CN111129099B - 显示面板及其制备方法、显示装置 - Google Patents
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Abstract
本申请实施例提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，可以增加光线的散射，以改善大视角下的色偏，以及利用磁性粒子在磁场作用下取向的特点提高发光效率。该显示面板包括发光区和位于所述发光区之间的非发光区；发光元件，所述发光元件位于所述发光区，且包括相对设置的阳极和阴极，以及位于所述阳极和所述阴极之间的发光层；覆盖层，所述覆盖层覆盖于所述发光元件的出光侧；其中，所述覆盖层包括基质和掺杂于基质中的第一掺杂剂，所述第一掺杂剂具有磁性，当施加于所述覆盖层的外加磁场强度的变化量大于预设磁场强度时，所述第一掺杂剂在所述基质中的排布方式由第一模式转变为第二模式。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。
背景技术
随着显示技术的不断发展，消费者对于显示面板的要求不断提升，各类显示面板层出不群，并得到了飞速的发展，如液晶显示面板、有机发光显示屏等显示面板，在此基础上，3D显示、触控显示技术、曲面显示、超高分辨率显示以及防窥显示等显示技术不断涌现，以满足消费者的需求。
由有机发光器件(OLED)构成的有机发光显示面板因其具有质量轻薄、易于弯折、对比度高、功耗低等优点，而受到消费者的广泛青睐，其在显示领域的市场占有率逐年攀升，是目前显示领域研究的热点。在有机发光显示面板中，有机发光器件是产生并发射光线的关键部件，有机发光器件中包括相对设置阳极和阴极，以及发光层。电子从阴极侧进入发光层，空穴从阳极侧进入发光层，电子和空穴在发光层复合形成激子激发发光材料发出光线。然而，在目前的有机发光结构中，存在大视角下的色偏问题和发光效率较低的问题。
发明内容
本申请实施例提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，可以增加光线的散射，以改善大视角下的色偏，以及利用磁性粒子在磁场作用下取向的特点提高发光效率。
一方面，本申请实施例提供一种显示面板，包括
发光区和位于所述发光区之间的非发光区；
发光元件，所述发光元件位于所述发光区，且包括相对设置的阳极和阴极，以及位于所述阳极和所述阴极之间的发光层；
覆盖层，所述覆盖层覆盖于所述发光元件的出光侧；其中，
所述覆盖层包括基质和掺杂于基质中的第一掺杂剂，所述第一掺杂剂具有磁性，当施加于所述覆盖层的外加磁场强度的变化量大于预设磁场强度时，所述第一掺杂剂在所述基质中的排布方式由第一模式转变为第二模式。
另一方面，本申请实施例还提供一种显示面板的制备方法，包括
S1：准备基板，在所述基板上形成发光区和位于所述发光区之间的非发光区；
S2：在所述发光区内制备发光元件，所述发光元件包括相对设置的阳极和阴极，以及位于所述阳极和所述阴极之间的发光层；
S3：在所述发光元件的出光侧制备覆盖层，其中，所述覆盖层包括基质和掺杂于所述基质中的第一掺杂剂，所述第一掺杂剂具有磁性，当施加于所述覆盖层的外加磁场强度的变化量大于预设磁场强度时，所述第一掺杂剂在所述基质中的排布方式由第一模式转变为第二模式。
另一方面，本申请实施例还提供一种显示装置，包括上述的显示面板。
本申请实施例中的显示面板及其制备方法、显示装置，通过在发光元件出光侧的覆盖层设置具有磁性的第一掺杂剂，一方面，可以提高出射光线在覆盖层中的散射效果，进而改善了大视角下的微腔效应，即改善了大视角下的视角色偏；另一方面，可以利用磁性粒子在磁场作用下取向的特点，对第一掺杂剂进行取向排布，在覆盖层中形成更加有序的粒子排布，进而提高了覆盖层的光取出效果，即提高了发光元件的发光效率。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请实施例中一种显示面板局部结构的俯视图；
图2为图1中显示面板在AA’向的一种剖面结构示意图；
图3为图1中显示面板在AA’向的另一种剖面结构示意图；
图4为图1中显示面板在AA’向的另一种剖面结构示意图；
图5为图1中显示面板在AA’向的另一种剖面结构示意图；
图6为图1中显示面板在AA’向的另一种剖面结构示意图；
图7为图1中显示面板在AA’向的另一种剖面结构示意图；
图8为图1中显示面板在AA’向的另一种剖面结构示意图；
图9为图1中显示面板在AA’向的另一种剖面结构示意图；
图10为本申请实施例中一种显示面板的制备方法流程图；
图11为本申请实施例中另一种显示面板的制备方法流程图；
图12为本申请实施例中另一种显示面板的制备方法流程图；
图13为本申请实施例中一种显示装置的结构示意图。
具体实施方式
为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
在本申请实施例中使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本申请。在本申请实施例和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。
如图1和图2所示，图1为本申请实施例中一种显示面板局部结构的俯视图，图2为图1中显示面板在AA’向的一种剖面结构示意图，本申请实施例提供了一种显示面板，包括发光区10和位于发光区10之间的非发光区20；发光元件1，发光元件1位于发光区10，且包括相对设置的阳极11和阴极12，以及位于阳极11和阴极12之间的发光层13；覆盖层2，覆盖层2覆盖于发光元件1的出光侧；其中，覆盖层2包括基质21和掺杂于基质中的第一掺杂剂22，第一掺杂剂22具有磁性，当施加于覆盖层2的外加磁场强度的变化量大于预设磁场强度时，第一掺杂剂22在基质21中的排布方式由第一模式转变为第二模式。
具体地，例如，显示面板还包括像素定义层3，像素定义层3上设置有多个开口，开口中设置有对应的发光层13，开口限定了发光层13的形状和大小，即限定了发光区10，使发光层13在发光区10内发光。在显示过程中，向发光元件1的阳极11和阴极12分别施加电压，在电压作用下，空穴和电子分别注入发光层13，并在发光层13中复合从而实现发光。在图2所示的结构中，上方为发光元件1的出光侧，阴极12可以为透明材料或半透明材料，阳极11可以为反射材料，使得发光元件1所产生的光线最终由出光侧出射，光线在出射过程中会经过覆盖层2，由于覆盖层2中设置有第一掺杂剂22，从而提高了出射光线在覆盖层2中的散射效果，进而改善了大视角下的微腔效应，即改善了大视角下的视角色偏。另外，由于第一掺杂剂22具有磁性，并且可以在外加磁场的作用下改变排布方式，因此可以在覆盖层2的制备过程中，通过外加磁场的作用，改变其中第一掺杂剂22在基质21中的排布方式，使第一掺杂剂22实现取向排布，即第一掺杂剂22粒子在覆盖层2中的排布更加有序，进而提高了覆盖层2的光取出效果，即提高了发光元件的发光效率。
本申请实施例中的显示面板，通过在发光元件出光侧的覆盖层设置具有磁性的第一掺杂剂，一方面，可以提高出射光线在覆盖层中的散射效果，进而改善了大视角下的微腔效应，即改善了大视角下的视角色偏；另一方面，可以利用磁性粒子在磁场作用下取向的特点，对第一掺杂剂进行取向排布，在覆盖层中形成更加有序的粒子排布，进而提高了覆盖层的光取出效果，即提高了发光元件的发光效率。
可选地，当施加于覆盖层2的外加磁场强度的变化量大于预设磁场强度时，第一掺杂剂22在基质21内发生定向移动，第一掺杂剂22在定向移动之后，其在基质21中的排布方式由第一模式转变为第二模式，定向移动的过程可以使第一掺杂剂22在基质21中实现一致的取向。
可选地，发光元件1的出光侧朝向阴极12，外加磁场对第一掺杂剂22产生由阴极12朝向阳极11的第一磁力。
具体地，例如在图2所示的结构中，发光元件1的出光侧朝上，外加磁场的方向为向下，在该磁场对第一掺杂剂22产生向下的力，且使第一掺杂剂22向下移动，上述通过外加磁场驱动第一掺杂剂22向下运动的过程即为在覆盖层2制备过程中对第一掺杂剂22进行取向的过程，一方面，可以使移动结束后的第一掺杂剂22形成有序的排布，实现取向，另一方面，使得覆盖层2产生向下的作用力，以提高显示面板中各膜层之间的结合效果，降低由于弯折或者其他原因导致的各膜层之间相互剥离的问题。
可选地，图3或图4所示，图3为图1中显示面板在AA’向的另一种剖面结构示意图，图4为图1中显示面板在AA’向的另一种剖面结构示意图，覆盖层2包括第一区间41和第二区间42，在垂直于显示面板表面的方向上，第一区间41对应发光区10，第二区间42对应非发光区20。
可选地，图3或图4所示，第一区间41内，第一掺杂剂22的掺杂浓度为第一浓度C1，第二区间42内，第一掺杂剂22的掺杂浓度为第二浓度C2，其中C2≥C1≥0。
具体地，例如，在图3所示的结构中，C2＞C1＞0，即第二区间42中第一掺杂剂22的浓度较低，以降低第一掺杂剂22对正视角下出光的不良影响，第一区间41中第一掺杂剂22的浓度较高，以提高在覆盖层2制备过程中通过第一掺杂剂22运动而向各膜层所施加的作用力，进一步提高显示面板中各膜层之间的结合效果。在图4所示的结构中，C1＝0，也就是说，在第一区间41中没有第一掺杂剂22，仅在第二区间42中设置第一掺杂剂22，C2＞0，同样可以降低第一掺杂剂22对正视角下出光的不良影响，同时进一步提高显示面板中各膜层之间的结合效果。
可选地，图5所示，图5为图1中显示面板在AA’向的另一种剖面结构示意图，显示面板包括覆盖于发光元件1出光侧的盖帽层5(capping layer，简称CPL)，以及位于盖帽层5背离发光层13一侧的封装层6，其中，盖帽层5具有较大的折射率和较小的吸光系数，用于提高出光效率，封装层6用于对发光元件1的出光侧进行密封，以降低外界水氧对发光元件1的侵蚀。
可选地，图5所示，覆盖层2为封装层6，即在封装层6中设置第一掺杂剂22，使封装层6复用为覆盖层2，以同时实现两者的功能，减少显示面板的整体膜层厚度且降低工艺成本。
可选地，图6所示，图6为图1中显示面板在AA’向的另一种剖面结构示意图，封装层6为薄膜封装层，薄膜封装层包括第一无机层61、第二无机层62以及位于第一无机层61与第二无机层62之间的有机层63，第一无机层61位于第二无机层62朝向发光元件1的一侧。
具体地，其中第一无机层61和第二无机层62用于通过较为致密的结构实现阻隔水氧的作用，有机层63用于缓解第一无机层61和第二无机层62之间的应力，改善封装层6中应力集中的问题，降低产生裂纹的概率。
可选地，图6所示，第一掺杂剂22掺杂于第一无机层61、第二无机层62或者有机层63中的至少一者内，需要说明的是，图6中仅示意了第一掺杂剂22掺杂于第二无机层62的结构，但是本申请实施例对此不作限定。
可选地，图6所示，第一掺杂剂22掺杂于第二无机层62内，第二无机层62位于第一无机层61和有机层63背离发光元件1的一侧，因此，在第二无机层62的制备过程中，在外加磁场作用下使第一掺杂剂22向阳极11的方向移动过程中，向包括第一无机层61和有机层63的各膜层均施加作用力，从而可以提高更多膜层之间的结合效果。
可选地，图7所示，图7为图1中显示面板在AA’向的另一种剖面结构示意图，覆盖层2为盖帽层5，即在盖帽层5中设置第一掺杂剂22，使盖帽层5复用为覆盖层2，以同时实现两者的功能，减少显示面板的整体膜层厚度且降低工艺成本。
可选地，如图8所示，图8为图1中显示面板在AA’向的另一种剖面结构示意图，盖帽层5包括第一盖帽层5和第二盖帽层52，第二盖帽层52位于第一盖帽层51远离发光元件1的一侧，第一盖帽层51中第一掺杂剂22的掺杂浓度为第三浓度C3，第二盖帽层52中第一掺杂剂22的掺杂浓度为第四浓度C4，其中C3≥C4≥0。
具体地，例如图8所示的结构中，第一盖帽层51和第二盖帽层52中均设置有第一掺杂剂22，但是第一盖帽层51中第一掺杂剂22的浓度大于第二盖帽层52中第一掺杂剂22的浓度，在另一种可能的实施方式中，也可以仅在第一盖帽层51中设置第一掺杂剂22，在第二盖帽层52中不设置第一掺杂剂22。一方面，为了兼顾出光的散射效果和出光效率，设置第一盖帽层51和第二盖帽层52的浓度不同，另一方面，在膜层制备的过程中，设置第一掺杂剂22会导致成膜不均匀，即导致成膜表面的凹凸不平，为了保持盖帽层5整体上表面的平滑性，改善粗糙程度，设置靠近下方的第一盖帽层51中第一掺杂剂22的浓度较高，而靠近上方的第二盖帽层52中第一掺杂剂22的浓度较低，或者在靠近上方的第二盖帽层52中不设置颗粒的掺杂，使最终制备的盖帽层5的上表面更加光滑平整。
可选地，在本申请实施例中，第一掺杂剂22具体可以为磁性纳米颗粒，磁性纳米颗粒的直径可以为1～40nm，例如为1～10nm，颗粒的直径小于光线波长时，光线会绕过粒子向各个方向传播，更好地发生散射，进而改善大视角下的色偏，并且可以改善由于粒子直径较大而导致的膜层粗糙程度较大，进而改善由于膜层粗糙而导致的发光元件寿命较低的问题。在覆盖层2中，第一掺杂剂22与基质21的质量比可以为0.01-30％，例如0.01-10％。
可选地，第一掺杂剂22的材料为铁磁性或者反铁磁性材料。铁磁性的材料在磁场的作用下，能够产生较强的吸引力，能够更容易发生定向移动，从而更容易在磁场方向下控制其移动。
可选地，第一掺杂剂22的材料为铁纳米颗粒、钴纳米颗粒、镍纳米颗粒或者四氧化三铁纳米颗粒中的一种或者多种，或者，第一掺杂剂22的材料为氧化钴纳米颗粒。可选地，第一掺杂剂22的材料为顺磁性材料。顺磁性材料，在未加磁场作用下，顺磁性材料不能自发磁化，从而，在外加磁场的作用下，第一掺杂剂22收外界环境的影响较小，能够均匀分布于覆盖层2中，起到散射的作用，而在有磁场作用下，能够磁化，从而发生定向移动，如此，更有利于第一掺杂剂22在有磁场作用和无磁场作用下状态的切换。
可选地，第一掺杂剂22的材料为四氧化三铁纳米颗粒，或者二氧化硅包覆的四氧化三铁纳米颗粒，四氧化三铁纳米颗粒具有超顺磁性，能够在有磁场的作用下，更容易发生定向移动，从而更有利于第一掺杂剂22在有磁场作用和无磁场作用下状态的切换。
另外，可选的，本案中磁性材料还可以包含其他具有磁性的材料，如磁性锰锌铁氧体纳米颗粒、稀土金属氧化物纳米颗粒等，本案对此不作特殊限定。
可选地，如图9所示，图9为图1中显示面板在AA’向的另一种剖面结构示意图，在阳极11远离阴极12的一侧，在从远离阳极11至靠近阳极11的方向上，即从下至上的方向上，显示面板还包括依次层叠设置的衬底层100、缓冲层101、半导体层102、栅极绝缘层103、栅极金属层104、第一层间绝缘层105、电容金属层106、第二层间绝缘层107、源漏金属层108和平坦化层109，其中，半导体层102用于形成晶体管的有源层，栅极金属层104用于形成晶体管的栅极以及电容的一个电极板，电容金属层106用于形成电容的另一个电极板，源漏金属层108用于形成晶体管和源极和漏极以及信号线，上述晶体管和电容用于形成像素驱动电路，以实现对发光元件1的控制。另外，发光元件1还可以包括其他功能膜层，例如在从阳极11至阴极12的方向上，发光元件1依次包括阳极11、空穴注入层、空穴传输层、发光层13、空穴阻挡层、电子传输层、电子注入层和阴极12，其中，阳极11具体可以为金属或合金材料，例如铜、金、银、铁、铬、镍、锰、钯、铂中任意一者金属材料或任意多者形成的合金；或者阳极11可以为金属氧化物，例如氧化铟、氧化锌、氧化铟锡或氧化铟锌；或者阳极11可以为导电性聚合物，例如聚苯胺、聚吡咯、聚(3-甲基噻吩)。阴极12具体可以为金属或合金材料，例如铝、镁、银、铟、锡、钛中任意一者金属材料或任意多者形成的合金；或者阴极12可以为多层材料，例如LiF和Al组成的双层材料、LiO2和Al组成的双层材料、BaF2和Al组成的双层材料。
如图1至图10所示，图10为本申请实施例中一种显示面板的制备方法流程图，本申请实施例还提供一种显示面板的制备方法，包括
S1：准备基板，在基板上形成发光区10和位于发光区10之间的非发光区20；
具体地，该基板可以指位于阳极11远离阴极12一侧的膜层。
S2：在发光区10内制备发光元件1，发光元件1包括相对设置的阳极11和阴极12，以及位于阳极11和阴极12之间的发光层13；
S3：在发光元件1的出光侧制备覆盖层2，其中，覆盖层2包括基质21和掺杂于基质21中的第一掺杂剂22，第一掺杂剂22具有磁性，当施加于覆盖层2的外加磁场强度的变化量大于预设磁场强度时，第一掺杂剂22在基质21中的排布方式由第一模式转变为第二模式。
所形成的显示面板的具体结构和工作原理与上述各实施例相同，在此不再赘述。
本申请实施例中显示面板的制备方法，通过在发光元件出光侧的覆盖层设置具有磁性的第一掺杂剂，一方面，可以提高出射光线在覆盖层中的散射效果，进而改善了大视角下的微腔效应，即改善了大视角下的视角色偏；另一方面，可以利用磁性粒子在磁场作用下取向的特点，对第一掺杂剂进行取向排布，在覆盖层中形成更加有序的粒子排布，进而提高了覆盖层的光取出效果，即提高了发光元件的发光效率。
可选地，如图11所示，图11为本申请实施例中另一种显示面板的制备方法流程图，上述步骤S3：在发光元件1的出光侧制备覆盖层2，其中，覆盖层2包括基质21和掺杂于基质21中的第一掺杂剂22的方法包括：
S11：在发光元件1的出光侧蒸镀一层第一掺杂剂22；
S12：在第一掺杂剂22上蒸镀一层基质21；
S13：施加一外加磁场，使得第一掺杂剂22在基质21中进行取向排布。
具体地，例如，在发光元件1制备完成之后，在步骤S11中，在形成有阴极12的基板上蒸镀一层多孔的岛状分布的磁性纳米颗粒(第一掺杂剂22)，然后在步骤S12中进行基质21的蒸镀，在100摄氏度下进行低温退火，在步骤S13中，在外加磁场的作用下使第一掺杂剂22的排布方式由第一模式转变为第二模式，以实现第一掺杂剂22的取向排布。
可选地，如图12所示，图12为本申请实施例中另一种显示面板的制备方法流程图，上述步骤S3：在发光元件1的出光侧制备覆盖层2，其中，覆盖层2包括基质21和掺杂于基质21中的第一掺杂剂22的方法包括：
S21：取适量第一掺杂剂22与适量基质21材料置于特定溶液中配置成第一混合液；
S22：采用喷墨打印的方法将第一混合液打印于发光元件1的出光侧；
S23：对第一混合液进行低温退火处理，去除特定溶液；
S24：施加一外加磁场，使得第一掺杂剂22在基质21中进行取向排布。
如图13所示，图13为本申请实施例中一种显示装置的结构示意图，本申请实施例还提供一种显示装置，包括上述的显示面板200。
其中，显示面板200的具体结构和原理和可以与上述实施例相同，在此不再赘述。本申请实施例中的显示装置可以是例如触摸显示屏、手机、平板计算机、笔记本电脑、电纸书或电视机等任何具有显示功能的电子设备。
本申请实施例中的显示装置，通过在发光元件出光侧的覆盖层设置具有磁性的第一掺杂剂，一方面，可以提高出射光线在覆盖层中的散射效果，进而改善了大视角下的微腔效应，即改善了大视角下的视角色偏；另一方面，可以利用磁性粒子在磁场作用下取向的特点，对第一掺杂剂进行取向排布，在覆盖层中形成更加有序的粒子排布，进而提高了覆盖层的光取出效果，即提高了发光元件的发光效率。
以上所述仅为本申请的较佳实施例而已，并不用以限制本申请，凡在本申请的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请保护的范围之内。
最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本申请的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本申请进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例技术方案的范围。
Claims (17)
1.一种显示面板，其特征在于，包括
发光区和位于所述发光区之间的非发光区；
发光元件，所述发光元件位于所述发光区，且包括相对设置的阳极和阴极，以及位于所述阳极和所述阴极之间的发光层；
覆盖层，所述覆盖层覆盖于所述发光元件的出光侧；其中，
所述覆盖层包括基质和掺杂于基质中的第一掺杂剂，所述第一掺杂剂具有磁性，当施加于所述覆盖层的外加磁场强度的变化量大于预设磁场强度时，所述第一掺杂剂在所述基质中的排布方式由第一模式转变为第二模式；
所述覆盖层包括第一区间和第二区间，在垂直于所述显示面板表面的方向上，所述第一区间对应所述发光区，所述第二区间对应所述非发光区；
所述第一区间内，所述第一掺杂剂的掺杂浓度为第一浓度C1，所述第二区间内，所述第一掺杂剂的掺杂浓度为第二浓度C2，其中C2＞C1≥0；
所述发光元件的出光侧朝向所述阴极，所述外加磁场对所述第一掺杂剂产生由所述阴极朝向所述阳极的第一磁力。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，
当施加于所述覆盖层的外加磁场强度的变化量大于预设磁场强度时，所述第一掺杂剂在所述基质内发生定向移动。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，
所述显示面板包括覆盖于所述发光元件出光侧的盖帽层，以及位于所述盖帽层背离所述发光层一侧的封装层。
4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，
所述覆盖层为所述封装层。
5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，
所述封装层为薄膜封装层，所述薄膜封装层包括第一无机层、第二无机层以及位于所述第一无机层与所述第二无机层之间的有机层，所述第一无机层位于所述第二无机层朝向所述发光元件的一侧。
6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，
所述第一掺杂剂掺杂于所述第一无机层、第二无机层或者所述有机层中的至少一者内。
7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，
所述第一掺杂剂掺杂于所述第二无机层内。
8.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，
所述覆盖层为所述盖帽层。
9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，
所述盖帽层包括第一盖帽层和第二盖帽层，所述第二盖帽层位于所述第一盖帽层远离所述发光元件的一侧，所述第一盖帽层中所述第一掺杂剂的掺杂浓度为第三浓度C3，所述第二盖帽层中所述第一掺杂剂的掺杂浓度为第四浓度C4，其中C3≥C4≥0。
10.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，
所述第一掺杂剂的材料为铁磁性或者反铁磁性材料。
11.根据权利要求10所述的显示面板，其特征在于，
所述第一掺杂剂的材料为铁纳米颗粒、钴纳米颗粒、镍纳米颗粒或者四氧化三铁纳米颗粒中的一种或者多种，或者，
所述第一掺杂剂的材料为氧化钴纳米颗粒。
12.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，
所述第一掺杂剂的材料为顺磁性材料。
13.根据权利要求12所述的显示面板，其特征在于，
所述第一掺杂剂的材料为四氧化三铁纳米颗粒，或者二氧化硅包覆的四氧化三铁纳米颗粒。
14.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括
S1：准备基板，在所述基板上形成发光区和位于所述发光区之间的非发光区；
S2：在所述发光区内制备发光元件，所述发光元件包括相对设置的阳极和阴极，以及位于所述阳极和所述阴极之间的发光层；
S3：在所述发光元件的出光侧制备覆盖层，其中，所述覆盖层包括基质和掺杂于所述基质中的第一掺杂剂，所述第一掺杂剂具有磁性，当施加于所述覆盖层的外加磁场强度的变化量大于预设磁场强度时，所述第一掺杂剂在所述基质中的排布方式由第一模式转变为第二模式；
其中，所述覆盖层包括第一区间和第二区间，在垂直于所述显示面板表面的方向上，所述第一区间对应所述发光区，所述第二区间对应所述非发光区；
所述第一区间内，所述第一掺杂剂的掺杂浓度为第一浓度C1，所述第二区间内，所述第一掺杂剂的掺杂浓度为第二浓度C2，其中C2＞C1≥0；
所述发光元件的出光侧朝向所述阴极，所述外加磁场对所述第一掺杂剂产生由所述阴极朝向所述阳极的第一磁力。
15.根据权利要求14所述的制备方法，其特征在于，
在所述发光元件的出光侧制备覆盖层，其中，所述覆盖层包括基质和掺杂于所述基质中的第一掺杂剂的方法包括：
S11：在所述发光元件的出光侧蒸镀一层所述第一掺杂剂；
S12：在所述第一掺杂剂上蒸镀一层所述基质；
S13：施加一外加磁场，使得所述第一掺杂剂在所述基质中进行取向排布。
16.根据权利要求15所述的制备方法，其特征在于，
在所述发光元件的出光侧制备覆盖层，其中，所述覆盖层包括基质和掺杂于所述基质中的第一掺杂剂的方法包括：
S21：取适量所述第一掺杂剂与适量所述基质材料置于特定溶液中配置成第一混合液；
S22：采用喷墨打印的方法将所述第一混合液打印于所述发光元件的出光侧；
S23：对所述第一混合液进行低温退火处理，去除所述特定溶液；
S24：施加一外加磁场，使得所述第一掺杂剂在所述基质中进行取向排布。
17.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-13任意一项所述的显示面板。
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