CN110684969A - 一种金属表面的镀铜方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种金属表面的镀铜方法,本方法中将无镀铜部分与修复液接触进行化学反应,化学反应时的加热温度为30~40℃;在无镀铜部分与修复液反应后进行水洗和干燥;其中,所述修复液的溶质为硫酸铜、硫脲和次磷酸钠,所述修复液的溶剂为水;本发明实现快速镀铜的新方法,呈膜均匀,光量平整,导电性能好。
Description
技术领域
本发明涉及金属表面处理技术领域,具体涉及一种金属表面的镀铜方法,更具体的涉及镀铜表面的修补修复方法。
背景技术
目前一些镀铜零件装机过程中发现外表面镀层划伤破损现象,需要局部修理,但是目前镀铜膜局部损伤修复液配方成份复杂不便于调制,且修复方法成本高,效率低。
发明内容
本发明的目的是:提供镀铜修复液,简化镀铜修复工艺。
本发明的技术方案是:
技术方案:提供一种金属表面的镀铜方法,所述镀铜方法包括第一镀铜工艺和第二镀铜工艺,第一镀铜工艺和第二镀铜工艺不同;由所述第一镀铜工艺使得部分金属表面镀铜,由第二镀铜工艺对无镀铜的金属表面进行镀铜;
第二镀铜工艺中将无镀铜部分与修复液接触进行化学反应,化学反应时的加热温度为30~40℃;在无镀铜部分与修复液反应后进行水洗和干燥;
其中,所述修复液的溶质为硫酸铜、硫脲和氯化钠,所述修复液的溶剂为水;硫酸铜的质量与水的容积比为35~40:1,单位为克/升;硫脲的质量与水的容积比为40~50:1,单位为克/升;氯化钠的质量与水的容积比为2~6:1,单位为克/升。
进一步的,所述无镀铜部分与修复液反应的时间为25~40秒。
进一步的,通过喷淋、涂覆和浸泡来实施无镀铜部分与修复液的接触。
进一步的,所述无镀铜部分与修复液反应的加热温度为35℃,反应时间为30秒。
提供一种金属表面的镀铜方法,所述镀铜方法包括第一镀铜工艺和第二镀铜工艺,第一镀铜工艺和第二镀铜工艺不同;由所述第一镀铜工艺使得金属表面镀铜,再去除部分金属表面的镀铜,使得形成部分无镀铜的金属表面,由第二镀铜工艺对无镀铜的金属表面进行镀铜;
第二镀铜工艺中将无镀铜部分与修复液接触进行化学反应,化学反应时的加热温度为30~40℃;在无镀铜部分与修复液反应后进行水洗和干燥。
其中,所述修复液的溶质为硫酸铜、硫脲和氯化钠,所述修复液的溶剂为水;硫酸铜的质量与水的容积比为35~40:1,单位为克/升;硫脲的质量与水的容积比为40~50:1,单位为克/升;氯化钠的质量与水的容积比为2~6:1,单位为克/升。
进一步的,所述无镀铜部分与修复液反应的时间为25~40秒。
进一步的,通过喷淋、涂覆和浸泡来实施无镀铜部分与修复液的接触。
进一步的,所述无镀铜部分与修复液反应的加热温度为35℃,反应时间为30秒。
提供一种镀铜金属表面的修补方法,所述镀铜金属表面存在镀铜去除部分,将去除了所述镀铜的金属表面与修复液接触进行化学反应,化学反应时的加热温度为30~40℃;在无镀铜部分与修复液反应后进行水洗和干燥;
其中,所述修复液的溶质为硫酸铜、硫脲和氯化钠,所述修复液的溶剂为水;硫酸铜的质量与水的容积比为35~40:1,单位为克/升;硫脲的质量与水的容积比为40~50:1,单位为克/升;氯化钠的质量与水的容积比为2~6:1,单位为克/升。
进一步的,所述无镀铜部分与修复液反应的时间为25~40秒。
进一步的,通过喷淋、涂覆和浸泡来实施无镀铜部分与修复液的接触。
进一步的,通过机加工、损伤或磨损实现金属表面镀铜的去除。
进一步的,所述无镀铜部分与修复液反应的加热温度为35℃,反应时间为30秒。
相对于上述各个技术方案,其中修复液的配置中,硫酸铜、硫脲和氯化钠依次添加到水中形成溶液,如此,修复液的修复效果最佳。
且上述的最适用于铜或铜合金表面镀铜。
本发明的优点是:本发明实现快速镀铜的新方法,呈膜均匀,光量平整,导电性能好。
具体实施方式
下面对本发明做进一步详细说明。
实施例1
接触端板材料10钢,整体镀铜后机加法去除触点表面的镀铜膜,无膜处化学法镀铜。
修复液的溶质为硫酸铜、硫脲和次磷酸钠,所述修复液的溶剂为水;硫酸铜的质量与水的容积比为20:1,单位为克/升;硫脲的质量与水的容积比为0.2:1,单位为克/升;次磷酸钠的质量与水的容积比为3:1,单位为克/升。
进一步的,所述无镀铜部分与修复液反应的时间为40秒。
进一步的,通过涂覆来实施无镀铜部分与修复液的接触。
进一步的,通过机加工实现金属表面镀铜的去除。
进一步的,所述无镀铜部分与修复液反应的加热温度为40℃,反应时间为40秒。
实施例2
接触片材料45钢,整体镀铜后机加法去除触表面的镀铜膜,无膜处化学法镀铜。
修复液的溶质为硫酸铜、硫脲和次磷酸钠,所述修复液的溶剂为水;硫酸铜的质量与水的容积比为25:1,单位为克/升;硫脲的质量与水的容积比为0.3:1,单位为克/升;次磷酸钠的质量与水的容积比为4:1,单位为克/升。
进一步的,所述无镀铜部分与修复液反应的时间为35秒。
进一步的,通过涂覆来实施无镀铜部分与修复液的接触。
进一步的,通过机加工实现金属表面镀铜的去除。
进一步的,所述无镀铜部分与修复液反应的加热温度为35℃,反应时间为35秒。
实施例3
材料20钢,整体镀铜后机加法去除触表面的镀铜膜,无膜处化学法镀铜。
修复液的溶质为硫酸铜、硫脲和次磷酸钠,所述修复液的溶剂为水;硫酸铜的质量与水的容积比为30:1,单位为克/升;硫脲的质量与水的容积比为0.4:1,单位为克/升;次磷酸钠的质量与水的容积比为5:1,单位为克/升。
进一步的,所述无镀铜部分与修复液反应的时间为30秒。
进一步的,通过涂覆来实施无镀铜部分与修复液的接触。
进一步的,通过机加工实现金属表面镀铜的去除。
进一步的,所述无镀铜部分与修复液反应的加热温度为30℃,反应时间为25秒。
实施例4
接触端板材料10钢,整体镀铜后触点表面无镀铜膜,无膜处化学法镀铜。
修复液的溶质为硫酸铜、硫脲和次磷酸钠,所述修复液的溶剂为水;硫酸铜的质量与水的容积比为20:1,单位为克/升;硫脲的质量与水的容积比为0.2:1,单位为克/升;次磷酸钠的质量与水的容积比为3:1,单位为克/升。
进一步的,所述无镀铜部分与修复液反应的时间为40秒。
进一步的,通过涂覆来实施无镀铜部分与修复液的接触。
进一步的,通过机加工实现金属表面镀铜的去除。
进一步的,所述无镀铜部分与修复液反应的加热温度为40℃,反应时间为40秒。
实施例5
接触片材料45钢,整体镀铜,触表面无镀铜膜,无膜处化学法镀铜。
修复液的溶质为硫酸铜、硫脲和次磷酸钠,所述修复液的溶剂为水;硫酸铜的质量与水的容积比为25:1,单位为克/升;硫脲的质量与水的容积比为0.3:1,单位为克/升;次磷酸钠的质量与水的容积比为4:1,单位为克/升。
进一步的,所述无镀铜部分与修复液反应的时间为35秒。
进一步的,通过涂覆来实施无镀铜部分与修复液的接触。
进一步的,通过机加工实现金属表面镀铜的去除。
进一步的,所述无镀铜部分与修复液反应的加热温度为35℃,反应时间为35秒。
实施例6
材料20钢,整体镀铜后,触表面无镀铜膜,无膜处化学法镀铜。
修复液的溶质为硫酸铜、硫脲和次磷酸钠,所述修复液的溶剂为水;硫酸铜的质量与水的容积比为30:1,单位为克/升;硫脲的质量与水的容积比为0.4:1,单位为克/升;次磷酸钠的质量与水的容积比为5:1,单位为克/升。
进一步的,所述无镀铜部分与修复液反应的时间为30秒。
进一步的,通过涂覆来实施无镀铜部分与修复液的接触。
进一步的,通过机加工实现金属表面镀铜的去除。
进一步的,所述无镀铜部分与修复液反应的加热温度为30℃,反应时间为25秒。
实施例7
接触端板材料10钢,整体镀铜后机触点表面的镀铜膜损伤,损伤膜处化学法镀铜。
修复液的溶质为硫酸铜、硫脲和次磷酸钠,所述修复液的溶剂为水;硫酸铜的质量与水的容积比为20:1,单位为克/升;硫脲的质量与水的容积比为0.2:1,单位为克/升;次磷酸钠的质量与水的容积比为3:1,单位为克/升。
进一步的,所述无镀铜部分与修复液反应的时间为40秒。
进一步的,通过涂覆来实施无镀铜部分与修复液的接触。
进一步的,通过机加工实现金属表面镀铜的去除。
进一步的,所述无镀铜部分与修复液反应的加热温度为40℃,反应时间为40秒。
实施例8
接触片材料45钢,整体镀铜后触表面的镀铜膜损伤,损伤膜处化学法镀铜。
修复液的溶质为硫酸铜、硫脲和次磷酸钠,所述修复液的溶剂为水;硫酸铜的质量与水的容积比为25:1,单位为克/升;硫脲的质量与水的容积比为0.3:1,单位为克/升;次磷酸钠的质量与水的容积比为4:1,单位为克/升。
进一步的,所述无镀铜部分与修复液反应的时间为35秒。
进一步的,通过涂覆来实施无镀铜部分与修复液的接触。
进一步的,通过机加工实现金属表面镀铜的去除。
进一步的,所述无镀铜部分与修复液反应的加热温度为35℃,反应时间为35秒。
实施例9
材料20钢,整体镀铜后触表面的镀铜膜损伤,损伤膜处化学法镀铜。
修复液的溶质为硫酸铜、硫脲和次磷酸钠,所述修复液的溶剂为水;硫酸铜的质量与水的容积比为30:1,单位为克/升;硫脲的质量与水的容积比为0.4:1,单位为克/升;次磷酸钠的质量与水的容积比为5:1,单位为克/升。
进一步的,所述无镀铜部分与修复液反应的时间为30秒。
进一步的,通过涂覆来实施无镀铜部分与修复液的接触。
进一步的,通过机加工实现金属表面镀铜的去除。
进一步的,所述无镀铜部分与修复液反应的加热温度为30℃,反应时间为25秒。
Claims (10)
1.一种金属表面的镀铜方法,所述镀铜方法包括第一镀铜工艺和第二镀铜工艺,第一镀铜工艺和第二镀铜工艺不同;由所述第一镀铜工艺使得部分金属表面镀铜,由第二镀铜工艺对无镀铜的金属表面进行镀铜;
第二镀铜工艺中将无镀铜部分与修复液接触进行化学反应,化学反应时的加热温度为30~40℃;在无镀铜部分与修复液反应后进行水洗和干燥;
其中,所述修复液的溶质为硫酸铜、硫脲和次磷酸钠,所述修复液的溶剂为水;硫酸铜的质量与水的容积比为20~30:1,单位为克/升;硫脲的质量与水的容积比为0.2~0.4:1,单位为克/升;次磷酸钠的质量与水的容积比为3~5:1,单位为克/升。
2.如权利要求1所述的一种金属表面的镀铜方法,其特征在于:所述无镀铜部分与修复液反应的时间为25~40秒。
3.如权利要求1所述的一种金属表面的镀铜方法,其特征在于:通过喷淋、涂覆和浸泡来实施无镀铜部分与修复液的接触。
4.如权利要求1所述的一种金属表面的镀铜方法,其特征在于:所述无镀铜部分与修复液反应的加热温度为35℃,反应时间为30秒。
5.一种金属表面的镀铜方法,所述镀铜方法包括第一镀铜工艺和第二镀铜工艺,第一镀铜工艺和第二镀铜工艺不同;由所述第一镀铜工艺使得金属表面镀铜,再去除部分金属表面的镀铜,使得形成部分无镀铜的金属表面,由第二镀铜工艺对无镀铜的金属表面进行镀铜;
第二镀铜工艺中将无镀铜部分与修复液接触进行化学反应,化学反应时的加热温度为30~40℃;在无镀铜部分与修复液反应后进行水洗和干燥。
其中,所述修复液的溶质为硫酸铜、硫脲和次磷酸钠,所述修复液的溶剂为水;硫酸铜的质量与水的容积比为20~30:1,单位为克/升;硫脲的质量与水的容积比为0.2~0.4:1,单位为克/升;次磷酸钠的质量与水的容积比为3~5:1,单位为克/升。
6.如权利要求5所述的一种金属表面的镀铜方法,其特征在于:所述无镀铜部分与修复液反应的时间为25~40秒。
7.如权利要求5所述的一种金属表面的镀铜方法,其特征在于:通过喷淋、涂覆和浸泡来实施无镀铜部分与修复液的接触。
8.如权利要求5所述的一种金属表面的镀铜方法,其特征在于:所述无镀铜部分与修复液反应的加热温度为35℃,反应时间为30秒。
9.一种镀铜金属表面的修补方法,所述镀铜金属表面存在镀铜去除部分,将去除了所述镀铜的金属表面与修复液接触进行化学反应,化学反应时的加热温度为30~40℃;在无镀铜部分与修复液反应后进行水洗和干燥;
其中,所述修复液的溶质为硫酸铜、硫脲和次磷酸钠,所述修复液的溶剂为水;硫酸铜的质量与水的容积比为20~30:1,单位为克/升;硫脲的质量与水的容积比为0.2~0.4:1,单位为克/升;次磷酸钠的质量与水的容积比为3~5:1,单位为克/升。
10.如权利要求5所述的一种金属表面的镀铜方法,其特征在于:所述无镀铜部分与修复液反应的时间为30~40秒。
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Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101078111A (zh) * | 2006-05-26 | 2007-11-28 | 佛山市顺德区汉达精密电子科技有限公司 | 一种化学镀铜溶液及其工艺 |
CN101665962A (zh) * | 2009-09-04 | 2010-03-10 | 厦门大学 | 一种钢铁基底上碱性无氰镀铜电镀液及其制备方法 |
CN102277600A (zh) * | 2011-08-18 | 2011-12-14 | 朱国军 | 一种电镀铜门表面处理的方法 |
CN102337527A (zh) * | 2011-09-14 | 2012-02-01 | 哈尔滨工业大学 | 高速环保化学镀铜溶液 |
CN102492940A (zh) * | 2010-08-19 | 2012-06-13 | 比亚迪股份有限公司 | 一种塑料制品的制备方法及一种塑料制品 |
CN103094193A (zh) * | 2011-11-02 | 2013-05-08 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 一种铜互连结构的制造方法 |
CN103160817A (zh) * | 2011-12-19 | 2013-06-19 | 李平 | 一种化学镀铜溶液 |
CN103668139A (zh) * | 2013-12-01 | 2014-03-26 | 刘芳圃 | 一种用于钢铁基体的化学镀铜液 |
CN105593403A (zh) * | 2013-11-22 | 2016-05-18 | 韩国生产技术研究院 | 化学镀铜液组合物以及利用该化学镀铜液组合物的化学镀铜方法 |
CN106676501A (zh) * | 2015-11-10 | 2017-05-17 | 天津瑞赛可新材料科技有限公司 | 一种化学镀铜镀液 |
CN109097726A (zh) * | 2017-12-15 | 2018-12-28 | 深圳科诺桥科技股份有限公司 | 挠性覆铜板的制备方法 |
-
2019
- 2019-10-18 CN CN201910994464.1A patent/CN110684969A/zh active Pending
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101078111A (zh) * | 2006-05-26 | 2007-11-28 | 佛山市顺德区汉达精密电子科技有限公司 | 一种化学镀铜溶液及其工艺 |
CN101665962A (zh) * | 2009-09-04 | 2010-03-10 | 厦门大学 | 一种钢铁基底上碱性无氰镀铜电镀液及其制备方法 |
CN102492940A (zh) * | 2010-08-19 | 2012-06-13 | 比亚迪股份有限公司 | 一种塑料制品的制备方法及一种塑料制品 |
CN102277600A (zh) * | 2011-08-18 | 2011-12-14 | 朱国军 | 一种电镀铜门表面处理的方法 |
CN102337527A (zh) * | 2011-09-14 | 2012-02-01 | 哈尔滨工业大学 | 高速环保化学镀铜溶液 |
CN103094193A (zh) * | 2011-11-02 | 2013-05-08 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 一种铜互连结构的制造方法 |
CN103160817A (zh) * | 2011-12-19 | 2013-06-19 | 李平 | 一种化学镀铜溶液 |
CN105593403A (zh) * | 2013-11-22 | 2016-05-18 | 韩国生产技术研究院 | 化学镀铜液组合物以及利用该化学镀铜液组合物的化学镀铜方法 |
CN103668139A (zh) * | 2013-12-01 | 2014-03-26 | 刘芳圃 | 一种用于钢铁基体的化学镀铜液 |
CN106676501A (zh) * | 2015-11-10 | 2017-05-17 | 天津瑞赛可新材料科技有限公司 | 一种化学镀铜镀液 |
CN109097726A (zh) * | 2017-12-15 | 2018-12-28 | 深圳科诺桥科技股份有限公司 | 挠性覆铜板的制备方法 |
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PB01 | Publication | ||
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RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
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