DE1086508B - Saures galvanisches Kupferbad - Google Patents
Saures galvanisches KupferbadInfo
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/38—Electroplating: Baths therefor from solutions of copper
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein saures galvanisches Bad zum Abscheiden glatter, duktiler und
festhaftender Kupferüberzüge.
Es sind bereits verschiedene Zusatzstoffe für galvanische Kupferbäder vorgeschlagen worden, um die
endgültige Qualität des Kupferüberzuges zu verbessern. Einige der vorgeschlagenen Zusatzstoffe sind
kolloidale aliphatische und aromatische Sulfide, die dazu bestimmt sind, glatte und duktile Niederschläge
von Kupfer aus dem Elektrolyten zu erzeugen. Elektrolytische Kupferbäder, die solche vorgeschlagenen
Zusatzstoffe enthalten, ergeben keine glatten und gut haftenden Überzüge von Kupfer auf Grundmetallen,
die öffnungen, Höhlungen und andere Oberflächenunregelmäßigkeiten aufweisen, da derartige Bäder
keine gute Streufähigkeit besitzen.
Es sind verschiedene aliphatische und aromatische sulfonierte Zusatzstoffe zur Erzeugung von glänzenden
Kupferüberzügen vorgeschlagen worden. Der Hauptzweck der Erfindung ist jedoch nicht, glänzende
Kupferniederschläge zu erzeugen, sondern besteht vielmehr darin, die Stabilität der sich ergebenden
Kupferüberzüge beträchtlich zu erhöhen und einen im wesentlichen dauerhaften Kupferüberzug vorzusehen,
welcher die Eigenschaften der Duktilität und der Glattheit bis zu einem außergewöhnlichen Dickegrad
besitzt. Die bekannten Zusatzstoffe für diesen Zweck sind Dextrin, Leim, Melasse od. dgl. gewesen, welche
den Nachteil besitzen, daß sie sich zersetzen und die Lösung verunreinigen, wodurch bewirkt wird, daß der
Kupferniederschlag äußerst spröde wird. Ferner macht diese Zersetzung eine von Zeit zu Zeit vorzunehmende
Reinigung des Elektrolyten zur Entfernung und Ausschaltung dieser schädlichen Verunreinigungen notwendig.
Es ist daher Hauptzweck der Erfindung, Lösungen
für die elektrolytische Verkupferung zu schaffen, die einen ungewöhnlich hohen Grad von Glattheit und
Duktilität des Überzugs ergeben und bei denen die Zusatzstoffe stabil und frei von Zerfallprodukten sind.
Die elektrolytischen Lösungen der Erfindung ergeben demgemäß Kupferüberzüge, welche frei von Sprödigkeit
sind und welche die vorgenannten erwünschten Eigenschaften behalten. Die Zusatzstoffe, die bei der
Erfindung benutzt werden, besitzen einen hohen Grad von Löslichkeit in den Bädern, wodurch sie sich insbesondere
von den kolloidalen Zusatzstoffen unterscheiden, und können überdies mit sauren Kupferbädern
von üblicher Zusammensetzung, die unter üblichen Bedingungen arbeiten, benutzt werden. Die
Grundmetalle, auf welche die Verkupfungsbäder gemäß der Erfindung anwendbar sind, sind vorzugsweise
die verschiedenen Arten von Stahl, Zink, Nickel, Zinn und Legierungen dieser Metalle.
Saures galvanisches Kupferbad
Anmelder:
The Seymour Manufacturing Company,
Seymour, Conn. (V. St. A.)
Seymour, Conn. (V. St. A.)
Vertreter: Dr. E. Wiegand, München 15,
und Dipl.-Ing. W. Niemann, Hamburg 1, Ballindamm 26,
Patentanwälte
Beanspruchte Priorität:
X5 V. St. v. Amerika vom 4. Februar 1958
X5 V. St. v. Amerika vom 4. Februar 1958
Eugene Nicholas Castellano, Seymour, Conn.
(VStA.),
ist als Erfinder genannt worden
ist als Erfinder genannt worden
Gemäß der Erfindung ist ein elektrolytisches Bä'I
vorgesehen, das aus einer wäßrigen Säurelösung eines Kupfersalzes und 0,1 bis 100 g je Liter eines Zusatzstoffes
von der Formel
SO3H
X —
besteht, in der X Wasserstoff, eine niedere Alkoxygruppe
oder Halogen bedeutet und sich in o- oder p-Steilung mit Bezug auf die SO3H-Gruppe befindet.
Für die praktische Ausführung der Erfindung sind bevorzugte Derivate, welche unter diese allgemeine
Formel fallen, die folgenden:
Natriumsalz der m-Aminobenzolsulfonsäure,
m-Aminobenzolsulfonsäure,
3-Amino-4-methoxybenzolsulfonsäure,
3-Amino-4-chlorbenzolsulfonsäure und
3-Amino-6-chlorbenzolsulfonsäure.
m-Aminobenzolsulfonsäure,
3-Amino-4-methoxybenzolsulfonsäure,
3-Amino-4-chlorbenzolsulfonsäure und
3-Amino-6-chlorbenzolsulfonsäure.
Diese Verbindungen werden vorzugsweise in Form ihrer löslichen Salze benutzt. Die erste Verbindung in
der vorstehenden Aufstellung wird wegen ihrer ungewöhnlich hohen Löslichkeit im Vergleich mit der
zweiten und dritten Verbindung der Aufstellung bevorzugt. Die vierte und fünfte Verbindung der Aufstellung
sind durch hohe Löslichkeit ähnlich der ersten
009 569/377
Verbindung gekennzeichnet, aber der Chlorsubstituent setzt die Löslichkeit in einem gewissen Grad herab.
Die Zusammensetzung des Bades ohne die neuen Zusatzstoffe ist von üblicher Beschaffenheit, Beispielsweise
sind wäßrige Lösungen, die je Liter 187,5 bis 262,5 g Kupfersulfat (Cu S O4-5 H2 O), 60' bis 90 g
Schwefelsäure (772°/o) und als Rest Wasser enthalten,
üblich und für die praktische Ausführung der Erfindung geeignet. Andere bekannte Kupfersalze und entsprechende
Säuren, wie wäßrige Lösungen von Kupferfluoborat und Fluoborsäure, können ebenfalls
benutzt werden, um duktile Überzüge zu erzeugen. Ein bevorzugtes Bad enthält annähernd 240 g/l
Kupfersulfat, 75 g/l Schwefelsäure und wird bei einer Temperatur von annähernd 38° C und bei einer Stromdichte
von etwa 1 bis 10Amp./dm2 betrieben.
Für übliche Bäder der angegebenen Art können Stromdichten von O bis 30 Amp./dm2 und Temperaturen
von Raumtemperatur bis 55° C, je nach der Dicke und der Qualität des gewünschten Überzuges, aa
angewandt werden.
Die Zusatzstoffe können in einer Menge von 0,1 bis 100 g/l zur Anwendung gelangen. Die bevorzugte
Konzentration beträgt etwa 5 bis 20 g/l, wobei ausgezeichnete Ergebnisse schon bei etwa 10 g/l erzielt
werden.
Nachfolgend werden einige spezifische Beispiele für die Durchführung der Erfindung beschrieben. Die oben
angegebenen Bäder werden im allgemeinen unter den vorstehend erwähnten Bedingungen betrieben, wie sie
gewöhnlich in der Technik benutzt werden.
Beispiel 1
In einem Bad der Zusammensetzung
In einem Bad der Zusammensetzung
Kupfersulfat 240g/l
Schwefelsäure 75 g/l
Natrium-m-aminobenzolsulfonat ... 10g/l
läßt sich auf einer vorvernickelten Stahlplatte bei einer Stromdichte von etwa 10 Amp./dm2 Gleichstrom
während annähernd 2 Stunden ein glatter duktiler Kupferüberzug von 0,30 mm Dicke erzeugen. Dieser
duktile Kupferüberzug ist hart und weist eine dichte Kornstruktur auf.
45
Beispiel 2
In einem Bad der Zusammensetzung
In einem Bad der Zusammensetzung
Kupferfluoborat 200 g/l
Fluoborsäure in dem Bereich von 0
bis 2,0 pH
Natrium-m-aminobenzolsulfonat ... 15 g/l
Natrium-m-aminobenzolsulfonat ... 15 g/l
wurde bei einer Badtemperatur von 38° C und einer Stromdichte von 7,5 Amp./dm2 während annähernd
IV2 Stunden ein Kupferüberzug von 0,18 mm Dicke erhalten, welcher die in dem vorhergehenden Beispiel
angegebenen Eigenschaften hatte.
In einem Kupferbad gemäß der Vorschrift des Beispiels 1, wobei jedoch 3-Amino-4-methoxybenzolsulfonsäure
an Stelle von Natrium-m-Aminobenzolsulfonat verwendet wurde, ließ sich bei einer Stromdichte
von 10 Amp./dm2 ebenfalls ein glatter duktiler Kupferüberzug mit einer Dicke von ungefähr 0,30 mm
in annähernd 2 Stunden abscheiden.
In einem Bad gemäß Beispiel 2, wobei jedoch als Zusatzstoff 3-Amino-6-chlorbenzolsulfonsäure an
Stelle von Natrium-m-Aminobenzolsulfonat verwendet wurde, wird ein glatter duktiler Kupferüberzug mit
einer Dicke von annähernd 0,46 mm in einer Zeitdauer von 3 Stunden bei einer Stromdichte von 10 Amp./dm2
erhalten.
Claims (3)
- PATENTANSPRÜCHE:1, Saures galvanisches Kupferbad üblicher Zusammensetzung zum Abscheiden glatter, duktiler und festhaftender Überzüge, gekennzeichnet durch den Zusatz einer Verbindung der allgemeinen FormelSO3HNH,in der X Wasserstoff, eine niedere Alkoxygruppe oder Halogen bedeutet und sich in o- oder p-Steilung mit Bezug auf die SOSH-Gruppe befindet, in einer Menge von 0,1 bis 100 g/l, vorzugsweise 5 bis 20 g/l.
- 2. Bad nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch den Zusatz von m-Aminobenzolsulfonsäure, 3 -Amino- 4 - methoxybenzolsulfonsäure, 3 -Amino-4-chlorbenzolsulfonsäure, 3-Amino-o-chlorbenzolsulfonsäure oder deren löslichen Salze.
- 3. Bad nach Anspruch 2, gekennzeichnet durch den Zusatz von Natrium-m-aminobenzolsulfonat.©009 569/377 7.60
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---|---|---|---|
US713104A US2871173A (en) | 1958-02-04 | 1958-02-04 | Method of making ductile copper platings |
Publications (1)
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---|---|
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Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country | Link |
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1958
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-
1959
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- 1959-01-12 DE DES61291A patent/DE1086508B/de active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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