Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

CN211928360U - 显示装置 - Google Patents

显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN211928360U
CN211928360U CN202020950733.2U CN202020950733U CN211928360U CN 211928360 U CN211928360 U CN 211928360U CN 202020950733 U CN202020950733 U CN 202020950733U CN 211928360 U CN211928360 U CN 211928360U
Authority
CN
China
Prior art keywords
substrate
sub
spacer
pixels
spacers
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202020950733.2U
Other languages
English (en)
Inventor
王孟杰
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Beijing BOE Display Technology Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Beijing BOE Display Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd, Beijing BOE Display Technology Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN202020950733.2U priority Critical patent/CN211928360U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN211928360U publication Critical patent/CN211928360U/zh
Priority to US17/765,429 priority patent/US20220365384A1/en
Priority to PCT/CN2021/086799 priority patent/WO2021238467A1/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13396—Spacers having different sizes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13398—Spacer materials; Spacer properties
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343—Electrodes
    • G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
    • G02F1/134345—Subdivided pixels, e.g. for grey scale or redundancy
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136286—Wiring, e.g. gate line, drain line
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/1368—Active matrix addressed cells in which the switching element is a three-electrode device
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/12—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
    • H01L27/1214—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
    • H01L27/124—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs with a particular composition, shape or layout of the wiring layers specially adapted to the circuit arrangement, e.g. scanning lines in LCD pixel circuits
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343—Electrodes
    • G02F1/13439—Electrodes characterised by their electrical, optical, physical properties; materials therefor; method of making

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

本公开的实施例提供一种显示装置，涉及显示技术领域，可提高显示装置的抗压能力。所述显示装置包括阵列基板和与所述阵列基板相对设置的对置基板。所述阵列基板包括第一衬底和和设置于所述第一衬底上且呈阵列排布的多个亚像素。所述对置基板包括第二衬底和设置于所述第二衬底靠近所述阵列基板一侧的多个第一隔垫物。其中，第一隔垫物在所述阵列基板上的正投影，位于相邻两行亚像素之间的区域与相邻两列亚像素之间的区域相交叉的区域内。

Description

显示装置
技术领域
本公开涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示装置。
背景技术
近年来，随着显示技术的进步，用户观感体验的要求越来越高。其中，液晶显示技术已经成功应用于笔记本电脑、显示屏、电视等显示产品中。随着液晶显示产品的拥有量的增大，人们对液晶产品的显示品质也提出了更高的要求。
实用新型内容
本公开的实施例提供一种显示装置，可提高显示装置的抗压能力。
为达到上述目的，本公开的实施例采用如下技术方案：
提供一种显示装置。所述显示装置包括阵列基板和与所述阵列基板相对设置的对置基板。所述阵列基板包括第一衬底和和设置于所述第一衬底上且呈阵列排布的多个亚像素。所述对置基板包括第二衬底和设置于所述第二衬底靠近所述阵列基板一侧的多个第一隔垫物。其中，第一隔垫物在所述阵列基板上的正投影，位于相邻两行亚像素之间的区域与相邻两列亚像素之间的区域相交叉的区域内。
在一些实施例中，所述对置基板还包括多个第二隔垫物。第二隔垫物在所述第二衬底上的正投影与所述第一隔垫物在所述第二衬底上的正投影无交叠；所述多个第二隔垫物排列成多列，每列第二隔垫物沿所述多个亚像素排列的列方向排列；每列所述第二隔垫物在所述阵列基板上的正投影，位于一列亚像素所在的列区域内。
在一些实施例中，所述多个第二隔垫物与所述多个第一隔垫物同层设置。
在一些实施例中，在垂直于所述第二衬底的方向上，所述第一隔垫物的尺寸和所述第二隔垫物的尺寸相同或大致相同。
在一些实施例中，在所述阵列基板的1mm2的单位面积内，第一隔垫物远离所述第二衬底一侧的表面的面积和第二隔垫物远离所述第二衬底一侧的表面的面积之和大于10000μm2。
在一些实施例中，所述对置基板还包括设置于所述第一隔垫物靠近所述第二衬底一侧的多个滤光图案。一个滤光图案在所述阵列基板上的正投影覆盖一列亚像素，一个第一隔垫物在所述第二衬底上的正投影位于一个滤光图案所在范围内。在垂直于所述滤光图案的延伸方向上，在所述第一隔垫物所在位置处，所述滤光图案具有凸出部分。所述第一隔垫物在所述第二衬底上的正投影的边缘，位于所述滤光图案的凸出部分的边缘的内侧。在所述对置基板包括第二隔垫物的情况下，所述凸出部分在所述第二衬底上的正投影与所述第二隔垫物在所述第二衬底上的正投影无交叠。
在一些实施例中，所述多个滤光图案中，与所述凸出部分相邻的滤光图案具有凹陷部分。所述凸出部分延伸至所述凹陷部分内。
在一些实施例中，所述阵列基板还包括设置于所述第一衬底上的多条栅线。至少一条栅线位于相邻两行亚像素之间。所述第一隔垫物在所述阵列基板上的正投影与栅线有交叠区域。在所述对置基板包括多个第二隔垫物的情况下，所述第二隔垫物在所述阵列基板上的正投影与栅线有交叠区域。
在一些实施例中，沿亚像素排列的列方向，所述栅线具有凸出部分。在所述对置基板包括多个第二隔垫物的情况下，所述第二隔垫物在所述阵列基板上的正投影，位于所述栅线的凸出部分所在区域内。
在一些实施例中，沿亚像素排列的列方向，所述栅线的凸出部分朝向远离与该栅线耦接的一行亚像素的一侧凸出。
在一些实施例中，相邻两行亚像素之间设置有两条栅线。沿亚像素排列的列方向，一行亚像素中的相邻两个亚像素中，一个亚像素所耦接的栅线，位于该行亚像素在所述列方向上相对两侧中的一侧；另一个亚像素所耦接的栅线，位于该行亚像素在所述列方向上相对两侧中的另一侧。
在一些实施例中，在所述对置基板包括多个第二隔垫物的情况下，在相邻两行亚像素之间的区域内，相邻两个第二隔垫物中的一个第二隔垫物在所述阵列基板上的正投影，与所述两条栅线中的一条栅线有交叠区域；相邻两个第二隔垫物中的另一个第二隔垫物在所述阵列基板上的正投影，与所述两条栅线中的另一条栅线有交叠区域。
在一些实施例中，所述阵列基板还包括设置于所述第一衬底上的多条数据线。相邻两列亚像素与一条数据线耦接。
在一些实施例中，所述阵列基板还包括设置于所述第一衬底上的多条公共信号。所述多条公共信号线与所述多条数据线同层设置且延伸方向相同。一条公共信号线位于相邻两列亚像素之间；沿亚像素排列的行方向，一条公共信号线位于相邻两条数据线之间；所述第一隔垫物在所述阵列基板上的正投影与所述公共信号线有交叠区域。
在一些实施例中，所述阵列基板还包括设置于所述亚像素内的薄膜晶体管。沿亚像素排列的列方向，一行亚像素中的相邻两个亚像素中的薄膜晶体管，分别位于该行亚像素在所述列方向上相对的两侧。在一行亚像素在所述列方向上相对的两侧中，位于一侧的薄膜晶体管和与该一侧的薄膜晶体管同侧设置的一条栅线耦接；位于另一侧的薄膜晶体管和与该另一侧的薄膜晶体管同侧设置的一条栅线耦接。
在一些实施例中，在所述对置基板包括多个第二隔垫物的情况下，所述第二隔垫物在所述阵列基板上的正投影与所述薄膜晶体管无交叠。
在一些实施例中，在所述对置基板包括多个第二隔垫物的情况下，一个第二隔垫物在所述阵列基板上的正投影与一个薄膜晶体管重叠。
在一些实施例中，所述阵列基板还包括设置于第一衬底上的多个第一电极。一个第一电极位于一个亚像素内；所述第一电极和所述薄膜晶体管耦接。所述对置基板还包括设置于所述第二衬底上的第二电极。所述第二电极位于所述第一隔垫物靠近所述第二衬底的一侧。
在一些实施例中，所述阵列基板还包括设置于所述第一衬底上、且位于所述亚像素内的第一电极和第二电极。所述第一电极为面电极，所述第二电极为狭缝电极。所述第一电极相对于所述第二电极更靠近所述第一衬底。所述第一电极和所述第二电极中的一者与所述薄膜晶体管耦接。
本公开的实施例提供一种显示装置，通过对置基板中的多个第一隔垫物，第一隔垫物在阵列基板上的正投影，位于相邻两行亚像素之间的区域与相邻两列亚像素之间的区域向相交叉的区域内，使得在显示面板进行按压的情况下，第一隔垫物可以对显示面板起到支撑作用，相比于在相邻两行亚像素之间的区域与相邻两列亚像素之间的区域向相交叉的区域内无隔垫物的情况，增大了隔垫物对显示面板的支撑面积，提高了显示面板的支撑强度，提升了显示面板的抗压能力，从而避免显示面板发生按压不良，提高显示装置的抗压能力。
附图说明
为了更清楚地说明本公开中的技术方案，下面将对本公开一些实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例的附图，对于本领域普通技术人员来讲，还可以根据这些附图获得其他的附图。此外，以下描述中的附图可以视作示意图，并非对本公开实施例所涉及的产品的实际尺寸、方法的实际流程、信号的实际时序等的限制。
图1为根据一些实施例的显示面板的一种结构图；
图2为图1中的显示面板沿A-A’方向的剖视图；
图3为根据一些实施例的显示面板的另一种结构图；
图4为图3中的显示面板沿B-B’方向的剖视图；
图5为图3中的显示面板沿C-C’方向的剖视图；
图6为根据一些实施例的显示面板的又一种结构图；
图7为根据一些实施例的显示面板的又一种结构图；
图8为根据一些实施例的显示面板的又一种结构图；
图9为根据一些实施例的显示装置的一种结构图。
具体实施方式
下面将结合附图，对本公开一些实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本公开一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本公开所提供的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。
除非上下文另有要求，否则，在整个说明书和权利要求书中，术语“包括(comprise)”及其其他形式例如第三人称单数形式“包括(comprises)”和现在分词形式“包括(comprising)”被解释为开放、包含的意思，即为“包含，但不限于”。在说明书的描述中，术语“一个实施例(one embodiment)”、“一些实施例(some embodiments)”、“示例性实施例(exemplary embodiments)”、“示例(example)”、“特定示例(specific example)”或“一些示例(some examples)”等旨在表明与该实施例或示例相关的特定特征、结构、材料或特性包括在本公开的至少一个实施例或示例中。上述术语的示意性表示不一定是指同一实施例或示例。此外，所述的特定特征、结构、材料或特点可以以任何适当方式包括在任何一个或多个实施例或示例中。
以下，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本公开实施例的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
在描述一些实施例时，可能使用了“耦接”和“连接”及其衍伸的表达。例如，描述一些实施例时可能使用了术语“连接”以表明两个或两个以上部件彼此间有直接物理接触或电接触。又如，描述一些实施例时可能使用了术语“耦接”以表明两个或两个以上部件有直接物理接触或电接触。然而，术语“耦接”或“通信耦合(communicatively coupled)”也可能指两个或两个以上部件彼此间并无直接接触，但仍彼此协作或相互作用。这里所公开的实施例并不必然限制于本文内容。
如本文所使用的那样，“约”、“大致”或“近似”包括所阐述的值以及处于特定值的可接受偏差范围内的平均值，其中所述可接受偏差范围如由本领域普通技术人员考虑到正在讨论的测量以及与特定量的测量相关的误差(即，测量系统的局限性)所确定。
本文参照作为理想化示例性附图的剖视图和/或平面图描述了示例性实施方式。在附图中，为了清楚，放大了层和区域的厚度。因此，可设想到由于例如制造技术和/或公差引起的相对于附图的形状的变动。因此，示例性实施方式不应解释为局限于本文示出的区域的形状，而是包括因例如制造而引起的形状偏差。例如，示为矩形的蚀刻区域通常将具有弯曲的特征。因此，附图中所示的区域本质上是示意性的，且它们的形状并非旨在示出设备的区域的实际形状，并且并非旨在限制示例性实施方式的范围。
对显示面板进行按压测试(Pogo测试)，即为将显示面板固定于按压测试的平台上，用按压测试设备的压头对显示面板进行按压(例如压力为50kgf)，保持一段时间后撤去压头，点亮显示面板确认按压现象。发明人发现由于一些显示面板的分辨率较低，PPI(Pixels Per Inch)较低，导致隔垫物的支撑面积不足，使得显示面板的抗压能力较弱，导致显示面板在按压测试后会在按压位置处出现黑斑，且黑斑长时间不消失或消失缓慢，严重影响显示面板的品质。
本公开的实施例提供一种显示装置200，如图9所示，显示装置200包括显示面板100。
如图1和图2所示，显示面板100包括阵列基板10和对置基板20。阵列基板10与对置基板20相对设置。
其中，显示面板100还包括设置于阵列基板10和对置基板20之间的液晶层30。
阵列基板10包括第一衬底101和设置于第一衬底101上的多个亚像素P。多个亚像素P呈阵列排布。
示例性地，如图1所示，沿水平方向X排列成一排的亚像素P称为同一行亚像素，沿竖直方向Y排列成一排的亚像素P称为同一列亚像素。
对置基板20包括第二衬底201和设置于第二衬底201上的多个第一隔垫物210。
其中，第一隔垫物210在阵列基板10上的正投影，位于相邻两行亚像素之间的区域与相邻两列亚像素之间的区域相交叉的区域内。
在此情况下，在对显示面板100进行按压的过程中，第一隔垫物210可以对显示面板100起到支撑作用，相比于在相邻两行亚像素之间的区域与相邻两列亚像素之间的区域向相交叉的区域内无隔垫物的情况，可以提高显示面板100的抗压能力。
因此，本公开的实施例中的显示面板100，通过对置基板20中的多个第一隔垫物210，第一隔垫物210在阵列基板10上的正投影，位于相邻两行亚像素之间的区域与相邻两列亚像素之间的区域向相交叉的区域内，使得在显示面板100进行按压的情况下，第一隔垫物210可以对显示面板100起到支撑作用，相比于在相邻两行亚像素之间的区域与相邻两列亚像素之间的区域向相交叉的区域内无隔垫物的情况，增大了隔垫物对显示面板100的支撑面积，提高了显示面板100的支撑强度，提升了显示面板100的抗压能力，从而避免显示面板100发生按压不良，提高显示装置200的抗压能力。
在一些实施例中，如图1和图2所示，对置基板20还包括多个第二隔垫物220。
第二隔垫物220在第二衬底201上的正投影与第一隔垫物210在第二衬底201上的正投影无交叠。
多个第二隔垫物220排列成多列，每列第二隔垫物沿多个亚像素P排列的列方向排列。每列第二隔垫物220在阵列基板10上的正投影，位于一列亚像素所在的列区域内。
需要说明的是，一列亚像素所在的列区域可以包括一列亚像素中的每个亚像素所在区域和每相邻两行亚像素之间的区域，可以参考图1中的M区域。
示例性地，第二隔垫物220在阵列基板10上的正投影，位于处于同一列且处于相邻两行的两个亚像素之间。
在此情况下，在显示面板100进行按压的情况下，第一隔垫物210和第二隔垫物220可以共同对显示面板100进行支撑，使得显示面板100的支撑面积增大，提高了显示面板100的支撑强度，提升了显示面板100的抗压能力，从而避免显示面板100发生按压不良。
第一隔垫物210和第二隔垫物220均为辅隔垫物，示例性地，本公开实施例中辅隔垫物(包括第一隔垫物210和第二隔垫物220)的分布密度相比于原来辅隔垫物(仅包括第二隔垫物220，不包括第一隔垫物210)的分布密度提升50％。在第一隔垫物210和第二隔垫物220的支撑面积相等的情况下，辅隔垫物(包括第一隔垫物210和第二隔垫物220)的支撑面积相比于原来辅隔垫物(仅包括第二隔垫物220，不包括第一隔垫物210)的支撑面积提升50％。
需要说明的是，在平行于第二衬底201所在平面方向上，第一隔垫物210和与该第一隔垫物210相邻的第二隔垫物220，相互靠近的边缘的间距大于实际生产过程中的工艺能力偏差。这样，可以避免影响因实际工艺误差而影响第一隔垫物210和第二隔垫物220的成膜效果，从而避免影响第一隔垫物210和第二隔垫物220的支撑能力，避免影响显示面板100的抗压能力。
在一些实施例中，多个第二隔垫物220和多个第一隔垫物210同层设置。
多个第二隔垫物220的材料和多个第一隔垫物210的材料相同。
在此情况下，第二隔垫物220和第一隔垫物210同步形成，从而节省工序。
在一些实施例中，在垂直于第二衬底201的方向上，第一隔垫物210的尺寸和第二隔垫物220的尺寸相同或大致相同。
可以理解的是，第一隔垫物210中的靠近阵列基板10的表面和靠近第二衬底201的表面之间的距离，与第二隔垫物220中的靠近阵列基板10的表面和靠近第二衬底201的表面之间的距离相等或大致相等。
在一些实施例中，在阵列基板10的1mm2的单位面积内，第一隔垫物210远离第二衬底201一侧的表面的面积和第二隔垫物220远离第二衬底201一侧的表面的面积之和大于10000μm2。这样一来，可以使得显示面板100的支撑强度增加，从而避免显示面板100出现黑斑或者Mura不良。
需要说明的是，第一隔垫物210在阵列基板10上的正投影的形状和第二隔垫物220在阵列基板10上的正投影的形状可以相同，也可以不相同。例如，可以均为圆形或者六边形等。
其中，第一隔垫物210在阵列基板10上的正投影的面积和第二隔垫物220在阵列基板10上的正投影的面积可以相等，也可以不相等。
在一些实施例中，如图3和图4所示，对置基板20还包括设置于第一隔垫物210靠近第二衬底201一侧的多个滤光图案202。
示例性地，多个滤光图案202包括红色滤光图案、蓝色滤光图案和绿色滤光图案。其中，由红色滤光图案出射的光为红色光，由蓝色滤光图案出射的光为蓝色光，由绿色滤光图案出射的光为绿色光。
一个滤光图案202在阵列基板10上的正投影覆盖一列亚像素。
一个第一隔垫物210在第二衬底201上的正投影位于一个滤光图案202所在范围内。
在垂直于滤光图案202的延伸方向上(即在图3中的水平方向X上)，在第一隔垫物210所在位置处，滤光图案202具有凸出部分T1。第一隔垫物210在第二衬底201上的正投影的边缘，位于滤光图案202的凸出部分T1的边缘的内侧。
在对置基板20包括第二隔垫物220的情况下，凸出部分T1在第二衬底201上的正投影与第二隔垫物220在第二衬底201上的正投影无交叠。
在此情况下，第一隔垫物210的底部位于同一滤光图案202上，而不会跨在相邻的两个滤光图案202上，由于同一滤光图案202相比不同滤光图案202的膜层厚度均匀性好，即第一隔垫物210所在的滤光图案202的凸出部分T1的厚度均匀性较好，因此，第一隔垫物210中的靠近第二衬底201一侧的表面平坦，在显示面板100按压的过程中，第一隔垫物210的受力均匀，从而避免第一隔垫物210损坏(例如出现裂纹)。
需要说明的是，在平行于第二衬底201所在平面方向上，第一隔垫物210与其所在的凸出部分T1相互靠近的边缘的间距、靠近凸出部分T1的第二隔垫物220与凸出部分T1相互靠近的边缘的间距均大于实际生产过程中的工艺能力偏差。这样，可以避免工艺误差导致第一隔垫物210在第二衬底201上的正投影超出滤光图案202的凸出部分T1的边缘的内侧，影响第一隔垫物210中的靠近第二衬底201一侧的表面平坦性的问题，从而避免影响第一隔垫物210的支撑能力，避免影响显示面板100的抗压能力。
在一些实施例中，如图3所示，多个滤光图案202中，与凸出部分T1相邻的滤光图案202具有凹陷部分T2。凸出部分T1延伸至凹陷部分T2内。
需要说明的是，凸出部分T1可以与凹陷部分T2的相靠近的边缘接触且两者之间无间隙。在实际生产工艺中，凸出部分T1可以与凹陷部分T2的相靠近的边缘搭接，或者，凸出部分T1可以与凹陷部分T2的相靠近的边缘存在较小的间隙或者近似无间隙。
其中，在凸出部分T1与凹陷部分T2的相靠近的边缘搭接的情况下，第一隔垫物210在第一衬底101上的正投影与搭接的区域无交叠。在凸出部分T1可以与凹陷部分T2的相靠近的边缘存在间隙的情况下，第一隔垫物210在第一衬底101上的正投影与存在间隙的区域无交叠。可以理解的是，凸出部分T1在阵列基板10上的正投影中，靠近凹陷部分T2的一边缘，与凹陷部分T2在阵列基板10上的正投影中，靠近凸出部分T1的一边缘重合。
在此情况下，一个滤光图案202的凸出部分T1在第二衬底201上的正投影与其他滤光图案202在第二衬底201上的正投影无交叠。一个滤光图案202的凹陷部分T2在第二衬底201上的正投影与其他滤光图案202在第二衬底201上的正投影无交叠。
这样，在滤光图案202的凸出部分T1位置处，相邻滤光图案202具有凹陷部分T2，不会覆盖该凸出部分T1，不会影响凸出部分T1的膜层均匀性，使得凸出部分T1中的各个位置处的厚度均匀。在此情况下，第一隔垫物210中的靠近第二衬底201一侧的表面平坦，在显示面板100按压的过程中，第一隔垫物210的受力均匀，从而避免第一隔垫物210损坏。
在一些实施例中，如图1和图2所示，阵列基板10还包括设置于第一衬底101上的多条栅线GL。至少一条栅线GL位于相邻两行亚像素之间。
第一隔垫物210在阵列基板10上的正投影与栅线GL有交叠区域。
在对置基板20包括多个第二隔垫物220的情况下，第二隔垫物220在阵列基板10上的正投影与栅线GL有交叠区域。
示例性地，栅线GL的材料采用金属材料。
在此情况下，在对显示面板100按压的过程中，第一隔垫物210和第二隔垫物220在靠近阵列基板10的一侧会受到栅线GL的支撑，从而提高第一隔垫物210和第二隔垫物220的支撑效果。
需要说明的是，领域内技术人员可以在保证显示面板100正常显示的条件下，根据栅线GL与相邻亚像素的空间大小，对第二隔垫物220的位置进行设计。例如，沿栅线GL的延伸方向，相邻两个第二隔垫物220错位排列。
在一些实施例中，如图1所示，沿亚像素排列的列方向(即图1中的竖直方向Y)，栅线GL具有凸出部分。
在对置基板20包括多个第二隔垫物220的情况下，第二隔垫物220在阵列基板10上的正投影，位于栅线GL的凸出部分所在区域内。
在此情况下，在按压显示面板100的过程中，第二隔垫物220可以受到栅线GL的凸出部分的支撑，使得第二隔垫物220与阵列基板10的接触面受力均匀，从而避免第二隔垫物220损坏。
需要说明的是，领域内技术人员可以根据栅线GL所在区域的空间大小，设计栅线GL的凸出部分的凸出方向。
在一些实施例中，如图1所示，沿亚像素排列的列方向，栅线GL的凸出部分朝向远离与该栅线GL耦接的一行亚像素的一侧凸出。这样，可以避免栅线GL与亚像素P的间距过小而影响亚像素的出光区域的大小，从而避免影响显示面板100的开口率。
在一些实施例中，如图1所示，相邻两行亚像素之间设置有两条栅线GL。
沿亚像素排列的列方向，一行亚像素中的相邻两个亚像素中，一个亚像素所耦接的栅线GL，位于该行亚像素在列方向上相对两侧中的一侧。另一个亚像素所耦接的栅线GL，位于该行亚像素在列方向上相对两侧中的另一侧。
可以理解的是，一行亚像素与两根栅线GL耦接。例如，一行亚像素的奇数列亚像素与一根栅线GL耦接，偶数列亚像素与另一根栅线GL耦接。
在一些实施例中，如图1所示，在对置基板20包括多个第二隔垫物220的情况下，在相邻两行亚像素之间的区域内，相邻两个第二隔垫物220中的一个第二隔垫物220在阵列基板10上的正投影，与两条栅线GL中的一条栅线GL有交叠区域。相邻两个第二隔垫物220中的另一个第二隔垫物220在阵列基板10上的正投影，与两条栅线GL中的另一条栅线GL有交叠区域。
可以理解的是，在相邻两行亚像素之间的区域内的两条栅线GL分别与该相邻两行亚像素耦接。
需要说明的是，领域内的技术人员可以根据实际情况，考虑栅线GL所在空间大小，对第二隔垫物220的位置进行设置。
示例性地，相邻两个第二隔垫物220在阵列基板10上的正投影，也可以与两条栅线GL中的一条栅线GL有交叠区域，与另一条栅线GL无交叠区域。
在一些实施例中，如图1所示，阵列基板10还包括设置于第一衬底101上的多条数据线DL。相邻两列亚像素与一条数据线DL耦接。
示例性地，将相邻两列亚像素划分为一组，相邻两组亚像素之间设置一条数据线DL。
在一些实施例中，如图1所示，阵列基板10还包括设置于第一衬底101上的多条公共信号线CL。多条公共信号线CL与多条数据线DL的延伸方向相同。一条公共信号线CL位于相邻两列亚像素之间。公共信号线CL被配置为向亚像素传输公共电压信号。
沿亚像素P排列的行方向，一条公共信号线CL位于相邻两条数据线DL之间。
如图1和图2所示，第一隔垫物210在阵列基板10上的正投影与公共信号线CL有交叠区域。
示例性地，将相邻两列亚像素划分为一组，相邻两组亚像素之间设置一条数据线DL，每组亚像素中的两列亚像素之间设置有一条公共信号线CL。
第一隔垫物210在阵列基板10上的正投影，与公共信号线CL和栅线GL的交叉区域有交叠。
在一些实施例中，如图1所示，阵列基板10还包括设置于亚像素P内的薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)。
沿亚像素P排列的列方向，一行亚像素中的相邻两个亚像素中的TFT，分别位于该行亚像素在所述列方向上相对的两侧。
在一行亚像素P在列方向上相对的两侧中，位于一侧的TFT和与该一侧的TFT同侧设置的一条栅线GL耦接。位于另一侧的TFT和与该另一侧的TFT同侧设置的一条栅线GL耦接。
示例性地，如图1所示，在对置基板20包括多个第二隔垫物220的情况下，第二隔垫物220在阵列基板10上的正投影与TFT无交叠。或者，如图6所示，一个第二隔垫物220在阵列基板10上的正投影与一个TFT重叠。
需要说明的是，领域内的技术人员可以根据实际情况，例如，在对置基板20还包括主隔垫物的情况下，根据主隔垫物与第二隔垫物220(即辅助隔垫物)的高度差以及主隔垫物的位置，对第二隔垫物220所在位置进行设计，在此不做限定。
在一些实施例中，如图3所示，阵列基板10还包括设置于第一衬底101上的多个第一电极110。一个第一电极110位于一个亚像素P内。第一电极110和TFT耦接。
其中，第一电极110为像素电极。
如图5所示，对置基板20还包括设置于第二衬底201上的第二电极120。第二电极120位于第一隔垫物210靠近第二衬底201的一侧。
其中，第二电极120为公共电极。
可以理解的是，在对置基板20包括多个滤光图案202的情况下，第二电极120位于滤光图案202远离第衬底201的一侧。
在阵列基板10包括多条公共信号线CL的情况下，第二电极120与公共信号线CL耦接(图中未示出)。
在一些实施例中，如图7所示，阵列基板10还包括设置于第一衬底101上、且位于亚像素P内的第一电极110和第二电极120。
第一电极110为面电极，第二电极120为狭缝电极.
第一电极110相对于第二电极120更靠近第一衬底101。
第一电极110和第二电极120中的一者与TFT耦接。即，第一电极110与TFT耦接，此时，第一电极110为像素电极；或者，第二电极120与TFT耦接，此时，第二电极120为公共电极。
可以理解的是，在阵列基板10包括多条公共信号线CL的情况下，若第一电极110与TFT耦接，则第二电极120与公共信号线CL耦接；或者，若第二电极120与TFT耦接，则第一电极110与公共信号线CL耦接。
另外，在一些实施例中，如图8所示，阵列基板10还包括设置于第一衬底101上的多条公共信号线CL。
多条公共信号线CL与多条栅线DL同层设置且材料相同。
一条公共信号线CL位于一行亚像素所在区域内。公共信号线CL在第一衬底101上的正投影与TFT无交叠。
公共信号线CL具有多个弯折线段，任意相邻两个弯折线段在相互靠近的边缘处通过导电图案耦接，该导电图案与公共电极线CL同层，且导电图案在第一衬底101上的正投影与数据线DL有重叠。一个弯折线段位于一行亚像素中的相邻两个亚像素所在区域内，且一个弯折线段包括依次耦接的五个子线段，其中，最中间的子线段在第一衬底101上的正投影，在栅线GL的延伸方向上的相对两侧的边缘分别位于亚像素内，中间部分位于两个亚像素的间隙区域内。
此外，在一些实施例中，对置基板20还包括设置于第二衬底201上的第三隔垫物。
其中，第三隔垫物作为主隔垫物，在按压显示面板100的过程中对显示面板100进行支撑。第三隔垫物对显示面板100的支撑面积，小于第一隔垫物210和第二隔垫物220整体对显示面板100的支撑面积。
第三隔垫物在阵列基板10上的正投影，位于与第一隔垫物210在阵列基板10上的正投影和第二隔垫物220在阵列基板10上的正投影均无交叠。
在第二衬底201的厚度方向上，第三隔垫物的高度大于或近似等于第二隔垫物220的高度。
示例性地，第一隔垫物210在阵列基板10上的正投影可以位于第二隔垫物220在阵列基板10上的正投影和第三隔垫物在阵列基板10上的正投影之间。
第三隔垫物在阵列基板10上的正投影与TFT有交叠或者处于相邻两行的两个亚像素之间且与栅线GL有交叠，且多个第三隔垫物在阵列基板10上的正投影均匀分布。
需要说明的是，领域内技术人员可以根据实际需要，对第三隔垫物的分布密度和设置位置进行设计。示例性地，阵列基板10包括多个亚像素组，每个亚像素组包括多个亚像素P，每个亚像素组所包括的亚像素P的个数相同，一个第三隔垫物在阵列基板10上的正投影位于一个亚像素组内。
示例性地，在对置基板20包括多个第二隔垫物220的情况下，第二隔垫物220在阵列基板10上的正投影与TFT无交叠，则在对置基板20包括第三隔垫物(即主隔垫物)，且第三隔垫物和第二隔垫物220(即辅助隔垫物)的高度差较小(例如高度差约为0.1μm)的情况下，第三隔垫物在阵列基板10上的正投影与TFT有交叠。这样，可以避免在第三隔垫物(即主隔垫物)和第二隔垫物220(即辅助隔垫物)的高度差较小，且第三隔垫物在阵列基板10上的正投影与TFT有交叠的情况下，若第二隔垫物220在阵列基板10上的正投影与TFT有交叠，则在按压显示面板100的过程中，第二隔垫物220出现过支撑，导致显示面板100出现显示不良(例如显示亮度不均)。
示例性地，在对置基板20包括多个第二隔垫物220的情况下，一个第二隔垫物220在阵列基板10上的正投影与一个TFT重叠，则在对置基板20包括第三隔垫物(即主隔垫物)，且第三隔垫物和第二隔垫物220(即辅助隔垫物)的高度差较大(例如高度差大于0.5μm)的情况下，第三隔垫物在阵列基板10上的正投影与TFT有交叠。这样，可以避免在在对置基板20包括第三隔垫物(即主隔垫物)，且第三隔垫物和第二隔垫物220(即辅助隔垫物)的高度差较大(例如高度差大于0.5μm)的情况下，若第三隔垫物在阵列基板10上的正投影与栅线GL有交叠，则在按压显示面板100的过程中，第三隔垫物支撑能力不足，导致显示面板100抗压能力降低。
此外，如图9所示，显示装置200还包括驱动IC(Driver IC)。驱动IC与显示面板100中的阵列基板10绑定，并与数据线DL耦接。
驱动IC被配置为向数据线DL传输数据信号。
示例性地，上述的显示装置200可以是显示不论运动(例如，视频)还是固定(例如，静止图像)的且不论文字还是的图像的任何装置。更明确地说，预期所述实施例可实施在多种电子装置中或与多种电子装置关联，所述多种电子装置例如(但不限于)移动电话、无线装置、个人数据助理(PDA)、手持式或便携式计算机、GPS接收器/导航器、相机、MP4视频播放器、摄像机、游戏控制台、手表、时钟、计算器、电视监视器、平板显示器、计算机监视器、汽车显示器(例如，里程表显示器等)、导航仪、座舱控制器和/或显示器、相机视图的显示器(例如，车辆中后视相机的显示器)、电子相片、电子广告牌或指示牌、投影仪、建筑结构、包装和美学结构(例如，对于一件珠宝的图像的显示器)等。
以上所述，仅为本公开的具体实施方式，但本公开的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本公开揭露的技术范围内，想到变化或替换，都应涵盖在本公开的保护范围之内。因此，本公开的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (19)

1.一种显示装置，其特征在于，包括：
阵列基板，所述阵列基板包括第一衬底和设置于所述第一衬底上且呈阵列排布的多个亚像素；
对置基板，所述对置基板与所述阵列基板相对设置；所述对置基板包括第二衬底和设置于所述第二衬底靠近所述阵列基板一侧的多个第一隔垫物；
其中，第一隔垫物在所述阵列基板上的正投影，位于相邻两行亚像素之间的区域与相邻两列亚像素之间的区域相交叉的区域内。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述对置基板还包括：多个第二隔垫物；
第二隔垫物在所述第二衬底上的正投影与所述第一隔垫物在所述第二衬底上的正投影无交叠；
所述多个第二隔垫物排列成多列，每列第二隔垫物沿所述多个亚像素排列的列方向排列；每列所述第二隔垫物在所述阵列基板上的正投影，位于一列亚像素所在的列区域内。
3.根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于，所述多个第二隔垫物与所述多个第一隔垫物同层设置。
4.根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于，在垂直于所述第二衬底的方向上，所述第一隔垫物的尺寸和所述第二隔垫物的尺寸相同或大致相同。
5.根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于，在所述阵列基板的1mm2的单位面积内，第一隔垫物远离所述第二衬底一侧的表面的面积和第二隔垫物远离所述第二衬底一侧的表面的面积之和大于10000μm2。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的显示装置，其特征在于，所述对置基板还包括：
设置于所述第一隔垫物靠近所述第二衬底一侧的多个滤光图案；一个滤光图案在所述阵列基板上的正投影覆盖一列亚像素；
一个第一隔垫物在所述第二衬底上的正投影位于一个滤光图案所在范围内；
在垂直于所述滤光图案的延伸方向上，在所述第一隔垫物所在位置处，所述滤光图案具有凸出部分；所述第一隔垫物在所述第二衬底上的正投影的边缘，位于所述滤光图案的凸出部分的边缘的内侧；
在所述对置基板包括第二隔垫物的情况下，所述凸出部分在所述第二衬底上的正投影与所述第二隔垫物在所述第二衬底上的正投影无交叠。
7.根据权利要求6所述的显示装置，其特征在于，所述多个滤光图案中，与所述凸出部分相邻的滤光图案具有凹陷部分；
所述凸出部分延伸至所述凹陷部分内。
8.根据权利要求6所述的显示装置，其特征在于，所述阵列基板还包括：
设置于所述第一衬底上的多条栅线；
至少一条栅线位于相邻两行亚像素之间；
所述第一隔垫物在所述阵列基板上的正投影与栅线有交叠区域；
在所述对置基板包括多个第二隔垫物的情况下，所述第二隔垫物在所述阵列基板上的正投影与栅线有交叠区域。
9.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，沿亚像素排列的列方向，所述栅线具有凸出部分；
在所述对置基板包括多个第二隔垫物的情况下，所述第二隔垫物在所述阵列基板上的正投影，位于所述栅线的凸出部分所在区域内。
10.根据权利要求9所述的显示装置，其特征在于，沿亚像素排列的列方向，所述栅线的凸出部分朝向远离与该栅线耦接的一行亚像素的一侧凸出。
11.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，相邻两行亚像素之间设置有两条栅线；
沿亚像素排列的列方向，一行亚像素中的相邻两个亚像素中，一个亚像素所耦接的栅线，位于该行亚像素在所述列方向上相对两侧中的一侧；另一个亚像素所耦接的栅线，位于该行亚像素在所述列方向上相对两侧中的另一侧。
12.根据权利要求11所述的显示装置，其特征在于，在所述对置基板包括多个第二隔垫物的情况下，在相邻两行亚像素之间的区域内，相邻两个第二隔垫物中的一个第二隔垫物在所述阵列基板上的正投影，与所述两条栅线中的一条栅线有交叠区域；相邻两个第二隔垫物中的另一个第二隔垫物在所述阵列基板上的正投影，与所述两条栅线中的另一条栅线有交叠区域。
13.根据权利要求11所述的显示装置，其特征在于，所述阵列基板还包括：
设置于所述第一衬底上的多条数据线；
相邻两列亚像素与一条数据线耦接。
14.根据权利要求13所述的显示装置，其特征在于，所述阵列基板还包括：
设置于所述第一衬底上的多条公共信号线；
所述多条公共信号线与所述多条数据线同层设置且延伸方向相同；
一条公共信号线位于相邻两列亚像素之间；
沿亚像素排列的行方向，一条公共信号线位于相邻两条数据线之间；
所述第一隔垫物在所述阵列基板上的正投影与所述公共信号线有交叠区域。
15.根据权利要求11所述的显示装置，其特征在于，所述阵列基板还包括：
设置于所述亚像素内的薄膜晶体管；
沿亚像素排列的列方向，一行亚像素中的相邻两个亚像素中的薄膜晶体管，分别位于该行亚像素在所述列方向上相对的两侧；
在一行亚像素在所述列方向上相对的两侧中，位于一侧的薄膜晶体管和与该一侧的薄膜晶体管同侧设置的一条栅线耦接；位于另一侧的薄膜晶体管和与该另一侧的薄膜晶体管同侧设置的一条栅线耦接。
16.根据权利要求15所述的显示装置，其特征在于，在所述对置基板包括多个第二隔垫物的情况下，所述第二隔垫物在所述阵列基板上的正投影与所述薄膜晶体管无交叠。
17.根据权利要求15所述的显示装置，其特征在于，在所述对置基板包括多个第二隔垫物的情况下，一个第二隔垫物在所述阵列基板上的正投影与一个薄膜晶体管重叠。
18.根据权利要求15所述的显示装置，其特征在于，所述阵列基板还包括设置于第一衬底上的多个第一电极；一个第一电极位于一个亚像素内；所述第一电极和所述薄膜晶体管耦接；
所述对置基板还包括设置于所述第二衬底上的第二电极；所述第二电极位于所述第一隔垫物靠近所述第二衬底的一侧。
19.根据权利要求15所述的显示装置，其特征在于，所述阵列基板还包括设置于所述第一衬底上、且位于所述亚像素内的第一电极和第二电极；
所述第一电极为面电极，所述第二电极为狭缝电极；所述第一电极相对于所述第二电极更靠近所述第一衬底；
所述第一电极和所述第二电极中的一者与所述薄膜晶体管耦接。
CN202020950733.2U 2020-05-29 2020-05-29 显示装置 Active CN211928360U (zh)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202020950733.2U CN211928360U (zh) 2020-05-29 2020-05-29 显示装置
US17/765,429 US20220365384A1 (en) 2020-05-29 2021-04-13 Display apparatus
PCT/CN2021/086799 WO2021238467A1 (zh) 2020-05-29 2021-04-13 显示装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202020950733.2U CN211928360U (zh) 2020-05-29 2020-05-29 显示装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN211928360U true CN211928360U (zh) 2020-11-13

Family

ID=73320365

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202020950733.2U Active CN211928360U (zh) 2020-05-29 2020-05-29 显示装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US20220365384A1 (zh)
CN (1) CN211928360U (zh)
WO (1) WO2021238467A1 (zh)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021238467A1 (zh) * 2020-05-29 2021-12-02 京东方科技集团股份有限公司 显示装置
WO2022052697A1 (zh) * 2020-09-11 2022-03-17 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及显示装置
CN114280867A (zh) * 2021-12-29 2022-04-05 惠科股份有限公司 阵列基板、显示面板及显示装置
CN114967262A (zh) * 2022-06-22 2022-08-30 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及显示装置

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040233343A1 (en) * 2003-05-19 2004-11-25 Samsung Electronics Co., Ltd. Liquid crystal display and thin film transistor array panel therefor
JPWO2012124699A1 (ja) * 2011-03-17 2014-07-24 シャープ株式会社 液晶表示装置
KR101982167B1 (ko) * 2012-06-21 2019-05-27 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
TWI487988B (zh) * 2013-05-22 2015-06-11 Au Optronics Corp 液晶顯示面板
TWI638209B (zh) * 2015-05-05 2018-10-11 友達光電股份有限公司 顯示面板
KR102509192B1 (ko) * 2016-01-06 2023-03-13 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
CN205427389U (zh) * 2016-03-17 2016-08-03 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及显示装置
WO2018128106A1 (ja) * 2017-01-06 2018-07-12 シャープ株式会社 湾曲表示パネル
JP2019135513A (ja) * 2018-02-05 2019-08-15 シャープ株式会社 表示装置
CN110687730A (zh) * 2018-07-05 2020-01-14 深超光电（深圳）有限公司 薄膜晶体管阵列基板及显示面板
CN211928360U (zh) * 2020-05-29 2020-11-13 北京京东方显示技术有限公司 显示装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021238467A1 (zh) * 2020-05-29 2021-12-02 京东方科技集团股份有限公司 显示装置
WO2022052697A1 (zh) * 2020-09-11 2022-03-17 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及显示装置
CN114280867A (zh) * 2021-12-29 2022-04-05 惠科股份有限公司 阵列基板、显示面板及显示装置
CN114280867B (zh) * 2021-12-29 2023-06-09 惠科股份有限公司 阵列基板、显示面板及显示装置
CN114967262A (zh) * 2022-06-22 2022-08-30 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及显示装置
CN114967262B (zh) * 2022-06-22 2023-11-10 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及显示装置

Also Published As

Publication number Publication date
US20220365384A1 (en) 2022-11-17
WO2021238467A1 (zh) 2021-12-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN211928360U (zh) 显示装置
CN106526990B (zh) 显示面板及其制备方法、显示装置
EP2261702A1 (en) Color filter substrate and liquid crystal display device
CN107329311B (zh) 阵列基板及液晶显示面板
TWI427383B (zh) 主動陣列基板、液晶顯示面板及其驅動方法
US11782316B2 (en) Liquid crystal display panel, and liquid crystal display device
CN212846287U (zh) 显示面板及显示装置
KR101168255B1 (ko) 액정 표시장치
US9041895B2 (en) Display apparatus having spacers with different heights and different upper and lower surface areas
US20130155353A1 (en) LCD Panel and Manufacturing Method Thereof
KR20170077834A (ko) 디스플레이 장치
CN109375427B (zh) 一种显示面板及其制作方法、显示装置
US11435634B2 (en) Display panel and display device
US7671952B2 (en) Multi-domain vertical alignment liquid crystal display panel
US7567331B2 (en) Liquid crystal display
CN112198725B (zh) 彩膜基板及液晶显示面板
WO2021223488A1 (zh) 显示基板、显示面板及显示装置
KR101264682B1 (ko) 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법
US10712623B2 (en) Display panel
CN113934061B (zh) 阵列基板及其制造方法、显示装置
CN114326222A (zh) 彩膜基板、液晶显示面板及显示装置
CN109541859B (zh) 液晶显示面板及其制造方法
CN101118351B (zh) 液晶显示面板
CN111983853B (zh) 一种隔垫物、液晶显示面板及液晶显示装置
CN214474322U (zh) 显示面板及显示装置

Legal Events

Date Code Title Description
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant