支持体を作成した。

【０１４６】 ゾル−ゲル反応液 テトラエチルシリケート ５０重量部 水 ２０重量部 メタノール １５重量部 リン酸 ０．０５重量部

【０１４７】上記成分を混合、撹拌すると約５分で発熱
が開始した。６０分間反応させた後、以下に示す液を加
えることによりバックコート塗布液を調製した。

【０１４８】 ピロガロールホルムアルデヒド縮合樹脂（分子量２０００） ４重量部 ジメチルフタレート ５重量部 フッ素系界面活性剤 ０．７重量部 （Ｎ−ブチルペルフルオロオクタンスルホンアミドエチルアクリレート／ ポリオキシエチレンアクリレート共重合体：分子量２万） メタノールシリカゾル（日産化学工業（株）製，メタノール３０重量％） ５０重量部 メタノール ８００重量部

【０１４９】（感光層の調製）このように処理されたア
ルミニウム板上に、下記組成の光重合性組成物を乾燥塗
布量が１．０ｇ／ｍ²となるように塗布し、８０℃、２
分間乾燥させ感光層を形成させた。

【０１５０】 ・ぺンタエリスリトールテトラアクリレート １５ｇ ・アリルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 （共重合モル比８３／１７） 2.0ｇ ・光重合開始系 （表１中に記載） 増感色素 アシルホスフィン化合物 共増感剤 ・フッ素系ノニオン界面活性剤（Ｆ−１７７Ｐ） 0.02ｇ ・熱重合禁止剤Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシル 0.01ｇ ・着色顔料分散物 2.0ｇ （顔料分散物の組成） 組成： Pigment Blue １５：６ １５重量部 アリルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 （共重合モル比８３／１７） １０重量部 シクロヘキサノン ５重量部 メトキシプロピルアセテート ２０重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル ４０重量部 ・メチルエチルケトン 20.0ｇ ・プロピレングリコールモノメチルエーテル 20.0ｇ

【０１５１】（保護層の調製）この感光層上にポリビニ
ルアルコール（ケン化度９８モル％、重合度５５０）の
３重量％の水溶液を乾燥塗布重量が２ｇ／ｍ²となるよ
うに塗布し、１００℃で２分間乾燥した。

【０１５２】（感光性、セーフライト適性の評価）この
様に得られた感材上に、富士写真フイルム（株）製の富
士ステップガイド（△Ｄ＝０．１５で不連続的に透過光
学濃度が変化するグレースケール）を密着させ、光学フ
ィルター（ケンコーＢＰ−40）を通したキセノンランプ
を用い、既知の露光エネルギーとなるように露光を行っ
た。光学フィルターとしては、短波半導体レーザへの露
光適性を見積もる目的で、４００ｎｍのモノクロミック
な光で露光が可能なケンコーＢＰ−40を用いた。その
後、下記組成の現像液に２５℃、１０秒間浸漬し、現像
を行い、画像が完全に除去される最高の段数から感度
（クリア感度）を算出した（表１）。ここで、クリア感
度とは、画像の形成に最低限必要なエネルギーを表し、
この値が低いほど高感度である。

【０１５３】

【表１】

【０１５４】表１に示すように、本発明の平版印刷版は
非常に高感度であり、走査露光方式に十分な感度を示
す。また、本発明の開始系は増感色素を使用しない場合
に比較して、高感度であり、特にアシルホスフィンの添
加量が少ない場合においても、十分な感度を示す。な
お、上記実施例１〜７、比較例１〜６で用いた現像液
は、下記組成からなるｐＨ１３の水溶液である。

【０１５５】 １Ｋケイ酸カリウム ３．０ 重量部 水酸化カリウム １．５ 重量部 下記式の化合物（ぺレックスＮＢＬ；（花王アトラス（株）製）） ０．２ 重量部 水 ９５．３ 重量部

【０１５６】

【化１７】

【０１５７】式中、ＲはＨまたはＣ₄Ｈ₉を表す。

【０１５８】〔実施例８〜１５、比較例７〕以下の手順
で平版印刷版を作製し、印刷性能を評価した。結果を表
２に示す。 「支持体の前処理」厚さ０．３ｍｍの材質１Ｓのアルミ
ニウム板を８号ナイロンブラシと８００メッシュのパミ
ストンの水懸濁液を用い、その表面を砂目だてした後、
よく水で洗浄した。１０重量％水酸化ナトリウムに７０
℃で６０秒間浸漬してエッチングした後、流水で水洗
後、２０重量％硝酸で中和洗浄し、次いで水洗した。こ
れをＶ_A＝１２．７Ｖの条件で、正弦波の交番波形電流
を用いて１重量％硝酸水溶液中で３００クーロン／ｄｍ
² の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。その表面
粗さを測定したところ、０．４５μｍ（ＪＩＳ Ｂ０６
０１によるＲａ表示）であった。

【０１５９】「支持体表面の親水化処理」上記の支持体
を、３号ケイ酸ソーダ（ＳｉＯ₂＝２８〜３０％、Ｎａ₂
Ｏ＝９〜１０％、Ｆｅ＝０．０２％以下）の２．５重量
％、ｐＨ＝１１．２、７０℃の水溶液に１３秒浸漬し、
続いて水洗した。表面の蛍光Ｘ線分析により求めた、Ｓ
ｉ元素量から、表面シリケート量は１０ｍｇ／ｍ²と求
められた。

【０１６０】「中間層の塗設」上記の親水化支持体表面
上に、フェニルホスホン酸の塗布量が２０ｍｇ／ｍ²と
なるようにように、下記（Ａ）に示す組成の塗布液を調
製し、ホイラーにて１８０ｒｐｍの条件で塗布後、８０
℃で３０秒間乾燥させた。

【０１６１】（中間層塗布液Ａ） フェニルホスホン酸 ０．０７ｇ〜１．４ｇ メタノール ２００ｇ

【０１６２】「感光層の塗設」上記中間層を設けた支持
体上に、下記組成の感光液を調製し、塗布量が１．０〜
２．０ｇ／ｍ²になるように、ホイラーで塗布し、１０
０℃で１分間乾燥させた。

【０１６３】 （感光液） 付加重合性化合物（表２中に記載の化合物） １．５ｇ バインダーポリマー（表２中に記載の化合物）２．０ｇ 増感色素（表２中に記載の化合物） ０．１ｇ 活性剤（表２中に記載の化合物） ０．１ｇ 共増感剤 （表２中に記載の化合物） ０．３ｇ 着色顔料分散物 ２．０ｇ （顔料分散物の組成） Pigment Blue １５：６ １５重量部 アリルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 １０重量部 （共重合モル比８３／１７）熱重合 シクロヘキサノン １５重量部 メトキシプロピルアセテート ２０重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル ４０重量部 熱重合禁止剤（Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩 ） ０．０１ｇ 界面活性剤（大日本インキ化学工業（株）製、メガファックＦ−１７７） ０．０２ｇ メチルエチルケトン ２０．０ｇ プロピレングリコールモノメチルエーテル ２０．０ｇ

【０１６４】「保護層の塗設」この感光層上にポリビニ
ルアルコール（ケン化度９８モル％、重合度５５０）の
３重量％の水溶液を乾燥塗布重量が２ｇ／ｍ²となるよ
うに塗布し、１００℃で２分間乾燥した。

【０１６５】「平版印刷版原版の露光」上記のようにし
て得られた平版印刷版原版を光源として、４００ｎｍの
単色光を用い、版面露光エネルギー密度２００μＪ／ｃ
ｍ²となる様に露光パワーを調節し、ベタ画像露光およ
び、１７５線／インチ、１％刻みで１から９９％となる
網点画像露光、を行った。

【０１６６】「現像／製版」富士写真フイルム（株）製
自動現像機ＬＰ−８５０に所定の現像液（表２中に記
載）と富士写真フイルム（株）製フィニッシャーＦＰ−
２Ｗをそれぞれ仕込み現像液温度３０℃、現像時間１８
秒の条件で露光済みの版を、現像／製版し、平版印刷版
を得た。

【０１６７】「耐刷性試験」印刷機としてローランド社
製Ｒ２０１を使用し、インキとして大日本インキ社製Ｇ
ＥＯＳ−Ｇ（Ｎ）を使用した。ベタ画像部の印刷物を観
察し、画像がかすれはじめた枚数によって耐刷性を調べ
た。数字が多きほど耐刷性が良い。

【０１６８】「網点耐刷性強制試験」印刷機としてロー
ランド社製Ｒ２０１を使用し、インキとして大日本イン
キ社製ＧＥＯＳ−Ｇ（Ｎ）を使用した。印刷開始から５
０００枚目に富士写真フイルム（株）製ＰＳプレートク
リーナーＣＬ−２を印刷用スポンジにしみこませ、網点
部を拭き、版面のインキを洗浄した。その後、１０，０
００枚印刷を行い、印刷物における網点の版飛びの有無
を目視で観察した。

【０１６９】「汚れ性試験」印刷機としてローランド社
製Ｒ２０１を使用し、インキとして大日本インキ社製Ｇ
ＥＯＳ−Ｇ（Ｓ）を使用した。非画像部（未露光部）の
印刷物を観察し、汚れ性を評価した。

【０１７０】

【表２】

【０１７１】（表２中の付加重合性化合物） （Ｍ−１） ペンタエルスリトールテトラアクリレート （新中村化学工業（株）製；ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ
Ｔ） （Ｍ−２） グリセリンジメタクリレートヘキサメチレンジイソシア
ネートウレタンプレポリマー （共栄社化学（株）製；ＵＡ１０１Ｈ）

【０１７２】（表１中のバインダーポリマー） （Ｂ−１） アリルメタクリレート／メタクリル酸／Ｎ−イソプロピ
ルアクリルアミド （共重合モル比６７／１３／２０） ＮａＯＨ滴定により求めた実測酸価：１．１５meq/g ＧＰＣ測定より求めた重量平均分子量：１３万 （Ｂ−２） アリルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合
モル比８３／１７） ＮａＯＨ滴定により求めた実測酸価：１．５５meq/g ＧＰＣ測定より求めた重量平均分子量：１２．５万 （Ｂ−３） 下記ジイソシアネートとジオールの縮重合物であるポリ
ウレタン樹脂 ４，４‘−ジフェニルメタンジイソイソシネート（ＭＤ
Ｉ） ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ） ポリプロピレングリコール、重量平均分子量１０００
（ＰＰＧ１０００） ２，２−ビス（ヒドロキシメチル）プロピオニックアシ
ッド（ＤＭＰＡ） 共重合モル比（ＭＤＩ／ＨＭＤＩ／ＰＰＧ１０００／Ｄ
ＭＰＡ）４０／１０／１５／３５ ＮａＯＨ滴定により求めた実測酸価：１．０５meq/g ＧＰＣ測定より求めた重量平均分子量：４．５万

【０１７３】 （表２中の現像液） （ＤＶ−１） 下記組成からなるｐＨ１０の水溶液 モノエタノールアミン ０．１ 重量部 トリエタノールアミン １．５ 重量部 下記式１の化合物（ぺレックスＮＢＬ；花王アトラス（株）製） ４．０ 重量部 下記式２の化合物（ニューコールＢ４ＳＮ；日本乳化剤（株）製） ２．５ 重量部 下記式３の化合物 ０．２ 重量部 水 ９１．７ 重量部

【０１７４】

【化１８】

【０１７５】（式中、ＲはＨまたはＣ₄Ｈ₉を表し、ｎは
約４（平均値）である。）

【０１７６】 （ＤＶ−２） 下記組成からなるｐＨ１０の水溶液 炭酸水素ナトリウム １．２ 重量部 炭酸ナトリウム ０．８ 重量部 上記式１の化合物（ぺレックスＮＢＬ；花王アトラス（株）製） ３．０ 重量部 上記式２の化合物（ニューコールＢ４ＳＮ；日本乳化剤（株）製） ２．０ 重量部 上記式３の化合物 ０．２ 重量部 水 ９２．８ 重量部

【０１７７】 （ＤＶ−３） 下記組成からなるｐＨ１３の水溶液 １Ｋケイ酸カリウム ３．０ 重量部 水酸化カリウム １．５ 重量部 前記式３の化合物 ０．２ 重量部 水 ９５．３ 重量部

【０１７８】表２から明らかな様に、本発明による平版
印刷版は走査露光により高い生産性をもって製版可能な
条件、即ち、非常に低エネルギーの露光条件によって
も、優れた平版印刷版を提供する。一方、本発明の開始
系を用いない、比較例７では、実用可能な平版印刷版は
得られなかった。

【０１７９】〔実施例１６〕光開始系を下記のような組
成に変え、光重合層の膜厚を１．５ｇ／ｍ²に変えた以
外は実施例１〜６と同様に、平版印刷版原版を調製し
た。

【０１８０】 光開始系 光重合層全固形分中の含有量 増感色素 Ｄ２０ １．２wt% チタノセン Ｔ−２ １．５wt% 共増感剤 Ｈ−１ ７．０wt%

【０１８１】得られた平版印刷版原版に対し、発振波長
４００ｎｍのＩｎＧａＮ系半導体レーザを用い、版面で
のビーム系２５μｍ、露光エネルギー密度０．２ｍＪ／
ｃｍ ²となる条件で、走査露光を行った。次に、版を１
００℃で、１０秒間加熱後、先述の現像処理を実施し
た。視認性に優れた、青色の画像を有する平版印刷版が
得られた。得られた版を用い、ハイデルベルグ社ＫＯＲ
−Ｄ機を用い、オフセット印刷を実施したところ、画像
濃度、汚れ性に優れた印刷物を５万枚以上得ることがで
きた。

【０１８２】〔実施例１７〕実施例１６の版を、湿度６
５％、４５℃の強制保存条件下で３日間保存後、実施例
１６と同様に、製版・印刷を実施した。実施例１６と同
様の良好な結果が得られた。

【０１８３】〔実施例１８〕一般的に用いられる、セー
フライトの発光強度分布を測定し、短波側での発光強度
分布の立ち上がる位置（短波端）を測定した。また、そ
れぞれのセーフライト下での作業性を評価した。結果を
表３に示す。

【０１８４】

【表３】

【０１８５】この様に、作業性を考慮すると黄色灯が望
まれ、黄色灯下での取り扱い可能な感材は、少なくとも
５２０ｎｍ、望ましく４９０ｎｍより長波での感光性が
低い事が必要であるが、本発明の色素群は４００ｎｍ付
近に吸収極大を持つために、この点でも利点を持つ。

【０１８６】〔実施例１９〕光開始系を下記のような組
成に変え、光重合層の膜厚を２．０ｇ／ｍ²に変えた以
外は実施例１６と同様に、平版印刷版原版を調製した。

【０１８７】 光開始系 光重合層全固形分中の含有量 増感色素 Ｄ２０ １．５wt% チタノセン Ｔ−２ １．５wt% 共増感剤 Ｈ−１ ５．０wt%

【０１８８】得られた平版印刷版原版に対し、発振波長
４００ｎｍのＩｎＧａＮ系半導体レーザを用い、版面で
のビーム系２５μｍ、露光エネルギー密度０．１５ｍＪ
／ｃｍ²となる条件で、走査露光を行った。次に、版を
１００℃で、１０秒間加熱後、先述の現像処理を実施し
た。視認性に優れた、青色の画像を有する平版印刷版が
得られた。得られた版を、さらに、３００℃で５分間加
熱後、ハイデルベルグ社ＫＯＲ−Ｄ機を用い、オフセッ
ト印刷を実施したところ、画像濃度、汚れ性に優れた印
刷物を２０万枚以上得ることができた。

【０１８９】〔実施例２０〕実施例1９の版を露光前に
黄色灯下に３０分間さらした後、全く同様に製版・印刷
を実施した。実施例１９と全く同様の良好な結果が得ら
れた。

【０１９０】〔比較例８〕実施例１６において増感色素
をＤ１（極大吸収波長４０９ｎｍ）からＤＲ−４（極大
吸収波長５００ｎｍ）に変えた以外は、実施例１６と同
様にして平版印刷版原版を調製した。得られた平版印刷
版原版を、実施例１６と同様に、発振波長４００ｎｍの
ＩｎＧａＮ系半導体レーザを用いて製版してみたとこ
ろ、色素による増感作用は見られなかった。また、得ら
れた平版印刷版原版を実施例２０と同様にして、露光前
に黄色灯下に３０分間さらした後、全く同様に製版・印
刷を実施したところ、全面ベタとなり、カブリが発生し
た。

【０１９１】〔比較例９〕実施例１６においてアシルホ
スフィン（ＡＰ−１）をチタノセン（Ｈ−５）に変えた
以外は、実施例１６と同様にして平版印刷版原版を調製
した。得られた平版印刷版原版を、実施例１６と同様
に、発振波長４００ｎｍのＩｎＧａＮ系半導体レーザを
用いて製版してみたところ、高感度な印刷版（クリア感
度：０．１ｍＪ／ｃｍ²）が得られたが、得られた平版
印刷版原版を実施例２０と同様にして、露光前に黄色灯
下に３０分間さらした後、全く同様に製版・印刷を実施
したところ、全面ベタとなり、カブリが発生した。

【０１９２】〔比較例１０〕実施例１6と同様にして平
版印刷版原版を調製した。得られた平版印刷版原版を、
発振波長４００ｎｍのＩｎＧａＮ系半導体レーザの替わ
りに発振波長５３０ｎｍのＦＤ−ＹＡＧレーザを用いた
以外は実施例１６と同様に製版してみたところ、アシル
ホスフィン、増感色素、共に５３０ｎｍにおける吸収が
無いため、画像流れとなった。なお、本実施例中の増感
色素は本明細書中に例示したものであり、その他の化合
物の構造は以下の通りである。

【０１９３】

【化１９】

【０１９４】

【化２０】

【０１９５】

【発明の効果】本発明の感光性組成物は、平版印刷版用
原版の感光層に用いることによりＩｎＧａＮの様な短波
長の半導体レーザによる走査露光に適した十分な感度を
有し、かつ耐刷性・汚れ性に優れた平版印刷版を得るこ
とができる。本発明の感光性組成物を感光層に用いた走
査露光用平版印刷版は黄色灯下でのカブリが著しく改良
されており、版を取り扱う作業性が大幅に改善する事が
できる。本発明の感光性組成物は３５０〜４５０ｎｍの
波長に対して優れた感度を有すると同時に、非常に保存
安定性に優れたものであって、産業界に寄与するところ
大である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H025 AA01 AB03 AB17 AC01 AC08 BC14 BC15 BE07 BE10 BG00 CA09 CA35 CA41 CA42 CB41 2H096 AA07 AA27 BA05 BA06 BA11 EA02 EA04 EA23 4J011 QA02 QA03 QA06 QA12 QA13 QA17 QA27 QB14 QB16 QB19 RA03 RA08 SA64 SA78 SA84 SA88 TA01 TA03 TA05 UA01 VA01 WA01 WA02 WA05 WA06

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （ｉ）極大吸収波長を350〜450 nmに有
   する三重項増感色素、（ｉｉ）アシルホスフィン化合物
   及び、（ｉｉｉ）ラジカルおよび酸の少なくともいずれ
   かによって反応し、その物理的および化学的特性の少な
   くともいずれかが変化して保持される化合物を含有する
   感光性組成物。
2. 【請求項２】 （ｉ）下記一般式（１）で表される増感
   色素および下記一般式（２）で表される増感色素の少な
   くともいずれか、（ｉｉ）アシルホスフィン化合物及
   び、（ｉｉｉ）ラジカルおよび酸の少なくともいずれか
   によって反応し、その物理的および化学的特性の少なく
   ともいずれかが変化して保持される化合物を含有する感
   光性組成物。 【化１】 （式中、ＡはＳ原子もしくは、ＮＲ₁をあらわし、Ｒ₁は
   アルキル基、アリール基を表し、Ｙは隣接するＡおよ
   び、隣接炭素原子と共同して色素の塩基性核を形成する
   非金属原子団をあらわし、Ｘ₁，Ｘ₂はそれぞれ独立に、
   水素原子または一価の非金属原子団であり、Ｘ₁、Ｘ₂は
   互いに結合して、色素の酸性核を形成してもよい。Ｗは
   Ｏ原子または硫黄原子をあらわす。） 【化２】 （式中、Ar₁およびAr₂はそれぞれ独立にアリール基を表
   し、-Z-による結合を介して連結している。ここで、Zは
   −O−又は-S-を表す。また、Wは一般式(１)に示したも
   のと同義である。）
3. 【請求項３】 前記ラジカルおよび酸の少なくともいず
   れかによって反応し、その物理的および化学的特性の少
   なくともいずれかが変化して保持される化合物がエチレ
   ン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物である請
   求項１記載の感光性組成物。
4. 【請求項４】 請求項１記載の光重合性組成物を450 nm
   以下の波長を有するレーザー光で露光することを特徴と
   する光重合方法。