JP2001055447A - アリールシラン化合物、発光素子材料およびそれを使用した発光素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】新規アリールシラン化合物、発光特性が良好な
発光素子およびそれを可能にする発光素子用材料を提供
する。 【解決手段】下記一般式（１）および（２）で表される
繰り返し単位をそれぞれ一つ以上含む化合物、該化合物
から成る発光素子材料、並びに該発光素子材料を含む発
光素子。 【化１】 （Ｒ¹，Ｒ²は置換基を表す。Ａｒ¹，Ａｒ²はアリーレン
連結基またはヘテロアリーレン連結基を表す。Ｒ³，Ｒ⁴
は水素原子または置換基を表す。Ｒ⁵，Ｒ⁶は置換基を表
す。ｍ，ｎは０〜３の整数を表す。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、新規シラン化合
物、電気エネルギーを光に変換して発光できる発光素子
用材料および発光素子に関し、表示素子、ディスプレ
イ、バックライト、電子写真、照明光源、記録光源、読
み取り光源、標識、看板、インテリア等の分野に好適に
使用できる発光素子に関する。

【０００２】

【従来の技術】今日、種々の表示素子に関する研究開発
が活発であり、中でも有機電界発光（有機エレクトロル
ミネッセンス）素子は、低電圧で高輝度の発光を得るこ
とができるため、有望な表示素子として注目されてい
る。例えば、有機化合物の蒸着により有機薄膜を形成す
る発光素子が知られている（アプライド フィジックス
レターズ，５１巻，９１３頁，１９８７年）。この文献
に記載された発光素子はトリス（８−ヒドロキシキノリ
ナト）アルミニウム錯体（Ａｌｑ）を電子輸送材料とし
て用い、正孔輸送材料（アミン化合物）と積層させるこ
とにより、従来の単層型素子に比べて発光特性を大幅に
向上させている。

【０００３】［有機］発光素子において高輝度発光を実
現しているものは有機物質を真空蒸着によって積層して
いる素子であるが、製造工程の簡略化、加工性、大面積
化等の観点から塗布方式による素子作製が望ましい。し
かしながら、従来の塗布方式で作製した素子では特に青
色発光素子では、発光輝度、発光効率の点で蒸着方式で
作製した素子に劣っており、新規青色発光材料の開発が
望まれていた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、新規
アリールシラン化合物、発光特性が良好な発光素子およ
びそれを可能にする発光素子用材料の提供にある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】この課題は下記手段によ
って達成された。 下記一般式（１）で表される繰り返し単位と下記一般
式（２）で表される繰り返し単位をそれぞれ一つ以上含
む化合物。

【０００６】

【化２】

【０００７】Ｒ¹，Ｒ²は置換基を表す。Ａｒ¹，Ａｒ²は
アリーレン連結基またはヘテロアリーレン連結基を表
す。Ｒ³，Ｒ⁴は水素原子または置換基を表す。Ｒ⁵，Ｒ⁶
は置換基を表す。ｍ，ｎは０〜３の整数を表す。 ポリスチレン換算重量平均分子量が１，０００〜５，
０００，０００であることを特徴とするに記載の化合
物。 蛍光極大波長λｍａｘが４００〜５００ｎｍであるこ
とを特徴とするまたはに記載の化合物。 ，またはのいずれかに記載の化合物から成る発
光素子材料 一対の電極間に発光層もしくは発光層を含む複数の有
機化合物薄層を形成した発光素子において、少なくとも
一層がに記載の発光素子材料を少なくとも一種含有す
る層であることを特徴とする発光素子。 に記載の発光素子材料を塗布プロセスで成膜し、か
つ、に記載の発光素子材料を発光層に少なくとも一種
含有するに記載の発光素子。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の化合物は、一般式（１）で表される繰り
返し単位と一般式（２）で表される繰り返し単位をそれ
ぞれ一つ以上含む化合物である。

【０００９】

【化３】

【００１０】一般式（１）について説明する。Ｒ¹，Ｒ²
は置換基を表す。置換基としては、例えばアルキル基
（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１
〜１２、さらに好ましくは炭素数1〜６、例えばメチル
基、ｔ−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基など
が挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜
３０、より好ましくは炭素数２〜１２、さらに好ましく
は炭素数２〜６、例えば、プロペニル基などが挙げられ
る）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜３０、より
好ましくは炭素数２〜１２、さらに好ましくは炭素数２
〜６、例えば、エチニル基などが挙げられる）、アリー
ル基（好ましくは炭素数６〜４０、より好ましくは炭素
数６〜２０、さらに好ましくは炭素数６〜１２、例え
ば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基などが
挙げられる）、ヘテロアリール基（好ましくは、酸素原
子または硫黄原子または窒素原子を含むものであり、好
ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数２〜２
０、さらに好ましくは炭素数３〜１２、例えば、ピリジ
ル基、チエニル基、カルバゾリル基などが挙げられ
る）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜３０、より
好ましくは炭素数１〜１２、さらに好ましくは炭素数1
〜６、例えばメトキシ基、イソプロポキシ基等が挙げら
れる）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜４
０、より好ましくは炭素数６〜２０、さらに好ましくは
炭素数６〜１２、例えば、フェノキシ基、ナフトキシ
基、ピレニルオキシ基などが挙げられる）、ヘテロ環基
（好ましくは、酸素原子または硫黄原子または窒素原子
を含むものであり、好ましくは炭素数１〜４０、より好
ましくは炭素数２〜２０、さらに好ましくは炭素数３〜
１２、例えば、ピペリジル基、モルホリノ基等が挙げら
れる）、シリル基（好ましくは炭素数１〜３０、特に好
ましくは炭素数３〜２０、さらに好ましくは炭素数３〜
１２、例えばトリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチル
シリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）な
どが挙げられる。これらの置換基はさらに置換基を有し
ていてもよい。

【００１１】Ｒ¹，Ｒ²は、好ましくは、アルキル基、ア
ルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキ
シ基であリ、より好ましくは、アルキル基、アリール
基、ヘテロアリール基であり、さらに好ましくはアリー
ル基、ヘテロアリール基、特に好ましくはアリール基で
ある。

【００１２】Ａｒ¹，Ａｒ²はそれぞれアリーレン基（好
ましくは炭素数６〜４０、より好ましくは炭素数６〜３
０さらに好ましくは炭素数６〜１２、例えば、フェニレ
ン、ナフタレン、アントラセニレン、ピレニレンな
ど）、又は、ヘテロアリーレン基（好ましくは、酸素原
子、硫黄原子、窒素原子のいずれかを含み、好ましくは
炭素数１〜５０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に
好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばイミダゾリレ
ン、ピリジレン、ピラジレン、フリレン、ベンズアゾレ
ン（ベンズオキサゾレン、ベンズイミダゾリレン、ベン
ズチアゾリレン好ましくはベンズオキサゾレン、ベンズ
イミダゾリレン、より好ましくは、ベンズイミダゾリレ
ン）、トリアゾリレン基などが挙げられる。）を表す。

【００１３】Ａｒ¹，Ａｒ²は、好ましくは、アリーレン
基、含窒素ヘテロアリーレン基であり、より好ましくは
アリーレン基であり、さらに好ましくは、フェニレン基
であり、特に好ましくは無置換ｐ−フェニレン基であ
る。

【００１４】一般式（２）について説明する。Ｒ³，Ｒ⁴
は水素原子または置換基を表す。置換基としては例えば
アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましく
は炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１０であ
り、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒ
ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデ
シル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ルなどが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭
素数２〜３０、より好ましくは炭素数２〜２０、特に好
ましくは炭素数２〜１０であり、例えばビニル、アリ
ル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられ
る。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜３０、よ
り好ましくは炭素数２〜２０、特に好ましくは炭素数２
〜１０であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルな
どが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６
〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましく
は炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチル
フェニル、ナフチル、アントラニルなどが挙げられ
る。）、アミノ基（好ましくは炭素数０〜３０、より好
ましくは炭素数０〜２０、特に好ましくは炭素数０〜１
０であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミ
ノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノ、ジフェニルア
ミノ、ジトリルアミノなどが挙げられる。）、アルコキ
シ基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素
数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１０であり、例
えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ、２−エチルヘキシ
ロキシなどが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ま
しくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２
０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェ
ニルオキシ、１−ナフチルオキシ、２−ナフチルオキシ
などが挙げられる。）、ヘテロアリールオキシ基（好ま
しくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２
０、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばピリ
ジルオキシ、ピラジルオキシ、ピリミジルオキシ、キノ
リルオキシなどが挙げられる。）、アシル基（好ましく
は炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特
に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、
ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられ
る。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２
〜３０、より好ましくは炭素数２〜２０、特に好ましく
は炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、
エトキシカルボニルなどが挙げられる。）、アリールオ
キシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜３０、より好
ましくは炭素数７〜２０、特に好ましくは炭素数７〜１
２であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げ
られる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜３
０、より好ましくは炭素数２〜２０、特に好ましくは炭
素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオ
キシなどが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましく
は炭素数２〜３０、より好ましくは炭素数２〜２０、特
に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルア
ミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。）、アルコ
キシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０、
より好ましくは炭素数２〜２０、特に好ましくは炭素数
２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノなど
が挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基
（好ましくは炭素数７〜３０、より好ましくは炭素数７
〜２０、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えば
フェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられ
る。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３
０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭
素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、
ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。）、スル
ファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０、より好まし
くは炭素数０〜２０、特に好ましくは炭素数０〜１２で
あり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、
ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなど
が挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数
１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好まし
くは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチ
ルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカル
バモイルなどが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ま
しくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２
０、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチ
ルチオ、エチルチオなどが挙げられる。）、アリールチ
オ基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素
数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例
えばフェニルチオなどが挙げられる。）、ヘテロアリー
ルチオ基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは
炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１２であ
り、例えばピリジルチオ、２−ベンズイミゾリルチオ、
２−ベンズオキサゾリルチオ、２−ベンズチアゾリルチ
オなどが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭
素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好
ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシル
などが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭
素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好
ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィ
ニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。）、ウ
レイド基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは
炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１２であ
り、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイ
ドなどが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは
炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に
好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン
酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられ
る。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子
（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ
基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、
イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、よ
り好ましくは炭素数１〜１２であり、ヘテロ原子として
は、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には
例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、チ
エニル、ピペリジル、モルホリノ、ベンズオキサゾリ
ル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げ
られる。）、シリル基（好ましくは炭素数３〜４０、よ
り好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは炭素数３
〜２４であり、例えばトリメチルシリル、トリフェニル
シリルなどが挙げられる。）などが挙げられる。これら
の置換基は更に置換されてもよい。

【００１５】Ｒ³，Ｒ⁴は、好ましくは水素原子、アルキ
ル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基で
あり、より好ましくは水素原子、アルキル基であり、さ
らに好ましくはアルキル基である。

【００１６】Ｒ⁵，Ｒ⁶は置換基を表す。置換基としては
例えば前記Ｒ³で記載した基が挙げられる。Ｒ⁵，Ｒ
⁶は、好ましくはアルキル基、アルケニル基、アリール
基、ヘテロアリール基、アルコキシ基であり、より好ま
しくはアルキル基、アリール基であり、さらに好ましく
はアルキル基である。

【００１７】ｍ，ｎは０〜３の整数を表す。ｍ，ｎが２
以上の場合、複数のＲ⁵，Ｒ⁶は同じであっても異なって
もよい。ｍ，ｎは、好ましくは０，１であり、より好ま
しくは０である。

【００１８】本発明の化合物は、一般式（１）で表され
る繰り返し単位を２つ以上有することが好ましく、４つ
以上有することがより好ましい。また、一般式（２）で
表される繰り返し単位を２つ以上有することが好まし
く、４つ以上有することがより好ましい。本発明の化合
物は、一般式（１）、（２）の繰り返し単位を主鎖、側
鎖のどちらに有していてもよいが、一般式（１）、
（２）の繰り返し単位を主鎖上に有することが好まし
い。

【００１９】本発明の化合物の重量平均分子量（ポリス
チレン換算）は、好ましくは１，０００〜５，０００，
０００、より好ましくは２，０００〜１，０００，００
０、さらに好ましくは３，０００〜１００，０００であ
る。

【００２０】本発明の化合物は、その蛍光スペクトルの
λｍａｘ（最大発光波長）が４００〜５００ｎｍである
ことが好ましく、４００〜４８０ｎｍであることがより
好ましく、４００〜４６０ｎｍであることがさらに好ま
しい。

【００２１】次に一般式（１）の化合物例を示すが、本
発明はこれに限定されるものではない。

【００２２】

【化４】

【００２３】

【化５】

【００２４】

【化６】

【００２５】

【化７】

【００２６】次に、本発明の化合物の製造方法について
述べる。本発明の化合物は、種々の公知の手法で合成可
能であり、例えば、アリールハライドをニッケルまたは
銅誘導体存在下ホモカップリングし炭素炭素結合を生成
する合成（重合）法、アリールハライド誘導体とビニル
ベンゼン誘導体をパラジウム触媒存在下反応させ炭素炭
素結合を生成する合成（重合）法、ホウ酸誘導体または
ホウ酸エステル誘導体とアリールハライド誘導体または
アリールトリフラート誘導体をパラジウム触媒存在下反
応させカップリングさせ炭素炭素結合を生成する重合
法、アルキルハライド誘導体同士を塩基存在下反応さ
せ、炭素炭素結合を生成する合成（重合）法が挙げられ
るが、パラジウム触媒存在下炭素炭素結合を生成する合
成（重合）法好ましい。ホウ酸誘導体とアリールハライ
ド誘導体をパラジウム触媒存在下重合する手法がさらに
好ましい。

【００２７】ホウ酸誘導体としては、置換または無置換
のアリールホウ酸誘導体（例えば、１，４−フェニルジ
ホウ酸、４，４′−ビフェニルジホウ酸等が挙げられ
る）、ヘテロアリールホウ酸誘導体（例えばピリジルジ
ホウ酸などが挙げられる）などが挙げられる。ホウ酸エ
ステル誘導体としては、置換または無置換のアリールホ
ウ酸エステル誘導体（例えば、フェニルジホウ酸ピナコ
ールエステル）、ヘテロアリールホウ酸エステル誘導体
（例えばピリジルジホウ酸ピナコールエステル誘導体）
などが挙げられる。

【００２８】アリールハライド誘導体のハロゲン原子
は、好ましくは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であ
り、特に好ましくは臭素原子である。アリールハライド
誘導体としては、例えば、ジブロモベンゼン誘導体、ジ
ブロモビフェニル誘導体等が挙げられる。アリールトリ
フラート誘導体としては、例えば、ジトリフルオロメタ
ンスルホニルベンゼン誘導体等が挙げられる。

【００２９】パラジウム触媒としては、特に限定しない
が、例えば、パラジウムテトラキストリフェニルホスフ
ィン、パラジウムカーボン、酢酸パラジウム、パラジウ
ムジクロライド（ｄｐｐｆ）（ｄｐｐｆ：１，１’−ビ
スジフェニルホスフィノフェロセン）などが挙げられ
る。トリフェニルホスフィンなどの配位子を同時に添加
しても良い。

【００３０】本反応は、塩基を用いたほうが好ましい。
用いる塩基の種類は特に限定しないが、例えば、炭酸ナ
トリウム、酢酸ナトリウム、トリエチルアミンなどが挙
げられる。用いる塩基の量は特に限定しないが、ホウ酸
（エステル）部位に対して、好ましくは０．１〜２０当
量、特に好ましくは１〜１０当量である。

【００３１】本反応は溶媒を用いた方が好ましい。用い
る溶媒は特に限定しないが、例えば、エタノール、水、
エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル、ジメチルホルムアミド、トル
エン、テトラヒドロフラン及びそれらの混合溶媒を用い
ることができる。

【００３２】次に、本発明の化合物を含有する発光素子
に関して説明する。本発明の発光素子は、本発明の化合
物を利用する素子であればシステム、駆動方法、利用形
態など特に問わないが、本発明の化合物からの発光を利
用するもの、または本化合物を電荷輸送材料として利用
する物が好ましい。代表的な発光素子として有機エレク
トロルミネッセンス（ＥＬ）素子を挙げることができ
る。

【００３３】本発明の化合物を含有する発光素子の有機
層の形成方法は、特に限定されるものではないが、抵抗
加熱蒸着、電子ビーム、スパッタリング、分子積層法、
コーティング法、インクジェット法などの方法が用いら
れ、特性面、製造面で抵抗加熱蒸着、コーティング法が
好ましく、コーティング法がより好ましい。

【００３４】本発明の発光素子は陽極、陰極の一対の電
極間に発光層もしくは発光層を含む複数の有機化合物薄
膜を形成した素子であり、発光層のほか正孔注入層、正
孔輸送層、電子注入層、電子輸送層、保護層などを有し
てもよく、またこれらの各層はそれぞれ他の機能を備え
たものであってもよい。各層の形成にはそれぞれ種々の
材料を用いることができる。

【００３５】陽極は正孔注入層、正孔輸送層、発光層な
どに正孔を供給するものであり、金属、合金、金属酸化
物、電気伝導性化合物、またはこれらの混合物などを用
いることができ、好ましくは仕事関数が４ｅＶ以上の材
料である。具体例としては酸化スズ、酸化亜鉛、酸化イ
ンジウム、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等の導電性金
属酸化物、あるいは金、銀、クロム、ニッケル等の金
属、さらにこれらの金属と導電性金属酸化物との混合物
または積層物、ヨウ化銅、硫化銅などの無機導電性物
質、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロールなど
の有機導電性材料、およびこれらとＩＴＯとの積層物な
どが挙げられ、好ましくは、導電性金属酸化物であり、
特に、生産性、高導電性、透明性等の点からＩＴＯが好
ましい。陽極の膜厚は材料により適宜選択可能である
が、通常１０ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、よ
り好ましくは５０ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは
１００ｎｍ〜５００ｎｍである。

【００３６】陽極は通常、ソーダライムガラス、無アル
カリガラス、透明樹脂基板などの上に層形成したものが
用いられる。ガラスを用いる場合、その材質について
は、ガラスからの溶出イオンを少なくするため、無アル
カリガラスを用いることが好ましい。また、ソーダライ
ムガラスを用いる場合、シリカなどのバリアコートを施
したものを使用することが好ましい。基板の厚みは、機
械的強度を保つのに十分であれば特に制限はないが、ガ
ラスを用いる場合には、通常０．２ｍｍ以上、好ましく
は０．７ｍｍ以上のものを用いる。陽極の作製には材料
によって種々の方法が用いられるが、例えばＩＴＯの場
合、電子ビーム法、スパッタリング法、抵抗加熱蒸着
法、化学反応法（ゾルーゲル法など）、酸化インジウム
スズの分散物の塗布などの方法で膜形成される。陽極は
洗浄その他の処理により、素子の駆動電圧を下げたり、
発光効率を高めることも可能である。例えばＩＴＯの場
合、ＵＶ−オゾン処理、プラズマ処理などが効果的であ
る。

【００３７】陰極は電子注入層、電子輸送層、発光層な
どに電子を供給するものであり、電子注入層、電子輸送
層、発光層などの負極と隣接する層との密着性やイオン
化ポテンシャル、安定性等を考慮して選ばれる。陰極の
材料としては金属、合金、金属ハロゲン化物、金属酸化
物、電気伝導性化合物、またはこれらの混合物を用いる
ことができ、具体例としてはアルカリ金属（例えばＬ
ｉ、Ｎａ、Ｋ等）及びそのフッ化物、アルカリ土類金属
（例えばＭｇ、Ｃａ等）及びそのフッ化物、金、銀、
鉛、アルミニウム、ナトリウム−カリウム合金またはそ
れらの混合金属、リチウム−アルミニウム合金またはそ
れらの混合金属、マグネシウム−銀合金またはそれらの
混合金属、インジウム、イッテリビウム等の希土類金属
等が挙げられ、好ましくは仕事関数が４ｅＶ以下の材料
であり、より好ましくはアルミニウム、リチウム−アル
ミニウム合金またはそれらの混合金属、マグネシウム−
銀合金またはそれらの混合金属等である。陰極は、上記
化合物及び混合物の単層構造だけでなく、上記化合物及
び混合物を含む積層構造を取ることもできる。陰極の膜
厚は材料により適宜選択可能であるが、通常１０ｎｍ〜
５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５０ｎ
ｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１００ｎｍ〜１μｍ
である。陰極の作製には電子ビーム法、スパッタリング
法、抵抗加熱蒸着法、コーティング法などの方法が用い
られ、金属を単体で蒸着することも、二成分以上を同時
に蒸着することもできる。さらに、複数の金属を同時に
蒸着して合金電極を形成することも可能であり、またあ
らかじめ調整した合金を蒸着させてもよい。陽極及び陰
極のシート抵抗は低い方が好ましく、数百Ω／□以下が
好ましい。

【００３８】発光層の材料は、電界印加時に陽極または
正孔注入層、正孔輸送層から正孔を注入することができ
ると共に陰極または電子注入層、電子輸送層から電子を
注入することができる機能や、注入された電荷を移動さ
せる機能、正孔と電子の再結合の場を提供して発光させ
る機能を有する層を形成することができるものであれば
何でもよい。例えばベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾ
イミダゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、スチリ
ルベンゼン誘導体、ポリフェニル誘導体、ジフェニルブ
タジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、ナ
フタルイミド誘導体、クマリン誘導体、ペリレン誘導
体、ペリノン誘導体、オキサジアゾール誘導体、アルダ
ジン誘導体、ピラリジン誘導体、シクロペンタジエン誘
導体、ビススチリルアントラセン誘導体、キナクリドン
誘導体、ピロロピリジン誘導体、チアジアゾロピリジン
誘導体、シクロペンタジエン誘導体、スチリルアミン誘
導体、芳香族ジメチリディン化合物、８−キノリノール
誘導体の金属錯体や希土類錯体に代表される各種金属錯
体等、ポリチオフェン、ポリフェニレン、ポリフェニレ
ンビニレン等のポリマー化合物、有機シラン誘導体、本
発明の化合物等が挙げられる。発光層の膜厚は特に限定
されるものではないが、通常１ｎｍ〜５μｍの範囲のも
のが好ましく、より好ましくは５ｎｍ〜１μｍであり、
更に好ましくは１０ｎｍ〜５００ｎｍである。発光層の
形成方法は、特に限定されるものではないが、抵抗加熱
蒸着、電子ビーム、スパッタリング、分子積層法、コー
ティング法（スピンコート法、キャスト法、ディップコ
ート法など）、インクジェット法、ＬＢ法などの方法が
用いられ、好ましくは抵抗加熱蒸着、コーティング法で
ある。

【００３９】正孔注入層、正孔輸送層の材料は、陽極か
ら正孔を注入する機能、正孔を輸送する機能、陰極から
注入された電子を障壁する機能のいずれか有しているも
のであればよい。その具体例としては、カルバゾール誘
導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキ
サジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリー
ルアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導
体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導
体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン
誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチ
ルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化
合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系
化合物、ポルフィリン系化合物、ポリシラン系化合物、
ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）誘導体、アニリン系共
重合体、チオフェンオリゴマー、ポリチオフェン等の導
電性高分子オリゴマー、有機シラン誘導体、本発明の化
合物等が挙げられる。正孔注入層、正孔輸送層の膜厚は
特に限定されるものではないが、通常１ｎｍ〜５μｍの
範囲のものが好ましく、より好ましくは５ｎｍ〜１μｍ
であり、更に好ましくは１０ｎｍ〜５００ｎｍである。
正孔注入層、正孔輸送層は上述した材料の１種または２
種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成ま
たは異種組成の複数層からなる多層構造であってもよ
い。正孔注入層、正孔輸送層の形成方法としては、真空
蒸着法やＬＢ法、前記正孔注入輸送剤を溶媒に溶解また
は分散させてコーティングする方法（スピンコート法、
キャスト法、ディップコート法など）、インクジェット
法が用いられる。コーティング法の場合、樹脂成分と共
に溶解または分散することができ、樹脂成分としては例
えば、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリスチレ
ン、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレ
ート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオ
キシド、ポリブタジエン、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾー
ル）、炭化水素樹脂、ケトン樹脂、フェノキシ樹脂、ポ
リアミド、エチルセルロース、酢酸ビニル、ＡＢＳ樹
脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル
樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂など
が挙げられる。

【００４０】電子注入層、電子輸送層の材料は、陰極か
ら電子を注入する機能、電子を輸送する機能、陽極から
注入された正孔を障壁する機能のいずれか有しているも
のであればよい。その具体例としては、トリアゾール誘
導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、
フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ア
ントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピラン
ジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニ
リデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフ
タレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、フ
タロシアニン誘導体、８−キノリノール誘導体の金属錯
体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベン
ゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種
金属錯体、有機シラン誘導体、本発明の化合物等が挙げ
られる。電子注入層、電子輸送層の膜厚は特に限定され
るものではないが、通常１ｎｍ〜５μｍの範囲のものが
好ましく、より好ましくは５ｎｍ〜１μｍであり、更に
好ましくは１０ｎｍ〜５００ｎｍである。電子注入層、
電子輸送層は上述した材料の１種または２種以上からな
る単層構造であってもよいし、同一組成または異種組成
の複数層からなる多層構造であってもよい。電子注入
層、電子輸送層の形成方法としては、真空蒸着法やＬＢ
法、前記電子注入輸送剤を溶媒に溶解または分散させて
コーティングする方法（スピンコート法、キャスト法、
ディップコート法など）、インクジェット法などが用い
られる。コーティング法の場合、樹脂成分と共に溶解ま
たは分散することができ、樹脂成分としては例えば、正
孔注入輸送層の場合に例示したものが適用できる。

【００４１】保護層の材料としては水分や酸素等の素子
劣化を促進するものが素子内に入ることを抑止する機能
を有しているものであればよい。その具体例としては、
Ｉｎ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ａｕ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｎ
ｉ等の金属、ＭｇＯ、ＳｉＯ、ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｇ
ｅＯ、ＮｉＯ、ＣａＯ、ＢａＯ、Ｆｅ₂Ｏ₃、Ｙ₂Ｏ₃、Ｔ
ｉＯ₂等の金属酸化物、ＭｇＦ₂、ＬｉＦ、ＡｌＦ₃、Ｃ
ａＦ₂等の金属フッ化物、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリメチルメタクリレート、ポリイミド、ポリウレ
ア、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフル
オロエチレン、ポリジクロロジフルオロエチレン、クロ
ロトリフルオロエチレンとジクロロジフルオロエチレン
との共重合体、テトラフルオロエチレンと少なくとも１
種のコモノマーとを含むモノマー混合物を共重合させて
得られる共重合体、共重合主鎖に環状構造を有する含フ
ッ素共重合体、吸水率１％以上の吸水性物質、吸水率
０．１％以下の防湿性物質等が挙げられる。保護層の形
成方法についても特に限定はなく、例えば真空蒸着法、
スパッタリング法、反応性スパッタリング法、ＭＢＥ
（分子線エピタキシ）法、クラスターイオンビーム法、
イオンプレーティング法、プラズマ重合法（高周波励起
イオンプレーティング法）、プラズマＣＶＤ法、レーザ
ーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、ガスソースＣＶＤ法、コーテ
ィング法を適用できる。

【００４２】

【実施例】以下に本発明の具体的実施例を述べるが、本
発明の実施の態様はこれらに限定されない。 （１−１）の合成 ビスブロモフェニルジフェニルシランａ０．８７ｇ、ビ
スボリックアシッドピナコールエステル誘導体ｂ１．０
ｇ、炭酸ナトリウム０．７５ｇ、トリフェニルホスフィ
ン０．１４ｇ、パラジウムカーボン０．０５ｇにジエチ
レングリコールジメチルエーテル２０ｍｌを加え還流攪
拌した。８時間後、反応溶液をクロロホルム２００ｍ
ｌ、水２００ｍｌで希釈し、セライトろ過した。有機層
を水２００ｍｌで２回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し
た。溶媒を濃縮し、残さにメタノール３００ｍｌを加
え、析出した固体を濾別した。白色固体（１−１）１．
２ｇが得られた。ＧＰＣを測定したところ、ポリスチレ
ン換算分子量Ｍｗ＝６９００であった。また、（１−
１）４０ｍｇをジクロロエタン３ｍｌに溶解し、２００
０ｒｐｍ，１０秒でスピンコートし作製した薄膜の膜蛍
光極大波長λｍａｘは４０３ｎｍであった。

【００４３】

【化８】

【００４４】比較例１ 洗浄したＩＴＯ基板上に、Ｂａｙｔｒｏｎ Ｐ（ＰＥＤ
ＯＴ−ＰＳＳ溶液（ポリジオキシエチレンチエニレン−
ポリスチレンスルホン酸ドープ体）／バイエル社製）を
２０００ｒｐｍ、６０秒でスピンコートした後、１００
℃で１時間真空乾燥し、ホール輸送性膜を作製した（膜
厚約４０ｎｍ）。化合物ｃ（Ｍｗ＝６３００）４０ｍｇ
をジクロロエタン３ｍｌに溶解し、先に作製したＰＥＤ
ＯＴ−ＰＳＳ層上にスピンコートした（２０００ｒｐ
ｍ，２０秒）。有機薄膜上にパターニングしたマスク
（発光面積が４ｍｍ×５ｍｍとなるマスク）を設置し、
蒸着装置内でマグネシウム：銀＝１０：１を５０ｎｍ共
蒸着した後、銀５０ｎｍを蒸着した。東陽テクニカ製ソ
ースメジャーユニット２４００型を用いて、直流定電圧
をＥＬ素子に印加し発光させ、その輝度をトプコン社の
輝度計ＢＭ−８、発光波長を浜松フォトニクス社製スペ
クトルアナライザーＰＭＡ−１１を用いて測定した。そ
の結果、色度値（０．１９，０．２２）の青緑色発光が
得られ、１１Ｖで１２２ｃｄ／ｍ² の輝度が得られた。

【００４５】

【化９】

【００４６】実施例１ 化合物ｃの代わりに、本発明の化合物（１−１）を用
い、比較例１と同様に素子作製評価した。その結果、色
度値（０．１４，０．１０）の色純度の高い青色発光が
得られ、１３Ｖで３１０ｃｄ／ｍ² の輝度が得られた。

【００４７】実施例２ 化合物ｃの代わりに、本発明の化合物（１−１１）を用
い、比較例１と同様に素子作製評価した。その結果、色
度値（０．１５，０．１５）の色純度の高い青色発光が
得られ、１３Ｖで６６０ｃｄ／ｍ² の輝度が得られた。

【００４８】実施例３ ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）４０ｍｇ、（１−１
２）１２ｍｇを１，２−ジクロロエタン４ｍｌに溶解
し、洗浄したＩＴＯ基板上にスピンコートした。生成し
た有機薄膜の膜厚は、約７０ｎｍであった。この上に、
化合物ｄを４０ｎｍ蒸着し、比較例１と同様に陰極を蒸
着した。比較例１と同様に評価し、その結果、色度値
（０．１５，０．１６）の青色発光が得られ、１０Ｖで
１０９０ｃｄ／ｍ² の輝度が得られた。

【００４９】

【化１０】

【００５０】同様に、本発明の化合物含有ＥＬ素子を作
製・評価したところ、本発明の化合物がＥＬ素子材料と
して機能することが確認できた。特に、色純度の高い青
色発光素子を作製できることが分かった。

【００５１】

【発明の効果】本発明の化合物は有機ＥＬ用材料として
使用可能であり、本発明の化合物を含有する素子は色相
などのＥＬ特性に優れる。また、本発明の化合物は医療
用途、蛍光増白剤、写真用材料、ＵＶ吸収材料、レーザ
ー色素、カラーフィルター用染料、色変換フィルター等
にも適用可能である。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０９Ｋ 11/06 ６６０ Ｃ０９Ｋ 11/06 ６６０ ６８０ ６８０ Ｈ０５Ｂ 33/10 Ｈ０５Ｂ 33/10 33/14 33/14 Ｂ 33/22 33/22 Ｄ

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式（１）で表される繰り返し単
   位と下記一般式（２）で表される繰り返し単位をそれぞ
   れ一つ以上含む化合物。 【化１】 Ｒ¹，Ｒ²は置換基を表す。Ａｒ¹，Ａｒ²はアリーレン連
   結基またはヘテロアリーレン連結基を表す。Ｒ³，Ｒ⁴は
   水素原子または置換基を表す。Ｒ⁵，Ｒ⁶は置換基を表
   す。ｍ，ｎは０〜３の整数を表す。
2. 【請求項２】 ポリスチレン換算重量平均分子量が１，
   ０００〜５，０００，０００であることを特徴とする請
   求項１に記載の化合物。
3. 【請求項３】 蛍光極大波長λｍａｘが４００〜５００
   ｎｍであることを特徴とする請求項１または２に記載の
   化合物。
4. 【請求項４】 請求項１，２または３のいずれかに記載
   の化合物から成る発光素子材料。
5. 【請求項５】 一対の電極間に発光層もしくは発光層を
   含む複数の有機化合物薄層を形成した発光素子におい
   て、少なくとも一層が請求項４に記載の発光素子材料を
   少なくとも一種含有する層であることを特徴とする発光
   素子。
6. 【請求項６】 請求項４に記載の発光素子材料を塗布プ
   ロセスで成膜し、かつ、請求項４に記載の発光素子材料
   を発光層に少なくとも一種含有する請求項５に記載の発
   光素子。