JP2000015045A - 活性炭充填塔 - Google Patents
活性炭充填塔Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 活性炭充填塔からの粉塵の発生を防止し、活
性炭の交換を適切且つ容易に行なえるようにする。 【解決手段】 廃棄物処理設備の排ガス経路１中に設け
られる活性炭充填塔８において、上部に活性炭投入口１
２、下部に活性炭排出口１３を備えたケーシング１１内
に、活性炭支持床１４を設けると共に、活性炭支持床１
４上に形成された固定層２５の活性炭Ｃの劣化状態を検
出するための圧力センサ３０を設ける。活性炭支持床１
４は複数の回動可能なメッシュフロア１５で構成する。
性炭の交換を適切且つ容易に行なえるようにする。 【解決手段】 廃棄物処理設備の排ガス経路１中に設け
られる活性炭充填塔８において、上部に活性炭投入口１
２、下部に活性炭排出口１３を備えたケーシング１１内
に、活性炭支持床１４を設けると共に、活性炭支持床１
４上に形成された固定層２５の活性炭Ｃの劣化状態を検
出するための圧力センサ３０を設ける。活性炭支持床１
４は複数の回動可能なメッシュフロア１５で構成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、廃棄物処理設備の
排ガス中に含まれるダイオキシン類、水銀を含む重金属
類、窒素酸化物、硫黄酸化物、塩化水素等の有害物質を
除去するための活性炭充填塔に関するものである。
排ガス中に含まれるダイオキシン類、水銀を含む重金属
類、窒素酸化物、硫黄酸化物、塩化水素等の有害物質を
除去するための活性炭充填塔に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】廃棄物を焼却または溶融処理する廃棄物
処理設備では、廃棄物焼却炉や廃棄物溶融炉の排ガス経
路中に、排ガスのダストを捕集するための集塵装置と、
排ガス中に含まれるダイオキシン類、水銀を含む重金属
類、窒素酸化物、硫黄酸化物、塩化水素等の有害物質を
除去するための活性炭充填塔とを備えている。
処理設備では、廃棄物焼却炉や廃棄物溶融炉の排ガス経
路中に、排ガスのダストを捕集するための集塵装置と、
排ガス中に含まれるダイオキシン類、水銀を含む重金属
類、窒素酸化物、硫黄酸化物、塩化水素等の有害物質を
除去するための活性炭充填塔とを備えている。
【０００３】集塵装置の後段に配置されて前記有害物質
を除去するために用いられる活性炭充填塔としては、図
３に示すように、ケーシング４１内に活性炭Ｃの移動層
４２を形成し、ケーシング４１上に設けたホッパ４３か
らシュート４４を介して移動層４２に活性炭Ｃを供給
し、移動層４２からケーシング４１下部のロールフィー
ダ４５、ロータリバルブ４６を介して排出コンベヤ４７
へ活性炭Ｃを抜き出す移動層式活性炭充填塔４０や、図
４に示すように、ケーシング５１内に活性炭Ｃの固定層
５２を形成し、ケーシング５１上部に活性炭投入ハッチ
５３、ケーシング５１下部側面に活性炭取り出し口５４
を設けて、固定層５２を通過する排ガスによって活性炭
Ｃが劣化したら、活性炭取り出し口５４から使用済みの
活性炭Ｃを排出した後、活性炭投入ハッチ５３から新し
い活性炭Ｃを固定層５２に供給する固定層式活性炭充填
塔５０が提案されている。
を除去するために用いられる活性炭充填塔としては、図
３に示すように、ケーシング４１内に活性炭Ｃの移動層
４２を形成し、ケーシング４１上に設けたホッパ４３か
らシュート４４を介して移動層４２に活性炭Ｃを供給
し、移動層４２からケーシング４１下部のロールフィー
ダ４５、ロータリバルブ４６を介して排出コンベヤ４７
へ活性炭Ｃを抜き出す移動層式活性炭充填塔４０や、図
４に示すように、ケーシング５１内に活性炭Ｃの固定層
５２を形成し、ケーシング５１上部に活性炭投入ハッチ
５３、ケーシング５１下部側面に活性炭取り出し口５４
を設けて、固定層５２を通過する排ガスによって活性炭
Ｃが劣化したら、活性炭取り出し口５４から使用済みの
活性炭Ｃを排出した後、活性炭投入ハッチ５３から新し
い活性炭Ｃを固定層５２に供給する固定層式活性炭充填
塔５０が提案されている。
【０００４】しかし、移動層式活性炭充填塔４０では、
通ガス状態で粒状の活性炭Ｃを移動層４２内で移動させ
るので、活性炭Ｃが磨滅し粉末となり排ガス中に粉塵を
生じる。このため、移動層式活性炭充填塔４０の後段
に、発生した活性炭Ｃの粉塵を捕集するための集塵装置
を設置する必要がある。
通ガス状態で粒状の活性炭Ｃを移動層４２内で移動させ
るので、活性炭Ｃが磨滅し粉末となり排ガス中に粉塵を
生じる。このため、移動層式活性炭充填塔４０の後段
に、発生した活性炭Ｃの粉塵を捕集するための集塵装置
を設置する必要がある。
【０００５】これに対し、固定層式活性炭充填塔５０で
は、活性炭Ｃは移動しないので、活性炭Ｃが磨滅し粉末
となることはなく、後段に集塵装置を設置する必要はな
い。しかし、移動層式活性炭充填塔４０のように活性炭
Ｃが連続的に更新されないので、活性炭Ｃが次第に劣化
して排ガス処理能力が低下する。そこで、活性炭Ｃが劣
化したら、固定層５２の活性炭Ｃを交換しなければなら
ない。
は、活性炭Ｃは移動しないので、活性炭Ｃが磨滅し粉末
となることはなく、後段に集塵装置を設置する必要はな
い。しかし、移動層式活性炭充填塔４０のように活性炭
Ｃが連続的に更新されないので、活性炭Ｃが次第に劣化
して排ガス処理能力が低下する。そこで、活性炭Ｃが劣
化したら、固定層５２の活性炭Ｃを交換しなければなら
ない。
【０００６】ところで、固定層５２の活性炭Ｃの劣化は
単なる吸着能力の低下ではなく、前段の集塵装置で捕集
されずに飛来するダストによる目詰まりが主要因となる
が、その判断は極めて難しい。従って、適切に交換が行
われず、焼却炉や溶融炉その他廃棄物処理設備の設備全
体の運転に支障を来すようになって、初めて活性炭Ｃの
交換が行われることが多い。
単なる吸着能力の低下ではなく、前段の集塵装置で捕集
されずに飛来するダストによる目詰まりが主要因となる
が、その判断は極めて難しい。従って、適切に交換が行
われず、焼却炉や溶融炉その他廃棄物処理設備の設備全
体の運転に支障を来すようになって、初めて活性炭Ｃの
交換が行われることが多い。
【０００７】また、活性炭Ｃの目詰まりによる劣化は固
定層５２の下部で著しく、固定層５２の下部で目詰まり
が生じても上部の活性炭Ｃはさほど劣化していない。上
部の活性炭Ｃは十分使用可能であるにもかかわらず、全
て一度に交換されることになる。しかも、活性炭Ｃの交
換の際は、ダイオキシン等の有害物質を吸着した使用済
の活性炭Ｃを一度に大量に開放状態で取り出して処理し
なければない。
定層５２の下部で著しく、固定層５２の下部で目詰まり
が生じても上部の活性炭Ｃはさほど劣化していない。上
部の活性炭Ｃは十分使用可能であるにもかかわらず、全
て一度に交換されることになる。しかも、活性炭Ｃの交
換の際は、ダイオキシン等の有害物質を吸着した使用済
の活性炭Ｃを一度に大量に開放状態で取り出して処理し
なければない。
【０００８】さらに、新しい活性炭Ｃを固定層５２に充
填した後で、層厚を均一にするため、人力により表層を
掻き均す必要がある。
填した後で、層厚を均一にするため、人力により表層を
掻き均す必要がある。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、廃棄物焼却
炉や廃棄物溶融炉の排ガス処理用の活性炭充填塔におけ
る上記課題を解決するものであって、活性炭充填塔から
の粉塵の発生が防止でき後段に集塵装置を設置する必要
がなく、且つ活性炭の交換を適切且つ容易に行うことの
できる活性炭充填塔を提供することを目的とする。
炉や廃棄物溶融炉の排ガス処理用の活性炭充填塔におけ
る上記課題を解決するものであって、活性炭充填塔から
の粉塵の発生が防止でき後段に集塵装置を設置する必要
がなく、且つ活性炭の交換を適切且つ容易に行うことの
できる活性炭充填塔を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明では、上記課題を
解決するため、廃棄物処理設備の排ガス経路中に設けら
れる活性炭充填塔において、上部に活性炭投入口、下部
に活性炭排出口を備えたケーシング内に、活性炭支持床
を設けると共に、活性炭支持床上に形成された固定層の
活性炭の劣化状態を検出する検出器を設けている。
解決するため、廃棄物処理設備の排ガス経路中に設けら
れる活性炭充填塔において、上部に活性炭投入口、下部
に活性炭排出口を備えたケーシング内に、活性炭支持床
を設けると共に、活性炭支持床上に形成された固定層の
活性炭の劣化状態を検出する検出器を設けている。
【００１１】廃棄物処理設備の操業時には、排ガスは、
集塵装置でダストが除去された後活性炭充填塔に入り、
ここで排ガス中のダイオキシン類等の有害物質が活性炭
で吸着されて除去される。有害物質が除去された排ガス
は、活性炭充填塔から誘引ファン、煙突を経て大気中に
排出される。
集塵装置でダストが除去された後活性炭充填塔に入り、
ここで排ガス中のダイオキシン類等の有害物質が活性炭
で吸着されて除去される。有害物質が除去された排ガス
は、活性炭充填塔から誘引ファン、煙突を経て大気中に
排出される。
【００１２】この活性炭充填塔では、活性炭支持床上に
固定層が形成されいて通ガス状態では活性炭は移動しな
いので、活性炭が磨滅し粉末となることはなく、後段に
集塵装置を設置する必要はない。固定層の活性炭の劣化
状態は検出器で検出され、活性炭が劣化したときには、
活性炭を活性炭支持床から落下させてケーシング下部に
貯留し、上部の活性炭投入口から新しい活性炭を供給し
て、再度活性炭支持床上に固定層を形成する。ケーシン
グ下部に貯留された使用済みの活性炭は、活性炭排出口
から排出する。
固定層が形成されいて通ガス状態では活性炭は移動しな
いので、活性炭が磨滅し粉末となることはなく、後段に
集塵装置を設置する必要はない。固定層の活性炭の劣化
状態は検出器で検出され、活性炭が劣化したときには、
活性炭を活性炭支持床から落下させてケーシング下部に
貯留し、上部の活性炭投入口から新しい活性炭を供給し
て、再度活性炭支持床上に固定層を形成する。ケーシン
グ下部に貯留された使用済みの活性炭は、活性炭排出口
から排出する。
【００１３】活性炭は、劣化状態が検出器で検出される
ので、適切に交換を行うことができ廃棄物処理設備の運
転に支障を来すことはない。ケーシング内に、複数段の
活性炭支持床を設けると、各段の活性炭支持床上にそれ
ぞれ形成される固定層の一層当たりの活性炭の厚さは薄
くすることができる。そして、目詰まりによる劣化の著
しい下段の活性炭のみを交換することにより、上段の未
劣化の活性炭は有効利用することができる。
ので、適切に交換を行うことができ廃棄物処理設備の運
転に支障を来すことはない。ケーシング内に、複数段の
活性炭支持床を設けると、各段の活性炭支持床上にそれ
ぞれ形成される固定層の一層当たりの活性炭の厚さは薄
くすることができる。そして、目詰まりによる劣化の著
しい下段の活性炭のみを交換することにより、上段の未
劣化の活性炭は有効利用することができる。
【００１４】活性炭支持床は、複数の回動可能なメッシ
ュフロワで構成することにより、活性炭の交換が容易に
なる。活性炭投入口の下に、ケーシング内に供給される
活性炭を活性炭支持床上に分散させる分散装置を設けれ
ば、活性炭の供給時に活性炭支持床上の層厚を均等にで
きるので、新しい活性炭を充填した後で、層厚を均一に
するために人力により表層を掻き均す必要はない。
ュフロワで構成することにより、活性炭の交換が容易に
なる。活性炭投入口の下に、ケーシング内に供給される
活性炭を活性炭支持床上に分散させる分散装置を設けれ
ば、活性炭の供給時に活性炭支持床上の層厚を均等にで
きるので、新しい活性炭を充填した後で、層厚を均一に
するために人力により表層を掻き均す必要はない。
【００１５】
【発明の実施の形態】図１は本発明の実施の一形態であ
る活性炭充填塔を備えた廃棄物処理設備の排ガス処理系
の構成図である。
る活性炭充填塔を備えた廃棄物処理設備の排ガス処理系
の構成図である。
【００１６】廃棄物処理設備の排ガス経路１中には、ガ
ス冷却塔４、集塵装置５、誘引ファン６、煙突７を備え
ており、集塵装置５と誘引ファン６との間に活性炭充填
塔８が設置されている。活性炭充填塔８の前後には入口
ダンパ９と出口ダンパ１０とが設けられている。
ス冷却塔４、集塵装置５、誘引ファン６、煙突７を備え
ており、集塵装置５と誘引ファン６との間に活性炭充填
塔８が設置されている。活性炭充填塔８の前後には入口
ダンパ９と出口ダンパ１０とが設けられている。
【００１７】排ガス経路１の集塵装置５と誘引ファン６
との間には、活性炭充填塔８を迂回して排ガスを排出す
るためのバイパスダクト２が設けられており、バイパス
ダクト２中にバイパスダンパ３が設けられている。
との間には、活性炭充填塔８を迂回して排ガスを排出す
るためのバイパスダクト２が設けられており、バイパス
ダクト２中にバイパスダンパ３が設けられている。
【００１８】活性炭充填塔８は、ケーシング１１の上部
に活性炭投入口１２、下部に活性炭排出口１３を備えて
おり、ケーシング１１内には上下２段に活性炭支持床１
４が設けられている。各段の活性炭支持床１４は回動す
る複数のメッシュフロア１５で構成されており、このメ
ッシュフロア１５上に活性炭Ｃが堆積されて固定層２５
が形成されている。下段の固定層２５の上下には、固定
層２５の活性炭Ｃの劣化状態を検出するための検出器と
して、圧力センサ３０が設けられている。
に活性炭投入口１２、下部に活性炭排出口１３を備えて
おり、ケーシング１１内には上下２段に活性炭支持床１
４が設けられている。各段の活性炭支持床１４は回動す
る複数のメッシュフロア１５で構成されており、このメ
ッシュフロア１５上に活性炭Ｃが堆積されて固定層２５
が形成されている。下段の固定層２５の上下には、固定
層２５の活性炭Ｃの劣化状態を検出するための検出器と
して、圧力センサ３０が設けられている。
【００１９】活性炭投入口１２には活性炭投入シールバ
ルブ１６が設けられており、活性炭ホッパ１７の活性炭
供給バルブ１８の下から活性炭投入シールバルブ１６の
上まで活性炭供給コンベヤ１９が敷設されている。活性
炭投入口１２の下には、ケーシング１１内に供給される
活性炭Ｃを活性炭支持床１４上に分散させるスイングフ
ラップ式の分散装置２０が設けられている。
ルブ１６が設けられており、活性炭ホッパ１７の活性炭
供給バルブ１８の下から活性炭投入シールバルブ１６の
上まで活性炭供給コンベヤ１９が敷設されている。活性
炭投入口１２の下には、ケーシング１１内に供給される
活性炭Ｃを活性炭支持床１４上に分散させるスイングフ
ラップ式の分散装置２０が設けられている。
【００２０】活性炭排出口１３には、活性炭引抜シール
バルブ２１が設けられている。活性炭引抜シールバルブ
２１の下には、使用済の活性炭Ｃを使用済活性炭炉内吹
込ブロワ２２からの気流によって焼却炉（図示略）まで
空気輸送するための活性炭輸送管２３が敷設されてい
る。
バルブ２１が設けられている。活性炭引抜シールバルブ
２１の下には、使用済の活性炭Ｃを使用済活性炭炉内吹
込ブロワ２２からの気流によって焼却炉（図示略）まで
空気輸送するための活性炭輸送管２３が敷設されてい
る。
【００２１】廃棄物処理設備の操業時には、焼却炉から
排出された排ガスは、ガス冷却塔４で冷却され、集塵装
置５でダストが除去された後活性炭充填塔８に入り、こ
こで排ガス中のダイオキシン類等の有害物質が活性炭Ｃ
で吸着されて除去される。有害物質が除去された排ガス
は、活性炭充填塔８から誘引ファン６、煙突７を経て大
気中に排出される。
排出された排ガスは、ガス冷却塔４で冷却され、集塵装
置５でダストが除去された後活性炭充填塔８に入り、こ
こで排ガス中のダイオキシン類等の有害物質が活性炭Ｃ
で吸着されて除去される。有害物質が除去された排ガス
は、活性炭充填塔８から誘引ファン６、煙突７を経て大
気中に排出される。
【００２２】活性炭充填塔８では、圧力センサ３０が下
段の固定層２５による圧力損失を検出する。固定層２５
の活性炭Ｃの劣化はダストによる目詰まりが主要因であ
るので、圧力センサ３０で検出された圧力損失が所定値
以上になった場合には、焼却炉の停止時に活性炭Ｃの交
換を行う。
段の固定層２５による圧力損失を検出する。固定層２５
の活性炭Ｃの劣化はダストによる目詰まりが主要因であ
るので、圧力センサ３０で検出された圧力損失が所定値
以上になった場合には、焼却炉の停止時に活性炭Ｃの交
換を行う。
【００２３】活性炭Ｃの交換を行うときには、先ず下段
のメッシュフロア１５を回動させて活性炭Ｃを落下させ
ケーシング１１下部に一時貯留する。次に下段のメッシ
ュフロア１５を水平に戻してから上段のメッシュフロア
１５を回動させて活性炭Ｃを下段のメッシュフロア１５
上に供給する。このとき、上段のメッシュフロア１５の
回動角度を適宜調節することにより、下段の支持床１４
上に均一な層厚の固定層２５を形成することができる。
のメッシュフロア１５を回動させて活性炭Ｃを落下させ
ケーシング１１下部に一時貯留する。次に下段のメッシ
ュフロア１５を水平に戻してから上段のメッシュフロア
１５を回動させて活性炭Ｃを下段のメッシュフロア１５
上に供給する。このとき、上段のメッシュフロア１５の
回動角度を適宜調節することにより、下段の支持床１４
上に均一な層厚の固定層２５を形成することができる。
【００２４】それから、上段のメッシュフロア１５を水
平に戻し、活性炭投入シールバルブ１６を開いて、活性
炭ホッパ１７から活性炭供給コンベヤ１９を経て供給さ
れる新しい活性炭Ｃを上段のメッシュフロア１５に供給
する。このとき、分散装置２０を適宜調節することによ
り、上段の支持床１４上に均一な層厚の固定層２５を形
成することができる。
平に戻し、活性炭投入シールバルブ１６を開いて、活性
炭ホッパ１７から活性炭供給コンベヤ１９を経て供給さ
れる新しい活性炭Ｃを上段のメッシュフロア１５に供給
する。このとき、分散装置２０を適宜調節することによ
り、上段の支持床１４上に均一な層厚の固定層２５を形
成することができる。
【００２５】ケーシング１１下部に一時貯留された使用
済みの活性炭Ｃは、焼却炉の運転を再開した後で、活性
炭引抜シールバルブ２１を開いて活性炭輸送管２３へ排
出し、使用済活性炭炉内吹込ブロワ２２からの気流によ
って空気輸送して焼却炉内に吹き込み、吸着した有害ガ
ス成分とともに燃焼分解させる。
済みの活性炭Ｃは、焼却炉の運転を再開した後で、活性
炭引抜シールバルブ２１を開いて活性炭輸送管２３へ排
出し、使用済活性炭炉内吹込ブロワ２２からの気流によ
って空気輸送して焼却炉内に吹き込み、吸着した有害ガ
ス成分とともに燃焼分解させる。
【００２６】このように、この活性炭充填塔８では、活
性炭支持床１４上に固定層１５が形成されいて通ガス状
態では活性炭Ｃは移動しないので、活性炭Ｃが磨滅し粉
末となることはなく、後段に集塵装置を設置する必要は
ない。固定層２５の活性炭Ｃの劣化状態は圧力センサ３
０で検出されるので、適切に交換を行うことができ廃棄
物処理設備の運転に支障を来すことはない。
性炭支持床１４上に固定層１５が形成されいて通ガス状
態では活性炭Ｃは移動しないので、活性炭Ｃが磨滅し粉
末となることはなく、後段に集塵装置を設置する必要は
ない。固定層２５の活性炭Ｃの劣化状態は圧力センサ３
０で検出されるので、適切に交換を行うことができ廃棄
物処理設備の運転に支障を来すことはない。
【００２７】ケーシング内には、上下２段の活性炭支持
床１４を設けているので、各段の活性炭支持床１４上に
それぞれ形成される固定層２５の一層当たりの活性炭Ｃ
の厚さは薄くすることができる。そして、目詰まりによ
る劣化の著しい下段の活性炭Ｃのみを排出し、上段の未
劣化の活性炭Ｃは下段で再使用するので、活性炭Ｃが有
効に利用される。
床１４を設けているので、各段の活性炭支持床１４上に
それぞれ形成される固定層２５の一層当たりの活性炭Ｃ
の厚さは薄くすることができる。そして、目詰まりによ
る劣化の著しい下段の活性炭Ｃのみを排出し、上段の未
劣化の活性炭Ｃは下段で再使用するので、活性炭Ｃが有
効に利用される。
【００２８】活性炭支持床１４は、複数の回動可能なメ
ッシュフロワ１５で構成しているので、活性炭Ｃの交換
を容易に行うことができる。活性炭Ｃの交換は密閉状態
で行なわれ、ダイオキシン等の有害物質を吸着した使用
済の活性炭Ｃを外部に暴露することなく排出できるので
安全である。
ッシュフロワ１５で構成しているので、活性炭Ｃの交換
を容易に行うことができる。活性炭Ｃの交換は密閉状態
で行なわれ、ダイオキシン等の有害物質を吸着した使用
済の活性炭Ｃを外部に暴露することなく排出できるので
安全である。
【００２９】活性炭投入口１２の下には、ケーシング１
１内に供給される活性炭Ｃを活性炭支持床１４上に分散
させる分散装置２０を設けており、活性炭Ｃの供給時に
活性炭支持床１４上の層厚を均等にできるので、新しい
活性炭Ｃを充填した後で、層厚を均一にするために人力
により表層を掻き均す必要はない。
１内に供給される活性炭Ｃを活性炭支持床１４上に分散
させる分散装置２０を設けており、活性炭Ｃの供給時に
活性炭支持床１４上の層厚を均等にできるので、新しい
活性炭Ｃを充填した後で、層厚を均一にするために人力
により表層を掻き均す必要はない。
【００３０】なお、メッシュフロア１５、活性炭投入シ
ールバルブ１６、活性炭供給バルブ１８、活性炭供給コ
ンベヤ１９、活性炭引抜シールバルブ２１、使用済活性
炭炉内吹込ブロワ２２等の各機器を遠隔制御する制御装
置を設け、圧力センサ３０の検出データに基づいて自動
制御できるように構成すると活性炭Ｃの交換作業をより
容易にすることができる。
ールバルブ１６、活性炭供給バルブ１８、活性炭供給コ
ンベヤ１９、活性炭引抜シールバルブ２１、使用済活性
炭炉内吹込ブロワ２２等の各機器を遠隔制御する制御装
置を設け、圧力センサ３０の検出データに基づいて自動
制御できるように構成すると活性炭Ｃの交換作業をより
容易にすることができる。
【００３１】活性炭充填塔８のケーシング１１内に、活
性炭支持床１４を２段だけでなく更に多段に配置して活
性炭Ｃの固定層２５を増加させれば、一層当たりの活性
炭Ｃの厚さは更に薄くすることができ、活性炭Ｃが更に
有効に利用できる。
性炭支持床１４を２段だけでなく更に多段に配置して活
性炭Ｃの固定層２５を増加させれば、一層当たりの活性
炭Ｃの厚さは更に薄くすることができ、活性炭Ｃが更に
有効に利用できる。
【００３２】この場合には、活性炭Ｃの交換を行うとき
に、先ず最下段のメッシュフロア１５を回動させて活性
炭Ｃを落下させ、ケーシング１１下部に一時貯留する。
次に最下段のメッシュフロア１５を水平に戻してからそ
の上段のメッシュフロア１５を回動させて活性炭Ｃを最
下段のメッシュフロア１５上に供給する。以後順次各段
のメッシュフロア１５上にその上段の活性炭Ｃを供給し
て行き、最後に最上段のメッシュフロア１５上に新しい
活性炭Ｃを供給する。
に、先ず最下段のメッシュフロア１５を回動させて活性
炭Ｃを落下させ、ケーシング１１下部に一時貯留する。
次に最下段のメッシュフロア１５を水平に戻してからそ
の上段のメッシュフロア１５を回動させて活性炭Ｃを最
下段のメッシュフロア１５上に供給する。以後順次各段
のメッシュフロア１５上にその上段の活性炭Ｃを供給し
て行き、最後に最上段のメッシュフロア１５上に新しい
活性炭Ｃを供給する。
【００３３】図２は、２段の活性炭支持床１４を備えた
活性炭充填塔８で、活性炭Ｃの固定層２５を一層にして
使用した場合の説明図である。ここでは、圧力センサ３
０が上段の固定層２５の上にも配置されている。下段の
活性炭支持床１４に活性炭Ｃの固定層２５が形成されて
おり、圧力センサ３０で劣化状態が検出されたら、下段
のメッシュフロア１５を回動させて活性炭Ｃを落下させ
ケーシング１１下部に一時貯留する。それから、活性炭
投入シールバルブ１６を開いて、活性炭ホッパ１７から
活性炭供給コンベヤ１９を経て供給される新しい活性炭
Ｃを上段のメッシュフロア１５に供給して、上段の活性
炭支持床１４上に固定層２５を形成する。
活性炭充填塔８で、活性炭Ｃの固定層２５を一層にして
使用した場合の説明図である。ここでは、圧力センサ３
０が上段の固定層２５の上にも配置されている。下段の
活性炭支持床１４に活性炭Ｃの固定層２５が形成されて
おり、圧力センサ３０で劣化状態が検出されたら、下段
のメッシュフロア１５を回動させて活性炭Ｃを落下させ
ケーシング１１下部に一時貯留する。それから、活性炭
投入シールバルブ１６を開いて、活性炭ホッパ１７から
活性炭供給コンベヤ１９を経て供給される新しい活性炭
Ｃを上段のメッシュフロア１５に供給して、上段の活性
炭支持床１４上に固定層２５を形成する。
【００３４】ケーシング１１下部に一時貯留された使用
済みの活性炭Ｃは、焼却炉の運転を再開した後で、活性
炭引抜シールバルブ２１を開いて活性炭輸送管２３へ排
出し、使用済活性炭炉内吹込ブロワ２２からの気流によ
って空気輸送して焼却炉内に吹き込み、吸着した有害ガ
ス成分とともに燃焼分解させる。
済みの活性炭Ｃは、焼却炉の運転を再開した後で、活性
炭引抜シールバルブ２１を開いて活性炭輸送管２３へ排
出し、使用済活性炭炉内吹込ブロワ２２からの気流によ
って空気輸送して焼却炉内に吹き込み、吸着した有害ガ
ス成分とともに燃焼分解させる。
【００３５】この状態で運転を行い、圧力センサ３０で
劣化状態が検出されたら、上段のメッシュフロア１５を
回動させて活性炭Ｃを落下させケーシング１１下部に一
時貯留する。それから、下段のメッシュフロア１５水平
に戻し、活性炭投入シールバルブ１６を開いて、活性炭
ホッパ１７から活性炭供給コンベヤ１９を経て供給され
る新しい活性炭Ｃを下段のメッシュフロア１５に供給し
て、下段の活性炭支持床１４上に固定層２５を形成す
る。それから、上段のメッシュフロア１５を水平に戻す
ことにより、図３の状態に戻る。
劣化状態が検出されたら、上段のメッシュフロア１５を
回動させて活性炭Ｃを落下させケーシング１１下部に一
時貯留する。それから、下段のメッシュフロア１５水平
に戻し、活性炭投入シールバルブ１６を開いて、活性炭
ホッパ１７から活性炭供給コンベヤ１９を経て供給され
る新しい活性炭Ｃを下段のメッシュフロア１５に供給し
て、下段の活性炭支持床１４上に固定層２５を形成す
る。それから、上段のメッシュフロア１５を水平に戻す
ことにより、図３の状態に戻る。
【００３６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の活性炭充
填塔によれば、活性炭充填塔からの粉塵の発生が防止で
き後段に集塵装置を設置する必要がなく、且つ活性炭の
交換を適切に行うことができる。
填塔によれば、活性炭充填塔からの粉塵の発生が防止で
き後段に集塵装置を設置する必要がなく、且つ活性炭の
交換を適切に行うことができる。
【００３７】ケーシング内に、複数段の活性炭支持床を
設けると、各段の活性炭支持床上にそれぞれ形成される
固定層の一層当たりの活性炭の厚さは薄くすることがで
き、目詰まりによる劣化の著しい下段の活性炭のみを交
換することにより、上段の未劣化の活性炭を有効利用す
ることができる。
設けると、各段の活性炭支持床上にそれぞれ形成される
固定層の一層当たりの活性炭の厚さは薄くすることがで
き、目詰まりによる劣化の著しい下段の活性炭のみを交
換することにより、上段の未劣化の活性炭を有効利用す
ることができる。
【００３８】活性炭支持床は、複数の回動可能なメッシ
ュフロワで構成することにより、活性炭の交換が容易に
なる。活性炭投入口の下に、ケーシング内に供給される
活性炭を活性炭支持床上に分散させる分散装置を設けれ
ば、活性炭の供給時に活性炭支持床上の層厚を均等にで
きるので、新しい活性炭を充填した後で、層厚を均一に
するために人力により表層を掻き均す必要はない。
ュフロワで構成することにより、活性炭の交換が容易に
なる。活性炭投入口の下に、ケーシング内に供給される
活性炭を活性炭支持床上に分散させる分散装置を設けれ
ば、活性炭の供給時に活性炭支持床上の層厚を均等にで
きるので、新しい活性炭を充填した後で、層厚を均一に
するために人力により表層を掻き均す必要はない。
【図１】本発明の実施の一形態である活性炭充填塔を備
えた廃棄物処理設備の排ガス処理系の構成図である。
えた廃棄物処理設備の排ガス処理系の構成図である。
【図２】２段の活性炭支持床を備えた活性炭充填塔で、
活性炭の固定層を一層にして使用した場合の説明図であ
る。
活性炭の固定層を一層にして使用した場合の説明図であ
る。
【図３】従来の移動層式活性炭充填塔の構成の説明図で
ある。
ある。
【図４】従来の固定層式活性炭充填塔の構成の説明図で
ある。
ある。
１ 排ガス経路 ２ バイパスダクト ３ バイパスダンパ ４ ガス冷却塔 ５ 集塵装置 ６ 誘引ファン ７ 煙突 ８ 活性炭充填塔 ９ 入口ダンパ １０ 出口ダンパ １１ ケーシング １２ 活性炭投入口 １３ 活性炭排出口 １４ 活性炭支持床 １５ メッシュフロア １６ 活性炭投入シールバルブ １７ 活性炭ホッパ １８ 活性炭供給バルブ １９ 活性炭供給コンベヤ ２０ 分散装置 ２１ 活性炭引抜シールバルブ ２２ 使用済活性炭炉内吹込ブロワ ２３ 活性炭輸送管 ２５ 固定層 ３０ 圧力センサ Ｃ 活性炭
【手続補正書】
【提出日】平成１０年７月８日（１９９８．７．８）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正内容】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 3K065 HA02 HA03 3K070 DA02 DA03 DA05 DA24 DA27 4D002 AA02 AA12 AA19 AA21 AA28 AA29 BA03 BA14 CA07 CA08 CA20 DA41 EA05 EA08 EA13 EA20 GA02 GA03 GB01 GB04 GB20 HA02 4D012 CA09 CA12 CA15 CA16 CB13 CE01 CE02 CF02 CF03 CG01 CH01 CK07
Claims (4)
- 【請求項１】 廃棄物処理設備の排ガス経路中に設けら
れる活性炭充填塔であって、上部に活性炭投入口、下部
に活性炭排出口を備えたケーシング内に、活性炭支持床
を設けると共に、活性炭支持床上に形成された固定層の
活性炭の劣化状態を検出する検出器を設けたことを特徴
とする活性炭充填塔。 - 【請求項２】 ケーシング内に、複数段の活性炭支持床
を設けたことを特徴とする請求項１記載の活性炭充填
塔。 - 【請求項３】 活性炭支持床が複数の回動可能なメッシ
ュフロワで構成されていることを特徴とする請求項１ま
たは請求項２記載の活性炭充填塔。 - 【請求項４】 活性炭投入口の下に、ケーシング内に供
給される活性炭を活性炭支持床上に分散させる分散装置
を設けたことを特徴とする請求項１、請求項２、または
請求項２記載の活性炭充填塔。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10184455A JP2000015045A (ja) | 1998-06-30 | 1998-06-30 | 活性炭充填塔 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10184455A JP2000015045A (ja) | 1998-06-30 | 1998-06-30 | 活性炭充填塔 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000015045A true JP2000015045A (ja) | 2000-01-18 |
Family
ID=16153459
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10184455A Pending JP2000015045A (ja) | 1998-06-30 | 1998-06-30 | 活性炭充填塔 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000015045A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003010639A (ja) * | 2001-06-29 | 2003-01-14 | Furukawa Co Ltd | 有害物質除去用の充填塔 |
| CN102652954A (zh) * | 2012-05-13 | 2012-09-05 | 深圳市迪迪美环保科技有限公司 | 一种利用磁能碳化炉进行垃圾分解处理系统 |
| JP2014104447A (ja) * | 2012-11-29 | 2014-06-09 | Kurita Water Ind Ltd | ガス浄化装置 |
| JP2016052633A (ja) * | 2014-09-04 | 2016-04-14 | 本田技研工業株式会社 | 二酸化炭素回収装置 |
| CN112023616A (zh) * | 2020-09-10 | 2020-12-04 | 杭州木杲技术咨询有限公司 | 一种气体吸附装置 |
| WO2022252529A1 (zh) * | 2021-06-01 | 2022-12-08 | 国投信开水环境投资有限公司 | 一种炭质填料生物除臭装置 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50133165A (ja) * | 1974-03-28 | 1975-10-22 | ||
| JPS5433275A (en) * | 1977-08-20 | 1979-03-10 | Chiyoda Chem Eng & Constr Co Ltd | Dense packing orientation apparatus of granular substance |
| JPS586230A (ja) * | 1981-07-06 | 1983-01-13 | Miura Eng Internatl Kk | 高温ガスの脱臭方法 |
| JPH05329324A (ja) * | 1992-05-28 | 1993-12-14 | Mitsui Kinzoku Kyushu Kiko Kk | 汚物貯留施設における脱臭方法と装置 |
| JPH06281128A (ja) * | 1993-03-31 | 1994-10-07 | Babcock Hitachi Kk | 燃焼炉の排煙処理装置 |
-
1998
- 1998-06-30 JP JP10184455A patent/JP2000015045A/ja active Pending
Patent Citations (5)
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070206 |
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070612 |