DE2248840A1 - Verfahren zum aufdampfen von duennen schichten aus einer fluessigen quelle - Google Patents
Verfahren zum aufdampfen von duennen schichten aus einer fluessigen quelleInfo
- Publication number
- DE2248840A1 DE2248840A1 DE19722248840 DE2248840A DE2248840A1 DE 2248840 A1 DE2248840 A1 DE 2248840A1 DE 19722248840 DE19722248840 DE 19722248840 DE 2248840 A DE2248840 A DE 2248840A DE 2248840 A1 DE2248840 A1 DE 2248840A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- vapor
- source
- chromium
- deposited
- melting point
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US18747871A | 1971-10-07 | 1971-10-07 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2248840A1 true DE2248840A1 (de) | 1973-04-12 |
Family
ID=22689163
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19722248840 Pending DE2248840A1 (de) | 1971-10-07 | 1972-10-05 | Verfahren zum aufdampfen von duennen schichten aus einer fluessigen quelle |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS4848334A (ja) |
DE (1) | DE2248840A1 (ja) |
FR (1) | FR2156005A1 (ja) |
GB (1) | GB1344972A (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2496703A1 (fr) * | 1980-12-24 | 1982-06-25 | Labo Electronique Physique | Source d'evaporation de manganese sur substrat dans le vide, notamment sur substrat de couche photosensible dans un tube photo-electrique et procede de fabrication |
US7329436B2 (en) | 2004-11-17 | 2008-02-12 | United Technologies Corporation | Vapor deposition of dissimilar materials |
KR100611673B1 (ko) * | 2005-01-31 | 2006-08-10 | 삼성에스디아이 주식회사 | 박막 형성 방법 및 유기전계발광소자의 제조 방법 |
-
1972
- 1972-09-13 JP JP9135272A patent/JPS4848334A/ja active Pending
- 1972-09-20 GB GB4343172A patent/GB1344972A/en not_active Expired
- 1972-09-27 FR FR7235072A patent/FR2156005A1/fr not_active Withdrawn
- 1972-10-05 DE DE19722248840 patent/DE2248840A1/de active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2156005A1 (ja) | 1973-05-25 |
JPS4848334A (ja) | 1973-07-09 |
GB1344972A (en) | 1974-01-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3629451C2 (ja) | ||
DE1483246A1 (de) | Verfahren zur Herstellung amorpher Legierungen | |
DE3602804C2 (ja) | ||
DE10022333A1 (de) | Siliciumcarbidbeschichteter Graphitwerksoff | |
DE69615598T2 (de) | Erzeugung des Magnesiumdampfes mit hocher Verdampfungsgeschwindigkeit | |
AT502678B1 (de) | Alkalimetall- oder erdalkalimetall- verdampferquelle | |
DE1514552B2 (de) | Verfahren zum Verdampfen von Gettern in evakuierten Gefäßen | |
DE3021074C2 (de) | Thermodiffusionsverfahren zur Herstellung von Oberflächenschichten aus Hg↓1↓↓-↓↓x↓Cd↓x↓Te | |
DE1934369A1 (de) | Verfahren zum Herstellen von Einkristallen aus III-V-Verbindungen | |
DE10200445B4 (de) | Metallband für epitaktische Beschichtungen und Verfahren zu dessen Herstellung | |
DE2248840A1 (de) | Verfahren zum aufdampfen von duennen schichten aus einer fluessigen quelle | |
CH403450A (de) | Verfahren zur Herstellung einer duktilen Diffusionslötverbindung | |
DE2203598A1 (de) | Verfahren zur Oberflächenhärtung von Titan und dessen Legierungen und auf diese Weise erhaltene Produkte | |
DE10116803C2 (de) | Strahlungswandler und Verfahren zur Herstellung desselben | |
DE2063580A1 (de) | Transparenter Leiter und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE2110961C3 (de) | Verfahren zum epitaktischen Aufwachsen eines ternären III-V-Mischkristalls | |
DE2419122A1 (de) | Verfahren zur herstellung von tio tief 2 -schichten durch verdampfen aus einer schmelzfluessigen titan-sauerstoffphase | |
DE2323211A1 (de) | Verfahren zur herstellung einer intermetallischen einkristall-halbleiterverbindung | |
DE19852325C1 (de) | Verfahren zum Erzeugen eines kontinuierlichen Dampfstromes enthaltend eine Verbindung, in der Gallium in einwertiger Form vorliegt, Verdampfungstiegel zum Verdampfen einer Substanz sowie Verwendung des Verdampfungstiegels in einer Vakuumbeschichtungsvorrichtung | |
DE868026C (de) | Verfahren zur Herstellung einer nicht als Gluehkathode dienenden Elektrode fuer ein elektrisches Entladungsgefaess | |
DE2947001A1 (de) | Verfahren zur herstellung von vakuumabgeschiedenen filmen | |
DE102005030862A1 (de) | Erstbenetzungshilfsmaterial für einen Verdampferkörper | |
DE1521556B2 (de) | Mit einer CoSi und/oder CoSi tief 2 enthaltenden Oberflächenschicht überzogenes Metall aus Niob oder einer Nioblegierung und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE69304947T2 (de) | Hochkorrosionsbeständige amorphe Alumimiumlegierung | |
DE2350694B2 (de) | Verfahren zum beschichten eines werkstueckes aus einer superlegierung zum schutz gegen korrosion und reaktionsgemisch |