JP2001042525A - アルカリ現像型感光性樹脂組成物 - Google Patents
アルカリ現像型感光性樹脂組成物Info
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- JP2001042525A JP2001042525A JP11217610A JP21761099A JP2001042525A JP 2001042525 A JP2001042525 A JP 2001042525A JP 11217610 A JP11217610 A JP 11217610A JP 21761099 A JP21761099 A JP 21761099A JP 2001042525 A JP2001042525 A JP 2001042525A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 プリント配線板用途において、高い生産性と
低コスト化が実現できると共に、十分な耐熱性や耐湿信
頼性を兼備させる。 【解決手段】 クレゾールノボラック型のカルボキシル
基含有光重合性不飽和化合物(I)、1,6−ジヒドロ
キシナフタレン型エポキシ樹脂、及び光重合開始剤を含
有させる。
低コスト化が実現できると共に、十分な耐熱性や耐湿信
頼性を兼備させる。 【解決手段】 クレゾールノボラック型のカルボキシル
基含有光重合性不飽和化合物(I)、1,6−ジヒドロ
キシナフタレン型エポキシ樹脂、及び光重合開始剤を含
有させる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、アルカリ現像型感
光性樹脂組成物に関し、さらに詳しくは、ビルドアップ
多層基板の層間絶縁材料や、プリント配線板の永久絶縁
保護膜として好適に用いられる、アルカリ現像型感光性
樹脂組成物に関するものである。
光性樹脂組成物に関し、さらに詳しくは、ビルドアップ
多層基板の層間絶縁材料や、プリント配線板の永久絶縁
保護膜として好適に用いられる、アルカリ現像型感光性
樹脂組成物に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、電子機器やコンピューターなどに
は、従来に比ぺて一層の小型化、高機能化が要求されて
おり、それにあわせて使用される部品にもより高密度の
ものが求められている。例えば、プリント配線板におい
ても単位容積当たりの配線密度を向上させるために、回
路の微細化及び多層化が進められているが、さらに、ビ
ルドアップ多層基板という超高密度基板が提案され、実
用化が進められている。
は、従来に比ぺて一層の小型化、高機能化が要求されて
おり、それにあわせて使用される部品にもより高密度の
ものが求められている。例えば、プリント配線板におい
ても単位容積当たりの配線密度を向上させるために、回
路の微細化及び多層化が進められているが、さらに、ビ
ルドアップ多層基板という超高密度基板が提案され、実
用化が進められている。
【0003】このビルドアップ多層基板は、従来多層基
板の層間導通に用いられてきたスルーホールに代わり、
内層バイアホールを介して層間導通をとることに特徴が
あり、この内層バイアホールを絶縁層内に設けるための
方法として、例えば、レーザーによる方法が知られてい
るが、この方法ではバイアホール穴明け速度が遅いため
生産性が低く、専用の設備も新たに必要となるためコス
ト高になる欠点があった。そこで、レーザーによる方法
に比べて高い生産性と低コスト化が実現できるバイアホ
ール形成方法として、例えば、特公平8−3633号公
報には、ノボラック型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂に
α,β−エチレン結合を一個有する不飽和カルボン酸を
反応させた後、更に酸無水物で変性した感光性樹脂を用
い、硬化剤としてノボラック型エポキシ樹脂等のエポキ
シ樹脂を用いる方法が開示されている。
板の層間導通に用いられてきたスルーホールに代わり、
内層バイアホールを介して層間導通をとることに特徴が
あり、この内層バイアホールを絶縁層内に設けるための
方法として、例えば、レーザーによる方法が知られてい
るが、この方法ではバイアホール穴明け速度が遅いため
生産性が低く、専用の設備も新たに必要となるためコス
ト高になる欠点があった。そこで、レーザーによる方法
に比べて高い生産性と低コスト化が実現できるバイアホ
ール形成方法として、例えば、特公平8−3633号公
報には、ノボラック型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂に
α,β−エチレン結合を一個有する不飽和カルボン酸を
反応させた後、更に酸無水物で変性した感光性樹脂を用
い、硬化剤としてノボラック型エポキシ樹脂等のエポキ
シ樹脂を用いる方法が開示されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記特公平8
−3633号公報に記載された感光性樹脂を用いた方法
では、樹脂自体の耐熱性や耐湿信頼性が不十分であり、
その結果、プリント配線板にした際の半田耐熱性に劣る
ものであった。本発明が解決しようとする課題は、プリ
ント配線板用途において、高い生産性と低コスト化が実
現できると共に、十分な耐熱性や耐湿信頼性を有し、半
田耐熱性に優れるアルカリ現像型感光性樹脂組成物を提
供することにある。
−3633号公報に記載された感光性樹脂を用いた方法
では、樹脂自体の耐熱性や耐湿信頼性が不十分であり、
その結果、プリント配線板にした際の半田耐熱性に劣る
ものであった。本発明が解決しようとする課題は、プリ
ント配線板用途において、高い生産性と低コスト化が実
現できると共に、十分な耐熱性や耐湿信頼性を有し、半
田耐熱性に優れるアルカリ現像型感光性樹脂組成物を提
供することにある。
【0005】
【課題を解決する手段】本発明者等は、上記課題を解決
するため鋭意検討した結果、カルボキシル基含有光重合
性不飽和化合物と共に、その硬化剤として縮合多環芳香
族骨格を含有するエポキシ樹脂を用いることにより耐熱
性や耐湿信頼性を飛躍的に高めることができることを見
出し、本発明を完成するに至った。
するため鋭意検討した結果、カルボキシル基含有光重合
性不飽和化合物と共に、その硬化剤として縮合多環芳香
族骨格を含有するエポキシ樹脂を用いることにより耐熱
性や耐湿信頼性を飛躍的に高めることができることを見
出し、本発明を完成するに至った。
【0006】即ち、本発明は、カルボキシル基含有光重
合性不飽和化合物(a)と、縮合多環芳香族骨格を含有
するエポキシ樹脂(b)と、光重合開始剤(c)とを必
須成分として含有するアルカリ現像型感光性樹脂組成物
に関する。
合性不飽和化合物(a)と、縮合多環芳香族骨格を含有
するエポキシ樹脂(b)と、光重合開始剤(c)とを必
須成分として含有するアルカリ現像型感光性樹脂組成物
に関する。
【0007】
【発明の実施の形態】以下、本発明の内容を詳細に説明
する。本発明のアルカリ現像型感光性樹脂組成物に用い
られるカルボキシル基含有光重合性不飽和化合物(a)
は、特に制限されるものではないが、例えば多官能エポ
キシアクリレート化合物と酸無水物化合物とを反応させ
得ることができる。
する。本発明のアルカリ現像型感光性樹脂組成物に用い
られるカルボキシル基含有光重合性不飽和化合物(a)
は、特に制限されるものではないが、例えば多官能エポ
キシアクリレート化合物と酸無水物化合物とを反応させ
得ることができる。
【0008】ここで使用し得る多官能エポキシアクリレ
ート化合物としては、多官能エポキシ樹脂と不飽和カル
ボン酸とを反応させて得ることができ、使用される多官
能エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型
エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、レゾ
ルシン型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹
脂、ジヒドロキシナフタレン型エポキシ樹脂、ビナフト
ール型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、テ
トラメチルビフェノール型エポキシ樹脂、フェノールノ
ボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、フェ
ノール−ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、アルキ
ルフェノールノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられ
る。
ート化合物としては、多官能エポキシ樹脂と不飽和カル
ボン酸とを反応させて得ることができ、使用される多官
能エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型
エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、レゾ
ルシン型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹
脂、ジヒドロキシナフタレン型エポキシ樹脂、ビナフト
ール型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、テ
トラメチルビフェノール型エポキシ樹脂、フェノールノ
ボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、フェ
ノール−ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、アルキ
ルフェノールノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられ
る。
【0009】上記多官能エポキシ樹脂に反応させる不飽
和カルボン酸としては、1分子中に1個以上の2重結合
とカルボン酸を含有するものであれば特に限定されるも
のではないが、アクリル酸やメタクリル酸などが使用で
きる。
和カルボン酸としては、1分子中に1個以上の2重結合
とカルボン酸を含有するものであれば特に限定されるも
のではないが、アクリル酸やメタクリル酸などが使用で
きる。
【0010】また、上記多官能エポキシアクリレート化
合物に反応させる酸無水物化合物としては、例えば、無
水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フ
フタル酸、無水クロレンド酸、メチルテトラヒドロ無水
フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、
ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、エチレング
リコールビストリメリテートニ無水物、ビフェニルテト
ラカルボン酸二無水物、ビフェニルエーテルテトラカル
ボン酸二無水物等の多塩基酸無水物が挙げられる。
合物に反応させる酸無水物化合物としては、例えば、無
水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フ
フタル酸、無水クロレンド酸、メチルテトラヒドロ無水
フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、
ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、エチレング
リコールビストリメリテートニ無水物、ビフェニルテト
ラカルボン酸二無水物、ビフェニルエーテルテトラカル
ボン酸二無水物等の多塩基酸無水物が挙げられる。
【0011】反応させる酸無水物化合物の割合は、特に
制限されるものではないが、カルボキシル基含有光重合
性不飽和化合物の1水酸基当量に対し、酸無水物基が
0.2〜2.5モルであることが好ましい。即ち、0.
2モル以上においては、アルカリ水溶液に対する溶解性
が一層良好なものとなり、また、2.5モル以下におい
ては安定性が良好となる。
制限されるものではないが、カルボキシル基含有光重合
性不飽和化合物の1水酸基当量に対し、酸無水物基が
0.2〜2.5モルであることが好ましい。即ち、0.
2モル以上においては、アルカリ水溶液に対する溶解性
が一層良好なものとなり、また、2.5モル以下におい
ては安定性が良好となる。
【0012】この様にして得られるカルボキシル基含有
光重合性不飽和化合物(a)は、酸価が、30〜200
mgKOH/gの範囲のものが好ましい。即ち、酸価が
200mgKOH/g以下の範囲では、硬化膜の耐アル
カリ性、電気特性等の特性が良好なものとなり、また、
30mgKOH/g以上の範囲では、アルカリ水溶液に
対する溶解性が著しく良好なものとなる。
光重合性不飽和化合物(a)は、酸価が、30〜200
mgKOH/gの範囲のものが好ましい。即ち、酸価が
200mgKOH/g以下の範囲では、硬化膜の耐アル
カリ性、電気特性等の特性が良好なものとなり、また、
30mgKOH/g以上の範囲では、アルカリ水溶液に
対する溶解性が著しく良好なものとなる。
【0013】次に、縮合多環芳香族骨格を含有するエポ
キシ樹脂(b)は、1分子中に少なくとも1個以上のエ
ポキシ基を含有する化合物であって、かつナフタレン骨
格やアントラセン骨格などの縮合多環芳香族骨格を含有
するものであればよく、例えば、芳香族性水酸基を含有
する縮合多環芳香族化合物をエピハロヒドリンと反応さ
せて得ることができる。
キシ樹脂(b)は、1分子中に少なくとも1個以上のエ
ポキシ基を含有する化合物であって、かつナフタレン骨
格やアントラセン骨格などの縮合多環芳香族骨格を含有
するものであればよく、例えば、芳香族性水酸基を含有
する縮合多環芳香族化合物をエピハロヒドリンと反応さ
せて得ることができる。
【0014】この様な縮合多環芳香族骨格を含有するエ
ポキシ樹脂(b)としては、具体的には、1,2−、
1,3−、1,4−、1,5−、1,6−、2,3−、
2,6−、2,7−ジヒドロキシナフタレンとエピハロ
ヒドリンとの反応物である2官能エポキシ樹脂;1−ナ
フトール又は2−ナフトールとアルデヒド類などの縮合
物(すなわちナフトールノボラック樹脂)とエピハロヒ
ドリンとの反応物;1,2−、1,3−、1,4−、
1,5−、1,6−、2,3−、2,6−、2,7−ジ
ヒドロキシナフタレンとアルデヒド類との縮合物とエピ
ハロヒドリンの反応物;モノナフトールと上記のジヒド
ロキシナフタレンとのアルデヒド類との縮合物とエピハ
ロヒドリンの反応物;モノ又はジヒドロキシナフタレン
とキシリレングリコール類との縮合物とエピハロヒドリ
ンとの反応物;モノ又はジヒドロキシナフタレンとジエ
ン化合物との付加物とエピハロヒドリンとの反応物;ナ
フトール同士が直接カップリングしたポリナフトール
類、例えば2−ナフトールの1位どうしが直接カップリ
ングしたビナフトールとエピハロヒドリンとの反応物等
が挙げられる。
ポキシ樹脂(b)としては、具体的には、1,2−、
1,3−、1,4−、1,5−、1,6−、2,3−、
2,6−、2,7−ジヒドロキシナフタレンとエピハロ
ヒドリンとの反応物である2官能エポキシ樹脂;1−ナ
フトール又は2−ナフトールとアルデヒド類などの縮合
物(すなわちナフトールノボラック樹脂)とエピハロヒ
ドリンとの反応物;1,2−、1,3−、1,4−、
1,5−、1,6−、2,3−、2,6−、2,7−ジ
ヒドロキシナフタレンとアルデヒド類との縮合物とエピ
ハロヒドリンの反応物;モノナフトールと上記のジヒド
ロキシナフタレンとのアルデヒド類との縮合物とエピハ
ロヒドリンの反応物;モノ又はジヒドロキシナフタレン
とキシリレングリコール類との縮合物とエピハロヒドリ
ンとの反応物;モノ又はジヒドロキシナフタレンとジエ
ン化合物との付加物とエピハロヒドリンとの反応物;ナ
フトール同士が直接カップリングしたポリナフトール
類、例えば2−ナフトールの1位どうしが直接カップリ
ングしたビナフトールとエピハロヒドリンとの反応物等
が挙げられる。
【0015】ここで、アルデヒド類としては、ホルムア
ルデヒド、アセトアルデヒドやベンズアルデヒドやヒド
ロキシベンズアルデヒドなどが挙げられるが、なかでも
縮合反応時の反応性が良好である点からホルムアルデヒ
ドが好ましい。
ルデヒド、アセトアルデヒドやベンズアルデヒドやヒド
ロキシベンズアルデヒドなどが挙げられるが、なかでも
縮合反応時の反応性が良好である点からホルムアルデヒ
ドが好ましい。
【0016】また、上記したジヒドロキシナフタレン類
とアルデヒド類との縮合物とエピハロヒドリンの反応物
のうち、ジヒドロキシナフタレン類として、2,7−ジ
ヒドロキシナフタレンを用いた場合は、2,7−ジヒド
ロキシナフタレンとアルデヒド類との縮合物が、単一的
にアルキレン基架橋2量体のみとなる為、これとエピハ
ロヒドリンとの反応物は、分子量が小さいが、対称性に
富むため低粘度の割に非常に高いガラス転移温度を得る
ことができ好ましい。
とアルデヒド類との縮合物とエピハロヒドリンの反応物
のうち、ジヒドロキシナフタレン類として、2,7−ジ
ヒドロキシナフタレンを用いた場合は、2,7−ジヒド
ロキシナフタレンとアルデヒド類との縮合物が、単一的
にアルキレン基架橋2量体のみとなる為、これとエピハ
ロヒドリンとの反応物は、分子量が小さいが、対称性に
富むため低粘度の割に非常に高いガラス転移温度を得る
ことができ好ましい。
【0017】上記エポキシ樹脂(b)を製造する方法と
しては、特に制限されるものではなく、既述の通り、芳
香族性水酸基を含有する縮合多環芳香族化合物と、エピ
ハロヒドリンとを反応させる方法が挙げられれるが、具
体的には、芳香族性水酸基を含有する縮合多環芳香族化
合物を、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカ
リ金属水酸化物の存在下、エピクロルヒドリンなどのエ
ピハロヒドリンと反応させる方法が挙げられる。
しては、特に制限されるものではなく、既述の通り、芳
香族性水酸基を含有する縮合多環芳香族化合物と、エピ
ハロヒドリンとを反応させる方法が挙げられれるが、具
体的には、芳香族性水酸基を含有する縮合多環芳香族化
合物を、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカ
リ金属水酸化物の存在下、エピクロルヒドリンなどのエ
ピハロヒドリンと反応させる方法が挙げられる。
【0018】また、縮合多環芳香族化合物がモノ又はジ
ヒドロキシナフタレンとアルデヒド類との縮合物である
場合は、モノ又はジヒドロキシナフタレンをケトン系や
芳香族系の適当な有機溶媒に溶解して、それにシュウ
酸、塩酸、硫酸などの酸触媒や、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム等のアルカリ触媒存在下で、ホルムアルデ
ヒドなどのアルデヒド類を加えて反応させてことによっ
てまず中間体を得て、得られた中間体とエピクロルヒド
リンなどのエピハロヒドリンを反応させることが好まし
い。
ヒドロキシナフタレンとアルデヒド類との縮合物である
場合は、モノ又はジヒドロキシナフタレンをケトン系や
芳香族系の適当な有機溶媒に溶解して、それにシュウ
酸、塩酸、硫酸などの酸触媒や、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム等のアルカリ触媒存在下で、ホルムアルデ
ヒドなどのアルデヒド類を加えて反応させてことによっ
てまず中間体を得て、得られた中間体とエピクロルヒド
リンなどのエピハロヒドリンを反応させることが好まし
い。
【0019】次に、本発明で用いる光重合開始剤(c)
は、一般的にエチレン結合を有する光重合性不飽和化合
物の光重合開始剤として使用されるものであるが、この
ような光重合開始剤としては、アセトフェノン、2、2
−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェ
ノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロ
アセトフェノン、p−tert−ブチルアセトフェノン
等のアセトフェノン類、ベンゾフェノン、2−クロロベ
ンゾフェノン、p,p−ビスジメチルアミノベンゾフェ
ノン等のベンゾフェノン類、ベンジル、ベンゾイン、ベ
ンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエー
テル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエ
ーテル類、ベンジルジメチルケタール、チオキサンソ
ン、2−クロロチオキサンソン、2,4−ジエチルチオ
キサンソン、2−メチルチオキサンソン、2−イソプロ
ピルチオキサンソン等のイオウ化合物、2−エチルアン
トラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2−ベ
ンズアントラキノン、2,3−ジフェニルアントラキノ
ン等のアントラキノン類、ベンゾイルパーオキサイド、
クメンパーオキシド等の有機過酸化物、2−メルカプト
ベンゾイミグゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾー
ル、2−メルカプトベンゾチアゾール等のチオール化合
物、アゾビスイソブチルニトリルなどが挙げられる。こ
れらの化合物は1種のみ単独で使用してもよいし、2種
以上を併用してもよい。
は、一般的にエチレン結合を有する光重合性不飽和化合
物の光重合開始剤として使用されるものであるが、この
ような光重合開始剤としては、アセトフェノン、2、2
−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェ
ノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロ
アセトフェノン、p−tert−ブチルアセトフェノン
等のアセトフェノン類、ベンゾフェノン、2−クロロベ
ンゾフェノン、p,p−ビスジメチルアミノベンゾフェ
ノン等のベンゾフェノン類、ベンジル、ベンゾイン、ベ
ンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエー
テル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエ
ーテル類、ベンジルジメチルケタール、チオキサンソ
ン、2−クロロチオキサンソン、2,4−ジエチルチオ
キサンソン、2−メチルチオキサンソン、2−イソプロ
ピルチオキサンソン等のイオウ化合物、2−エチルアン
トラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2−ベ
ンズアントラキノン、2,3−ジフェニルアントラキノ
ン等のアントラキノン類、ベンゾイルパーオキサイド、
クメンパーオキシド等の有機過酸化物、2−メルカプト
ベンゾイミグゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾー
ル、2−メルカプトベンゾチアゾール等のチオール化合
物、アゾビスイソブチルニトリルなどが挙げられる。こ
れらの化合物は1種のみ単独で使用してもよいし、2種
以上を併用してもよい。
【0020】また、それ自体では光重合開始剤として作
用しないが、上記の化合物と組み合わせて用いることに
より、光重合開始剤の能カを増大させ得るような化合物
を添加することもできる。そのような化合物としては、
例えばベンゾフェノンと組み合わせて使用すると効果の
あるトリエタノールアミン等の第3級アミンなどを挙げ
ることができる。
用しないが、上記の化合物と組み合わせて用いることに
より、光重合開始剤の能カを増大させ得るような化合物
を添加することもできる。そのような化合物としては、
例えばベンゾフェノンと組み合わせて使用すると効果の
あるトリエタノールアミン等の第3級アミンなどを挙げ
ることができる。
【0021】本発明のアルカリ現像型感光性樹脂組成物
は、以上詳述したカルボキシル基含有光重合性不飽和化
合物(a)、縮合多環芳香族骨格を含有するエポキシ樹
脂(b)及び光重合開始剤(c)を主たる成分とするも
のであり、その各成分の配合割合は、例えばカルボキシ
ル基含有光重合性不飽和化合物(a)100重量部に対
し、縮合多環芳香族骨格を含有するエポキシ樹脂(b)
が5〜50重量部、光重合開始剤(c)成分が0.1〜
30重量部なる範囲であることが好ましい。
は、以上詳述したカルボキシル基含有光重合性不飽和化
合物(a)、縮合多環芳香族骨格を含有するエポキシ樹
脂(b)及び光重合開始剤(c)を主たる成分とするも
のであり、その各成分の配合割合は、例えばカルボキシ
ル基含有光重合性不飽和化合物(a)100重量部に対
し、縮合多環芳香族骨格を含有するエポキシ樹脂(b)
が5〜50重量部、光重合開始剤(c)成分が0.1〜
30重量部なる範囲であることが好ましい。
【0022】即ち、化合物(a)100重量部に対し、
縮合多環芳香族骨格を含有するエポキシ樹脂(b)成分
が5重量部以上用いることにより、特に耐アルカリ性が
飛躍的に高まり、また、50重量部以下の範囲において
はアルカリ水溶液に対する溶解性が良好となり現像性が
向上する。
縮合多環芳香族骨格を含有するエポキシ樹脂(b)成分
が5重量部以上用いることにより、特に耐アルカリ性が
飛躍的に高まり、また、50重量部以下の範囲において
はアルカリ水溶液に対する溶解性が良好となり現像性が
向上する。
【0023】また、光重合開始剤(c)成分が0.1重
量部以上の場合は、光重合の速度が高まり、感度が一層
向上する。一方、30重量部以下の範囲においては光が
樹脂層底部まで達しやすくなり、光重合性が良好とな
り、現像マージンが多くなり基板との密着性が高まる。
量部以上の場合は、光重合の速度が高まり、感度が一層
向上する。一方、30重量部以下の範囲においては光が
樹脂層底部まで達しやすくなり、光重合性が良好とな
り、現像マージンが多くなり基板との密着性が高まる。
【0024】これらの性能バランスに優れる点から、な
かでもカルボキシル基含有光重合性不飽和化合物(a)
成分100重量部に対し、縮合多環芳香族骨格を含有す
るエポキシ樹脂(b)10〜30重量部、光重合開始剤
(c)成分が1〜20重量部なる範囲であることが好ま
しい。
かでもカルボキシル基含有光重合性不飽和化合物(a)
成分100重量部に対し、縮合多環芳香族骨格を含有す
るエポキシ樹脂(b)10〜30重量部、光重合開始剤
(c)成分が1〜20重量部なる範囲であることが好ま
しい。
【0025】本発明のアルカリ現像型感光性樹脂組成物
は、エポキシ樹脂成分として、上記(b)成分の他に、
本発明の効果を損なわない範囲で、その他のエポキシ樹
脂を併用してもよい。ここで使用し得るその他のエポキ
シ樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビ
スフェノールF型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ
樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ジヒドロキシ
ナフタレン型エポキシ樹脂、ビナフトール型エポキシ樹
脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、テトラメチルビフェ
ノール型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキ
シ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ナフト
ールノボラック型エポキシ樹脂、フェノール−ジシクロ
ペンタジエン型エポキシ樹脂、アルキルフェノール型エ
ポキシ樹脂などが挙げられる。
は、エポキシ樹脂成分として、上記(b)成分の他に、
本発明の効果を損なわない範囲で、その他のエポキシ樹
脂を併用してもよい。ここで使用し得るその他のエポキ
シ樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビ
スフェノールF型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ
樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ジヒドロキシ
ナフタレン型エポキシ樹脂、ビナフトール型エポキシ樹
脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、テトラメチルビフェ
ノール型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキ
シ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ナフト
ールノボラック型エポキシ樹脂、フェノール−ジシクロ
ペンタジエン型エポキシ樹脂、アルキルフェノール型エ
ポキシ樹脂などが挙げられる。
【0026】また、難燃性を付与するために、テトラブ
ロモビスフェノールAや臭素化フェノールノボラック型
エポキシ樹脂など、上記エポキシ樹脂の臭素置換体も使
用できる。この場合、樹脂組成物中の臭素含有量は、難
燃効果の点から3〜30重量%程度であることが好まし
い。即ち、30重量%より多いとめっき被膜のふくれな
どの問題が起きやすくなる。
ロモビスフェノールAや臭素化フェノールノボラック型
エポキシ樹脂など、上記エポキシ樹脂の臭素置換体も使
用できる。この場合、樹脂組成物中の臭素含有量は、難
燃効果の点から3〜30重量%程度であることが好まし
い。即ち、30重量%より多いとめっき被膜のふくれな
どの問題が起きやすくなる。
【0027】本発明のアルカリ現像型感光性樹脂組成物
は、上記した各成分の他に、他のエチレン結合を有する
光重合性不飽和化合物(d)を使用目的の物性に合わせ
て配合することができる。その場合の配合量は、プレキ
ュアー後のタック性の点からカルボキシル基含有光重合
性不飽和化合物(a)成分100重量部に対し、50重
量部以下であることが好ましい。
は、上記した各成分の他に、他のエチレン結合を有する
光重合性不飽和化合物(d)を使用目的の物性に合わせ
て配合することができる。その場合の配合量は、プレキ
ュアー後のタック性の点からカルボキシル基含有光重合
性不飽和化合物(a)成分100重量部に対し、50重
量部以下であることが好ましい。
【0028】このような光重合性不飽和化合物として
は、例えば2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2
−エチルヘキシル(メタ)アクリレート等の水酸基を有
するモノマー、エチレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テト
ラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラ
メチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチ
ロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロ
ールエタントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリ
トールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール
トリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテト
ラ(メタ)アクリレート、ジペンタエスリトールテトラ
(メタ)アクリレート、ジペンタエスリトールヘキサ
(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレ
ート等の(メタ)アクリル酸エステル類などが挙げられ
る。
は、例えば2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2
−エチルヘキシル(メタ)アクリレート等の水酸基を有
するモノマー、エチレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テト
ラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラ
メチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチ
ロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロ
ールエタントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリ
トールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール
トリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテト
ラ(メタ)アクリレート、ジペンタエスリトールテトラ
(メタ)アクリレート、ジペンタエスリトールヘキサ
(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレ
ート等の(メタ)アクリル酸エステル類などが挙げられ
る。
【0029】また、本発明のアルカリ現像型感光性樹脂
組成物には、必要に応じてエポキシ基硬化促進剤、熱重
合禁止剤、可塑剤、レベリング剤、消泡剤、体質顔料等
の各種添加剤を配合することができる。エポキシ基硬化
促進剤としては、例えばアミン化合物類、イミダゾール
化合物、カルボン酸類、フェノール類、第4級アンモニ
ウム塩類、メチロール基含有化合物類などが挙げられ、
それらを少量併用して塗膜を加熱することにより、得ら
れる絶縁被膜の耐熱性、耐溶剤性、耐酸性、耐メッキ
性、密着性、電気特性及び硬度等の諸特性を向上させる
ことができる。
組成物には、必要に応じてエポキシ基硬化促進剤、熱重
合禁止剤、可塑剤、レベリング剤、消泡剤、体質顔料等
の各種添加剤を配合することができる。エポキシ基硬化
促進剤としては、例えばアミン化合物類、イミダゾール
化合物、カルボン酸類、フェノール類、第4級アンモニ
ウム塩類、メチロール基含有化合物類などが挙げられ、
それらを少量併用して塗膜を加熱することにより、得ら
れる絶縁被膜の耐熱性、耐溶剤性、耐酸性、耐メッキ
性、密着性、電気特性及び硬度等の諸特性を向上させる
ことができる。
【0030】熱重合禁止剤としては、例えばハイドロキ
ノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロー
ル、tert−ブチルカテコール、フェノチアジンなど
が、可塑剤としては、例えばジブチルフタレート、ジオ
クチルフタレート、トリクレジルなどが、消泡剤、レベ
リング剤としては、例えばシリコン系、フッ素系、アク
リル系の化合物などが、体質顔料としては、シリカ、ア
ルミナ、タルク、炭酸カルシウム、クレー、アエロジル
などがそれぞれ挙げられる。
ノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロー
ル、tert−ブチルカテコール、フェノチアジンなど
が、可塑剤としては、例えばジブチルフタレート、ジオ
クチルフタレート、トリクレジルなどが、消泡剤、レベ
リング剤としては、例えばシリコン系、フッ素系、アク
リル系の化合物などが、体質顔料としては、シリカ、ア
ルミナ、タルク、炭酸カルシウム、クレー、アエロジル
などがそれぞれ挙げられる。
【0031】上記各成分からアルカリ現像型感光性樹脂
組成物を調整する方法としては、特に制限されるもので
はないが、上記(a)〜(c)の各成分、更に(d)そ
の他上記した各成分を混合し、3本ロールミルなどで混
練してアルカリ現像型感光性樹脂組成物を調整すること
ができる。
組成物を調整する方法としては、特に制限されるもので
はないが、上記(a)〜(c)の各成分、更に(d)そ
の他上記した各成分を混合し、3本ロールミルなどで混
練してアルカリ現像型感光性樹脂組成物を調整すること
ができる。
【0032】この様にして調整された本発明のアルカリ
現像型感光性樹脂組成物からプリント配線板を製造する
方法は、例えば以下の様にして行うことができる。
現像型感光性樹脂組成物からプリント配線板を製造する
方法は、例えば以下の様にして行うことができる。
【0033】即ち、本発明のアルカリ現像型感光性樹脂
組成物をスクリーン印刷等任意の方法で基板上に塗工
後、溶媒を蒸発させて塗膜をタックフリーにするための
プレキュアーを行い、その後、所望のマスクパターンを
コンタクト(接触)又はオフコンタクト(非接触)の状
態にして組成物の塗膜が形成された基板上に置き、紫外
線を選択的に照射する。ここで、紫外線により露光され
た領域の組成物塗膜の成分は、光重合して架橋構造をと
って不溶化する。次いで非露光領域をアルカリ水溶液を
用いて除去することによって、現像された所望のパター
ンが得られる。
組成物をスクリーン印刷等任意の方法で基板上に塗工
後、溶媒を蒸発させて塗膜をタックフリーにするための
プレキュアーを行い、その後、所望のマスクパターンを
コンタクト(接触)又はオフコンタクト(非接触)の状
態にして組成物の塗膜が形成された基板上に置き、紫外
線を選択的に照射する。ここで、紫外線により露光され
た領域の組成物塗膜の成分は、光重合して架橋構造をと
って不溶化する。次いで非露光領域をアルカリ水溶液を
用いて除去することによって、現像された所望のパター
ンが得られる。
【0034】ここで使用し得るアルカリ水溶液として
は、0.1〜10重量%の水酸化カリウム、水酸化ナト
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム又はモノ
エタノールアミン等のアルカノールアミンの水溶液など
が挙げられる。
は、0.1〜10重量%の水酸化カリウム、水酸化ナト
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム又はモノ
エタノールアミン等のアルカノールアミンの水溶液など
が挙げられる。
【0035】このようにして得られたパターンを、10
0〜200℃の加熱処理や紫外線照射を行って塗膜強度
を向上せしめた後、無電解めっきなどで信号配線の形
成、バイアホール内面めっきなどを行うことにより、耐
湿信頼性、耐熱性に優れたプリント配線板を得ることが
できる。
0〜200℃の加熱処理や紫外線照射を行って塗膜強度
を向上せしめた後、無電解めっきなどで信号配線の形
成、バイアホール内面めっきなどを行うことにより、耐
湿信頼性、耐熱性に優れたプリント配線板を得ることが
できる。
【0036】
【実施例】以下、参考例、実施例及び比較例等に基づい
て、本発明を具体的に説明する。
て、本発明を具体的に説明する。
【0037】 参考例1〔1−ナフトールノボラック樹脂の合成〕 5リットルの4つロフラスコに、1−ナフトール144
0g(10モル)、メチルイソブチルケトン3000g
及びシュウ酸100gを仕込み、窒素気流下、撹拝しな
がら80℃で41%ホルマリン512g(7.0モル)
を1時間要して滴下した。蒸留でメチルイソブチルケト
ンを回収して、さらに水蒸気蒸留により未反応の1−ナ
フトールを除いて1−ナフトールノボラック樹脂138
0gを得た。得られた樹脂の水酸基当量は152g/eq。
であった。
0g(10モル)、メチルイソブチルケトン3000g
及びシュウ酸100gを仕込み、窒素気流下、撹拝しな
がら80℃で41%ホルマリン512g(7.0モル)
を1時間要して滴下した。蒸留でメチルイソブチルケト
ンを回収して、さらに水蒸気蒸留により未反応の1−ナ
フトールを除いて1−ナフトールノボラック樹脂138
0gを得た。得られた樹脂の水酸基当量は152g/eq。
であった。
【0038】参考例2〔2−ナフトールと1、6−ジヒ
ドロキシナフタレンとの共縮ナフトールノボラック樹脂
の合成〕 1−ナフトールの代わりに、2−ナフトール576g
(4.0モル)と1、6−ジヒドロキシナフタレン96
0g(6.0モル)を用いた以外は参考例1と同様にし
て、共縮ナフトールノボラック樹脂1290gを得た。
得られた樹脂の水酸基当量は101g/eq。であった。 参考例3[1,6−ジヒドロキシナフタレンノボラック
樹脂の合成] 1−ナフトールの代わりに、1,6−ジヒドロキシナフ
タレン1600g(10モル)を用いた以外は参考例1
と同様にして(但し、未反応の1、6−ジヒドロキシナ
フタレンは除去しない)、1,6−ジヒドロキシナフタ
レンノボラック樹脂1680gを得た。得られた樹脂の
水酸基当量は84g/eq。であった。
ドロキシナフタレンとの共縮ナフトールノボラック樹脂
の合成〕 1−ナフトールの代わりに、2−ナフトール576g
(4.0モル)と1、6−ジヒドロキシナフタレン96
0g(6.0モル)を用いた以外は参考例1と同様にし
て、共縮ナフトールノボラック樹脂1290gを得た。
得られた樹脂の水酸基当量は101g/eq。であった。 参考例3[1,6−ジヒドロキシナフタレンノボラック
樹脂の合成] 1−ナフトールの代わりに、1,6−ジヒドロキシナフ
タレン1600g(10モル)を用いた以外は参考例1
と同様にして(但し、未反応の1、6−ジヒドロキシナ
フタレンは除去しない)、1,6−ジヒドロキシナフタ
レンノボラック樹脂1680gを得た。得られた樹脂の
水酸基当量は84g/eq。であった。
【0039】参考例4〔2,7−ジヒドロキシナフタレ
ンのメチレン基架橋2量体の合成〕 1−ナフトールの代わりに、2,7−ジヒドロキシナフ
タレン1600g(10モル)を用いて、41%ホルマ
リンを365g(5.0モル)に、シュウ酸を49%N
aOH40gに代えて、反応終了後にNaOHを当量の
塩酸で中和した以外は、参考例1と同様にして、2,7
−ジヒドロキシナフタレンのメチレン基架橋2量体16
20gを得た。得られた樹脂の水酸基当量は83g/eq。
であった。
ンのメチレン基架橋2量体の合成〕 1−ナフトールの代わりに、2,7−ジヒドロキシナフ
タレン1600g(10モル)を用いて、41%ホルマ
リンを365g(5.0モル)に、シュウ酸を49%N
aOH40gに代えて、反応終了後にNaOHを当量の
塩酸で中和した以外は、参考例1と同様にして、2,7
−ジヒドロキシナフタレンのメチレン基架橋2量体16
20gを得た。得られた樹脂の水酸基当量は83g/eq。
であった。
【0040】参考例5[1、6−ジヒドロキシナフタレ
ン型エポキシ樹脂の合成] 1、6−ジヒドロキシナフタレン240g(1.5モ
ル)にエピクロルヒドリン1387g(15モル)を加
えて溶解して、トリメチルアンモニウムクロライド1.
0gを加えた後に、65℃で約140mmHgの減圧下
において、48%水酸化カリウム水溶液350g(3モ
ル)を4時間かけて滴下した。この間、生成する水はエ
ピクロルヒドリンとの共沸により系外に除き、留出した
エピクロルヒドリンは系内に戻した。滴下終了後、さら
に30分間反応を継続した。その後、生成塩が飽和濃度
になるような量の水を添加して、水洗によって生成塩を
除去した。次いで未反応のエピクロルヒドリンを蒸留し
て回収して、得られた粗樹脂をメチルイソブチルケトン
300gと1−ブタノール30gで溶解した。その溶液
に10%水酸化ナトリウム水溶液を80g添加して、8
0℃で1時間撹拌した。その後、リン酸ソーダを用いて
中和して、脱水後、無機塩を濾別で除去した後に、メチ
ルイソブチルケトンを蒸留で除去することによって、目
的のエポキシ樹脂(A)を367gg得た。それのエポ
キシ当量は148g/eq。であった。
ン型エポキシ樹脂の合成] 1、6−ジヒドロキシナフタレン240g(1.5モ
ル)にエピクロルヒドリン1387g(15モル)を加
えて溶解して、トリメチルアンモニウムクロライド1.
0gを加えた後に、65℃で約140mmHgの減圧下
において、48%水酸化カリウム水溶液350g(3モ
ル)を4時間かけて滴下した。この間、生成する水はエ
ピクロルヒドリンとの共沸により系外に除き、留出した
エピクロルヒドリンは系内に戻した。滴下終了後、さら
に30分間反応を継続した。その後、生成塩が飽和濃度
になるような量の水を添加して、水洗によって生成塩を
除去した。次いで未反応のエピクロルヒドリンを蒸留し
て回収して、得られた粗樹脂をメチルイソブチルケトン
300gと1−ブタノール30gで溶解した。その溶液
に10%水酸化ナトリウム水溶液を80g添加して、8
0℃で1時間撹拌した。その後、リン酸ソーダを用いて
中和して、脱水後、無機塩を濾別で除去した後に、メチ
ルイソブチルケトンを蒸留で除去することによって、目
的のエポキシ樹脂(A)を367gg得た。それのエポ
キシ当量は148g/eq。であった。
【0041】参考例6〔1−ナフトールノボラック型エ
ポキシ樹脂の合成〕 1,6−ジヒドロキシナフタレンの代わりに、参考例1
で得られた1−ナフトールノボラック樹脂456gを用
いた以外は、参考例5と同様にして、目的のエポキシ樹
脂(B)を591g得た。それのエポキシ当量は230
g/eq。であった。
ポキシ樹脂の合成〕 1,6−ジヒドロキシナフタレンの代わりに、参考例1
で得られた1−ナフトールノボラック樹脂456gを用
いた以外は、参考例5と同様にして、目的のエポキシ樹
脂(B)を591g得た。それのエポキシ当量は230
g/eq。であった。
【0042】参考例7〔2−ナフトールと1、6−ジヒ
ドロキシナフタレンとの共縮ナフトールノボラック型エ
ポキシ樹脂の合成〕 1,6−ジヒドロキシナフタレンの代わりに、参考例2
で得られた2−ナフトールと1、6−ジヒドロキシナフ
タレンとの共縮ナフトールノボラック樹脂303gを用
いた以外は、参考例5と同様にして、目的のエポキシ樹
脂(C)を433g得た。それのエポキシ当量は172
g/eqであった。
ドロキシナフタレンとの共縮ナフトールノボラック型エ
ポキシ樹脂の合成〕 1,6−ジヒドロキシナフタレンの代わりに、参考例2
で得られた2−ナフトールと1、6−ジヒドロキシナフ
タレンとの共縮ナフトールノボラック樹脂303gを用
いた以外は、参考例5と同様にして、目的のエポキシ樹
脂(C)を433g得た。それのエポキシ当量は172
g/eqであった。
【0043】参考例8〔2,7−ジヒドロキシナフタレ
ンのメチレン基架橋2量体型エポキシ樹脂の合成〕 1,6−ジヒドロキシナフタレンの代わりに、参考例4
で得られた2,7−ジヒドロキシナフタレンのメチレン
基架橋2量体249gを用いた以外は、参考例5と同様
にして、目的のエポキシ樹脂(D)を399g得た。そ
れのエポキシ当量は161g/eq。であった。
ンのメチレン基架橋2量体型エポキシ樹脂の合成〕 1,6−ジヒドロキシナフタレンの代わりに、参考例4
で得られた2,7−ジヒドロキシナフタレンのメチレン
基架橋2量体249gを用いた以外は、参考例5と同様
にして、目的のエポキシ樹脂(D)を399g得た。そ
れのエポキシ当量は161g/eq。であった。
【0044】参考例9〔クレゾールノボラック型多官能
エポキシアクリレート化合物の製造〕 クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(大日本インキ化
学工業(株)製 EPICLON N−690、エポキ
シ当量215g/eq、軟化点93℃)430gをブチルセ
ロソルブアセテート200gに溶解し、さらにアクリル
酸144g(2.0モル)、ベンジルトリエチルアンモ
ニウムクロライド0。8g、ハイドロキノン150mg
を加え、120℃で空気を吹き込みながら6時間反応さ
せクレゾールノボラック型エポキシ樹脂のエポキシアク
リレート樹脂溶液を得た。得られた樹脂溶液にさらにブ
チルセロソルブアセテート450gを追加して、これに
1、2、3、6−テトラヒドロ無水フタル酸182gを
加えて、110℃で5時間反応させて、目的のクレゾー
ルノボラック型のカルボキシル基含有光重合性不飽和化
合物(I)溶液を得た。 0.1N KOH/MeOH
溶液で滴定を行ったところ、酸価は60mgKOH/g
であった。
エポキシアクリレート化合物の製造〕 クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(大日本インキ化
学工業(株)製 EPICLON N−690、エポキ
シ当量215g/eq、軟化点93℃)430gをブチルセ
ロソルブアセテート200gに溶解し、さらにアクリル
酸144g(2.0モル)、ベンジルトリエチルアンモ
ニウムクロライド0。8g、ハイドロキノン150mg
を加え、120℃で空気を吹き込みながら6時間反応さ
せクレゾールノボラック型エポキシ樹脂のエポキシアク
リレート樹脂溶液を得た。得られた樹脂溶液にさらにブ
チルセロソルブアセテート450gを追加して、これに
1、2、3、6−テトラヒドロ無水フタル酸182gを
加えて、110℃で5時間反応させて、目的のクレゾー
ルノボラック型のカルボキシル基含有光重合性不飽和化
合物(I)溶液を得た。 0.1N KOH/MeOH
溶液で滴定を行ったところ、酸価は60mgKOH/g
であった。
【0045】実施例1 参考例9で得られたクレゾールノボラック型のカルボキ
シル基含有光重合性不飽和化合物(I)の固形分100
重量部に対し、参考例5で得られた1,6−ジヒドロキ
シナフタレン型エポキシ樹脂22重量部、光重合性不飽
和化合物としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ート7重量部、光重合開始剤として2,2−ジメトキシ
−1,2−ジフェニルエタン−1−オン4重量部、エポ
キシ硬化剤として2−エチル−4−メチルイミダゾール
4重量部を混合し、ブチルセロソルブアセテートで粘度
調整して感光性樹脂組成物を得た。次に、この組成物を
銅張り積層板上に塗布し、60℃で1時間プレキュアー
して、室温で粘着性のない、厚み40μmの感光層を形
成した。次に超高圧水銀灯を用い、直径30〜200μ
mのバイアホールパターンが描かれたネガマスクを密着
して選択的に500mJ/cm2の紫外線照射を行い、
30℃の1%炭酸ナトリウム水溶液を2分間スプレーし
て現像を行った後、150℃で30分間のアフターキュ
アにより硬化した塗膜を得た。SEM観察の結果、良好
に現像できたバイアホール最小径は50μmであった。
また、40℃×90%RHで96時間吸湿後も260℃
×30秒間の半田耐熱性を示した。
シル基含有光重合性不飽和化合物(I)の固形分100
重量部に対し、参考例5で得られた1,6−ジヒドロキ
シナフタレン型エポキシ樹脂22重量部、光重合性不飽
和化合物としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ート7重量部、光重合開始剤として2,2−ジメトキシ
−1,2−ジフェニルエタン−1−オン4重量部、エポ
キシ硬化剤として2−エチル−4−メチルイミダゾール
4重量部を混合し、ブチルセロソルブアセテートで粘度
調整して感光性樹脂組成物を得た。次に、この組成物を
銅張り積層板上に塗布し、60℃で1時間プレキュアー
して、室温で粘着性のない、厚み40μmの感光層を形
成した。次に超高圧水銀灯を用い、直径30〜200μ
mのバイアホールパターンが描かれたネガマスクを密着
して選択的に500mJ/cm2の紫外線照射を行い、
30℃の1%炭酸ナトリウム水溶液を2分間スプレーし
て現像を行った後、150℃で30分間のアフターキュ
アにより硬化した塗膜を得た。SEM観察の結果、良好
に現像できたバイアホール最小径は50μmであった。
また、40℃×90%RHで96時間吸湿後も260℃
×30秒間の半田耐熱性を示した。
【0046】実施例2 1,6−ジヒドロキシナフタレン型エポキシ樹脂の代わ
りに、参考例6で得られた1−ナフトールノボラック型
エポキシ樹脂35重量部を用いた以外は、実施例1と同
様にして、感光性樹脂組成物を得た。次に、実施例1と
同様にして、銅張り積層板上に塗膜を形成させた。SE
M観察の結果、良好に現像できたバイアホール最小径は
50μmであった。また、40℃×90%RHで96時
間吸湿後も260℃×30秒間の半田耐熱性を示した。
りに、参考例6で得られた1−ナフトールノボラック型
エポキシ樹脂35重量部を用いた以外は、実施例1と同
様にして、感光性樹脂組成物を得た。次に、実施例1と
同様にして、銅張り積層板上に塗膜を形成させた。SE
M観察の結果、良好に現像できたバイアホール最小径は
50μmであった。また、40℃×90%RHで96時
間吸湿後も260℃×30秒間の半田耐熱性を示した。
【0047】実施例3 1,6−ジヒドロキシナフタレン型エポキシ樹脂の代わ
りに、参考例7で得られた2−ナフトールと1,6−ジ
ヒドロキシナフタレンとの共縮ナフトールノボラック型
エポキシ樹脂26重量部を用いた以外は、実施例1と同
様にして、感光性樹脂組成物を得た。次に、実施例1と
同様にして、銅張り積層板上に塗膜を形成させた。SE
M観察の結果、良好に現像できたバイアホール最小径は
50μmであった。また、40℃×90%RHで96時
間吸湿後も260℃×30秒間の半田耐熱性を示した。
りに、参考例7で得られた2−ナフトールと1,6−ジ
ヒドロキシナフタレンとの共縮ナフトールノボラック型
エポキシ樹脂26重量部を用いた以外は、実施例1と同
様にして、感光性樹脂組成物を得た。次に、実施例1と
同様にして、銅張り積層板上に塗膜を形成させた。SE
M観察の結果、良好に現像できたバイアホール最小径は
50μmであった。また、40℃×90%RHで96時
間吸湿後も260℃×30秒間の半田耐熱性を示した。
【0048】実施例4 1,6−ジヒドロキシナフタレン型エポキシ樹脂の代わ
りに、参考例8で得られた2,7−ジヒドロキシナフタ
レンのメチレン基架橋2量体型エポキシ樹脂24重量部
を用いた以外は、実施例1と同様にして、感光性樹脂組
成物を得た。次に、実施例1と同様にして、銅張り積層
板上に塗膜を形成させた。SEM観察の結果、良好に現
像できたバイアホール最小径は50μmであった。ま
た、40℃×90%RHで96時間吸湿後も260℃×
45秒間の半田耐熱性を示した。
りに、参考例8で得られた2,7−ジヒドロキシナフタ
レンのメチレン基架橋2量体型エポキシ樹脂24重量部
を用いた以外は、実施例1と同様にして、感光性樹脂組
成物を得た。次に、実施例1と同様にして、銅張り積層
板上に塗膜を形成させた。SEM観察の結果、良好に現
像できたバイアホール最小径は50μmであった。ま
た、40℃×90%RHで96時間吸湿後も260℃×
45秒間の半田耐熱性を示した。
【0049】比較例1 1−ナフトールノボラック型エポキシ樹脂の代わりに、
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(大日本インキ化
学工業(株)製 EPICLON N−680、エポキ
シ当量210g/eq。、軟化点86℃)31重量%を用い
た以外は、実施例1と同様の操作を行った。SEM観察
の結果、艮好に現像できたバイアホール最小径は50μ
mであった。また、40℃×90%RHで96時間吸湿
後の260℃におけるハンダ耐熱性は15秒であり、3
0秒ではクラックを生じた。
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(大日本インキ化
学工業(株)製 EPICLON N−680、エポキ
シ当量210g/eq。、軟化点86℃)31重量%を用い
た以外は、実施例1と同様の操作を行った。SEM観察
の結果、艮好に現像できたバイアホール最小径は50μ
mであった。また、40℃×90%RHで96時間吸湿
後の260℃におけるハンダ耐熱性は15秒であり、3
0秒ではクラックを生じた。
【0050】
【発明の効果】本発明によれば、プリント配線板用途に
おいて、高い生産性と低コスト化が実現できると共に、
十分な耐熱性や耐湿信頼性を有し、半田耐熱性に優れる
アルカリ現像型感光性樹脂組成物を提供できる。また、
本発明の感光性樹脂組成物は、人体への悪影響が少ない
アルカリ水溶液で現像可能であると共に解像度にも優れ
る。したがって、本発明の感光性樹脂組成物は、ビルド
アップ多層配線板として特に有用であり、ソルダーレジ
スト等の永久保護膜の用途においても有用である。
おいて、高い生産性と低コスト化が実現できると共に、
十分な耐熱性や耐湿信頼性を有し、半田耐熱性に優れる
アルカリ現像型感光性樹脂組成物を提供できる。また、
本発明の感光性樹脂組成物は、人体への悪影響が少ない
アルカリ水溶液で現像可能であると共に解像度にも優れ
る。したがって、本発明の感光性樹脂組成物は、ビルド
アップ多層配線板として特に有用であり、ソルダーレジ
スト等の永久保護膜の用途においても有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA00 AA04 AA10 AB15 AC01 AD01 BC12 BC14 BC31 BC34 BC43 BC51 BC74 BC85 BC86 CC17 FA17 4J002 CD062 CD201 ED086 EE036 EE056 EH077 EK036 EK046 ET006 EV206 EV316 EV326 FD020 FD090 FD150 FD200 GP03 GQ01 HA05 5E314 AA27 AA32 CC01 DD06 FF05 FF19 GG01 GG10 GG24 5E346 CC08 CC32 CC55 CC58 EE39 HH18 HH33
Claims (6)
- 【請求項1】 カルボキシル基含有光重合性不飽和化合
物(a)と、縮合多環芳香族骨格を含有するエポキシ樹
脂(b)と、光重合開始剤(c)とを必須成分として含
有するアルカリ現像型感光性樹脂組成物。 - 【請求項2】 カルボキシル基含有含有光重合性不飽和
化合物(a)100重量部に対して、縮合多環芳香族骨
格を含有するエポキシ樹脂(b)が5〜50重量部、光
重合開始剤(c)が0.1〜30重量部の割合で含有す
る請求項1記載の組成物。 - 【請求項3】 縮合多環芳香族骨格を含有するエポキシ
樹脂(b)が、ジヒドロキシナフタレンとエピハロヒド
リンとの反応物、又はモノ若しくはジヒドロキシナフタ
レンとアルデヒド類との縮合物とエピハロヒドリンとの
反応物である請求項1又は2記載の組成物。 - 【請求項4】 縮合多環芳香族骨格を含有するエポキシ
樹脂(b)が、1、1−ビス(2、7−ジヒドロキシ−
1−ナフチル)メタンとエピハロヒドリンとの反応物で
あることを特徴とする請求項1、2又は3記載の組成
物。 - 【請求項5】 (a)〜(c)の各成分に加え、さらに
エチレン結合を有する光重合性不飽和化合物(d)を含
有する請求項1〜4の何れか1つに記載の組成物。 - 【請求項6】 エチレン結合を有する光重合性不飽和化
合物(d)の使用量が、カルボキシル基含有光重合性不
飽和化合物(a)100重量部に対し、1〜50重量部
となる割合である請求項5記載の組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11217610A JP2001042525A (ja) | 1999-07-30 | 1999-07-30 | アルカリ現像型感光性樹脂組成物 |
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JP11217610A JP2001042525A (ja) | 1999-07-30 | 1999-07-30 | アルカリ現像型感光性樹脂組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001042525A true JP2001042525A (ja) | 2001-02-16 |
Family
ID=16706998
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JP11217610A Pending JP2001042525A (ja) | 1999-07-30 | 1999-07-30 | アルカリ現像型感光性樹脂組成物 |
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-
1999
- 1999-07-30 JP JP11217610A patent/JP2001042525A/ja active Pending
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