Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

EP0538081A1 - Procédé perfectionné de galvanoplastie d'une bande métallique - Google Patents

Procédé perfectionné de galvanoplastie d'une bande métallique Download PDF

Info

Publication number
EP0538081A1
EP0538081A1 EP92402525A EP92402525A EP0538081A1 EP 0538081 A1 EP0538081 A1 EP 0538081A1 EP 92402525 A EP92402525 A EP 92402525A EP 92402525 A EP92402525 A EP 92402525A EP 0538081 A1 EP0538081 A1 EP 0538081A1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
strip
current
anode
metal
during
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
EP92402525A
Other languages
German (de)
English (en)
Other versions
EP0538081B1 (fr
Inventor
Isabelle Marolleau
Jean-Denis Girardier
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sollac SA
Original Assignee
Sollac SA
Lorraine de Laminage Continu SA SOLLAC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sollac SA, Lorraine de Laminage Continu SA SOLLAC filed Critical Sollac SA
Publication of EP0538081A1 publication Critical patent/EP0538081A1/fr
Application granted granted Critical
Publication of EP0538081B1 publication Critical patent/EP0538081B1/fr
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D7/00Electroplating characterised by the article coated
    • C25D7/06Wires; Strips; Foils
    • C25D7/0614Strips or foils
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • C25D21/12Process control or regulation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/22Electroplating: Baths therefor from solutions of zinc
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/10Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D7/00Electroplating characterised by the article coated
    • C25D7/06Wires; Strips; Foils
    • C25D7/0614Strips or foils
    • C25D7/0657Conducting rolls

Definitions

  • the present invention relates to an improved process for electroplating a metal strip. It applies in particular to the formation of a coating or deposit of zinc on a strip.
  • the supply current of the electrolytic cell is adjusted so as to obtain, at the surface of the strip, a current density lower than the abovementioned limit value.
  • operations are carried out to prepare the strip, in particular comprising a degreasing operation.
  • the current density can reach or even exceed the diffusion limit current by causing the phenomenon mentioned above of hydrogen adsorption and fixing of zinc hydroxide on the surface of the strip.
  • the object of the invention is in particular to form an electrolytic deposit of metal on the surface of a flat product or strip whose adhesion and cohesion are of good quality and do not degrade, for example, during a treatment steaming.
  • the subject of the invention is a process for electroplating a metal strip, of the type in which the strip is made to run in a bath of at least one electrolytic cell containing a solution of ions of a metal to depositing on the strip and comprising electrically conductive rollers, forming a cathode, in contact with said strip and at least one anode placed near each roll, each pair of conductive rollers and anode being supplied by an adjustable electric current I whose density J to the surface of the sheet can reach or exceed a value called the diffusion limit current Jl of the ions, characterized in that the deposition is carried out in two phases, by adjusting the current I of a first and a second series of couples conductive-anode roller so that, on the one hand, during the two phases, the average value Jm of the current density at the surface of the strip is less than the diffusion limit current Jl and, that d on the other hand, at during the first phase, the local value of the current density J, at any point on the surface of the strip
  • the first metal deposition phase corresponds to the passage of the strip in a first conductive roller-anode pair of a first electrolytic cell.
  • the first metal deposition phase corresponds to the passage of the strip in the first two conductor-anode roller pairs of a first electrolytic cell.
  • the electroplating process according to the invention is applied to the formation of a zinc coating, of a thickness of approximately 20 ⁇ m, on a metal strip.
  • This particular application of the process is commonly called electrogalvanizing.
  • the zinc coating is formed in two stages. During the first step, a layer of zinc 5 ⁇ m thick is deposited and during the second step, a layer of zinc is deposited 15 ⁇ m thick.
  • the strip travels at a speed V of between 40 and 180 m / min in a bath of at least one electrolytic cell, containing zinc ions to be deposited on the strip.
  • the electrolytic cell comprises electrically conductive rollers, forming a cathode, in contact with the metal strip, and at least one anode placed near each roller.
  • Each pair of conductive roller and anode is supplied by an electric current of appropriate intensity I.
  • the coating metal contained in the bath is transported in the electrolyte by the electrolysis current between the anodes and the strip brought to a cathodic potential by the electrically conductive rollers.
  • the electrolysis current has a density J, at the surface of the strip, which can reach, or even exceed, the limit current Jl of diffusion of the zinc ions to be deposited.
  • the supply current of the electrolytic cell is adjusted so that the average value Jm of the current density at the surface of the strip is less than the limit current J1.
  • the current of a first series of conductive roller-anode pairs is adjusted so that the current density J at the surface of the strip is at any point thereof less than the current limit Jl, in order to avoid the appearance, on the surface of the strip, of overcurrents of a value greater than the limit current Jl.
  • This condition, as well as the previous one, are notably fulfilled when the mean value Jm of the density of current checks the relation: 10% Jl ⁇ Jm ⁇ 40% Jl.
  • a first deposit of zinc with a thickness of 5 ⁇ m is carried out.
  • the first zinc deposition step can be carried out, for example by passing the strip through a first pair of conductive roller-anode supplied by a current adjusted according to the conditions just described or by passing the strip through the first two conductor-anode roller pairs supplied with a current adjusted according to these same conditions.
  • a second deposit of zinc is made on the first to complete the zinc coating to the desired thickness of 20 ⁇ m.
  • This second deposit is formed by adjusting the current of a second series of conductor-anode roller pairs, so that its average density Jm at the surface of the strip is higher than at the first step and lower than the limit current Jl.
  • the two successive phases of the process can also be carried out in two electrolytic cells arranged in series and the two phases of the process can be linked continuously or discontinuously.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Coating With Molten Metal (AREA)

Abstract

Selon ce procédé, la bande défile dans un bain d'au moins une cellule électrolytique et on dépose successivement deux couches de métal à sa surface en réglant le courant d'alimentation de la cellule électrolytique de façon que la valeur moyenne de la densité de courant à la surface de la bande soit inférieure à une valeur appelée courant limite de diffusion des ions du métal à déposer. De plus, au cours de la formation de la première couche de métal, le courant est réglé de façon à éviter l'apparition de surintensités locales à la surface de la bande, ces surintensités pouvant dépasser le courant limite de diffusion. Application à un procédé d'électrozingage.

Description

  • La présente invention concerne un procédé perfectionné de galvanoplastie d'une bande métallique. Elle s'applique en particulier à la formation d'un revêtement ou dépôt de zinc sur une bande.
  • Il est connu de former un revêtement de zinc sur une bande en faisant défiler celle-ci dans un bain d'au moins une cellule électrolytique, dont la bande constitue la cathode. Cette cellule est alimentée par un courant réglable. Les conditions de formation du dépôt de zinc dépendent en particulier de la densité de courant à la surface de la bande. Il existe une valeur limite de la densité de courant, appelée "courant limite de diffusion des ions du zinc", pour laquelle le dépôt cristallise sous une forme dendritique dont l'aspect macroscopique est appelé, par l'homme de métier, "dépôt brûlé". A de telles valeurs de densité de courant il se produit, en outre, un dégagement d'hydrogène, dont une partie peut être adsorbée par la bande. Ce dégagement d'hydrogène peut entraîner une formation d'hydroxyde de zinc, Zn (OH)₂, par modification locale du pH, qui se fixe entre la bande et le dépôt de zinc. Les opérations réalisées ultérieurement sur la bande telles que la peinture peuvent alors conduire à une dégradation de la bande.
  • Habituellement, on règle le courant d'alimentation de la cellule électrolytique de façon à obtenir, à la surface de la bande, une densité de courant inférieure à la valeur limite précitée. Préalablement à l'opération de galvanoplastie, on réalise des opérations de préparation de la bande, comportant notamment une opération de dégraissage. Cependant, malgré ces opérations de préparation, il subsiste parfois à la surface de la bande des impuretés provoquant la déviation des lignes de courant et l'apparition de zones de surintensité, autour de ces impuretés. Dans ces zones, la densité de courant peut atteindre, voire dépasser, le courant limite de diffusion en provoquant le phénomène évoqué ci-dessus d'adsorption d'hydrogène et de fixation d'hydroxyde de zinc à la surface de la bande.
  • Dans ce cas, outre la baisse de qualité de l'adhérence du revêtement de zinc, on observe une décohésion microscopique du revêtement lorsque la bande subit ultérieurement un traitement d'étuvage destiné, par exemple, à polymériser une couche de peinture recouvrant la bande revêtue. L'hydrogène, qui a été adsorbé à la surface de la bande pendant l'opération de galvanoplastie, se dégage pendant l'étuvage en formant des cratères et des pustules à la surface du revêtement de la bande.
  • L'invention a notamment pour but de former un dépôt électrolytique de métal à la surface d'un produit plat ou bande dont l'adhérence et la cohésion soient de bonne qualité et ne se dégradent pas, par exemple, au cours d'un traitement d'étuvage.
  • A cet effet, l'invention a pour objet un procédé de galvanoplastie d'une bande métallique, du type dans lequel on fait défiler la bande dans un bain d'au moins une cellule électrolytique contenant une solution d'ions d'un métal à déposer sur la bande et comprenant des rouleaux conducteurs électriques, formant cathode, en contact avec ladite bande et au moins une anode placée à proximité de chaque rouleau, chaque couple rouleau conducteur-anode étant alimenté par un courant électrique I réglable dont la densité J à la surface de la tôle peut atteindre ou dépasser une valeur appelée courant limite de diffusion Jl des ions, caractérisé en ce qu'on effectue le dépôt en deux phases, en réglant le courant I d'une première et d'une seconde séries de couples rouleau conducteur-anode de façon que, d'une part, au cours des deux phases, la valeur moyenne Jm de la densité de courant à la surface de la bande soit inférieure au courant limite de diffusion Jl et, que d'autre part, au cours de la première phase, la valeur locale de la densité de courant J, en tout point de la surface de la bande, soit inférieure au courant limite de diffusion Jl.
  • Suivant d'autres caractéristiques de l'invention:
    • on effectue la deuxième phase de dépôt de métal en réglant le courant I de la seconde série de couples rouleau conducteur-anode de façon à obtenir une valeur moyenne Jm de la densité de courant supérieure à la valeur moyenne de la densité de courant utilisée pour former le premier dépôt ;
    • lors de la première phase de dépôt de métal, on règle le courant I de la première série de couples rouleau conducteur-anode de façon que la valeur moyenne Jm de la densité de courant à la surface de la bande vérifie la relation suivante : 10% Jl ≦ Jm ≦ 40% Jl ;
      Figure imgb0001
    • la couche de métal déposée lors de la première phase de dépôt a une épaisseur comprise entre 4 et 6 µm, de préférence 5 µm ;
    • lors de la seconde phase de dépôt de métal, on règle le courant I de la seconde série de couples rouleau conducteur-anode de façon que la valeur moyenne Jm de la densité de courant à la surface de la bande vérifie la relation suivante : 50% Jl ≦ Jm ≦ 90% Jl ;
      Figure imgb0002
    • la vitesse de défilement V de la bande est sensiblement la même au cours des deux phases de dépôt de métal ;
    • le métal déposé sur la bande est du zinc.
  • Suivant un premier mode de réalisation du procédé la première phase de dépôt de métal correspond au passage de la bande dans un premier couple rouleau conducteur-anode d'une première cellule electrolytique.
  • Suivant un second mode de réalisation du procédé la première phase de dépôt de métal correspond au passage de la bande dans les deux premiers couples rouleau conducteur-anode d'une première cellule électrolytique.
  • Un exemple de mise en oeuvre du procédé selon l'invention est décrit plus en détail ci-dessous.
  • Dans cet exemple, le procédé de galvanoplastie selon l'invention est appliqué à la formation d'un revêtement de zinc, d'une épaisseur de 20 µm environ, sur une bande métallique. Cette application particulière du procédé est appelée, de façon courante, électrozingage. Le révêtement de zinc est formé en deux étapes. Au cours de la première étape on dépose une couche de zinc de 5 µm d'épaisseur et au cours de la seconde étape on dépose une couche de zinc de 15 µm d'épaisseur.
  • La bande défile à une vitesse V comprise entre 40 et 180 m/mn dans un bain d'au moins une cellule électrolytique, contenant des ions de zinc à déposer sur la bande.
  • De manière classique, la cellule électrolytique comprend des rouleaux conducteurs électriques, formant cathode, en contact avec la bande métallique, et au moins une anode placée à proximité de chaque rouleau. Chaque couple rouleau conducteur-anode est alimenté par un courant électrique d'intensité I appropriée.
  • Le métal de revêtement contenu dans le bain est transporté dans l'électrolyte par le courant d'électrolyse entre les anodes et la bande portée à un potentiel cathodique par les rouleaux conducteurs électriques.
  • Le courant d'électrolyse a une densité J, à la surface de la bande, qui peut atteindre, voire dépasser, le courant limite Jl de diffusion des ions du zinc à déposer. Cette valeur limite Jl dépend des caractéristiques du bain et de la vitesse de défilement V de la bande, ou plus précisément du renouvellement d'électrolyte dans l'espace compris entre la cathode et l'anode, ainsi que de la température du bain. Dans les conditions de l'exemple, Jl = 150 A/dm².
  • Pour toutes les étapes du procédé, on règle le courant d'alimentation de la cellule électrolytique de façon que la valeur moyenne Jm de la densité de courant à la surface de la bande soit inférieure au courant limite Jl.
  • Au cours de la première étape du procédé, on règle le courant d'une première série de couples rouleau conducteur-anode de manière que la densité de courant J à la surface de la bande soit en tout point de celle-ci, inférieure au courant limite Jl, afin d'éviter l'apparition, à la surface de la bande, de surintensités d'une valeur supérieure au courant limite Jl. Cette condition, ainsi que la précédente, sont notamment remplies lorsque la valeur moyenne Jm de la densité de courant vérifie la relation: 10% Jl ≦ Jm ≦ 40% Jl.
    Figure imgb0003
  • Dans l'exemple décrit, on règle le courant de façon que Jm = 15A/dm² = 10% Jl et on effectue un premier dépôt de zinc d'une épaisseur de 5 µm. Dans ces conditions, même s'il subsiste des impuretés à la surface de la bande, la densité de courant J ne dépasse pas la valeur limite de diffusion Jl. Par conséquent, il n'y a pas d'adsorption d'hydrogène ni de fixation d'hydroxyde de zinc Zn (OH)₂ à la surface de la bande.
  • On peut effectuer la première étape de dépôt de zinc, en faisant passer par exemple la bande dans un premier couple rouleau conducteur-anode alimenté par un courant réglé suivant les conditions que l'on vient de décrire ou bien en faisant passer la bande dans les deux premiers couples rouleau conducteur-anode alimentés par un courant réglé suivant ces mêmes conditions.
  • Au cours de la seconde étape du procédé, on effectue un second dépôt de zinc sur le premier pour compléter le revêtement de zinc jusqu'à l'épaisseur souhaitée de 20 µm. Ce second dépôt est formé en réglant le courant d'une seconde série de couples rouleau conducteur-anode, de façon que sa densité moyenne Jm à la surface de la bande soit plus élevée qu'à la première étape et inférieure au courant limite Jl. Ces conditions sont notamment remplies lorsque la valeur moyenne Jm de la densité de courant vérifie la relation: 50% Jl ≦ Jm ≦ 90% Jl.
    Figure imgb0004
  • Dans l'exemple décrit, on règle ce courant de façon que Jm = 110A/dm² = 73% Jl.
  • L'absence de formation d'hydrogène et d'hydroxyde de zinc Zn (OH)₂ au cours du procédé de galvanoplastie selon l'invention permet d'éviter, par la suite, la décohésion du revêtement de zinc pendant une opération d'étuvage destinée, par exemple, à polymériser une couche de peinture sur la bande.
  • Bien entendu les deux phases successives du procédé peuvent aussi être réalisées dans deux cellules électrolytiques disposées en série et les deux phases du procédé peuvent être enchaînées de façon continue ou discontinue.

Claims (9)

  1. Procédé de galvanoplastie d'une bande métallique, du type dans lequel on fait défiler la bande dans un bain d'au moins une cellule électrolytique contenant une solution d'ions d'un métal à déposer sur la bande et comprenant des rouleaux conducteurs électriques, formant cathode, en contact avec ladite bande et au moins une anode placée à proximité de chaque rouleau, chaque couple rouleau conducteur-anode étant alimenté par un courant électrique I réglable dont la densité J à la surface de la tôle peut atteindre ou dépasser une valeur appelée courant limite de diffusion Jl des ions, caractérisé en ce qu'on effectue le dépôt en deux phases, en réglant le courant I d'une première et d'une seconde séries de couples rouleau conducteur-anode de façon que, d'une part, au cours des deux phases, la valeur moyenne Jm de la densité de courant à la surface de la bande soit inférieure au courant limite de diffusion Jl et, que d'autre part, au cours de la première phase, la valeur locale de la densité de courant J, en tout point de la surface de la bande, soit inférieure au courant limite de diffusion Jl.
  2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'on effectue la deuxième phase de dépôt de métal en réglant le courant I de la seconde série de couples rouleau conducteur-anode de façon à obtenir une valeur moyenne Jm de la densité de courant supérieure à la valeur moyenne de la densité de courant utilisée pour former le premier dépôt.
  3. Procédé selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que, lors de la première phase de dépôt de métal, on règle le courant I de la première série de couples rouleau conducteur-anode de façon que la valeur moyenne Jm de la densité de courant à la surface de la bande vérifie la relation suivante : 10% Jl ≦ Jm ≦ 40% Jl
    Figure imgb0005
  4. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que la couche de métal déposée lors de la première phase de dépôt a une épaisseur comprise entre 4 et 6 µm, de préférence 5 µm.
  5. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que, lors de la seconde phase de dépôt de métal, on règle le courant I de la seconde série de couples rouleau conducteur-anode de façon que la valeur moyenne Jm de la densité de courant à la surface de la bande vérifie la relation suivante : 50% Jl ≦ Jm ≦ 90% Jl
    Figure imgb0006
  6. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que la première phase de dépôt de métal correspond au passage de la bande dans un premier couple rouleau conducteur-anode d'une première cellule electrolytique.
  7. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que la première phase de dépôt de métal correspond au passage de la bande dans les deux premiers couples rouleau conducteur-anode d'une première cellule électrolytique.
  8. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que la vitesse de défilement V de la bande est sensiblement la même au cours des deux phases de dépôt de métal.
  9. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que le métal déposé sur la bande est du zinc.
EP92402525A 1991-10-16 1992-09-15 Procédé perfectionné de galvanoplastie d'une bande métallique Expired - Lifetime EP0538081B1 (fr)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR9112770A FR2682691B1 (fr) 1991-10-16 1991-10-16 Procede perfectionne de galvanoplastie d'une bande metallique.
FR9112770 1991-10-16

Publications (2)

Publication Number Publication Date
EP0538081A1 true EP0538081A1 (fr) 1993-04-21
EP0538081B1 EP0538081B1 (fr) 1995-12-06

Family

ID=9417986

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP92402525A Expired - Lifetime EP0538081B1 (fr) 1991-10-16 1992-09-15 Procédé perfectionné de galvanoplastie d'une bande métallique

Country Status (8)

Country Link
US (1) US5344552A (fr)
EP (1) EP0538081B1 (fr)
JP (1) JPH05214587A (fr)
KR (1) KR930008196A (fr)
AT (1) ATE131222T1 (fr)
DE (1) DE69206573T2 (fr)
ES (1) ES2081590T3 (fr)
FR (1) FR2682691B1 (fr)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2732365A1 (fr) * 1995-03-29 1996-10-04 Lorraine Laminage Procede continu d'electrozingage de bande metallique dans un bain d'electrolyse a base de chlorures pour obtenir des revetements de faible rugosite sous des densites de courant elevees
EP0887440A1 (fr) * 1997-06-26 1998-12-30 Sollac Bain aqueux d'électrodéposition à base de chlorures pour la préparation d'un revêtement à base de zinc ou d'alliage de zinc

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100487279B1 (ko) * 2002-07-16 2005-05-03 현대모비스 주식회사 아연-철 합금 도금 강판제조방법

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2460347A1 (fr) * 1979-06-29 1981-01-23 Thomson Csf Procede de metallisation directe d'un substrat conducteur par galvanoplastie et substrat conducteur comportant une telle metallisation

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61170595A (ja) * 1985-01-24 1986-08-01 Nippon Steel Corp 電気亜鉛めつき鋼板の製造方法
JP2675152B2 (ja) * 1989-08-11 1997-11-12 川崎製鉄株式会社 めっき密着性に優れたZn‐Ni合金電気めっき鋼板の製造方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2460347A1 (fr) * 1979-06-29 1981-01-23 Thomson Csf Procede de metallisation directe d'un substrat conducteur par galvanoplastie et substrat conducteur comportant une telle metallisation

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 10, no. 377 (C-392)(2434) 16 Décembre 1986 & JP-A-61 170 595 ( NIPPON STEEL CORP ) 1 Août 1986 *

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2732365A1 (fr) * 1995-03-29 1996-10-04 Lorraine Laminage Procede continu d'electrozingage de bande metallique dans un bain d'electrolyse a base de chlorures pour obtenir des revetements de faible rugosite sous des densites de courant elevees
US5827419A (en) * 1995-03-29 1998-10-27 Sollac (Societe Anonyme) Continuous process for the electrogalvanizing of metal strip in a chloride-based plating solution in order to obtain coatings with low rugosity at high current densities
EP0887440A1 (fr) * 1997-06-26 1998-12-30 Sollac Bain aqueux d'électrodéposition à base de chlorures pour la préparation d'un revêtement à base de zinc ou d'alliage de zinc
FR2765247A1 (fr) * 1997-06-26 1998-12-31 Lorraine Laminage Bain aqueux d'electrodeposition a base de chlorures pour la preparation d'un revetement a base de zinc ou d'alliage de zinc
US6153079A (en) * 1997-06-26 2000-11-28 Sollac Aqueous electrodeposition bath based on chlorides for preparation of a coat based on zinc or zinc alloy

Also Published As

Publication number Publication date
EP0538081B1 (fr) 1995-12-06
DE69206573D1 (de) 1996-01-18
US5344552A (en) 1994-09-06
FR2682691B1 (fr) 1994-01-14
KR930008196A (ko) 1993-05-21
FR2682691A1 (fr) 1993-04-23
ATE131222T1 (de) 1995-12-15
JPH05214587A (ja) 1993-08-24
ES2081590T3 (es) 1996-03-16
DE69206573T2 (de) 1996-05-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0285476A1 (fr) Electrode mince supportée sur feuillard conducteur électronique et procédé de fabrication
FR2796656A1 (fr) Procede de nickelage en continu d'un conducteur en aluminium et dispositif correspondant
FR2463496A1 (fr) Procede de deposition d'un film metallique poreux sur un substrat metallique ou plastique et application a la fabrication de condensateurs electrolytiques
JP4565806B2 (ja) 発泡材ストリップの電気メッキ方法
BE1005928A5 (fr) Materiau structurel pour electrode insoluble.
FR2611086A2 (fr) Application ou utilisation d'un procede de preparation de materiaux composites a elements de renforcement orientes, a la fabrication d'electrodes, ainsi que les electrodes obtenues et des generateurs electrochimiques comportant de telles electrodes
EP0025396B1 (fr) Procédé d'élaboration d'un matériau pour la fabrication d'emballages métalliques, notamment boîtes à conserves, constitué d'une tôle d'acier protégée
EP0538081B1 (fr) Procédé perfectionné de galvanoplastie d'une bande métallique
EP0704558B1 (fr) Cellule d'électrodéposition en continu d'alliages métalliques
FR2461023A1 (fr) Procede de preparation de substrats conducteurs et d'electrodes pour l'electrolyse d'une saumure, et l'electrode a faible surtension ainsi obtenue
JPH07228996A (ja) 金属箔の製造方法
EP0538095B1 (fr) Procédé d'électrozingage d'une bande métallique
EP4211733A1 (fr) Ensembles anodes métalliques au lithium et appareil et procédé de fabrication
EP0622478B1 (fr) Procédé d'électrodéposition sur une surface d'un substrat en acier d'une couche d'un revêtement d'un alliage à base de zinc et matériau d'acier revêtu d'une couche de revêtement d'un alliage à base de zinc
JPH057474B2 (fr)
BE1002222A6 (fr) Procede pour appliquer par electrolyse une couche de cuivre sur un feuillard metallique.
EP0890655B1 (fr) Procédé de traitement de surface de tôles d'acier galvanisé allié et tôle obtenue.
FR2693678A1 (fr) Tôle sandwich perfectionnée et procédé de fabrication de cette tôle sandwich.
JPS61279433A (ja) ワイヤ放電加工用電極線及びその製造法
JPH01177399A (ja) 電気めっき用Pb系不溶性陽極
CN118696432A (zh) 用于生产锂电池的阳极的工艺
BE905476A (fr) Feuille metallique souple.
GB189920237A (en) Improved Method and Apparatus for the Manufacture by Electro-deposition of Articles Plated with Platinum, Gold, and Silver.
JPH06280085A (ja) 密着性の優れた亜鉛系めっきを施したアルミニウムおよびアルミニウム合金とその製造方法
JPH05279894A (ja) 極薄金属箔用めっき装置

Legal Events

Date Code Title Description
PUAI Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012

17P Request for examination filed

Effective date: 19930125

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AT BE CH DE DK ES FR GB GR IT LI LU NL PT SE

17Q First examination report despatched

Effective date: 19950301

GRAA (expected) grant

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009210

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: B1

Designated state(s): AT BE CH DE DK ES FR GB GR IT LI LU NL PT SE

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: GR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 19951206

Ref country code: DK

Effective date: 19951206

REF Corresponds to:

Ref document number: 131222

Country of ref document: AT

Date of ref document: 19951215

Kind code of ref document: T

GBT Gb: translation of ep patent filed (gb section 77(6)(a)/1977)

Effective date: 19951208

REF Corresponds to:

Ref document number: 69206573

Country of ref document: DE

Date of ref document: 19960118

ITF It: translation for a ep patent filed
PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: SE

Effective date: 19960306

Ref country code: PT

Effective date: 19960306

REG Reference to a national code

Ref country code: ES

Ref legal event code: FG2A

Ref document number: 2081590

Country of ref document: ES

Kind code of ref document: T3

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: LI

Effective date: 19960930

Ref country code: CH

Effective date: 19960930

PLBE No opposition filed within time limit

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009261

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: NO OPPOSITION FILED WITHIN TIME LIMIT

26N No opposition filed
REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: PL

REG Reference to a national code

Ref country code: GB

Ref legal event code: IF02

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: NL

Payment date: 20020815

Year of fee payment: 11

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: AT

Payment date: 20020820

Year of fee payment: 11

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: GB

Payment date: 20020910

Year of fee payment: 11

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DE

Payment date: 20020911

Year of fee payment: 11

Ref country code: LU

Payment date: 20020911

Year of fee payment: 11

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FR

Payment date: 20020917

Year of fee payment: 11

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: ES

Payment date: 20020919

Year of fee payment: 11

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: BE

Payment date: 20021011

Year of fee payment: 11

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: LU

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20030915

Ref country code: GB

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20030915

Ref country code: AT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20030915

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: ES

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20030916

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: BE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20030930

BERE Be: lapsed

Owner name: *SOLLAC

Effective date: 20030930

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: NL

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20040401

Ref country code: DE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20040401

GBPC Gb: european patent ceased through non-payment of renewal fee

Effective date: 20030915

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20040528

NLV4 Nl: lapsed or anulled due to non-payment of the annual fee

Effective date: 20040401

REG Reference to a national code

Ref country code: FR

Ref legal event code: ST

REG Reference to a national code

Ref country code: ES

Ref legal event code: FD2A

Effective date: 20030916

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: IT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES;WARNING: LAPSES OF ITALIAN PATENTS WITH EFFECTIVE DATE BEFORE 2007 MAY HAVE OCCURRED AT ANY TIME BEFORE 2007. THE CORRECT EFFECTIVE DATE MAY BE DIFFERENT FROM THE ONE RECORDED.

Effective date: 20050915