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CN213030535U - 食品处理系统及与其一起使用的附件、附接组件 - Google Patents

食品处理系统及与其一起使用的附件、附接组件 Download PDF

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CN213030535U
CN213030535U CN202020281594.9U CN202020281594U CN213030535U CN 213030535 U CN213030535 U CN 213030535U CN 202020281594 U CN202020281594 U CN 202020281594U CN 213030535 U CN213030535 U CN 213030535U
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vacuum
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chamber
accessory
processing system
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CN202020281594.9U
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萨姆·威廉·班尼斯特
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Original Assignee
Sharkninja Operating LLC
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Abstract

本实用新型提供了食品处理系统及与其一起使用的附件、附接组件。一种与食品处理系统一起使用的附件，所述附件包括：可密封本体，所述可密封本体包括壁和处理室；室开口，所述室开口形成于所述可密封本体中；以及真空通路，所述真空通路布置成与所述室开口流体连通，所述真空通路与所述可密封本体的所述壁和所述处理室中的至少一个相关联。本实用新型的与食品处理系统一起使用的附件和真空食品处理系统能在高振动环境中使用时，防止液体或其它成分渗漏通过密封件。

Description

食品处理系统及与其一起使用的附件、附接组件
技术领域
本实用新型的示例性实施例涉及搅拌器，并且更具体地涉及构造成将一种或多种食品接收在其中的搅拌器容器。
背景技术
搅拌器通常用于处理多种不同的食品，包括液体、固体、半固体、凝胶等。众所周知，搅拌器是用于在各种商业环境中搅拌、切割和切块食品的有用装置，包括家庭厨房用途、专业餐厅或食品服务用途，以及大型工业用途。它们提供用手切碎或切块的方便的备选方案，并且通常具有适于提供特定类型或量的食品处理的一系列操作设置和模式，例如迎合特定食品。
可通过在搅拌操作之前或之后在搅拌器容器或附件内形成真空来实现若干益处。例如，通过在搅拌操作之前形成真空，可减少处理成分的营养特性的总体降解。因此，搅拌器容器或附件可包含可移动以在搅拌器容器内选择性形成真空的密封件。然而，当搅拌器容器在高振动环境中使用时，例如，如在车辆中或当容器携带于袋中时，来自搅拌器容器内部的液体或其它成分可能渗漏通过密封件。
实用新型内容
根据实施例，与食品处理系统一起使用的附件包括可密封本体，所述可密封本体包括壁和处理室、形成于所述可密封本体中的室开口，以及布置成与所述室开口流体连通的真空通路。真空通路与所述可密封本体的所述壁和所述处理室中的至少一个相关联。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述真空通路的一部分至少部分地由所述壁限定。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述真空通路的一部分与所述可密封本体的所述壁一体地形成。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述真空通路布置在所述可密封本体的一侧处，在所述壁和所述处理室的外部。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，包括连接到所述壁的次级结构，其中所述次级结构和所述壁协作以限定所述真空通路的至少一部分。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述次级结构包覆模制到所述壁。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述次级结构是模制的通道。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述次级结构是挤制的通道。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述次级结构经由感应焊接固定到所述壁。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述次级结构与所述壁形成无缝界面。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述次级结构的至少一部分与所述壁的相邻表面齐平。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述真空通路的一部分延伸穿过所述处理室。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述真空通路的所述部分安装到所述壁的内表面。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述真空通路至少部分地由刚性管限定。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，包括连接到所述真空通路和所述室开口的真空室。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，包括安装到所述可密封本体的覆盖件，其中所述覆盖件和所述可密封本体协作以限定所述真空室。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，包括盖，其中所述加热元件限定在所述盖内。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，包括布置在所述室开口内的真空密封组件。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，包括与所述处理室相关联的释放机构，其中所述释放机构可移动以将所述处理室流体联接到所述可密封本体外部的周围大气。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述可密封本体在与所述食品处理系统的包括真空系统的食品处理底座分离时具有第一定向，并且在连接到所述食品处理底座时具有第二定向。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述可密封本体在与所述食品处理系统的包括真空系统的食品处理底座分离时以及在连接到所述食品处理底座时具有第一定向。
根据又一个实施例，食品处理系统包括食品处理底座，该食品处理底座包括真空系统和构造成与食品处理底座可移除地关联的附件。附件包括可密封本体，所述可密封本体包括壁和处理室。室开口形成于可密封本体中，并且真空通路布置成与室开口流体连通。真空通路与可密封本体的所述壁和所述处理室中的至少一个相关联。当附件安装在所述食品处理底座周围时，真空通路流体连接到所述真空系统。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述真空系统邻近所述食品处理底座的第一侧布置，并且当安装到所述食品处理底座时，所述真空通路与所述食品处理底座的所述第一侧对准。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述真空通路的一部分至少部分地由所述壁限定。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述真空通路的一部分与所述可密封本体的所述壁一体地形成。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述真空通路布置在所述可密封本体的一侧处，在所述壁和所述处理室的外部。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述可密封本体包括连接到所述壁的次级结构，其中所述次级结构和所述壁协作以限定所述真空通路的至少一部分。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述次级结构包覆模制到所述壁。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述次级结构是模制的通道。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述次级结构是挤制的通道。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述次级结构经由感应焊接固定到所述壁。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述次级结构与所述壁形成无缝界面。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述次级结构的至少一部分与所述壁的相邻表面齐平。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述真空通路的一部分延伸穿过所述处理室。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述真空通路的所述部分安装到所述壁的内表面。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述真空通路至少部分地由刚性管限定。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，包括连接到所述真空通路和所述室开口的真空室。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，包括安装到所述可密封本体的覆盖件，其中所述覆盖件和所述可密封本体协作以限定所述真空室。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，包括盖，其中所述加热元件限定在所述盖内。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，包括布置在所述室开口内的真空密封组件。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，包括与所述处理室相关联的释放机构，其中所述释放机构可移动以将所述处理室流体联接到所述可密封本体外部的周围大气。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述可密封本体在与所述食品处理底座分离时具有第一定向，并且在连接到所述食品处理底座时具有第二定向。
在又一个实施例中，与食品处理系统一起使用的附件包括：包括处理室的可密封本体、通过所述可密封本体的至少一部分从处理室延伸的真空路径，以及从处理室延伸到所述可密封本体的外部的释放路径。真空路径与释放路径分离。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述真空路径还包括真空室和真空通路，所述真空通路与所述可密封本体成一体。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，包括安装到所述可密封本体的覆盖件，其中所述覆盖件和所述可密封本体协作以限定所述真空室。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，包括可连接到所述可密封本体的开口端以密封所述处理室的盖，所述真空室限定于所述盖内。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，包括将所述处理室连接到所述真空室的室开口，以及布置在所述室开口内的真空密封组件。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述释放路径包括形成于限定所述处理室的端部的壁中的释放开口。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，包括与所述释放开口相关联的释放机构，所述释放开口可移动以将所述处理室联接到所述可密封本体外部的周围大气。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述真空密封组件和所述释放机构可独立地操作。
根据另一个实施例，食品处理系统包括食品处理底座，该食品处理底座包括真空系统和构造成与所述食品处理底座可移除地关联的附件。附件包括可密封本体，可密封本体包括处理室和从所述处理室延伸穿过所述可密封本体的至少一部分的真空路径。所述附件的真空路径布置成当所述附件连接到所述食品处理底座时与所述真空系统流体连通。释放路径从所述处理室延伸到所述可密封本体的外部。真空路径与释放路径分离。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述真空路径还包括真空室和真空通路，所述真空通路与所述可密封本体成一体。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，包括安装到所述可密封本体的覆盖件，其中所述覆盖件和所述可密封本体协作以限定所述真空室。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，包括可连接到所述可密封本体的开口端以密封所述处理室的盖，所述真空室限定于所述盖内。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述真空路径还包括将所述处理室连接到所述真空室的室开口。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，包括布置在所述室开口内的真空密封组件。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述释放路径还包括形成于限定所述处理室的端部的壁中的释放开口。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，包括与所述释放开口相关联的释放机构，所述释放开口可移动以将所述处理室联接到所述可密封本体外部的周围大气。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述真空路径包括可移动真空密封组件，且所述释放路径包括可移动的释放机构，所述真空密封组件和所述释放机构可独立地操作。
根据又一个实施例，与食品处理系统一起使用的附接组件包括：具有处理室的容器，该处理室包括开口端；配件，其可连接到所述容器的开口端以密封所述处理室；以及真空通路，其具有入口和出口。入口布置成与处理室流体连通，且出口位于与所述配件分离的所述容器的区域处。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述出口垂直地偏离所述容器的所述开口端。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述真空通路与所述容器的壁和所述处理室中的至少一个相关联。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述真空通路的一部分与所述壁一体地形成。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述真空通路布置在所述容器的一侧处，在所述壁和所述处理室的外部。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，包括连接到所述壁的次级结构，其中所述次级结构和所述壁协作以限定所述真空通路的至少一部分。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述次级结构与所述壁形成无缝界面。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述次级结构的至少一部分与所述壁的相邻表面齐平。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述真空通路至少部分地由刚性管限定。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述容器在与所述食品处理系统的包括真空系统的食品处理底座分离时以及在连接到所述食品处理底座时具有第一定向。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述配件是盖。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述容器在与所述食品处理系统的包括真空系统的食品处理底座分离时具有第一定向，并且在连接到所述食品处理底座时具有第二定向。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述配件是可旋转的叶片组件。
根据又一个实施例，在食品处理系统的附件的处理室中形成真空的方法包括操作布置成与在附件中形成的真空室流体连通的真空机构，感测所述真空室内的压力，检测所述真空室内的所述压力等于目标压力，并且在所述真空室内的所述压力等于所述目标压力之后操作所述真空机构。
除上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，在所述真空室内的所述压力等于所述目标压力之后操作所述真空机构包括连续操作所述真空机构。
除上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，在所述真空室内的所述压力等于所述目标压力之后操作所述真空机构包括间歇地操作所述真空机构。
除上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，在所述真空室内的所述压力等于所述目标压力之后操作所述真空机构包括在所述真空室内的所述压力等于所述目标压力之后的固定时间段内操作所述真空机构。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，在所述真空室内的所述压力等于所述目标压力之后操作所述真空机构包括操作所述真空机构，直到所述真空室内的所述压力等于不同于所述目标压力的另一目标压力。
除了上述特征中的一个或多个之外，或作为备选，在其它实施例中，所述另一个目标压力是大于所述目标压力的负压。
附图说明
并入于本说明书中并形成本说明书的一部分的附图体现本实用新型的若干方面，并且连同描述一起用以解释本实用新型的原理。在附图中：
图1是食品处理系统的实例的透视图；
图2是食品处理系统的底座的透视图；
图3是具有第一附件的食品处理系统的透视图；
图4是适合与食品处理系统一起使用的附件的实例的透视图；
图5是根据实施例的食品处理系统的横截面视图；
图6是适合与根据实施例的食品处理系统一起使用的真空附件的透视图；
图7是根据实施例的图6的真空附件的横截面视图；
图8是根据实施例的真空附件的盖的透视横截面视图；
图9是根据实施例的真空附件的盖的横截面视图；
图10是根据实施例的真空附件的盖的横截面视图；
图11是适合与根据实施例的食品处理系统一起使用的真空附件的透视图；
图12是根据实施例的图11的真空附件的横截面视图；
图13是适合与根据实施例的食品处理系统一起使用的另一真空附件的横截面视图；
图14A是适合与根据实施例的食品处理系统一起使用的另一真空附件的透视图；
图14B是根据实施例的图14A的真空附件的示意性透视图；
图15是适合与根据实施例的食品处理系统一起使用的另一真空附件的透视图；
图16是根据实施例的真空附件的端部的横截面视图；以及
图17是根据实施例的真空附件的端部的横截面视图；以及
图18是适合与根据实施例的食品处理系统一起使用的另一真空附件的横截面视图。
具体实施方式参考附图通过举例解释了本实用新型的实施例以及优势和特征。
具体实施方式
现在参看图1和图2，示出了多功能食品处理系统20的实例。一般来说，食品处理系统20可适于执行任何食品处理或搅拌操作，作为非限制性实例，包括切块、切碎、切割、切片、混合、搅拌、搅动、压碎等。尽管本文所示出和描述的食品处理系统是个人搅拌器系统，但其它食品处理系统在本公开的范围内。
食品处理系统20包含具有本体或壳体24的底座22，电动单元(未示出) 和至少一个控制器(未示出)位于所述底座内。底座22包括诸如驱动联接器 26(参见图2)的至少一个旋转部件，其例如由位于壳体24内的电动单元驱动。底座22另外包括控制面板或用户界面28，其具有用于打开和关闭电动单元以及用于选择各种操作模式(例如脉冲、搅拌或连续食品处理)的一个或多个输入29。至少一个驱动联接器26构造成接合联接到底座22的附件30的一部分，以用于处理位于附件30内部的食品。这将在随后的图和论述中变得更加明显。
尺寸和/或功能性不同的一个或多个附件30可构造成与底座22一起使用。图3中所示的第一附件30包括具有可旋转叶片组件34的罐或容器32。在一些实施例中，容器32的尺寸可以设置成容纳大约72流体盎司。然而，容器 32具有较大或更小容量的实施例也在本公开的范围内。如图所示，容器32通常包括第一开口端36、第二闭合端38以及在第一端36与第二端38之间延伸以限定容器32的中空处理室42的一个或多个侧壁40。可旋转叶片组件34可以与容器32的第二端38一体地形成，或者可以可移除地联接到该第二端。附件30可另外包括配件，如盖43，其构造成联接到容器32的第一开口端36以密封容器32。图3的附件的第二密封端38构造成安装到底座22以执行食品处理操作。因此，当附件30连接到底座22并且与底座22分离时容器32的定向保持大体上恒定。
适合与食品处理系统一起使用的附件30的另一实例在图4中示出。在所示的非限制性实施例中，附件30为倒置的罐或容器32，其具有与其联接的可旋转叶片组件34。类似于图3的附件，容器32通常包括第一开口端36、第二闭合端38以及在第一端36与第二端40之间延伸的一个或多个侧壁40。侧壁 40与容器32的端部36、38中的一个或多个组合限定容器32的中空内部处理室42。在附件30是当与底座22分离时具有第一构造并当联接到底座22时具有第二反向构造的个人搅拌容器的实施例中，配件(例如，如可旋转叶片组件 34)构造成可移除地联接到容器32的第一开口端36以密封处理室42。容器32 和叶片组件34可以可螺纹地联接在一起；然而，应当理解，本文也考虑了用于可移除地连接容器32和叶片组件34的其它机构。
在各种附接构造中的每一个中，可旋转叶片组件34构造成联接到食品处理系统20的底座22。与至少一个叶片37相关联的从动联接器(未示出)定位在未接收在处理室42内的可旋转叶片组件34的表面上。至少一个驱动联接器26构造成接合从动联接器以使至少一个叶片37围绕轴线X旋转以处理位于附件30的处理室42内的食品。应理解，本文示出和描述的包括容器32和可旋转叶片组件34的附件30仅旨在作为实例，且本文也考虑了其它附件。
在一些实施例中，附件30可包括例如围绕附件30的周边定位的一个或多个接触构件46，例如，如凸片。尽管附图中大体上示出了四个接触构件46，但任何数目的接触构件46都在本实用新型的范围内。在附件30包括容器32 和叶片组件34的实施例中，接触构件46可以从容器32、叶片组件34或这两者向外延伸。
附件30的接触构件46构造成与底座22的安装区域48协作以将附件30 联接到底座22。如图所示，安装区域48包括一个或多个接收槽50，附件30 的多个接触构件46中的每一个可接收在所述接收槽内。附件30可构造成可滑动地连接到食品处理系统20的底座22。备选地或附加地，附件30可构造成可旋转地连接到底座22，使得附件30相对于底座22锁定。然而，应当理解，用于将附件联接到底座22的任何合适的机构都在本公开的范围内。
现在参看图5和10，在实施例中，食品处理系统20可操作以执行真空操作。因此，食品处理系统20的底座22可以另外包括真空系统52，所述真空系统具有能够抽吸真空的机构54，例如，如真空泵。然而，本文考虑了能够抽吸真空的任何机构。构造用于与底座22一起使用的至少一个附件30在附件 30与底座22连接时可操作地联接到真空泵54。在所示非限制性的实施例，真空泵54布置在底座22的一侧56处，例如在其后部，以允许一个或多个附件30具有不同的构造以容易地联接到真空泵54。真空泵54可以可操作地联接到在C处示意性示出的控制器，使得真空泵54由控制器C响应于用户界面28 的一个或多个输入29的致动而操作。
继续参看图5和10，并且现在参看图6-图9和图11-图16，示出了适用于真空操作的各种附件。在所示的图6-图9的非限制性的实施例，示出了适用于执行真空操作的真空附件130的实例。在所示的非限制性的实施例，附件130类似于图3的附件，并且包括尺寸设定成容纳大约72流体盎司的真空容器132。如前文所述，容器132通常包括第一开口端136、第二闭合端138以及在第一端136与第二端138之间延伸以限定容器132的中空内部处理室142的一个或多个侧壁140。
真空附件130还包含盖143，所述盖构造成选择性地联接到容器132的第一开口端136以密封容器132的室142。在实施例中，盖143具有在其中形成的至少一个内室，部分地由壁145限定。如图所示，盖143可包括位于其第一侧152处的第一室150和邻近其第二侧156布置的第二室154。尽管第一室 150和第二室154示出为设置在盖143的相对侧或盖143的相邻侧处，但在盖 143的同一侧形成室150、154的实施例也在本公开的范围内。
在一个实施例中，盖143包括相对于盖143可在第一关闭位置和第二打开位置之间移动的至少一个部件，例如翻板158。当翻板158处于第一关闭位置时，翻板158的面向内部的表面160限定第一室150的上部范围。当盖143固定到容器132的第一开口端136时，第一室150布置成与真空通路162流体连通，这将在下文更详细地描述。因此，第一室150也可以视为真空室。备选地或附加地，第二关闭位置与第二打开位置之间枢转的第二翻片164可操作以操作设置在第二室154内的稍后更详细地描述的释放机构。
容器132还包括真空通路或导管162，当附件130联接到底座22时，所述真空通路或导管构造成流体地连接真空泵54和真空室150。在实施例中，真空通路162的端部166可延伸到真空室150中或与所述真空室直接联接。然而，由于真空室150设置于盖143中，因此在其它实施例中，真空通路162不延伸超过容器132的端部138。因此，真空通路162的一部分可至少部分地由盖143限定。
真空通路162可具有如图7所示的大体线性构造，或备选地，可以具有在其中形成的一个或多个弯部或角。因为真空泵54位于底座22的侧面56处，所以构造成与底座22的表面邻接以流体地联接到真空泵54的真空通路162的远端168与容器132的对应侧相似地相邻定位。在实施例中，真空系统52的一部分邻近底座22的上表面58布置。因此，真空通路162的远端168可以从容器132的第一端136垂直地偏移。然而，这里也考虑了真空通路162的远端168与容器132的第一端136对准的实施例。
真空附件230的另一个实例在图10-图15中示出。示出了具有类似于图4 的倒置的罐或容器的构造的真空附件230。附件230包括倒置的罐或容器232，其包括第一开口端236、第二封闭端238以及在第一端236与第二端238之间延伸以限定容器232的中空处理室242的一个或多个侧壁240。例如如先前描述的可旋转叶片组件的配件能够连接到容器232的第一开口端236，并且当容器232安装在底座22周围时构造成联接到底座22的驱动单元。附件230大体上在与底座22分离时具有第一构造，并且在联接到底座22时具有第二倒置构造。
在所示的非限制性的实施例中，容器232包括设置在第一端236与第二端 238之间的位置处的内壁245。在所示非限制性实施例中，内壁245密封处理室242但从容器232的第二端238偏移。覆盖件258在内壁245与容器232的第二端238之间的位置处从内壁245垂直地偏移。覆盖件258可永久性地固定到容器232，或者备选地，可能够在关闭位置与打开位置之间相对于内壁245 移动(例如，枢转)。在实施例中，覆盖件258从位于内壁245的中心部分处的凸起259延伸到侧壁240的内表面261。垫圈或密封件263可安装到覆盖件 258，并且构造成接触侧壁240的内表面261和内壁245以在其间形成气密密封。内壁245、邻近侧壁240和覆盖件258一起协作以限定从周围大气密封并与处理室242分离的真空室250。
容器132还包括真空通路或导管262，当附件230联接到底座22时，所述真空通路或导管构造成流体地连接真空泵54和真空室250。真空通路262 可具有如图12所示的大体线性构造，或者备选地，可具有形成于其中的一个或多个弯部或角(参见图15)。因为真空泵54位于底座22的侧面56处，所以构造成与底座22的表面邻接以流体地联接到真空泵54的真空通路162的远端 168与容器232的对应侧相似地相邻定位。类似于附件130，由于真空系统52相对于底座22定位，真空通路262的远端268可从容器232的第一端236垂直偏移。然而，在本文中也考虑了真空通路162的第一端164与容器132的第一端136对准的实施例。
现在参考真空附件130、230，在实施例，真空通路162、262与本体(例如容器132、232的侧壁140、240)一体地形成。如图11中最佳示出，真空通路162、262嵌入容器132、232的侧壁140、240内。然而，在其它实施例中，真空通路162、262可布置在容器32的外部处。在此实施例中，真空通路 162、262可至少部分地由容器132、232的侧壁140、240限定，或备选地，可以与侧壁140、240完全分开。在此类实施例中，真空通路162、262可例如通过增材制造、包覆模制、插入模制或注塑模制工艺与容器132、232一起形成。
在其它实施例中，次级结构170、270固定到容器132、232的侧壁140、 240以限定真空通路162的一部分。次级结构170、270可以由相同材料形成，或者备选地与容器132、232的材料不同的材料形成。在实施例(最佳地在图 12中示出)中，次级结构270经由包覆模制或插入模制工艺与容器232一体地形成。在图13、图14A和图14B中所示的另一个实施例中，次级结构270 是模制或挤出的硅树脂通道，并且通道的边缘密封到容器232的侧壁240，使得食物不能在侧壁240与通道270之间的界面处倒入或卡住。通道270可进一步包括形成真空通路262的至少一部分的刚性管272(参见图13)。然而，在本文中还考虑了硅树脂通道270的轮廓设定为限定在通道270与容器232的侧壁240之间的真空通路262。另外，虽然次级结构270描述为硅树脂通道，但应理解，任何合适的材料在本公开的范围内。在图15的非限制性的实施例，次级结构270经由感应焊接固定到容器232。
应理解，具有任何构造的任何次级结构170、270可使用本文所述连接过程中的任一个或任何其它合适的过程固定到容器132、232或与所述容器一体地形成。无论第二结构170、270的材料和/或用于连接次级结构170、270与容器132、232的制造工艺如何，包覆真空通路162、262的一部分的次级结构 170、270的至少一部分与容器132、232的相邻侧壁140、240齐平且通常形成平滑过渡。
现参考图18，在实施例，真空通路162、262的至少一部分位于容器132、 232的内部。如图所示，真空通路162、262延伸穿过处理室142、242，使得真空通路162、262在处理室142、242的高度上与处理室142、242保持隔离。因此，容器132、232的外表面通过真空通路162、262的存在而大体是平滑的且不改变的。此外，在一些实施例中，真空通路162、262可延伸超出构造成连接到食品处理底座22的容器132、232的端部。尽管真空通路162、262示为布置在侧壁140、240的内表面241处，但应理解，真空通路162、262可布置在处理室142、242内的任何位置处。此外，真空通路162、262可与容器 132、232的侧壁140、240的内部241一体地形成，或者备选地，可以由连接到侧壁140、240的表面241的次级结构(未示出)包覆。还应当理解，仅真空通路162、262的一部分布置在处理室142、242内的实施例和其中真空通路162、262的仅一部分位于处理室142、242外部的实施例也在本公开的范围内。
另外，取决于真空通路162、262的端部相对于可连接到食品处理底座22 的容器132、232的相邻端部的位置，在容器232是个人搅拌容器的实施例中，流体通道可形成于构造成联接到232的端部236的一个或多个配件中。形成于例如可旋转叶片组件34的配件中的流体通道将将容器232的真空通路262联接到食品处理底座22内的真空系统52。然而，在本文中还考虑了真空通路的端部从处理室242的开口端偏移的实施例。
如图18中最佳示出，在容器32为个人搅拌器容器232的实施例中，配件 34(例如，如可旋转叶片组件)构造成联接到容器232的开口端236。配件34 内的流体通道78构造成在每次配件34联接到容器232时与容器232中的真空通路262形成密封。为了确保此对准和密封，配件34可具有多部分构造。在所示非限制性实施例，配件34包括限定流体通道78的静止内部部分280和可旋转外部部分282，所述可旋转外部部分可相对于内部部分280和容器232旋转以将配件34选择性地联接到容器232的开口端236。尽管配件34的外部部分282在本文中示出和描述为经由螺纹接合联接到容器232，但其它连接机构也在本公开的范围内。
现在参考图9-图10和图16-图17，每个真空附件，如倒置真空罐230和真空瓶状体130包括分别位于处理室142、242与真空室150、250之间的界面处的真空密封组件300，其位于真空室150、250内。现参考图16-图17，更详细地示出了真空密封组件300的实例。更确切地说，真空密封组件300可形成于将处理室142、242与真空室150、250分离的壁中。因此，相对于倒置的真空罐230，真空密封组件300可位于内壁145处，并且在真空瓶状体130的实施例中，真空密封组件300布置在盖143的壁145处。通过在每个附件的这个位置处布置真空密封组件300，当真空附件130、230联接至食品处理系统 20的底座22时，真空密封组件300可容易地由用户取用。然而，在其它实施例中，真空密封组件300可位于围绕真空附件130、230的另一个位置处。
真空密封组件300包括伞阀302，其具有延伸穿过形成于壁145、245中的主室开口306的阀杆304，以及大体垂直于阀杆304延伸的凸缘308。如图所示，阀杆304的远端310的一个或多个尺寸大于主室开口306，以分别限制伞阀302相对于容器或盖的移动。通过阀杆304与主室开口306之间的接合，限制了通过主室开口306的来自容器132、232的内部处理室142、242的流体或食物颗粒流。伞阀302的凸缘308的尺寸可以设定成使得凸缘308的一部分，如凸缘308的外围附近，与形成于壁145、245中的至少一个次级室开口312 重叠布置。备选地或附加地，阀杆304的侧壁可以轮廓设定成类似地与至少一个次级开口室312重叠。在实施例中，在正常条件下，阀杆304密封主室开口 306和至少一个次级室开口312两者以防止流体和/或食物颗粒流过其中。然而，在本文中还考虑了凸缘308可操作成密封至少一个次级室开口312的实施例。在倒置的真空罐230中使用的伞阀302的构造可以与在真空瓶状体130中使用的伞阀302的构造相同或备选地不同。
在真空操作期间，当附件130、230安装到底座22且真空通路162、262 可操作地联接到真空系统52时，真空机构54产生负压，所述负压施加到伞阀 302的暴露表面。所产生的负压将引起凸缘308的外围部分仅足够远离次级室开口312以允许处理室142、242内的空气在其中抽吸。一旦真空机构54的操作停止并且移除负载，凸缘308的外围部分将偏置回到其原始位置中以密封次级室开口312。此偏置可为诸如硅树脂的弹性材料的结果，例如形成伞阀302 的硅树脂。备选地，偏置机构(未示出)可用于便于凸缘308的移动回到密封位置。真空操作可在食品已设置于室142、242内但在进行食品处理操作之前执行。在另一个实施例中，在执行食品处理操作的性能之后，启动真空操作以在室142、242内抽吸真空。在搅拌操作之后形成真空可用于增加附件130、 230内的食品的保质期或储存期。
在实施例中，食品处理系统20可包括传感器S，其可操作以检测附件 130、230内的压力。在实施例中，传感器S位于真空通路162、262或真空室150、250内。然而，在其它实施例中，传感器S可以位于处理室142、242内。控制器C构造成响应于由传感器S测得的压力而操作真空机构54。在实施例，目标负压与由食品处理系统20执行的真空操作相关联。目标压力可基于一个或多个参数而变化，包括但不限于连接到食品处理底座22的附件30的类型和处理室142、242内的材料体积。在实施例中，一旦由传感器S测量且传达到控制器C的压力等于目标压力，控制器C就可停止真空机构54的操作。
备选地，控制器C可配置成在检测到目标压力之后连续地或间歇地操作真空机构54。在实施例中，控制器C可配置成在真空室150、250和/或真空通路162、262内的压力等于目标压力之后的固定量时间内操作真空机构54。例如，在已在附件130、230内检测到目标压力之后，控制器C可以操作真空机构54另外十秒。在其它实施例中，控制器C可以操作真空机构54，直到实现大于第一目标压力的第二目标负压。因为需要给定量的压力来移动真空密封组件300以流体联接真空室150、250和处理室142、242，所以真空室150、 250内的压力可与处理室142、242内的压力不同，例如更大负压。当传感器S 检测到压力已达到第一目标压力(例如，如-80kpa)时，处理室142、242内的压力实际上可以比第一目标压力小(例如，如-60kpa)。因此，对真空机构 54的操作持续另外的时间段或直到已达到第二目标压力可补偿操作真空密封组件300所需的压力，以实现处理室142/242内的第一目标压力。尽管在本文中将真空机构54的继续操作描述为基于时间或第二阈值确定，但是在处理室 142、242内实现所需压力的真空机构的任何合适控制在本公开的范围内。
真空附件130、230还包括释放机构320，所述释放机构可操作成经由释放路径将容器132、232的处理室142、242通风至环境，从而破坏形成于其中的真空。释放机构320类似地安装在附件130、230的位置处，所述位置易于用户接近。如图所示，释放机构320远离真空密封组件300定位且不连接到所述真空密封组件。然而，应理解，释放机构320直接或间接联接到真空密封组件300的实施例也在本公开的范围内。关于倒置的真空缸230，释放机构320安装在容器232的暴露的第二端238处。关于真空瓶状体130，释放机构320 可安装在形成于盖143中的第二室154内。
在图16-图17中更详细地示出了释放机构320的实例。在所示的非限制性实施例中，释放机构320包括具有安装到其端部的密封构件324的连接器322。释放机构320还包括致动器326，所述致动器经由限定致动器326的枢轴轴线的销328可枢转地联接到连接器322。在实施例中，凸轮杠杆330从连接器 322朝向致动器326延伸。当释放机构320处于未致动状态时，密封构件324 与流体连接到处理室142、242的邻近开口332接合。偏置构件334(例如，如螺旋弹簧)可联接到连接器322以使密封构件324偏置成与开口332接合以形成气密且液密的密封件。
为了致动释放机构320，致动器326围绕销328的轴线枢转。该移动克服了偏置构件334的偏置并且还向连接器322的凸轮杠杆330施加了力，并且围绕销328的凸轮移动引起连接器322和密封构件324垂直地移动并且不与开口 332接合。连接器322这样移出与开口332接合允许环境空气流过释放路径，即在容器132、232的外部之间通过暴露开口332且进入处理室142、242。在实施例的真空瓶状体130中，盖143中形成的翻片158用作致动器326，以选择性地操作释放机构320并且破坏容器132的处理室142内的真空。在从致动器326移除力后，偏置构件334将使机构320偏置回其原始位置，从而密封开口332。尽管本文中示出和描述了可枢转操作的释放机构320，但应理解，可通过拉动运动、扭转运动或其它合适运动将密封构件324与开口332分离来操作的释放机构也在本公开的范围内。此外，应理解，其它机构(如伞阀或鸭嘴阀)或任何合适的移动也可用于选择性地破坏室142、242中的真空。
在已在容器132、232的处理室142、242内生成真空之后，很难(如果并非不可能)移除配件(例如，如叶片组件或盖143)，并且由于作用在其上的力而接近处理室142、242内的食品。因此，用户应首先通过接近容器132、 232的内部处理室142、242内的内容物之前操作释放机构320，来破坏容器 132、232内的真空。
如本文所示和所述的真空容器132、232在食品处理操作之前与真空机构 54结合使用时，可提供具有增加的维生素(特别是维生素C)保持力的食品。在搅拌过程期间暴露于氧气可引起容器132、232内的成分降解。通过从容器 132、232中去除氧气，减少了处理的成分的营养特性的总体降解。
本文中所引用的所有参考文献，包含公开案、专利申请和专利，特此以引用的方式并入本文中，其引用程度就如同每一参考文献单独地并且专门指示为以引用的方式并入并在本文中整体阐述一般。
除非本文中另外指明或与上下文明显相矛盾，否则在描述本实用新型的上下文中(尤其在所附权利要求书的上下文中)使用术语“一个”、“一种”和“所述”以及类似指示物应解释为涵盖单数和复数。除非另外指出，否则术语“包括”、“具有”、“包含”和“含有”应理解为开放式术语(即，意指“包含但不限于”)。除非在本文中另外指示，否则对本文中值范围的叙述仅旨在充当分别提及属于所述范围的每个单独值的速记方法，并且每个单独值并入本说明书中，如同在本文中对其分别进行叙述一般。除非在本文中另有说明或另外明显与上下文相矛盾，否则本文所描述的所有方法可按任何适合的次序执行。除非另外要求，否则本文提供的任何和所有实例或示例性语言(例如“诸如”) 的使用仅旨在更好地阐明本实用新型，并且不对本实用新型的范围构成限制。说明书中的任何语言都不应解释为指示任何未要求保护的要素对于实施本实用新型必不可少。
本文描述了本实用新型的示例性实施例，包括发明人已知的用于实施本实用新型的最佳模式。在阅读前面的描述后，这些实施例的变化对于所属领域的技术人员而言将变得显而易见。发明人期望熟练的技术人员适当地采用这样的变型，并且发明人希望以不同于本文具体描述的方式来实践本实用新型。因此，本实用新型包括适用法律所允许的所附权利要求书中所述主题的所有修改和等同物。而且，除非本文另外指出或与上下文明显矛盾，否则本实用新型涵盖上述元件在其所有可能的变化中的任何组合。

Claims (72)

1.一种与食品处理系统一起使用的附件，其特征在于，所述附件包括：
可密封本体，所述可密封本体包括壁和处理室；
室开口，所述室开口形成于所述可密封本体中；以及
真空通路，所述真空通路布置成与所述室开口流体连通，所述真空通路与所述可密封本体的所述壁和所述处理室中的至少一个相关联。
2.根据权利要求1所述的附件，其特征在于，所述真空通路的一部分至少部分地由所述壁限定。
3.根据权利要求1所述的附件，其特征在于，所述真空通路的一部分与所述可密封本体的所述壁一体地形成。
4.根据权利要求1所述的附件，其特征在于，所述真空通路布置在所述可密封本体的一侧处，在所述壁和所述处理室外部。
5.根据权利要求4所述的附件，其特征在于，所述附件还包括连接到所述壁的次级结构，其中所述次级结构和所述壁协作以限定所述真空通路的至少一部分。
6.根据权利要求5所述的附件，其特征在于，所述次级结构包覆模制到所述壁。
7.根据权利要求5所述的附件，其特征在于，所述次级结构是模制通道。
8.根据权利要求5所述的附件，其特征在于，所述次级结构是挤制通道。
9.根据权利要求5所述的附件，其特征在于，所述次级结构经由感应焊接固定到所述壁。
10.根据权利要求5所述的附件，其特征在于，所述次级结构与所述壁形成无缝界面。
11.根据权利要求10所述的附件，其特征在于，所述次级结构的至少一部分与所述壁的相邻表面齐平。
12.根据权利要求1所述的附件，其特征在于，所述真空通路的一部分延伸穿过所述处理室。
13.根据权利要求12所述的附件，其特征在于，所述真空通路的所述部分安装到所述壁的内表面。
14.根据权利要求1所述的附件，其特征在于，所述真空通路至少部分地由刚性管限定。
15.根据权利要求1所述的附件，其特征在于，所述附件还包括连接到所述真空通路和所述室开口的真空室。
16.根据权利要求15所述的附件，其特征在于，所述附件还包括安装到所述可密封本体的覆盖件，其中所述覆盖件和所述可密封本体协作以限定所述真空室。
17.根据权利要求15所述的附件，其特征在于，所述附件还包括盖，其中所述真空室限定在所述盖内。
18.根据权利要求15所述的附件，其特征在于，所述附件还包括布置在所述室开口内的真空密封组件。
19.根据权利要求15所述的附件，其特征在于，所述附件还包括与所述处理室相关联的释放机构，其中所述释放机构可移动以将所述处理室流体联接到所述可密封本体外部的周围大气。
20.根据权利要求1所述的附件，其特征在于，所述可密封本体在与所述食品处理系统的包括真空系统的食品处理底座分离时具有第一定向并且在连接到所述食品处理底座时具有第二定向。
21.根据权利要求1所述的附件，其特征在于，所述可密封本体在与所述食品处理系统的包括真空系统的食品处理底座分离时以及在连接到所述食品处理底座时具有第一定向。
22.一种食品处理系统，其特征在于，包括：
包括真空系统的食品处理底座；以及
附件，所述附件构造成与所述食品处理底座可移除地关联，所述附件包括：
可密封本体，所述可密封本体包括壁和处理室；
室开口，所述室开口形成于所述可密封本体中；以及
真空通路，所述真空通路布置成与所述室开口流体连通，所述真空通路与所述可密封本体的所述壁和所述处理室中的至少一个相关联，其中当所述附件围绕所述食品处理底座安装时，所述真空通路流体地连接到所述真空系统。
23.根据权利要求22所述的食品处理系统，其特征在于，所述真空系统邻近所述食品处理底座的第一侧布置，并且当安装到所述食品处理底座时，所述真空通路与所述食品处理底座的所述第一侧对准。
24.根据权利要求22所述的食品处理系统，其特征在于，所述真空通路的一部分至少部分地由所述壁限定。
25.根据权利要求24所述的食品处理系统，其特征在于，所述真空通路的一部分与所述可密封本体的所述壁一体地形成。
26.根据权利要求22所述的食品处理系统，其特征在于，所述真空通路布置在所述可密封本体的一侧处，在所述壁和所述处理室外部。
27.根据权利要求26所述的食品处理系统，其特征在于，所述可密封本体包括连接到所述壁的次级结构，其中所述次级结构和所述壁协作以限定所述真空通路的至少一部分。
28.根据权利要求27所述的食品处理系统，其特征在于，所述次级结构包覆模制到所述壁。
29.根据权利要求27所述的食品处理系统，其特征在于，所述次级结构是模制通道。
30.根据权利要求27所述的食品处理系统，其特征在于，所述次级结构是挤制通道。
31.根据权利要求27所述的食品处理系统，其特征在于，所述次级结构经由感应焊接固定到所述壁。
32.根据权利要求27所述的食品处理系统，其特征在于，所述次级结构与所述壁形成无缝界面。
33.根据权利要求32所述的食品处理系统，其特征在于，所述次级结构的至少一部分与所述壁的相邻表面齐平。
34.根据权利要求23所述的食品处理系统，其特征在于，所述真空通路的一部分延伸穿过所述处理室。
35.根据权利要求34所述的食品处理系统，其特征在于，所述真空通路的所述部分安装到所述壁的内表面。
36.根据权利要求23所述的食品处理系统，其特征在于，所述真空通路至少部分地由刚性管限定。
37.根据权利要求23所述的食品处理系统，其特征在于，所述食品处理系统还包括连接到所述真空通路和所述室开口的真空室。
38.根据权利要求37所述的食品处理系统，其特征在于，所述食品处理系统还包括安装到所述可密封本体的覆盖件，其中所述覆盖件和所述可密封本体协作以限定所述真空室。
39.根据权利要求38所述的食品处理系统，其特征在于，所述食品处理系统还包括盖，其中所述真空室限定在所述盖内。
40.根据权利要求23所述的食品处理系统，其特征在于，所述食品处理系统还包括布置在所述室开口内的真空密封组件。
41.根据权利要求23所述的食品处理系统，其特征在于，所述食品处理系统还包括与所述处理室相关联的释放机构，其中所述释放机构可移动以将所述处理室流体联接到所述可密封本体外部的周围大气。
42.根据权利要求23所述的食品处理系统，其特征在于，所述可密封本体在与所述食品处理底座分离时具有第一定向并且在连接到所述食品处理底座时具有第二定向。
43.一种与食品处理系统一起使用的附件，其特征在于，所述附件包括：
可密封本体，所述可密封本体包括处理室；
真空路径，所述真空路径从所述处理室延伸穿过所述可密封本体的至少一部分；以及
释放路径，所述释放路径从所述处理室延伸到所述可密封本体的外部，其中所述真空路径与所述释放路径分离。
44.根据权利要求43所述的附件，其特征在于，所述真空路径还包括真空室和真空通路，所述真空通路与所述可密封本体成一体。
45.根据权利要求44所述的附件，其特征在于，所述附件还包括安装到所述可密封本体的覆盖件，其中所述覆盖件和所述可密封本体协作以限定所述真空室。
46.根据权利要求44所述的附件，其特征在于，所述附件还包括可连接到所述可密封本体的开口端以密封所述处理室的盖，其中所述真空室限定在所述盖内。
47.根据权利要求44所述的附件，其特征在于，所述附件还包括：
室开口，所述室开口将所述处理室连接到所述真空室；以及
真空密封组件，所述真空密封组件布置在所述室开口内。
48.根据权利要求47所述的附件，其特征在于，所述释放路径包括形成于限定所述处理室的端部的壁中的释放开口。
49.根据权利要求48所述的附件，其特征在于，所述附件还包括与所述释放开口相关联的释放机构，所述释放开口是可移动的以将所述处理室联接到所述可密封本体外部的周围大气。
50.根据权利要求49所述的附件，其特征在于，所述真空密封组件和所述释放机构能够独立地操作。
51.一种食品处理系统，其特征在于，包括：
包括真空系统的食品处理底座；以及
附件，所述附件构造成与所述食品处理底座可移除地关联，所述附件包括：
可密封本体，所述可密封本体包括处理室；
真空路径，所述真空路径从所述处理室延伸通过所述可密封本体的至少一部分，其中所述附件的所述真空路径布置成当所述附件连接到所述食品处理底座时与所述真空系统流体连通；以及
释放路径，所述释放路径从所述处理室延伸到所述可密封本体的外部，其中所述真空路径与所述释放路径分离。
52.根据权利要求51所述的食品处理系统，其特征在于，所述真空路径还包括真空室和真空通路，所述真空通路与所述可密封本体成一体。
53.根据权利要求52所述的食品处理系统，其特征在于，所述食品处理系统还包括安装到所述可密封本体的覆盖件，其中所述覆盖件和所述可密封本体协作以限定所述真空室。
54.根据权利要求53所述的食品处理系统，其特征在于，所述食品处理系统还包括可连接到所述可密封本体的开口端以密封所述处理室的盖，其中所述真空室限定在所述盖内。
55.根据权利要求53所述的食品处理系统，其特征在于，所述真空路径还包括将所述处理室连接到所述真空室的室开口。
56.根据权利要求55所述的食品处理系统，其特征在于，所述食品处理系统还包括布置在所述室开口内的真空密封组件。
57.根据权利要求51所述的食品处理系统，其特征在于，所述释放路径还包括形成于限定所述处理室的端部的壁中的释放开口。
58.根据权利要求57所述的食品处理系统，其特征在于，所述食品处理系统还包括与所述释放开口相关联的释放机构，所述释放开口是可移动的以将所述处理室联接到所述可密封本体外部的周围大气。
59.根据权利要求51所述的食品处理系统，其特征在于，所述真空路径包括可移动真空密封组件，并且所述释放路径包括可移动释放机构，所述真空密封组件和所述释放机构能够独立操作。
60.一种用于与食品处理系统一起使用的附接组件，其特征在于，所述附接组件包括：
容器，所述容器具有处理室，所述处理室包括开口端；
配件，所述配件能够连接到所述容器的所述开口端以密封所述处理室；以及
真空通路，所述真空通路具有入口和出口，其中所述入口布置成与所述处理室流体连通，并且所述出口位于与所述配件分离的所述容器的区域处。
61.根据权利要求60所述的附接组件，其特征在于，所述出口从所述容器的所述开口端垂直地偏移。
62.根据权利要求60所述的附接组件，其特征在于，所述真空通路与所述容器的壁和所述处理室中的至少一个相关联。
63.根据权利要求62所述的附接组件，其特征在于，所述真空通路的一部分与所述壁一体地形成。
64.根据权利要求62所述的附接组件，其特征在于，所述真空通路布置在所述容器的一侧处，在所述壁和所述处理室外部。
65.根据权利要求62所述的附接组件，其特征在于，所述附接组件还包括连接到所述壁的次级结构，其中所述次级结构和所述壁协作以限定所述真空通路的至少一部分。
66.根据权利要求65所述的附接组件，其特征在于，所述次级结构与所述壁形成无缝界面。
67.根据权利要求65所述的附接组件，其特征在于，所述次级结构的至少一部分与所述壁的相邻表面齐平。
68.根据权利要求60所述的附接组件，其特征在于，所述真空通路至少部分地由刚性管限定。
69.根据权利要求60所述的附接组件，其特征在于，所述容器在与所述食品处理系统的包括真空系统的食品处理底座分离时以及在连接到所述食品处理底座时具有第一定向。
70.根据权利要求69所述的附接组件，其特征在于，所述配件是盖。
71.根据权利要求60所述的附接组件，其特征在于，所述容器在与所述食品处理系统的包括真空系统的食品处理底座分离时具有第一定向并且在连接到所述食品处理底座时具有第二定向。
72.根据权利要求71所述的附接组件，其特征在于，所述配件是可旋转叶片组件。
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