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CN112234082B - 显示屏和电子装置 - Google Patents

显示屏和电子装置 Download PDF

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CN112234082B
CN112234082B CN202011079424.3A CN202011079424A CN112234082B CN 112234082 B CN112234082 B CN 112234082B CN 202011079424 A CN202011079424 A CN 202011079424A CN 112234082 B CN112234082 B CN 112234082B
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Abstract

本申请公开了一种显示屏和电子装置,显示屏包括显示层、驱动层和衬底,驱动层设置在显示层的下方,衬底设置在驱动层的下方,衬底包括沿远离驱动层的依次层叠设置的第一膜层、第二膜层和第三膜层,第二膜层的表面形成有不平整的微结构,微结构用于改变穿过显示层和驱动层后的光线的传播路径以减少或者消除穿过显示屏的光线的衍射。驱动层下方的衬底的第二膜层上形成有不平整的微结构,微结构可以改变穿过显示层和驱动层后的光线的传播路径,也即,可对从驱动层出射的衍射光线进行干扰,打乱其传播路径,从而整体上减少或者消除穿过显示屏的光线的衍射以提高放置在显示屏下方的摄像头的成像质量。

Description

显示屏和电子装置
技术领域
本申请涉及显示技术领域,特别涉及一种显示屏和电子装置。
背景技术
在相关技术的手机等电子设备中,为了提高屏占比以实现全面屏效果,可以将摄像头设置在显示屏的下方,摄像头透过显示屏进行光纤采集和成型。然而,由于显示屏的走线较为复杂,当外界物体反射光线入射到显示屏内部时,由于走线的间隙过小,会导致入射光发生衍射,当走线间距小于或等于光波长时,会引发光线衍射效应,影响拍照质量。
发明内容
本申请的实施方式提供一种显示屏和电子装置。
本申请实施方式的显示屏包括:
显示层;
设置在所述显示层下方的驱动层;
设置在所述驱动层下方的衬底,所述衬底包括沿远离所述驱动层的一侧依次层叠设置的第一膜层、第二膜层和第三膜层,所述第二膜层的表面形成有不平整的微结构,所述微结构用于改变穿过所述显示层和所述驱动层后的光线的传播路径以减少或者消除穿过所述显示屏的光线的衍射。
本申请实施方式的电子装置包括:
上述实施方式所述的显示屏;和
设置在所述显示屏下方的摄像头,所述微结构至少部分地覆盖所述摄像头。
本申请实施方式的显示屏和电子装置中,在驱动层下方的衬底的第二膜层上形成有不平整的微结构,微结构可以改变穿过显示层和驱动层后的光线的传播路径,也即,可对从驱动层出射的衍射光线进行干扰,打乱其传播路径,从而整体上减少或者消除穿过显示屏的光线的衍射以提高放置在显示屏下方的摄像头的成像质量。
本申请的实施方式的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本申请的实施方式的实践了解到。
附图说明
本申请的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施方式的描述中将变得明显和容易理解,其中:
图1是本申请实施方式的显示屏的结构示意图;
图2是图1中的显示屏在II处的放大示意图;
图3是本申请实施方式的显示屏的衬底的第二膜层的结构示意图;
图4是相关技术中的显示屏的衍射情况的示意图;
图5是本申请实施方式的显示屏的另一结构示意图;
图6是本申请实施方式的显示屏的衬底的第二膜层的另一结构示意图;
图7是本申请实施方式的电子装置的结构示意图;
图8是图7中电子装置沿线VIII-VIII的剖面示意图。
主要元件符号说明:
电子装置1000;
显示屏100、显示层10、驱动层20、衬底30、第一膜层31、第二膜层32、微结构321、凹槽3211、第一表面322、第二表面323、第三膜层33;
摄像头200、第一显示区101、第二显示区102。
具体实施方式
下面详细描述本申请的实施方式,所述实施方式的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施方式是示例性的,仅用于解释本申请,而不能理解为对本申请的限制。
在本申请的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
在本申请的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接或可以相互通讯;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
在本申请中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触,也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开,下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然,它们仅仅为示例,并且目的不在于限制本申请。此外,本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母,这种重复是为了简化和清楚的目的,其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外,本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子,但是本领域普通技术人员可以意识到其它工艺的应用和/或其它材料的使用。
请参阅图1-图3,本申请实施方式的显示屏100包括显示层10、驱动层20和衬底30,驱动层20设置在显示层10的下方,衬底30设置在驱动层20的下方,衬底30包括沿远离驱动层20的依次层叠设置的第一膜层31、第二膜层32和第三膜层33,第二膜层32的表面形成有不平整的微结构321,微结构321用于改变穿过显示层10和驱动层20后的光线的传播路径以减少或者消除穿过显示屏100的光线的衍射。
具体地,本申请实施方式的显示屏100可为有机发光(OrganicElectroluminesence Display,OLED)显示屏,也即OLED显示屏,显示层10为OLED显示屏的有机发光层,驱动层20为设置在有机发光层下方的TFT(Thin Film Transistor,薄膜晶体管)层,驱动层20用于给显示层10提供电流以实现发光,驱动层20形成有多个走线(图未示出)以形成多个驱动电流以驱动显示层10进行发光,相邻两个走线之间形成有微小的间隙。可以理解的是,在本申请的实施方式中,显示层10、驱动层20和衬底30均能够透光,也即,光线能够从显示屏100的显示层10入射然后从衬底30出射,在一些实施方式中,为了实现高透光率,驱动层20可以采用透光率较高的材料制成,例如可采用氧化锡铟制成。
在相关技术的手机等电子设备中,为了提高屏占比以实现全面屏效果,可以将摄像头200设置在显示屏的下方,摄像头200透过显示屏进行光纤采集和成型。然而,由于显示屏的走线较为复杂,当外界物体反射光线入射到显示屏内部时,由于走线的间隙过小,会导致入射光发生衍射,当走线间距小于或等于光波长时,会引发光线衍射效应,影响摄像头200的成像质量。例如,如图4所示,在相关技术中,在将摄像头放置在显示屏下方时,由于驱动层的各个走线之间的间隙较小,外界光源发出的光线经过驱动层时会发生衍射现象,从而使得摄像头采集到的图像中存在有明显的衍射光斑。
在本申请实施方式的显示屏100中,在驱动层20下方的衬底30的第二膜层32上形成有不平整的微结构321,微结构321可以改变穿过显示层10和驱动层20后的光线的传播路径,也即,可对从驱动层20出射的衍射光线进行干扰,打乱其传播路径,从而整体上减少或者消除穿过显示屏100的光线的衍射以提高放置在显示屏100下方的摄像头200的成像质量。
具体地,在本申请的实施方式中,外界光源发出的光线在穿过驱动层20的走线之间的间隙时会发生衍射,发生衍射后的光线在进入衬底30后,由于第二膜层32上的不平整的微结构321的存在,微结构321会改变发生衍射后的光线的传播路径,即打乱光线的传播路径配,从而减少或者消除穿过整个显示屏100后的光线的衍射。
可以理解,在第二膜层32上不存在微结构321时,光线在穿过驱动层20的走线之间的间隙时会发生衍射现象,使得光的波峰和波峰相遇,波谷和波谷相遇,从而形成明暗相间的条纹状图案(如图4所示),在设置有微结构321后,微结构321的存在可以将发生衍射后的光线打散,从而避免光的波峰和波峰相遇,波谷和波谷相遇,进而达到减少或者消除衍射的目的。
当然,可以理解的是,在光线穿过驱动层20的除走线之间的间隙之外的其它区域时,光线不会发生衍射,由于穿过驱动层20的其它区域的光线的强度较高,其它区域的光线基本可以直接穿过衬底30层而不会给成像质量带来影响。
在本申请的实施方式中,第一膜层31、第二膜层32和第三膜层33均为绝缘层,第一膜层31和第三膜层33可为有机层,第二膜层32可为无机层,例如,在一些实施方式中,第一膜层31和第三膜层33可为PI(聚酰亚胺薄膜,PolyimideFilm)层,第二膜层32可为氮化硅层或者氧化硅层。
请参阅图2和图3,在某些实施方式中,微结构321包括形成在第二膜层32的表面上的多个凹槽3211。
如此,在穿过驱动层20的走线之间的间隙后发生衍射的光线照射在多个凹槽3211上,多个凹槽3211的存在会打乱其光线传播路径,从而减少或者消除衍射,提高成像质量。
进一步地,请参阅图2和图3,在某些实施方式中,凹槽3211的宽度D的范围为0.38um-0.76um。
如此,将凹槽3211的宽度D的设置在0.38um-0.76um所处的范围内可以使得凹槽3211能够对可见光波段的所有光线进行干扰和打散,从而减少或者消除衍射。
具体地,在这样的实施方式中,凹槽3211的宽度D优选为0.5um。当然,在其它实施方式中,凹槽3211的宽度D也可以为其它尺寸,例如0.4um、0.45um、0.55um、0.6um等,具体在此不作限制,只需要凹槽3211的宽度D处于上述范围之内即可。
需要说明的是,在本文中“凹槽3211的宽度”可以理解为在第二膜层32上形成凹槽3211的开口的外围尺寸,外围尺寸可以理解为将凹槽3211的开口全部囊括在内的最小的圆的直径,例如,在图2和图3所示的实施方式中,凹槽3211为半圆形凹槽,凹槽3211的宽度D为圆的直径。可以理解,在凹槽3211为矩形凹槽时,宽度D可为矩形的外接圆的直径,在凹槽3211的开口为不规则图形时,凹槽3211的宽度D为将凹槽3211的开口囊括在内的最小的圆的直径。
请参阅图2和图3,在某些实施方式中,相邻两个凹槽3211之间的间隔距离H为0.38um-0.76um。
如此,相邻两个凹槽3211之间的间隔距离也处于可见光的波长范围内,两个凹槽3211之间形成的凸起也会打乱从驱动层20发生衍射后的光线的传播路径,从而减少或者消除衍射现象。
具体地,在这样的实施方式中,多个凹槽3211可以是呈矩形阵列排布也可以是呈其它形状排布,相邻两个凹槽3211之间的间隔距离可以相同也可以不同,具体在此不作限制。
在某些实施方式中,驱动层20包括多个走线(图未示出),每个走线之间形成有间隙,凹槽3211的位置与走线之间的间隙相对应,凹槽3211的宽度D可与走线之间的间隙的大小相同。
如此,凹槽3211的只会对穿过走线之间的间隙后发生衍射的光线进行打乱和分散,而不会影响其它区域的光线的传播。
请参阅图5和图6,在某些实施方式中,第二膜层32包括相背的第一表面322和第二表面323,第一表面322和第二表面323均形成有多个凹槽3211。
这样,可以使得光线依次穿过第二膜层32的第一表面322和第二表面323时均能够对改变光线的传播方向,从而对发生衍射后的光线产生多次不规则干扰,提升对衍射光线的干扰效果。
可以理解的是,在其它实施方式中,也可以只是在第一表面322上形成凹槽3211(如图2和图3所示)或者只是在第二表面323上形成凹槽3211,具体在此不作限制,只需要能够对进入第二膜层32的衍射光进行不规则的干扰以改变其传播路径即可。
具体地,在图示的实施方式中,形成在第一表面322的凹槽3211的位置与形成在第二表面323上的凹槽3211的位置相对应,可以理解的是,在其它实施方式中,形成在第一表面322的凹槽3211的位置与形成在第二表面323上的凹槽3211的位置也可错开,具体在此不作限制。
在某些实施方式中,微结构321包括形成在第二膜层32表面上的多个凸起(图未示出)。
如此,通过形成多个凸起也同样能够将穿过驱动层20产生的衍射光线进行打乱,改变其传播路径,进而减少或者消除衍射。
当然,可以理解的是,一些实施方式中,微结构321也可以同时包括多个凸起和多个凹槽3211,这样,同样也能够对光线进行干扰和打乱以减少或者消除衍射,具体在此不作限制。
具体地,在这样的实施方式中,凸起的宽度范围也可为0.38um-0.76um。凹槽3211的宽度优选为0.5um。需要说明的是,在本文中“凸起的宽度”可以理解为凸起在第二膜层32的正投影的外围尺寸,外围尺寸可以理解为将凸起的正投影全部囊括在内的最小的圆的直径,例如,在凸起的正投影为圆形时,凸起的宽度为圆的直径。在凸起的正投影为矩形时,外围尺寸可为矩形的外接圆的直径,在凸起的正投影为不规则图形时,外围尺寸为将凸起的正投影囊括在内的最小的圆的直径。
在某些实施方式中,相邻两个凸起之间的间隔距离为0.38um-0.76um。
可以理解,在这样的实施方式中,在形成凸起时,两个相邻的凸起之间会形成有凹槽,其形成的凹槽也可相当于上述实施方式的凹槽,相邻两个凸起之间的间隔距离即为两个相邻的凸起之间的凹槽的宽度。
在某些实施方式中,衬底30的厚度为10um-15um,第二膜层32的厚度为0.3um-0.5um。
如此,第二膜层32占整个衬底30的厚度的比例极小,使得第一膜层31和第二膜层32的厚度可远远大于第二膜层32的厚度,例如,第一膜层31可为4um-5um,第三膜层33的厚度可为9um-10um,这样,由于第一膜层31和第三膜层33的厚度要远远大于第二膜层32的厚度,在制作显示屏100时,不平整的微结构321的存在几乎不会影响显示屏100的平整性,不会对显示屏100的驱动层20的制作造成干扰。
在某些实施方式中,微结构321通过在第二膜层32上进行等离子轰击形成。
如此,通过等离子轰击的方式形成微结构321可以具有较小的尺寸,例如可以使得凹槽3211和凸起具有上述的较小的尺寸范围,并且能够保证较高的精度。
可以理解的是,在本申请中,在形成微结构321时,可以先在第三膜层33上通过沉积的方式形成第二膜层32,然后通过等离子轰击的方式在第二膜层32的表面形成凹槽3211,从而形成该微结构321。
请参阅图7和图8,本申请实施方式的电子装置1000包括上述任一实施方式所述的显示屏100和设置在显示屏100下方的摄像头200,显示屏100的第二膜层32上的微结构321至少部分地覆盖摄像头200。
在本申请实施方式的电子装置1000中,在驱动层20下方的衬底30的第二膜层32上形成有不平整的微结构321,微结构321可以改变穿过显示层10和驱动层20后的光线的传播路径,也即,可对从驱动层20出射的衍射光线进行干扰,打乱其传播路径,从而整体上减少或者消除穿过显示屏100的光线的衍射以提高放置在显示屏100下方的摄像头200的成像质量。
具体地,请参阅图7和图8,在这样的实施方式中,显示屏100可具备与摄像头200相对应的第一显示区101和位于摄像头200之外的第二显示区102,上述的微结构321形成在第二膜层32的与第一显示区101相对应的部位,这样,只需要在第二膜层32的与第一显示区域101的部位形成微结构321即可减少或者消除衍射现象,从而提高摄像头200的成像质量,减少了制作成本。当然,在其它实施方式中,也可以是在整个第二膜层32形成该微结构321,具体在此不作限制。
在本说明书的描述中,参考术语“某些实施方式”、“一个实施方式”、“一些实施方式”、“示意性实施方式”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合所述实施方式或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本申请的至少一个实施方式或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施方式或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施方式或示例中以合适的方式结合。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个所述特征。在本申请的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
尽管上面已经示出和描述了本申请的实施方式,可以理解的是,上述实施方式是示例性的,不能理解为对本申请的限制,本领域的普通技术人员在本申请的范围内可以对上述实施方式进行变化、修改、替换和变型,本申请的范围由权利要求及其等同物限定。

Claims (9)

1.一种显示屏,其特征在于,包括:
显示层;
设置在所述显示层下方的驱动层;
设置在所述驱动层下方的衬底,所述衬底包括沿远离所述驱动层的一侧依次层叠设置的第一膜层、第二膜层和第三膜层,所述第二膜层的表面形成有不平整的微结构,所述微结构用于改变穿过所述显示层和所述驱动层后的光线的传播路径以减少或者消除穿过所述显示屏的光线的衍射;
在形成所述微结构时,先在所述第三膜层上通过沉积的方式形成所述第二膜层,然后通过在所述第二膜层上进行等离子轰击形成所述微结构,所述微结构包括形成在所述第二膜层的表面上的多个凹槽;
其中,驱动层包括多条走线,每条所述走线之间形成有间隙,所述凹槽的位置与所述走线之间的间隙相对应,且所述凹槽的宽度与所述走线之间的间隙的大小相同。
2.根据权利要求1所述的显示屏,其特征在于,所述凹槽的宽度为0.38um-0.76um。
3.根据权利要求2所述的显示屏,其特征在于,所述凹槽的宽度为0.5um。
4.根据权利要求2所述的显示屏,其特征在于,相邻两个所述凹槽之间的间隔距离为0.38um-0.76um。
5.根据权利要求2-4任一项所述的显示屏,其特征在于,所述第二膜层包括相背的第一表面和第二表面,所述第一表面和/或所述第二表面形成有多个所述凹槽。
6.根据权利要求1所述的显示屏,其特征在于,所述微结构包括形成在所述第二膜层表面上的多个凸起。
7.根据权利要求1所述的显示屏,其特征在于,所述第二膜层包括氮化硅层或氧化硅层。
8.根据权利要求1所述的显示屏,其特征在于,所述衬底的厚度为10um-15um,所述第二膜层的厚度为0.3um-0.5um。
9.一种电子装置,其特征在于,包括:
权利要求1-8任一项所述的显示屏;和
设置在所述显示屏下方的摄像头,所述微结构至少部分地覆盖所述摄像头。
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