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CN110265441A - 一种显示面板及其显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种显示面板及其显示装置，一方面，通过在所述显示面板的显示区域的封装层远离所述基板的一侧表面局部向下凹陷直至所述增透膜层朝向所述薄膜晶体管层的一侧表面形成凹槽，在所述基板远离所述薄膜晶体管的一侧对应于所述凹槽的位置处设置摄像头，以此减少工艺流程，提升产能良率，实现全面屏。另一方面，本发明还增加了增透膜层，以此提高凹槽处的通过率，避免摄像头成像困难的现象。

Description

一种显示面板及其显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板及其显示装置。
背景技术
OLED(英文全称：Organic Light-Emitting Diode,简称OLED)器件又称为有机电激光显示装置、有机发光半导体。OLED的基本结构是由一薄而透明具有半导体特性的铟锡氧化物(ITO)与电力之正极相连，再加上另一个金属面阴极，包成如三明治的结构。整个结构层中包括了:空穴传输层(HTL)、发光层(EL)与电子传输层(ETL)。当电力供应至适当电压时，正极空穴与面阴极电荷就会在发光层中结合，在库伦力的作用下以一定几率复合形成处于激发态的激子(电子-空穴对)，而此激发态在通常的环境中是不稳定的，激发态的激子复合并将能量传递给发光材料，使其从基态能级跃迁为激发态，激发态能量通过辐射驰豫过程产生光子，释放出光能，产生光亮，依其配方不同产生红、绿和蓝RGB三基色，构成基本色彩。
首先OLED的特性是自己发光，不像薄膜晶体管液晶显示装置(英文全称：Thinfilm transistor-liquid crystal display，简称TFT-LCD)需要背光，因此可视度和亮度均高。其次OLED具有电压需求低、省电效率高、反应快、重量轻、厚度薄，构造简单，成本低、广视角、几乎无穷高的对比度、较低耗电、极高反应速度等优点，已经成为当今最重要的显示技术之一，正在逐步替代TFT-LCD，有望成为继LCD之后的下一代主流显示技术。
由于其便于对外观进行定制化，越来越多的终端厂商将其应用到全面屏和无边框产品中。而全面屏和无边框产品需要更大的发光面积，因此，在实际应用过程中，通常需要在柔性有机发光显示器上设置安装孔，用以在终端设备上预留前置摄像头、听筒和起始键等硬件的安装位置。目前一般是在显示面板的有效显示区域外的非显示区域设置安装孔，这种方式限制了有效显示区域的面积，无法制备全面屏。因此需要寻求一种新型的显示面板及显示装置以解决上述问题。
发明内容
本发明的一个目的是提供一种显示面板及其显示装置，其能够解决目前的显示面板限制了显示区域，无法实现全面屏等问题。
为了解决上述问题，本发明的一个实施方式提供了一种显示面板，其定义有显示区域，其中包括：基板、增透膜层、薄膜晶体管层以及封装层。其中所述增透膜层设置于所述基板上；所述薄膜晶体管层设置于所述增透膜层上；所述封装层设置于所述薄膜晶体管层上。其中所述显示区域的封装层远离所述基板的一侧表面局部向下凹陷直至所述增透膜层朝向所述薄膜晶体管层的一侧表面形成凹槽。
进一步的，其中所述凹槽形状包括矩形、倒立梯形中的一种。
进一步的，其中所述凹槽包括2个或2个以上的数量。
进一步的，其中所述增透膜层通过离子束辅助沉积制程或化学沉积制程形成在所述基板上。
进一步的，其中所述增透膜层包括第一膜层、第二膜层和第三膜层，其中所述第一膜层设置在所述基板上；其中所述第二膜层对入射光的折射率大于第一膜层和第三膜层对入射光的折射率，所述第一膜层对入射光的折射率大于第三膜层对入射光的折射率。
进一步的，其中所述第一膜层采用的材料为Al2O3；所述第二膜层采用的材料为ZrO2；所述第三膜层采用的材料为SiO2。
进一步的，其中所述第一膜层、第二膜层和第三膜层的厚度范围均为100-300nm。
进一步的，其中所述第一膜层的厚度范围为110-150nm；所述第二膜层的厚度范围为240-280nm；所述第三膜层的厚度范围为110-150nm。
进一步的，其中所述显示面板还包括阳极、像素定义层、发光层以及阴极。其中所述阳极间隔设置于所述薄膜晶体管层上；所述像素定义层设置于相邻两阳极之间的所述薄膜晶体管层上；所述发光层设置于所述阳极和像素定义层上；所述阴极设置于所述发光层上；其中所述封装层设置于所述阴极上。
本发明的另一个实施方式还提供了一种显示装置，包括：显示面板和设置在所述显示面板下的摄像头；其中所述显示面板为本发明涉及的显示面板；所述摄像头设置于所述显示面板下对应于所述凹槽的位置处。
本发明的优点是：本发明涉及一种显示面板及其显示装置，一方面，本发明在所述显示区域的封装层远离所述基板的一侧表面局部向下凹陷直至所述增透膜层朝向所述薄膜晶体管层的一侧表面形成凹槽，在所述基板远离所述薄膜晶体管的一侧对应于所述凹槽的位置处设置摄像头，以此减少工艺流程，提升产能良率，实现全面屏。另一方面，本发明还增加增透膜层，以此提高凹槽处的通过率，避免摄像头成像困难的现象。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明显示面板的结构示意图。
图2是本发明显示装置的结构示意图。
图3是本发明显示面板的平面示意图。
图中部件标识如下：
100、显示面板 200、摄像头
1、基板 2、增透膜层
3、薄膜晶体管层 4、阳极
5、像素定义层 6、发光层
7、阴极 8、封装层
9、凹槽 11、第一衬底
12、中间层 13、第二衬底
21、第一膜层 22、第二膜层
23、第三膜层
具体实施方式
以下结合说明书附图详细说明本发明的优选实施例，以向本领域中的技术人员完整介绍本发明的技术内容，以举例证明本发明可以实施，使得本发明公开的技术内容更加清楚，使得本领域的技术人员更容易理解如何实施本发明。然而本发明可以通过许多不同形式的实施例来得以体现，本发明的保护范围并非仅限于文中提到的实施例，下文实施例的说明并非用来限制本发明的范围。
本发明所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是附图中的方向，本文所使用的方向用语是用来解释和说明本发明，而不是用来限定本发明的保护范围。
在附图中，结构相同的部件以相同数字标号表示，各处结构或功能相似的组件以相似数字标号表示。此外，为了便于理解和描述，附图所示的每一组件的尺寸和厚度是任意示出的，本发明并没有限定每个组件的尺寸和厚度。
当某些组件，被描述为“在”另一组件“上”时，所述组件可以直接置于所述另一组件上；也可以存在一中间组件，所述组件置于所述中间组件上，且所述中间组件置于另一组件上。当一个组件被描述为“安装至”或“连接至”另一组件时，二者可以理解为直接“安装”或“连接”，或者一个组件通过一中间组件“安装至”或“连接至”另一个组件。
实施例1
如图1所示，一种显示面板100，其定义有显示区域，其中包括：基板1、增透膜层2、薄膜晶体管层3、阳极4、像素定义层5、发光层6、阴极7以及封装层8。
其中所述基板1包括：第一衬底11、中间层12以及第二衬底13。其中所述第一衬底11与所述第二衬底13的厚度范围均为6-10μm。如果所述第一衬底11与所述第二衬底13的厚度范围小于6μm，由于生产工艺问题会导致生产成本提高；如果所述第一衬底11与所述第二衬底13的厚度范围大于10μm，会导致显示面板100整体厚度增加，影响产品美观，影响使用手感。其中所述第一衬底11与所述第二衬底13的组成材料可以选择聚酰亚胺，由此制成的所述第一衬底11与所述第二衬底13柔韧性好。其中所述中间层12的组成材料可以是SiO2也可以是SiNx，还可以是SiO2与SiNx的叠层结构，由此制备的所述中间层12阻水氧性能好，还可以提高第一衬底11与第二衬底13之间的信耐性。
其中所述薄膜晶体管层3设置于所述基板1上，所述增透膜层2设置于所述基板1与所述薄膜晶体管层3之间。其中所述增透膜层2包括：第一膜层21、第二膜层22以及第三膜层23。其中所述第一膜层21设置于所述基板1上，所述第二膜层22设置于所述第一膜层21上，所述第三膜层23设置于所述第二膜层22上。其中所述增透膜层2可以通过离子束辅助沉积制程或化学沉积制程形成在所述基板1上。
其中所述第二膜层22对入射光的折射率大于第一膜层21和第三膜层23对入射光的折射率，所述第一膜层21对入射光的折射率大于第三膜层23对入射光的折射率。具体的，所述第一膜层21的组成材料为Al2O3；所述第二膜层22的组成材料为ZrO2；，所述第三膜层21的组成材料为SiO2。由此可以利用λ/4-λ/2-λ/4三层减反射膜结构，有效提高显示面板100的透过率，另外此增透膜层2还可以起到很好的水氧阻隔效果，避免显示区域的发光层6遭水汽入侵产生显示异常。
其中所述第一膜层21、第二膜层22和第三膜层23的厚度范围均为100-300nm。具体的，其中所述第一膜层21的厚度范围为110-150nm；所述第二膜层的厚度范围为240-280nm；所述第三膜层的厚度范围为110-150nm。由此可以达到增加透过率的最佳效果。
其中所述阳极4间隔设置于所述薄膜晶体管层3上；所述像素定义层5设置于相邻两阳极4之间的所述薄膜晶体管层3上；所述发光层6设置于所述阳极4和像素定义层5上；所述阴极7设置于所述发光层6上；所述封装层8设置于所述阴极7上。
本实施例的显示面板100在所述显示区域的封装层8远离所述基板1的一侧表面局部向下凹陷直至所述增透膜层2朝向所述薄膜晶体管层3的一侧表面形成凹槽9。其中所述凹槽9形状可以是矩形也可以是倒立梯形，本实施例所述的凹槽9形状为矩形。实际生产过程中可以根据实际需求，增加凹槽9的数量，可以是2个或2个以上。本实施例通过在显示面板100的显示区域设置凹槽9，可以增大显示面积，达到全面屏效果。
实施例2
以下仅就本实施例与实施例1之间的相异之处进行说明，而其相同之处则在此不再赘述。
如图2所示，本实施方式还提供了一种显示装置，其中包括：本发明涉及的显示面板100以及设置在所述显示面板100下的摄像头200。其中所述摄像头200设置于所述显示面板100下对应于所述凹槽9的位置处。如此可以增加显示装置的显示面积，达到全面屏效果。
具体的，所述显示面板100中的凹槽9的投影面积可以大于所述摄像头200的投影，以此增加摄像头200的采光面积，提高摄像头200的成像效果，增加客户体验度。
如图3所示，在实际生产过程中，所述凹槽9可以包括2个以上的数量，并且所述凹槽9阵列排布形成图中虚线所示的开口区域，所述摄像头200对应于此开口区域设置，由此同样可以达到显示效果，并且可以增加显示装置的显示面积，达到全面屏效果。
以上对本发明所提供的显示面板及其显示装置进行了详细介绍。应理解，本文所述的示例性实施方式应仅被认为是描述性的，用于帮助理解本发明的方法及其核心思想，而并不用于限制本发明。在每个示例性实施方式中对特征或方面的描述通常应被视作适用于其他示例性实施例中的类似特征或方面。尽管参考示例性实施例描述了本发明，但可建议所属领域的技术人员进行各种变化和更改。本发明意图涵盖所附权利要求书的范围内的这些变化和更改，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种显示面板，其定义有显示区域，其特征在于，包括：
基板；
增透膜层，所述增透膜层设置于所述基板上；
薄膜晶体管层，所述薄膜晶体管层设置于所述增透膜层上；以及
封装层，所述封装层设置于所述薄膜晶体管层上；
其中所述显示区域的封装层远离所述基板的一侧表面局部向下凹陷直至所述增透膜层朝向所述薄膜晶体管层的一侧表面形成凹槽。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述凹槽形状包括矩形、倒立梯形中的一种。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述凹槽包括2个或2个以上的数量。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述增透膜层通过离子束辅助沉积制程或化学沉积制程形成在所述基板上。
5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述增透膜层包括第一膜层、第二膜层和第三膜层，其中所述第一膜层设置在所述基板上；其中所述第二膜层对入射光的折射率大于第一膜层和第三膜层对入射光的折射率，所述第一膜层对入射光的折射率大于第三膜层对入射光的折射率。
6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述第一膜层采用的材料为Al2O3；所述第二膜层采用的材料为ZrO2；所述第三膜层采用的材料为SiO2。
7.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述第一膜层、第二膜层和第三膜层的厚度范围均为100-300nm。
8.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述第一膜层的厚度为110-150nm；所述第二膜层的厚度为240-280nm；所述第三膜层的厚度为110-150nm。
9.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括：
阳极，所述阳极间隔设置于所述薄膜晶体管层上；
像素定义层，所述像素定义层设置于相邻两阳极之间的所述薄膜晶体管层上；
发光层，所述发光层设置于所述阳极和像素定义层上；以及
阴极，所述阴极设置于所述发光层上；
其中所述封装层设置于所述阴极上。
10.一种显示装置，包括：显示面板和设置在所述显示面板下的摄像头；其特征在于，所述显示面板为权利要求1所述的显示面板；所述摄像头设置于所述显示面板下对应于所述凹槽的位置处。
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