JP2001118951A - 半導体装置 - Google Patents
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- H01L2924/15311—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA
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- H01L2924/1533—Connection portion the connection portion being formed on the die mounting surface of the substrate the connection portion being formed both on the die mounting surface of the substrate and outside the die mounting surface of the substrate
- H01L2924/15331—Connection portion the connection portion being formed on the die mounting surface of the substrate the connection portion being formed both on the die mounting surface of the substrate and outside the die mounting surface of the substrate being a ball array, e.g. BGA
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Abstract
(57)【要約】
【課題】実装基板に実装時のBGA型半導体装置のはん
だボールのクラック、破断による接合不良を防止でき、
実装基板に実装時の信頼性が良いBGA型半導体装置を
提供する。 【解決手段】一対の端子(中継端子5および外部端子
6)が距離を設けて一主面と他主面から反対方向に設け
られた導体基板3が設けられ、導体基板3に設けられた
一方の端子である中継端子(はんだボール)5が配線基
板12に形成された接続端子であるランド15に接続さ
れ導体基板3に設けられた他方の端子が外部端子(はん
だボール)6である。また、導体基板3に設けられた前
記端子の周囲に切欠部(スリット)7が設けられてい
る。
だボールのクラック、破断による接合不良を防止でき、
実装基板に実装時の信頼性が良いBGA型半導体装置を
提供する。 【解決手段】一対の端子(中継端子5および外部端子
6)が距離を設けて一主面と他主面から反対方向に設け
られた導体基板3が設けられ、導体基板3に設けられた
一方の端子である中継端子(はんだボール)5が配線基
板12に形成された接続端子であるランド15に接続さ
れ導体基板3に設けられた他方の端子が外部端子(はん
だボール)6である。また、導体基板3に設けられた前
記端子の周囲に切欠部(スリット)7が設けられてい
る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置に関
し、特にBGA(ボールグリッドアレイ)型半導体装置
に関する。
し、特にBGA(ボールグリッドアレイ)型半導体装置
に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体装置を組込んだ電子機器で
は薄型化・小型化が進んでおり、それに伴い組み込む半
導体装置にも薄型化・小型化が要求されており、それに
対応したBGA(ボールグリッドアレイ)型半導体装置
が実用化されている。
は薄型化・小型化が進んでおり、それに伴い組み込む半
導体装置にも薄型化・小型化が要求されており、それに
対応したBGA(ボールグリッドアレイ)型半導体装置
が実用化されている。
【0003】従来のBGA型半導体装置(従来例)は、
図6のプリント基板に実装されたBGA型半導体装置の
断面図で説明される。図6に示すように、従来のBGA
型半導体装置は、半導体チップ11が有機樹脂もしくは
セラミックを主基材とした配線基板12に搭載され、半
導体チップ11のボンディングパッド(図示せず)と配
線基板12の半導体チップ11が搭載された面に形成さ
れた導体配線(図示せず)とがボンディングワイヤ13
で接続され、半導体チップ11とボンディングワイヤ1
3とを配線基板12上で覆うように封止樹脂14で封止
され、そして配線基板12の半導体チップ11が搭載さ
れた面と反対の面に形成された前記導体配線に接続され
ている接続端子であるランド15に外部端子であるはん
だボール16が格子状に設けられている。なお、半導体
チップ11のボンディングパッド(図示せず)と配線基
板12に形成された導体配線(図示せず)との接続は、
ボンディングワイヤ13を用いた接続に限定されず、半
導体チップ11のボンディングパッド(図示せず)に形
成されたバンプ電極を用いたフリップチップ接続のもの
もある。
図6のプリント基板に実装されたBGA型半導体装置の
断面図で説明される。図6に示すように、従来のBGA
型半導体装置は、半導体チップ11が有機樹脂もしくは
セラミックを主基材とした配線基板12に搭載され、半
導体チップ11のボンディングパッド(図示せず)と配
線基板12の半導体チップ11が搭載された面に形成さ
れた導体配線(図示せず)とがボンディングワイヤ13
で接続され、半導体チップ11とボンディングワイヤ1
3とを配線基板12上で覆うように封止樹脂14で封止
され、そして配線基板12の半導体チップ11が搭載さ
れた面と反対の面に形成された前記導体配線に接続され
ている接続端子であるランド15に外部端子であるはん
だボール16が格子状に設けられている。なお、半導体
チップ11のボンディングパッド(図示せず)と配線基
板12に形成された導体配線(図示せず)との接続は、
ボンディングワイヤ13を用いた接続に限定されず、半
導体チップ11のボンディングパッド(図示せず)に形
成されたバンプ電極を用いたフリップチップ接続のもの
もある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のBGA
型半導体装置は、図6のプリント基板に実装されたBG
A型半導体装置の断面図で説明されるように、BGA型
半導体装置の配線基板12に設けられている外部端子で
あるはんだボール16が、実装基板であるプリント基板
21の実装面に形成されたランド(接続端子)22にリ
フロー等の方法で加熱接合され、実装される。このと
き、BGA型半導体装置の配線基板12とプリント基板
21との熱膨張係数に差が有るため、加熱時に熱膨張量
差および冷却時に熱収縮量差に起因する応力が発生し、
接合部であるBGA型半導体装置のはんだボール16に
応力が集中し、はんだボール16のクラック、破断によ
る接合不良が発生するという問題が生じる。
型半導体装置は、図6のプリント基板に実装されたBG
A型半導体装置の断面図で説明されるように、BGA型
半導体装置の配線基板12に設けられている外部端子で
あるはんだボール16が、実装基板であるプリント基板
21の実装面に形成されたランド(接続端子)22にリ
フロー等の方法で加熱接合され、実装される。このと
き、BGA型半導体装置の配線基板12とプリント基板
21との熱膨張係数に差が有るため、加熱時に熱膨張量
差および冷却時に熱収縮量差に起因する応力が発生し、
接合部であるBGA型半導体装置のはんだボール16に
応力が集中し、はんだボール16のクラック、破断によ
る接合不良が発生するという問題が生じる。
【0005】従って、本発明の目的は、実装基板に実装
時のBGA型半導体装置のはんだボールのクラック、破
断による接合不良を防止でき、実装基板に実装時の信頼
性が良いBGA型半導体装置を提供することにある。
時のBGA型半導体装置のはんだボールのクラック、破
断による接合不良を防止でき、実装基板に実装時の信頼
性が良いBGA型半導体装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置は、
一主面に導体配線が形成され他主面に前記導体配線に接
続された接続端子が形成された配線基板と、前記配線基
板の一主面に搭載され前記導体配線に電気的に接続され
た半導体チップと、前記半導体チップを封止する封止樹
脂とを有する半導体装置において、一対の端子が距離を
設けて一主面と他主面から反対方向に設けられた導体基
板が設けられ、前記導体基板に設けられた一方の端子が
前記配線基板に形成された接続端子に接続され前記導体
基板に設けられた他方の端子が外部端子であることを特
徴とする。
一主面に導体配線が形成され他主面に前記導体配線に接
続された接続端子が形成された配線基板と、前記配線基
板の一主面に搭載され前記導体配線に電気的に接続され
た半導体チップと、前記半導体チップを封止する封止樹
脂とを有する半導体装置において、一対の端子が距離を
設けて一主面と他主面から反対方向に設けられた導体基
板が設けられ、前記導体基板に設けられた一方の端子が
前記配線基板に形成された接続端子に接続され前記導体
基板に設けられた他方の端子が外部端子であることを特
徴とする。
【0007】また、絶縁テープに複数の前記導体基板が
設けられ、前記導体基板の前記絶縁テープ面と反対の面
に絶縁カバーが設けられ、前記導体基板に設けられた一
対の端子が前記絶縁テープもしくは前記絶縁カバーから
突出して設けられている。そして前記絶縁テープに設け
られた前記複数の導体基板は、前記配線基板に形成され
た複数の前記接続端子の位置に対応して設けられてい
る。
設けられ、前記導体基板の前記絶縁テープ面と反対の面
に絶縁カバーが設けられ、前記導体基板に設けられた一
対の端子が前記絶縁テープもしくは前記絶縁カバーから
突出して設けられている。そして前記絶縁テープに設け
られた前記複数の導体基板は、前記配線基板に形成され
た複数の前記接続端子の位置に対応して設けられてい
る。
【0008】また、前記導体基板に設けられた前記端子
の周囲に前記絶縁テープおよび前記導体基板を貫通する
切欠部が設けられている。
の周囲に前記絶縁テープおよび前記導体基板を貫通する
切欠部が設けられている。
【0009】また、前記導体基板の両主面に絶縁カバー
が設けられ、前記導体基板に設けられた一対の端子が前
記絶縁カバーから突出して設けられている。そして複数
の前記導体基板が、前記配線基板に形成された複数の前
記接続端子の位置に対応して設けられ接続されている。
が設けられ、前記導体基板に設けられた一対の端子が前
記絶縁カバーから突出して設けられている。そして複数
の前記導体基板が、前記配線基板に形成された複数の前
記接続端子の位置に対応して設けられ接続されている。
【0010】また、前記導体基板に設けられた一対の端
子は、はんだボールであり、リフローにより前記導体基
板が前記配線基板に接続される。
子は、はんだボールであり、リフローにより前記導体基
板が前記配線基板に接続される。
【0011】この様な本発明によれば、導体基板に設け
られた、配線基板に形成された接続端子に接続された一
方の端子と外部端子である他方の端子とが距離を設けて
設けられている。また、導体基板に設けられた前記端子
の周囲に切欠部が設けられている。
られた、配線基板に形成された接続端子に接続された一
方の端子と外部端子である他方の端子とが距離を設けて
設けられている。また、導体基板に設けられた前記端子
の周囲に切欠部が設けられている。
【0012】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。図1は本発明の第1
の実施形態を示す部分断面図、図2は図1の部分下面
図、図3は図1の部分断面図である。
て図面を参照して詳細に説明する。図1は本発明の第1
の実施形態を示す部分断面図、図2は図1の部分下面
図、図3は図1の部分断面図である。
【0013】図1に示すように、本実施形態のBGA型
半導体装置は、半導体装置本体10と半導体装置本体1
0に電気的に接続された中継基板1とから構成されてい
る。半導体装置本体10は、半導体チップ11が有機樹
脂もしくはセラミックを主基材とした配線基板12に搭
載され、半導体チップ11のボンディングパッド(図示
せず)と配線基板12の半導体チップ11が搭載された
面に形成された導体配線(図示せず)とがボンディング
ワイヤ13で接続され、半導体チップ11とボンディン
グワイヤ13とを配線基板12上で覆うように封止樹脂
14で封止されている。そして配線基板12の半導体チ
ップ11が搭載された面と反対の面に形成された前記導
体配線に接続されている接続端子であるランド15に、
中継基板1が接続され設けられている。
半導体装置は、半導体装置本体10と半導体装置本体1
0に電気的に接続された中継基板1とから構成されてい
る。半導体装置本体10は、半導体チップ11が有機樹
脂もしくはセラミックを主基材とした配線基板12に搭
載され、半導体チップ11のボンディングパッド(図示
せず)と配線基板12の半導体チップ11が搭載された
面に形成された導体配線(図示せず)とがボンディング
ワイヤ13で接続され、半導体チップ11とボンディン
グワイヤ13とを配線基板12上で覆うように封止樹脂
14で封止されている。そして配線基板12の半導体チ
ップ11が搭載された面と反対の面に形成された前記導
体配線に接続されている接続端子であるランド15に、
中継基板1が接続され設けられている。
【0014】中継基板1は、図1、図2及び図3に示す
ように、大きさは半導体装置本体10とほぼ同じ大きさ
であり、絶縁テープ2を主基材とし、絶縁テープ2の一
面にパターン化された複数の導体基板3が接着されて設
けられ、導体基板3の絶縁テープ2との接着面と反対の
面には絶縁カバー4が設けられている。導体基板3には
一対の中継端子5と外部端子6とが距離を設けて(図3
に示す距離A)上下反対方向に設けられている。中継端
子5は、中継基板1を半導体装置本体10の配線基板1
2に形成されたランド15にて接続するためのものであ
り、中継端子5が設けられている導体基板3の箇所は絶
縁カバー4が除去され中継端子5が突出している。また
外部端子6は、中継基板1をつまりBGA型半導体装置
そのものを実装基板であるプリント基板に実装するため
のものであり、外部端子6が設けられている導体基板3
の箇所は絶縁テープ2が除去され外部端子6が突出して
いる。そして、中継基板1に設けられた複数の導体基板
3は、半導体装置本体10の配線基板12に形成された
各ランド15の位置に対応して設けられている。
ように、大きさは半導体装置本体10とほぼ同じ大きさ
であり、絶縁テープ2を主基材とし、絶縁テープ2の一
面にパターン化された複数の導体基板3が接着されて設
けられ、導体基板3の絶縁テープ2との接着面と反対の
面には絶縁カバー4が設けられている。導体基板3には
一対の中継端子5と外部端子6とが距離を設けて(図3
に示す距離A)上下反対方向に設けられている。中継端
子5は、中継基板1を半導体装置本体10の配線基板1
2に形成されたランド15にて接続するためのものであ
り、中継端子5が設けられている導体基板3の箇所は絶
縁カバー4が除去され中継端子5が突出している。また
外部端子6は、中継基板1をつまりBGA型半導体装置
そのものを実装基板であるプリント基板に実装するため
のものであり、外部端子6が設けられている導体基板3
の箇所は絶縁テープ2が除去され外部端子6が突出して
いる。そして、中継基板1に設けられた複数の導体基板
3は、半導体装置本体10の配線基板12に形成された
各ランド15の位置に対応して設けられている。
【0015】ここで、絶縁テープ2としては、厚さが3
0μmから50μmの、ポリイミド樹脂テープもしくは
有機樹脂テープが好ましい。そして、導体基板3として
は、厚さが10μmから30μmの金属板を用い、銅板
が好ましい。そしてまた、絶縁カバー4としては、厚さ
が1μmから5μmの絶縁物を設け、絶縁性の樹脂レジ
ストが好ましく、例えば塗布法により設ける。
0μmから50μmの、ポリイミド樹脂テープもしくは
有機樹脂テープが好ましい。そして、導体基板3として
は、厚さが10μmから30μmの金属板を用い、銅板
が好ましい。そしてまた、絶縁カバー4としては、厚さ
が1μmから5μmの絶縁物を設け、絶縁性の樹脂レジ
ストが好ましく、例えば塗布法により設ける。
【0016】中継端子5および外部端子6としては、直
径が30μmから800μm程度の、はんだボールが好
ましく、導体基板3に半球状に搭載して設けられたもの
である。
径が30μmから800μm程度の、はんだボールが好
ましく、導体基板3に半球状に搭載して設けられたもの
である。
【0017】また、中継基板1の中継端子5および外部
端子6が設けられている箇所の周囲には、絶縁テープ2
および導体基板3を貫通する切欠部(スリット)7が設
けられている。
端子6が設けられている箇所の周囲には、絶縁テープ2
および導体基板3を貫通する切欠部(スリット)7が設
けられている。
【0018】そして、中継基板1を半導体装置本体10
に、中継基板1に設けられた各中継端子5の位置を半導
体装置本体10の配線基板12に形成された各ランド1
5の位置に合せて、例えばリフロー法により接続された
ものである。
に、中継基板1に設けられた各中継端子5の位置を半導
体装置本体10の配線基板12に形成された各ランド1
5の位置に合せて、例えばリフロー法により接続された
ものである。
【0019】そして、上述した半導体装置本体10と半
導体装置本体10に電気的に接続された中継基板1とか
ら構成された本実施形態のBGA型半導体装置は、図4
のプリント基板に実装された本実施形態のBGA型半導
体装置を示す部分断面図で説明されるように、中継基板
1に設けられている外部端子6であるはんだボールが、
実装基板であるプリント基板21の実装面に形成された
ランド(接続端子)22にリフロー等の方法で加熱接合
され、実装される。
導体装置本体10に電気的に接続された中継基板1とか
ら構成された本実施形態のBGA型半導体装置は、図4
のプリント基板に実装された本実施形態のBGA型半導
体装置を示す部分断面図で説明されるように、中継基板
1に設けられている外部端子6であるはんだボールが、
実装基板であるプリント基板21の実装面に形成された
ランド(接続端子)22にリフロー等の方法で加熱接合
され、実装される。
【0020】図5は本発明の第2の実施形態を示す中継
基板1aの平面図および側面図である。本実施形態のB
GA型半導体装置は、半導体装置本体10と半導体装置
本体10に電気的に接続された複数の中継基板1aとか
ら構成されている。図5に示すように、本実施形態のB
GA型半導体装置は、中継基板1aが、パターン化され
た導体基板3aを主基材とし、導体基板3aに一対の中
継端子5と外部端子6とが距離を設けて上下反対方向に
設けられている。そして導体基板3aの中継端子5およ
び外部端子6が設けられている面にそれぞれ絶縁カバー
4aが設けられ、中継端子5および外部端子6が設けら
れている導体基板3aの箇所は絶縁カバー4aが除去さ
れて中継端子5および外部端子6が突出している。
基板1aの平面図および側面図である。本実施形態のB
GA型半導体装置は、半導体装置本体10と半導体装置
本体10に電気的に接続された複数の中継基板1aとか
ら構成されている。図5に示すように、本実施形態のB
GA型半導体装置は、中継基板1aが、パターン化され
た導体基板3aを主基材とし、導体基板3aに一対の中
継端子5と外部端子6とが距離を設けて上下反対方向に
設けられている。そして導体基板3aの中継端子5およ
び外部端子6が設けられている面にそれぞれ絶縁カバー
4aが設けられ、中継端子5および外部端子6が設けら
れている導体基板3aの箇所は絶縁カバー4aが除去さ
れて中継端子5および外部端子6が突出している。
【0021】ここで、本発明の第1の実施形態との相違
点として、導体基板3aとしては、厚さが20μmから
50μm程度の金属板を用い、銅板が好ましい。
点として、導体基板3aとしては、厚さが20μmから
50μm程度の金属板を用い、銅板が好ましい。
【0022】そして、複数の中継基板1aを半導体装置
本体10に、各中継基板1aに設けられた中継端子5の
位置を半導体装置本体10の配線基板12に形成された
各ランド15の位置にそれぞれ合せて、例えばリフロー
法により接続されたものである。
本体10に、各中継基板1aに設けられた中継端子5の
位置を半導体装置本体10の配線基板12に形成された
各ランド15の位置にそれぞれ合せて、例えばリフロー
法により接続されたものである。
【0023】また、本実施形態では、半導体装置本体1
0の配線基板12として有機樹脂もしくはセラミックを
主基材としたものを用いたが、本発明はこれに限定され
ず、配線基板12としてテープ(TABテープ)を用い
たものでも良い。
0の配線基板12として有機樹脂もしくはセラミックを
主基材としたものを用いたが、本発明はこれに限定され
ず、配線基板12としてテープ(TABテープ)を用い
たものでも良い。
【0024】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、実
装基板であるプリント基板に実装されたBGA型半導体
装置は、中継基板に設けられた、半導体装置本体に形成
されたランドに接続された中継端子(はんだボール)と
プリント基板に形成されたランドに接合された外部端子
(はんだボール)とが距離を設けて設けられているの
で、図4に示すように、BGA型半導体装置のプリント
基板に実装時に、接合部であるはんだボールに集中する
プリント基板に発生する応力Fpおよび半導体装置本体
に発生する応力Fbが中継端子(はんだボール)と外部
端子(はんだボール)とに分散され、中継端子(はんだ
ボール)および外部端子(はんだボール)に掛かる応力
が小さくなる。
装基板であるプリント基板に実装されたBGA型半導体
装置は、中継基板に設けられた、半導体装置本体に形成
されたランドに接続された中継端子(はんだボール)と
プリント基板に形成されたランドに接合された外部端子
(はんだボール)とが距離を設けて設けられているの
で、図4に示すように、BGA型半導体装置のプリント
基板に実装時に、接合部であるはんだボールに集中する
プリント基板に発生する応力Fpおよび半導体装置本体
に発生する応力Fbが中継端子(はんだボール)と外部
端子(はんだボール)とに分散され、中継端子(はんだ
ボール)および外部端子(はんだボール)に掛かる応力
が小さくなる。
【0025】また、中継基板の中継端子(はんだボー
ル)および外部端子(はんだボール)が設けられている
箇所の周囲には、切欠部(スリット)が設けられている
ので、BGA型半導体装置のプリント基板に実装時に、
中継基板に設けられた切欠部(スリット)が熱膨張した
り熱収縮して発生する応力を吸収し、中継端子(はんだ
ボール)および外部端子(はんだボール)に掛かる応力
が小さくなる。そして、複数の中継基板が半導体装置本
体に形成された各ランドの位置にそれぞれ合せて接続さ
れ設けられたBGA型半導体装置では、各中継基板はそ
れぞれ単独で接続されているので、各中継基板の周囲は
切欠部(スリット)が有るのと同じ状態であり同様の効
果がある。
ル)および外部端子(はんだボール)が設けられている
箇所の周囲には、切欠部(スリット)が設けられている
ので、BGA型半導体装置のプリント基板に実装時に、
中継基板に設けられた切欠部(スリット)が熱膨張した
り熱収縮して発生する応力を吸収し、中継端子(はんだ
ボール)および外部端子(はんだボール)に掛かる応力
が小さくなる。そして、複数の中継基板が半導体装置本
体に形成された各ランドの位置にそれぞれ合せて接続さ
れ設けられたBGA型半導体装置では、各中継基板はそ
れぞれ単独で接続されているので、各中継基板の周囲は
切欠部(スリット)が有るのと同じ状態であり同様の効
果がある。
【0026】このように、本発明によれば、中継基板に
設けられた中継端子(はんだボール)および外部端子
(はんだボール)に掛かる応力を小さくできるので、実
装基板に実装時のBGA型半導体装置のはんだボールの
クラック、破断による接合不良を防止できるという効果
が得られる。
設けられた中継端子(はんだボール)および外部端子
(はんだボール)に掛かる応力を小さくできるので、実
装基板に実装時のBGA型半導体装置のはんだボールの
クラック、破断による接合不良を防止できるという効果
が得られる。
【図1】本発明の半導体装置の第1の実施形態を示す部
分断面図である。
分断面図である。
【図2】図1の部分下面図である。
【図3】図1の部分断面図である。
【図4】プリント基板に実装された第1の実施形態の半
導体装置を示す部分断面図である。
導体装置を示す部分断面図である。
【図5】本発明の半導体装置の第2の実施形態を示す平
面図および側面図である。
面図および側面図である。
【図6】従来技術を説明する断面図である。
1,1a 中継基板 2 絶縁テープ 3,3a 導体基板 4,4a 絶縁カバー 5 中継端子 6 外部端子 7 切欠部(スリット) 10 半導体装置本体 11 半導体チップ 12 配線基板 13 ボンディングワイヤ 14 封止樹脂 15 ランド 16 はんだボール 21 プリント基板 22 ランド(接続端子) Fp プリント基板に発生する応力 Fb 半導体装置本体に発生する応力
Claims (7)
- 【請求項1】 一主面に導体配線が形成され他主面に前
記導体配線に接続された接続端子が形成された配線基板
と、前記配線基板の一主面に搭載され前記導体配線に電
気的に接続された半導体チップと、前記半導体チップを
封止する封止樹脂とを有する半導体装置において、一対
の端子が距離を設けて一主面と他主面から反対方向に設
けられた導体基板が設けられ、前記導体基板に設けられ
た一方の端子が前記配線基板に形成された接続端子に接
続され前記導体基板に設けられた他方の端子が外部端子
であることを特徴とする半導体装置。 - 【請求項2】 絶縁テープに複数の前記導体基板が設け
られ、前記導体基板の前記絶縁テープ面と反対の面に絶
縁カバーが設けられ、前記導体基板に設けられた一対の
端子が前記絶縁テープもしくは前記絶縁カバーから突出
して設けられている請求項1記載の半導体装置。 - 【請求項3】 前記絶縁テープに設けられた前記複数の
導体基板は、前記配線基板に形成された複数の前記接続
端子の位置に対応して設けられている請求項2記載の半
導体装置。 - 【請求項4】 前記導体基板に設けられた前記端子の周
囲に前記絶縁テープおよび前記導体基板を貫通する切欠
部が設けられている請求項2記載の半導体装置。 - 【請求項5】 前記導体基板の両主面に絶縁カバーが設
けられ、前記導体基板に設けられた一対の端子が前記絶
縁カバーから突出して設けられている請求項1記載の半
導体装置。 - 【請求項6】 複数の前記導体基板が、前記配線基板に
形成された複数の前記接続端子の位置に対応して設けら
れ接続されている請求項5記載の半導体装置。 - 【請求項7】 前記導体基板に設けられた一対の端子
は、はんだボールであり、リフローにより前記導体基板
が前記配線基板に接続された請求項1記載の半導体装
置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29689899A JP3394479B2 (ja) | 1999-10-19 | 1999-10-19 | 半導体装置 |
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Publication Number | Publication Date |
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---|---|---|---|
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US20160260675A1 (en) * | 2015-03-04 | 2016-09-08 | Globalfoundries Inc. | Slotted substrate for die attach interconnects |
JP2018019024A (ja) * | 2016-07-29 | 2018-02-01 | キヤノン株式会社 | 振動を発生させる振動部品が実装されるプリント基板 |
KR101993718B1 (ko) | 2017-07-20 | 2019-06-27 | 서울대학교산학협력단 | 난연시트 및 그 제조 방법과 그 난연시트가 적용된 clt |
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- 1999-10-19 JP JP29689899A patent/JP3394479B2/ja not_active Expired - Fee Related
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2000
- 2000-10-12 US US09/686,808 patent/US6472759B1/en not_active Expired - Fee Related
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