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DE1086508B - Saures galvanisches Kupferbad - Google Patents

Saures galvanisches Kupferbad

Info

Publication number
DE1086508B
DE1086508B DES61291A DES0061291A DE1086508B DE 1086508 B DE1086508 B DE 1086508B DE S61291 A DES61291 A DE S61291A DE S0061291 A DES0061291 A DE S0061291A DE 1086508 B DE1086508 B DE 1086508B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
acid
copper
amino
bath
addition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DES61291A
Other languages
English (en)
Inventor
Eugene Nicholas Castellano
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seymour Manufacturing Co
Original Assignee
Seymour Manufacturing Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seymour Manufacturing Co filed Critical Seymour Manufacturing Co
Publication of DE1086508B publication Critical patent/DE1086508B/de
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/38Electroplating: Baths therefor from solutions of copper

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein saures galvanisches Bad zum Abscheiden glatter, duktiler und festhaftender Kupferüberzüge.
Es sind bereits verschiedene Zusatzstoffe für galvanische Kupferbäder vorgeschlagen worden, um die endgültige Qualität des Kupferüberzuges zu verbessern. Einige der vorgeschlagenen Zusatzstoffe sind kolloidale aliphatische und aromatische Sulfide, die dazu bestimmt sind, glatte und duktile Niederschläge von Kupfer aus dem Elektrolyten zu erzeugen. Elektrolytische Kupferbäder, die solche vorgeschlagenen Zusatzstoffe enthalten, ergeben keine glatten und gut haftenden Überzüge von Kupfer auf Grundmetallen, die öffnungen, Höhlungen und andere Oberflächenunregelmäßigkeiten aufweisen, da derartige Bäder keine gute Streufähigkeit besitzen.
Es sind verschiedene aliphatische und aromatische sulfonierte Zusatzstoffe zur Erzeugung von glänzenden Kupferüberzügen vorgeschlagen worden. Der Hauptzweck der Erfindung ist jedoch nicht, glänzende Kupferniederschläge zu erzeugen, sondern besteht vielmehr darin, die Stabilität der sich ergebenden Kupferüberzüge beträchtlich zu erhöhen und einen im wesentlichen dauerhaften Kupferüberzug vorzusehen, welcher die Eigenschaften der Duktilität und der Glattheit bis zu einem außergewöhnlichen Dickegrad besitzt. Die bekannten Zusatzstoffe für diesen Zweck sind Dextrin, Leim, Melasse od. dgl. gewesen, welche den Nachteil besitzen, daß sie sich zersetzen und die Lösung verunreinigen, wodurch bewirkt wird, daß der Kupferniederschlag äußerst spröde wird. Ferner macht diese Zersetzung eine von Zeit zu Zeit vorzunehmende Reinigung des Elektrolyten zur Entfernung und Ausschaltung dieser schädlichen Verunreinigungen notwendig.
Es ist daher Hauptzweck der Erfindung, Lösungen für die elektrolytische Verkupferung zu schaffen, die einen ungewöhnlich hohen Grad von Glattheit und Duktilität des Überzugs ergeben und bei denen die Zusatzstoffe stabil und frei von Zerfallprodukten sind. Die elektrolytischen Lösungen der Erfindung ergeben demgemäß Kupferüberzüge, welche frei von Sprödigkeit sind und welche die vorgenannten erwünschten Eigenschaften behalten. Die Zusatzstoffe, die bei der Erfindung benutzt werden, besitzen einen hohen Grad von Löslichkeit in den Bädern, wodurch sie sich insbesondere von den kolloidalen Zusatzstoffen unterscheiden, und können überdies mit sauren Kupferbädern von üblicher Zusammensetzung, die unter üblichen Bedingungen arbeiten, benutzt werden. Die Grundmetalle, auf welche die Verkupfungsbäder gemäß der Erfindung anwendbar sind, sind vorzugsweise die verschiedenen Arten von Stahl, Zink, Nickel, Zinn und Legierungen dieser Metalle.
Saures galvanisches Kupferbad
Anmelder:
The Seymour Manufacturing Company,
Seymour, Conn. (V. St. A.)
Vertreter: Dr. E. Wiegand, München 15,
und Dipl.-Ing. W. Niemann, Hamburg 1, Ballindamm 26, Patentanwälte
Beanspruchte Priorität:
X5 V. St. v. Amerika vom 4. Februar 1958
Eugene Nicholas Castellano, Seymour, Conn.
(VStA.),
ist als Erfinder genannt worden
Gemäß der Erfindung ist ein elektrolytisches Bä'I vorgesehen, das aus einer wäßrigen Säurelösung eines Kupfersalzes und 0,1 bis 100 g je Liter eines Zusatzstoffes von der Formel
SO3H
X —
besteht, in der X Wasserstoff, eine niedere Alkoxygruppe oder Halogen bedeutet und sich in o- oder p-Steilung mit Bezug auf die SO3H-Gruppe befindet.
Für die praktische Ausführung der Erfindung sind bevorzugte Derivate, welche unter diese allgemeine Formel fallen, die folgenden:
Natriumsalz der m-Aminobenzolsulfonsäure,
m-Aminobenzolsulfonsäure,
3-Amino-4-methoxybenzolsulfonsäure,
3-Amino-4-chlorbenzolsulfonsäure und
3-Amino-6-chlorbenzolsulfonsäure.
Diese Verbindungen werden vorzugsweise in Form ihrer löslichen Salze benutzt. Die erste Verbindung in der vorstehenden Aufstellung wird wegen ihrer ungewöhnlich hohen Löslichkeit im Vergleich mit der zweiten und dritten Verbindung der Aufstellung bevorzugt. Die vierte und fünfte Verbindung der Aufstellung sind durch hohe Löslichkeit ähnlich der ersten
009 569/377
Verbindung gekennzeichnet, aber der Chlorsubstituent setzt die Löslichkeit in einem gewissen Grad herab.
Die Zusammensetzung des Bades ohne die neuen Zusatzstoffe ist von üblicher Beschaffenheit, Beispielsweise sind wäßrige Lösungen, die je Liter 187,5 bis 262,5 g Kupfersulfat (Cu S O4-5 H2 O), 60' bis 90 g Schwefelsäure (772°/o) und als Rest Wasser enthalten, üblich und für die praktische Ausführung der Erfindung geeignet. Andere bekannte Kupfersalze und entsprechende Säuren, wie wäßrige Lösungen von Kupferfluoborat und Fluoborsäure, können ebenfalls benutzt werden, um duktile Überzüge zu erzeugen. Ein bevorzugtes Bad enthält annähernd 240 g/l Kupfersulfat, 75 g/l Schwefelsäure und wird bei einer Temperatur von annähernd 38° C und bei einer Stromdichte von etwa 1 bis 10Amp./dm2 betrieben.
Für übliche Bäder der angegebenen Art können Stromdichten von O bis 30 Amp./dm2 und Temperaturen von Raumtemperatur bis 55° C, je nach der Dicke und der Qualität des gewünschten Überzuges, aa angewandt werden.
Die Zusatzstoffe können in einer Menge von 0,1 bis 100 g/l zur Anwendung gelangen. Die bevorzugte Konzentration beträgt etwa 5 bis 20 g/l, wobei ausgezeichnete Ergebnisse schon bei etwa 10 g/l erzielt werden.
Nachfolgend werden einige spezifische Beispiele für die Durchführung der Erfindung beschrieben. Die oben angegebenen Bäder werden im allgemeinen unter den vorstehend erwähnten Bedingungen betrieben, wie sie gewöhnlich in der Technik benutzt werden.
Beispiel 1
In einem Bad der Zusammensetzung
Kupfersulfat 240g/l
Schwefelsäure 75 g/l
Natrium-m-aminobenzolsulfonat ... 10g/l
läßt sich auf einer vorvernickelten Stahlplatte bei einer Stromdichte von etwa 10 Amp./dm2 Gleichstrom während annähernd 2 Stunden ein glatter duktiler Kupferüberzug von 0,30 mm Dicke erzeugen. Dieser duktile Kupferüberzug ist hart und weist eine dichte Kornstruktur auf.
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Beispiel 2
In einem Bad der Zusammensetzung
Kupferfluoborat 200 g/l
Fluoborsäure in dem Bereich von 0
bis 2,0 pH
Natrium-m-aminobenzolsulfonat ... 15 g/l
wurde bei einer Badtemperatur von 38° C und einer Stromdichte von 7,5 Amp./dm2 während annähernd IV2 Stunden ein Kupferüberzug von 0,18 mm Dicke erhalten, welcher die in dem vorhergehenden Beispiel angegebenen Eigenschaften hatte.
Beispiel 3
In einem Kupferbad gemäß der Vorschrift des Beispiels 1, wobei jedoch 3-Amino-4-methoxybenzolsulfonsäure an Stelle von Natrium-m-Aminobenzolsulfonat verwendet wurde, ließ sich bei einer Stromdichte von 10 Amp./dm2 ebenfalls ein glatter duktiler Kupferüberzug mit einer Dicke von ungefähr 0,30 mm in annähernd 2 Stunden abscheiden.
Beispiel 4
In einem Bad gemäß Beispiel 2, wobei jedoch als Zusatzstoff 3-Amino-6-chlorbenzolsulfonsäure an Stelle von Natrium-m-Aminobenzolsulfonat verwendet wurde, wird ein glatter duktiler Kupferüberzug mit einer Dicke von annähernd 0,46 mm in einer Zeitdauer von 3 Stunden bei einer Stromdichte von 10 Amp./dm2 erhalten.

Claims (3)

  1. PATENTANSPRÜCHE:
    1, Saures galvanisches Kupferbad üblicher Zusammensetzung zum Abscheiden glatter, duktiler und festhaftender Überzüge, gekennzeichnet durch den Zusatz einer Verbindung der allgemeinen Formel
    SO3H
    NH,
    in der X Wasserstoff, eine niedere Alkoxygruppe oder Halogen bedeutet und sich in o- oder p-Steilung mit Bezug auf die SOSH-Gruppe befindet, in einer Menge von 0,1 bis 100 g/l, vorzugsweise 5 bis 20 g/l.
  2. 2. Bad nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch den Zusatz von m-Aminobenzolsulfonsäure, 3 -Amino- 4 - methoxybenzolsulfonsäure, 3 -Amino-4-chlorbenzolsulfonsäure, 3-Amino-o-chlorbenzolsulfonsäure oder deren löslichen Salze.
  3. 3. Bad nach Anspruch 2, gekennzeichnet durch den Zusatz von Natrium-m-aminobenzolsulfonat.
    ©009 569/377 7.60
DES61291A 1958-02-04 1959-01-12 Saures galvanisches Kupferbad Pending DE1086508B (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US713104A US2871173A (en) 1958-02-04 1958-02-04 Method of making ductile copper platings

Publications (1)

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DE1086508B true DE1086508B (de) 1960-08-04

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DES61291A Pending DE1086508B (de) 1958-02-04 1959-01-12 Saures galvanisches Kupferbad

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GB (1) GB848387A (de)

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US2871173A (en) 1959-01-27
GB848387A (en) 1960-09-14

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