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DE69734921T2 - Antibeschlag-gegenstand und dessen herstellungsverfahren - Google Patents

Antibeschlag-gegenstand und dessen herstellungsverfahren Download PDF

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DE69734921T2
DE69734921T2 DE1997634921 DE69734921T DE69734921T2 DE 69734921 T2 DE69734921 T2 DE 69734921T2 DE 1997634921 DE1997634921 DE 1997634921 DE 69734921 T DE69734921 T DE 69734921T DE 69734921 T2 DE69734921 T2 DE 69734921T2
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Kazuhiro Chuo-ku DOUSHITA
Kazutaka Chuo-ku KAMITANI
Toyoyuki Chuo-ku TERANISHI
Takashi Chuo-ku SUNADA
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Nippon Sheet Glass Co Ltd
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Nippon Sheet Glass Co Ltd
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Description

  • GEBIET DER ERFINDUNG
  • Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf einen Antibeschlag-Gegenstand mit einer Antibeschlag-Schicht oder hydrophilen Schicht, die auf der Oberfläche eines Substrats, wie beispielsweise Glas, Keramik, Kunststoff oder Metall, gebildet ist, und ein Verfahren zum Herstellen desselben. Der oben genannte Antibeschlag-Gegenstand gemäß der Erfindung wird für Gebäude, Fahrzeuge, optische Komponenten, Industrieanwendungen, Landwirtschaft, Gegenstände des täglichen Lebens, Hausmaterialien und medizinische Ausrüstung verwendet. Der oben genannte Antibeschlag-Gegenstand gemäß der Erfindung ist zum Beispiel für Fensterglas, Spiegel, Linsen, Kühlrippen von Klimaanlagen-Wärmetauschern, Biomaterialien, Filmfolien, Schaukästen etc. geeignet, welche über hervorragende Haltbarkeit, Verschleißwiderstand, Antibeschlag-Eigenschaft oder Hydrophilität etc. verfügen.
  • HINTERGRUND DER ERFINDUNG
  • Ein Phänomen, bei dem Glas oder andere Gegenstände beschlagen, ist das Ergebnis davon, dass kleine Wassertropfen an der Oberfläche der oben genannten Gegenstände haften (oder darauf kondensiert sind) und diese kleinen Wassertropfen Licht zerstreuen. Dieses Beschlagen hat ein bemerkenswertes Mindern der Fähigkeit von Gläsern, Schutzbrillen, optischen Komponenten von optischen Linsen zur Folge, verdirbt das Aussehen von Fensterglas für Gebäude und Spiegel und schränkt die Verwendung als Baumaterialien ein. Des Weiteren wird, wenn das oben genannte Beschlagen bei Fensterglas für Fahrzeuge einschließlich Autos auftritt, das Sichtfeld eingeschränkt, was in ernsthaften Problemen hinsichtlich der Sicherheit resultiert.
  • Als Verfahren zum Lösen solcher Probleme gibt es einige Verfahren zum Verhindern derselben, wovon eines ein Verfahren zum Beschichten einer Oberfläche eines Gegenstandes wie beispielsweise Glas mit einem oberflächenaktiven Agens (z. B. japanische Patentoffenlegung Nr. 47926 von 1977) ist, ein anderes ein Verfahren zum Beschichten einer Oberfläche mit einem Beschichtungsagens, dessen Hauptbestandteil ein hydrophiles Absorptionsharz ist (zum Beispiel offengelegte japanische Patentveröffentlichung Nr. 220428 von 1994), ein weiteres ist ein Verfahren zum Fixieren hydrophiler Partikel (zum Beispiel offengelegte japanische Patentveröffentlichung Nr. 328701 von 1992), und noch ein weiteres ist ein Verfahren zum Aufrauen der oben genannten Oberfläche (zum Beispiel offengelegte japanische Patentveröffentlichung Nr. 91042 von 1986).
  • Jedoch ist in Bezug auf die Oberfläche eines Gegenstandes, wobei Glas oder eine andere Oberfläche des Gegenstands mit einem oberflächenaktiven Agens beschichtet ist, die Nachhaltigkeit der Antibeschlag-Eigenschaft gering, und es kann nur eine temporäre Wirkung erzielt werden. Des Weiteren gibt es ein anderes Problem, das in dem Mindern von klarer Durchsichtigkeit aufgrund von Blendung oder Weißwerden besteht.
  • Des Weiteren weist die Oberfläche eines Gegenstandes, die durch ein Verfahren zum Beschichten mit einem Beschichtungsagens erhalten wird, das hauptsächlich aus hydrophilem/Absorptionsharz besteht, ein weiteres Problem auf, nämlich dass der Verschleißwiderstand gering ist und seine Haltbarkeit geringer ist als bei anderen.
  • Des Weiteren kann mit einem Verfahren zum Fixieren hydrophiler Partikel an dem oben genannten Glas oder der Oberfläche anderer Gegenstände die erhaltene Oberfläche des Gegenstands keine ausreichenden Antibeschlag-Eigenschaften aufweisen, ist anfällig für Schmutz, und die Nachhaltigkeit der Antibeschlag-Wirkung ist gering. Des Weiteren besteht mit einem Verfahren zum Aufrauen der Oberfläche, obwohl solche Gegenstände durch Ätzen mit Flusssäure hergestellt werden, ein Problem, dass die Oberfläche des erhaltenen Gegenstandes eine geringere Antibeschlag-Wirkung in Bezug auf Atemluft oder Dampf aufweist.
  • In Anbetracht der oben genannten herkömmlichen Mängel und Probleme ist es somit ein Ziel der Erfindung, einen Antibeschlag-Gegenstand vorzusehen, welcher über hervorragende Haltbarkeit, Verschleißwiderstand und Nachhaltigkeit der Antibeschlag-Wirkung verfügt, und ein Verfahren zur Herstellung desselben.
  • Offenbarung der Erfindung
  • Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf einen Antibeschlag-Gegenstand, auf welchen eine Schicht mit feinen Partikeln aus metallischem Oxid mit einem Korndurchmesser von 4 bis 300 nm und mit einem metallischen Oxid als Matrix aufgetragen ist, wobei Ausnehmungen und Vorsprünge mit einer arithmetischen mittleren Rauheit (Ra) von 1,5 bis 80 nm und einem mittleren Abstand (Sm) von 4 bis 300 nm auf der oben genannten Schichtoberfläche gebildet sind.
  • In der Erfindung ist es durch Beschichten eines Substrats mit einer Beschichtungslösung, welche aus feinen Partikeln aus metallischem Oxid zusammengesetzt ist, einer hydrolysierbaren, kondensierbaren und polymerisierbaren Metall-organischen Verbindungen, einer Verbindung, die eine Chlorsilylgruppe oder hydrolysierbare Substanzen derselben enthält, möglich, eine Schicht zu bilden, die Ausnehmungen und Vorsprünge auf der Oberfläche des Substrats enthält.
  • Für die oben genannten feinen Partikel aus metallischem Oxid wird ein metallisches Oxid-Kolloid eines einzelnen Bestandteils, gewählt aus Siliziumoxid (Silica) und Titanoxid (Titania), verwendet. Diese werden vorzugsweise in Form eines flüssigen Diffusionssols (Kolloidlösung) verwendet. Die Folgenden sind als ein metallisches Oxid-Sol erhältlich; zum Beispiel Sole dispergiert in Wasser, welche auf dem Markt erhältlich sind, wie beispielsweise "Snowtex-OL", "Snowtex-O", "Snowtex-OUP", "Snowtex-UP", welche Silica-Sole sind, die von Nissan Chemical Industries, Ltd. hergestellt werden, "Alumina sol 520", welches ein Alumina-Sol ebenfalls des gleichen Herstellers ist, "NZS-30A" Zirkonia-Sol des gleichen Herstellers, "CS-N", "STS-01 ", STS-02", welche von Ishihara Industries Co., Ltd hergestellte Titania-Sole sind, "Needier U-15", welches ein von Taki Chemical Co., Ltd. hergestelltes Ceria-Sol ist, "M-6" Titania-Sol des gleichen Herstellers, ein Silica-Sol, das in einem organischen Lösungsmittel dispergiert ist, das ebenfalls auf dem Markt erhältlich ist, wie beispielsweise "IPA-ST" oder "XBA-ST", hergestellt von Nissan Chemical Industries, Ltd., und Titania-Sole, die in einem Wasser-Alkohol-Lösungsmittel einschließlich eines Bindemittels dispergiert sind, die ebenfalls auf dem Markt erhältlich sind, wie beispielsweise "ST-K01" oder "ST-K03", hergestellt von Ishihara Sangyo Co., Ltd.
  • Die Korngröße der oben genannten feinen Partikel aus metallischem Oxid beträgt ungefähr 4 bis 300 nm. Wenn die Korngröße der feinen Partikel aus metallischem Oxid kleiner als 4 nm ist, neigt die arithmetische mittlere Rauheit (Ra) dazu, kleiner als 1,5 nm zu werden, und der mittlere Abstand (Sm) der Ausnehmungen und Vorsprünge einer Schicht auf der Oberfläche des Substrats neigt dazu, kleiner als 4 nm zu werden, so dass keine wirksame Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen, um die Antibeschlag-Fähigkeit und Antibeschlag-Nachhaltigkeit zu verbessern, gebildet werden kann. Im Gegensatz dazu wird, wenn die Korngröße der feinen Partikel aus metallischem Oxid 300 nm überschreitet, die arithmetische mittlere Rauheit (Ra) 84 nm oder mehr, und der mittlere Abstand (Sm) der Ausnehmungen und Vorsprünge der oben genannten Schicht überschreitet 300 nm, wobei die Ausnehmungen und Vorsprünge zu groß sind, was zu einem Ruinieren der Transparenz führt, und da die feinen Partikel dazu neigen, während des Herstellungsvorgangs abgelagert zu werden, ist es nicht vorteilhaft.
  • Verkettete feine Partikel werden für die oben genannten feinen Partikel aus metallischem Oxid bevorzugt. Durch Verwenden von verketteten feinen Partikeln wird die Form der Ausnehmungen und Vorsprünge auf der Oberfläche dreidimensional würfelförmig und konvex und konkav, wobei es möglich ist, Ausnehmungen und Vorsprünge auf der Oberfläche zu bilden, welche eine hohe Antibeschlag-Fähigkeit und Antibeschlag-Nachhaltigkeit aufweisen. "Snowtex-OUP" und "Snowtex-UP", welche Silica-Sole von Nissan Chemical Industries, Ltd, sind, können als ein Beispiel für verkettete Kolloide erhältlich sein. Sie haben einen Durchmesser von 10 bis 20 nm und eine Länge von 40 bis 300 nm.
  • Ein Dispersionslösungsmittel der oben genannten feinen Partikel aus metallischem Oxid wird nicht besonders spezifiziert, wenn die feinen Partikel aus metallischem Oxid praktisch stabil dispergiert sind. Jedoch wird Wasser, Methanol, Ethanol oder Propanol einzeln oder eine Kombination derselben bevorzugt. Wasser wird weiter bevorzugt. Wasser oder minderwertige Alkohole können leicht mit einer Lösung gemischt werden, welche die oben genannten feinen Partikel aus metallischem Oxid enthält, und können leicht durch Trocknen entfernt werden, wenn eine Schicht gebildet wird, oder durch eine Wärmebehandlung, nachdem die Schicht gebildet ist. Von diesen ist Wasser in Anbetracht der Produktionsumgebung am bevorzugtesten.
  • Ein dispersionsunterstützendes Agens kann zu einer Lösung hinzugefügt werden, welche die oben genannte Metall-organische Verbindung und eine Verbindung einschließlich einer Chlorsilyl-Gruppe enthält, wenn die oben genannten feinen Partikel aus metallischem Oxid zu der Lösung hinzugefügt werden. Das dispersionsunterstützende Agens ist nicht besonders eingeschränkt. Ein allgemein verwendetes Additiv, zum Beispiel ein Elektrolyt wie beispielsweise Natriumphosphat, Hexametanatriumphosphat, Natriumpyrophosphat, Aluminiumchlorid, Eisenchlorid, verschiedene Arten von oberflächenaktiven Agenzien, verschiedene Arten von organischen Makromolekülen, Silan bindende Agenzien, Titan bindende Agenzien etc. können verwendet werden. Die Hinzufügemenge derselben beträgt für gewöhnlich 0,01 bis 5 Gewichts-Prozent bezogen auf die oben genannten feinen Partikel aus metallischem Oxid.
  • Eine hydrolysierbare, kondensierbare und polymerisierbare Metall-organische Verbindung, welche zum Bilden von Ausnehmungen und Vorsprüngen zusammen mit den oben genannten feinen Partikeln aus metallischem Oxid zu einer Beschichtungslösung hinzugefügt wird, kann grundsätzlich jede Art von Verbindung sein, welche durch Dehydrierung hydrolysierbar und polymerisierbar ist. Jedoch werden Metallalkoxide oder Metallchelate bevorzugt.
  • Als Metallalkoxide werden zum Beispiel Methoxid, Ethoxid, Propoxid, Butoxid etc. von Silizium, Aluminium, Zirkonium, Titan etc. als Einzelkörper oder Mischung vorzugsweise verwendet, und als Metallchelat kann ein Acetylacetonatkomplex von Silizium, Aluminium, Zirkonium, Titan etc. vorzugsweise verwendet werden.
  • Des Weiteren können für die oben genannte Metall-organische Verbindung Alkylsilikat makromolekularer Art, zum Beispiel "Ethylsilicate 40", hergestellt von Colcoat Corp., und "MS56", hergestellt von Mitsubishi Chemical Ltd., etc. verwendet werden.
  • Als hydrolisierte Substanz der oben genannten Metalloxid-Verbindung kann eine Alkoxysilan-Hydrolyselösung, welche auf dem Markt erhältlich ist, wie beispielsweise "HAS-10", hergestellt von Colcoat Corp., "Ceramica G-91" oder "Ceramica G-92-6", hergestellt von Nippan Lab. Corp., und "Atoron NSI-500", hergestellt von Nippon Soda Co., Ltd., etc. verwendet werden.
  • Eine Verbindung mit einer Chlorsilyl-Gruppe, die in einer Beschichtungslösung zum Bilden einer Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen zusammen mit den oben genannten feinen Partikeln aus Metalloxid enthalten ist, ist eine Verbindung mit wenigstens einer Chlorsilyl-Gruppe (-SiClnX3-n, wobei n gleich 1, 2, oder 3 ist, X ein Wasserstoff oder eine Alkyl-Gruppe, eine Alkoxy- oder eine Acyloxy-Gruppe ist, wobei die Anzahl an Kohlenstoff von 1 bis 10 ist) in einem Molekül. Von diesen wird eine Verbindung mit wenigstens zwei Molekülen Chlor mehr bevorzugt, und Chlorsilan und eine kondensierte und polymerisierte Substanz davon, in welcher wenigstens zwei Moleküle Wasserstoff in Silan SinH2n+2 (wobei n eine ganze Zahl von 1 bis 5 ist) durch Chlor ersetzt werden und der andere Wasserstoff durch die oben genannte Alkylgruppe, Alkoxygruppe oder Acyloxygruppe ersetzt wird, werden bevorzugt. Zum Beispiel können Tetrachlorsilan (Siliziumtetrachlorid SiCl4), Trichlorsilan (SiHCl3), Trichlormonomethylsilan (SiCH3Cl3), Dichlorsilan (SiH2Cl2) und Cl-(SiCl2O)n-SiCl3 (n ist eine ganze Zahl von 1 bis 10) etc. aufgezählt werden.
  • Eine hydrolisierte Substanz der oben genannten Verbindung mit Chlorsilyl-Gruppe kann verwendet werden, und ein Einzelkörper oder Mischung derselben kann ebenfalls verwendet werden. Jedoch ist die am meisten bevorzugte Verbindung derer mit Chlorsilyl-Gruppe, Tetrachlorsilan. Die Chlorsilyl-Gruppe ist sehr reaktiv, und sie ist geeignet, eine feine Schicht durch Selbstkondensation oder Kondensation mit der Oberfläche des Substrats zu bilden.
  • Das Lösungsmittel einer Lösung einschließlich der oben genannten Metall-organischen Verbindung oder Verbindung mit Chlorsilyl-Gruppe oder deren hydrolisierte Substanzen kann von jeder Art sein, welche geeignet ist, die oben genannten Metall-organischen Verbindungen, Verbindungen mit Chlorsilyl-Gruppe oder deren hydrolisierte Substanzen praktisch zu lösen. Jedoch wird Alkohol wie beispielsweise Methanol, Ethanol, Propanol, Butanol etc. am meisten bevorzugt. Die oben genannte Metall-Verbindung, Verbindung mit Chlorsilyl-Gruppe und/oder deren hydrolisierte Substanzen werden dazu gebracht, in einem Konzentrationsverhältnis von 1 bis 30 Prozent nach Gewicht enthalten zu sein.
  • Wasser ist erforderlich, um die oben genannten Metall-organischen Verbindungen zu hydrolysieren. Dieses kann entweder sauer oder neutral sein. Jedoch wird, um die Hydrolyse zu beschleunigen, bevorzugt, dass Wasser, welches mit Salzsäure, Salpetersäure, Schwefelsäure, Essigsäure, Zitronensäure, Sulfonsäure etc. gesäuert ist, verwendet wird.
  • Die Hinzufügemenge an Wasser, die für die Hydrolyse der oben genannten Metall-organischen Verbindung erforderlich ist, kann 0,1 bis 100 (Molverhältnis) bezogen auf die Menge der Metall-organischen Verbindungen sein. Wenn die Hinzufügemenge an Wasser geringer als 0,1 (Molverhältnis) ist, ist die Unterstützung der Hydrolyse von Metall-organischen Verbindungen nicht ausreichend, und wenn das Molverhältnis 100 überschreitet, neigt die Lösung dazu, instabil zu sein. Dies wird nicht bevorzugt.
  • Die Hinzufügemenge an Säure wird nicht besonders spezifiziert. Jedoch ist es besser, dass die Menge derselben 0,001 bis 20 (Molverhältnis) bezogen auf die Menge der Metall-organischen Verbindungen ist. Wenn die Hinzufügemenge davon geringer ist als 0,001 (Molverhältnis) ist die Unterstützung der Hydrolyse von Metall-organischen Verbindungen nicht ausreichend, was nicht bevorzugt wird. Und wenn das Hinzufügen 20 (Molverhältnis) überschreitet, wird der Säuregehalt der Lösung zu hoch. Dies ist bei deren Handhabung nicht bevorzugt. In Anbetracht nur der Hydrolyse ist die obere Grenze der Hinzufügemenge an Säure 2 (Molverhältnis) bezogen auf die Menge an Metall-organischen Verbindungen. Wird die Menge an Säure darüber hinaus erhöht, ändert sich der Unterstützungsgrad der Hydrolyse nicht. Jedoch gibt es durch Erhöhen der Hinzufügemenge von Säure um mehr als 2 einen Fall, bei dem die Schichtdicke beachtlich gesteigert wird und bei dem eine Schicht, welche geeignet ist, praktische Anwendungen durch Trocknen bei einer geringen Temperatur (Raumtemperatur bis 250°C) ausreichend zu überstehen.
  • Eine bevorzugte Zusammensetzung einer Beschichtungslösung, für welche ein Anstieg der Schichtstärke erkannt werden kann, ist derart, dass die Konzentration von Metalloxiden 0,001 Prozent nach Gewicht oder mehr und 3 Prozent nach Gewicht oder weniger ist, die Säurekonzentration 0,001 Mol pro Liter oder mehr und 1 Mol pro Liter oder weniger ist und der Wassergehalt 0,001 Prozent nach Gewicht oder mehr und 10 Prozent nach Gewicht oder weniger ist. Eine weitere bevorzugte Zusammensetzung ist derart, dass die Konzentration der oben genannten Metalloxide 0,01 Prozent nach Gewicht oder mehr und 0,6 Prozent nach Gewicht oder weniger ist, die Säurekonzentration 0,01 Mol pro Liter oder mehr und 0,3 Mol pro Liter oder weniger ist und der Wassergehalt 0,001 Prozent nach Gewicht oder mehr und 3 Prozent nach Gewicht oder weniger ist. Die Säure, die zu diesem Zeitpunkt verwendet wird, ist vorzugsweise Salpetersäure oder Salzsäure. Des Weiteren wird bevorzugt, dass eine Säure mit einer Konzentration, welche 0,3 mal geringer als der Wassergehalt ist, verwendet wird. Das heißt, wenn Säure in Form einer Wasserlösung verwendet wird, wird bevorzugt, dass die Säure eine Säure mit einem Konzentrationsverhältnis von 23,1 % oder mehr ist. Wenn die Säure in Form einer Ethanollösung verwendet wird, wird bevorzugt, dass die Säurekonzentration in der Ethanollösung 0,15 Prozent nach Gewicht oder mehr ist, wenn die Ethanollösung zum Beispiel einen Wassergehalt von 0,5 Prozent nach Gewicht enthält.
  • In einem Fall, in dem die oben genannte Verbindung mit Chlorsilyl-Gruppe verwendet wird, ist es nicht erforderlich, dass Wasser oder Säure hinzugefügt wird. Selbst obwohl kein Wasser oder keine Säure hinzugefügt wird, wird die Hydrolyse mit dem in dem Lösungsmittel enthaltenen Wasser oder Wasser in der Atmosphäre ausgeführt. Des Weiteren wird Salzsäure in der Lösung im Verlauf der Hydrolyse freigesetzt, wobei die Hydrolyse weiter unterstützt wird. Es ist jedoch kein Problem, wenn Wasser oder Säure zusätzlich bereitgestellt wird.
  • Wenn der Gehalt an den oben genannten feinen Partikeln aus Metalloxid in einer Schicht zu klein ist, ist eine Wirkung des Hinzufügens von feinen Partikeln aus Metalloxid, das heißt eine Antibeschlag-Eigenschaft und eine Antibeschlag-Nachhaltigkeit, nicht ausreichend. Im Gegensatz dazu wird, wenn der Gehalt an feinen Partikeln aus Metalloxid zu groß ist, die Matrixphase aus Metalloxiden, die sich aus Metall-organischen Verbindungen oder Verbindungen mit Chlorsilyl-Gruppe ergibt, nicht-kontinuierlich hergestellt, was die Ausnehmungen und Vorsprünge der Schicht schwächt, wobei die Schicht dazu neigt, geschwächt zu werden, und weiter werden die erhaltene Antibeschlag-Eigenschaft und Antibeschlag-Nachhaltigkeit gesättigt, so dass keine weitere praktische Verbesserung auftritt. Deswegen wird bevorzugt, dass der Gehalt an feinen Partikeln aus Metalloxid 5 Prozent nach Gewicht oder mehr und 80% nach Gewicht oder weniger ist bei Umwandlung zu den Metalloxiden. Es wird weiter bevorzugt, dass der Gehalt 10% nach Gewicht oder mehr und 70% nach Gewicht oder weniger ist und noch weiter bevorzugt, dass der Gehalt derselben 20% nach Gewicht oder mehr und 60% nach Gewicht oder weniger ist.
  • Die oben genannte Metalloxid-Verbindung wird mit der oben genannten Metall-organischen Verbindung, Verbindung mit Chlorsilyl-Gruppe oder deren hydrolisierter Substanz zusammen mit einem Lösungsmittel gemischt. Wie erforderlich, werden Wasser, Säurekatalysator und dispersionsunterstützendes Agens dazu hinzugefügt, und eine Beschichtungsflüssigkeit, um Ausnehmungen und Vorsprünge auf einem Substrat zu bilden, wird angepasst. Zu diesem Zeitpunkt kann eine Metall-organische Verbindung und eine Verbindung mit Chlorsilylgruppe unabhängig verwendet werden oder kann als Mischung jener verwendet werden. Ein bevorzugtes Mischungsverhältnis der Beschichtungsflüssigkeit ist wie in Tabelle 1 unten dargestellt; [Tabelle 1]
    Metall-organische Verbindung oder Verbindung mit Chlorsilyl-Gruppe oder deren hydrolisierte Substanz 100 Gewichtsanteile
    Feine Partikel aus Metalloxid 10 bis 200 Gewichtsanteile
    Wasser 0 bis 150 Gewichtsanteile
    Säurekatalysator 0 bis 35 Gewichtsanteile
    Dispersionsunterstützendes Agens 0,001 bis 10 Gewichtsanteile
    Lösungsmittel 500 bis 30.000 Gewichtsanteile
  • Die oben genannte Metallverbindung oder Verbindung mit Chlorsilyl-Gruppe ist in einem Lösungsmittel gelöst, zu welchem ein Katalysator und Wasser hinzugefügt werden, und Hydrolyse wird für fünf Minuten bis zwei Tage bei einem festgesetzten Temperaturgrad von 10°C bis zum Siedepunkt der Lösung durchgeführt, wobei feine Partikel aus Metalloxid gemeinsam mit einem dispersionsunterstützenden Agens wie notwendig zu der Lösung hinzugefügt werden. In diesem Zustand wird, falls erforderlich, die Lösung weiter für fünf Minuten bis zwei Tage bei einem festgesetzten Temperaturgrad von 10°C bis zu ihrem Siedepunkt hydrolysiert, wobei eine Beschichtungsflüssigkeit zum Bilden von Ausnehmungen und Vorsprüngen erhalten werden kann. Des Weiteren ist es in einem Fall, wo eine Verbindung mit Chlorsilyl-Gruppe verwendet wird, nicht erforderlich, dass ein Katalysator und Wasser zu dieser hinzugefügt werden. Noch weiter können feine Partikel aus Metalloxid hinzugefügt werden, bevor der oben genannte Hydrolysevorgang gestartet wird. Des Weiteren kann, um den Hydrolysevorgang von Metall-organischen Verbindungen auszulassen, eine Lösung, in welcher Metall-organische Verbindungen hydrolisiert sind, welche auf dem Markt erhältlich ist, verwendet werden. Danach kann die erhaltene Beschichtungsflüssigkeit mit einem geeigneten Lösungsmittel in Übereinstimmung mit dem Beschichtungsverfahren verdünnt werden.
  • Die Beschichtungsflüssigkeit zum Bilden von Ausnehmungen und Vorsprüngen wird auf ein Substrat aufgetragen und wie erforderlich getrocknet oder wärmebehandelt, wobei die Ausnehmungen und Vorsprünge aus Metalloxid auf dem Substrat gebildet werden.
  • Als Substrat für die vorliegende Erfindung können Glas, Keramik, Kunststoff oder Metall etc. erhältlich sein. In einem Fall, in dem zum Beispiel ein Kunststoffsubstrat etc. mit geringer Hydrophilität auf der Oberfläche des oben genannten Substrats verwendet wird, wird die Oberfläche plasmabehandelt oder im Voraus Korona-entladen, um sie hydrophil zu machen, oder sie wird einer Bestrahlung mit Ultraviolettstrahlen mit einer Wellenlänge von ungefähr 200 bis 300 nm in einer Atmosphäre einschließlich Sauerstoff für hydrophile Behandlung unterzogen. Danach wird bevorzugt, dass das oben genannte Beschichten durchgeführt wird.
  • Des Weiteren kann, obwohl es einen Fall gibt, bei dem die Beschichtungsflüssigkeit zum Bilden von Ausnehmungen und Vorsprüngen nicht einheitlich aufgetragen wird, indem es gemäß Färbebedingungen auf dem Substrat verteilt wird, dies verbessert werden, indem die Oberfläche des Substrats gewaschen wird oder die Qualität desselben verbessert wird. Als Verfahren zum Waschen oder Verbessern der Qualität sind viele Arten verfügbar, dazu zählen entölendes Waschen mit einem organischen Lösungsmittel wie beispielsweise Alkohol, Aceton, Hexan etc., Waschen mit Alkali oder Säure, Polieren der Oberfläche mit einem Poliermittel, Ultraschallreinigung, Bestrahlung mit ultravioletten Strahlen, Ozonbehandlung mit ultravioletten Strahlen, Plasmabehandlung, Korona-Entladungsbehandlung, Wärmebehandlung etc.
  • Das oben genannte Beschichtungsverfahren kann auf einer bereits bekannten Technik beruhen und wird nicht besonders spezifiziert. Es gibt viele Verfahren, welche ein Verfahren unter Verwendung einer Vorrichtung sind, wie beispielsweise einer Spritz-Auftragmaschine, Walzen-Auftragmaschine, Sprüh-Auftragmaschine, Gardinen-Auftragmaschine etc., ein Tauchverfahren (Tauchlackierverfahren), Fließlackierverfahren sowie verschiedene Arten von Druckverfahren, wie beispielsweise Siebdruck, Tiefdruck, Tampondruck etc.
  • Nachdem das beschichtete Substrat bei der festgelegten Temperatur von Raumtemperatur bis 150°C für eine Minute bis zwei Stunden getrocknet wurde, wird bei der festgelegten Temperatur von 150°C bis zur wärmeresistenten Temperatur des Substrats für fünf Sekunden bis fünf Stunden, wie erforderlich, eine Wärmebehandlung durchgeführt. Die wärmeresistente Temperatur des Substrats ist die Temperatur, welche die obere Temperaturgrenze ist, bei welcher das Substrat in der Lage ist, seine physikalischen Eigenschaften beizubehalten, wobei bezüglich des Glassubstrats beispielsweise in diese Kategorie eine Erweichungstemperatur und eine Transparenzverlust-Temperatur (für gewöhnlich 600°C bis 700°C) etc. eingeschlossen sind, und bezüglich eines Kunststoffsubstrats zum Beispiel eine Glasübergangstemperatur, ein Kristallisierungspunkt und Zerfallspunkt etc. eingeschlossen sind.
  • Durch das oben genannte Trocknen und die Wärmebehandlung werden auf der Oberfläche eines Substrats feste Ausnehmungen und Vorsprünge aus Metalloxiden gebildet. Diese Ausnehmungen und Vorsprünge sind aus einer Matrix von feinen Partikeln aus Metalloxid und Metalloxiden (die sich aus Metall-organischen Verbindungen oder der Verbindung mit Chlorsilyl-Gruppe ergeben) gebildet, wobei feine Partikel aus Metalloxid auf dem Substrat durch eine Metalloxid-Matrix fixiert und gebunden sind und die Oberfläche der feinen Partikel aus Metalloxid Ausnehmungen und Vorsprünge auf der Schicht bildet. Es wird bevorzugt, dass die Dicke der Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen 2 bis 300 nm beträgt, und es wird weiter bevorzugt, dass die Dicke 4 bis 100 nm beträgt.
  • Beträgt die Dicke weniger als 2 nm, ist die Wirkung von Ausnehmungen und Vorsprüngen sehr gering, das heißt die Antibeschlag-Eigenschaft ist gering und wird nicht bevorzugt. Ist die Dicke größer als 300 nm, wird die Interferenzfarbe als beachtlich erkannt und wird nicht bevorzugt. Des Weiteren neigt, wenn die Dicke weniger als 4 nm beträgt, die Antibeschlag-Nachhaltigkeit dazu, gesenkt zu werden, und wenn die Dicke größer als 100 nm ist, neigt der Verschleißwiderstand dazu, gesenkt zu werden. Beides wird nicht bevorzugt. Eine weitere bevorzugte Dicke der Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen beträgt 20 bis 100 nm. Die Dicke der Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen wird definiert durch den Unterschied zwischen der inneren Oberfläche der Schicht und der Mittellinie der Außenseite von Ausnehmungen und Vorsprüngen.
  • Gegenstände, auf welchen auf der Oberfläche von Substraten Ausnehmungen und Vorsprünge so gebildet sind, verbessern die Gleiteigenschaft von Wasser, weisen einen geringen Kontaktwinkel mit Wassertropfen auf und haben eine Antibeschlag-Eigenschaft. Des Weiteren wird, selbst wenn die Oberfläche mehr oder weniger verschmutzt ist, der Kontaktwinkel nicht leicht erhöht, um die Antibeschlag-Eigenschaft nachhaltig zu machen.
  • Des Weiteren gibt es, wenn Licht wie beispielsweise ultraviolette Strahlen etc. auf die Oberfläche des Antibeschlag-Gegenstands strahlt in einem Fall, in dem Titanoxid als feine Partikel aus Metalloxid und Matrix verwendet wird, einen Fall, bei dem die Oberflächenverschmutzung durch leichte Katalysatoraktion zersetzt werden kann und die Antibeschlag-Eigenschaft verbessert wird. Bezüglich solcher Gegenstände kann die Antibeschlag-Eigenschaft semi-permanent unter Licht wie beispielsweise Sonnenlicht, einer Leuchtstofflampe etc. nachhaltig gemacht werden.
  • Die Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen gemäß der Erfindung ist derart gebildet, dass sie eine arithmetische mittlere Rauheit (Ra) von 1,5 bis 80 nm und einen mittleren Abstand (Sm) der Ausnehmungen und Vorsprünge von 4 bis 300 nm aufweist, indem die Korngröße, Korngestalt der feinen Partikel aus Metalloxid in der oben genannten Beschichtungslösung, ein Mischungsverhältnis und eine Feststoffgehalt-Konzentration der Metall-organischen Verbindungen, der Verbindung mit Chlorsilyl-Gruppe oder deren hydrolisierte Substanzen mit feinen Partikeln aus Metalloxid angepasst wird.
  • In einem Fall, bei dem der oben genannte Ra-Wert kleiner als 1,5 nm oder größer als 80 nm ist, sind die Antibeschlag-Eigenschaft und Antibeschlag-Nachhaltigkeit niedrig. Des Weiteren sind, wenn der oben genannte Sm-Wert kleiner als 4 nm oder größer als 300 nm ist, die Antibeschlag-Eigenschaften und Antibeschlag-Nachhaltigkeit gering. Insbesondere kann, wenn der Sm-Wert 300 nm überschreitet, die Transparenz verdorben werden. Es wird weiter bevorzugt, dass die Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen gemäß der Erfindung eine arithmetische mittlere Rauheit (Ra) von 5 bis 30 nm und einen mittleren Abstand (Sm) von 5 bis 150 nm bezogen auf die Ausnehmungen und Vorsprünge aufweist, wobei in diesem Bereich die Antibeschlag-Eigenschaft und besonders die Antibeschlag-Nachhaltigkeit weiter bevorzugt sind. Hier werden der Ra-Wert und Sm-Wert durch ein in den japanischen Industriestandards JIS B 0601 (1994) reguliertes Beschreibungsverfahren definiert, und sie können auf der Basis von Sektionskurven berechnet werden, die mit einem Rasterkraftmikroskop (zum Beispiel Seiko Electronic Co., Ltd., Typ SPI3700) und einem Elektronenmikroskop (zum Beispiel Hitachi, Limited, Typ H-600) beobachtet und gemessen wurden.
  • Wenn ein oberflächenaktives Agens in der Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen, welche die oben genannten feinen Partikel aus Metalloxid einschließt, deren Matrix Metalloxid ist, enthalten ist, ist es möglich, einen Antibeschlag-Gegenstand zu erhalten, dessen Antibeschlag-Eigenschaft und Antibeschlag-Nachhaltigkeit weiter verbessert sind. Als Verfahren zum Imprägnieren eines oberflächenaktiven Agens in der Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen ist ein Verfahren des Hinzufügens eines oberflächenaktiven Agens zu der Beschichtungslösung, um die oben genannten Ausnehmungen und Vorsprünge zu bilden, einfach und bevorzugt. Das in der Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen imprägnierte oberflächenaktive Agens wird dazu gebracht, sich langsam auf der Oberfläche einer Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen zu bewegen, um zu bewirken, dass die Grenzflächenkraft von Wassertropfen, welche taukondensiert sind, gesenkt wird, wodurch bewirkt wird, dass die Ausbreitung, die sich aus dem Gleiten von Wassertropfen ergibt, gesteigert wird, und bewirkt wird, dass die Antibeschlag-Eigenschaft weiter erhöht wird. Des Weiteren wird das oberflächenaktive Agens Schmutzbestandteile abdecken und die Rolle übernehmen zu verhindern, dass die Antibeschlag-Eigenschaft aufgrund von Verschmutzungen gesenkt wird.
  • Das in die Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen imprägnierte oberflächenaktive Agens wird in Ausnehmungen, die durch die feinen Partikel aus Metalloxid gebildet sind, und dünnen Poren der Metalloxid-Matrix zurückgehalten und bewegt sich langsam auf der Oberfläche, wobei das oberflächenaktive Agens dazu beiträgt, die Antibeschlag-Eigenschaft und Hydrophilität zu verbessern. Folglich ist die Antibeschlag-Eigenschaft oder Hydrophilität einer Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen noch besser als die einer Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen, welche kein oberflächenaktives Agens aufweist. Des Weiteren tritt, da eine hohe Antibeschlag-Eigenschaft, die durch die Ausnehmungen und Vorsprünge bewirkt wird, bewahrt werden kann, selbst wenn das oberflächenaktive Agens durch Benutzung allmählich ausfließt und kein weiteres oberflächenaktives Agens, welches sich vom Innern der Schicht auf die Oberfläche bewegen kann, übrig ist, eine Gruppe, welche die Antibeschlag-Eigenschaft senkt, nicht auf.
  • In der vorliegenden Erfindung wird ein negativ-ionisiertes oberflächenaktives Agens als oberflächenaktives Agens bevorzugt verwendet, um in der Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen enthalten zu sein. Da ein positiv-ionisiertes oder ampholytes oberflächenaktives Agens eine solche Tendenz aufweist, dass das oberflächenaktive Agens auf der Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen, die aus Metalloxiden besteht, adsorbiert wird, wobei der hydrophile Bereich von positiven Ionen darauf ausgerichtet ist, ist der hydrophobe Bereich des oberflächenaktiven Agens zur Luftseite ausgerichtet. Daraus ergibt sich, da die Hydrophilität auf der Oberfläche von Gegenständen dazu neigt, gesenkt zu werden, und so verursacht, dass die Antibeschlag-Eigenschaft gemindert wird, dass positiv-ionisierte oder ampholyte oberflächenaktive Agenzien nicht bevorzugt werden. Bezüglich nicht-ionisierter oberflächenaktiver Agenzien gibt es viele Fälle, bei denen das Molekulargewicht derselben groß ist, und sie neigen dazu, in der Schicht fixiert zu sein. Gleichermaßen wird die Hydrophilität auf der Oberfläche von Gegenständen gesenkt, was verursacht, dass die Antibeschlag-Eigenschaft zerstört wird. Folglich ist ein nicht-ionisiertes oberflächenaktives Agens nicht bevorzugt.
  • Des Weiteren neigt ein oberflächenaktives Agens mit Aminstickstoff- oder Amidbindung dazu, auf der Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen, welche aus Metalloxiden zusammengesetzt ist, durch Stickstoffatome unabhängig von Ionenpolarität adsorbiert zu werden, wodurch die Antibeschlag-Eigenschaft ebenfalls gesenkt wird. Folglich wird das oberflächenaktive Agens nicht bevorzugt. Dementsprechend wird ein oberflächenaktives Agens, welches keine Aminstickstoff- oder Amidbindung in Molekülen enthält, vorzugsweise verwendet.
  • Als negativ-ionisiertes oberflächenaktives Agens ist Sulfobernsteinsäure-Estersalz wie Dialkylnatriumsulfosuccinat, Alkylethersulfat, Alkyletherphosphat, Alkylethercarbonat ebenfalls verfügbar, und Estersalzsulfat etc. wie Natriumdodecylbenzolsulfonat ist ebenfalls verfügbar. Von diesen weist Dialkylnatriumsulfosuccinat, zum Beispiel Dibutylnatriumsulfosuccinat, Dihexylnatriumsulfosuccinat oder Di-2-ethylhexylnatriumsulfosuccinat etc. eine gute Antibeschlag-Eigenschaft und Antibeschlag-Nachhaltigkeit auf und wird bevorzugt verwendet. Diese oberflächenaktiven Agenzien können allein verwendet werden oder können zu zweit oder mehr als Mischung derselben verwendet werden.
  • Es wird bevorzugt, dass die in der Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen gemäß der Erfindung enthaltene Menge an oberflächenaktivem Agens 0,1 bis 15 Prozent nach Gewicht beträgt bezogen auf die Gesamtmenge an Ausnehmung- und Vorsprung-Bestandteilen, die feine Partikel aus Metalloxid enthalten und Metalloxide als Matrix verwenden. Wenn der Gehalt an oberflächenaktivem Agens 0,1 Gewichts-Prozent oder weniger ist, ist die Verbesserung der Antibeschlag-Eigenschaft und Hydrophilität nicht ausreichend, und das Hinzufügen des oberflächenaktiven Agens hat keine Bedeutung. Dies ist nicht bevorzugt. Andererseits wird, wenn der Gehalt desselben 15 Prozent nach Gewicht übersteigt, die Schicht weiß, was eine Verschlechterung der Erscheinungsform verursacht, und des Weiteren wird die Schichtstärke gesenkt. Dies wird ebenfalls nicht bevorzugt.
  • Die Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen, die das oben genannte oberflächenaktive Agens beinhaltet, wird getrocknet und bei einer Temperatur von weniger als der Zersetzungstemperatur des oberflächenaktiven Agens wärmebehandelt, nachdem die Schicht hergestellt ist.
  • Indem weiter eine Phosphatverbindung zu der Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen oder der Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen, welche ein oberflächenaktives Agens gemäß der Erfindung enthält, hinzugefügt wird, ist es möglich, einen Antibeschlag-Gegenstand zu erhalten, dessen Antibeschlag-Eigenschaft und Antibeschlag-Nachhaltigkeit weiter verbessert sind. Als Verfahren zum Einschließen einer Phosphatverbindung in eine Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen ist ein Verfahren zum Hinzufügen einer Phosphatverbindung in die oben genannte Beschichtungsflüssigkeit zum Bilden von Ausnehmungen und Vorsprüngen einfach und bevorzugt.
  • Für die oben genannte Phosphatverbindung werden Phosphatester, Phosphorsäure, Phosphoroxid, Phosphitester, Phosphorige Säure etc. aufgeführt. Eine oder mehrere dieser chemischen Verbindungen kann/können verwendet werden. Es wird bevorzugt, dass der Gehalt der oben genannten Phosphorverbindung feine Partikel aus Metalloxid beinhaltet und 0,1 bis 15 Prozent nach Gewicht bezogen auf alle Bestandteile der Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen, deren Matrix ein Metalloxid ist, beträgt. Ist der Gehalt an oberflächenaktivem Agens geringer als 0,1 Prozent nach Gewicht, werden die Antibeschlag-Eigenschaft und Hydrophilität nicht ausreichend verbessert. Andererseits wird, wenn der Gehalt derselben 15 Prozent nach Gewicht überschreitet, die Schicht weiß, was bewirkt, dass die Erscheinungsform dazu neigt, verschlechtert zu werden, und des Weiteren wird die Schichtstärke gemindert. Dies wird ebenfalls nicht bevorzugt.
  • Organisches Silan oder dessen hydrolisierte Substanz, welche in dem Molekül wenigstens eine funktionelle Gruppe enthält, die aus einer Gruppe gewählt ist, die aus Polyalkylen-Oxid-Gruppe, Alkyl-Gruppe, Alkenyl-Gruppe und Aryl-Gruppe besteht, wird mit der Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen in Kontakt gebracht (unabhängig davon, ob die Schicht das oben genannte oberflächenaktive Agens oder Phosphatverbindungen enthält oder nicht), welche die oben genannten feinen Partikeln aus Metalloxid enthält und Metalloxid als Matrix aufweist, wird chemisch oder physikalisch an den Ausnehmungen und Vorsprüngen auf der Oberfläche fixiert oder gebunden, wobei es möglich wird, einen Antibeschlag-Gegenstand zu erhalten, dessen Antibeschlag-Nachhaltigkeit weiter verbessert ist.
  • Polyethylen-Oxid-Gruppe, Polypropylen-Oxid-Gruppe etc. können hauptsächlich als die oben genannte Polyalkyl-Oxid-Gruppe verwendet werden. Als die oben genannte Alkyl-Gruppe kann eine verkettete Alkyl-Gruppe mit einer Kohlenstoff-Atomzahl von 1 bis 10 wie beispielsweise Methyl-Gruppe, Ethyl-Gruppe, Propyl-Gruppe, Butyl-Gruppe, Pentyl-Gruppe, Hexyl-Gruppe, Octyl-Gruppe, Nonyl-Gruppe, Decyl-Gruppe etc. und eine Ringalkyl-Gruppe mit einer Kohlenstoff-Atomzahl von 3 bis 10, wie beispielsweise Cyclopentyl-Gruppe, Cyclohexyl-Gruppe etc. hauptsächlich verwendet werden. Als die oben genannte Alkenyl-Gruppe wird hauptsächlich eine Gruppe mit einer Kohlenstoff-Atomzahl von 1 bis 10 wie beispielsweise die Vinyl-Gruppe, Alkyl-Gruppe, Butenyl-Gruppe, Propenyl-Gruppe, Hexenyl-Gruppe, Octenyl-Gruppe, Cyclohexenyl-Gruppe verwendet. Phenyl-Gruppe, Toluyl-Gruppe, Xylyl-Gruppe etc. können hauptsächlich als die oben genannte Aryl-Gruppe verwendet werden.
  • Da diese funktionellen Gruppen nichtpolar sind oder geringe Polarität aufweisen, haften Verschmutzungen weniger an, um eine Erhöhung des zu unterdrückenden Kontaktwinkels bezogen auf Wassertropfen zu bewirken, d. h., es wird bevorzugt, da die Antibeschlag-Nachhaltigkeit verbessert wird. Insbesondere bezogen auf die oben genannten Antibeschlag-Gegenstände, welche unter Verwendung von organischem Silan einschließlich einer Polyalkylen-Oxid-Gruppe hergestellt werden, ist die Antibeschlag-Eigenschaft hervorragend, und die Antibeschlag-Nachhaltigkeit ist besonders hervorragend.
  • Da die oben genannten funktionellen Gruppen nicht-reaktiv sind oder geringe Reaktionseigenschaft aufweisen, wird keine chemische Verbindung mit Verschmutzungen hergestellt, was bewirkt, dass Verschmutzungen nicht auf der Oberfläche fixiert werden. Folglich kann, da auf der Oberfläche anhaftende Verschmutzungen einfach durch Wischen etc. beseitigt werden können, die Antibeschlag-Eigenschaft leicht wiederhergestellt werden, selbst wenn die Antibeschlag-Eigenschaft aufgrund von Verschmutzungen verschwunden war.
  • Es wird bevorzugt, dass das oben genannte organische Silan Alkoxysilan oder Chlorsilan mit Alkoxy-Gruppe oder Chlor-Gruppe in dem Molekül ist. Da diese funktionellen Gruppen leicht einer Hydrolyse unterzogen werden können und organisches Silan fest mit der Oberfläche von Ausnehmungen und Vorsprüngen von Metalloxiden chemisch verbunden werden kann, ist es möglich, Produkte zu erhalten, deren Antibeschlag-Nachhaltigkeit weiter verbessert ist. Von dem oben genannten organischen Silan wird die Polyalkylen-Oxid-Gruppe, zum Beispiel Alkoxysilan mit Polyethylen-Oxid-Gruppe, insbesondere [Alkoxy(polyethylenoxy)alkyl]trialkoxysilan, zum Beispiel [Methoxy(polyethylenoxy)propyl]trimethoxysilan] am meisten bevorzugt.
  • Es wird bevorzugt, dass ein Antibeschlag-Gegenstand, für welchen das oben genannte organische Silan oder dessen hydrolisierte Substanz chemisch oder physikalisch an der Oberfläche mit Ausnehmungen und Vorsprüngen fixiert oder gebunden ist, einen Kontaktwinkel von 10 Grad oder weniger (bezogen auf Wassertropfen von 0,4 mg) aufweist.
  • Wenn der Kontaktwinkel 10 Grad überschreitet, wird dies nicht bevorzugt, da die Antibeschlag-Eigenschaft und Antibeschlag-Nachhaltigkeit gesenkt werden.
  • Als Verfahren zum chemischen oder physikalischen Fixieren oder Binden des oben genannten organischen Silans oder dessen hydrolisierter Substanz an der oben genannten Oberfläche mit Ausnehmungen und Vorsprüngen kann jede Art von Verfahren, um zu bewirken, dass das oben genannte organische Silan oder dessen hydrolisierte Substanz chemisch oder physikalisch in Kontakt mit der Oberfläche mit Ausnehmungen und Vorsprüngen gebracht wird, verfügbar sein. Zum Beispiel können ein Verfahren zum Beschichten einer Flüssigkeit mit dem oben genannten organischen Silan oder dessen hydrolisierter Substanz auf die Oberfläche mit Ausnehmungen und Vorsprüngen (d. h. Beschichtungsverfahren), ein Verfahren zum Eintauchen eines Gegenstands, der mit einer Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen gebildet ist, in eine Flüssigkeit mit dem oben genannten organischen Silan oder dessen hydrolisierter Substanz (d. h. ein chemisches Flüssigphasen-Adsorptionsverfahren), ein Verfahren zum Platzieren eines Gegenstands, der mit einer Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen gebildet ist, in Dampf des oben genannten organischen Silans oder dessen hydrolisierter Substanz und Adsorbieren derselben darauf (d. h. chemisches Gasphasen-Adsorptionsverfahren) aufgezählt werden.
  • Von den oben genannten Verfahren kann das oben genannte Beschichtungsverfahren auf einer bereits bekannten Technik basieren und wird besonders bevorzugt. Es gibt viele Verfahren, welche ein Verfahren unter Verwendung einer Vorrichtung sind, wie beispielsweise einer Spritz-Auftragsmaschine, Walzen-Auftragsmaschine, Sprüh-Auftragsmaschine, Gardinen-Auftragsmaschine etc., ein Tauchverfahren (Tauchlackierverfahren), ein Fließlackierverfahren, ein Verfahren zum Reiben der Oberfläche mit Ausnehmungen und Vorsprüngen mit einem Tuch oder Papier, welches mit einer Beschichtungsflüssigkeit imprägniert ist, in einem Zustand, in dem das Tuch oder Papier in Kontakt mit der Oberfläche gebracht wird (Reibeverfahren), und verschiedene Arten von Druckverfahren, wie beispielsweise Siebdruck, Tiefdruck, Tampondruck etc..
  • Des Weiteren kann, obwohl es einen Fall gibt, wo die Beschichtungsflüssigkeit aus organischem Silan nicht einheitlich aufgetragen wird durch Verteilen abhängig von einer Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen, die auf die Matrix-Oberfläche aufgetragen ist und feine Partikel aus Metalloxid einschließt, wobei Metalloxide die Matrix derselben sind, dies durch Waschen der Oberfläche des Substrats oder Verbessern der Qualität desselben verbessert werden.
  • Als ein Verfahren zum Waschen oder Verbessern der Qualität sind viele Arten, d. h., entölendes Waschen mit einem organischen Lösungsmittel wie beispielsweise Alkohol, Aceton, Hexan etc., Waschen mit Alkali oder Säure, Ultraschallreinigung, Bestrahlung mit ultravioletten Strahlen, Ozonbehandlung mit ultravioletten Strahlen, Plasmabehandlung, Korona-Entladung-Behandlung, Wärmebehandlung etc. verfügbar.
  • Ein Lösungsmittel zum Lösen des oben genannten organischen Silans ist nicht besonders begrenzt. Jedoch können vorzugsweise Wasser, Alkohol, Keton etc. verwendet werden, einzeln oder in einer Kombination derselben, in Anbetracht von Sicherheit, Kosten und Vorgangseffizienz. Methanol, Ethanol, Propanol, Butanol etc. können als Alkohol etc. aufgeführt werden, Aceton, Methylethylketon, Diethylketon etc. können als Keton etc. verwendet werden.
  • Das oben genannte organische Silan kann zur Verwendung wie erforderlich hydrolisiert werden. Wasser und Säurekatalysator können zu organischem Silan wie erforderlich hinzugefügt werden, wobei die Hydrolyse für eine feststehende Zeitdauer bei einer feststehenden Temperatur durchgeführt wird, und organisches Silan zur Verwendung wie erforderlich verdünnt wird.
  • Obwohl die Hydrolysebedingungen von organischem Silan nicht besonders begrenzt sind, wird bevorzugt, dass die Hydrolyse für drei Minuten bis fünfzig Stunden in einem Temperaturbereich von 20°C bis 60°C durchgeführt wird. In einem Fall, in dem die Temperatur geringer als 20°C oder die Zeit weniger als 3 Minuten ist, ist die Unterstützung der Hydrolyse nicht ausreichend. Im Gegensatz dazu kann, wenn die Temperatur höher als 60°C ist und die Zeit 50 Stunden überschreitet, die Unterstützungswirkung der Hydrolyse nicht verbessert werden, die Haltbarkeit der Beschichtungsflüssigkeit gemindert werden. Demgemäß wird dies nicht bevorzugt.
  • Als der oben genannte Säurekatalysator können Mineralsäuren wie beispielsweise Salzsäure, Schwefelsäure, Salpetersäure etc. und organische Säuren wie beispielsweise Essigsäure, Ameisensäure, Zitronensäure, Paratoluolsulfonsäure etc. verwendet werden. Die Hinzufügemenge an Säure ist nicht besonders begrenzt. Jedoch ist es gut, dass die Hinzufügemenge von Säure 0,0001 bis 2 (Molverhältnis) bezogen auf organisches Silan beträgt. Wenn die Hinzufügemenge an Säure weniger als 0,0001 (Molverhältnis) beträgt, ist die Unterstützung der Hydrolyse von organischem Silan nicht ausreichend, und wenn dieselbe 2 (Molverhältnis) überschreitet, wird die Unterstützungswirkung der Hydrolyse nicht weiter verbessert. Die Säure wird überschüssig, was ungünstig ist.
  • Obwohl die Wassermenge, die für die oben genannte Hydrolyse hinzugefügt wird, nicht besonders begrenzt ist, ist es gut, dass die Menge 0,1 oder mehr (Molverhältnis) bezogen auf organisches Silan ist. Wenn die Menge weniger als 0,1 (Molverhältnis) beträgt, ist die Unterstützung der Hydrolyse von organischem Silan nicht ausreichend, was ungünstig ist.
  • Andererseits kann bezogen auf organisches Silan, dessen Hydrolysegeschwindigkeit schnell ist wie die von zum Beispiel Chlorsilan, ausreichende Hydrolyse durchgeführt werden, wobei nur Wasser auf der Oberfläche mit Ausnehmungen und Vorsprüngen von Metalloxiden adsorbiert ist, wobei es einen Fall gibt, wo organisches Silan durch eine Dehydrationskondensationsreaktion auf der Oberfläche fixiert wird. In diesem Fall wird, da ein Antibeschlag-Gegenstand, welcher in Bezug auf Wetterfestigkeit, Antibeschlag-Eigenschaft und Antibeschlag-Nachhaltigkeit höherwertig ist, erhalten werden kann, es bevorzugt, dass eine Beschichtungsflüssigkeit hergestellt wird, indem ein nicht-wasserorientiertes Lösungsmittel verwendet wird, wobei das gelöste Wasser ausreichend gemindert wird. Als nicht-wasserorientiertes Lösungsmittel können n-Hexan, Cyclohexan, Xylol, Toluol etc. angeführt werden.
  • Des Weiteren ist die verwendete Konzentration an organischem Silan zum Beschichten nicht besonders eingeschränkt, vorzugsweise wird organisches Silan von 0,001 bis 5 Prozent nach Gewicht verwendet. Wenn die Konzentration geringer als 0,01 Prozent nach Gewicht ist, kann keine ausreichende Unterstützung der Antibeschlag-Nachhaltigkeit eines erhaltenen Antibeschlag-Gegenstands erkannt werden, und wenn die Konzentration 5 Prozent nach Gewicht überschreitet, wird die Antibeschlag-Eigenschaft nicht weiter verbessert. Folglich ist dies nicht ökonomisch und nicht bevorzugt.
  • Es wird bevorzugt, dass das Substrat mit Ausnehmungen und Vorsprüngen, auf welches die Lösung aus organischem Silan aufgetragen ist, getrocknet oder bei einer Temperatur von 20 bis 180°C für drei Minuten bis drei Stunden wärmebehandelt wird. Durch diese Behandlung wird die Verbindung aus organischem Silan mit Metalloxiden gestärkt, was bewirkt, dass die Haltbarkeit und Antibeschlag-Nachhaltigkeit eines Antibeschlag-Gegenstands verbessert wird. Wenn die Temperatur weniger als 20°C ist oder die Behandlungszeit kürzer als drei Minuten ist, ist die oben genannte Wirkung nicht ausreichend, was ungünstig ist. Da es einen Fall gibt, bei dem organisches Silan zersetzt wird, wenn die Temperatur höher als 180°C ist. Dies ist ebenfalls ungünstig. Des Weiteren kann, selbst wenn die Behandlungszeit drei Stunden überschreitet, keine weitere Wirkung erwartet werden. Demgemäß ist dies in Anbetracht der Produktivität ebenfalls ungünstig.
  • Wenn organisches Silan eine molekulare Simplex-Lage auf der oben genannten Oberfläche mit Ausnehmungen und Vorsprüngen bildet, kann die Antibeschlag-Nachhaltigkeit verbessert werden, und da die Dicke von organischem Silan 10 nm überschreitet, wird diese Wirkung nicht weiter gesteigert, eine bevorzugte Dicke der Lage aus organischem Silan nach Wärmebehandlung ist 0,3 bis 10 nm. Sogar in einem Fall, in dem die Dicke der Lage aus organischem Silan vergleichsweise groß ist, ist es erforderlich, dass die Dicke der Lage aus organischem Silan nicht wesentlich an Stellen schwankt, und es ist erforderlich, dass Ausnehmungen und Vorsprünge, welche gleich zu jenen der oben genannten Oberfläche mit Ausnehmungen und Vorsprüngen ist, das heißt Ausnehmungen und Vorsprünge mit einer arithmetischen mittleren Rauheit (Ra) von 1,5 bis 80 nm und einem mittleren Abstand (Sm) der Ausnehmungen und Vorsprünge von 4 bis 300 nm, auf der Außenfläche der Lage aus organischem Silan gebildet werden.
  • Wenn eine Lage eines oberflächenaktiven Agens weiter auf die Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen (unabhängig davon, ob die Lage das oben genannte oberflächenaktive Agens oder Phosphatverbindung enthält), welche die oben genannten feinen Partikel aus Metalloxid enthält und Metalloxide als Matrix aufweist, oder auf eine Lage aus organischem Silan (oder dessen hydrolisierter Substanz) einschließlich der oben genannten funktionellen Gruppe, welche die Oberfläche der Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen bedeckt, aufgetragen wird, ist es möglich, Antibeschlag-Gegenstände zu erhalten, deren Antibeschlag-Eigenschaft und Antibeschlag-Nachhaltigkeit weiter verbessert sind.
  • Die oben genannte Lage aus oberflächenaktivem Agens ist in der Lage, die Oberflächenspannung von taukondensierten Wassertropfen zu reduzieren, wodurch Gleiten von Wassertropfen verbessert wird und eine Wirkung der Antibeschlag-Eigenschaft weiter gesteigert wird. Des Weiteren nimmt die oben genannte Lage aus oberflächenaktivem Agens Schmutzbestandteile auf und verhindert, dass die Antibeschlag-Eigenschaft aufgrund von Verschmutzungen auf der Oberfläche gemindert wird.
  • Da die oben genannte Lage aus oberflächenaktivem Agens aufgrund ihrer physikalischen Eigenschaften von der Oberfläche der Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen (Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen einschließlich feiner Partikel aus Metalloxid und mit Metalloxid als Matrix), welche der Untergrund derselben ist, schwer entfernt werden kann, kann die Antibeschlag-Wirkung, die durch das oberflächenaktive Agens beigebracht wird, länger anhalten als in einem Fall, in dem das oberflächenaktive Agens auf eine herkömmliche glatte Substratoberfläche ohne Ausnehmungen und Vorsprünge aufgetragen wird. Des Weiteren wird bezüglich Gegenständen, die mit einer Lage aus organischem Silan etc. einschließlich der oben genannten funktionellen Gruppen auf der oben genannten Oberfläche der Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen versehen sind, das oberflächenaktive Agens schwer entfernt durch gegenseitig wirkende Kraft unter Molekülen zwischen der oben genannten funktionellen Gruppe und dem oberflächenaktiven Agens auf der Oberfläche der Lage zusätzlich zu der oben genannten physikalischen Form, wodurch die Antibeschlag-Wirkung weiter durch das oberflächenaktive Agens verbessert werden kann.
  • In einem Fall, in dem die Dicke der mit oberflächenaktivem Agens beschichteten Lage in dem später beschriebenen Bereich vergleichsweise gering ist, werden Ausnehmungen und Vorsprünge mit einer arithmetischen mittleren Rauheit (Ra) von 1,5 bis 80 nm und einem mittleren Abstand (Sm) der Ausnehmungen und Vorsprünge von 4 bis 30 nm gebildet durch Einflüsse von deren Untergrundfläche auf der Oberfläche (Außenseite) des oberflächenaktiven Agens, wodurch eine höhere Antibeschlag-Eigenschaft durch die Gestalt mit Ausnehmungen und Vorsprüngen gebildet werden kann. Wenn die Dicke der Lage mit oberflächenaktivem Agens vergleichsweise groß ist, werden die Ausnehmungen und Vorsprünge, die auf der Oberfläche (Außenseite) der Lage mit oberflächenaktivem Agens gebildet sind, nicht größer als 1,5 nm bezogen auf die arithmetische mittlere Rauheit (Ra), und werden nicht größer als 4 nm bezogen auf den mittleren Abstand (Sm) der Ausnehmungen und Vorsprünge, wodurch, obwohl die Oberflächenlage des oberflächenaktiven Agens glatt gemacht wird, die Antibeschlag-Wirkung durch das oberflächenaktive Agens selbst beigebracht wird. Wenn das oberflächenaktive Agens allmählich durch kontinuierliche Verwendung abfließt, um zu bewirken, dass die Dicke der Lage aus oberflächenaktivem Agens gemindert wird, erscheinen Ausnehmungen und Vorsprünge auf der Oberfläche, wodurch eine höhere Beschlag-Eigenschaft durch deren Gestalt mit Ausnehmungen und Vorsprüngen beibehalten werden kann.
  • Ein nicht-ionisiertes oder negativ-ionisiertes Oberflächenagens wird vorzugsweise verwendet, um auf die oben genannte Oberfläche aufgetragen zu werden. Da ein positiv-ionisiertes oder ampholytes oberflächenaktives Agens eine solche Tendenz aufweist, bei der das oberflächenaktive Agens auf der Oberfläche mit Ausnehmungen und Vorsprüngen, die aus Metalloxiden besteht, adsorbiert wird, wobei der hydrophile Bereich an positiven Ionen darauf ausgerichtet ist, ist der hydrophobe Bereich des oberflächenaktiven Agens zur Luftseite ausgerichtet. Folglich wird, da die Hydrophilität auf der Oberfläche von Gegenständen dazu neigt, gemindert zu werden, und verursacht, dass die Antibeschlag- Eigenschaft gemindert wird, das positiv-ionisierte oder ampholyte oberflächenaktive Agens nicht bevorzugt verwendet.
  • Des Weiteren neigt ein oberflächenaktives Agens mit Aminstickstoff oder Amidverbindung dazu, auf der Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen, die aus Metalloxiden zusammengesetzt ist, durch Stickstoffatome unabhängig von Ionenpolarität adsorbiert zu werden, wobei die Antibeschlag-Eigenschaft ebenfalls gesenkt wird. Folglich wird ein oberflächenaktives Agens nicht bevorzugt. Demgemäß wird ein oberflächenaktives Agens, welches keinen Aminstickstoff oder Amidverbindungen in Molekülen enthält, vorzugsweise verwendet.
  • Jedoch ist in Gegenständen, die mit einer Lage aus organischem Silan einschließlich der oben genannten funktionellen Gruppe auf deren Oberfläche ausgestattet sind, die Adsorptionstendenz des oben genannten oberflächenaktiven Agens gemindert, ein positiv-ionisiertes oder ampholytes oberflächenaktives Agens und ein oberflächenaktives Agens mit Aminstickstoff oder Amidkombinationen in Molekülen werden ebenfalls bevorzugt verwendet.
  • Als negativ-ionisiertes oberflächenaktives Agens ist Sulfobernsteinsäure-Estersalz wie Dialkylnatriumsulfosuccinat, Alkylethersulfat, Alkyletherphosphat, Alkylethercarbonat ebenfalls verfügbar, und Estersalz von Sulfat wie Natriumdodecylbenzolsulfonat etc. ist ebenfalls verfügbar. Von diesen hat Dialkylnatriumsulfosuccinat, zum Beispiel Dibutylnatriumsulfosuccinat, Dihexylnatriumsulfosuccinat oder Di-2-ethylhexylnatriumsulfosuccinat etc. eine gute Antibeschlag-Eigenschaft und Antibeschlag-Nachhaltigkeit und wird ebenfalls bevorzugt verwendet.
  • Als nicht-ionisiertes oberflächenaktives Agens sind Polyoxyethylenalkylether wie Polyoxyethylennonylphenylether, Polyoxyethylenstearylether; Polyoxyethylenacylester wie Polyoxyethylenmonostearat; Polyoxyethylensorbitanacylester wie Polyoxyethylensorbitanmonostearat; Sorbitanester wie Sorbitanlaurat etc. ebenfalls verfügbar.
  • Ein nicht-ionisiertes oberflächenaktives Agens, welches einen Hydrophilität/Lipophilität Gleichgewichtswert (HLB) von 5 bis 18 aufweist, wird bevorzugt. Wenn der HLB-Wert kleiner als 5 ist, ist die Hydrophilität gering, wobei ausreichende Antibeschlag-Eigenschaft nicht erhalten werden kann. Andererseits wird, wenn der HLB-Wert größer als 18 ist, die Löslichkeit mit Wasser zu hoch, was verursacht, dass das oberflächenaktive Agens leicht von der Oberfläche aufgrund von Taukondensation entfernt wird. Folglich wird die Nachhaltigkeit der Antibeschlag-Wirkung gemindert, was ungünstig ist. Das oberflächenaktive Agens, was auf die oben genannte Oberfläche aufgetragen wird, kann alleine oder zu zweit oder zu mehr derselben als Mischung verwendet werden.
  • Obwohl die Dicke des oben genannten oberflächenaktiven Agens nach dem Auftragen nicht besonders eingeschränkt ist, beträgt die Dicke ungefähr 0,2 bis 100 nm. Wenn die Dicke des oberflächenaktiven Agens dünner als 0,2 nm (molekulare Simplex-Schicht) ist, kann Tau an einigen Stellen auf der Oberfläche kondensieren, wodurch die Antibeschlag-Eigenschaft und Antibeschlag-Nachhaltigkeit, die sich aus dem oberflächenaktiven Agens ergibt, nicht bemerkenswert unterstützt wird, was ungünstig ist. Im Gegensatz dazu kann, wenn die Dicke größer als 100 nm ist, Interferenzfarbe erhalten werden, die sich aus dem oberflächenaktiven Agens ergibt, wobei Unebenheit und Ungleichgewicht erkannt werden können. Dies ist ebenfalls ungünstig. Eine bevorzugtere Dicke derselben ist von 10 bis 100 nm.
  • Ein bereits bekanntes Verfahren zum Auftragen eines oberflächenaktiven Agens kann ohne besondere Begrenzung verwendet werden. Jedoch gibt es viele Verfahren, welche sind; ein Verfahren unter Verwendung einer Vorrichtung, wie beispielsweise einer Spritz-Auftragmaschine, Walzen-Auftragmaschine, Sprüh-Auftragmaschine, Gardinen-Auftragmaschine etc.; ein Tauchverfahren (Tauchlackierverfahren); ein Fließlackierverfahren; ein Verfahren zum Reiben der Oberfläche mit Ausnehmungen und Vorsprüngen mit einem Tuch oder Papier, das mit einer Beschichtungsflüssigkeit imprägniert ist, in einem Zustand, wo das Tuch oder Papier in Kontakt mit der Oberfläche gebracht wird (Reibeverfahren); sowie verschiedene Arten von Druckverfahren, wie beispielsweise Siebdruck, Tiefdruck, Tampondruck etc.
  • Ein Lösungsmittel zum Lösen des oben genannten oberflächenaktiven Agens zum Beschichten ist nicht besonders eingeschränkt. Jedoch können vorzugsweise Wasser, Alkohol etc. einzeln oder als Kombinationen derselben im Hinblick auf Sicherheit, Kosten und Vorgangseffizienz verwendet werden. Methanol, Ethanol, Propanol, Butanol etc. können als Alkohol etc. angeführt werden.
  • Des Weiteren wird, obwohl die Konzentration des zum Beschichten verwendeten oberflächenaktiven Agens nicht besonders eingeschränkt wird, bevorzugt, dass die Konzentration desselben 0,001 bis 5 Prozent nach Gewicht beträgt. Wenn die Konzentration niedriger als 0,001 Prozent nach Gewicht ist, ist die Dicke des oberflächenaktiven Agens auf einem erhaltenen Antibeschlag-Gegenstand zu gering, um überhaupt eine Verbesserung der Antibeschlag-Eigenschaft und Antibeschlag-Nachhaltigkeit feststellen zu können, und wenn die Konzentration größer als 5 Prozent nach Gewicht ist, wird die Antibeschlag-Eigenschaft nicht weiter verbessert. Dies wird im Hinblick auf die Ökonomie nicht bevorzugt.
  • Des Weiteren kann ein oberflächenaktives Agens auf den oben genannten Antibeschlag-Gegenstand, welcher in Benutzung ist oder nach dessen Benutzung, aufgetragen werden, um eine geminderte Antibeschlag-Eigenschaft wiederherzustellen.
  • BESTE ARTEN ZUM DURCHFÜHREN DER ERFINDUNG
  • Nachfolgend werden Ausführungsformen beschrieben.
  • [Ausführungsform Beispiel 1]
  • BILDUNG VON OBERFLÄCHENAUSNEHMUNGEN UND -VORSPRÜNGEN
  • Hydrolisierte, kondensierte und polymerisierte Flüssigkeit (Markenname: HAS-10, Colcoat Corp.) aus Tetraethoxysilan, 11,8 Gewichtsanteile; verkettete Silicakolloide mit einem Durchmesser von 10 bis 20 nm und einer Länge von 40 bis 300 nm (Markenname: Snowtex OUP, Nissan Chemical Industries, Ltd., Feststoffgehalt 15 Prozent nach Gewicht), 13,3 Gewichtsanteile; und 2-Propanol, 74,9 Gewichtsanteile, wurden bei Raumtemperatur gemischt, und das Ganze wurde 3:1 nach Gewicht mit 2-Propanol verdünnt und wurde bei Raumtemperatur für zwei Stunden gerührt, wobei eine Beschichtungsflüssigkeit zum Bilden von Ausnehmungen und Vorsprüngen erhalten wurde.
  • Eine Kalk-Natron-Glasplatte (65mm × 150mm × 3mm), deren Oberfläche mit einem Ceroxid-ausgerichteten Poliermittel poliert wurde, welche gewaschen wurde, weiter in destilliertem Wasser mit Ultraschall gereinigt wurde und getrocknet wurde, wurde in die oben genannte Beschichtungsflüssigkeit zum Bilden von Ausnehmungen und Vorsprüngen eingetaucht und wurde mit einer Geschwindigkeit von 20cm pro Minute angehoben, um zu bewirken, dass die Flüssigkeit auf beiden Seiten der Glasplatte aufgetragen wird. Die Glasplatte wurde bei 100°C für dreißig Minuten getrocknet und weiter bei 250°C für dreißig Minuten getrocknet. Danach wurde die Glasplatte in einem Ofen bei 500°C für eine Stunde wärmebehandelt, wodurch eine Glasplatte mit einer Silicaschicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen von 100 nm Dicke auf beiden Seiten erhalten wurde.
  • MESSEN VON OBERFLÄCHENRAUHEIT UND KONTAKTWINKEL
  • Bezüglich der Glasplatte, auf welcher die oben genannte Schicht aus Silica mit Ausnehmungen und Vorsprüngen gebildet wurde, wurden die arithmetische mittlere Rauheit (Ra) und der mittlere Abstand (Sm) der Ausnehmungen und Vorsprünge erhalten unter Verwendung eines Rasterkraftmikroskops (z. B. Seiko Electronic Co., Ltd., Typ SPI3700).
  • Des Weiteren wurde der Kontaktwinkel bezogen auf einen Wassertropfen von 0,4mg gemessen unter Verwendung eines Kontaktwinkel-Messgerätes (Kyowa Kaimen Kagaku Co., Ltd., "CA-DT"). Diese Messergebnisse sind in Tabelle 4 dargestellt. Des Weiteren sind Ra und Sm für Antibeschlag-Gegenstände mit einem oberflächenaktiven Agens auf ihrer Oberseite, bevor und nachdem ein oberflächenaktives Agens aufgetragen wurde, in anderen Ausführungsformen und Vergleichskontrollen dargestellt.
  • BEWERTUNG DER ANTIBESCHLAG-EIGENSCHAFT
  • Nachdem eine Glasplatte mit der oben genannten gebildeten Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen in einer Feuchtigkeitsreglerkammer mit konstanter Temperatur, deren Temperatur und relative Feuchtigkeit 5°C bzw. 10% sind, für 10 Minuten angeordnet wurde, wird sie in eine Feuchtigkeitreglerkammer mit konstanter Temperatur übertragen, deren Temperatur und relative Feuchtigkeit 25°C bzw. 70% sind, wobei das Beschlagen beobachtet wurde nach Ablauf von 30 Sekunden bis zum Ablauf von 2 Minuten, und es wurde die Verzerrung des Druchdringungsbilds nach Ablauf von zwei Minuten beobachtet, und der Zustand kleiner Wassertropfen, die an der Oberfläche der Glasplatte anhaften, wurde untersucht, wobei "Beschlag-Bewertung" und "Verzerrungsbewertung" gemessen wurden unter Einhaltung des in Tabelle 2 dargestellten Vier-Ebenen-Bewertungsbezugs.
  • [Tabelle 2]
    Figure 00290001
  • Die Messergebnisse sind in Tabelle 4 dargestellt. Es wurde herausgefunden, dass eine Glasplatte, auf welcher die oben genannte Silicaschicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen gebildet wurde, eine ausgezeichnete anfängliche Antibeschlag-Eigenschaft aufweist.
  • WIEDERHOLENDE ANTIBESCHLAG-EIGENSCHAFT
  • Die oben genannte Probeplatte wurde auf einer Kühlvorrichtung (aus transparentem Kunststoff hergestellt), reguliert in JIS S 4030-1995 "Method for testing anti-fogging agents for glasses", angeordnet, wobei die Rückseite der Probeplatte mit dem Kühlwasser in Kontakt gebracht wurde, und die Probetemperatur wurde bei 20°C gehalten. Die Probeplatte, die in diesem Zustand gekühlt wurde, wurde in einer Feuchtigkeitsreglerkammer mit konstanter Temperatur, deren Temperatur und relative Feuchtigkeit 45°C und 85% sind, für 3 Minuten angeordnet. Danach wurden die Probeplatte in einer Feuchtigkeitsreglerkammer mit konstanter Temperatur angeordnet, deren Temperature und relative Feuchtigkeit (RH) 20°C und 10% ist, und für 3 Minuten getrocknet. Dieser Vorgang, der darin besteht, einer Hochtemperatur-Atmosphäre ausgesetzt zu sein und einer Niedrigtemperatur-Atmosphäre ausgesetzt zu sein, wird als ein Durchlauf betrachtet. Dreißig Durchläufe wurden wiederholt. Nachdem dieser wiederholte Vorgang vorbei war, wurde eine Messskala zum Beurteilen der Durchdringungsverzerrung, welches auf eine Kunststoffplatte gedruckt ist, an der Rückseite der oben genannten Kühlvorrichtung angebracht und Wasser wurde dazu gebracht, in den Zwischenraum zwischen der Platte und der Rückseite der Kühlvorrichtung einzudringen, und die Skala zum Beurteilen der Durchdringungsverzerrung wurde von der Probeseite betrachtet. Die Messskala zum Beurteilen der Durchdringungsverzerrung wurde ähnlich zu einer in 1, angehängt an JIS S 4030-1995, dargestellten Messskala hergestellt, wobei die Linienbreite und der Abstand von drei Linien jeweils 0,5mm, 1,0mm, 1,5mm, 2,0mm und 2,5mm ist, um 5 Gruppen zu ergeben. Die Kühlwassertemperatur der Kühlvorrichtung, an welche die Probe angebracht ist, wurde auf 5°C herunter gekühlt, und die Vorrichtung wurde in einer Feuchtigkeitsreglerkammer mit konstanter Temperatur, deren Temperatur und relative Feuchtigkeit 25°C und 80% ist, angeordnet, wobei das Erzeugen von Beschlagen und Durchdringungsverzerrung untersucht wurde, indem die oben genannte Messskala zum Beurteilen der Durchdringungsverzerrung verwendet wurde, und die "Beschlag-Bewertung" und "Verzerrungsbewertung" der wiederholenden Antibeschlag-Eigenschaft unter Einhaltung des in Tabelle 3 dargestellten 6-Ebenen-Bewertungsbezugs gemessen wurde.
  • [Tabelle 3]
    Figure 00310001
  • Die Messergebnisse sind in Tabelle 4 dargestellt. Es wurde herausgefunden, dass die Glasplatte, auf welcher die oben genannte Silicaschicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen gebildet wurde, eine wiederholende Antibeschlag-Eigenschaft in gewissem Maß aufweist.
  • TABAKRAUCH-TEST
  • Eine Glasplatte, auf welcher die oben genannte Silicaschicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen gebildet wurde, wurde auf dem Boden eines würfelförmigen Behälters, dessen Seite 24cm ist, angeordnet, Rauch, welcher einer Zigarette entspricht, die auf dem Markt verfügbar ist, wurde in den Behälter eingebracht, und die Glasplatte wurde herausgenommen, nachdem sie für dreißig Minuten darin angeordnet war. Der Kontaktwinkel bezogen auf 0,4mg Wassertropfen, gemessen durch das oben genannte Verfahren, und die Antibeschlag-Eigenschaft-Bewertungsergebnisse, erhalten durch Durchführung des oben genannten Verfahrens, nach dem Ausgesetztsein von Tabakrauch, sind in Tabelle 6 dargestellt. Auf der Basis dieser Ergebnisse wurde bestätigt, dass die Glasplatte, auf welcher die oben genannte Silicaschicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen gebildet wurde, bezogen auf Tabakrauch in gewissem Maß eine wiederholende Antibeschlag-Nachhaltigkeit aufweist.
  • WISCHTEST MIT ÖLIGER SUBSTANZ
  • Einige Tropfen Olivenöl, welches auf dem Markt erhältlich ist, wurden auf eine Glasplatte getropft, auf welcher die oben genannte Silicaschicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen gebildet wurde, und auf die Oberfläche unter Verwendung eines Baumwolltuchs aufgetragen. Die Glasplatte wurde bei Raumtemperatur für dreißig Minuten so gelassen. Die Glasplatte wurde mit einem Baumwolltuch, welches destilliertes Wasser enthält, mehrere Male gewischt. Nach dem Trocknen wurde die Kontaktwinkel-Messung und Antibeschlag-Eigenschaft-Bewertung durch das oben genannte Verfahren durchgeführt. Die Ergebnisse wurden in Tabelle 6 dargestellt. Auf der Basis dieser Ergebnisse wurde bestätigt, dass, obwohl ölige Substanz in geringem Maß auf der Oberfläche der Glasplatte, auf welcher die Silicaschicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen gebildet wurde, verbleibt, was verursacht, dass die Antibeschlag-Eigenschaft gemindert wird, sie in gewissem Maße eine Antibeschlag-Nachhaltigkeit aufweist.
  • ANTIBESCHLAG-EIGENSCHAFT-BEWERTUNG NACH WASSERWIDERSTAND-TEST UND DRINNEN SO-GELASSEN-WIE-ES-IST-TEST
  • Eine Glasplatte, auf welcher die oben genannte Silicaschicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen gebildet wurde, wird senkrecht montiert, 500 Milliliter destilliertes Wasser wurde auf die gesamte Fläche der Glasplatte für ungefähr 3 Minuten gesprüht, damit Wasser auf der gesamten Oberfläche fließt. Nachdem die Glasplatte drinnen für dreißig Tage so, wie sie war, nachdem die Glasplatte getrocknet war, gelassen wurde, wurde die in Tabelle 2 dargestellte Vier-Ebenen-Bewertung unter Einhaltung des Verfahrens zum Messen des Kontaktwinkels und Verfahrens zum Bewerten der oben genannten Antibeschlag-Eigenschaft durchgeführt.
  • Wie in Tabelle 8 dargestellt, war auf der Glasplatte, auf welcher die oben genannte Silicaschicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen gebildet wurde, die Eigenschaft nicht schlecht, obwohl die Antibeschlag-Eigenschaft gemindert war. Nach dem Wasserwiderstand-Test und dem drinnen so-gelassen-wie-es-ist-Test wurde bestätigt, dass die Antibeschlag-Eigenschaft in gewissem Maß gesichert werden konnte.
  • [Ausführungsform Beispiel 2]
  • Bilden der mit organischem Silan beschichteten Oberfläche mit Ausnehmungen und Vorsprüngen
  • 0,1N Essigsäure zu 1 Milliliter wurde zu Ethanol (99,5%) zu 1000 Millilitern, welches auf dem Markt erhältlich ist, hinzugefügt, und diese werden gemischt. [Methoxy(polyethylenoxy)propyl]trimethoxysilan (SIM 6492.7, hergestellt von Chisso Co., Ltd, Gehalt 90%, Molekulargewicht von 460 bis 590, Ethylenoxid-Einheit von 6 bis 9) zu 4 Gramm wurde zu einer Lösung zu 796 Gramm hinzugefügt, deren Hauptbestandteil Ethanol ist, und bei 30°C für eine Stunde gerührt, wodurch eine Beschichtungslösung aus organischem Silan hergestellt wurde.
  • Die Glasplatte, auf welcher eine Silicaschicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen gebildet wurde, hergestellt in Ausführungsform Beispiel 1, wurde in destilliertem Wasser ultraschallgereinigt und getrocknet. Danach wurde die Glasplatte in die oben genannte Beschichtungslösung aus organischem Silan eingetaucht und mit einer Geschwindigkeit von 5cm pro Minute angehoben, wodurch die Lösung auf beiden Seiten der Glasplatte, die eine Silicaschicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen hat, aufgetragen wurde. Nachdem die Glasplatte getrocknet wurde und für 30 Minuten bei 120°C wärmebehandelt wurde und auf Raumtemperatur abgekühlt wurde, wurde sie leicht mit destilliertem Wasser gewaschen, wodurch eine Glasplatte mit einer Silicaschicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen erhalten wurde, auf welcher eine ungefähr 8 nm dicke Schicht aus organischem Silan mit Polyethylenoxid-Gruppe in seinem Molekül gebildet wurde.
  • [Ausführungsform Beispiel 3]
  • BILDEN VON OBERFLÄCHENAUSNEHMUNGEN UND -VORSPRÜNGEN
  • Tetraoxysilan 31 Gewichtsanteile, welches auf dem Markt verfügbar ist, wurde zu 2-Propanol 380 Gewichtsanteile hinzugefügt, und 1-normale Salzsäure 1,6 Gewichtsanteile und Wasser 6,5 Gewichtsanteile wurden dem hinzugefügt. Dies wurde bei 50°C für fünf Stunden und bei 30°C für einen Tag gerührt, um zu bewirken, dass diese hydrolysieren. Silicakolloide mit einer Korngröße von 50 nm (Markenname: Snowtex OL, Nissan Chemical Industries, Ltd., Feststoffgehalt 20 Prozent nach Gewicht) 30 Gewichtsanteile wurden zu der hydrolisierten Lösung hinzugefügt, und sie wurden weiter bei 30°C für fünf Stunden gerührt. Eine Lösung entsprechend 180 Gewichtsanteilen wurde teilweise von der erhaltenen Lösung ungefähr 450 Gewichtsanteile entnommen, wobei zu dieser Ethanol 120 Gewichtsanteile hinzugefügt wurde, um den Feststoffgehalt auf 2% anzupassen, wodurch eine Beschichtungsflüssigkeit zum Bilden von Ausnehmungen und Vorsprüngen erhalten wurde.
  • Die oben genannte Beschichtungsflüssigkeit zum Bilden von Ausnehmungen und Vorsprüngen wurde unter Verwendung einer Walzen-Auftragvorrichtung auf eine Kalk-Natron-Glasplatte (300mm × 300mm × 5mm) aufgetragen, poliert, gewaschen, ultraschallgereinigt und getrocknet wie in Ausführungsform Beispiel 1. Die Beschichtung wurde auf beide Seiten der Glasplatte aufgetragen. Die Glasplatte wurde bei 150°C für 30 Minuten getrocknet und wurde in einem elektrischen Feuerraum erhitzt, bis die Temperatur der Platte 600°C betrug. Danach wurde sie sofort herausgenommen und durch Luftstrom abgekühlt, wodurch eine Glasplatte erhalten wurde, auf der eine 80 nm dicke Silicaschicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen gebildet war.
  • [Ausführungsform Beispiel 4]
  • BILDEN EINER MIT ORGANISCHEM SILAN BESCHICHTETEN OBERFLÄCHE MIT AUSNEHMUNGEN UND VORSPRÜNGEN
  • 0,1N Essigsäure 1 Milliliter wurde zu 2-Propanol 1000 Milliliter, welches auf dem Markt verfügbar ist, hinzugefügt und sie wurden gerührt. n-Propyltrimethoxysilan 0,1 Gramm (LS-3120, hergestellt von Sinetsu Chemical Industries, Ltd.) wurden zu der Lösung zu 792 Gramm hinzugefügt, und sie wurden bei 30°C für eine Stunde gerührt, wodurch Beschichtungsflüssigkeit aus organischem Silan hergestellt wurde.
  • Nachdem die Glasplatte, auf welcher in Ausführungsform Beispiel 3 eine Silicaschicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen gebildet wurde, in destilliertem Wasser ultraschallgereinigt und getrocknet wurde, wurde eine Glasplatte mit einer Silicaschicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen erhalten, auf welcher eine Schicht aus organischem Silan von ungefähr 0,5 nm Dicke einschließlich einer n-Propyl-Gruppe in seinem Molekül, durch das gleiche Verfahren, welches identisch ist zu dem in Ausführungsform Beispiel 2 beschriebenen, erhalten.
  • [Ausführungsform Beispiel 5]
  • BILDEN EINER OBERFLÄCHE MIT AUSNEHMUNGEN UND VORSPRÜNGEN
  • Tetraethoxysilan 25 Gewichtsanteile, welches auf dem Markt erhältlich ist, wurde zu 2-Propanol 380 Gewichtsanteile hinzugefügt, und 1N Salpetersäure 1,6 Gewichtsanteile und Wasser 6,5 Gewichtsanteile wurden dazu hinzugefügt, wobei diese, nachdem sie bei 50°C für drei Stunden und bei 30°C für einen Tag gerührt wurden, hydrolisiert wurden. Titaniakolloide 23 Gewichtsanteile (Markenname: Titania sol CS-N, hergestellt von Ishihara Industries CO., Ltd., Feststoffgehalt 30 Prozent nach Gewicht) mit einer Korngröße von 30 bis 60 nm wurden zu der hydrolisierten Lösung hinzugefügt, Trimethylmethoxysilan 1 Gewichtsanteil wurde als dispersionsunterstützendes Agens hinzugefügt und wurde weiter bei 30°C für fünf Stunden gerührt. Eine Lösung entsprechend 100 Gewichtsanteilen wurde teilweise von der erhaltenen Lösung von ungefähr 437 Gewichtsanteilen entnommen. Ethanol 544 Gewichtsanteile wurde dazu hinzugefügt, um den Feststoffgehalt auf 0,5% anzupassen, wodurch eine Beschichtungsflüssigkeit zum Bilden von Ausnehmungen und Vorsprüngen erhalten wurde.
  • Kalk-Natron-Glas (60mm × 150mm × 3mm), poliert, gewaschen, ultraschallgereinigt und getrocknet wie in Ausführungsform Beispiel, wurde senkrecht in eine Umgebung gehangen, deren Temperatur und relative Feuchtigkeit (RH) 20°C und 30% ist, und es wurde bewirkt, dass die oben genannte Beschichtungsflüssigkeit zum Bilden von Ausnehmungen und Vorsprüngen von dem oberen Ende der Platte hinunterfließt, um dadurch das Glas mit der Flüssigkeit zu beschichten (Fließbeschichtungsverfahren). Die Beschichtung wurde auf beide Seiten der Glasplatte aufgebracht. Die Glasplatte wurde bei 150°C für 30 Minuten getrocknet und in einem Ofen, dessen Temperatur 500°C beträgt, für drei Stunden wärmebehandelt, wobei eine Glasplatte mit 100 nm Dicke erhalten wurde, auf welcher einen Silica-Titania-Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen gebildet wurde.
  • [Ausführungsform Beispiel 6]
  • HERSTELLEN EINER MIT ORGANISCHEM SILAN BESCHICHTETEN OBERFLÄCHE MIT AUSNEHMUNGEN UND VORSPRÜNGEN
  • Phenyltrichlorsilan 1 Gewichtsanteil (TSL8063, hergestellt von Toshiba Silicone Limited) wurde in n-Hexan 1000 Gewichtsanteilen gelöst, um eine Beschichtungsflüssigkeit aus organischem Silan zu erhalten. Nachdem die Glasplatte, auf welcher eine Silica-Titania-Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen gebildet wurde, hergestellt in Ausführungsform Beispiel 5, in einer Sauerstoffatmosphäre mit ultravioletten Strahlen bestrahlt wurde und ihre Oberfläche gereinigt wurde, wurde die Glasplatte in die Beschichtungsflüssigkeit aus organischem Silan eingetaucht und bei 40°C für fünf Stunden gehalten. Danach wurde die Glasplatte herausgenommen und mit n-Hexan gewaschen, wodurch eine Glasplatte versehen mit einer Silica-Titania-Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen erhalten wurde, auf welcher eine monomolekulare Lage (ungefähr 5 nm dick) mit einer Phenyl-Gruppe in ihrem Molekül auf der Oberfläche derselben gebildet wurde.
  • [Ausführungsform Beispiel 7]
  • BILDEN VON OBERFLÄCHENAUSNEHMUNGEN UND -VORSPRÜNGEN
  • Zirkoniumbutoxid 5 Gewichtsanteile wurde zu Ethalacetoacetat 1 Gewichtsanteil hinzugefügt und bei 30°C für zwei Stunden gerührt (Lösung "A"). Getrennt davon wurde Tetraethoxysilan 15 Gewichtsanteile, 2-Propanol 170 Gewichtsanteile, 1-normale Salzsäure 0,8 Gewichtsanteile und Wasser 3,5 Gewichtsanteile zueinander hinzugefügt und bei 30°C für zwei Stunden gerührt (Lösung "B"). Lösungen "A" und "B" wurden gemischt, wozu verkettete Silicakolloide (Markenname: Snowtex OUP, Nissan Chemical Industries, Ltd., Feststoffgehalt 15 Prozent nach Gewicht) 15 Gewichtsanteile mit einem Durchmesser von 10 bis 20 nm und einer Länge von 40 bis 300 nm hinzugefügt wurden, wobei diese bei 50°C für drei Stunden und weiter bei 30°C für einen Tag gerührt wurden, um sie zu hydrolysieren. Eine Lösung entsprechend 40 Gewichtsanteilen wurde teilweise von der erhaltenen Flüssigkeit 210 Gewichtsanteile entnommen, zu welcher Ethanol 480 Gewichtsanteile hinzugefügt wurde, um den Feststoffgehalt auf 0,3% anzupassen, wodurch eine Beschichtungsflüssigkeit zum Bilden von Ausnehmungen und Vorsprüngen erhalten wurde.
  • Die oben genannte Beschichtungsflüssigkeit zum Bilden von Ausnehmungen und Vorsprüngen wurde durch ein in Ausführungsform Beispiel 5 beschriebenes Verfahren auf eine Kalk-Natron-Glasplatte (60mm × 150mm × 3mm), poliert, gewaschen, ultraschallgereinigt, aufgetragen und getrocknet wie in Ausführungsform Beispiel 1. Die Glasplatte wurde bei 120°C für eine Stunde getrocknet und in einem Ofen, dessen Temperatur 500°C beträgt, für zwei Stunden wärmebehandelt, wobei eine Glasplatte erhalten wurde, auf welcher eine Silica-Zirkonia-Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen von 50 nm Dicke gebildet wurde.
  • [Ausführungsform Beispiel 8]
  • HERSTELLEN EINER MIT ORGANISCHEM SILAN BESCHICHTETEN OBERFLÄCHE MIT AUSNEHMUNGEN UND VORSPRÜNGEN
  • Nachdem die Glasplatte, auf welcher eine Silica-Zirkonia-Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen gebildet wurde, hergestellt in Ausführungsform Beispiel 7, mit ultravioletten Strahlen in einer Sauerstoffatmosphäre bestrahlt wurde und ihre Oberfläche gereinigt wurde, wurde die Glasplatte in einer Vakuumskammer, deren Druck auf ungefähr 5 Torr gemindert wurde, angeordnet, wobei das System geschlossen und auf 80°C erwärmt wurde. Als Nächstes wurde Ethyltrichlorsilan zu 0,005 Millilitern (SIE4901.0, hergestellt von Chisso Co., Ltd.) unter Verwendung einer Einspritzvorrichtung in die Kammer eingebracht und darin verdampft. Nachdem diese für eine Stunde miteinander reagiert hatten, wurde der Überschuss an organischem Silan in der Kammer über einen Goldabscheider durch Evakuieren entfernt. Durch die oben genannten Vorgänge wird eine mit einer Silica-Zirkonia-Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen versehene Glasplatte erhalten, auf welcher eine monomolekulare Lage aus organischem Silan (ungefähr 0,3 nm dick) mit einer Ethylgruppe in seinem Molekül gebildet wurde.
  • [Ausführungsform Beispiel 9]
  • Nachdem eine Glasplatte, auf welcher eine Silicaschicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen gebildet ist, hergestellt in Ausführungsform Beispiel 1, in destilliertem Wasser ultraschallgereinigt und getrocknet wurde, wurde die Glasplatte in eine Wasserlösung mit Polyoxyethylennonylphenylether (Nippon Yushi Co., Ltd, "Nonion NS-220", nicht-ionisiert, HLB-Wert 16,0) zu einem Verhältnis von 0,2% eingetaucht, und wurde mit einer Geschwindigkeit von 30cm pro Minute angehoben, wobei die Lösung auf die mit einer Silicaschicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen versehene Glasplatte aufgetragen wurde und die Platte bei Raumtemperatur ausreichend getrocknet wurde. Nach dem Trocknen wurde die Glasplatte unter Verwendung eines Baumwolltuchs abgerieben, um den Überschuss an oberflächenaktivem Agens zu entfernen, wodurch eine Lage mit oberflächenaktivem Agens von 30 nm Dicke erhalten wird.
  • [Ausführungsform Beispiel 10]
  • Eine Wasserlösung mit Di-2-ethylhexylnatriumsulfosuccinat (Nippon Yushi Co., Ltd., "Rapisol B-30", nicht-ionisisert) zu einem Verhältnis von 0,05% wurde auf die mit einer Silicaschicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen versehene Glasplatte, hergestellt durch ein Fließbeschichtungsverfahren in Ausführungsform Beispiel 2, aufgetragen, und die Glasplatte wurde ausreichend bei Raumtemperatur getrocknet. Nach dem Trocknen wurde die Glasplatte unter Verwendung eines Baumwolltuchs abgerieben, um den Überschuss an oberflächenaktivem Agens zu entfernen, wodurch eine Lage mit oberflächenaktivem Agens von 10 nm Dicke erhalten wird.
  • [Ausführungsform Beispiel 11]
  • Eine Glasplatte, die mit einer Silicaschicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen versehen ist, auf welche in Ausführungsform Beispiel 4 hergestelltes organisches Silan aufgetragen wurde, wurde in eine Ethanollösung mit Polyoxyethylenstearylether (Nippon Yushi Co., Ltd., "Nonion 5-207", nicht-ionisisert, HLB-Wert 10,7) zu einem Verhältnis von 2% eingetaucht und wurde mit einer Geschwindigkeit von 5cm pro Minute angehoben, wodurch die Flüssigkeit auf die mit einer Silicaschicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen versehene Glasplatte aufgetragen wurde, und die Glasplatte wurde bei Raumtemperatur getrocknet. Eine Lage mit oberflächenaktivem Agens von 80 nm Dicke wurde erhalten.
  • [Ausführungsform Beispiel 12]
  • Nachdem eine Glasplatte, welche mit einer Silica-Zirkonia-Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen versehen ist, hergestellt in Ausführungsform Beispiel 7, in destilliertem Wasser ultraschallgereinigt und getrocknet wurde, wurde sie in eine Wasserlösung mit Polyoxyethylennonylphenylether (Nippon Yushi Co., Ltd, "Nonion NS-202", nicht-ionisiert, HLB-Wert 5,7) zu einem Verhältnis von 0,2% eingetaucht, und wurde mit einer Geschwindigkeit von 30cm pro Minute angehoben. Dadurch wurde die Flüssigkeit auf die Glasplatte mit einer Silicaschicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen aufgetragen und wurde bei Raumtemperatur ausreichend getrocknet. Nach dem Trocknen wurde die Oberfläche der Glasplatte unter Verwendung eines Baumwolltuchs abgerieben, um den Überschuss an oberflächenaktivem Agens zu entfernen, wodurch eine Lage mit oberflächenaktivem Agens von 30 nm Dicke gebildet wurde.
  • [Ausführungsform Beispiel 13]
  • Einige Tropfen einer Suspension mit Sorbitanmonolaurat (Nippon Yushi Co., Ltd., "Nonion LP-20R", nicht-ionisiert, HLB-Wert 6,8) zu einem Verhältnis von 1% wurden auf eine mit organischem Silan beschichtete Glassplatte mit einer Silica-Zirkonia-Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen, hergestellt in Ausführungsform Beispiel 8, aufgetropft, und nachdem die Suspension auf der Oberfläche unter Verwendung eines Baumwolltuchs aufgetragen wurde, wurde die Glasplatte getrocknet. So wurde eine Lage aus oberflächenaktivem Agens von ungefähr 50 nm Dicke gebildet.
  • [Ausführungsform Beispiel 14]
  • Einige Tropfen einer Wasserlösung mit Natriumdodecylbenzolsulfonat (Nippon Yushi Co., Ltd., "Nex Rex Powder F", negativ-ionisiert) zu einem Verhältnis von 2% wurden auf eine mit organischem Silan beschichtete Glassplatte mit einer Silicaschicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen, hergestellt in Ausführungsform Beispiel 1, aufgetropft und wurden auf die Oberfläche unter Verwendung eines Baumwolltuchs aufgetragen. Danach wurde das Ganze getrocknet. Eine Lage aus oberflächenaktivem Agens von ungefähr 70 nm Dicke wurde gebildet.
  • Unter Einhaltung des in Ausführungsform Beispiel 1 beschriebenen Verfahrens wurden Antibeschlag-Gegenstände, die gemäß den Ausführungsformen Beispiele 2 bis 14 erhalten wurden, Oberflächen-Rauheit-Messungen, Kontaktwinkel-Messungen, anfänglicher und wiederholender Antibeschlag-Eigenschaft-Bewertung, Tabakrauch-Test, Wischtest mit öliger Substanz und Antibeschlag-Eigenschaft-Bewertung nach Wasserwiderstand-Test und Sogelassen-wie-es-ist-Test unterzogen. Die Ergebnisse davon sind in den Tabellen 4, 6 und 8 dargestellt. Wie in diesem Tabellen dargestellt, zeigten die Antibeschlag-Gegenstände in jedem Fall eine hervorragende Antibeschlag-Eigenschaft. Die Antibeschlag-Gegenstände gemäß den Ausführungsformen Beispiele 3, 5 und 7 zeigen eine gewisse Antibeschlag-Nachhaltigkeit, und des Weiteren weisen die Gegenstände gemäß den Ausführungsformen Beispiele 2, 4, 6 und 8 bis 14, welche mit der oben genannten Lage aus organischem Silan oder der Lage aus oberflächenaktivem Agens auf der Oberfläche derselben beschichtet sind, eine gute Antibeschlag-Nachhaltigkeit auf, wobei in den Ausführungsformen Beispiele 2, 4, 6 und 8 die Gegenstände keinen Schmutz adsorbiert haben. Des Weiteren sind Zahlenangaben in Klammern in den Spalten Oberflächenrauheit Ra und Sm in den Tabellen gemessene Werte bezogen auf die Oberfläche der Lage aus oberflächenaktivem Agens, wobei die waagerechten Linien (-) bedeuten, dass keine Messung durchgeführt wurde (dies findet Anwendung in den nachfolgenden Vergleichskontrollen).
  • [Vergleich Beispiel 1]
  • Unter Verwendung einer Kalk-Natron-Glasplatte (60mm × 150mm × 3mm) als Matrix, deren Oberfläche modifiziert wurde durch Oberflächenpolieren mit einem Ceroxidausgerichteten Poliermittel, Waschen, Ultraschallreinigen in destilliertem Wasser, Trocknen und danach Bestrahlen mit ultravioletten Strahlen in einer Sauerstoffatmosphäre, wurden die Kontaktwinkel-Messung, Antibeschlag-Eigenschaft-Bewertung, Tabakrauch-Test, Wischtest mit öliger Substanz und Antibeschlag-Eigenschaft-Bewertung nach Wasserwiderstand- und So-gelassen-wie-es-ist-Test durchgeführt bezogen auf Wassertropfen von 0,4mg unter Einhaltung des in Ausführungsform Beispiel 1 beschriebenen Verfahrens. Diese Ergebnisse sind in den Tabellen 5, 7 und 9 dargestellt. Unter Beurteilung dieser Ergebnisse, obwohl erkannt werden kann, dass nicht-behandeltes Glas mit glatter Oberfläche in gewissem Maß im Anfangszustand, gerade nachdem das Glas gut gewaschen wurde, eine Antibeschlag-Eigenschaft aufweist, wurde bestätigt, dass die Antibeschlag-Eigenschaft aufgrund von Verschmutzungen, die darauf adsorbiert sind oder daran anhaften, schnell verloren geht.
  • [Vergleich Beispiel 2]
  • Eine Glasplatte mit glatter Oberfläche, auf welcher eine Lage aus organischem Silan mit einer Polyethylen-Oxid-Gruppe in seinem Molekül gebildet war, wurde unter Einhaltung der gleichen Bedingungen wie jenen in Ausführungsform Beispiel 2 erhalten, mit der Ausnahme, dass als Matrix eine Kalk-Natron-Glasplatte (60mm × 150mm × 3mm, ohne irgendeine Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen) verwendet wurde, oberflächenpoliert mit einem Ceroxid-ausgerichteten Poliermittel, gewaschen, in destilliertem Wasser ultraschallgereinigt, getrocknet und danach in Sauerstoffatmosphäre mit ultravioletten Strahlen bestrahlt. Des Weiteren wurde Kontaktwinkel-Messung, anfängliche und wiederholende Antibeschlag-Eigenschaft-Bewertung, Tabakrauch-Test, Wischtest mit öliger Substanz und Antibeschlag-Eigenschaft-Bewertung nach Wasserwiderstand- und So-gelassen-wie-es-ist-Test durchgeführt bezogen auf Wassertropfen von 0,4mg unter Einhaltung des in Ausführungsform Beispiel 1 beschriebenen Verfahrens. Diese Ergebnisse sind in den Tabellen 5, 7 und 9 dargestellt. Die Ergebnisse beurteilend wurde für Glas mit glatter Oberfläche, auf welchem eine Lage aus organischem Silan mit einer Polyethylen-Oxid-Gruppe in seinem Molekül gebildet war, herausgefunden, dass die Antibeschlag-Eigenschaft eine zufrieden stellende Ebene nicht erreichen konnten, obwohl eine leichte Antibeschlag-Eigenschaft erkannt wurde.
  • [Vergleich Kontrolle 3]
  • Eine Kalk-Natron-Glasplatte (60mm × 150mm × 3mm, ohne irgendeine Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen), mit einem Ceroxid-ausgerichteten Poliermittel oberflächenpoliert, gewaschen, in destilliertem Wasser ultraschallgereinigt, getrocknet und danach in Sauerstoffatmosphäre mit ultravioletten Strahlen bestrahlt, wurde in eine Wasserlösung mit Flusssäure zu einem Verhältnis von 0,28 Mol pro Liter bei 25°C für 120 Sekunden eingetaucht, mit einer großen Menge Wasser gewaschen und bei 100°C getrocknet, wobei eine Glasplatte, deren Oberfläche wie oben geätzt war, erhalten wurde.
  • Oberflächen-Rauheit-Messung, Kontaktwinkel-Messung, anfängliche und wiederholende Antibeschlag-Eigenschaft-Bewertung, Tabakrauch-Test, Wischtest mit öliger Substanz und Antibeschlag-Eigenschaft-Bewertung nach Wasserwiderstand- und So-gelassen-wie-es-ist-Test wurden bezogen auf die Glasplatte mit geätzter Oberfläche unter Einhaltung des in Ausführungsform Beispiel 1 beschriebenen Verfahrens durchgeführt. Diese Ergebnisse sind in den Tabellen 5, 7 und 9 dargestellt. Unter Beurteilung dieser Ergebnisse, obwohl erkannt werden kann, dass das Glas mit geätzter Oberfläche in gewissem Maß im Anfangszustand, gerade nachdem das Glas gut gewaschen wurde, eine Antibeschlag-Eigenschaft aufweist, wurde bestätigt, dass die Antibeschlag-Eigenschaft aufgrund von Verschmutzungen, die darauf adsorbiert sind oder daran anhaften, schnell verloren geht.
  • [Vergleich Beispiel 4]
  • Ein oberflächenaktives Agens, beschrieben in Ausführungsform Beispiel 9, wurde auf ein Glassubstrat, beschrieben in Vergleich Beispiel 1, durch das in Ausführung Beispiel 9 beschriebene Verfahren aufgetragen, und eine Lage aus oberflächenaktivem Agens von ungefähr 30 nm wurde gebildet.
  • Bezogen auf die Glasplatte mit aufgetragener Lage aus oberflächenaktivem Agens wurden Oberflächen-Rauheit-Messung, Kontaktwinkel-Messung, anfängliche und wiederholende Antibeschlag-Eigenschaft-Bewertung, Tabakrauch-Test, Wischtest mit öliger Substanz und Antibeschlag-Eigenschaft-Bewertung nach Wasserwiderstand- und So-gelassen-wie-es-ist-Test unter Einhaltung des in Ausführungsform Beispiel 1 beschriebenen Verfahrens durchgeführt. Diese Ergebnisse sind in Tabellen 5, 7 und 9 dargestellt. Unter Beurteilung dieser Ergebnisse, obwohl das Glas mit oberflächenaktivem Agens im Anfangszustand eine hervorragende Antibeschlag-Eigenschaft aufweist, wurde herausgefunden, dass die Antibeschlag-Nachhaltigkeit bezogen auf Verschmutzungen nicht gut ist und die wiederholende Antibeschlag-Nachhaltigkeit gering ist.
  • [Ausführungsform Beispiel 15]
  • BILDEN VON OBERFLÄCHENAUSNEHMUNGEN UND -VORSPRÜNGEN
  • Verkettete Silicakolloide mit einem Durchmesser von 10 bis 24 nm und einer Länge von 40 bis 300 nm (Markenname: Snowtex OUP, Nissan Chemical Industries, Ltd., Feststoffgehalt 15 Prozent nach Gewicht) 2,3 Gewichtsanteile und 2-Propanol 196,9 Gewichtsanteile wurden bei Raumtemperatur für fünf Minuten gemischt, und Siliziumtetrachlorid 0,9 Gewichtsanteile, welches auf dem Markt erhältlich ist, wurde zu dem oben Genannten hinzugefügt und bei Raumtemperatur für eine Stunde gerührt. Dadurch wurde eine Beschichtungsflüssigkeit zum Bilden von Ausnehmungen und Vorsprüngen erhalten.
  • Die oben genannte Beschichtungsflüssigkeit zum Bilden von Ausnehmungen und Vorsprüngen wurde auf eine Kalk-Natron-Glasplatte (65mm × 150mm × 3mm) aufgetragen, poliert, gewaschen, ultraschallgereinigt und getrocknet wie in Ausführungsform Beispiel 1 unter Einhaltung des in Ausführungsform Beispiel 5 beschriebenen Verfahrens. Danach wurde die Glasplatte nur bei Raumtemperatur ohne spezielle Wärmebehandlung getrocknet. Dadurch wurde eine Glasplatte erhalten, auf welcher eine Silicaschicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen von 60 nm Dicke gebildet wurde.
  • [Ausführungsform Beispiel 16]
  • BILDEN EINER SILICASCHICHT MIT AUSNEHMUNGEN UND VORSPRÜNGEN, ZU WELCHER NEGATIV-IONISIERTES OBERFLÄCHENAKTIVES AGENS HINZUGEFÜGT WURDE
  • Verkettete Silicakolloide mit einem Durchmesser von 10 bis 20 nm und einer Länge von 40 bis 300 nm (Markenname: Snowtex OUP, Nissan Chemical Industries, Ltd., Feststoffgehalt 15 Prozent nach Gewicht) 2,3 Gewichtsanteile und 2-Propanol 195,2 Gewichtsanteile wurden bei Raumtemperatur für fünf Minuten gemischt. Siliziumtetrachlorid 0,9 Gewichtsanteile, welches auf dem Markt erhältlich ist, und eine Ethanollösung 1,7 Gewichtsanteile, welche zu einem Verhältnis von 10% ein negativ-ionisiertes oberflächenaktives Agens (Markenname: Rapisol A-30, Nippon Yushi Co., Ltd., Feststoffgehalt 30 Prozent nach Gewicht), welches hauptsächlich aus Natriumdioctylsulfosuccinat zusammengesetzt ist, enthält, wurde zu dem oben Genannten hinzugefügt und diese bei Raumtemperatur für eine Stunde gerührt. Dadurch wurde eine Beschichtungsflüssigkeit zum Bilden von Ausnehmungen und Vorsprüngen erhalten.
  • Nachdem die Oberfläche der Polyethylenterephthalat-Schicht (100μm dick) durch Korona-Entladung unter Bedingungen von normaler Temperatur, normalem Atmosphärendruck und einer Ladungsdichte von 200W/m2 in der Atmosphäre behandelt wurde, wurde die oben genannte Beschichtungsflüssigkeit zum Bilden von Ausnehmungen und Vorsprüngen durch das in Ausführungsform Beispiel 5 beschriebene Verfahren aufgetragen. Danach wurde die Schicht nur bei Raumtemperatur und ohne besondere Wärmebehandlung getrocknet. Dadurch wurde eine Polyethylenterephthalat-Schicht erhalten, auf welcher eine Silicaschicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen von 60 nm Dicke, mit hinzugefügtem negativ-ionisiertem oberflächenaktivem Agens, gebildet war.
  • [Ausführungsform Beispiel 17]
  • BILDEN EINER SILICASCHICHT MIT PHOSPHATVERBINDUNG MIT AUSNEHMUNGEN UND VORSPRÜNGEN
  • Verkettete Silicakolloide mit einem Durchmesser von 10 bis 20 nm und einer Länge von 40 bis 300 nm (Markenname: Snowtex OUP, Nissan Chemical Industries, Ltd., Feststoffgehalt 15 Prozent nach Gewicht) 4,6 Gewichtsanteile und 2-Propanol 177,2 Gewichtsanteile wurden bei Raumtemperatur für fünf Minuten gemischt. Siliziumtetrachlorid 1,8 Gewichtsanteile, welches auf dem Markt erhältlich ist, und eine Ethanollösung 16,4 Gewichtsanteile mit Triethylphosphat zu einem Verhältnis von 1 % wurde zu dem oben Genannten hinzugefügt und dies bei Raumtemperatur für drei Stunden gerührt. Dadurch wurde eine Beschichtungsflüssigkeit zum Bilden von Ausnehmungen und Vorsprüngen erhalten.
  • Eine Beschichtungsflüssigkeit zum Bilden von Ausnehmungen und Vorsprüngen wurde auf eine Kalk-Natron-Glasplatte (65mm × 150mm × 3mm) aufgetragen, poliert, gewaschen, ultraschallgereinigt und getrocknet wie in Ausführungsform Beispiel 1 unter Einhaltung des in Ausführungsform Beispiel 5 beschriebenen Verfahrens. Danach wurde sie bei 120°C für fünf Minuten getrocknet. Dadurch wurde eine Glasplatte erhalten, auf welcher eine Silicaschicht mit Phosphatverbindung mit Ausnehmungen und Vorsprüngen von 120 nm Dicke gebildet wurde.
  • [Ausführungsform Beispiel 18]
  • BILDEN EINER SILICASCHICHT MIT AUSNEHMUNGEN UND VORSPRÜNGEN, ZU WELCHER NEGATIV-IONISIERTES OBERFLÄCHENAKTIVES AGENS UND EINE PHOSPHATVERBINDUNG HINZUGEFÜGT WURDEN
  • Verkettete Silicakolloide mit einem Durchmesser von 10 bis 20 nm und einer Länge von 40 bis 300 nm (Markenname: Snowtex OUP, Nissan Chemical Industries, Ltd., Feststoffgehalt 15 Prozent nach Gewicht) 3,1 Gewichtsanteile und 2-Propanol 184,3 Gewichtsanteile wurden bei Raumtemperatur für fünf Minuten gemischt. Tetraethoxysilan 1,5 Gewichtsanteile, welches auf dem Markt erhältlich ist, und konzentrierte Salzsäure (35%) 1,3 Gewichtsanteile wurde dazu hinzugefügt und dies bei Raumtemperatur für fünf Minuten gemischt. Eine Ethanollösung 7,5 Gewichtsanteile, welches zu einem Verhältnis von 1% ein negativ-ionisiertes oberflächenaktives Agens (Markenname: Rapisol A-30, Nippon Yushi Co., Ltd., Feststoffgehalt 30 Prozent nach Gewicht), welches hauptsächlich aus Natriumdioctylsulfosuccinat zusammengesetzt ist, enthält, und eine Ethanollösung 2,7 Gewichtsanteile mit Triethylphosphat zu einem Verhältnis von 1 % wurde zu dem oben Genannten hinzugefügt, wobei dies bei Raumtemperatur für zwei Stunden gerührt wurde. Dadurch wurde eine Beschichtungsflüssigkeit zum Bilden von Ausnehmungen und Vorsprüngen erhalten.
  • Die oben genannte Beschichtungsflüssigkeit zum Bilden von Ausnehmungen und Vorsprüngen wurde durch das in Ausführungsform Beispiel 5 beschriebene Verfahren auf eine Kalk-Natron-Glasplatte (65mm × 150mm × 3mm) aufgetragen, poliert, gewaschen, ultraschallgereinigt, und getrocknet wie in Ausführungsform Beispiel 1. Danach wurde sie bei 120°C für fünf Minuten getrocknet. Dadurch wurde eine mit einer Silicaschicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen von 120 nm Dicke versehene Glasplatte, auf welcher ein negativ-ionisiertes oberflächenaktives Agens und eine Phosphatverbindung hinzugefügt wurden, erhalten.
  • [Ausführungsform Beispiel 19]
  • BILDEN EINER SILICASCHICHT MIT PHOSPHATVERBINDUNG MIT AUSNEHMUNGEN UND VORSPRÜNGEN
  • Verkettete Silicakolloide mit einem Durchmesser von 10 bis 20 nm und einer Länge von 40 bis 300 nm (Markenname: Snowtex OUP, Nissan Chemical Industries, Ltd., Feststoffgehalt 15 Prozent nach Gewicht) 2,6 Gewichtsanteile und 2-Propanol 194,1 Gewichtsanteile wurden bei Raumtemperatur für fünf Minuten gemischt. Tetraethoxysilan 1,3 Gewichtsanteile und 1N Salzsäure 1,2 Gewichtsanteile, welche auf dem Markt erhältlich sind, wurden dazu hinzugefügt und weiter bei Raumtemperatur für fünf Minuten gemischt. Des Weiteren wurde dazu eine Ethanollösung 0,8 Gewichtsanteile mit Triethylphosphit zu einem Verhältnis von 1 % dem hinzugefügt und dies bei Raumtemperatur für vier Stunden gemischt. Dadurch wurde eine Beschichtungsflüssigkeit zum Bilden von Ausnehmungen und Vorsprüngen erhalten.
  • Die oben genannte Beschichtungsflüssigkeit zum Bilden von Ausnehmungen und Vorsprüngen wurde durch das in Ausführungsform Beispiel 5 beschriebene Verfahren auf eine Kalk-Natron-Glasplatte (65mm × 150mm × 3mm) aufgetragen, poliert, gewaschen, ultraschallgereinigt und getrocknet wie in Ausführungsform Beispiel 1. Danach wurde sie bei 120°C für dreißig Minuten getrocknet und bei 500°C für zwei Stunden wärmebehandelt. Dadurch wurde eine Glasplatte von 100 nm Dicke, auf welcher eine Silicaschicht mit hinzugefügter Phosphatverbindung mit Ausnehmungen und Vorsprüngen gebildet war, erhalten.
  • [Ausführungsform Beispiel 20]
  • Verkettete Silicakolloide mit einem Durchmesser von 10 bis 20 nm und einer Länge von 40 bis 300 nm (Markenname: Snowtex OUP, Nissan Chemical Industries, Ltd., Feststoffgehalt 15 Prozent nach Gewicht) 1,2 Gewichtsanteile, kugelförmige Silicakolloide mit einem Durchmesser von 10 bis 20 nm (Markenname: Snowtex 0, Nissan Chemical Industries, Ltd., Feststoffgehalt 20 Prozent nach Gewicht) 0,8 Gewichtsanteile, Ethanol 198,6 Gewichtsanteile und 2-Propanol 198,6 Gewichtsanteile wurden bei Raumtemperatur für fünf Minuten gemischt. Siliziumtetrachlorid 0,9 Gewichtsanteile, welches auf dem Markt erhältlich ist, wurde dem hinzugefügt, bei Raumtemperatur für eine Stunde gerührt, und eine Beschichtungsflüssigkeit zum Bilden von Ausnehmungen und Vorsprüngen wurde erhalten.
  • Nachdem die Oberfläche der Polyethylenterephthalat-Schicht (100μm dick) durch Korona-Entladung unter Bedingungen von normaler Temperatur, normalem Atmosphärendruck und einer Ladungsdichte von 200W/m2 in der Atmosphäre behandelt wurde, wurde die oben genannte Beschichtungsflüssigkeit zum Bilden von Ausnehmungen und Vorsprüngen durch das in Ausführungsform Beispiel 5 beschriebene Verfahren auf die Schicht aufgetragen. Danach wurde die Schicht nur bei Raumtemperatur und ohne besondere Wärmebehandlung getrocknet. Dadurch wurde eine Polyethylenterephthalat-Schicht erhalten, auf welcher eine Silicaschicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen von 30 nm Dicke gebildet war.
  • [Ausführungsform Beispiel 21]
  • BILDEN EINER TITANIA-SILICA-SCHICHT MIT AUSNEHMUNGEN UND VORSPRÜNGEN
  • Verkettete Silicakolloide mit einem Durchmesser von 10 bis 20 nm und einer Länge von 40 bis 300 nm (Markenname: Snowtex OUP, Nissan Chemical Industries, Ltd., Feststoffgehalt 15 Prozent nach Gewicht) 2,3 Gewichtsanteile, Ethanol 194,1 Gewichtsanteile, Acetylaceton 1,1 Gewichtsanteile, Titanisopropoxid 1,3 Gewichtsanteile, 6N Salzsäure 0,3 Gewichtsanteile wurden bei Raumtemperatur für drei Stunden gemischt. Dadurch wurde eine Beschichtungsflüssigkeit zum Bilden von Ausnehmungen und Vorsprüngen erhalten.
  • Die oben genannte Beschichtungsflüssigkeit zum Bilden von Ausnehmungen und Vorsprüngen wurde durch das in Ausführungsform Beispiel 5 beschriebene Verfahren auf eine Kalk-Natron-Glasplatte (65mm × 150mm × 3mm) aufgetragen, poliert, gewaschen, ultraschallgereinigt, und getrocknet wie in Ausführungsform Beispiel 1. Danach wurde sie bei 120°C für dreißig Minuten getrocknet und bei 400°C für zwei Stunden wärmebehandelt. Dadurch wurde eine Glasplatte von 60 nm Dicke, auf welcher eine Tintania-Silica-Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen gebildet war, erhalten.
  • Oberflächen-Rauheit-Messung, Kontaktwinkel-Messung, anfängliche und wiederholende Antibeschlag-Eigenschaft-Bewertung, Tabakrauch-Test, Wischtest mit öliger Substanz und Antibeschlag-Eigenschaft-Bewertung nach Wasserwiderstand- und So-gelassen-wie-es-ist-Test wurden bezogen auf die Glasplatte mit Titania-Silica-Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen unter Einhaltung des in Ausführungsform Beispiel 1 beschriebenen Verfahrens durchgeführt. Diese Ergebnisse sind in den Tabellen 5, 7 und 9 dargestellt. Unter Beurteilung dieser Ergebnisse wurde herausgefunden, dass die Titania-Silica-Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen eine hervorragende Antibeschlag-Eigenschaft aufweist und in gewissem Maß eine Antibeschlag-Nachhaltigkeit aufweist.
  • Die Glasplatte wurde nach dem Tabakrauch-Test für acht Stunden mit Licht aus einer Ultraviolett-Lampe bestrahlt, derart, dass die Ultraviolettstrahlenstärke auf der Oberfläche 2mW/cm2 beträgt. Der Kontaktwinkel zu Wassertropfen von 0,4mg ist 1 Grad und die Beschlag-Bewertung ist "0", und die Durchdringungsverzerrung-Bewertung wird ebenfalls "0 ", wobei erneut eine gute Antibeschlag-Eigenschaft festgestellt wurde, das heißt, es wurde bestätigt, dass der Gegenstand eine Selbstreinigungs-Eigenschaft aufweist.
  • [Ausführungsform Beispiel 22]
  • BILDEN EINER TITANIA-SILICA-SCHICHT MIT AUSNEHMUNGEN UND VORSPRÜNGEN
  • Eine Lösung mit feinen Partikeln aus Titanoxid mit einem Durchmesser von ungefähr 10 nm (Markenname: ST-K01, Ishihara Industries Co., Ltd., Feststoffgehalt 10 Prozent nach Gewicht, Titanoxid-Gehalt 8 Prozent nach Gewicht) 2,7 Gewichtsanteile wird dispergiert, Ethanol 195,3 Gewichtsanteile, verkettete Silicakolloide (Markenname: Snowtex OUP, Nissan Chemical Industries, Ltd., Feststoffgehalt 15 Prozent nach Gewicht) 1,4 Gewichtsanteile, Siliziumtetrachlorid 0,6 Gewichtsanteile, welches auf dem Markt verfügbar ist, wurden bei Raumtemperatur für eine Stunde gemischt. Dadurch wurde eine Beschichtungsflüssigkeit zum Bilden von Ausnehmungen und Vorsprüngen erhalten.
  • Die oben genannte Beschichtungsflüssigkeit zum Bilden von Ausnehmungen und Vorsprüngen wurde durch das in Ausführungsform Beispiel 5 beschriebene Verfahren auf eine Kalk-Natron-Glasplatte (60mm × 150mm × 3mm) aufgetragen, poliert, gewaschen, ultraschallgereinigt und getrocknet wie in Ausführungsform Beispiel 1. Danach wurde die Glasplatte nur bei Raumtemperatur getrocknet und keiner besonderen Wärmebehandlung unterzogen. Dadurch wurde eine Glasplatte, auf welcher eine Titania-Silica-Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen von 60 nm Dicke gebildet war, erhalten.
  • Oberflächen-Rauheit-Messung, Kontaktwinkel-Messung, anfängliche und wiederholende Antibeschlag-Eigenschaft-Bewertung, Tabakrauch-Test, Wischtest mit öliger Substanz und Antibeschlag-Eigenschaft-Bewertung nach Wasserwiderstand- und So-gelassen-wie-es-ist-Test wurden bezogen auf die Glasplatte mit Titania-Silica-Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen unter Einhaltung des in Ausführungsform Beispiel 1 beschriebenen Verfahrens durchgeführt. Diese Ergebnisse sind in den Tabellen 5, 7 und 9 dargestellt. Unter Beurteilung dieser Ergebnisse wurde herausgefunden, dass die Glasplatte mit Titania-Silica-Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen eine hervorragende Antibeschlag-Eigenschaft aufweist und in gewissem Maß eine Antibeschlag-Nachhaltigkeit aufweist.
  • Die Glasplatte wurde nach dem Tabakrauch-Test für acht Stunden mit Licht aus einer Ultraviolett-Lampe bestrahlt, derart, dass die Ultraviolettstrahlenstärke auf der Oberfläche 2mW/cm2 beträgt. Der Kontaktwinkel zu Wassertropfen von 0,4mg ist 1 Grad und die Beschlag-Bewertung ist "0", und die Durchdringungsverzerrung-Bewertung wird ebenfalls "0", wobei erneut eine gute Antibeschlag-Eigenschaft festgestellt wurde, das heißt, es wurde bestätigt, dass der Gegenstand eine Selbstreinigungs-Eigenschaft aufweist.
  • [Ausführungsform Beispiel 23]
  • Ethanollösung mit Polyoxyethylennonylphenylether (Nippon Yushi Co., Ltd, "Nonion NS-220", nicht-ionisiert, HLB-Wert 16,0) zu einem Verhältnis von 0,1 % wurde durch ein Fließbeschichtungsverfahren auf eine Polyethylenterephthalat-Schicht aufgetragen, auf welcher die Silicaschicht mit negativ-ionisiertem oberflächenaktivem Agens mit Ausnehmungen und Vorsprüngen, hergestellt in Ausführungsform Beispiel 16, gebildet wurde, und das Ganze wird ausreichend bei Raumtemperatur getrocknet, und eine Lage aus oberflächenaktivem Agens von ungefähr 80 nm Dicke wurde gebildet.
  • [Ausführungsform Beispiel 24]
  • In Ausführungsform Beispiel 2 hergestellte Beschichtungsflüssigkeit aus organischem Silan wurde durch das in Ausführungsform Beispiel 2 beschriebene Verfahren auf eine Glasplatte aufgetragen, auf welcher eine Silicaschicht mit Phosphatverbindung mit Ausnehmungen und Vorsprüngen, hergestellt in Ausführungsform Beispiel 17, gebildet wurde. Des Weiteren wurde diese durch das in Ausführungsform Beispiel 2 beschriebene Verfahren wärmebehandelt und nachbehandelt, und eine mit einer Silicaschicht mit Phosphatverbindung mit Ausnehmungen und Vorsprüngen versehene Glasplatte wurde erhalten, auf welcher eine Lage von ungefähr 8 nm Dicke aus organischem Silan und mit Polyethylen-Oxid-Gruppe in seinen Molekülen gebildet war.
  • [Ausführungsform Beispiel 25]
  • Eine Lage aus negativ-ionisiertem oberflächenaktivem Agens von ungefähr 70 nm Dicke wurde durch das in Ausführungsform Beispiel 14 beschriebene Verfahren auf einer Glasplatte gebildet, auf welcher eine Silicaschicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen, zu welcher das in Ausführungsform Beispiel 18 hergestellte negativ-ionisierte oberflächenaktive Agens und die Phosphatverbindung hinzugefügt wurden, gebildet war.
  • [Ausführungsform Beispiel 26]
  • Verkettete Silicakolloide mit einem Durchmesser von 10 bis 20 nm und einer Länge von 40 bis 300 nm (Markenname: Snowtex OUP, Nissan Chemical Industries, Ltd., Feststoffgehalt 15 Prozent nach Gewicht) 2,3 Gewichtsanteile, 2-Propanol 194,6 Gewichtsanteile, Tetraethoxysilan 1,1 Gewichtsanteile, 35% Salzsäure 4,2 Gewichtsanteile wurden bei Raumtemperatur für dreißig Minuten gemischt. Dadurch wurde eine Beschichtungsflüssigkeit zum Bilden von Ausnehmungen und Vorsprüngen erhalten. Der Feststoffgehalt, mittels Tetraethoxysilan zu Silizium konvertiert, ist 0,15 Prozent nach Gewicht, die Säurekonzentration ist ungefähr 1,6 Mol pro Liter, und der Wassergehalt ist ungefähr 2,33 Prozent nach Gewicht.
  • Die oben genannte Beschichtungsflüssigkeit zum Bilden von Ausnehmungen und Vorsprüngen wurde durch das in Ausführungsform Beispiel 5 beschriebene Verfahren auf eine Kalk-Natron-Glasplatte (65mm × 150mm × 3mm) aufgetragen, poliert, gewaschen, ultraschallgereinigt und getrocknet wie in Ausführungsform Beispiel 1. Danach wurde die Glasplatte nur bei Raumtemperatur für 2 Minuten getrocknet und keiner besonderen Wärmebehandlung unterzogen. Dadurch wurde eine Glasplatte, auf welcher eine Silicaschicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen von 60 nm Dicke gebildet war, erhalten.
  • Ein trockenes Tuch wurde auf die Oberfläche der oben genannten Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen gedrückt, dieses wurde stark gerieben, und ein Zustand, bei dem Schäden auf der Oberfläche der Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen auftraten, wurde beobachtet. Es wurde festgestellt, dass fast kein Schaden aufgetreten ist.
  • Des Weiteren wurde zum Vergleich beim Bilden der oben genannten Silicaschicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen eine Beschichtungsflüssigkeit unter den gleichen Konditionen und durch das gleiche Verfahren wie in Ausführungsform Beispiel 26 beschrieben hergestellt, mit der Ausnahme, dass 1% Salzsäure 0,8 Gewichtsanteile statt 35% Salzsäure 4,2 Gewichtsanteile verwendet wurde. Der Feststoffgehalt, mittels Tetraethoxysilan zu Silizium konvertiert, ist 0,15 Prozent nach Gewicht, die Säurekonzentration ist ungefähr 0,0009 Mol pro Liter, und der Wassergehalt ist ungefähr 1,36 Prozent nach Gewicht.
  • Die oben genannte Beschichtungsflüssigkeit zum Bilden von Ausnehmungen und Vorsprüngen wurde durch das gleiche Verfahren und unter denselben Bedingungen wie in Ausführungsform Beispiel 26 auf eine Kalk-Natron-Glasplatte (65mm × 150mm × 3mm) aufgetragen. Dadurch wurde eine Glasplatte erhalten, auf welcher eine Silicaschicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen von 70 nm Dicke gebildet war.
  • Durch das gleiche Verfahren und unter denselben Bedingungen wie in Ausführungsform Beispiel 26 wurde ein trockenes Tuch auf die Oberfläche der oben genannten Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen gedrückt, dieses wurde stark gerieben, und ein Zustand, bei dem Schäden auf der Oberfläche der Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprüngen auftraten, wurde beobachtet. Es wurde festgestellt, dass Schäden aufgetreten sind.
  • Oberflächen-Rauheit-Messung, Kontaktwinkel-Messung, anfängliche und wiederholende Antibeschlag-Eigenschaft-Bewertung, Tabakrauch-Test, Wischtest mit öliger Substanz und Antibeschlag-Eigenschaft-Bewertung nach Wasserwiderstand- und So-gelassen-wie-es-ist-Test wurden durch das in Ausführungsform Beispiel 1 beschriebene Verfahren durchgeführt bezogen auf die Antibeschlag-Gegenstände, die gemäß den oben genannten Ausführungsformen Beispiele 15 bis 20 und 23 bis 26 erhalten wurden. Diese Ergebnisse zeigen eine hervorragende Antibeschlag-Leistung, wie in den Tabellen 5, 7 und 9 dargestellt. In den Ausführungsformen Beispiele 15, 19, 20 und 26 zeigten sie in gewissem Maß Antibeschlag-Nachhaltigkeit, und in den Ausführungsformen Beispiele 17 und 24 zeigten sie gute Antibeschlag-Nachhaltigkeit, und Verschmutzungen wurden kaum adsorbiert. Des Weiteren zeigten sie in den Ausführungsformen Beispiele 16, 18, 23 und 25 hervorragende Antibeschlag-Nachhaltigkeit, und Verschmutzungen wurden kaum adsorbiert.
  • Figure 00550001
  • Figure 00560001
  • Figure 00570001
  • Figure 00580001
  • Tabelle 8
    Figure 00590001
  • Tabelle 9
    Figure 00600001
  • Gemäß der Erfindung ist es möglich, Antibeschlag-Glas zu erhalten, welches eine hervorragende Antibeschlag-Eigenschaft und Antibeschlag-Nachhaltigkeit aufweist. Da das Antibeschlag-Glas mit einer Schicht bedeckt ist, die hauptsächlich aus anorganischen Materialien zusammengesetzt ist, sind Haltbarkeit und Verschleißwiderstand ebenfalls hervorragend.
  • INDUSTRIELLE AUSFÜHRBARKEIT
  • Die Erfindung kann als Antibeschlag-Gegenstand verwendet werden, bei welchem eine Antibeschlag-Schicht oder eine hydrophile Schicht auf der Oberfläche eines Substrates wie beispielsweise Glas, Keramik, Kunststoff oder Metall etc. gebildet ist. Der oben genannte Antibeschlag-Gegenstand gemäß der Erfindung wird für Gebäude, Fahrzeuge, optische Komponenten, industrielle Anwendungen, Landwirtschaft, Artikel des täglichen Lebens, Hausmaterialien und medizinische Ausrüstung verwendet. Der oben genannte Antibeschlag-Gegenstand gemäß der Erfindung ist zum Beispiel für Fensterglas, Spiegel, Linsen, Kühlrippen von Klimaanlagen-Wärmetauschern, Biomaterialien, Filmfolien, Schaukästen etc., welche über hervorragende Haltbarkeit, Verschleißwiderstand, Antibeschlag-Eigenschaft oder Hydrophilität etc. verfügen, geeignet.

Claims (47)

  1. Ein Antibeschlag-Gegenstand, wobei ein Substrat mit einer Schicht überzogen ist, die Metalloxid, das aus Siliziumoxid oder Titanoxid gewählt ist, als ihre Matrix besitzt, welche feine Partikel aus metallischem Oxid, das ausgewählt ist aus Siliziumoxid oder Titanoxid, welches eine Korngröße von 4 bis 300 nm besitzt, enthält, und Ausnehmungen und Vorsprünge auf der Oberfläche der Schicht ausgebildet sind, die eine arithmetische mittlere Rauheit (Ra) von 1,5 bis zu 80 nm und einen mittleren Abstand (Sm) von Ausnehmungen und Vorsprüngen von 4 bis 300 nm besitzen.
  2. Ein Antibeschlag-Gegenstand, wie in Anspruch 1 vorbestimmt, wobei die feinen Partikel aus Metalloxid in der Schicht in einem Verhältnis von 5 Prozent nach Gewicht oder mehr bis zu 80 Prozent nach Gewicht oder weniger enthalten sind.
  3. Ein Antibeschlag-Gegenstand, wie in Anspruch 1 oder 2 vorbestimmt, wobei die feinen Partikel aus Metalloxid mindestens feine Partikel aus verkettetem Silica beinhalten.
  4. Ein Antibeschlag-Gegenstand, wie in Anspruch 3 vorbestimmt, wobei die feine Partikel des verketteten Silica einen Durchmesser von 10 bis 20 nm und eine Länge von 40 bis 300 nm besitzen.
  5. Ein Antibeschlag-Gegenstand, wie in einem der Ansprüche 1 bis 4 vorbestimmt, wobei die Schicht eine Dicke von 2 bis zu 300 nm besitzt.
  6. Ein Antibeschlag-Gegenstand, wie in einem der Ansprüche 1 bis 5 vorbestimmt, wobei die Schicht mit eine Lage aus organischem Silan oder dessen hydrolysierter Substanz überzogen ist, welche im Molekül mindestens eine funktionale Gruppe enthält, die aus einer Gruppe ausgewählt ist, die aus Polyalkylen-oxid-Gruppe, Alkyl- Gruppe, Alkenyl-Gruppe und Aryl-Gruppe besteht, und Ausnehmungen und Vorsprünge auf der Oberfläche der Lage des organischen Silans oder dessen hydrolysierter Substanz ausgebildet sind, die eine arithmetische mittlere Rauheit (Ra) von 1,5 bis zu 80 nm und einen mittleren Abstand (Sm) hiervon von 4 bis 300 nm besitzen.
  7. Ein Antibeschlag-Gegenstand, wie in Anspruch 6 vorbestimmt, wobei die Lage des organischen Silans oder dessen hydrolysierter Substanz von 0,3 bis zu 10 nm dick ist.
  8. Ein Antibeschlag-Gegenstand, wie in Anspruch 6 oder 7 vorbestimmt, wobei das organische Silan ein Alkoxysilan oder ein Chlorsilan ist.
  9. Ein Antibeschlag-Gegenstand, wie in einem der Ansprüche 6 bis 8 vorbestimmt, wobei die funktionale Gruppe eine Polyalkylen- Oxid- Gruppe ist.
  10. Ein Antibeschlag-Gegenstand, wie in Anspruch 8 vorbestimmt, wobei das organische Silan [Methoxy(polyethylenoxy)propyl-]trimethoxy-silan ist.
  11. Ein Antibeschlag-Gegenstand, wie in einem der Ansprüche 1 bis 10 vorbestimmt, wobei die Schicht oder das organische Silan oder dessen hydrolysierte Substanzlage mit einer Lage eines oberflächenaktiven Agens überzogen ist.
  12. Ein Antibeschlag-Gegenstand, wie in Anspruch 11 vorbestimmt, wobei die überzogene Lage des oberflächenaktiven Agens von 0,2 bis zu 100 nm dick ist.
  13. Ein Antibeschlag-Gegenstand, wie in Anspruch 11 oder 12 vorbestimmt, wobei das überzogene oberflächenaktive Agens ein negativ-ionisiertes oberflächenaktives Agens oder ein nicht-ionisiertes oberflächenaktives Agens ist.
  14. Ein Antibeschlag-Gegenstand, wie in Anspruch 13 vorbestimmt, wobei das überzogene negativ-ionisierte oberflächenaktive Agens ein Dialkyl-natrium-sulfosuccinat ist.
  15. Ein Antibeschlag-Gegenstand, wie in Anspruch 13 vorbestimmt, wobei das überzogene nicht-ionisierte oberflächenaktive Agens einen Hydrophilie/Lipophilie Gleichgewichtswert (HLB) von 5 bis 18 besitzt.
  16. Ein Antibeschlag-Gegenstand, wie in Ansprüchen 11, 12, 13 oder 15 vorbestimmt, wobei das überzogene oberflächenaktive Agens derartig ist, dass dasselbe keine Aminstickstoff- oder Amid-Bindung in seinen Molekülen besitzt.
  17. Ein Antibeschlag-Gegenstand, wie in einem der Ansprüche 1 bis 16 vorbestimmt, wobei die Schicht selbst ein oberflächenaktives Agens besitzt.
  18. Ein Antibeschlag-Gegenstand, wie in Anspruch 17 vorbestimmt, wobei das oberflächenaktive Agens, das in der Schicht enthalten ist, ein negativ-ionisiertes oberflächenaktives Agens ist.
  19. Ein Antibeschlag-Gegenstand, wie in Anspruch 18 vorbestimmt, wobei das negativ-ionisierte oberflächenaktive Agens, das in der Schicht enthalten ist, ein Dialkyl-natrium-sulfosuccinat ist.
  20. Ein Antibeschlag-Gegenstand, wie in einem der Ansprüche 17 bis 19 vorbestimmt, wobei das Inhalts- Verhältnis des oberflächenaktiven Agens in der Schicht von 0,1 bis zu 15 Prozent nach Gewicht ist.
  21. Ein Antibeschlag-Gegenstand, wie in einem der Ansprüche 1 bis 20 vorbestimmt, wobei mindestens eine Phosphatverbindung in der Schicht enthalten ist, die aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus Estherphosphat, Phosphorsäure, Phosphoroxid, Esterphosphit und phosphoriger Säure besteht.
  22. Ein Antibeschlag-Gegenstand, wie in Anspruch 21 vorbestimmt, wobei das Inhalts-Verhältnis der Phosphatverbindung in der Schicht von 0,1 zu 15 Prozent nach Gewicht ist.
  23. Ein Antibeschlag-Gegenstand, wie in einem der Ansprüche 1 bis 22 vorbestimmt, wobei der anfängliche Kontaktwinkel in Bezug auf Wassertropfen von 0,4 mg 10 Grad oder weniger ist.
  24. Ein Verfahren zur Herstellung von Antibeschlag-Gegenständen, welches dadurch gekennzeichnet ist, dass die Oberfläche eines Substrats mit einer Flüssigkeit, welche feine Partikel von metallischem Oxid ausgewählt aus Siliziumoxid oder Titanoxid, die eine Korngröße von 4 bis 300 nm besitzen, und mindestens eines gewählt aus einer Gruppe bestehend aus hydrolisierbaren, kondensierbaren und polyrnerisierbaren Silizium-organischen oder Titan-organischen Verbindungen, Chlorsilyl-Gruppe enthaltenden Verbindungen, und deren hydrolysierten Substanzen enthält, überzogen, getrocknet und nach Bedarf erhitzt wird, um zu bewirken, dass ein Schicht mit Ausnehmungen und Vorsprünge aus Metalloxid, welches aus Siliziumoxid und Titanoxid gewählt ist, auf der Oberfläche des Substrats ausgebildet wird, die eine arithmetische mittlere Rauheit (Ra) von 1,5 bis zu 80 nm und einen mittleren Abstand (Sm) von Ausnehmungen und Vorsprüngen von 4 bis 300 nm besitzen.
  25. Ein Verfahren zur Herstellung von Antibeschlag-Gegenständen, wie in Anspruch 24 vorbestimmt, wobei die Flüssigkeit die feinen Partikel aus metallischem Oxid, die aus Silikonoxid oder Titanoxyd gewählt sind, hydrolysierbaren, kondensierbaren und polyrnerisierbaren Verbindungen oder deren hydrolysierten Substanzen und Säuren enthält, und die Silizium-organische oder die Titan-organische Verbindungen oder deren hydrolysierten Substanzen hierin in einem Verhältnis von 0,001 bis zu 3 Prozent nach Gewicht enthalten sind, wenn sie zu einem metallischen Oxid, ausgewählt aus Siliconoxid oder Titanoxid, umgesetzt werden, Säure in einem Verhältnis von 0,0010 bis zu 1,0 mol pro Liter enthalten ist, und Wasser in einem Verhältnis von 0,0010 bis zu 10 Prozent nach Gewicht enthalten ist.
  26. Ein Verfahren zur Herstellung von Antibeschlag-Gegenständen, wie in Anspruch 25 vorbestimmt, wobei die Silizium-organische oder die Titan-organische Verbindungen oder deren hydrolysierte Substanz in einem Verhältnis von 0,01 bis 0,6 Prozent nach Gewicht enthalten ist, wenn sie zu Metalloxid umgesetzt werden, wobei die Säure in einem Verhältnis von 0,010 bis 0,3 mol pro Liter enthalten ist, Wasser in einem Verhältnis von 0,0010 bis 3 Prozent nach Gewicht enthalten ist.
  27. Ein Verfahren zur Herstellung von Antibeschlag-Gegenständen, wie in Anspruch 25 oder 26 vorbestimmt, wobei die Säure Salpetersäure oder Salzsäure ist.
  28. Ein Verfahren zur Herstellung von Antibeschlag-Gegenständen, wie in einem der Ansprüche 24 bis 27 vorbestimmt, wobei die feinen Partikel aus Metalloxid mindestens Kolloide aus kettenförmigem Silica enthalten.
  29. Ein Verfahren zur Herstellung von Antibeschlag-Gegenständen, wie in einem der Ansprüche 24 bis 28 vorbestimmt, wobei die Flüssigkeit die feinen Partikel aus Metalloxid in einem Verhältnis von 5 Prozent oder mehr nach Gewicht bis zu 80 Prozent oder weniger nach Gewicht in Bezug auf die Gesamtmenge der feinen Partikel aus Metalloxid, der Silizium-organischen oder der Titan-organischen Verbindung, Chlorsilyl-Gruppe enthaltenden Verbindung, und derer hydrolysierter Substanzen enthält.
  30. Ein Verfahren zur Herstellung von Antibeschlag-Gegenständen, wie in Anspruch 29 vorbestimmt, wobei die Silizium-organische Verbindung Tetraethoxysilan ist.
  31. Ein Verfahren zur Herstellung von Antibeschlag-Gegenständen, wie in Ansprüchen 24, 28 oder 29 vorbestimmt, wobei die Chlorsilyl-Gruppe enthaltende Verbindung Tetrachlorsilan ist.
  32. Ein Verfahren zur Herstellung von Antibeschlag-Gegenständen, wie in einem der Ansprüche 24 bis 31 vorbestimmt, wobei ein oberflächenaktives Agens in der Flüssigkeit enthalten ist
  33. Ein Verfahren zur Herstellung von Antibeschlag-Gegenständen, wie in Anspruch 32 vorbestimmt, wobei ein oberflächenaktives Agens, das in der Flüssigkeit enthalten ist, ein negativ-ionisiertes oberflächenaktives Agens ist.
  34. Ein Verfahren zur Herstellung von Antibeschlag-Gegenständen, wie in Anspruch 33 vorbestimmt, wobei das negativ-ionisierte oberflächenaktive Agens ein Dialkyl-natrium-sulfosuccinat ist.
  35. Ein Verfahren zur Herstellung von Antibeschlag-Gegenständen, wie in einem der Ansprüche 32 bis 34 vorbestimmt, wobei ein oberflächenaktives Agens, das in der Flüssigkeit enthalten ist, in einem Verhältnis von 0,1 bis 1,8 Prozent nach Gewicht in Bezug auf den festen Inhalt der Flüssigkeit ist.
  36. Ein Verfahren zur Herstellung von Antibeschlag-Gegenständen, wie in einem der Ansprüche 24 bis 6 vorbestimmt, wobei mindestens eine Phosphatverbindung enthalten ist, die aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus Estherphosphat, Phosphorsäure, Phosphoroxid, Esterphosphit und phosphoriger Säure besteht
  37. Ein Verfahren zur Herstellung von Antibeschlag-Gegenständen, wie in Anspruch 36 vorbestimmt, wobei die Menge der Phosphatverbindung in einem Verhältnis von 0,1 bis 18 Prozent nach Gewicht in Bezug auf den festen Inhalt der Flüssigkeit ist.
  38. Ein Verfahren zur Herstellung von Antibeschlag-Gegenständen, wie in einem der Ansprüche 24 bis 37 vorbestimmt, wobei ein Lösungsmittel der Flüssigkeit ein Alkohol-basiertes Lösungsmittel ist.
  39. Ein Verfahren zur Herstellung von Antibeschlag-Gegenständen, wie in einem der Ansprüche 24 bis 38 vorbestimmt, wobei ein organisches Silan oder dessen hydrolysierter Substanz, welche in ihrem Molekül mindestens eine funktionale Gruppe enthalten, die aus einer Gruppe gewählt ist, die aus einer Polyalkylen-oxid-Gruppe, einer Alkyl-Gruppe, einer Alkenyl-Gruppe und einer Aryl-Gruppe besteht, in Kontakt mit einem Substrat gebracht wird, auf dem eine Schicht aus Ausnehmungen und Vorsprüngen aus dem Metalloxid gebildet ist, um zu bewirken, dass die Moleküle hiervon mit oder an die Oberfläche der Schicht aus Ausnehmungen und Vorsprüngen verknüpft oder gebunden werden.
  40. Ein Verfahren zur Herstellung von Antibeschlag-Gegenständen, wie in Anspruch 39 vorbestimmt, wobei die Oberfläche der Einbuchtungen und Vorsprünge aus Metalloxid mit einer Flüssigkeit, die das organische Silan oder deren hydrolysierter Substanz enthält, überzogen wird, und diese getrocknet werden, um zu bewirken, dass die Moleküle hiervon chemisch oder physikalisch an die Oberfläche der Einbuchtung und Projektion aus Metalloxid fixiert oder gebunden werden.
  41. Ein Verfahren zur Herstellung von Antibeschlag-Gegenständen, wie in Ansprüchen 39 oder 40 vorbestimmt, wobei das organische Silan ein Alkoxysilan oder ein Chlorsilan ist.
  42. Ein Verfahren zur Herstellung von Antibeschlag-Gegenständen, wie in Ansprüchen 39 bis 41 vorbestimmt, wobei die funktionale Gruppe eine Polyalkylen-oxid-Gruppe ist.
  43. Ein Verfahren zur Herstellung von Antibeschlag-Gegenständen, wie in Ansprüchen 24 bis 42 vorbestimmt, wobei der Antibeschlag-Gegenstand weiterhin mit einem oberflächenaktiven Agens überzogen wird.
  44. Ein Verfahren zur Herstellung von Antibeschlag-Gegenständen, wie in Anspruch 43 vorbestimmt, wobei das oberflächenaktive Agens ein nicht-ionisiertes oberflächenaktives Agens oder ein negativ-ionisiertes oberflächenaktives Agens ist
  45. Ein Verfahren zur Herstellung von Antibeschlag-Gegenständen, wie in Anspruch 44 vorbestimmt, wobei das negativ-ionisierte oberflächenaktive Agens ein Dialkyl-natrium-sulfosuccinat ist.
  46. Ein Verfahren zur Herstellung von Antibeschlag-Gegenständen, wie in Anspruch 44 vorbestimmt, wobei das nicht-ionisierte oberflächenaktive Agens einen Hydrophilie/Lipophilie Gleichgeweichtswert (HLB) von 5 bis 18 besitzt.
  47. Ein Verfahren zur Herstellung von Antibeschlag-Gegenständen, wie in Anspruch 43, 44 oder 46 vorbestimmt, wobei das oberflächenaktive Agens keine Aminstickstoff- oder Amid-Bindung in seinen Molekülen besitzt.
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Families Citing this family (70)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3700358B2 (ja) * 1996-12-18 2005-09-28 日本板硝子株式会社 防曇防汚ガラス物品
WO1999028534A1 (fr) * 1997-12-04 1999-06-10 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Procede de production d'articles recouvertes d'enrobages a base de silice
US6964731B1 (en) * 1998-12-21 2005-11-15 Cardinal Cg Company Soil-resistant coating for glass surfaces
US6716513B1 (en) 1999-03-09 2004-04-06 Toto Ltd. Hydrophilic member, method for preparation thereof, and coating agent and apparatus for preparation thereof
US6350397B1 (en) * 1999-03-10 2002-02-26 Aspen Research Corporation Optical member with layer having a coating geometry and composition that enhance cleaning properties
CA2368204C (en) * 1999-03-25 2008-09-09 Wilhelm Barthlott Method of producing self-cleaning detachable surfaces
EP1167313B1 (de) * 1999-12-13 2015-09-23 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Glaselement mit niedriger reflektion
JP2001254072A (ja) * 2000-03-09 2001-09-18 Central Glass Co Ltd 防曇性組成物、防曇性コーティング剤および防曇性被膜形成基材の製造方法
DE10016485A1 (de) * 2000-04-01 2001-10-11 Dmc2 Degussa Metals Catalysts Glas-, Keramik- und Metall-Substrate mit selbstreinigender Oberfläche, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung
FR2811316B1 (fr) * 2000-07-06 2003-01-10 Saint Gobain Substrat texture transparent et procedes pour l'obtenir
US6743516B2 (en) * 2000-09-29 2004-06-01 Guardian Industries Corporation Highly durable hydrophobic coatings and methods
DE10063739B4 (de) 2000-12-21 2009-04-02 Ferro Gmbh Substrate mit selbstreinigender Oberfläche, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung
DE10106213A1 (de) * 2001-02-10 2002-08-22 Dmc2 Degussa Metals Catalysts Cerdec Ag Selbstreinigende Lackbeschichtungen und Verfahren und Mittel zur Herstellung derselben
US7799731B2 (en) 2001-09-28 2010-09-21 Shibaura Mechatronics Corporation Photocatalyst element, method and device for preparing the same
US20050008876A1 (en) 2001-11-08 2005-01-13 Toyoyuki Teranishi Ultra-water-repellent substrate
DE10159767A1 (de) * 2001-12-05 2003-06-18 Degussa Verfahren zur Herstellung von Gegenständen mit antiallergischen Oberflächen
FR2835205B1 (fr) * 2002-01-25 2007-02-16 Saint Gobain Traitement de pollution organique sur un substrat inorganique
JP2003231827A (ja) 2002-02-12 2003-08-19 Canon Inc 防曇性コーティング材料、防曇性コーティング膜および防曇性光学部材
JP4118086B2 (ja) * 2002-05-31 2008-07-16 トヨタ自動車株式会社 親水性を有する防曇防汚性薄膜の製造方法
JP2005538921A (ja) * 2002-09-17 2005-12-22 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー ポーラスな界面活性剤媒介金属酸化物フィルム
US7196043B2 (en) * 2002-10-23 2007-03-27 S. C. Johnson & Son, Inc. Process and composition for producing self-cleaning surfaces from aqueous systems
US20060154048A1 (en) * 2002-12-10 2006-07-13 Toyoyuki Teranishi Article having functional coating film thereon, method for manufacture thereof, and applying material for forming functional coating film
ATE516252T1 (de) * 2003-03-24 2011-07-15 Nakajima Glass Co Inc Herstellungsverfahren für eine mit einem titanoxiddünnfilm beschichtete glasscheibe
DE50305348D1 (de) * 2003-04-24 2006-11-23 Goldschmidt Gmbh Verfahren zur Herstellung von ablösbaren schmutz- und wasserabweisenden flächigen Beschichtungen
US8034173B2 (en) * 2003-12-18 2011-10-11 Evonik Degussa Gmbh Processing compositions and method of forming the same
WO2005103172A2 (en) 2004-04-15 2005-11-03 Avery Dennison Corporation Dew resistant coatings
DE602005003234T2 (de) 2004-07-12 2008-08-28 Cardinal Cg Co., Eden Prairie Wartungsarme beschichtungen
US7923114B2 (en) 2004-12-03 2011-04-12 Cardinal Cg Company Hydrophilic coatings, methods for depositing hydrophilic coatings, and improved deposition technology for thin films
US8092660B2 (en) 2004-12-03 2012-01-10 Cardinal Cg Company Methods and equipment for depositing hydrophilic coatings, and deposition technologies for thin films
US20060128563A1 (en) * 2004-12-09 2006-06-15 Flabeg Gmbh & Co., Kg Method for manufacturing a non-fogging element and device for activating such an element
JP2006197766A (ja) 2005-01-17 2006-07-27 Toyota Motor Corp 駆動システムおよびその制御方法
WO2006097113A2 (en) * 2005-03-18 2006-09-21 Nanon A/S A method of producing an optical device, an optical device, and an article comprising said optical device
WO2007018184A1 (ja) * 2005-08-08 2007-02-15 Nippon Sheet Glass Company, Limited 撥水性被膜被覆物品およびその製造方法
DE102005040046B4 (de) * 2005-08-23 2009-02-26 Gxc Coatings Gmbh Hydrophilierende Beschichtung mit erhöhter mechanischer und thermischer Stabilität sowie deren Verwendung
US20080025898A1 (en) * 2005-12-28 2008-01-31 Gennady Resnick Method of treating a material to achieve sufficient hydrophilicity for making hydrophilic articles
US8513677B2 (en) 2006-03-16 2013-08-20 Samsung Display Co., Ltd. Display device having an aluminum complex oxide on metal layer for improving corrosion resistance
JP2009532312A (ja) * 2006-03-30 2009-09-10 ローディア インコーポレイティド 改質された表面、および表面を改質するための方法
EP2013150B1 (de) 2006-04-11 2018-02-28 Cardinal CG Company Fotokatalytische beschichtungen mit verbesserten wartungsarmen eigenschaften
US7989094B2 (en) 2006-04-19 2011-08-02 Cardinal Cg Company Opposed functional coatings having comparable single surface reflectances
US20080011599A1 (en) 2006-07-12 2008-01-17 Brabender Dennis M Sputtering apparatus including novel target mounting and/or control
JP5211540B2 (ja) * 2006-08-23 2013-06-12 セントラル硝子株式会社 プレ防曇性物品及び防曇性物品並びに防曇性物品のための塗布液
DE102007003755A1 (de) * 2007-01-19 2008-07-31 Tesa Ag Bahnförmiges Material mit einer Beschichtung, die ein dauerhaftes schnelles Spreiten beziehungsweise einen dauerhaften sehr schnellen Transport von Flüssigkeiten ermöglicht
US9050036B2 (en) 2007-06-19 2015-06-09 Minimally Invasive Devices, Inc. Device for maintaining visualization with surgical scopes
EP2022447A1 (de) 2007-07-09 2009-02-11 Astra Tech AB Nanooberfläche
TWI349701B (en) * 2007-07-26 2011-10-01 Ind Tech Res Inst Superhydrophobic self-cleaning powders and fabrication method thereof
EP2069252B1 (de) 2007-09-14 2016-11-23 Cardinal CG Company Pflegeleichte beschichtungstechnologie
CN101808952B (zh) * 2007-09-28 2014-03-19 罗迪亚公司 改性表面和用于对表面进行改性的方法
US8568892B2 (en) * 2007-10-31 2013-10-29 Dupont Teijin Films U.S. Limited Partnership Coated articles
US7989068B2 (en) * 2007-11-06 2011-08-02 Rhodia Operations Articles having an interface between a polymer surface and a modified glass surface
FR2928642B1 (fr) * 2008-03-11 2012-07-27 Saint Gobain Substrat verrier a hydrophobie persistante a haute temperature
USD613403S1 (en) 2008-12-10 2010-04-06 Minimally Invasive Devices, Llc Sheath tip for maintaining surgical scope visualization
EP2361034B1 (de) 2008-12-10 2014-07-30 Minimally Invasive Devices, Inc. Systeme und verfahren zur optimierung und bewahrung der ansicht eines chirurgischen felds während der verwendung von chirurgischen endoskopen
CN101969094B (zh) * 2009-07-27 2012-08-29 中国科学院上海硅酸盐研究所 一种用于热电材料的涂层及其含有该涂层的器件
US9078562B2 (en) 2010-01-11 2015-07-14 Minimally Invasive Devices, Inc. Systems and methods for optimizing and maintaining visualization of a surgical field during the use of surgical scopes
EP2600759A4 (de) 2010-08-04 2013-08-28 Minimally Invasive Devices Llc Systeme und verfahren zur optimierung und bewahrung der ansicht eines chirurgischen felds während der verwendung von chirurgischen endoskopen
WO2012075487A2 (en) 2010-12-03 2012-06-07 Minimally Invasive Devices, Llc Devices, systems, and methods for performing endoscopic surgical procedures
JPWO2012141150A1 (ja) * 2011-04-11 2014-07-28 旭硝子株式会社 機能性物品、輸送機器用物品、建築用物品およびコーティング用組成物
WO2013089926A1 (en) 2011-12-15 2013-06-20 3M Innovative Properties Company Anti-fog coating comprising aqueous polymeric dispersion, crosslinker & surfactant
JP5855277B2 (ja) 2011-12-15 2016-02-09 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 水性ポリマー分散液、架橋剤、及びポリアルキレンオキシドの酸又は塩を含む防曇性コーティング
WO2014151824A1 (en) 2013-03-14 2014-09-25 Minimally Invasive Devices, Inc. Fluid dispensing control systems and methods
US20150072171A1 (en) * 2013-09-12 2015-03-12 Sri Lanka Institute of Nanotechnology (Pvt) Ltd. Hydrophobic surface treatment compositions comprising titanium precursors
EP3061731B1 (de) * 2013-10-25 2021-03-31 Nippon Sheet Glass Company, Limited Verfahren zur herstellung einer glasscheibe und glasscheibe
US9840639B2 (en) 2014-03-27 2017-12-12 Innosense Llc Hydrophilic anti-fog coatings
JPWO2016060165A1 (ja) * 2014-10-17 2017-08-03 旭硝子株式会社 透明部材、透明部材の製造方法および透明部材の表面の汚れ具合の評価方法
US10894888B2 (en) * 2015-12-01 2021-01-19 King Abdulaziz City For Science And Technology Dust repellant and anti-reflective inorganic coating and method for preparing the same
WO2018093985A1 (en) 2016-11-17 2018-05-24 Cardinal Cg Company Static-dissipative coating technology
US11520083B2 (en) * 2017-12-19 2022-12-06 Canon Kabushiki Kaisha Member, imaging apparatus, and method for producing member
US11326058B2 (en) 2018-08-14 2022-05-10 Canon Kabushiki Kaisha Optical member and optical instrument
JP7178420B2 (ja) * 2018-09-28 2022-11-25 日本碍子株式会社 セラミックス構造体およびガスセンサのセンサ素子
JP7467866B2 (ja) * 2019-10-02 2024-04-16 住友ゴム工業株式会社 親水性基材及び親水性基材作製方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5134021A (en) * 1990-01-04 1992-07-28 Toray Industries, Inc. Anti-fogging film
JPH0516280A (ja) * 1991-07-08 1993-01-26 Toray Ind Inc コーテイング物品
JPH0559202A (ja) * 1991-08-30 1993-03-09 Nippon Carbide Ind Co Inc 農業用被覆資材
KR950013819B1 (ko) * 1992-03-05 1995-11-16 주식회사에스·케이·씨 코팅 조성물 및 이를 이용하여 제조되는 폴리에스테르 필름
JP3408578B2 (ja) * 1993-04-30 2003-05-19 住友大阪セメント株式会社 熱線遮蔽ガラス板の製造方法
US5674625A (en) * 1993-11-10 1997-10-07 Central Glass Company, Limited Multilayered water-repellent film and method of forming same on glass substrate
JP2724802B2 (ja) * 1993-12-02 1998-03-09 トヨタ自動車株式会社 撥水皮膜の製造方法
US5885657A (en) * 1994-06-23 1999-03-23 Creavis Gesellschaft Fur Technologie Und Innovation Mbh Production of ceramic layers and their use
JP3635692B2 (ja) * 1994-10-20 2005-04-06 日産化学工業株式会社 低屈折率反射防止膜
JPH09100141A (ja) * 1995-08-03 1997-04-15 Nippon Sheet Glass Co Ltd 撥水性ガラスの製造方法
JPH09156959A (ja) * 1995-12-08 1997-06-17 Nissan Motor Co Ltd 親水性ガラス及びその製造方法

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