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DE2213083A1 - Electrodes for electrochemical processes - Google Patents

Electrodes for electrochemical processes

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Publication number
DE2213083A1
DE2213083A1 DE19722213083 DE2213083A DE2213083A1 DE 2213083 A1 DE2213083 A1 DE 2213083A1 DE 19722213083 DE19722213083 DE 19722213083 DE 2213083 A DE2213083 A DE 2213083A DE 2213083 A1 DE2213083 A1 DE 2213083A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
metal
film
layer
oxide
platinum group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
DE19722213083
Other languages
German (de)
Inventor
Keith Graham; Pumphrey Nicholas William James; Runcorn Cheshire Moss (Großbritannien). M
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Imperial Chemical Industries Ltd
Original Assignee
Imperial Chemical Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Imperial Chemical Industries Ltd filed Critical Imperial Chemical Industries Ltd
Publication of DE2213083A1 publication Critical patent/DE2213083A1/en
Ceased legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01MPROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
    • H01M4/00Electrodes
    • H01M4/86Inert electrodes with catalytic activity, e.g. for fuel cells
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B11/00Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
    • C25B11/04Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
    • C25B11/051Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
    • C25B11/073Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material
    • C25B11/091Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of at least one catalytic element and at least one catalytic compound; consisting of two or more catalytic elements or catalytic compounds
    • C25B11/093Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of at least one catalytic element and at least one catalytic compound; consisting of two or more catalytic elements or catalytic compounds at least one noble metal or noble metal oxide and at least one non-noble metal oxide
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/30Hydrogen technology
    • Y02E60/50Fuel cells

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  • Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Secondary Cells (AREA)

Description

Mappe 22829 - Dr0P/hr Case HBo 23700Folder 22829 - Dr 0 P / hr Case HBo 23700

IMPBRIAL CHMIOAL IKDUSIßlBS London, GrossbritanRienIMPBRIAL CHMIOAL IKDUSIßlBS London, Great Britain

"Elektroden für elektroohemleohe Verfallaren""Electrodes for electrochemical decay"

Priorität? 18o Märe 1971, &r«eeterit«xmien Priority? 18o March 1971, & r «eeterit« xmien

BIe Erfindung besieht sich auf Elektroden für elektrochemische Verfahren und insbesondere auf Elektroden, walohe exm einen Trftgerteil aus einem fUmbildenden Material bestehe», der einen Belag aufweist, welcher wirksam iet hineiohtlioh der übertragung eines elektrischen Stromee von dem Trägerteil' au ' Ioaen eines Elektrolyten und der beständig ist gegenüber elektrochemieohen Angriffο ·The invention relates to electrodes for electrochemical processes and in particular to electrodes where there is a support part made of a forming material which has a coating which effectively prevents the transmission of an electrical current from the support part to an electrolyte and the is resistant to electrochemical attack ο

Eb ist bekannt, Oxide von Metallen der Platingruppe als Bel&g* auf Elektroden der genannten Art au rerwenden, well eis eine» hohen inneren widerstand gegenüber elektrochemische Auflösung in verschiedenen korrosiven Medien besitzen unä sie weiterhinEb is known to be oxides of platinum group metals as Bel & g * use on electrodes of the type mentioned, well as a » high internal resistance to electrochemical dissolution in various corrosive media they still have

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wirksam sind hinsichtlich der Entladung von Ionen aus einem s Slektrolyteno Di« vorliegende Erfindung schlägt nun verbesserte Elektroden vor, welche Beläge aufweisen, die aug Oxiden der Platinmetallgruppe bestehen, Die Elektroden geaiäss der Erfindung sind besondere brauchbar als Anoden in Zellen für die Alkali** aetallelektroyee von Chloridlößungen, Sie sind besonders brauchbar in Zellen mit flieesenden Quecksilberkathode^ veil die Elektroden eine hohe Beständigkeit gegenüber Beschädigungen durch Kurzsohlusskontakt mit der Kathode besitzen, wie es bisweilen auftritt selbst bei normalen Arbelteverlauf in diesen Zellen» Die Elektroden können aber auch in anderen elektrochemischen Verfahren verwendet werden, eineohlieeslich anderer elektrolytiacher Verfahren mir Blektrokatalyee, beiepielsweiee in Brennstoffzellen,, zur Blektrosyntheee und für den kathodiaohen Schute»are effective with regard to the discharge of ions from a s Slektrolyteno Di "present invention now proposes improved electrodes against which have deposits which aug oxides of the platinum metal group consist The electrodes geaiäss of the invention are particularly useful as anodes aetallelektroyee in cells for the alkali ** They are particularly useful in cells with flowing mercury cathodes, because the electrodes are highly resistant to damage from short-circuit contact with the cathode, as sometimes occurs even with normal work in these cells. The electrodes can, however, also be used in other electrochemical processes be, a generally other electrolytic process with sheet metal catalyze, for example in fuel cells, for sheet metal synthesis and for the cathodiaohen Schute »

iJemäss der vorliegenden Erfindung wird eine Elektrode Jtur Verwendung in elektrochemischen Verfahren vorgeschlagen, welche aus einem Trägerteil aus einem filmbildenden Metall oder einer fUmbildenden Legierung besteht; der einen Belag aufweist, welcher aus einer Schicht einer Mischung des Oxides oder der Oxide VQO mindestens einem Metall der Platingruppe in eine© Verhältnis von 20 bis 80 (rew«-# und einem fUmbildenden Metalloxid besteht, wobei über dieser Schicht eine weitere Sohicht eines filmbildenden Metalloxidea angebracht ist*.According to the present invention, an electrode Jtur Proposed use in electrochemical processes, which consists of a carrier part made of a film-forming metal or a film-forming alloy; which has a coating, which consists of a layer of a mixture of the oxide or the Oxide VQO of at least one platinum group metal into a © Ratio of 20 to 80 (rew «- # and a transforming metal oxide exists, with another layer on top of this layer a film-forming metal oxide is attached *.

Bei einer bevorzugten AusfUhrungsfonn der Elektrode besteht das Verhältnis der Metalloxide der Platingruppe zu dem film-Dxldenden Metalloxid in der Sohicht dieser Mischung nicht weniger als 1;1, ist jedoch weniger al© 2:1, bezogen auf das OewichtoIn a preferred embodiment of the electrode, the ratio of the metal oxides of the platinum group to the film-forming metal oxide in the layer of this mixture is not less than 1.1, but is less than 2: 1, based on the weight

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Unter einem f Umbildenden Metall wird eines der Metelle Titan, Zirkonium, Biob, Tantal und Wolfram verstanden* Unter einer filmbildenden Legierung wird eine Legierung verstanden, welche einen Hauptanteil an einem dieser Metalle enthält und die anodische Polarisationseigene ohaften, ähnlich denjenigen dee handelsüblichen reinen Metalles beeiletc Der Trägerteil der Elektrode besteht vorzugsweise aus Titan oder einer* Titanlegierung mit anodischen Polarieationseigensc&e^en, ähnlich denjenigen von Titan.A transforming metal is one of the metals titanium, zirconium, biob, tantalum and tungsten c The support part of the electrode is preferably made of titanium or a titanium alloy with anodic polarization properties similar to those of titanium.

Unter dem Grid oder den Oxiden von mindestens einem Metall der Platingruppe wird das Oxid tow« dxe Oxide von mindesten« einem der Metalle Ruthenium, Rhodium, Palladium, Osmitai, . Iridium und Platin verstanden.Under the grid or oxides of at least one metal of the platinum group, the oxide is tow "dxe oxides of at least" one of the metals ruthenium, rhodium, palladium, osmitai,. Understood iridium and platinum.

Bei einer bevorzugten Ausfuhrongsform der Elektrode gemäss der Erfindung besteht die Schicht dieser Mischung aus Rmtheniumdiozid und Titandioxid und die darauf angebrachte Schicht besteht aue Titandioxid«In a preferred embodiment of the electrode according to FIG According to the invention, the layer of this mixture consists of rmthenium diocide and titanium dioxide and the layer applied to it consists of titanium dioxide.

Die bevorsugte AxtefUhrungsform but Herstellung der 8ehicht der gemischten Oxide auf den Trägerteil ist wie folgte Sin Belag aus einer AnstrichmittelKusammeneetzung, bestehend aus einer durch Wärmeeinwirkung zersetsbaren Verbindung von mindestens einem Metall der Platingruppe und einer duroh Wärmeeinwirkung zersetzbaren Org&noverbindung eine· filmbildenden Metalles in einer organischen Trägerflüssigkeit, wobei diese« Anstrichmittel gewünschtenfalls auch noch-ein Reduktionsmittel, wie beispielsweise Linalool, enthält, wird auf den Trägerteil auf gebracht, der Auftrag wird duroh Verdampfen der Träger-» flüssigkeit getrocknet und der Belag wird dann in einer oxidierenden Atmosphäre, beispielsweise in Luft auf eine Tempera-'The preventive form of axis guidance but production of the layer of mixed oxides on the backing part is as follows Sin covering is composed of a paint composition a compound of at least one platinum group metal that can be decomposed by the action of heat and an organic compound that is decomposable by the action of heat, a film-forming compound Metal in an organic carrier liquid, these "paints, if desired - a reducing agent, such as Linalool, is applied to the carrier part, the application is made duroh evaporation of the carrier- » liquid dried and the covering is then in an oxidizing atmosphere, for example in air to a temperature '

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tür τοπ mindestens 35O0G und voraugaireise Innerhalb des reiches von 400 bis 55O0C erhitat, um auf diese Weise die Verbindungen der Metalle der Platingruppe und des filabildenden. Metalles in Oxide dieser Metalle überzuführen., Weitere Aufträge der Anstriohmittelzusammensetzung können dann auf den mit den Belag versehenen Träger aufgebracht, dann in der gleichen Weise getrocknet und erhitzt werden,, um die Stärke der gemisohten Oxidschicht auf ein gewünschtes Ausioass «u vergrössera. Beispielsweise wird bei Elektroden, welohe als Anoden in Qusoksilberkathodenssellen beim Elektrolysieren von Alkmliaetall* Chloridlösungen verwendet werden» dieser Belag su einer Stärke innerhalb des Bereiches von 10 bis 15 g/m der Belagoberflttohe des Trägerteiles aufgebracht. Diese Stärke ist jedoch in keiner Weise kritische Bs können auch dickere oder dünnere Beläge angewendet werden, und die Stärke wird im allgemeinen in Hinblick auf die Abnutzung der Elektrode ausgewählt, die dieser während des Gebrauchs in der Zelle unterliegt und sie wird auoh unter anderem auf die Stromdichte eingestellt, unter der die Elektrode arbeitet.for τοπ at least 35O 0 G and voraugaireise within the range of 400 to 55O 0 C received in order to in this way the compounds of the metals of the platinum group and the fila-forming. The metal can then be converted into oxides of these metals. Further applications of the paint composition can then be applied to the carrier provided with the coating, then dried and heated in the same way in order to increase the thickness of the mixed oxide layer to a desired extent. For example, in the case of electrodes which are used as anodes in carbon silver cathode cells in the electrolysis of alkali metal chloride solutions, this coating is applied to a thickness within the range of 10 to 15 g / m of the coating surface of the carrier part. However, this thickness is in no way critical. Thicker or thinner coatings can also be used, and the thickness is generally selected with regard to the wear and tear of the electrode to which it is subject during use in the cell and it is also dependent on, among other things, the Current density set under which the electrode works.

Bas bevorzugte Verfahren aur Bildung der umliegenden Schicht des filmbildenden Metalloxide besteht darin, dass auf der gemischten Oxidschicht ein Belag einer durch Wärmeeinwirkung aersetebaren organischen Verbindung des filmbildenden Metalles in einer organischen Trägerflüssigkeit aufgebracht wird, worauf der Belag durch Verdampfen der Irägerflüssigkeit getrocknet und dann in einer oxidierenden Atmosphäre, beispielsweise Luft, erhitzt wird, um die organische Verbindung des filmbildenden Metalles in das Oxid dieses Metalles überzuführen. Die bevor* eugte Stärke dieser oben liegenden Schicht des filabildenden Metalloxide liegtf Innerhalls des Bereiches von 2 bis 10 g/m der mit de« Belag versehenen Oberfläche. Die gewUnsehte StärkeThe preferred method for forming the surrounding layer of the film-forming metal oxide consists in applying a coating of a heat-absorbable organic compound of the film-forming metal in an organic carrier liquid to the mixed oxide layer, whereupon the coating is dried by evaporating the carrier liquid and then in an oxidizing agent Atmosphere, for example air, is heated in order to convert the organic compound of the film-forming metal into the oxide of this metal. The preferred thickness of this overlying layer of the filamentary metal oxide lies within the range from 2 to 10 g / m 2 of the surface provided with the covering. The desired strength

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dieaes Belags kann durch entsprechende Einstellung der Viskos si tat der Belagstoffzusammensetzung durch Euaats von mehr; oder weniger der organischen Tragerflüssigkelt und/oder duroh wiederholtes Auftragen dünner Schichten der Belagstoffausamiaen-· setzung erhalten werden· Hierbei wird Jeder Auftrag getrocknet und β rhi t Et, um so den oben liegenden Belag der gewünschten Stärke aufzubauen. ;The coating can be adjusted by adjusting the viscous si did the topping composition by Euaats of more; or less of the organic carrier liquid and / or duroh repeated application of thin layers of the covering material Settlement are preserved · Each order is dried and β rhi t Et, so as to make the top covering the desired Build strength. ;

Sie durch Wärmeeinwirkung zer»etabaren organischen Verbindungen der filabildoaden Ketalle, die zwr Bildung de« oben liegenden Belage» des filmbildenden Metalloxide geaaee den vorangege»«· genoa Abtat· verwendet werden, eind besonders beveivttgt die Alkyltitanate, die Alkylh*lotitanate, worin das Halogen tue Chlor, Brom oder Fluor besteht (auch bekannt el* Titanalkexide uad -alkoxi^halogenide) und die entsprechenden Alkylvtrbinduagen von anderen filmbildenden Me tall en» Andere geeigne ti duroh Wärmeeinwirkung »ersetzbare organische Verbindungen sind Besinate der filabildeoden Metalle, Die bevorzugte» gen sind die Alkyl titanate und Ealotiteaate, inabeeoMere jenigen, in denen die Alkylgruppen je 2 bis 4 Kohlenstoffatome enthalten. Beläge von diesen bevorzugten Verbindungen, dl« mittels einer organischen Trägerflüssigkeit aufgebracht werden, werden vorzugsweise bei einer Temperatur von 100 bis 2000C getrocknet und dann in einer oxidierenden Atmosphäre auf 250 bis 8000O, vorzugsweise auf 350 bis 5500O, erhitzt, -am litanatverbindungen in Titandioxid Überzuführen,,They decompose organic compounds of the filabild ketals by the action of heat, which are used for the formation of the “overlying coating” of the film-forming metal oxide as described in the previous section, and especially the alkyl titanates, the alkyl halotitanates, in which the halogen There is chlorine, bromine or fluorine (also known as titanium alkexides and alkoxi ^ halides) and the corresponding alkyl compounds of other film-forming metals the alkyl titanate and Ealotiteaate, inabeeoMere those in which the alkyl groups each contain 2 to 4 carbon atoms. Coverings of these preferred compounds, dl "are applied by means of an organic carrier liquid are preferably dried at a temperature of 100 to 200 0 C and then in an oxidizing atmosphere at 250 to 800 0 O, preferably at 350 to 550 0 O, heated - to convert the litanate compounds into titanium dioxide,

Irgendeine der duroh Wärmeeinwirkung »ersetzbarenAny of the duroh heat exposure »replaceable Verbindungen der fumbildenden Hotalle, die in demConnections of the fumbildenden hotalle, which in the

gaggenen Abtat» aufgeführt eind, können auoh la den A*eti*ioh~gaggenen Abtat »listed, can auoh la den A * eti * ioh ~ mittelsu»amm«i8et*ungen angewendet werden» welehe surby means of »amm« i8et * ungen be applied »welehe sur der Unterschicht der gemischten Oxide auf dem £lektrodent?£g#r·*the underlayer of mixed oxides on the electrode? £ g # r *

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teil verwendet werden. Hierbei werden ebenfalle die Alkyl* titanate und die Alkylhalotitanate, wobei das Halogen aus OhIor, Brom oder Fluor besteht, bevorzugt und insbesondere diejenigen, bei denen die Alkylgruppen je 2 bis 4 Kohlenstoffatome enthalten» Die durch Wärmeeinwirkung zersetzbaren Verbindungen der Metalle der Platingruppe, welche bei der Herstellung dieser AnstrichmittelBtoffzusammensetzungen verwendet'werden, können vorzugsweise die Halogenide, wie beispielsweise Ruthenium*» trichlorid, Halogensäurekomplexe, wie beispielsweise Hexachlorplatlnsäure oder Resinate dieser Metalle sein. Die bevorzugte Metallverbindung der Platingruppe ist Ruthenitnatrichlorid.part can be used. The alkyl * titanates and the alkyl halotitanates, the halogen being composed of OhIor, There is bromine or fluorine, preferably and especially those in which the alkyl groups each contain 2 to 4 carbon atoms. The compounds which can be decomposed by the action of heat the platinum group metals used in the manufacture of these paint / paint compositions preferably the halides such as ruthenium trichloride, halogen acid complexes such as hexachloroplatinic acid or resinates of these metals. The preferred platinum group metal compound is ruthenite sodium chloride.

Sie Erfindung ist in den folgenden Beispiele» näher erläutert, ohne hierauf beschränkt zu sein.The invention is explained in more detail in the following examples », without being limited to this.

Beispiel example ιι

Ein Titanblechstreifen 34 cm lang, 6 nna breit und 1 mm stark wurde in Oxalsäurelösuag geätet, gewasohsn, getrocknet und dan» mit einer Misohung äugestriehen, die 4,3g teilweise hydratisiertes Eutheniumtriohlorid, 12,0 g n-Pentanol und 6,4 g Tet*abutylorthotitanat enthielt. Der Anstrichbelag wurde bei 1800O getrocknet und dann 15 Hinuten lang in Luft bei 45O0C värmebehandelto Insgesamt wurden sechs Auftragssohichten dieses Anstrichmittels aufgebracht, wobei jeder Auftrag in der gleichen Weise getrocknet und erhitzt wurde, um so auf der Titanober* fläohe eins Oberflächenschicht τοη 14 g/m au ergeben wad der Belag endgültig aus 60 % Rutheniuirdioiid und 40 % Titandioxidr beaogen auf das Oewioht, bestando Dieser Belag der gemischten Oxide wurde dann mit einer Mischung von 5 β Tetrabutylerthotitanat in 5 g n-Pentanol angestrichen. Dieser Auftrag wurde ebenfalls bei»1800C getrocknet und dann 15 Minuten lang i» Luft bei 45O0C wärmebehandelt. Insbesondere wurden drei BelägeA titanium sheet strip 34 cm long, 6 mm wide and 1 mm thick was etched in oxalic acid solution, washed, dried and then eyed with a mixture containing 4.3 g of partially hydrated euthenium triochloride, 12.0 g of n-pentanol and 6.4 g of tet * Contained abutyl orthotitanate. The paint coating was dried at 180 0 O and then 15 Hinuten long värmebehandelto in air at 45O 0 C Total six Auftragssohichten this paint were applied, each order and was dried heated in the same manner as on the titanium Upper * fläohe one surface layer τοη wad 14 g / m au give the final coating of 60% and 40% titanium dioxide Rutheniuirdioiid r beaogen the Oewioht, bestando This coating of mixed oxides was then painted with a mixture of 5 β Tetrabutylerthotitanat in 5 g of n-pentanol. This mandate was likewise dried at "180 0 C and then heat treated for 15 minutes i" air at 45O 0 C. In particular, there were three toppings

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dieses zweiten Anstrichmittels aufgebracht, Jeder Belagof this second coat of paint applied to any topping

* I* I

getrooknet und in der gleichen Weise wärmebehandelt, um ep einen Belag von 4 g/m an Titandioxid auf dem Belag der gemischten Oxidschicht zu ergeben0 dried and heat-treated in the same way to give ep a coating of 4 g / m 2 of titanium dioxide on the coating of the mixed oxide layer 0

Von diesen mit dem Belag versehenen Streifen worden abgeschnitten und als Anoden but Cfalorherstellung aua' ohloridsolelögungen untersucht, welche 21»5 5* Natriumchlorid, einen pH-Wert von 2 bis 3 und eine Temperatur von 6S0C besäßeο Die Proben wurden mit einem geringen Überpotential (50 mV bei einer Stromdichte von 3 kA/m ) untersucht und sie aeigttn auch eine ausgezeichnete Beständigkeit gegenüber Beschädigungen, wenn sie mit der Amalgamkathoäe in einer Quecksilber* elektrolyseeelle für Natriumohloridlösung in Berührung kai&oStudied of these is provided with the cover strip cut off was and as anodes but Cfalorherstellung aua ohloridsolelögungen 'which 21 »5 5 * sodium chloride, a pH value of 2 to 3 and a temperature of 6S 0 C besäßeο The samples were at a low overpotential (50 mV at a current density of 3 kA / m) and they also exhibit excellent resistance to damage when they come into contact with the amalgam cathode in a mercury * electrolytic cell for sodium chloride solution

Beispiel 2Example 2

Sine Anode, deren Arbeitsfläche G-iHterform besass» wurde aus Titanetreifen aufgebaut und sie besase eine projektierte Oberfläche von 0,1 m «, Diese Anode wurde in Oxalsäurelöetuag 16 Stunden lang geätzt» gewaschen und getrocknet» Dad Anoden* gitter wurde dann mit einer AnstriehmitteletoffeusaBinensetzung besprüht, welches aus 6Of5 g Rutheniumtrichlorld und 90,0 g Tetra-n^butylprthotitanat in 500g n-Pentanol bestand. Der Auftrag wurde in einem Ofen bei 1300C getrocknet und dann in eine Schicht der, Zusammensetzung von 60 Gtew,-?i ^uO2 und 40 Ö9wf-$> TiQ2 durch Brhiteen in Luft 20 Minuten lang in eine» Ofen* von 450 C übergeführt. Weitere fünf Schichten der gleichen Anstrich« aittelstoffeusammenaetzung wurden dann auf die Anode aufge*> sprüht, Jede Schicht wurde getrocknet und dann genau wi« die erste Schicht in Luft wärmebehandeltο Dann wurde eine äueeere Schicht, bestehend aus Titandioxid allein, auf das Anpdong±tter aufgebracht, indem drei Belägeneine AnstrichmittelatoffauBam-His anode, whose working surface had a G-iHterform "was built up from titanium strips and it had a projected surface of 0.1 m", This anode was etched in oxalic acid solution for 16 hours "washed and dried" The anode grid was then coated with a coating of paint sprayed, which consisted of 6O f 5 g of ruthenium trichloride and 90.0 g of tetra-n ^ butylprthotitanate in 500g of n-pentanol. The order was dried in an oven at 130 0 C and then in a layer of, composition of 60 Gtew, - i ^ u O 2 and 40 Ö9w f - $> TIQ 2 by Brhiteen in air for 20 minutes in an "oven * of 450 C. Another five layers of the same paint composition were then sprayed onto the anode. Each layer was dried and then heat-treated in air exactly like the first layer. Then an outer layer consisting of titanium dioxide alone was applied to the anode by placing three coverings on a coating material

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aenaeteung aufgeeprüht wurden, welche aus 25 gaenaeteung, which consists of 25 g titanat in 75 g n-Pentanol bestand. Jeder Auftrag wurdetitanate consisted of 75 g of n-pentanol. Every job was 1800C getrocknet und dann 20 Minuten in Luft bei 4500O wärne180 0 C and then 20 minutes in air at 450 0 O would be behandelt. Die Gesamtmenge an auf dem Titangitter abgeschiedenentreated. The total amount of deposited on the titanium grid

Oxide betrug dann 32 g/m projektierter Oberfläche«,Oxide was then 32 g / m projected surface «,

Die eo mit dem Belag versehene litananode wurde dann in eine Qtieoksllberkathodenselle sub Elektrolyeieren -von latriumchloridaole eingebracht, und zwar als BreatB für eine Graphitanodeο Jffaohdem dieae Anordnung befriedigend 6 Monate lang alt einem Anodenstrosi von bis eu 900 Ampere gearbeitet hatte, vurde Abnutzung oder Beschädigung an der Anode festgestellt.The eo coated anode was then turned into a Qtieokslberkathodenselle sub Elektrolyeieren - introduced by latriumchloridaole, namely as BreatB for a graphite anode o Jffaohdem the arrangement satisfactorily 6 months old an anode plug of up to 900 amperes had worked Wear or damage to the anode detected.

Beispiel ?Example ?

2 Eine Titungitteranode von 0,1 a projektierter Oberfläche2 A titanium mesh anode with a projected surface area of 0.1 a wurde nach Beispiel 2 mit einem Belag versehen mit der Abwandlung, dass die verwendete Anstrichmittelstoffausammeneeteung für die eraten seohe Belage aus 55 g Rutheniumtrichlorid und 101 g Tetra-n-butylorthotitanat in 300 g n-P«atanol bestände Dieae Stoffzueaameneetzung ergab nach dem Troeknen und nach der Wärmebehandlung eine Unterschicht auf dem Titangitter der Zuaammeneeteung von 55 Gew. -4> 1^0P und ^ öewo-^ TiOg° Die äuesere Sohicht aus Titandioxid allein wurde dann genäes Beispiel 2 aufgebrachte Diese Anode wurde ebenfalls in einer Queck~ ailberkathodeneelle sum Slektrolyeieren von Batriuschlorl!deole verwendet und es aeigte ebenfalle keine Abnutzung oder Beeohädigung nach 6 Monaten Gebrauch mit einem Anodenetrom bi» au 900 Ampere»was provided with a coating according to Example 2 with the modification that the paint material composition used for the eraten seohe coating consisted of 55 g of ruthenium trichloride and 101 g of tetra-n-butyl orthotitanate in 300 g of nP «atanol a sublayer on the titanium lattice of the combined content of 55 wt. -4> 1 ^ 0 P and ^ öewo- ^ TiOg ° The outer layer of titanium dioxide alone was then applied as shown in Example 2 ! Deole used and it also showed no wear or damage after 6 months of use with an anode power supply up to 900 amps.

Patentansprüche ι 209839/1 125 Claims ι 209839/1 125

Claims (1)

PATENTANSPRÜCHEtPATENT CLAIMS Elektrode für elektrochemische Verfahren, dadurch gekennzeichnet, dass sie aus einem Trägerteil aua einem fumbildenden Metall oder Metallegierung besteht und sie einen Belag aus einer Sohieht einer Mischung des Oxids oder der Oxide Ton mindeatene einem Metall der Platingruppe in einer Menge von 20 tie 80 Gew.-£ und einem filmbildend«! Metalloxid "besteht, wobei über dieser Schicht noch eine weitere Schient aue einem filmbildenden Metalloxid angebracht ist.Electrode for electrochemical processes, characterized in that it consists of a carrier part and a film-forming part Metal or metal alloy and they have a coating made of a mixture of the oxide or oxides Clay at least one platinum group metal in a lot from 20 tie 80 wt. £ and one film-forming «! Metal oxide "consists, where there is another rail above this layer a film-forming metal oxide is attached. 2» Elektrode nach Anspruch 1, dadurch, gekennzeichnet, dass das Verhältnis der Metalloxide der Platingruppe zu dem Metalloxid des filmbildenden Metalls in der Schicht dieser Mischung nicht weniger als 1:1 jjedooh weniger als 2:1, bezogen auf das Gewicht, beträgto 2 »Electrode according to claim 1, characterized in that the ratio of the metal oxides of the platinum group to the metal oxide of the film-forming metal in the layer of this mixture is not less than 1: 1 and less than 2: 1, based on weight, o 3o Elektrode naoh einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der !Drägerteil aus Titan oder einer Titanlegierung besteht, welche anodische Polarisationseiganschafijeja besitzt, die ähnlich denjenigen von Titan ,sind.3o electrode naoh one of the preceding claims, characterized marked that the! Dräger part is made of titanium or a titanium alloy consists of what anodic polarization property which are similar to those of titanium. 4o Elektrode nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Schicht der Mischung aus ßuthenium» dioxid lind Titandioxid besteht und die darauf angebrachte Schicht aus Titandioxid bestehtn 4o electrode according to one of the preceding claims, characterized in that the layer of the mixture of ßuthenium »dioxide lind titanium dioxide and attached thereto a layer of titanium dioxide is n 5. Elektrode nach einem der vorangehenden Anaprüohe, dadurch5. Electrode according to one of the preceding Anaprüohe, thereby 2 innerhalb des Bereidhes von 10 bie 15 g/m der belegten Ober*2 within the range of 10 to 15 g / m of the occupied upper * gekennzeichnet, dass die Gwiehtsraenge der Sohioht H^r Mleohung innerhalb des B
fläche beträgt.
marked that the GwICHTsraenge der Sohioht H ^ r Mleohung within the B
area is.
2 0 9 8 3 9/11252 0 9 8 3 9/1125 - ίο -- ίο - 6. Elektrode naoh einem der Toraogehends» Ansprüok·, dadurch gekennzeichnet, dass daß Gewicht der obersten Sohidht innerhalb des Bereiche» von 2 »ie 10 g /m der belegten Oberfläche beträgt.6. Electrode naoh one of the Toraogehends »claims ·, thereby marked that that weight of the top sohidht within of the range »from 2» ie 10 g / m 2 of the covered surface. 7° Verfahren zur Herstellung einer Elektrode nach Ansproeh 1, gekennzeichnet durch folgende Arbeitssohritte»7 ° Process for the production of an electrode according to Ansproeh 1, characterized by the following working hole » (1) auf einem Trägerteil aua einem fumbildenden Metall oder Metallegierung wird mindestens ein Belag aus einer Stoffeueaamensetzung aufgebracht, velohe aus einer bei Wärmeeinwirkung sswsetabaren Verbindung τοη mindestens tinea Metall der Platingruppe und einer durch Wärmeeinwirkung eersetebaren organischen Verbindung eines filmbildeaden Metalles in einer organische* Trägerflüssigkeit besteht, wobei Jeder Auf trag, durch Abdampfen der Tragerflüssigkeit getrocknet und dann jeder Auftrag in einer oxiduerenden Atmosphäre bei einer temperatur ron mindestens 35O0C wärmebehandelt wird, um die Verbindungen der Metalle der Platingruppe und des f Umbildenden Metalles in Oxid· dieser Metalle übersufUhren,(1) On a carrier part made of a film-forming metal or metal alloy, at least one coating made of a substance composition is applied, consisting of a compound τοη at least tinea metal of the platinum group and an organic compound of a film-forming metal in an organic * carrier liquid which can be eroded by heat Each job is dried by evaporation of the carrier liquid and then each job is heat-treated in an oxidising atmosphere at a temperature of at least 35O 0 C in order to convert the compounds of the metals of the platinum group and the transforming metal into oxide of these metals, (2)(2) Aufbringen auf diese Schicht der gemischten Oxide auf de» Trägerteil τοη mindestens einem Belag aus einer duroh Wärme» einvirkung gereetsbaren organischen Verbindung eines filmbil~ dsnden Metalles in einer organischen Trägerflüesigkelt, Trocknen des Belages durch Verdampfen der Trägerflüssigkelt und Srhitaen jedes Belages in einer oxidierenden Atmosphäre, um die organische Verbindung des filmbildenden Metalles in dae Oxid dieses Metalles überzuführen?Application to this layer of mixed oxides on the Carrier part τοη at least one covering from a duroh heat » Effect of a resetable organic compound in a film The metal is dissolved in an organic carrier liquid and dried of the coating by evaporation of the carrier liquid and Srhitaen each coating in an oxidizing atmosphere to the organic compound of the film-forming metal in the oxide of this Transferring metal? 8o Verfahren nach Anspruch 7, dadurch·gekennzeichnet, dass der Trägerteil aus Titan oder einer Titanlegierung besteht, die anodisch« Polarisationseigensohaften ähnlich derjenigen τοη Titan beeitato8. The method according to claim 7, characterized in that the carrier part consists of titanium or a titanium alloy, the anodic «polarization properties similar to those τοη Titan beeitato 209839/ 1 125209839/1 125 9» Verfahren nach einem der Ansprüche 7 und 8, dadurch gekennzeichnet, dass bei dem Arbeit es chrltt (1) die StoffjraiMua* meneetzung ein Reduktionsmittel enthält.9 »Method according to one of claims 7 and 8, characterized marked that at work it chrltt (1) the StoffjraiMua * Meetting contains a reducing agent. 10, Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 9» daduröh gekennzeichnet, daee beim Arbeitesehritt (1) die durch Wärmeeinwirkung ^ersetzbare Verbindung nindesteas eines der Metalle der Platingruppe aus Hutheniumtriehlorid besteht.10, method according to one of claims 7 to 9 »daduröh marked, daee with the work ride (1) caused by the action of heat ^ replaceable compound of at least one of the metals the platinum group consists of Hutheniumtriehlorid. 11 ο Verfahren naeh einem der Anepriiohe 7 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass beim Arbeitseohritt (1) die Temperatur auf die der Belag in einer oxidierenden Atmosphäre erhitzt wird, innerhalb dee Bereiches von 400 "bis, 55O0C liegt.11 ο method Naeh one of Anepriiohe 7 to 10, characterized in that the temperature to which the coating is heated in an oxidizing atmosphere at Arbeitseohritt (1) is within dee range of 400 "to, 55O 0 C. 1 20 Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bia 11, dadurch gekennzeichnet, dass beim Arbeitesohritt (1) die Anssahl der Beläge der auf den !Eragerteil aufgebrachten getrockneten und erhitzten Stoffzusammensetzung ausreichend igt, tua eine Schicht der gemischten Oxide zn ergeben, die 10 bie 15 g/m der belegten Oberfläche des Srägerteila beträgto 1 2 0 method according to any one of claims 7 bia 11, characterized in that when Arbeitesohritt (1) the Anssahl the linings of the force applied to the! Eragerteil dried and heated composition IGT sufficient tua a layer of the mixed oxides zn result, the 10 bie 15 g / m of the covered surface of the beam part is o 13, Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 12, dadurch, gekennzeichnet, dass beim Arbeiteschritt (1) die durch WÄrmeeinwirkung sersetebare organieche Verbindung eines fUmbildenden Metalles ein Alkyltitanat oder ein Alkylhalotitanat ipt, wobei das Halogen aus Chlor, Brom oder Fluor bestehto 13. The method according to any one of claims 7 to 12, characterized in that in step (1) the organic compound of a metal which can be converted by heat is an alkyl titanate or an alkyl halotitanate, the halogen consisting of chlorine, bromine or fluorine or the like 14, Verfahren nach Anspruch 13f dadurch gekennzeichnet, dass die Alkylgruppen des AXkyltitaaate oder Alkylhaloti-tanata ie 14, the method according to claim 13 f, characterized in that the alkyl groups of the AXkyltitaaate or Alkylhaloti-tanata ie 2 bis 4 Kohlenstoff atome enthalten?Contain 2 to 4 carbon atoms? 15, Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 14, dadurch15, the method according to any one of claims 7 to 14, characterized 209839/1125209839/1125 gekennzeichnet, dass die Anteile der Metallverbindungen der Platingruppe und die Metallverbinduüg des filmbildenden Metalle» in der Stoffzusammensetzung des Arbeitsechrlttes (1) derart ausgewählt werden, dass das Verhältnis von Metalloxiden der Platingruppe sum Metalloxid des filmbildenden Metalles in der 3ohioht der gemischten Oxide beim Arbeitsachritt (1) nicht weniger als 1:1 jedoch weniger als 2:1, bezogen auf das'Gewicht, beträgtocharacterized in that the proportions of the metal compounds of the Platinum group and the metal compound of the film-forming metals » in the material composition of the work step (1) such be selected that the ratio of metal oxides to the Platinum group sum metal oxide of the film-forming metal in the 3ohioht of the mixed oxides in step (1) not less than 1: 1 but less than 2: 1, based on the 'weight, iso 16 Verfahren naoh einem der Ansprliohe 7 bis 15» dadurch gekennaeiohnet, dass die Gesamtmenge des Belages, der Über der Schicht der gemischten Oxide ausreichend 1st, um beim Arbeiteschritt (2) eine Schicht des fUmbildenden Metalloxides au er~ geben, die 2 bis 10 g/m der belegten Oberfläche beträgto16 method according to one of claims 7 to 15 »thereby gekennaeiohnet that the total amount of topping, the over the The mixed oxide layer is sufficient to add a layer of the metal oxide to be formed in step (2) give, which is 2 to 10 g / m of the covered surface o 17* Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 16, daduroh gekennzeichnet, dass im Arbeitsschritt (2) die durch Wärmeeinwirkung xersetsbare orgaaisohe Verbindung eines filabildendea Metalles ein Alkyltitanat oder ein Alkylhalotitanat ist, wobei das Halogen aus Chlor, Brom oder Pluor besteht,17 * Method according to one of claims 7 to 16, daduroh characterized in that in step (2) the organic connection of a filabildendea Metal is an alkyl titanate or an alkyl halotitanate, wherein the halogen consists of chlorine, bromine or fluorine, 18» Verfahren nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, dass die Alkylgruppen des Alkyltitanate oder Alkylhalotitanate je 2 bis 4 Kohlenstoffatome enthaltene»18 »The method according to claim 17, characterized in that the alkyl groups of the alkyl titanate or alkyl halotitanate depending Containing 2 to 4 carbon atoms » 19o Verfahren nach Anspruch 17 odsr 18, dadurch gekennzeichnet, dass im Arbeitsschritt (2) jeder Auftrag bei 100 bie 200 C in einer oxidierenden Atmosphäre getrocknet wird·19o method according to claim 17 or 18, characterized in that in step (2) each order at 100 bie 200 C is dried in an oxidizing atmosphere 2Oo Verfahren nach Anspruch 19, daduroh gekennzeichnet, dass im Arbeltsechritt (2) nach dem Trocknen jeder Auftrag bei 350 bis 55O0C in einer oxidierenden Atmosphäre wärmebehandelt wird.2oo method of claim 19, daduroh in that is heat treated in Arbeltsechritt (2) after drying each order at 350 to 55O 0 C in an oxidizing atmosphere. 209839/1 125209839/1 125 21 ο Verwendung der Eltktrode nach Anepruoh 1 bie 621 ο Use of the electrode according to Anepruoh 1 to 6 Anode in aintr Zeil· mit «intr K»thodtn aus fll,*8eend«a Qutok»Anode in aintr line · with «intr K» thodtn from fll, * 8eend «a Qutok» silber ear Chloralkalielektrolyse.silver ear chlor-alkali electrolysis. 2098 39/11252098 39/1125
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Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3793164A (en) * 1973-04-19 1974-02-19 Diamond Shamrock Corp High current density brine electrolysis
JPS5137877A (en) * 1974-09-27 1976-03-30 Asahi Chemical Ind Denkaiyodenkyoku oyobi sonoseizoho
SE425412B (en) * 1974-10-29 1982-09-27 Diamond Shamrock Techn PROCEDURE FOR THE PREPARATION OF AN ELECTROD EASY TO USE IN ELECTROLYTIC PROCEDURES
US3969216A (en) * 1974-12-27 1976-07-13 Doreen Veronica Barrett Flotation separation
US4112140A (en) * 1977-04-14 1978-09-05 The Dow Chemical Company Electrode coating process
US4214971A (en) * 1978-08-14 1980-07-29 The Dow Chemical Company Electrode coating process
US4331528A (en) * 1980-10-06 1982-05-25 Diamond Shamrock Corporation Coated metal electrode with improved barrier layer
JPS582175A (en) * 1981-06-27 1983-01-07 フジテック株式会社 Controller for elevator
US4871703A (en) * 1983-05-31 1989-10-03 The Dow Chemical Company Process for preparation of an electrocatalyst
US4615913A (en) * 1984-03-13 1986-10-07 Kaman Sciences Corporation Multilayered chromium oxide bonded, hardened and densified coatings and method of making same
IL73536A (en) * 1984-09-13 1987-12-20 Eltech Systems Corp Composite catalytic material particularly for electrolysis electrodes,its manufacture and its use in electrolysis
EP0174413A1 (en) * 1984-09-17 1986-03-19 Eltech Systems Corporation Composite catalytic material particularly for electrolysis electrodes and method of manufacture
US6000982A (en) * 1995-07-31 1999-12-14 Casio Computer Co., Ltd. Method of manufacturing a cold-cathode for a discharge device
US5707715A (en) * 1996-08-29 1998-01-13 L. Pierre deRochemont Metal ceramic composites with improved interfacial properties and methods to make such composites
US6143432A (en) * 1998-01-09 2000-11-07 L. Pierre deRochemont Ceramic composites with improved interfacial properties and methods to make such composites
US6323549B1 (en) * 1996-08-29 2001-11-27 L. Pierre deRochemont Ceramic composite wiring structures for semiconductor devices and method of manufacture
US7247229B2 (en) * 1999-06-28 2007-07-24 Eltech Systems Corporation Coatings for the inhibition of undesirable oxidation in an electrochemical cell
KR100407710B1 (en) * 2001-11-08 2003-12-01 (주) 테크윈 Catalytic oxide anode manufacturing method by high temperature sintering
US8124556B2 (en) * 2008-05-24 2012-02-28 Freeport-Mcmoran Corporation Electrochemically active composition, methods of making, and uses thereof
TWI433964B (en) 2010-10-08 2014-04-11 Water Star Inc Multi-layer mixed metal oxide electrode and method for making same
ITMI20102354A1 (en) * 2010-12-22 2012-06-23 Industrie De Nora Spa ELECTRODE FOR ELECTROLYTIC CELL
CN104005047B (en) * 2014-06-11 2017-02-15 中国船舶重工集团公司第七二五研究所 Novel mixed metal oxide electrode for low-temperature sea water electrolysis antifouling
CN106099047A (en) * 2016-08-25 2016-11-09 深圳市贝特瑞纳米科技有限公司 A kind of surface coating method of electrode material and application thereof
US11668017B2 (en) 2018-07-30 2023-06-06 Water Star, Inc. Current reversal tolerant multilayer material, method of making the same, use as an electrode, and use in electrochemical processes

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1195871A (en) * 1967-02-10 1970-06-24 Chemnor Ag Improvements in or relating to the Manufacture of Electrodes.
GB1246447A (en) * 1967-09-26 1971-09-15 Imp Metal Ind Kynoch Ltd Improvements in or relating to the manufacture of oxide-coated electrodes for use in electrolytic processes
US3616445A (en) * 1967-12-14 1971-10-26 Electronor Corp Titanium or tantalum base electrodes with applied titanium or tantalum oxide face activated with noble metals or noble metal oxides
GB1206863A (en) * 1968-04-02 1970-09-30 Ici Ltd Electrodes for electrochemical process
US3562008A (en) * 1968-10-14 1971-02-09 Ppg Industries Inc Method for producing a ruthenium coated titanium electrode
GB1327760A (en) * 1969-12-22 1973-08-22 Imp Metal Ind Kynoch Ltd Electrodes
GB1294373A (en) * 1970-03-18 1972-10-25 Ici Ltd Electrodes for electrochemical processes
US3711385A (en) * 1970-09-25 1973-01-16 Chemnor Corp Electrode having platinum metal oxide coating thereon,and method of use thereof
US3684543A (en) * 1970-11-19 1972-08-15 Patricia J Barbato Recoating of electrodes

Also Published As

Publication number Publication date
ES400915A1 (en) 1975-01-16
FR2130419B1 (en) 1974-08-02
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AR194834A1 (en) 1973-08-24
NL7203580A (en) 1972-09-20
IT950343B (en) 1973-06-20
JPS559471B1 (en) 1980-03-10
IL38958A (en) 1974-12-31
CA976505A (en) 1975-10-21
FR2130419A1 (en) 1972-11-03
IL38958A0 (en) 1972-05-30
AU463572B2 (en) 1975-07-14
CH578625A5 (en) 1976-08-13
TR17134A (en) 1974-04-25
JPS4733076A (en) 1972-11-16

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