JP2001166464A - ポジ型感光性組成物 - Google Patents
ポジ型感光性組成物Info
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- JP2001166464A JP2001166464A JP34485499A JP34485499A JP2001166464A JP 2001166464 A JP2001166464 A JP 2001166464A JP 34485499 A JP34485499 A JP 34485499A JP 34485499 A JP34485499 A JP 34485499A JP 2001166464 A JP2001166464 A JP 2001166464A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】画像コントラストと現像ラチテュードに優れた
ポジ型感光性組成物を提供する。 【解決手段】予め、特定のアミノ化合物で処理を施した
支持体上に、ジヒドロピリジン化合物と、アルカリ性現
像液に可溶性のポリマーと、近赤外線吸収染料を含有す
る記録層を設ける事を特徴とするポジ型の感光性組成
物。
ポジ型感光性組成物を提供する。 【解決手段】予め、特定のアミノ化合物で処理を施した
支持体上に、ジヒドロピリジン化合物と、アルカリ性現
像液に可溶性のポリマーと、近赤外線吸収染料を含有す
る記録層を設ける事を特徴とするポジ型の感光性組成
物。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は近赤外線領域に高感
度を有する感光性組成物に関するものであり、特にコン
ピューター等のデジタル信号から近赤外線レーザーを用
いて直接製版できる、ダイレクト製版可能なポジ型感光
性組成物に関する。
度を有する感光性組成物に関するものであり、特にコン
ピューター等のデジタル信号から近赤外線レーザーを用
いて直接製版できる、ダイレクト製版可能なポジ型感光
性組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】ポジ型印刷版は、通常、支持体上に感光
性塗膜を塗布した形態を有しており、その感光性塗膜を
適切な輻射線で露光後現像剤で処理する際に、輻射線被
露光塗膜の現像剤への溶解性が、輻射線未露光部の溶解
性よりも向上する事によって画像形成、製版されるタイ
プの印刷版である。製版後残っている画像領域(輻射線
未露光部)は、インク受容性もしくは疎水性であり、塗
膜が溶出除去された領域(輻射線被露光部)は、親水性
の支持体あるいは感光性塗膜と支持体の中間に親水性層
を設けることによって水受容性もしくは親水性である。
ポジ型平版PS版の分野では、このような機能を持つ感
光性塗膜として、o−ナフトキノンジアジド−5−スル
ホン酸誘導体とフェノール樹脂を組み合わせて用いる技
術が、例えば特公昭37−3627号公報、同37−1
954号公報、同43−28406号公報、同45−9
610号公報等に開示されている。しかし、これらの文
献に記載の輻射線は、o−ナフトキノンジアジド−5−
スルホン酸誘導体の有する紫外線領域の吸収波長に対応
した紫外線であって、その文献記載の塗膜は近赤外線領
域の輻射線に対する感光性を有していない事は自明の事
実である。
性塗膜を塗布した形態を有しており、その感光性塗膜を
適切な輻射線で露光後現像剤で処理する際に、輻射線被
露光塗膜の現像剤への溶解性が、輻射線未露光部の溶解
性よりも向上する事によって画像形成、製版されるタイ
プの印刷版である。製版後残っている画像領域(輻射線
未露光部)は、インク受容性もしくは疎水性であり、塗
膜が溶出除去された領域(輻射線被露光部)は、親水性
の支持体あるいは感光性塗膜と支持体の中間に親水性層
を設けることによって水受容性もしくは親水性である。
ポジ型平版PS版の分野では、このような機能を持つ感
光性塗膜として、o−ナフトキノンジアジド−5−スル
ホン酸誘導体とフェノール樹脂を組み合わせて用いる技
術が、例えば特公昭37−3627号公報、同37−1
954号公報、同43−28406号公報、同45−9
610号公報等に開示されている。しかし、これらの文
献に記載の輻射線は、o−ナフトキノンジアジド−5−
スルホン酸誘導体の有する紫外線領域の吸収波長に対応
した紫外線であって、その文献記載の塗膜は近赤外線領
域の輻射線に対する感光性を有していない事は自明の事
実である。
【0003】一方、近年のレーザーの発展はめざまし
く、特に波長760nmから1200nmの赤外線を放
射する高出力かつ小型の半導体レーザーあるいは固体レ
ーザーが容易に入手できるようになった。これらのレー
ザーを記録光源として用いる事により、コンピューター
等のデジタルデータからの高解像度直接製版が可能とな
るため、レーザーによるヒートモード製版材料の研究開
発が活発になってきた。例えば、特許第2577718
号公報には、フェノール樹脂、熱分解性のオニウム塩、
および近赤外線吸収染料を組み合わせた技術が開示され
ており、また、特開平7−20629号公報、同9−1
38500号公報、同9−185160号公報、同9−
211863号公報等には、フェノール樹脂、潜伏性ブ
レンステッド酸、および近赤外線吸収染料を組み合わせ
た技術が開示されている。これらの文献に記載の材料の
種類、分子量、配合比を適切にコントロールする事によ
り、ポジ型あるいはネガ型の赤外線感応性印刷版を得る
ことができる。しかし、高い赤外線感応性を有し、且
つ、優れた経時保存安定性と高い耐刷性を兼ね備えた赤
外線感応性印刷版は未だ開発されていないのが実状であ
る。
く、特に波長760nmから1200nmの赤外線を放
射する高出力かつ小型の半導体レーザーあるいは固体レ
ーザーが容易に入手できるようになった。これらのレー
ザーを記録光源として用いる事により、コンピューター
等のデジタルデータからの高解像度直接製版が可能とな
るため、レーザーによるヒートモード製版材料の研究開
発が活発になってきた。例えば、特許第2577718
号公報には、フェノール樹脂、熱分解性のオニウム塩、
および近赤外線吸収染料を組み合わせた技術が開示され
ており、また、特開平7−20629号公報、同9−1
38500号公報、同9−185160号公報、同9−
211863号公報等には、フェノール樹脂、潜伏性ブ
レンステッド酸、および近赤外線吸収染料を組み合わせ
た技術が開示されている。これらの文献に記載の材料の
種類、分子量、配合比を適切にコントロールする事によ
り、ポジ型あるいはネガ型の赤外線感応性印刷版を得る
ことができる。しかし、高い赤外線感応性を有し、且
つ、優れた経時保存安定性と高い耐刷性を兼ね備えた赤
外線感応性印刷版は未だ開発されていないのが実状であ
る。
【0004】また、アルカリ可溶性樹脂、塩基性化合
物、及び光酸化剤を組み合わせた技術としては、特公昭
56−44416号公報等が開示されている。一方、分
子内に、光酸化剤として機能する置換基としてのニトロ
基を有する塩基性化合物と、アルカリ可溶性樹脂とを組
み合わせた技術としては、特開昭49−60733号公
報、あるいはジャーナル オブ イメージング サイエ
ンス第34巻50ページ(1990年)に開示がなされ
ている。しかし、これらの技術において記録に用いる輻
射線は、光酸化剤自体あるいは塩基性物質自体が有する
紫外領域の吸収に対応した紫外線であって、赤外線に感
応性を持つ記録材料の組み合わせは未だ知られていな
い。
物、及び光酸化剤を組み合わせた技術としては、特公昭
56−44416号公報等が開示されている。一方、分
子内に、光酸化剤として機能する置換基としてのニトロ
基を有する塩基性化合物と、アルカリ可溶性樹脂とを組
み合わせた技術としては、特開昭49−60733号公
報、あるいはジャーナル オブ イメージング サイエ
ンス第34巻50ページ(1990年)に開示がなされ
ている。しかし、これらの技術において記録に用いる輻
射線は、光酸化剤自体あるいは塩基性物質自体が有する
紫外領域の吸収に対応した紫外線であって、赤外線に感
応性を持つ記録材料の組み合わせは未だ知られていな
い。
【0005】さらに、親水性基を含有する樹脂、特定の
構造を有するチオピリリウム塩あるいは金属キレート化
合物あるいはホウ素塩、赤外線吸収染料を組み合わせた
ポジ型感光性組成物に関する技術が、特開平10−31
65号公報、同平10−153863号公報に開示され
ている。これらの技術では、(樹脂)と(赤外線吸収染
料)と(特定の構造のチオピリリウム塩あるいは金属キ
レート化合物あるいはホウ素塩)の3成分を混合する事
により、アルカリ性処理液に難溶性の凝集体を形成し、
赤外レーザー照射によって発生する熱のon/offに
よる凝集体の分解を誘起させ、アルカリ性処理液による
レーザー照射部分の溶出によって画像形成がなされる。
また、特開平9−43847号公報では、ノボラック樹
脂と赤外線吸収剤の2成分からなる混合物で薄膜を形成
し、赤外レーザー照射によって薄膜の結晶性の変化を誘
起し、アルカリ性処理液への薄膜の溶解性を変化させる
事を利用してレジスト材を製造する技術が開示されてい
る。しかし、これらの技術はレーザー感度が低く、ま
た、赤外レーザーの照射部分と未照射部分でのアルカリ
性処理液に対する溶解度差が小さいため、鮮明な画像を
形成する点で問題があった。
構造を有するチオピリリウム塩あるいは金属キレート化
合物あるいはホウ素塩、赤外線吸収染料を組み合わせた
ポジ型感光性組成物に関する技術が、特開平10−31
65号公報、同平10−153863号公報に開示され
ている。これらの技術では、(樹脂)と(赤外線吸収染
料)と(特定の構造のチオピリリウム塩あるいは金属キ
レート化合物あるいはホウ素塩)の3成分を混合する事
により、アルカリ性処理液に難溶性の凝集体を形成し、
赤外レーザー照射によって発生する熱のon/offに
よる凝集体の分解を誘起させ、アルカリ性処理液による
レーザー照射部分の溶出によって画像形成がなされる。
また、特開平9−43847号公報では、ノボラック樹
脂と赤外線吸収剤の2成分からなる混合物で薄膜を形成
し、赤外レーザー照射によって薄膜の結晶性の変化を誘
起し、アルカリ性処理液への薄膜の溶解性を変化させる
事を利用してレジスト材を製造する技術が開示されてい
る。しかし、これらの技術はレーザー感度が低く、ま
た、赤外レーザーの照射部分と未照射部分でのアルカリ
性処理液に対する溶解度差が小さいため、鮮明な画像を
形成する点で問題があった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、近赤
外線を放射する半導体レーザーを用いて記録する事によ
り、コンピューター等のデジタルデータから直接製版可
能であり、さらに保存時の安定性に優れ、且つ、印刷時
の耐刷性が良好なポジ型感光性組成物を提供する事にあ
る。
外線を放射する半導体レーザーを用いて記録する事によ
り、コンピューター等のデジタルデータから直接製版可
能であり、さらに保存時の安定性に優れ、且つ、印刷時
の耐刷性が良好なポジ型感光性組成物を提供する事にあ
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記の課題は、特定構造
を有するアミノ化合物で予め処理した支持体上に少なく
とも、アルカリ性現像液に可溶性のポリマーと、特定の
構造を有するジヒドロピリジンと、特定の構造を有する
近赤外線吸収染料とを含有する記録層を有するポジ型感
光性組成物を用いる事により達成された。本発明の感光
性組成物の作用メカニズムについては、いまだ不明であ
るが、ポリマーと、特定の構造を有するジヒドロピリジ
ンと、特定の構造を有する近赤外線吸収染料の3成分を
均一に混合する事によりアルカリ性現像液に難溶性の凝
集体が形成され、さらにこの凝集体が近赤外レーザーの
照射を受けて解凝集する事によって画像形成されるもの
と推定される。また、この凝集体と支持体の界面に、特
定構造のアミノ化合物を共存させることにより、近赤外
レーザーの未照射部分では凝集体と支持体との結合を強
く、近赤外レーザーの照射部分では凝集体と支持体との
結合を弱くすることができるため、画像コントラストの
良好なポジ画像を形成できる。一方、本発明では、熱、
紫外線に対して不安定な化合物(熱分解性のスルホニウ
ム塩、ヨードニウム塩等)を使用しないため、保存時の
安定性に優れ、明室下での扱いでも安定した性能を有す
るポジ型感光性組成物が提供できる。
を有するアミノ化合物で予め処理した支持体上に少なく
とも、アルカリ性現像液に可溶性のポリマーと、特定の
構造を有するジヒドロピリジンと、特定の構造を有する
近赤外線吸収染料とを含有する記録層を有するポジ型感
光性組成物を用いる事により達成された。本発明の感光
性組成物の作用メカニズムについては、いまだ不明であ
るが、ポリマーと、特定の構造を有するジヒドロピリジ
ンと、特定の構造を有する近赤外線吸収染料の3成分を
均一に混合する事によりアルカリ性現像液に難溶性の凝
集体が形成され、さらにこの凝集体が近赤外レーザーの
照射を受けて解凝集する事によって画像形成されるもの
と推定される。また、この凝集体と支持体の界面に、特
定構造のアミノ化合物を共存させることにより、近赤外
レーザーの未照射部分では凝集体と支持体との結合を強
く、近赤外レーザーの照射部分では凝集体と支持体との
結合を弱くすることができるため、画像コントラストの
良好なポジ画像を形成できる。一方、本発明では、熱、
紫外線に対して不安定な化合物(熱分解性のスルホニウ
ム塩、ヨードニウム塩等)を使用しないため、保存時の
安定性に優れ、明室下での扱いでも安定した性能を有す
るポジ型感光性組成物が提供できる。
【0008】記録層に用いられるジヒドロピリジン化合
物としては、一般式[I]で示される化合物を用いる。
また、これらを二種以上組み合わせて用いる事も可能で
ある。
物としては、一般式[I]で示される化合物を用いる。
また、これらを二種以上組み合わせて用いる事も可能で
ある。
【0009】
【化4】
【0010】一般式[I]において、R1、R5は同一ま
たは異なっても良いアルキル基であり、R2,R4は同一
または異なっても良い−COOR′基、−COR′基、
または−CN基(式中、R′はアルキル基、アラルキル
基、あるいはアリール基である。)であり、R3はアル
キル基、アルケニル基、アラルキル基、アラルケニル
基、アリール基、あるいは芳香族複素環残基である。
たは異なっても良いアルキル基であり、R2,R4は同一
または異なっても良い−COOR′基、−COR′基、
または−CN基(式中、R′はアルキル基、アラルキル
基、あるいはアリール基である。)であり、R3はアル
キル基、アルケニル基、アラルキル基、アラルケニル
基、アリール基、あるいは芳香族複素環残基である。
【0011】R1、R5の具体例としては、メチル基、エ
チル基等のアルキル基を挙げる事ができる。
チル基等のアルキル基を挙げる事ができる。
【0012】R2、R4の具体例としては、メトキシカル
ボニル基、エトキシカルボニル基、t−ブトキシカルボ
ニル基、ベンジルオキシカルボニル基等のエステル残
基、アセチル基、ベンゾイル基等のアシル基あるいはシ
アノ基を挙げる事ができる。R 2、R4は、さらに置換基
を有しても良い。
ボニル基、エトキシカルボニル基、t−ブトキシカルボ
ニル基、ベンジルオキシカルボニル基等のエステル残
基、アセチル基、ベンゾイル基等のアシル基あるいはシ
アノ基を挙げる事ができる。R 2、R4は、さらに置換基
を有しても良い。
【0013】R3の具体例としては、メチル基、エチル
基、n−オクチル基等のアルキル基、1−プロペニル
基、3−シクロヘキセニル基等のアルケニル基、ベンジ
ル基、フェネチル基等のアラルキル基、スチリル基、シ
ンナミル基等のアラルケニル基、フェニル基、ナフチル
基、4−メチルフェニル基等のアリール基、4−ピリジ
ル基、2−フリル基等の芳香族複素環残基を挙げる事が
できる。R3は、さらに置換基を有しても良い。
基、n−オクチル基等のアルキル基、1−プロペニル
基、3−シクロヘキセニル基等のアルケニル基、ベンジ
ル基、フェネチル基等のアラルキル基、スチリル基、シ
ンナミル基等のアラルケニル基、フェニル基、ナフチル
基、4−メチルフェニル基等のアリール基、4−ピリジ
ル基、2−フリル基等の芳香族複素環残基を挙げる事が
できる。R3は、さらに置換基を有しても良い。
【0014】記録層中に添加する赤外線吸収染料として
は、下記一般式[II]で示されるシアニン染料を用い
る。また、これらを二種以上組み合わせて用いる事も可
能である。
は、下記一般式[II]で示されるシアニン染料を用い
る。また、これらを二種以上組み合わせて用いる事も可
能である。
【0015】
【化5】
【0016】一般式[II]において、R6は水素原子、
アルキル基、ハロゲン原子、あるいはジフェニルアミノ
基を表し、R7、R8はアルキル基、アルコキシアルキル
基、アシルオキシアルキル基、あるいはスルホアルキル
基を表し、R9、R10は水素原子、ハロゲン原子、アル
コキシ基、あるいはフェニル基を表し、フェニル基の場
合には染料骨格のフェニル基と縮合してナフタレン環を
形成しても良い。Z1は染料骨格の炭素原子上の置換基
であって、染料骨格の炭素原子と連結してシクロヘキセ
ン環あるいはシクロペンテン環を形成する二価の炭化水
素残基、あるいは独立した2個の水素原子、あるいは独
立した2個のアルキル基である。X1、X2は硫黄原子、
置換基を有してもよいメチレン基、あるいは無置換のビ
ニレン基であって、メチレン基の置換基は、炭素数6以
下の二つのアルキル基、あるいは炭素数6以下のスピロ
環を形成する炭化水素残基である。Y-は染料の対アニ
オンを表すが、R7、R8が、共にスルホアルキル基の場
合は、染料自体が中性分子となるため、不要である。
アルキル基、ハロゲン原子、あるいはジフェニルアミノ
基を表し、R7、R8はアルキル基、アルコキシアルキル
基、アシルオキシアルキル基、あるいはスルホアルキル
基を表し、R9、R10は水素原子、ハロゲン原子、アル
コキシ基、あるいはフェニル基を表し、フェニル基の場
合には染料骨格のフェニル基と縮合してナフタレン環を
形成しても良い。Z1は染料骨格の炭素原子上の置換基
であって、染料骨格の炭素原子と連結してシクロヘキセ
ン環あるいはシクロペンテン環を形成する二価の炭化水
素残基、あるいは独立した2個の水素原子、あるいは独
立した2個のアルキル基である。X1、X2は硫黄原子、
置換基を有してもよいメチレン基、あるいは無置換のビ
ニレン基であって、メチレン基の置換基は、炭素数6以
下の二つのアルキル基、あるいは炭素数6以下のスピロ
環を形成する炭化水素残基である。Y-は染料の対アニ
オンを表すが、R7、R8が、共にスルホアルキル基の場
合は、染料自体が中性分子となるため、不要である。
【0017】支持体を処理する化合物としては、下記一
般式[III]で示されるアミノ化合物を用いる。
般式[III]で示されるアミノ化合物を用いる。
【0018】
【化6】
【0019】
【発明の実施の形態】次に、本発明のポジ型感光性組成
物に用いられる、一般式[I]で示される化合物の具体
例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。
物に用いられる、一般式[I]で示される化合物の具体
例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。
【0020】
【化7】
【0021】
【化8】
【0022】
【化9】
【0023】
【化10】
【0024】これらのジヒドロピリジン化合物は、ジャ
ーナル オブ オーガニックケミストリー第30巻19
14ページ(1965年)の記載、ジャーナル オブ
ケミカルソサエティー(1946年)884ページの記
載、オーガニック シンセシス(コレクティブボリュー
ム)第2巻214ページの記載、あるいは、アンゲバン
テ ケミー(インターナショナルディション)第20巻
762ページ(1981年)の記載等のHantzsc
hのピリジン合成法に基づいて容易に合成できる。
ーナル オブ オーガニックケミストリー第30巻19
14ページ(1965年)の記載、ジャーナル オブ
ケミカルソサエティー(1946年)884ページの記
載、オーガニック シンセシス(コレクティブボリュー
ム)第2巻214ページの記載、あるいは、アンゲバン
テ ケミー(インターナショナルディション)第20巻
762ページ(1981年)の記載等のHantzsc
hのピリジン合成法に基づいて容易に合成できる。
【0025】次に、本発明のポジ型感光性組成物に用い
られる、一般式[II]で示される近赤外線吸収染料の具
体例を以下に示すが、これらに限定されるものではな
い。
られる、一般式[II]で示される近赤外線吸収染料の具
体例を以下に示すが、これらに限定されるものではな
い。
【0026】
【化11】
【0027】
【化12】
【0028】
【化13】
【0029】次に、支持体を予め処理するために用い
る、一般式[III]で示されるアミノ化合物具体例を示
が、これらに限定されるものではない。
る、一般式[III]で示されるアミノ化合物具体例を示
が、これらに限定されるものではない。
【0030】
【化14】
【0031】これらのアミノ化合物は、ジャーナル オ
ブ オーガニックケミストリー第64巻4012ページ
(1999年)の記載により容易に合成できる。
ブ オーガニックケミストリー第64巻4012ページ
(1999年)の記載により容易に合成できる。
【0032】本発明のポジ型感光性組成物の記録層に用
いられる、少なくともアルカリ性現像液に可溶性のポリ
マーとしては、フェノール樹脂が好ましく、より具体的
にはノボラック樹脂、レゾール樹脂、またはポリビニル
フェノール樹脂が好ましい。
いられる、少なくともアルカリ性現像液に可溶性のポリ
マーとしては、フェノール樹脂が好ましく、より具体的
にはノボラック樹脂、レゾール樹脂、またはポリビニル
フェノール樹脂が好ましい。
【0033】ノボラック樹脂としては、フェノール、ク
レゾール、レゾルシノール、ピロガロール、ビスフェノ
ールA、t−ブチルフェノール、1−ナフトール等の芳
香族炭化水素類の少なくとも一種を酸性触媒下、ホルム
アルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、ベンズアルデヒド等のアルデヒド類、あるいは、ア
セトン、メチルエチルケトン等のケトン類と重縮合させ
た物が挙げられる。ノボラック樹脂の分子量に関して
は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GP
C)測定によるポリスチレン換算重量平均分子量(M
w)が、1000〜15000の物が好ましく、さらに
その中でも1500〜10000の物が特に好ましい。
レゾール、レゾルシノール、ピロガロール、ビスフェノ
ールA、t−ブチルフェノール、1−ナフトール等の芳
香族炭化水素類の少なくとも一種を酸性触媒下、ホルム
アルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、ベンズアルデヒド等のアルデヒド類、あるいは、ア
セトン、メチルエチルケトン等のケトン類と重縮合させ
た物が挙げられる。ノボラック樹脂の分子量に関して
は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GP
C)測定によるポリスチレン換算重量平均分子量(M
w)が、1000〜15000の物が好ましく、さらに
その中でも1500〜10000の物が特に好ましい。
【0034】レゾール樹脂としては、フェノール、クレ
ゾール、レゾルシノール、ピロガロール、ビスフェノー
ルA、t−ブチルフェノール、1−ナフトール等の芳香
族炭化水素類の少なくとも一種を塩基性触媒下、ホルム
アルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、ベンズアルデヒド等のアルデヒド類と重縮合させた
物が挙げられる。レゾール樹脂の分子量に関しては、G
PC測定によるMwが、1000〜5000の物が好ま
しく、さらにその中でも1500〜3000の物が特に
好ましい。また、レゾール樹脂の性状としては、室温下
で固体の物がポジ型感光性組成物の経時保存安定性を保
持するために好ましい。
ゾール、レゾルシノール、ピロガロール、ビスフェノー
ルA、t−ブチルフェノール、1−ナフトール等の芳香
族炭化水素類の少なくとも一種を塩基性触媒下、ホルム
アルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、ベンズアルデヒド等のアルデヒド類と重縮合させた
物が挙げられる。レゾール樹脂の分子量に関しては、G
PC測定によるMwが、1000〜5000の物が好ま
しく、さらにその中でも1500〜3000の物が特に
好ましい。また、レゾール樹脂の性状としては、室温下
で固体の物がポジ型感光性組成物の経時保存安定性を保
持するために好ましい。
【0035】ポリビニルフェノール樹脂としては、o−
ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレン、2−
(m−ヒドロキシフェニル)プロピレンなどのヒドロキ
シスチレン類の単独または2種類以上の共重合体が挙げ
られる。また、t−ブトキシカルボニル基、ピラニル
基、フラニル基などでポリビニルフェノール類の一部の
ヒドロキシ基を保護した樹脂でも良い。ポリビニルフェ
ノール樹脂のMwは、好ましくは1000〜10000
0、中でも特に好ましくは1500〜50000の物が
用いられる。
ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレン、2−
(m−ヒドロキシフェニル)プロピレンなどのヒドロキ
シスチレン類の単独または2種類以上の共重合体が挙げ
られる。また、t−ブトキシカルボニル基、ピラニル
基、フラニル基などでポリビニルフェノール類の一部の
ヒドロキシ基を保護した樹脂でも良い。ポリビニルフェ
ノール樹脂のMwは、好ましくは1000〜10000
0、中でも特に好ましくは1500〜50000の物が
用いられる。
【0036】上記の樹脂のうち、中でもノボラック樹脂
がポジ型感光性組成物の経時保存安定性と、生じる画像
の機械的強度を保持するために特に好ましい。
がポジ型感光性組成物の経時保存安定性と、生じる画像
の機械的強度を保持するために特に好ましい。
【0037】本発明のポジ型感光性組成物の記録層にお
ける、アルカリ性現像液に可溶性のポリマーの使用割合
は、該記録層の全固形分に対して通常40重量%から9
5重量%であり、好ましくは60重量%から90%重量
である。
ける、アルカリ性現像液に可溶性のポリマーの使用割合
は、該記録層の全固形分に対して通常40重量%から9
5重量%であり、好ましくは60重量%から90%重量
である。
【0038】本発明のポジ型感光性組成物の記録層にお
ける、一般式[I]で示される化合物の使用割合は、記
録層中の材料の全固形分に対して通常0.5重量%から
30重量%であり、好ましくは1重量%から10重量%
である。[I]の化合物の使用量が多すぎる場合は、ア
ルカリ性現像液に対する非画像部(レーザー照射部分)
の溶出性が低下し、使用量が少なすぎるとアルカリ性現
像液への画像部(レーザー非照射部分)の溶出抵抗性が
悪くなる。
ける、一般式[I]で示される化合物の使用割合は、記
録層中の材料の全固形分に対して通常0.5重量%から
30重量%であり、好ましくは1重量%から10重量%
である。[I]の化合物の使用量が多すぎる場合は、ア
ルカリ性現像液に対する非画像部(レーザー照射部分)
の溶出性が低下し、使用量が少なすぎるとアルカリ性現
像液への画像部(レーザー非照射部分)の溶出抵抗性が
悪くなる。
【0039】近赤外線吸収染料については、一般式[I
I]で示される化合物と併せて、波長700nmから1
200nmに吸収極大を有する市販の染料または顔料を
使用する事ができる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩
アゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フ
タロシアニン染料、スクワリリウム染料、キノンイミン
染料、アミニウム染料、ジインモニウム染料、金属チオ
ラート錯体、チオピリリウム塩、不溶性アゾ顔料、キレ
ートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、ペリレン系顔
料、ペリノン系顔料、カーボンブラック等が挙げられ
る。その中でも、溶剤に可溶性のフタロシアニン染料、
アミニウム染料、ジインモニウム染料が、画像の機械的
強度を低下させない点と、アルカリ性現像液に対する非
画像部分(レーザー照射部分)の溶出性を低下させない
点から特に好ましい。
I]で示される化合物と併せて、波長700nmから1
200nmに吸収極大を有する市販の染料または顔料を
使用する事ができる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩
アゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フ
タロシアニン染料、スクワリリウム染料、キノンイミン
染料、アミニウム染料、ジインモニウム染料、金属チオ
ラート錯体、チオピリリウム塩、不溶性アゾ顔料、キレ
ートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、ペリレン系顔
料、ペリノン系顔料、カーボンブラック等が挙げられ
る。その中でも、溶剤に可溶性のフタロシアニン染料、
アミニウム染料、ジインモニウム染料が、画像の機械的
強度を低下させない点と、アルカリ性現像液に対する非
画像部分(レーザー照射部分)の溶出性を低下させない
点から特に好ましい。
【0040】本発明のポジ型感光性組成物に用いられる
近赤外線吸収染料の使用割合は、記録層に添加する場
合、記録層中の材料の全固形分に対して通常1重量%か
ら60重量%であり、好ましくは5重量%から40重量
%である。
近赤外線吸収染料の使用割合は、記録層に添加する場
合、記録層中の材料の全固形分に対して通常1重量%か
ら60重量%であり、好ましくは5重量%から40重量
%である。
【0041】一般式[III]で示されるアミノ化合物水
溶液での処理とは、支持体上にアミノ化合物水溶液を塗
布する事により、支持体上に該アミノ化合物の薄層を設
けることを意味する。本発明のポジ型感光性組成物に用
いられる、一般式[III]で示されるアミノ化合物の支
持体への付着量は、0.1mg/m2〜500mg/m2
が好ましくあり、その中でも、2mg/m2〜200m
g/m2が特に好ましい。付着量が少なすぎる場合に
は、現像処理後の画像コントラストに与える効果が現れ
ず、付着量が多すぎる場合には、現像処理時にレーザー
未露光部が現像液に溶出してしまい、画像が形成できな
い。塗布方法としては、バーコーター塗布、スピナー塗
布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エア
ーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げる事
ができる。
溶液での処理とは、支持体上にアミノ化合物水溶液を塗
布する事により、支持体上に該アミノ化合物の薄層を設
けることを意味する。本発明のポジ型感光性組成物に用
いられる、一般式[III]で示されるアミノ化合物の支
持体への付着量は、0.1mg/m2〜500mg/m2
が好ましくあり、その中でも、2mg/m2〜200m
g/m2が特に好ましい。付着量が少なすぎる場合に
は、現像処理後の画像コントラストに与える効果が現れ
ず、付着量が多すぎる場合には、現像処理時にレーザー
未露光部が現像液に溶出してしまい、画像が形成できな
い。塗布方法としては、バーコーター塗布、スピナー塗
布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エア
ーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げる事
ができる。
【0042】本発明のポジ型感光性組成物には、現像処
理に対する安定性を高めるために、ソルビタントリステ
アレート、ソルビタンモノパルミテート、ステアリン酸
モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエ
ーテル等の非イオン性界面活性剤を添加する事ができ
る。これらの界面活性剤の感光性組成物中に占める割合
は、感光性組成物の全固形分に対して、0.05から1
5重量%が好ましく、その中でも0.1から5重量%が
特に好ましい。
理に対する安定性を高めるために、ソルビタントリステ
アレート、ソルビタンモノパルミテート、ステアリン酸
モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエ
ーテル等の非イオン性界面活性剤を添加する事ができ
る。これらの界面活性剤の感光性組成物中に占める割合
は、感光性組成物の全固形分に対して、0.05から1
5重量%が好ましく、その中でも0.1から5重量%が
特に好ましい。
【0043】本発明の感光性組成物は、予め支持体を一
般式[III]で示されるアミノ化合物の水溶液で処理を
施した後、感光性成分を適当な溶剤に溶かし、支持体上
に塗布する事によって製造できる。ここで使用する溶剤
としては、メタノール、エタノール、1−プロパノー
ル、1−メトキシ−2−プロパノール等のアルコール
類、THF、1,4−ジオキサン、1,2−ジメトキシ
エタン、エチレングリコールモノメチルエーテル等のエ
ーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキ
サノン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸
メチル、酢酸イソブチル等のエステル類、N,N−ジメ
チルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N
−メチルピロリドン等のアミド類、ジメチルスルホキシ
ド、水等を挙げる事ができるが、これらに限定されるも
のではない。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用
される。塗液の固形分濃度は、好ましくは1〜50重量
%である。また、塗布乾燥後に得られる支持体上の塗布
量は、0.5〜5.0g/m2が好ましい。塗布方法と
しては、バーコーター塗布、スピナー塗布、スプレー塗
布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、
ブレード塗布、ロール塗布等を挙げる事ができる。
般式[III]で示されるアミノ化合物の水溶液で処理を
施した後、感光性成分を適当な溶剤に溶かし、支持体上
に塗布する事によって製造できる。ここで使用する溶剤
としては、メタノール、エタノール、1−プロパノー
ル、1−メトキシ−2−プロパノール等のアルコール
類、THF、1,4−ジオキサン、1,2−ジメトキシ
エタン、エチレングリコールモノメチルエーテル等のエ
ーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキ
サノン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸
メチル、酢酸イソブチル等のエステル類、N,N−ジメ
チルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N
−メチルピロリドン等のアミド類、ジメチルスルホキシ
ド、水等を挙げる事ができるが、これらに限定されるも
のではない。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用
される。塗液の固形分濃度は、好ましくは1〜50重量
%である。また、塗布乾燥後に得られる支持体上の塗布
量は、0.5〜5.0g/m2が好ましい。塗布方法と
しては、バーコーター塗布、スピナー塗布、スプレー塗
布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、
ブレード塗布、ロール塗布等を挙げる事ができる。
【0044】本発明に使用される支持体としては、紙、
ポリエチレン等のプラスチックがラミネートされた紙、
アルミニウム、亜鉛、銅等の金属、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリカーボネ
ート、酢酸セルロース等のプラスチックフィルム、金属
が蒸着されたプラスチック等が挙げられる。本発明に用
いられる支持体として好ましい物は、ポリエステルフィ
ルム、あるいはアルミニウム板であり、その中でもアル
ミニウム板は寸法安定性が良く、比較的安価であるので
特に好ましい。アルミニウム版の厚みは、0.1mm〜
1mmが好ましく、その中でも0.2〜0.4mmが特
に好ましい。
ポリエチレン等のプラスチックがラミネートされた紙、
アルミニウム、亜鉛、銅等の金属、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリカーボネ
ート、酢酸セルロース等のプラスチックフィルム、金属
が蒸着されたプラスチック等が挙げられる。本発明に用
いられる支持体として好ましい物は、ポリエステルフィ
ルム、あるいはアルミニウム板であり、その中でもアル
ミニウム板は寸法安定性が良く、比較的安価であるので
特に好ましい。アルミニウム版の厚みは、0.1mm〜
1mmが好ましく、その中でも0.2〜0.4mmが特
に好ましい。
【0045】アルミニウム板は、印刷版の分野で公知の
技術により、脱脂処理、粗面化処理、陽極酸化処理を施
した物を用いる事が好ましい。陽極酸化処理を施したア
ルミニウム表面は必要に応じてケイ酸ナトリウム、フッ
化ジルコン酸カリウム、ポリビニルスルホン酸等を用い
て親水化処理を施しても良い。
技術により、脱脂処理、粗面化処理、陽極酸化処理を施
した物を用いる事が好ましい。陽極酸化処理を施したア
ルミニウム表面は必要に応じてケイ酸ナトリウム、フッ
化ジルコン酸カリウム、ポリビニルスルホン酸等を用い
て親水化処理を施しても良い。
【0046】本発明のポジ型感光性組成物の支持体は、
一般式[III]で示されるアミノ化合物と共に必要に応
じて別種の支持体処理剤を併用する事ができる。別種の
処理剤としては、例えば、カルボキシメチルセルロー
ス、デキストリン、アラビアガム、2−アミノエチルホ
スホン酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン
酸、アルキルホスフィン酸、グリシン、β−アラニン、
トリエタノールアミンの塩酸塩等が挙げられるが、これ
らのうちの複数の物を適宜混合して用いても良い。その
場合においても、支持体への処理剤のトータルの付着量
は2〜200mg/m2が好ましい。
一般式[III]で示されるアミノ化合物と共に必要に応
じて別種の支持体処理剤を併用する事ができる。別種の
処理剤としては、例えば、カルボキシメチルセルロー
ス、デキストリン、アラビアガム、2−アミノエチルホ
スホン酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン
酸、アルキルホスフィン酸、グリシン、β−アラニン、
トリエタノールアミンの塩酸塩等が挙げられるが、これ
らのうちの複数の物を適宜混合して用いても良い。その
場合においても、支持体への処理剤のトータルの付着量
は2〜200mg/m2が好ましい。
【0047】本発明のポジ型感光性組成物を用いて平版
印刷用版材を作製する事ができる。この版材は、波長7
00〜900nmの近赤外線を放射する半導体レーザー
によって画像露光される。半導体レーザーの出力に関し
ては、100mW〜5Wの出力の物が用いられ、感光性
組成物への近赤外線レーザーの露光時間に関しては、半
導体レーザーの出力に応じて、0.1×10-6秒から1
×10-3秒が選ばれる。本発明においては、レーザー露
光の後直ちに現像処理を行うことができ、レーザー露光
と現像処理の間の加熱処理工程等、現像前処理工程は何
ら必要がない。
印刷用版材を作製する事ができる。この版材は、波長7
00〜900nmの近赤外線を放射する半導体レーザー
によって画像露光される。半導体レーザーの出力に関し
ては、100mW〜5Wの出力の物が用いられ、感光性
組成物への近赤外線レーザーの露光時間に関しては、半
導体レーザーの出力に応じて、0.1×10-6秒から1
×10-3秒が選ばれる。本発明においては、レーザー露
光の後直ちに現像処理を行うことができ、レーザー露光
と現像処理の間の加熱処理工程等、現像前処理工程は何
ら必要がない。
【0048】レーザー露光後、版材はアルカリ性現像液
で現像処理される。現像液としては、従来より知られて
いるアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸ナト
リウム、ケイ酸カリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カ
リウム、リン酸アンモニウム、リン酸一水素ナトリウ
ム、リン酸一水素カリウム、リン酸一水素アンモニウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素
アンモニウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、ホ
ウ酸アンモニウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、アンモニア、水酸化リチウム、などの無機アルカリ
塩が挙げられる。また、メチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミ
ン、トリエチルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノ
ールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミ
ン、エチレンジアミン等の有機アルカリ剤を用いられ
る。これらのアルカリ剤は単独もしくは2種以上を組み
合わせて用いる事ができる。これらのアルカリ剤の中で
特に好ましいものは、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウ
ム等のアルカリ金属のケイ酸塩の水溶液である。
で現像処理される。現像液としては、従来より知られて
いるアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸ナト
リウム、ケイ酸カリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カ
リウム、リン酸アンモニウム、リン酸一水素ナトリウ
ム、リン酸一水素カリウム、リン酸一水素アンモニウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素
アンモニウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、ホ
ウ酸アンモニウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、アンモニア、水酸化リチウム、などの無機アルカリ
塩が挙げられる。また、メチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミ
ン、トリエチルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノ
ールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミ
ン、エチレンジアミン等の有機アルカリ剤を用いられ
る。これらのアルカリ剤は単独もしくは2種以上を組み
合わせて用いる事ができる。これらのアルカリ剤の中で
特に好ましいものは、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウ
ム等のアルカリ金属のケイ酸塩の水溶液である。
【0049】また、現像液には現像速度のコントロール
や現像カスの分散や印刷版画像部のインキ親和性を高め
る目的で、必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤を
添加できる。また、現像液に必要に応じて、ハイドロキ
ノン、レゾルシン、カテコール等の有機還元剤、亜硫酸
ナトリウム、亜硫酸水素ナトリウム等の無機還元剤、消
泡剤、硬水軟化用キレート剤等を添加する事ができる。
や現像カスの分散や印刷版画像部のインキ親和性を高め
る目的で、必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤を
添加できる。また、現像液に必要に応じて、ハイドロキ
ノン、レゾルシン、カテコール等の有機還元剤、亜硫酸
ナトリウム、亜硫酸水素ナトリウム等の無機還元剤、消
泡剤、硬水軟化用キレート剤等を添加する事ができる。
【0050】現像液で処理された印刷版は、水洗水、界
面活性剤を含むリンス液、アラビアガムやデンプン誘導
体を含む不感脂化液で後処理される。本発明のポジ型感
光性組成物を印刷版として使用する場合、これらの処理
を種々組み合わせて処理した後、オフセット印刷機等に
かけられ、多数枚の印刷に用いられる。
面活性剤を含むリンス液、アラビアガムやデンプン誘導
体を含む不感脂化液で後処理される。本発明のポジ型感
光性組成物を印刷版として使用する場合、これらの処理
を種々組み合わせて処理した後、オフセット印刷機等に
かけられ、多数枚の印刷に用いられる。
【0051】
【実施例】以下で、実施例により、さらに詳細に本発明
の効果を説明するが、本発明はこれにより限定されるも
のではない。なお、実施例中の「部」および「%」はそ
れぞれ「重量部」および「重量%」を示す。
の効果を説明するが、本発明はこれにより限定されるも
のではない。なお、実施例中の「部」および「%」はそ
れぞれ「重量部」および「重量%」を示す。
【0052】(アルミニウム板の作製)厚さ0.30m
mのアルミニウム版(材質1050)を、5%の水酸化
ナトリウム水溶液中での脱脂処理(40℃で10秒
間)、0.5モル/リットルの濃度の塩酸水溶液中での
電解エッチング(25℃、電流密度40A/dm2で3
0秒間)、5%水酸化ナトリウム水溶液中でのデスマッ
ト処理(30℃で10秒間)、次いで20%硫酸水溶液
中での陽極酸化処理(20℃、電流密度5A/dm2で
1分間)を行って平版印刷版用支持体のアルミニウム板
を作製した。
mのアルミニウム版(材質1050)を、5%の水酸化
ナトリウム水溶液中での脱脂処理(40℃で10秒
間)、0.5モル/リットルの濃度の塩酸水溶液中での
電解エッチング(25℃、電流密度40A/dm2で3
0秒間)、5%水酸化ナトリウム水溶液中でのデスマッ
ト処理(30℃で10秒間)、次いで20%硫酸水溶液
中での陽極酸化処理(20℃、電流密度5A/dm2で
1分間)を行って平版印刷版用支持体のアルミニウム板
を作製した。
【0053】実施例1 下記の処方1に基づいた下塗液をアルミニウム板上にワ
イヤーバーで塗布し、90℃で30分間乾燥して塗布量
50mg/m2の下塗層を設けた。さらに、下記の処方
2に基づいた塗液をワイヤーバーで塗布し、100℃で
30分間乾燥させ、膜厚1.5g/m2の記録層を重層
した。このようにして作った近赤外線感光性組成物を回
転ドラムに取り付け、830nmの半導体レーザー(出
力500mW)をレンズで20μmのビーム径に絞って
走査露光を行った。露光済み感光性組成物を、現像液を
仕込んだ現像機(岩通製:EKLEFAXWP−25
0)を用いて30℃30秒現像処理した。その際、現像
液処方は8%ケイ酸カリウム水溶液 1000部、水酸
化カリウム 30部、グリセリン 30部からなる現像
液を使用し現像処理した。
イヤーバーで塗布し、90℃で30分間乾燥して塗布量
50mg/m2の下塗層を設けた。さらに、下記の処方
2に基づいた塗液をワイヤーバーで塗布し、100℃で
30分間乾燥させ、膜厚1.5g/m2の記録層を重層
した。このようにして作った近赤外線感光性組成物を回
転ドラムに取り付け、830nmの半導体レーザー(出
力500mW)をレンズで20μmのビーム径に絞って
走査露光を行った。露光済み感光性組成物を、現像液を
仕込んだ現像機(岩通製:EKLEFAXWP−25
0)を用いて30℃30秒現像処理した。その際、現像
液処方は8%ケイ酸カリウム水溶液 1000部、水酸
化カリウム 30部、グリセリン 30部からなる現像
液を使用し現像処理した。
【0054】
【表1】
【0055】
【表2】
【0056】(画像コントラスト)版上の画像部分(未
露光部分)と非画像部(露光部)の状態を目視評価し
た。結果を表3に示す。 評価基準 画像部 2;未処理版同等に画像(感光記録層)が保持 されている。 1;未処理版の略1/2まで画像が溶出除去さ れている。 0;画像は残存しない。 非画像部 1;感光記録層が完全に溶出除去されている。 0;感光記録層が薄く残留している。
露光部分)と非画像部(露光部)の状態を目視評価し
た。結果を表3に示す。 評価基準 画像部 2;未処理版同等に画像(感光記録層)が保持 されている。 1;未処理版の略1/2まで画像が溶出除去さ れている。 0;画像は残存しない。 非画像部 1;感光記録層が完全に溶出除去されている。 0;感光記録層が薄く残留している。
【0057】(現像ラチテュード)上記現像液において
水酸化カリウム 30部を水酸化カリウム27.5もし
くは25部にした以外は上記と同様にして現像処理を行
った。水酸化カリウム27.5部と25部どちらの現像
処理で得られた版も水酸化カリウム 30部での現像処
理で得られた版と同様の版が得られた場合は○、得られ
ない場合は×とした。結果を表3に示す。
水酸化カリウム 30部を水酸化カリウム27.5もし
くは25部にした以外は上記と同様にして現像処理を行
った。水酸化カリウム27.5部と25部どちらの現像
処理で得られた版も水酸化カリウム 30部での現像処
理で得られた版と同様の版が得られた場合は○、得られ
ない場合は×とした。結果を表3に示す。
【0058】(耐刷性)得られた印刷版を、オフセット
印刷機(リョービ(株)製3200MCD)に装着し、
15万枚まで印刷を行った。非画像部ヨゴレのない印刷
画像に優れた印刷物が得られた時は○、得られない場合
は×と判定した。結果を表3に示す。
印刷機(リョービ(株)製3200MCD)に装着し、
15万枚まで印刷を行った。非画像部ヨゴレのない印刷
画像に優れた印刷物が得られた時は○、得られない場合
は×と判定した。結果を表3に示す。
【0059】
【表3】
【0060】実施例2〜7 実施例1の処方1と処方2に従って、化合物[I]、化
合物[II]、化合物[III]の例示化合物を種々変化さ
せ、実施例1と同じ操作を行って近赤外線感光性組成物
を作製し、露光、現像処理を行ってポジ画像を作製し
た。その評価結果を表4に示す。
合物[II]、化合物[III]の例示化合物を種々変化さ
せ、実施例1と同じ操作を行って近赤外線感光性組成物
を作製し、露光、現像処理を行ってポジ画像を作製し
た。その評価結果を表4に示す。
【0061】
【表4】
【0062】比較例1 印刷版用アルミニウム板に、実施例1の処方2に基づい
た塗液をワイヤーバーで塗布し、100℃で30分間乾
燥させ、膜厚1.5g/m2の記録層を設けた。このよ
うにして作った近赤外線感光性組成物を実施例1と同じ
処理を行って製版し、同様の評価を行った。結果を表5
に示す。
た塗液をワイヤーバーで塗布し、100℃で30分間乾
燥させ、膜厚1.5g/m2の記録層を設けた。このよ
うにして作った近赤外線感光性組成物を実施例1と同じ
処理を行って製版し、同様の評価を行った。結果を表5
に示す。
【0063】
【表5】
【0064】
【発明の効果】予め、特定のアミノ化合物で処理を施し
た支持体上に、ジヒドロピリジン化合物と、アルカリ性
現像液に可溶性のポリマーと、近赤外線吸収染料を含有
する記録層を設ける事により、画像コントラストに優
れ、また、現像ラチテュードに優れたポジ型感光性組成
物の版材を提供できる。
た支持体上に、ジヒドロピリジン化合物と、アルカリ性
現像液に可溶性のポリマーと、近赤外線吸収染料を含有
する記録層を設ける事により、画像コントラストに優
れ、また、現像ラチテュードに優れたポジ型感光性組成
物の版材を提供できる。
Claims (3)
- 【請求項1】 支持体上に少なくとも、アルカリ性現像
液に可溶性のポリマーと、下記一般式[I]で示される
化合物と、下記一般式[II]で示される近赤外線吸収染
料を含有する記録層を有する感光性組成物において、予
め下記一般式[III]で示される化合物により処理され
た支持体上に記録層を有することを特徴とするポジ型感
光性組成物。 【化1】 〔一般式[I]において、R1、R5は同一または異なっ
ても良いアルキル基であり、R2、R4は同一または異な
っても良い−COOR′基、−COR′基、または−C
N基(式中、R′はアルキル基、アラルキル基、あるい
はアリール基である。)であり、R3はアルキル基、ア
ルケニル基、アラルキル基、アラルケニル基、アリール
基、あるいは芳香族複素環残基である。〕 【化2】 〔一般式[II]において、R6は水素原子、アルキル
基、ハロゲン原子、あるいはジフェニルアミノ基を表
し、R7、R8はアルキル基、アルコキシアルキル基、ア
シルオキシアルキル基、あるいはスルホアルキル基を表
し、R9、R10は水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ
基、あるいはフェニル基を表し、フェニル基の場合には
染料骨格のフェニル基と縮合してナフタレン環を形成し
ても良い。Z1は染料骨格の炭素原子上の置換基であっ
て、染料骨格の炭素原子と連結してシクロヘキセン環あ
るいはシクロペンテン環を形成する二価の炭化水素残
基、あるいは独立した2個の水素原子、あるいは独立し
た2個のアルキル基である。X1、X2は硫黄原子、置
換基を有してもよいメチレン基、あるいは無置換のビニ
レン基であって、メチレン基の置換基は、炭素数6以下
の二つのアルキル基、あるいは炭素数6以下のスピロ環
を形成する炭化水素残基である。Y-は染料のカウンタ
ーアニオンを表すが、R7、R8が、共にスルホアルキル
基の場合は、染料自体が中性分子となるため、不要であ
る。) 【化3】 - 【請求項2】 少なくともアルカリ性現像液に可溶性の
ポリマーが、ノボラック樹脂であることを特徴とする請
求項1記載のポジ型感光性組成物。 - 【請求項3】 支持体が、陽極酸化された親水性の表面
を有するアルミニウム板であることを特徴とする請求項
1または2記載のポジ型感光性組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34485499A JP2001166464A (ja) | 1999-12-03 | 1999-12-03 | ポジ型感光性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34485499A JP2001166464A (ja) | 1999-12-03 | 1999-12-03 | ポジ型感光性組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001166464A true JP2001166464A (ja) | 2001-06-22 |
Family
ID=18372509
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP34485499A Pending JP2001166464A (ja) | 1999-12-03 | 1999-12-03 | ポジ型感光性組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001166464A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6420344B1 (en) | 1999-03-16 | 2002-07-16 | The Regents Of The University Of California | Glycosylated polyamines |
US6531454B1 (en) | 1999-03-16 | 2003-03-11 | The Regents Of The University Of California | Glycosylated polyamines and methods of use therefor |
-
1999
- 1999-12-03 JP JP34485499A patent/JP2001166464A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6420344B1 (en) | 1999-03-16 | 2002-07-16 | The Regents Of The University Of California | Glycosylated polyamines |
US6531454B1 (en) | 1999-03-16 | 2003-03-11 | The Regents Of The University Of California | Glycosylated polyamines and methods of use therefor |
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