JP2001133614A - 拡散反射板及びその転写原型、その製造方法及びそれを用いたベースフィルム、転写フィルム、並びにこれらを用いた拡散反射板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 外光の正反射角度以外の角度で明るく見える
反射型ＬＣＤ用拡散反射板等に用いられる拡散反射板及
びその転写原型、その製造方法及びそれを用いたベース
フィルム、転写フィルム、並びにこれらを用いた拡散反
射板の製造方法を提供する。 【解決手段】 規則だった微小形状が密集してなる表面
形状を持つ拡散反射板において、該微小形状の一部に角
錐部分と角柱部分が存在することにより、外光の正反射
角度以外の光を等方的に反射させることができ、明るい
拡散反射板となる。さらにその転写原型を作製し、形状
を被転写フィルムに転写してベースフィルムとし、これ
に反射膜を形成することにより拡散反射板とすることが
できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、バックライトを必
要としない反射型液晶表示装置や高効率を必要とされる
太陽電池の拡散反射板の製造等に使用される転写フィル
ム及びその転写フィルムを使用した拡散反射板、その製
造に用いるベースフィルム、転写原型に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶ティスプレイ（以下ＬＣＤと略す）
は、薄型、小型、低消費電力などの特長を生かし、現
在、時計、電卓、ＴＶ、パソコン等の表示部に用いられ
ている。更に近年、カラーＬＣＤが開発されＯＡ・ＡＶ
機器を中心にナビゲーションシステム、ビュウファイン
ダー、パソコンのモニター用など数多くの用途に使われ
始めており、その市場は今後、急激に拡大するものと予
想されている。特に、外部から入射した光を反射させて
表示を行う反射型ＬＣＤは、バックライトが不要である
ために消費電力が少なく、薄型、軽量化が可能である点
で携帯用端末機器用途として注目されている。

【０００３】従来から反射型ＬＣＤにはツイステッドネ
マティック方式並びにスーパーツイステッドネマティッ
ク方式が採用されているが、これらの方式では直線偏光
子により入射光の１／２が表示に利用されないことにな
り表示が暗くなってしまう。そこで、偏光子を１枚に減
らし、位相差板と組み合わせた方式や相転移型ゲスト・
ホスト方式の表示モードが提案されている。

【０００４】反射型ＬＣＤにおいて外光を効率良く利用
して明るい表示を得るためには、更にあらゆる角度から
の入射光に対して、表示画面に垂直な方向に散乱する光
の強度を増加させる必要がある。そのために、反射板上
の反射膜を適切な反射特性が得られるように制御するこ
とが必要である。多角錘が底辺を接して密集して配列し
た反射板が提案されている（特開平９−３０４７６７号
公報）。また先端が球面状のバイトを押圧して凹部を連
続して形成した母型の製造方法およびその型面から転写
型を形成し、それを反射体基板に転写して反射体を製造
する方法が提案されている（特開平１１−４２６４９号
公報）。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】特開平９−３０４７６
７号公報では光源と検出器を含む平面が多角錘の底辺と
平行する方向と斜辺の連なる方向では反射特性が異な
る。底辺と平行になる方向は多角錘の斜面の法線を含む
ため、光源からの入射角がある角度で反射光量が増す
が、斜辺の連なる方向に光源と検出器を含む平面が存在
すると、この平面内に法線を含む平面が反射板表面に無
いため、正反射と異なる入射角で大きな反射光量を得る
領域が出にくい。反射板表面を粗化することによって、
この反射特性の異方性を少なくすることはできる。しか
し、完全に無くすためにさらに粗化することにより、正
反射から大きく離れた角度からの入射光の反射光量が増
し、良好な反射特性が得られない。したがって、光源と
検出器を含む平面が斜辺の連なる方向と平行する場合が
問題で、この方向の反射特性が正反射と異なる入射角で
大きな反射光量を得られるような反射板が必要となる。
反射板の法線を含むどの平面内でも同じ反射特性を得る
ために必要十分な微小形状は特開平１１−４２６４９号
公報の半球体のように反射板の法線を含む方向で切った
断面が円であることは明らかである。しかし、底面が円
の微小形状を細密に密集させると微小球体同士の間に平
面部分がする。本発明は、外光の正反射角度以外の光を
等方的に反射させることができ、明るい拡散反射板を提
供するものである。さらにその転写原型及びそれを用い
たベースフィルム、転写フィルム、並びにこれらを用い
た拡散反射板の製造方法を提供するものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、（１）成型用
母型の表面に、規則だった微小形状が密集してなる表面
形状を持つ凹凸部が形成され、該微小形状の一部に角錐
部分と角柱部分が存在することを特徴とする転写原型で
あり、（２）該微小形状を構成する平面同士が接する部
分または隣接した微小形状が接する部分がなだらかな曲
面になっていることを特徴とする上記（１）に記載の転
写原型、（３）該微小形状を構成する平面がなだらかな
曲面になっている上記（１）または（２）に記載の転写
原型、（４）該微小形状表面が粗化されている上記
（１）ないし（３）のいずれかに記載の転写原型、
（５）上記（２）ないし（４）のいずれかに記載の転写
原型において、微小形状を原型表面に形成した後、メッ
キを施すことによりなだらかな曲面としたことを特徴と
する上記（２）ないし（４）のいずれかに記載の転写原
型、（６）微小形状形成手段が機械加工であることを特
徴とする上記（１）ないし上記（５）のいずれかに記載
の転写原型である。

【０００７】また、本発明は、（７）上記（１）ないし
上記（６）のいずれかに記載の転写原型を用い、その転
写原型の表面形状を転写して製造することを特徴とする
拡散反射板の製造方法であり、（８）上記（１）ないし
上記（６）のいずれかに記載の転写原型を用い、その微
小形状を転写した転写原型を用い、その転写原型の表面
形状をさらに転写して製造することを特徴とする拡散反
射板の製造方法である。更に、（９）上記（１）ないし
（６）のいずれかに記載の転写原型を被転写フィルムに
押し当てることにより形状が転写されたベースフィルム
である。また、本発明は、（１０）上記（９）に記載の
ベースフィルムの転写原型を転写した面に反射膜を設け
た拡散反射板である。

【０００８】そして、本発明は、（１１）上記（９）に
記載のベースフィルムを仮支持体として用い、仮支持体
の転写原型を転写した面に薄膜層を積層し、薄膜層の仮
支持体に積層されていない面が被転写基板への接着面を
構成する転写フィルムであり、（１２）上記（１１）に
記載の転写フィルムにおいて、仮支持体と薄膜層の間に
反射膜が積層された転写フィルムであり、（１３）上記
（１１）に記載の転写フィルムを永久基板に薄膜層が面
するように押し当てる工程と、前記仮支持体を剥がす工
程と、薄膜層の転写された表面に反射膜を形成する工程
により拡散反射板を作製する拡散反射板の製造方法であ
り、（１４）上記（９）に記載のベースフィルムを永久
基板上に形成された薄膜層に、転写された面が面するよ
うに押し当てる工程と、前記ベースフィルムを剥がす剥
がす工程と、表面に反射膜を形成する工程を含む拡散反
射板の製造方法、（１５）上記（１２）に記載の転写フ
ィルムを永久基板に薄膜層が面するように押し当てる工
程と、前記仮支持体を剥がす工程を含む拡散反射板の製
造方法である。そして、本発明は、（１６）上記（１
３）ないし上記（１５）のいずれかに記載の製造方法に
より得られた拡散反射板である。

【０００９】上記課題を解決するために、本発明者らが
検討した結果、具現化可能な微小形状として一部に角錐
部分と角柱部分を含む形状を実現した。その例を図１に
示す。さらに微小形状を構成する平面同士が接する部分
または隣接した微小形状が接する部分を丸め、または平
面自体をもわずかな曲率をもつ曲面に加工した。その例
を図２に示す。これらにより外光の正反射角度以外の光
を等方的に反射させることができ、明るい拡散反射板と
なることを見出した。

【００１０】また、この拡散反射板の転写原型または転
写原型の転写原型を作製し、被転写フィルムに転写して
ベースフィルムとし、これに反射膜を形成することによ
り拡散反射板とすることができる。

【００１１】前記方法で作製したベースフィルムを仮支
持体として、転写原型を転写した面に薄膜層を積層して
転写フィルムとし、永久基板に薄膜層の仮支持体に積層
されていない面を面するように押し当てて仮支持体を剥
がし薄膜層に反射膜を形成することにより拡散反射板と
することができる。

【００１２】前記ベースフィルムを用いて、永久基板に
形成された薄膜層に転写された面が面するように押し当
てて形状を転写し、薄膜層に反射膜を形成すると、同様
に反射特性に優れる拡散反射板を製造できる。

【００１３】ベースフィルムを仮支持体とし、転写原型
を転写した面に反射膜を設け、さらに薄膜層を積層して
転写フィルムとし、該フィルムを永久基板に薄膜層が面
するように押し当てる工程と、前記仮支持体を剥がす工
程により拡散反射板を製造できる。

【００１４】転写原型を永久基板上に形成された薄膜層
に、転写原型を押し当てる工程と、表面に反射膜を形成
する工程により拡散反射板を製造できる。

【００１５】本製造方法により外光の正反射角度以外の
光を等方的に反射させることができ、明るい拡散反射板
を製造することができる。

【００１６】

【発明の実施の形態】図２は本発明の転写原型の製造工
程の一例を示す断面図、図３は本発明の転写原型の製造
工程の一例を示す断面図、図４は本発明の転写フィルム
の一例を示す断面図、図５は本発明の転写フィルムを使
用して製造された拡散反射板の一例を示す断面図、図６
は転写フィルムを使用した拡散反射板の製造例を示す断
面図であり、図７は反射型ＬＣＤの断面図であり、図中
１はガラス基板、２は薄膜層、３は反射膜、４はベース
フィルム、５はカバーフィルム、１１はカラーフィル
タ、１２はブラックマトリクス、１３は透明電極、１４
は平坦化膜、１５は配向膜、１６は液晶層、１７はスペ
ーサ、１８は位相差フィルム、１９は偏光板を示す。

【００１７】転写原型の材質は金属、樹脂等、限定され
ないが、好ましくは寸法安定性、導電性に優れるステン
レス等の鉄合金、さらに加工裕度のある銅が積層された
ものを用いる。表面は機械研磨、エッチング、洗浄する
等して均一にして用いる。板状、シート状、ロール状等
限定されないが、ロール状であると回転しながら加工が
可能となるのでより好ましい。

【００１８】本発明の転写原型の最も容易な製造方法の
一例は、まず、ロール状基材を回転させながら、ダイヤ
モンドバイトを移動させるまたはロールを移動させなが
ら、バイトを押圧することにより、実質的に合同な形状
が隣接して並んだ穴部を形成する。バイトとバイトの間
は密接してもよく任意の距離をあけてもよい。また複数
の形状の異なるバイトを押圧したり、同じバイトで位置
を変えて押圧することもできる。ダイヤモンドバイトの
形状を選択することで反射特性を最適化することができ
る。押圧後の形状は、図１または図２に例を示したよう
な角錐または角柱部分が存在し、緻密に隣接させた形状
が好ましい。そうすることによって、正反射方向への反
射強度を少なくすることができる。

【００１９】例にバイトによる機械的加工を示したが、
レーザーによる加工、エッチングによる加工等を用いて
もよいし、それらを組み合わせて用いることもできる。

【００２０】押圧後、加工傷を埋めるまたは穴の深さを
最適化する目的でレベリングメッキ、光沢メッキを行う
のが好ましい。これはメッキに限定するものではなく真
空蒸着やスパッタリングでもよく、樹脂等を塗布しても
よい。

【００２１】次に基材が導電性のものであればそのま
ま、非導電性であれば導電処理を行い粗化メッキを行
う。粗化メッキは文献「現場技術者のための実用メッキ
（１）（昭和５３年発行、槙書店、日本プレーティング
協会編）に示されている方法を用いれば良く、銅メッ
キ、ニッケルメッキ、クロムメッキ等の電気メッキ、無
電解メッキ、微粒子共析メッキ、電着塗装等の公知の方
法で行う。ロールを回転させながら粗化メッキすること
でムラや継ぎ目なしの転写原型を作製することができ
る。

【００２２】粗化メッキ後に再度光沢メッキを行って形
状を最適化することもできる。また、さらに表面の硬度
を上げる、及び酸化を防止する目的で保護メッキを行っ
てもよい。クロム、ニッケル、亜鉛等のメッキを行うの
が好ましい。

【００２３】転写されるフィルムは、転写原型を変形可
能なベースフィルムに押し当てることによって製造する
ことができる。また、ベースフィルムに、変形可能な下
塗り層を設け、この層に転写原型を押し当てる工程、下
塗り層を硬化する工程により形成したものが使用でき
る。押し当てる工程で熱、光等を与えてもよい。

【００２４】本発明の下塗り層としては、転写後は薄膜
層よりも硬いものが好ましい。例えばポリエチレン、ポ
リプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビ
ニル、エチレンとアクリル酸エステル、エチレンとビニ
ルアルコールのようなエチレン共重合体、ポリ塩化ビニ
ル、塩化ビニルと酢酸ビニルの共重合体、塩化ビニルと
ビニルアルコールの共重合体、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リスチレン、スチレンと（メタ）アクリル酸エステルの
ようなスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニル
トルエンと（メタ）アクリル酸エステルのようなビニル
トルエン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、
（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニルのような（メ
タ）アクリル酸エステルの共重合体、セルロースアセテ
ート、ニトロセルロース、セロハン等のセルロース誘導
体、ポリアミド、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポ
リイミド、ポリエステル、合成ゴム、セルローズ誘導体
等から選ばれた、少なくとも１種類以上の有機高分子を
用いることができる。

【００２５】転写後硬化させるために必要に応じて光開
始剤やエチレン性二重結合を有するモノマ等を予め添加
することができる。また感光タイプにネガ型材を利用す
ることで示したが、ポジ型であっても問題はない。

【００２６】図８に本発明の拡散反射板の反射特性の測
定装置を示す。反射光線２１と入射光線２２のなす角度
をθとすると、必要とされるθの範囲で拡散反射板の法
線方向で観測される輝度すなわち反射強度を大きくすれ
ば反射特性に優れる拡散反射板が得られる。

【００２７】本発明のベースフィルムとしては、化学
的、熱的に安定であり、シートまたは板状に成形できる
ものを用いることができる。具体的には、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン等のポリハロゲン化ビニル類、
セルロースアセテート、ニトロセルロース、セロハン等
のセルロース誘導体、ポリアミド、ポリスチレン、ポリ
カーボネート、ポリイミド、ポリエステル、あるいはア
ルミ、銅等の金属類等である。これらの中で特に好まし
いのは寸法安定性に優れた２軸延伸ポリエチレンテレフ
タレートである。

【０００７】薄膜層としては変形可能な有機重合体を含
む組成物または無機化合物、金属を用いることができる
が、好ましくは支持体上に塗布しフィルム状に巻き取る
ことが可能な有機重合体組成物を用いる。またこの中に
必要に応じて、染料、有機顔料、無機顔料、粉体及びそ
の複合物を単独または混合して用いてもよい。

【００２９】薄膜層には感光性樹脂組成物、熱硬化性樹
脂組成物を用いることもできる。これら薄膜層の誘電
率、硬度、屈折率、分光透過率は特に限定されない。

【００３０】そのようなものの中で、被転写基板に対す
る密着性が良好で、ベースフィルムからの剥離性がよい
ものを用いるのが好ましい。たとえばアクリル樹脂、ポ
リエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のポリハロゲン化ビ
ニル類、セルロースアセテート、ニトロセルロース、セ
ロハン等のセルロース誘導体、ポリアミド、ポリスチレ
ン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリエステル等を
用いることができる。また感光性を有するものを用いる
ことができる。場合によっては基板の凹凸が必要な部分
だけを残し、不要な部分を除けるように、アルカリ等で
現像可能な感光性樹脂を用いることもできる。耐熱性、
耐溶剤性、形状安定性を向上させるために、凹凸形成後
に熱または光によって硬化可能な樹脂組成物を用いるこ
ともできる。さらに、カップリング剤、接着性付与剤を
添加することで基板との密着を向上させることもでき
る。接着を向上させる目的で基板または薄膜層の接着面
に接着性付与剤を塗布することも含まれる。

【０００８】アルカリで現像可能な樹脂としては、酸価
が２０〜３００、重量平均分子量が１，５００〜２０
０，０００の範囲に入っているものが好ましく、例えば
スチレン系単量体とマレイン酸との共重合体又はその誘
導体（以下、ＳＭ系重合体という）、アクリル酸又はメ
タクリル酸等のカルボキシル基を有する不飽和単量体と
スチレン系単量体、メチルメタクリレート、ｔ−ブチル
メタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート等の
アルキルメタクリレート、同様のアルキル基を有するア
ルキルアクリレート等の単量体との共重合体が好まし
い。

【００３２】ＳＭ系共重合体は、スチレン、α−メチル
スチレン、ｍ又はｐ−メトキシスチレン、ｐ−メチルス
チレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、３−ヒドロキシメチ
ル−４ヒドロキシ−スチレン等のスチレン又はその誘導
体（スチレン系単量体）と無水マレイン酸、マレイン
酸、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マ
レイン酸モノ−ｎ−プロピル、マレイン酸モノ−ｉｓｏ
−プロピル、マレイン酸−ｎ−ブチル、マレイン酸モノ
−ｉｓｏ−ブチル、マレイン酸モノ−ｔｅｒｔ−ブチル
等のマレイン酸誘導体を共重合させたもの（以下、共重
合体（Ｉ）という）がある。共重合体（Ｉ）には、メチ
ルメタクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート等のアル
キルメタクリレート等、前記した共重合体（Ｉ）に反応
性二重結合を有する化合物で、変性したものがある（共
重合体（ＩＩ））。

【０００９３】上記共重合体（ＩＩ）は、共重合体
（Ｉ）中の酸無水物基又はカルボキシル基に不飽和アル
コール、例えばアリルアルコール、２−ブラン−１−２
−オールフルフリルアルコール、オレイルアルコール、
シンナミルアルコール、２−ヒドロキシエチルアクリレ
ート、ヒドロキシエチルメタクリレート、Ｎ−メチロー
ルアクリアミド等の不飽和アルコール、グリシジルアク
リレート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジ
ルエーテル、α−エチルグリシジルアクリレート、イタ
コン酸モノアルキルモノグリシジルエステル等のオキシ
ラン環及び反応性二重結合をそれぞれ１個有するエポキ
シ化合物と反応させることにより製造することができ
る。この場合、アルカリ現像を行うために必要なカルボ
キシル基が共重合体中に残っていることが必要である。
ＳＭ系重合体以外のカルボキシル基を有する重合体も、
上記と同様に反応性二重結合の付与は、感光度の点から
好ましい。

【００１０４】これらの共重合体の合成は特公昭４７−
２５４７０号公報、特公昭４８−８５６７９号公報、特
公昭５１−２１５７２号公報等に記載されている方法に
準じて行うことができる。薄膜層の膜厚は、凹凸を有す
る仮支持体の凹凸の高低差より厚く形成すると凹凸形状
を再現しやすい。膜厚が等しいあるいは薄いと凹凸形状
が変形する。また、凹凸を形成する場合後述する問題が
発生する場合がある。

【００３５】本発明の薄膜層や下塗り層の塗布方法とし
ては、ロールコータ塗布、スピンコータ塗布、スプレー
塗布、ホエラー塗布、ディップコータ塗布、カーテンフ
ローコータ塗布、ワイヤバーコータ塗布、グラビアコー
タ塗布、エアナイフコータ塗布等がある。仮支持体上等
に上記の方法で薄膜層または下塗り層組成物を塗布す
る。

【００３６】反射膜としては、反射したい波長領域によ
って材料を適切に選択すれば良く、例えば反射型ＬＣＤ
表示装置では、可視光波長領域である３００ｎｍから８
００ｎｍにおいて反射率の高い金属、例えばアルミニウ
ムや金、銀等、を真空蒸着法またはスパッタリング法等
によって形成する。また反射増加膜（光学概論２（辻内
順平、朝倉書店、１９７６年発行）に記載）を上記の方
法で積層してもよい。反射膜の厚みは、０．０１μｍ〜
５０μｍが好ましい。また反射膜は、必要な部分だけフ
ォトリソグラフィー法、マスク蒸着法等によりパターン
形成してもよい。

【００１１３７】本発明の転写フィルムのカバーフィル
ムとしては、化学的および熱的に安定で、薄膜層との剥
離が容易であるものが望ましい。具体的にはポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リビニルアルコール等の薄いシート状のもので表面の平
滑性が高いものが好ましい。剥離性を付与するために表
面に離型処理をしたものも含まれる。

【００１２８】また、それぞれの転写フィルムの基板へ
の転写後の剥離面は、薄膜層とベースフィルムとの間、
また反射膜がある場合には反射膜とベースフィルムある
いは反射膜と下塗り層の間となる。

【００１３９】但し、目的によっては下塗り層と反射膜
があるフィルム構造の場合で、下塗り層を基板に積層す
るため、下塗り層とベースフィルムの間を剥離面に設定
することが出来る。下塗り層を基板に積層する目的とし
て、反射膜を電極として用いる場合の電気絶縁層として
の機能を下塗り層に持たせる場合、あるいは反射膜凹凸
の平坦化層としての役割を下塗り層に持たせる場合、下
塗り層に感光性樹脂を用いて、反射膜のエッチングレジ
ストとしての役割を持たせる場合、更に下塗り層を着色
し、反射膜の部分的な遮光層としての役割を持たせる場
合等がある。

【００１４４０】仮支持体上の薄膜層、反射膜を基板に
転写する方法としては、カバーフィルムを剥がし、基板
上に加熱圧着すること等がある。さらに密着性を必要と
する場合には基板を必要な薬液等で洗浄したり、基板に
接着付与剤を塗布したり、基板に紫外線等を照射する等
の方法を用いてもよい。本発明の転写フィルムをラミネ
ートする装置としては基板を加熱、加圧可能なゴムロー
ルとベースフィルムとの間に挟み、ロールを回転させ
て、転写フィルムを基板に押し当てながら基板を送りだ
すロールラミネータを用いることが好ましい。

【００１５４１】このようにして基板表面に形成した薄
膜層の膜厚は、０．１μｍ〜５０μｍの範囲が好まし
い。このとき凹凸形状の最大高低差より薄膜層の膜厚が
厚い方が凹凸形状を再現しやすい。膜厚が等しいあるい
は薄いと原型凸部で薄膜層を突き破ってしまい、平面部
が発生し拡散反射を効率よく得にくくなる。

【００１６４２】この薄膜層にネガ型感光性樹脂を用い
た場合には、その形状の安定性を付与するために露光機
により露光を行い、感光部分を硬化させる。本発明に適
用し得る露光機としては、カーボンアーク灯、超高圧水
銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドラ
ンプ、蛍光ランプ、タングステンランプ等が挙げられ
る。この露光装置は画素及びＢＭ等のパターン形成用の
平行露光機でも良いが、本発明では予め形成された凹凸
を硬化させることで出来れば良く、このためには感光性
樹脂が硬化する露光量以上の光量を与えておけばよい。
従って、一般に基板洗浄装置として利用されているライ
ンに組み込める散乱光を用いるＵＶ照射装置を用いるこ
とが出来る。これらの装置を用いることによって、フォ
トマスクを用いる手法に比べて安価に作製でき、フォト
マスクを用いる場合に比べ、露光量に対する裕度が大き
い。また感光タイプにネガ型材を利用することで示した
が、ポジ型であっても問題はない。

【００１７３】露光は支持体を剥がす前、または剥がし
た後に行う。基板への密着性、追従性を向上させる目的
で、ベースフィルムにクッション層を設けてもよい。

【００１８４】以上反射型ＬＣＤ表示装置で説明した
が、本発明の転写フィルムで製造された拡散反射板は外
部光線を拡散反射させることが必要なデバイスに用いる
ことが出来る。例えば太陽電池の効率向上を目的とした
拡散反射板がある。また本発明の転写フィルムは遮光
板、装飾板、スリガラス、投影スクリ−ンの白色板、光
学フィルタ、集光板、減光板等の製造に使用することが
できる。このように、本発明の転写フィルムはガラス
板、合成樹脂板、合成樹脂フィルム、金属板、金属箔い
かなるものにも転写することができ、被転写基板面は、
平面のみならず曲面、立体面でも良い。

【００１９５】

【実施例】（実施例１）直径１３０mmの円筒形の鉄製基
材を回転させながら、銅メッキを行って、鉄に銅が２０
０μm積層された原型基材を得た。これを研磨して表面
が鏡面となるように加工した。次にこれを回転させなが
ら先端角が１４５度のダイヤモンドバイトの先端を平坦
にし、幅２μｍの平坦部を先端に持つダイヤモンドバイ
トで連続的に押圧し、底面の一辺が３６．３μm、深さ
７．８μmの四角錐の先端が平坦な形状を押し付けた形
状が隣接して並んだロール型を得た。この微小形状を図
９に示す。次にこれを回転させながら以下に示す銅メッ
キ液に浸漬し、電流密度（メッキ面積１０平方センチメ
ートルあたりの電流値）が8Ａとなるように電流を調節
し、光沢メッキを行った後、同じメッキ液中で電流密度
を2Ａとなるように電流を調整し、粗化メッキを行った
後、メッキ液を除去する目的で純水で洗浄した。次に銅
の酸化を抑えるために、以下に示すニッケルメッキ液に
浸漬しながら、電流密度2Ａとなるように電流を調整し
て光沢ニッケルメッキを行って、転写原型を得た。 （銅メッキ液）： 硫酸銅 ２１０ｇ/リットル 硫酸 ６０ｇ/リットル チオ尿素 ０.０１ｇ/リットル デキストリン ０.０１ｇ/リットル 塩酸 ０.０１ｇ/リットル 液温 ３０℃ （ニッケルメッキ液）： 硫酸ニッケル ２４０ｇ/リットル 塩化ニッケル ４５ｇ/リットル 硼酸 ３０ｇ/リットル 浴温 ５０℃

【００４６】ベースフィルムに厚さ１００μｍのポリエ
チレンテレフタレートフィルムを用い、このベースフィ
ルム上に光硬化性樹脂溶液をコンマコーターで２０μｍ
の膜厚になるよう塗布乾燥した。次に前記転写原型を押
しあて、紫外線を照射し光硬化性樹脂を硬化し転写原型
から分離し、転写原型の穴の反転形状が光硬化性樹脂層
（下塗り層）の表面に転写されたベースフィルムを得
た。 （光硬化性樹脂（下塗り層）溶液）： アクリル酸-ブチルアクリレート-ビニルアセテート共重合体 ５重量部 ブチルアセテート（モノマー） ８重量部 ビニルアセテート（モノマー） ２重量部 アクリル酸（モノマー） ０.３重量部 ヘキサンジオールアクリレート（モノマー） ０.２重量部 ベンゾインイソブチルエーテル（開始剤） ２.５重量％

【００４７】次に光硬化性樹脂層（下塗り層）上に薄膜
層形成用溶液をコンマコーターで平均膜厚が８μｍの膜
厚になるよう塗布乾燥し、カバーフィルムとしてポリエ
チレンフィルムを被覆して転写フィルムを得た。 次
に、この転写フィルムのカバーフィルムを剥がしなが
ら、薄膜層がガラス基板に接する様にラミネータ（ロー
ルラミネータＨＬＭ１５００、日立化成テクノプラント
株式会社社商品名）を用いて基板温度９０℃、ロール温
度８０℃、ロール圧力０．６８６ＭＰａ（７ｋｇ／ｃｍ
²）、速度０．５ｍ／分でラミネートし、ガラス基板上
に薄膜層、光硬化性樹脂層（下塗り層）、ベースフィル
ムが積層された基板を得た。次に、光硬化性樹脂層（下
塗り層）、ベースフィルムを剥離し、ガラス基板上に転
写原型の凹凸形状と同様な薄膜層を得た。次に、オーブ
ンで２３０℃、３０ｍｉｎの熱硬化をし、真空蒸着法
で、アルミニウム薄膜を０．２μｍの膜厚になるよう積
層し反射層を形成した。図１０には方位角（φ）を一定
とした場合の反射強度（標準白色板に対する相対強度）
の入射角度依存性を示す。図１１には測定した反射層の
方向を示す。ｘ、ｙ、ｚ方向ともほぼ同じように、入射
角度−４０°〜４０°の範囲で十分な反射強度が得ら
れ、等方的に反射させる反射特性の優れた拡散反射板を
得ることができることが分かった。

【００４８】（薄膜層形成用溶液）：ポリマーとしてス
チレン、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、
アクリル酸、グリシジルメタクリレート共重合樹脂を用
いた（ポリマーＡ）。分子量は約３５０００、酸価は１
１０である。 ポリマーＡ ７０重量部 ペンタエリスリトールテトラアクリレート（モノマー） ３０重量部 イルガキュアー369（チバスペシャルティーケミカルズ）(開始剤）２．２重量部 Ｎ，Ｎ-テトラエチル-４,４’-ジアミノベンゾフェノン（開始剤）２．２重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル（溶剤） ４９２重量部 ｐ−メトキシフェノール（重合禁止剤） ０．１重量部 パーフルオロアルキルアルコキシレート（界面活性剤） ０．０１重量部

【００２０９】（実施例２）実施例１の穴の反転形状が
転写されたベースフィルムの転写された面に真空蒸着法
で、アルミニウム薄膜を０．２μｍの膜厚になるよう積
層し反射層を形成した。これは入射角度−４０°〜４０
°の範囲で等方的で十分な反射強度が得られ、反射特性
にすぐれた拡散反射板が得られることが分かった。

【００２１５０】（実施例３）永久基板となるガラス基
板に実施例１と同様の薄膜層形成用溶液を塗布し２００
０回転で１５秒間スピンコートし、ホットプレートで９
０℃、２分間に加熱して８μmの薄膜層を得た。次に実
施例１の穴の反転形状が転写されたベースフィルムの転
写された面が薄膜層に面するようにラミネータ（ロール
ラミネータＨＬＭ１５００、日立化成テクノプラント株
式会社社製商品名）を用いて基板温度９０℃、ロール温
度８０℃、ロール圧力０．６８６ＭＰａ（７ｋｇ／ｃｍ
²）、速度０．５ｍ／分でラミネートし、ガラス基板上
に薄膜層、光硬化性樹脂層（下塗り層）、ベースフィル
ムが積層された基板を得た。これに露光装置で紫外線を
照射し次に、光硬化性樹脂層（下塗り層）とベースフィ
ルムを剥離し、ガラス基板上に転写原型の凹凸形状と同
様な薄膜層を得た。次に、オーブンで２３０℃、３０ｍ
ｉｎの熱硬化をし、真空蒸着法で、アルミニウム薄膜を
０．２μｍの膜厚になるよう積層し反射層を形成した。
これは入射角度−４０°〜４０°の範囲で等方的で十分
な反射強度が得られ、反射特性にすぐれた拡散反射板を
得ることができることが分かった。

【００２２５１】（比較例１）実施例１と同様に直径１
３０mmの円筒形の鉄製基材を回転させながら、銅メッキ
を行って、鉄に銅が２００μm積層された原型基材を得
た。これを研磨して表面が鏡面となるように加工した。
次にこれを回転させながら先端角が１４５度のダイヤモ
ンドバイトで連続的に押圧し、底面の一辺が３６．３μ
m、深さ８．１μmの四角錐を押し付けた形状が隣接して
並んだロール型を得た。この微小形状を図１２に示す。
次にこれを回転させながら以下に示す銅メッキ液に浸漬
し、電流密度（メッキ面積１０平方センチメートルあた
りの電流値）が8Ａとなるように電流を調節し、光沢メ
ッキを行った後、同じメッキ液中で電流密度を2Ａとな
るように電流を調整し、粗化メッキを行った後、メッキ
液を除去する目的で純水で洗浄した。次に銅の酸化を抑
えるために、以下に示すニッケルメッキ液に浸漬しなが
ら、電流密度2Ａとなるように電流を調整して光沢ニッ
ケルメッキを行って、転写原型を得た。ベースフィルム
に厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィル
ムを用い、このベースフィルム上に光硬化性樹脂溶液を
コンマコーターで２０μｍの膜厚になるよう塗布乾燥し
た。次に前記転写原型を押しあて、紫外線を照射し光硬
化性樹脂を硬化し転写原型から分離し、転写原型の穴の
反転形状が光硬化性樹脂層（下塗り層）の表面に転写さ
れたベースフィルムを得た。次に光硬化性樹脂層（下塗
り層）上に薄膜層形成用溶液をコンマコーターで平均膜
厚が８μｍの膜厚になるよう塗布乾燥し、カバーフィル
ムとしてポリエチレンフィルムを被覆して転写フィルム
を得た。次に、この転写フィルムのカバーフィルムを剥
がしながら、薄膜層がガラス基板に接する様にラミネー
タ（ロールラミネータＨＬＭ１５００、日立化成テクノ
プラント株式会社社製商品名）を用いて基板温度９０
℃、ロール温度８０℃、ロール圧力０．６８６ＭＰａ
（７ｋｇ／ｃｍ²）、速度０．５ｍ／分でラミネート
し、ガラス基板上に薄膜層、光硬化性樹脂層（下塗り
層）、ベースフィルムが積層された基板を得た。次に、
光硬化性樹脂層（下塗り層）、ベースフィルムを剥離
し、ガラス基板上に転写原型の凹凸形状と同様な薄膜層
を得た。次に、オーブンで２３０℃、３０ｍｉｎの熱硬
化をし、真空蒸着法で、アルミニウム薄膜を０．２μｍ
の膜厚になるよう積層し反射層を形成した。図１３には
方位角（φ）を一定とした場合の反射強度（標準白色板
に対する相対強度）の入射角度依存性を示す。図１４に
は測定した反射層の方向を示す。ｙ、ｚ方向とはほぼ同
じような反射特性を示すが、ｘ方向では大きな反射強度
を得られる角度範囲が狭くなり、等方的な明るさを持つ
拡散反射板とはならなかった。

【００２３５２】

【発明の効果】本発明の拡散反射板は外光の正反射角度
以外の光を等方的に反射させることができ、明るく見え
る。また転写原型はダイヤモンドバイトを用いた機械加
工等により、容易に製造することができる。さらに転写
原型を用いて作製した転写フィルムにより反射型液晶表
示装置等に使用される良好な反射特性を有する拡散反射
板を効率良く製造することができ、かつ再現性のよい反
射特性が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の拡散反射板の密集してなる微小形状
の例を示す透視図。

【図２】 本発明の拡散反射板の密集してなる微小形状
の例を示す透視図。

【図３】 本発明の転写原型の製造工程の一例を示す断
面図。

【図４】 本発明の転写フィルムの一例を示す断面図。

【図５】 本発明の転写フィルムを使用して製造された
拡散反射板の一例を示す断面図。

【図６】 本発明の転写フィルムを使用した拡散反射板
の製造例を示す断面図。

【図７】 反射型ＬＣＤの断面図。

【図８】 拡散反射板の反射特性の測定装置を示す斜視
図。

【図９】 実施例１のロール型に形成した微小形状を示
す透視図

【図１０】 実施例１の拡散反射板の反射特性の入射角
依存性を示す図。

【図１１】 実施例１の入射角度依存性を測定した反射
層の方向を示す図。

【図１２】 比較例１のロール型に形成した微小形状を
示す透視図

【図１３】 比較例１の拡散反射板の反射特性の入射角
依存性を示す図。

【図１４】 比較例１の入射角度依存性を測定した反射
層の方向を示す図。

【符号の説明】

１．ガラス基板 ２．薄膜層 ３．反射膜 ４．ベースフィルム ５．カバーフィルム ６．下塗り層 １１．カラーフィルタ １２．ブラックマトリクス １３．透明電極 １４．平坦化膜 １５．配向膜 １６．液晶層 １７．スペーサ １８．位相差フィルム １９．偏光板 ２０．試料 ２１．反射光線 ２２．入射光線 ２３．輝度計

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鶴岡 恭生 茨城県つくば市和台48 日立化成工業株式 会社総合研究所内 (72)発明者 高根 信明 茨城県つくば市和台48 日立化成工業株式 会社総合研究所内 (72)発明者 木沢 桂子 茨城県つくば市和台48 日立化成工業株式 会社総合研究所内 Ｆターム(参考） 2H042 BA04 BA12 BA13 BA15 BA20 DA02 DA04 DA05 DA11 DA17 DB00 DC02 DC08 DD09 DE00 4F202 AH75 AJ03 AJ09 CA27 CB01 CD03 CD04 CD23 4F209 AA04 AA24 AC03 AF01 AG03 AG05 AH73 PA02 PA03 PB01 PC01 PG05 PQ11 PW43

Claims (16)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 成型用母型の表面に、規則だった微小形
   状が密集してなる表面形状を持つ凹凸部が形成され、該
   微小形状の一部に角錐部分と角柱部分が存在することを
   特徴とする転写原型。
2. 【請求項２】 該微小形状を構成する平面同士が接する
   部分または隣接した微小形状が接する部分がなだらかな
   曲面になっていることを特徴とする請求項１に記載の転
   写原型。
3. 【請求項３】 該微小形状を構成する平面がなだらかな
   曲面になっている請求項１または請求項２に記載の転写
   原型。
4. 【請求項４】 該微小形状表面が粗化されている請求項
   １ないし請求項３のいずれかに記載の転写原型。
5. 【請求項５】 請求項２ないし請求項４のいずれかに記
   載の転写原型において、微小形状を原型表面に形成した
   後、メッキを施すことによりなだらかな曲面としたこと
   を特徴とする請求項２ないし請求項４のいずれかに記載
   の転写原型。
6. 【請求項６】 微小形状形成手段が機械加工であること
   を特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれかに記載
   の転写原型。
7. 【請求項７】 請求項１ないし請求項６のいずれかに記
   載の転写原型を用い、その転写原型の表面形状を転写し
   て製造することを特徴とする拡散反射板の製造方法。
8. 【請求項８】 請求項１ないし請求項６のいずれかに記
   載の転写原型を用い、その微小形状を転写した転写原型
   を用い、その転写原型の表面形状をさらに転写して製造
   することを特徴とする拡散反射板の製造方法。
9. 【請求項９】 請求項１ないし請求項６のいずれかに記
   載の転写原型を被転写フィルムに押し当てることにより
   形状が転写されたベースフィルム。
10. 【請求項１０】 請求項９に記載のベースフィルムの転
    写原型を転写した面に反射膜を設けた拡散反射板。
11. 【請求項１１】 請求項９に記載のベースフィルムを仮
    支持体として用い、仮支持体の転写原型を転写した面に
    薄膜層を積層し、薄膜層の仮支持体に積層されていない
    面が被転写基板への接着面を構成する転写フィルム。
12. 【請求項１２】 請求項１１に記載の転写フィルムにお
    いて、仮支持体と薄膜層の間に反射膜が積層された転写
    フィルム。
13. 【請求項１３】 請求項１１に記載の転写フィルムを永
    久基板に薄膜層が面するように押し当てる工程と、前記
    仮支持体を剥がす工程と、薄膜層の転写された表面に反
    射膜を形成する工程により拡散反射板を作製する拡散反
    射板の製造方法。
14. 【請求項１４】 請求項９に記載のベースフィルムを永
    久基板上に形成された薄膜層に、転写された面が面する
    ように押し当てる工程と、前記ベースフィルムを剥がす
    剥がす工程と、表面に反射膜を形成する工程を含む拡散
    反射板の製造方法。
15. 【請求項１５】 請求項１２に記載の転写フィルムを永
    久基板に薄膜層が面するように押し当てる工程と、前記
    仮支持体を剥がす工程を含む拡散反射板の製造方法。
16. 【請求項１６】 請求項１３ないし請求項１５のいずれ
    かに記載の製造方法により得られた拡散反射板。