JP2001110256A - 超電導複合体及び超電導複合体の製造方法 - Google Patents
超電導複合体及び超電導複合体の製造方法Info
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Abstract
に用いた酸化物超電導線材を提供する。 【解決手段】 金属製の基体と、前記基体上の少なくと
も一部に形成された超電導特性を有しない酸化物と、前
記超電導特性を有しない酸化物上に形成された酸化物超
電導体と、を具備する超電導複合体を構成する。
Description
び超電導複合体の製造方法に関し、特に基体にAgを用
いない超電導複合体および超電導複合体の製造方法に関
する。
(高温超電導)材料は実用に向けた開発が進められてい
る。特に、酸化物超電導材料として(Bi,Pb)2S
r2Ca 2Cu3OxやBi2Sr2CaCu2Oxを
用いた超電導線材は、臨界電流密度が数万から10万A
/cm2で長さも数百mから1kmと実用レベルに近い
ものが作製されている。
布法によって行われている。粉末法では(Bi,Pb)
2Sr2Ca2Cu3Oxの粉末をAgパイプのシース
に詰め、これを線引き、圧延などの機械加工により伸線
し、その後空気中で800℃から900℃の温度で熱処
理することで、超電導線材を作製する。また、塗布法で
はBi2Sr2CaCu2Oxを含む液体原料をAg基
板上に塗布し、これを空気中で800℃から900℃の
温度で熱処理することで、超電導線材を作製する。
Ti、Nb3Sn等の金属系超電導線材と比べて、かな
り高価格である。酸化物超電導線材のシース、基板等の
基体材料に高価なAgを多量に使うため、酸化物超電導
線材自体も高価格になる。
て、限流器など電力機器の開発が進められている。ここ
で、限流器では超電導状態から常伝導状態に転移した際
(クエンチ時)に抵抗が大きいことが要求される。ま
た、電力機器は一般に交流を使用する場合があり、交流
損失、即ち交流を流したときの発熱量が小さいことが要
求される場合が多い。
流損失が大きいため、この点からも超電導線材の基体と
して使用するには適していない。
いる試みも行われているが、未だに成功してはいない。
これは酸化物超電導体の基体材料の特性に制限があるこ
とに起因する。酸化物超電導体の形成には酸素を含む雰
囲気中での熱処理が必要である。この熱処理の際に、酸
化物超電導体から酸素を奪う様な基体材料を使うことが
できない。1987−89年頃の酸化物超電導体の発見
初期に、銅を基体材料に使用することが検討された。し
かし、銅は酸化物超電導体の酸素を奪い絶縁体にしてし
まうため、銅上には酸化物超電導体が形成できなかっ
た。加えて、銅自身も酸化のために線材形状を保てず、
銅を基体に用いた酸化物超電導線材の作製は成功しなか
った。
超電導線材の価格低減のため、基体としてAg以外の廉
価な材料を使うことが求められている。また、限流器な
どの電力機器では、クエンチ時の高抵抗や交流損失の低
減のために、基体として抵抗の高い材料を使うことが求
められている。
Ag以外の廉価かつ高抵抗な金属材料を基体に用いた酸
化物超電導線材を提供することを目的とする。
めに、本発明は以下の手段を提供する。
体と、前記基体上の少なくとも一部に形成された超電導
特性を有しない酸化物と、前記超電導特性を有しない酸
化物上に形成された酸化物超電導体とを具備することを
特徴とする。
て、前記板状の基体面上に前記超電導特性を有しない酸
化物の層が形成されていても良い。
前記超電導特性を有しない酸化物の層が前記棒状の基体
の外面に形成されていても良い。
て、前記超電導特性を有しない酸化物の層が前記管状の
基体の内面に形成され、前記酸化物超電導体が前記管状
の基体内部に形成されていても良い。このとき、管状体
の側部に開口部を有しても良い。
酸化物超電導体の間に酸化物層が介在している。従っ
て、製造工程中の熱処理によって超電導体が金属基体に
酸素を奪われることなく酸化物超電導層が形成される。
このため、金属基体にAg以外の材料を使用できる。し
かも、基体が金属であるために曲げや歪みに強い。
酸化物超電導層を形成する熱処理工程において、酸化物
超電導層に酸素が供給されやすくなるので、酸化物超電
導層の超電導特性を向上することが容易になる。
おいて、前記金属製の基体は第1の金属が第2の金属に
被覆されてなることを特徴とする。
ことで基体に使用する金属の自由度を上げることができ
る。例えば、被覆する第2の金属を緻密な熱酸化膜を生
成しやすいNi、CrまたはAlを用い、被覆される第
1の金属をNi、CrまたはAlより安価な金属とする
ことで基体の価格を低減できる。
超電導複合体において、前記超電導特性を有しない酸化
物が前記金属製の基体表面を構成する金属の酸化物であ
ることを特徴とする。
る材料がNi、Cr、Al、Mo、Fe、Ti、V、N
b、Ta、Zr、Hf、Wのうち何れか1つの金属、ま
たは該金属を主成分とする合金が好ましい。
は、前記金属製の基体表面を構成する金属の熱酸化膜と
することができる。
により、例えば金属基体が管状である場合であっても、
その内面上に効率よく酸化物を形成できる。
電導複合体において、前記酸化物超電導体が電流の流れ
る方向に細分化された細分化構造であることを特徴とす
る。
で、交流損失が小さくなり、交流を用いる電力機器等に
適する。
電導複合体において、前記酸化物超電導体がBi系酸化
物超電導体であることを特徴とする。
i2Sr2CaCu2Oxまたは(Bi,Pb)2Sr
2Ca2Cu3Oxの何れか一つであることが好まし
い。
とで、優れた超電導特性を有した超電導複合体が得られ
る。
電導複合体において、前記酸化物超電導体が酸化物超電
導材料の粉末またはスラリーを焼成してなることを特徴
とする。
はスラリーを焼成することで酸化物超電導体が容易に作
成される。このとき、金属製の基体は単結晶、多結晶あ
るいはアモルファスのいずれでも差し支えない。
電導複合体において、前記基体または前記酸化物超電導
体上に、銅または銅合金の何れか1つからなる安定化層
が形成されたことを特徴とする。
とで、超電導状態が熱的電気的に安定化する。
と、前記金属板上に形成された超電導特性を有しない酸
化物層と、前記超電導特性を有しない酸化物上に蛇行し
て形成された超電導線とを具備することを特徴とする。
的に直列接続して超電導複合体を構成できる。
面積内に長い電流経路を確保することが可能となり、限
流器への利用に適する。また、MRIのシムコイル等へ
も利用できる。
と、前記金属板上に形成された超電導特性を有しない酸
化物層と、前記超電導特性を有しない酸化物層上に螺旋
状に形成された超電導線とを具備することを特徴とす
る。
かつ電気的に直列接続して超電導複合体を構成できる。
として利用でき、しかも通常のコイル作製で行われる長
尺の線の巻線工程が不要であり、コイル作製の低コスト
化が可能になる。
て、Ni、Cr、Mo、Fe、Ti、V、Nb、Ta、
Zr、Hf、Wのうち何れか1つの金属または該金属を
主成分とする合金からなる基体を、酸素ガスを含む雰囲
気中で500℃以上1200℃以下温度に加熱すること
により、該基体の表面に該基体表面を構成する金属の熱
酸化膜を形成する工程と、前記熱酸化膜上に酸化物超電
導体材料の粉末と有機溶剤を混合したスラリーを塗布す
る工程と、酸素ガスを含む雰囲気中で前記基体を加熱
し、前記スラリーから酸化物超電導体を形成する工程と
を含むことを特徴とする。
化膜を形成することで、超電導体の形成工程における加
熱処理において超電導材料が金属基体から酸素を奪われ
ることなく、超電導体が形成される。このため、Ag以
外の材料を金属基体として用いることができる。
実施形態は、板状の金属基体上に酸化物層が形成され、
その酸化物層上に酸化物超電導層が形成されたことを特
徴とする。以下、図を参照して詳細に説明する。
導複合体を表す斜視図である。同図に示されるように、
板状の金属基体102上に酸化物層104が形成され、
酸化物層104上に酸化物超電導層106が形成されて
いる。
が支持あるいは保持された構造体を意味し、形状を問わ
ない広い概念である。例えば超電導線材、超電導回路、
超電導コイル、超電導限流器もこれに含まれる。板状
は、形状が平面、曲面何れであっても良いし、また板
厚、長さ等の寸法を問わない。例えば、平板状、フィル
ム状、テープ状等が板状に含まれる。
わず、例えばNi、Cr、Mo、Fe、Ti、V、N
b、Ta、Zr、Hf、W等を用いることができる。ま
た、金属は単結晶、多結晶体あるいはアモルファスの何
れでも差し支えない。
e、Ti、V、Nb、Ta、Zr、Hf、Wいずれかの
酸化膜が好ましく、このうちNi、Cr、Alの酸化膜
が特に好ましい。これはNi、Cr、Alの酸化膜が緻
密であるため、酸化物超電導層106から金属基体10
2への酸素の移動を防ぐバリア層として特に好ましいこ
とによる。
Pb)2Sr2Ca2Cu3OxやBi2Sr2CaC
u2OxのBi系酸化物超電導材料を用いることができ
る。
製造工程によって容易に製造でき、また基体が金属なの
で曲げや歪みに強いという特質を有している。
の工程(1)から(3)により行われる。
4を形成する。
パッタリング法等の気相成長法等により金属基体102
上に酸化物を堆積することにより行える。
を酸化して酸化物層104を形成しても良い。このとき
は金属基体102としてNi、Cr、Mo、Fe、T
i、V、Nb、Ta、Zr、Hf、Wまたはそれらを主
体とした組成の合金を用いることが好ましい。とりわ
け、Ni、Crおよびそれらを主体とした組成の合金を
用いることが特に好ましい。これはNi、Crの酸化物
が、緻密であるため後の工程(3)の熱処理中における
酸化物超電導層106から金属基体102への酸素の移
動を防ぐバリア層として好ましいことによる。このと
き、金属基体102の材料が単結晶、多結晶体、アモル
ファスのいずれであっても、金属基体102表面を酸化
してできた酸化物層はバリア層として有効である。
し、その後に金属基体102を酸素を含む雰囲気中で熱
処理等して金属膜を酸化することによって、酸化物層1
04を形成しても良い。ここで、金属膜の厚さを薄くす
ることで、金属膜全体を酸化物層104に変換すること
ができる。この方法は、後の熱処理工程(3)の熱処理
温度よりも融点が低い金属材料の酸化物層104を形成
する手法として有用であり、例えばAlを酸化したAl
2O3の酸化物層104を形成する際に適用できる。こ
のとき、金属膜の厚さと金属膜の酸化条件を調整するこ
とで、 :金属膜の全部が酸化され、下地たる金属基体102
が酸化されない構成、 :金属膜の全部、及び下地たる金属基体102表面が
酸化された構成、を選択できる。の構成では酸化物層
102が層をなした2層構造をなすことになる。構成
、の何れであっても、また金属膜の材料が単結晶、
多結晶体、アモルファスのいずれであっても、酸化物層
104はバリア層として有効である。
構成があり得るのは言うまでもないが、これについては
第2の実施形態において述べることにする。
体材料の粉末と有機溶剤からなるスラリーを塗布し、有
機溶剤を蒸発させてスラリーを乾燥させる。この結果、
超電導前駆体である乾燥したスラリーの層が酸化物層1
04上に形成されることになる。
ば(Bi,Pb)2Sr2Ca2Cu3OxやBi2S
r2CaCu2Ox等のBi系酸化物超電導材料を用い
ることが出来る。スラリーの酸化物層104上への塗布
は、例えば印刷、スピンコート等種々の方法を適用でき
る。
て、超電導前駆体(乾燥したスラリー)を熱処理する。
という。酸素ガスを含む雰囲気は通常の大気で差し支え
ない。熱処理温度は500℃から1200℃の範囲で行
い、特に800℃から900℃の範囲が好ましい。
化物超電導層106になり、超電導複合体が形成される
ことになる。酸化物超電導層106と金属基体102の
間に酸化物層104があるため、酸化物超電導層106
から金属基体102への酸素原子の移動が制限され、超
電導前駆体は酸素を金属基体102に奪われることなく
超電導体になる。
体は板状の金属基体102上に酸化物層104が形成さ
れ、酸化物層104上に酸化物超電導層106が形成さ
れている。従い、製造工程において超電導前駆体が金属
基体102に酸素を奪われることなく酸化物超電導層1
06が形成される。
使う必要がない。従い、廉価で良好な超電導特性をもつ
超電導複合体の作製が可能になる。
抵抗を持つ材料を基体に利用できるため、交流損失が低
くなり、また超電導状態から常電導状態に移行したとき
に高抵抗である。このため、限流器や各種電力機器に有
効に使える超電導複合体を提供することができる。
いるために曲げや歪みに強い。
施例1では以下の工程(1)〜(3)によってNi金属
テープ状の金属基体102上にNiOの酸化物層10
4、酸化物層104上にBi2Sr2CaCu2Oxの
超電導層酸化物超電導層106を形成した。
i多結晶体からなる金属のテープを長さ10cmに切り
出し、これを空気中で880℃で10時間熱処理(基板
酸化処理)を行った。
0μmのNiO膜が形成された。
電導体Bi2Sr2CaCu2Oxを有機溶剤に溶かし
たスラリーを厚さ50μm塗布した(超電導前駆体形成
処理)。
5分保持し、その後830℃まで3℃/時間のゆっくり
した速度で徐冷し、最後は室温まで炉冷した(超電導体
合成熱処理)。
体の上にNiO酸化物層が形成され、その上にBi2S
r2CaCu2Oxの超電導相が厚さ約35ミクロン形
成されていた。また、Bi2Sr2CaCu2Ox相を
X線で分析した結果、結晶の配向性も良好であった。
取り、臨界電流密度(Jc)を測定した。その結果、温
度4.2K(液体ヘリウム温度)、磁束密度10テスラ
において105Aの臨界電流が得られた。これは臨界電
流密度に換算すると約30000A/cm2であり、十
分実用に耐えうる特性である。
施例2ではテープ状の金属基体102に種々の金属を用
い、前記実施例1に示したのと同様の工程(1)から
(3)によって超電導複合体を作製し、臨界電流密度を
測定した。
Ni合金、Cr、Cr合金、Mo、Mo合金等の多結晶
体を用い、実施例1に示した製造工程(1)〜(3)に
よって、酸化物層104、酸化物超電導層106の形成
を行った。
1には金属基体102として前述の実施例1(金属基体
102にNiを用いた場合)を併せて示している。表1
には金属基体と酸化物層の材質の組み合わせとその組み
合わせた試料で測定された臨界電流が示されている。表
1から、Ni、Cr、Mo、Fe、Ti、V、Nb、T
a、Zr、Hf、Wまたはそれらを主体とした合金を基
体として、これを熱酸化して酸化物層を形成したものは
いずれも大きな臨界電流密度が得られることが判る。
施例3では実施例1、2と同様に、Ni、Cr、Mo、
Fe、Ti、V、Nb、Ta、Zr、Hf、Wまたはそ
れらを主体とした合金をテープ状の基体に用いて、基板
酸化処理、超電導前駆体作製工程、超電導体合成熱処理
行い超電導複合体を作製した。
℃から1200℃の範囲で変化させて超電導複合体の作
製を行った。基板酸化処理の時間は実施例1と同様に1
0時間とした。超電導前駆体作製工程、超電導体合成熱
処理は実施例1と同様とした。
た結果は、いずれの超電導複合体も50Aから150A
の範囲であり、良好な臨界電流特性を示した。
施例4では実施例1と同様に、Ni金属テープ状の金属
基体102を用いて、基板酸化処理、超電導前駆体作製
工程、超電導体合成熱処理行い超電導複合体を作製し
た。
℃として、処理時間を変化させて超電導複合体の作製を
行った。基板酸化処理の処理時間を10分から100時
間の範囲で変化させることで、Ni金属テープ状の金属
基体102上に0.1〜300μmの膜厚範囲のNiO
酸化物層104を形成できることが確認された。超電導
前駆体作製工程、超電導体合成熱処理は実施例1と同様
とした。
4.2K、磁束密度10Tで測定した。その結果、膜厚
が1〜100μmの範囲の酸化物層104を用いた場合
に臨界電流50Aと良好な臨界電流特性を示した。な
お、この膜厚範囲を外れた場合には臨界電流が1桁程度
低下した。
施例5は金属基体102としてNi合金またはCrの多
結晶体からなるテープを用い、酸化物層104は金属基
体102の酸化物と異なる材質のものを用いて、超電導
複合体を作製した。
あるいは真空蒸着法を用い、膜厚を2μmとした。その
後の酸化物超電導層106の形成は実施例1に示した工
程(2)(3)によって行った。
酸化物層104の材質の組み合わせと測定された臨界電
流の関係を表2に示す。表2に示した金属基体102,
酸化物層104いずれの組み合わせにおいても、良好な
臨界電流が得られることが判る。
施例6では、金属基体102に耐熱性の合金である、ハ
ステロイ、インコネル、モネルメタルのテープを使用
し、実施例1と同様の工程(1)から(3)の基板酸化
処理、超電導前駆体形成処理、超電導体合成熱処理工程
を行い、超電導複合体を作製した。
ハステロイで50A、インコネルで45A, モネルメタ
ルで38Aの臨界電流が得られた。
メタルの金属基体102上にMgO、SrTiO3など
の異種の酸化物層104を蒸着により形成し、その上に
実施例1に示した工程(2)、(3)によって酸化物超
電導層106を形成することで超電導複合体を作製し
た。このとき、いずれも50A以上の高い臨界電流が、
温度4.2K、磁束密度10Tにおいて得られた。
施例7では、金属基体102に耐熱性の合金である、ハ
ステロイ、インコネル、モネルメタルのテープを使用
し、Ni、Cr、Al等の金属を蒸着して金属膜を形成
し、その後空気中で熱処理することでそれぞれNiO、
Cr2O3、Al2O3等の酸化物層104を形成し
た。その上に実施例1に示した工程(2)、(3)によ
って酸化物超電導層106を形成することで超電導複合
体を作製した。
は、例えばAlにおいては200〜600℃として、A
lの融点660℃を下回る値を設定した。このようにし
て、金属膜全体を酸化物層104に変換することができ
た。
4.2K、磁束密度10Tで測定した。その結果、Ni
O、Cr2O3、Al2O3何れの酸化物層104を用
いた場合でも、50A以上の高い臨界電流が得られた。
は、棒状の金属基体の外面に酸化物層が形成され、その
酸化物層上に酸化物超電導層が形成されたことを特徴と
する。以下、図を参照して詳細に説明する。
例を表す斜視図である。同図に示されるように、4角柱
状の金属基体202が酸化物層204に覆われ、酸化物
層204はさらに酸化物超電導層206に覆われてい
る。
4角柱状であるが、棒状にはこの他に丸棒状、6角柱状
等種々の形状が含まれる。また直径、長さ等の寸法を問
わない。例えば、細線、丸線等が棒状に含まれる。超電
導複合体は第1の実施形態と同様広い概念であり、金属
基体は金属であれば必ずしも種類を問わない。また、酸
化物層204が酸化物超電導層206から金属基体20
2への酸素の移動を防ぐバリア層として機能を有するこ
とも第1の実施形態と同様である。
施形態に示したと同様の工程(19から(3)によって
容易に製造でき、また基体が金属なので曲げや歪みに強
いという特質を有している。
の1例を表す斜視図である。同図に示されるように、4
角柱状の金属棒302および金属被覆304からなる金
属基体306が酸化物層308に覆われ、酸化物層30
8はさらに酸化物超電導層310に覆われている。金属
棒302は例えばステンレスを、金属被覆304は例え
ばNi、Cr、Alを、用いることができる。金属棒3
02に比較的安価な材料を用い、金属被覆304に比較
的高価な材料を用いることで金属基体306の原価を低
減できる。金属棒302への金属被覆304の形成は、
例えば電気メッキ等によって容易に行うことができる。
304を熱処理して金属被覆304上に酸化物層308
を形成できることは言うまでもない。そして、これは第
1の実施形態で既に述べたの構成に該当する。なお、
金属被覆304の厚さを薄くして、かつ金属被覆304
の熱処理条件を調整することで、金属被覆の全体を酸化
物層に変換できる。例えば、Alの金属膜をメッキ、蒸
着等で形成し、200〜600℃の範囲で熱処理するこ
とでAl金属膜全体をAl2O3の酸化物層に変換でき
る。但し、これは第1の実施形態の、の構成に相当
する。
棒302と金属被覆304の複合体によって構成されて
いること以外は図2の例と変わることがないので、他の
説明は省略する。
体は棒状の金属基体の外面に酸化物層が形成され、その
酸化物層上に酸化物超電導層が形成されている。このた
め、製造工程において超電導前駆体が金属基体202に
酸素を奪われることなく酸化物超電導層206が形成さ
れる。しかも、金属基体202に金属を使用しているた
めに曲げや歪みに強い。
例を示す。
態の実施例1におけると同様の基板酸化処理、超電導前
駆体形成処理、超電導体合成熱処理を行い、超電導複合
体を作製した。このとき、超電導前駆体は基板線材の全
面に形成した。
密度10Tで、臨界電流150Aが得られた。
は、板状の金属基体上に酸化物層が形成され、その酸化
物層上に電流の流れる方向に沿って細分化された酸化物
超電導層が形成されたことを特徴とする。以下、図を参
照して詳細に説明する。
例を表す斜視図である。同図に示されるように、板状の
金属基体402上に酸化物層404が形成され、酸化物
層404上に酸化物超電導体の層が電流の流れる方向に
沿って細分化された酸化物超電導線406が形成されて
いる。酸化物超電導線406の間に超電導体の層が存在
しないスリット408がある結果、酸化物超電導線40
6は相互に分割され電気的に分離されている。
形態と同様の広い概念であり、金属基体の種類を問わな
いのは第1の実施形態と同様である。
電導線406が互いに細分化された構造を有しているた
め、交流電流を印加した際の交流損失が小さいという利
点がある。これは、酸化物超電導線406の径が小さけ
れば交流損失が小さいことに起因する。また、電流が複
数の細線に分かれて流れることから全体として大きな電
流を流すこともできる。このことから、本実施形態は電
力機器への応用に適している。また、本実施形態が曲げ
や歪みに強いことは第1の実施形態の場合と同様であ
る。
第1の実施形態で示した工程(1)〜(3)によって第
1の実施形態に係る超電導複合体を作製した後に、超電
導体の一部をエッチング等で除去してスリット408を
作製することで容易に行える。
例を示す。
長手方向、電流の流れる方向に沿って、超電導体部分を
細分化した。第1の実施形態の実施例1で示した工程
(1)〜(3)の基板酸化処理、超電導前駆体形成処
理、超電導体合成熱処理を行った後、超電導体をマスク
して硝酸でエッチングして、細線構造の超電導線を作製
した。
束密度10Tで98Aであり、このような形状とエッチ
ング処理でも特性が変わらないことが判った。
は、板状の金属基体上に酸化物層が形成され、その酸化
物層上に蛇行して形成された超電導線が形成されたこと
を特徴とする。以下、図を参照して詳細に説明する。
例を表す斜視図である。同図に示されるように、板状の
金属基体502上に酸化物層504が形成され酸化物層
504上に蛇行した酸化物超電導線506が形成されて
いる。
506の間に超電導体の層が存在しないスリット508
が存在し、かつスリット508が互いに対向する辺近傍
の点B〜Eの手前で止まっていることによって、蛇行し
た形状に形成されている。この結果、点Aから印加され
た電流510は点B、C、D、Eでその方向を変え点F
に至る。酸化物超電導線506が蛇行していることによ
って、同一の面積内に長い電流経路を確保することが可
能となる。本実施形態に係る超電導複合体には、例えば
限流器やMRI用のシムコイル等通常のソレノイドコイ
ルと異なる応用範囲がある。
形態と同様の広い概念であり、金属基体の種類を問わな
いのは第1の実施形態と同様である。また、本実施形態
が曲げや歪みに強いことは第1の実施形態と同様であ
る。
第3の実施形態で示した様に超電導体をエッチングする
ことによって容易に行える。
を示す。本実施例では、基板に縦横がそれぞれ100m
mで厚さ150μmのNiの板を基体に用いる。
(1)〜(3)の基板酸化処理、超電導前駆体形成処
理、超電導体合成熱処理を行い、その後に超電導体をマ
スクして硝酸でエッチングすることで、細線構造の超電
導線を作製した。この試料の臨界電流は、温度4.2
K、磁束密度10Tで120Aであり、このような形状
とエッチング処理でも特性が変わらないことが判った。
は、板状の金属基体上に酸化物層が形成され、その酸化
物層上に超電導層が形成され、酸化物超電導層上に銅ま
たは銅合金からなる安定化層が形成されたことを特徴と
する。以下、図を参照して詳細に説明する。
例を表す斜視図である。同図に示されるように、板状の
金属基体602上に酸化物層604が形成され、酸化物
層604上に酸化物超電導層606が形成され、酸化物
超電導層606上に銅からなる安定化層608が形成さ
れている。
に形成されていることで酸化物超電導層606の超電導
状態が熱的、電気的に安定となる。安定化層608の形
成は半田付け、真空蒸着、電気メッキ等の手段で銅の層
を酸化物超電導層606上に堆積することによって行え
る。
の例を表す斜視図である。同図に示されるように、板状
の金属基体702上に酸化物層704が形成され、酸化
物層704上に酸化物超電導線706が形成され、酸化
物超電導線706および酸化物層704上に銅からなる
安定化層710が形成されている。本実施例は先の図6
に示した実施例と比べて酸化物超電導層が細分化された
酸化物超電導線706となっている点が相違する。酸化
物超電導線706がスリット708によって細分化され
ている点は、第3の実施形態と同様である。
り、図7に示された超電導複合体では交流損失が小さく
なり、しかも酸化物超電導線706の超電導状態が安定
化される。例えば、超電導コイルを作製した時に、クエ
ンチ時のコイル焼損の可能性を大幅に減らすことが可能
である。なお、本実施形態が曲げや歪みに強いことは第
1の実施形態の場合と同様である。
として、先の図6に対応するものを示す。本実施例で
は、第1の実施形態の実施例1に示した工程(1)から
(3)によって金属基体602上に酸化物層604,安
定化層608を形成した後、銅をハンダ付け、蒸着、メ
ッキにすることにより超電導線材を作製した。
ろ、実施形態1の実施例1と同様に105Aの臨界電流
が得られた。そして、超電導状態から常伝導状態への転
移において、時間的に緩やかな遷移を示し、熱的、電気
的な安定性の向上が見られた。
は、管状の金属基体の内面に酸化物層が形成され、酸化
物超電導体が管状の金属基体の内部に形成されたことを
特徴とする。以下、図を参照して詳細に説明する。
例を表す斜視図である。同図に示されるように、円筒状
の金属基体802の内面に酸化物層804が形成され、
酸化物超電導体806は金属基体802内部の酸化物層
804に覆われている。
る開口部808を必要に応じて付加することもできる。
開口部808は、後に述べる製造工程での熱処理工程
(3)において酸化物超電導体806の形成を容易にす
る働きを営む。開口部808は金属基体802の管壁、
及び酸化物層804の一部が除去され、酸化物超電導体
806が外気に直接触れることができるようになってい
る部分である。図8において開口部808は、金属基体
802の管壁、及び酸化物層804を貫き、管状の金属
基体802の軸に沿って形成されたスリットによって構
成される。なお、開口部808は後述の熱処理工程
(3)の際に存在すれば良く、その後に開口部808を
封止しても差し支えない。
円筒状であるが、管状にはこの他に外形が四角柱状、6
角柱状等種々の形状が含まれる。また直径、長さ等の寸
法を問わない。例えば、細線、丸線等が棒状に含まれ
る。超電導複合体は第1の実施形態と同様広い概念であ
り、金属基体は金属であれば必ずしも種類を問わないこ
とも第1の実施形態と同様である。
例えば金属基体802の軸に沿ってある間隔をもって並
ぶように形成された穴によって、構成することもでき
る。つまり開口部808は、酸化物超電導体806が外
気に直接触れうる箇所であれば良く、連続的に形成され
たスリットでも不連続的に形成された穴の何れであって
も良い。
06から金属基体802への酸素の移動を防ぐバリア層
として機能を有することも第1の実施形態と同様であ
る。また、本実施形態に係る超電導複合体は基体が金属
なので曲げや歪みに強いという特質を有していることも
同様である。
程(1)から(3)によって製造できる。
属基体802を加熱処理する。この結果、筒状の金属基
体802上に金属基体802を構成する材料の酸化物で
ある酸化物層804が形成される。
r、Mo、Fe、Ti、V、Nb、Ta、Zr、Hf、
Wまたはそれらを主体とした組成の合金、特にNi、C
rおよびそれらを主体とした組成の合金を用いることが
好ましいことは第1の実施形態の実施例1と同様であ
る。このとき、金属基体802の材料が単結晶、多結
晶、アモルファスのいずれであっても、金属基体802
表面を酸化してできた酸化物層はバリア層として有効で
ある。
するものを用いることで、金属基体802および酸化物
層804の双方が開口部808に従って除外された構造
を形成できる。
体材料の粉末を充填する。
ば(Bi,Pb)2Sr2Ca2Cu3OxやBi2S
r2CaCu2Ox等のBi系酸化物超電導材料を用い
ることが出来る。
引き、圧延等の機械加工によって伸線を行う。
て、超電導前駆体(酸化物超電導体材料の粉末)を加熱
する。この酸素を含む雰囲気中での熱処理を焼成とい
う。
物超電導体806になり、超電導複合体が形成されるこ
とになる。このとき、酸化物超電導体806と金属基体
802の間に酸化物層804があるため、酸化物超電導
体806から金属基体802への酸素原子の移動が制限
され、超電導前駆体は酸素を金属基体802に奪われる
ことなく酸化物超電導体806になる。
2を用いると、雰囲気中の酸素が超電導前駆体に供給さ
れ易くなり、良質の酸化物超電導体806の形成がより
容易になる。
例を示す。本実施例では、以下の工程によって本実施形
態に係る超電導複合体を作製した。
晶体からなるパイプを空気中で880℃で30時間熱処
理(基板酸化処理)する。この結果、Niパイプの内表
面に厚さが約50μmのNiOの酸化膜が形成された。
b)2Sr2Ca2Cu3Ox酸化物超電導材料粉末を
充填する(超電導前駆体形成処理)。
械加工により伸線した。
50時間熱処理し、これを試料1とした。
%の圧延を施して、再度大気中において840℃で50
時間熱処理して、これを試料2とした。
電流密度(Jc)を測定したところ、温度4.2K、磁
束密度10テスラ中で70Aの臨界電流が得られ、良好
な超電導特性を持つことが確認された。
は、金属板上に酸化物層が形成され、酸化物層上に螺旋
状に酸化物超電導線が形成された超電導線からなる超電
導複合体を上下に重ね、かつ電気的に直列接続して構成
されたことを特徴とする。以下、図を参照して詳細に説
明する。
例を表す斜視図である。同図に示されるように、ドーナ
ツ円盤状の金属基体902A、902Bそれぞれの上面
に螺旋状の酸化物超電導線904A、904Bが形成さ
れた2つの超電導コイルが上下に重ねられている。この
一つの超電導コイルをシングルパンケーキコイルとい
う。なお、図示してはいないが、金属基体902A、9
02Bと酸化物超電導線904A、904Bの間には酸
化物層が形成され、酸化物超電導線904A、904B
の端点906A、906Bは半田等で電気的に接続され
るものとする。この2つの超電導コイルの組み合わせを
ダブルパンケーキコイルという。
Bはそれぞれ円盤の内周付近の端点906A、906B
から前者は右回り、後者は左回りの螺旋を描いて円盤の
外周付近の端点908A、908Bに達している。90
8Aから電流を流すとその電流は端点906A、908
Bを通って、端点908Bに到達する。そして、酸化物
超電導線904Aと904Bの螺旋の向きが逆であるこ
とから、電流は端点908Aから端点908Bに到達す
る間、同一の軸に対し同一の方向に回転する。このた
め、上下に重ねられたシングルパンケーキコイルが発生
する磁場は互いに強め合うことになる。
コイル作製で行われる長尺の線の巻線工程が不要であ
り、コイル作製の低コスト化が可能になる。
物層は金属基体902A、902Bと酸化物超電導線9
04A、904Bとの間を電気的に絶縁する絶縁層とし
ても機能する。このため、金属基体902A、902B
と酸化物超電導線904A、904Bとの間に別途の絶
縁層を形成する必要がないので、超電導コイルの作成の
低コスト化が可能になる。
した工程(1)から(3)を用いて、Niのドーナツ円
盤状基板の上に酸化物超電導体Bi2Sr2CaCu2
Ox超電導相を形成させた。この後、化学的にエッチン
グしてスパイラル状の超電導線を作製した(シングルパ
ンケーキコイル)。スパイラルが時計周り、反時計周り
のシングルパンケーキコイル2種類を作製し、超電導線
それぞれの内周部近傍の端部をハンダ付けで接合しダブ
ルパンケーキコイルを作製した。
並べてやはりハンダ付けで直列に接続して、全体を液体
Heで冷却し、直流電源により励磁した。その結果、温
度4.2Kで200Aの臨界電流を流すことができ、磁
場が発生できることが判った。
ら第7の実施形態について述べたが、本発明の実施形態
は本発明の技術思想の範囲内で種々に拡張変更可能であ
る。
体は種々の形状であって差し支えない。超電導体はパタ
ーニングされていて差し支えないし、パターニングの手
段もエッチングに限らず、例えばスラリーを塗布する際
に印刷、あるいはマイクロシリンジ等によって酸化物上
に部分的に塗布することで行える。要は金属基体と酸化
物超電導体との界面に酸化物が介在すれば良いのであ
る。
属基体と超電導材料の間に酸化物を介在させているた
め、高価なAgを金属基体の材料に使う必要がない。こ
のため、廉価で良好な超電導特性をもつ超電導複合体の
作製が可能になる。
抵抗を持つ材料を基体に利用できるため、交流損失が低
くなり、また超電導状態から常電導状態に移行したとき
に高抵抗とすることができる。このため、限流器や各種
電力機器に有効に使える超電導複合体を提供することが
できる。
視図である。
視図である。
視図である。
視図である。
視図である。
視図である。
視図である。
視図である。
視図である。
02、802、902金属基体 104,204、308、404、504,604、7
04、804 酸化物層 106,206、310、606 酸化物超電導層 406、506,706、904 酸化物超電導線 806 酸化物超電導体 408、508、708 スリット 510 電流 608、710 安定化層 808 開口部
Claims (24)
- 【請求項1】 金属製の基体と、 前記基体上の少なくとも一部に形成された超電導特性を
有しない酸化物と、 前記超電導特性を有しない酸化物上に形成された酸化物
超電導体と を具備することを特徴とする超電導複合体。 - 【請求項2】 前記金属製の基体が板状であって、 前記板状の基体面上に前記超電導特性を有しない酸化物
の層が形成されていることを特徴とする請求項1に記載
の超電導複合体。 - 【請求項3】 前記金属製の基体が棒状であって、 前記超電導特性を有しない酸化物の層が前記棒状の基体
の外面に形成されていることを特徴とする請求項1に記
載の超電導複合体。 - 【請求項4】 前記金属製の基体が管状であって、 前記超電導特性を有しない酸化物の層が前記管状の基体
の内面に形成され、 前記酸化物超電導体が前記管状の基体内部に形成されて
いることを特徴とする請求項1に記載の超電導複合体。 - 【請求項5】 前記管状の金属製の基体の側部に開口部
を有する、 ことを特徴とする請求項4に記載の超電導複合体。 - 【請求項6】 前記金属製の基体は、第1の金属が第2
の金属に被覆されてなることを特徴とする請求項1乃至
請求項5のいずれか1項に記載の超電導複合体。 - 【請求項7】 前記金属製の基体の表面を構成する金属
がNi、Cr、Al,Mo、Fe、Ti、V、Nb、T
a、Zr、Hf、Wのうちいずれか1つの金属、または
該金属を主成分とする合金であることを特徴とする請求
項1乃至請求項6に記載の超電導複合体。 - 【請求項8】 前記超電導特性を有しない酸化物が前記
金属製の基体の表面を構成する金属の酸化物であること
を特徴とする請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記
載の超電導複合体。 - 【請求項9】 前記超電導特性を有しない酸化物は、前
記金属製の基体表面を構成する金属の熱酸化膜であるこ
とを特徴とする請求項8に記載の超電導複合体。 - 【請求項10】 前記超電導特性を有しない酸化物が前
記金属製の基体の表面を構成する金属とは別種の金属の
酸化物であることを特徴とする請求項1乃至請求項8の
いずれか1項に記載の超電導複合体。 - 【請求項11】 前記超電導特性を有しない酸化物は、
前記金属製の基体の表面を構成する金属とは別種の金属
の熱酸化膜であることを特徴とする請求項10に記載の
超電導複合体。 - 【請求項12】 前記超電導特性を有しない酸化物が、
1μm以上100μm以下の膜厚のNiO膜であること
を特徴とする請求項8乃至請求項11のいずれか1項に
記載の超電導複合体。 - 【請求項13】 前記酸化物超電導体が電流の流れる方
向に細分化された細分化構造であることを特徴とする請
求項1乃至請求項12のいずれか1項に記載の超電導複
合体。 - 【請求項14】 前記酸化物超電導体がBi系酸化物超
電導体であることを特徴とする請求項1乃至請求項13
のいずれか1項に記載の超電導複合体。 - 【請求項15】 前記Bi系酸化物超電導体が、Bi2
Sr2CaCu2Oxまたは(Bi,Pb)2Sr2C
a2Cu3Oxの何れか一つであることを特徴とする請
求項15に記載の超電導複合体。 - 【請求項16】 前記酸化物超電導体が、粉体またはス
ラリーを焼成してなることを特徴とする請求項1乃至請
求項15のいずれか1項に記載の超電導複合体。 - 【請求項17】 前記超電導複合体において、 前記基体または前記酸化物超電導体上に、銅または銅合
金のいずれか1つからなる安定化層が形成されたことを
特徴とする請求項1乃至請求項16のいずれか1項に記
載の超電導複合体。 - 【請求項18】 金属板と、 前記金属板上に形成された超電導特性を有しない酸化物
層と、 前記超電導特性を有しない酸化物上に蛇行して形成され
た超電導線とを具備することを特徴とする超電導複合
体。 - 【請求項19】 前記請求項18に記載の超電導複合体
の複数個を電気的に直列接続して構成されたことを特徴
とする超電導複合体。 - 【請求項20】 金属板と、 前記金属板上に形成された超電導特性を有しない酸化物
層と、 前記超電導特性を有しない酸化物層上に螺旋状に形成さ
れた超電導線とを具備することを特徴とする超電導複合
体。 - 【請求項21】 前記請求項20に記載の超電導複合体
を複数個重ね、かつ電気的に直列接続して構成されたこ
とを特徴とする超電導複合体。 - 【請求項22】 Ni、Cr、Mo、Fe、Ti、V、
Nb、Ta、Zr、Hf、Wのうちいずれか1つの金属
または該金属を主成分とする合金からなる基体を、酸素
ガスを含む雰囲気中で500℃以上1200℃以下の温
度に加熱することにより、該基体表面上に該基体の表面
を構成する金属の熱酸化膜を形成する工程と、 前記熱酸化膜上に酸化物超電導体材料の粉末と有機溶剤
を混合したスラリーを塗布する工程と、 酸素ガスを含む雰囲気中で前記基体を加熱し、前記スラ
リーから酸化物超電導体を形成する工程とを含むことを
特徴とする超電導複合体の製造方法。 - 【請求項23】 金属製の基体の表面に、Ni、Cr、
Al、Mo、Fe、Ti、V、Nb、Ta、Zr、H
f、Wのうちいずれか1つの金属または該金属を主成分
とする合金からなる金属膜を形成する工程と、 前記基体を、酸素ガスを含む雰囲気中で500℃以上1
200℃以下の温度に加熱することにより、前記金属膜
の一部または全部を酸化して、熱酸化膜を形成する工程
と、 前記熱酸化膜上に酸化物超電導体材料の粉末と有機溶剤
を混合したスラリーを塗布する工程と、 酸素ガスを含む雰囲気中で前記基体を加熱し、前記スラ
リーから酸化物超電導体を形成する工程とを含むことを
特徴とする超電導複合体の製造方法。 - 【請求項24】 金属製の基体上に、Ni、Cr、A
l、Mo、Fe、Ti、V、Nb、Ta、Zr、Hf、
Wのうちいずれか1つの金属の酸化物を蒸着またはスパ
ッタリングすることによって、酸化膜を形成する工程
と、 前記酸化膜上に酸化物超電導体材料の粉末と有機溶剤を
混合したスラリーを塗布する工程と、 酸素ガスを含む雰囲気中で前記基体を加熱し、前記スラ
リーから酸化物超電導体を形成する工程とを含むことを
特徴とする超電導複合体の製造方法。
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JP29187899A JP2001110256A (ja) | 1999-10-14 | 1999-10-14 | 超電導複合体及び超電導複合体の製造方法 |
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