CN108140125B - 光学指纹成像系统和面阵传感器 - Google Patents

Abstract

一种光学指纹成像系统和一种面阵传感器，所述光学指纹成像系统包括：盖板(203，303，403，506)、背光源(201，304，404，503)、设置在盖板(203，303，403，506)和背光源(201，304，404，503)之间的面阵传感器(202)以及光学组件(204)；面阵传感器(202)包括像素阵列(301，401，501)，每个像素具有不透光区域和透光区域，不透光区域包括用于将入射光转换成电信号的感光器件，透光区域被配置为允许来自背光源(201，304，404，503)的光通过；光学组件(204)适于部分地阻挡从盖板(203，303，403，506)到感光器件的光，且被配置有位于盖板(203，303，403，506)和每个感光器件之间的至少一个光通道(302)，光通道(302)允许方向在预设范围内的光通过。

Description

光学指纹成像系统和面阵传感器

技术领域

本发明主要涉及光学成像领域，尤其涉及一种光学指纹成像系统和一种面阵传感器。

背景技术

光学指纹成像系统基于光反射/折射和光传感实现指纹图像采集。具体地，当手指接触到光学指纹成像系统的有效区域时，从指纹成像系统发出的光到达指纹成像系统与手指之间的界面，并且在界面处部分地被反射。由于在界面的不同区域(例如，被手指的脊或谷触摸的区域)处反射的光可能具有不同的强度，手指指纹的特征可以用光强变化来表示。在一些解决方案中，反射光可以被传感器接收，然后被转换为电信号。通过处理电信号可以获得指纹图像。

参考图1，图1示出了一种现有的光学指纹成像系统100。所述光学指纹成像系统100包括背光源101、光学面阵传感器102和盖板103。当手指20触摸盖板103时，从背光源101发射的光穿过所述光学面阵传感器102和盖板103，到达手指20和盖板103之间的界面，在界面处发生反射和折射。反射光穿过所述盖板103并到达所述光学面阵传感器102。所述光学面阵传感器102包括像素阵列(例如，光电二极管或晶体管)，对接收的反射光进行光电转换，从而获得正比于反射光强度的电信号，基于该电信号可以生成手指20的指纹图像。

然而，在现有的光学指纹成像系统中，在界面处的某一特定点发生反射的光线可能沿着多个方向传输，因此它不仅到达位于界面该特定点正下方的对应像素，还可能照射到其他相邻像素，使得最终获得的指纹图像模糊不清。

因此，需要一种能够以高对比度获得指纹图像的光学指纹成像系统。

发明内容

本发明实施例提供一种光学指纹成像系统。所述光学指纹成像系统包括：透光盖板、背光源、设置于所述盖板和所述背光源之间的面阵传感器、以及光学组件；其中，所述面阵传感器包括像素阵列，所述面阵传感器的像素具有不透光区域和透光区域，所述不透光区域包括感光器件，所述感光器件用于将入射光转换为电信号，所述透光区域被配置为所述背光源的光能够通过所述透光区域；所述光学组件适于部分地阻挡从所述盖板到所述感光器件的光，并且被配置有至少一个光通道，所述光通道位于所述盖板和每个所述感光器件之间、且允许方向在预设范围的光通过。

在一些实施例中，所述光学组件包括设置于所述面阵传感器与所述盖板之间的遮光层；所述遮光层具有与每个所述感光器件相对应的至少一个透光孔；所述遮光层中的至少一个透光孔作为所述光通道。

在一些实施例中，所述透光孔为空洞或者填充有透光材料。

在一些实施例中，所述遮光层具有与每个像素对应的透光部，所述透光部允许所述背光源的光穿过。

在一些实施例中，所述遮光层的透光部包括多个孔，所述孔为空洞或填充有透光材料。

在一些实施例中，所述遮光层具有多层结构。

在一些实施例中，所述光学组件设置在所述面阵传感器与所述盖板之间；所述光学组件包括至少两个遮光层、及设置于每相邻两个遮光层之间的透光层；每个遮光层具有与每个所述感光器件对应的至少一个透光孔，不同遮光层中的透光孔至少部分重叠；所述遮光层中的透光孔和位于所述遮光层之间的透光层形成所述光通道。

在一些实施例中，所述透光孔填充有所述透光层或透光材料。

在一些实施例中，每个所述遮光层具有与每个所述像素对应的透光部，所述透光部允许来自所述背光源的光穿过。

在一些实施例中，所述遮光层的透光部包括多个孔，所述孔填充有透光层或透光材料。

在一些实施例中，所述遮光层具有多层结构。

在一些实施例中，所述透光层具有多层结构。

在一些实施例中，所述感光器件是光电二极管。

在一些实施例中，所述感光器件是光电二极管；所述面阵传感器的基板作为所述盖板，且所述基板上形成有所述光电二极管；所述光电二极管和所述基板之间形成有两个金属层和位于所述两个金属层之间的透光层；每个所述金属层具有对应于每个所述光电二极管的至少一个透光孔，所述两个金属层中的所述透光孔至少部分重叠；所述两个金属层中的透光孔和位于其间的所述透光层形成所述光通道。

在一些实施例中，所述两个金属层分别作为所述面阵传感器的驱动线和数据线；所述透光层作为绝缘层、且可以由氮化硅或氧化硅制成。

在一些实施例中，所述金属层中的所述透光孔填充有所述透光层或透光材料。

在一些实施例中，所述金属层具有多层结构。

在一些实施例中，所述透光层具有多层结构。

因此，在所述光学指纹成像系统中，在每个感光器件(例如光电二极管)和盖板之间配置有至少一个光通道。只有方向在预设范围内的光线才能通过所述光通道到达所述感光器件，而被其他像素上方的指纹反射、且方向在所述预设范围之外的光无法到达所述感光器件，从而消除了相邻像素之间的干扰，并且增强了所述光学指纹成像系统获得的指纹图像的对比度。

附图说明

图1是现有一种光学指纹成像系统的结构示意图；

图2是本发明一个实施例的光学指纹成像系统的结构示意图；

图3是本发明一个实施例的光学指纹成像系统的面阵传感器的结构示意图；

图4是本发明一个实施例的配置有光通道的像素的俯视图；

图5是图4中配置有光通道的像素沿着A-A线的截面图；

图6是本发明另一个实施例的配置有光通道的像素的截面图；

图7是本发明另一个实施例的配置有光通道的像素的截面图；

图8是本发明另一个实施例的配置有光通道的像素的截面图；

图9是本发明另一个实施例的配置有光通道的像素的截面图；

图10是本发明另一个实施例的配置有光通道的像素的截面图；

图11是本发明另一个实施例的配置有光通道的像素的截面图；

图12是本发明另一个实施例的配置有光通道的像素的截面图；

图13是本发明另一个实施例的配置有光通道的像素的截面图；以及

图14是本发明另一个实施例的配置有光通道的像素的截面图。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施例作详细的说明。本发明将通过某些具体的实施例来描述，但本发明不限于所公开的实施例。本领域技术人员能够理解，可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下对实施例作各种改变。

参考图2和图3，图2和图3示出了根据本发明的一个实施例的光学指纹成像系统200。所述光学指纹成像系统200包括背光源201、面阵传感器202以及透光盖板203，其中所述面阵传感器202设置于所述背光源201与所述盖板203之间。

所述面阵传感器202包括像素阵列2021，所述面阵传感器202的像素2021具有不透光区域和透光区域，所述不透光区域包括感光器件(图2和图3中未标示)，所述感光器件用于将输入光转换成电信号，所述透光区被配置为允许来自所述背光源201的光通过。因此，所述背光源201发射的入射光适于穿透所述像素2021的透光区域和盖板203，到达所述盖板203与所述盖板203上的手指之间的界面。所述入射光在界面处部分地被反射，形成反射光。所述反射光(即输入光)到达所述像素2021中用于进行光电转换的感光器件，获得与所述反射光对应的电信号。此后，所述电信号经过进一步处理生成手指的指纹图像。

因此，当进行指纹成像时，从所述背光源201发出的光穿透所述像素2021的透光区域，到达所述盖板203和与所述盖板203接触的手指之间的界面。被界面反射的光到达用于进行光电转换的光学面阵传感器202的像素2021，从而获得手指的指纹图像。

所述光学指纹成像系统200还包括设置于所述盖板203和所述光学面阵传感器202之间的光学组件204。所述光学组件204适于部分地阻挡从所述盖板203到所述面阵传感器202的感光器件的光(即反射光)。

具体地，所述光学组件204被配置有至少一个光通道(图2和图3中未示出)，所述光通道位于所述盖板203和每个所述感光器件之间，所述光通道被配置为允许方向在预设范围内的光通过，而阻止被其他像素上的指纹反射、且方向在所述预设范围之外的光通过，因此消除了不同像素之间的干扰，增强了所述光学指纹成像系统获得的指纹图像的对比度。

参考图4和图5，图4和图5示出了本发明的一个实施例的配置有光通道的像素的示意图。所述像素301包括感光器件(图4和图5中未标示)。所述感光器件具有第一表面3011以及与所述第一表面3011相对的第二表面3012。所述第一表面3011是一个透光表面并且面向所述盖板303设置。所述第二表面3012是不透光表面且面向所述背光源304设置。即，所述感光器件适于将穿过所述第一表面3011的输入光转换为电信号，而阻止来自所述背光源304的光穿过所述第二表面3012进入所述感光器件。

在一些实施例中，所述感光器件可以是光电二极管，所述第一表面3011可以是正电极板的一个表面，所述第二表面3012可以是负电极板的一个表面。或者，所述第一表面3011是负电极板的一个表面，而所述第二表面3012是正电极板的一个表面。

如图5所示，所述光通道302设置于遮光层305中。具体地，所述遮光层305设置在所述感光器件的第一表面3011和所述盖板303之间。在一些实施例中，所述光通道302可以是形成在所述遮光层305中的透光孔。在一些实施例中，所述透光孔是空洞。在一些实施例中，所述透光孔填充有透光材料，所述透光孔可以通过在所述遮光层305中形成通孔，然后在所述通孔中填充透光材料来形成。在一些实施例中，所述透光材料可以是氮化硅、氧化硅、透光塑料或透光有机膜。

所述遮光层305具有不透光部3052，所述不透光部3052由不透光材料制成且适于阻止光线通过。在一些实施例中，所述不透光部3052由金属、不透光有机膜、不透光塑料或硅制成。

在一些实施例中，所述遮光层305可以具有多层结构。

应当注意的是，图5仅示出了形成有光通道302的部分所述不透光部3052。可以理解的是，所述不透光部3052的形状不限于此，只要所述不透光部3052能够部分阻挡透射所述盖板303的光线、并阻止所述光线到达相应的感光器件即可。

继续参考图5，所述遮光层305还具有对应于所述像素301的透光部3051。因此，所述背光源304发出的光可以穿过所述像素301的透光区域以及所述遮光层305的透光部3051，从而到达所述盖板303。

应该注意的是，图5仅示出了所述透光部3051的截面，然而本发明实施例并不限于此，所述透光部3051的形状或形式可以是多种，只要所述背光源304发出的光能够通过所述透光部3051即可。在一些实施例中，所述透光部3051可以包括多个孔，所述孔为空洞或者填充有透光材料。

因此，当进行指纹图像采集时，所述背光源304发出的入射光穿透所述像素301的透光区域、所述透光部3051与所述盖板303，在所述盖板303和所述盖板303上的手指之间的界面反射形成反射光。所述反射光(即输入光)被反射至所述感光器件的第一表面3011，然后进入所述感光器件中。由于所述不透光部3052和所述光通道302设置于所述感光器件的第一表面3011上，只有方向在预设范围内的光线才能通过所述光通道302到达所述感光器件的第一表面3011。即，只有方向在预设范围内的光被用于生成手指的指纹图像。

需要说明的是，光方向的预设范围是指光相对于垂直像素301的轴(如图5中的虚线所示)的角度范围。光方向的预设范围由所述光通道302的尺寸决定，例如所述光通道302的截面尺寸和所述光通道302的深度。需要说明的是，所述光通道302的截面尺寸是指所述光通道302在垂直于轴线的平面上的投影的尺寸。所述光通道302的深度是指所述光通道302沿着轴线的尺寸。在一些实施例中，如图4和图5所示，所述光通道302可以被配置为具有圆形横截面。在一些实施例中，所述光通道302可以被配置为具有矩形横截面。因此，所述光方向的预设范围由所述光通道302的宽深比决定。所述宽度是指所述光通道沿垂直于所述轴的方向的尺寸，例如所述圆形横截面的直径，或者所述矩形横截面的边长。具体而言，所述光方向的预设范围随着所述光通道302的宽深比的增加而增大、随着所述光通道302的宽深比的减小而减小。

因此，通过调整所述光通道302的截面尺寸和深度，可以将所述光通道302配置为允许基本垂直于所述像素301的光通过，而阻止某一像素上的指纹所反射的光线穿过其他像素上的光通道、并到达所述其他像素中的感光器件的第一表面。这种方法消除了像素之间的干扰，并提高了生成的指纹图像的对比度。

参考图6，图6示出了根据本发明的另一实施例的配置有光通道(图6中未标示)的像素401的结构示意图。所述像素401包括感光器件(图6中未标示)。所述感光器件具有第一表面4011和与所述第一表面4011相对的第二表面4012。所述第一表面4011是透光表面并且面向盖板403设置。所述第二表面4012是不透光表面并且面向背光源404设置。即，所述感光器件适于将穿过所述第一表面4011的输入光转换为电信号，并阻止来自所述背光源404的光穿过所述第二表面4012进入所述感光器件。

所述光通道形成于叠层结构405中，所述叠层结构405包括两个遮光层和设置于所述两个遮光层之间的透光层4053，所述两个遮光层分别是第一遮光层4051和第二遮光层4052。所述第一遮光层4051包括第一透光孔40511，所述第二遮光层4052包括第二透光孔40521。所述第一透光孔40511和所述第二透光孔40521沿垂直于所述像素401的方向上至少部分地重叠。即，所述像素401上的所述第一透光孔40511和所述第二透光孔40521沿垂直于所述像素401的方向上的投影至少部分地重叠。所述第一透光孔40511、所述第二透光孔40521和位于其间的所述透光层4053形成光通道。

因此，所述光通道可以被配置为只允许方向在预设范围内的光线穿过并到达所述感光器件的第一表面4011，从而消除了不同像素之间的干扰，提高了所述指纹成像系统的性能。

在一些实施例中，所述第一透光孔40511和所述第二透光孔40521填充有透光材料。在一些实施例中，所述光通道填充有所述透光层4053。即，所述第一透光孔40511和所述第二透光孔40521与所述透光层4053可以在同一工艺或同一组工艺中形成。需要说明的是，所述光通道的材料不局限于本发明的实施例，只要满足光线能够穿过所述光通道即可。

如图6所示，所述第一遮光层4051还可以具有对应于所述像素401的第一透光部40512，所述第二遮光层4052还可以具有第二透光部40522。因此，所述背光源404的光能够穿透所述像素401的透光区域、所述第二遮光层4052的所述第二透光部40522、所述第一遮光层4051的所述第一透光部40512、到达所述盖板403。需要说明的是，图中仅示出了所述第一透光部40512和所述第二透光部40522的截面，它们的形状或形式可以是多种，只要所述背光源404发射的光能够通过所述第一透光部40512和所述第二透光部40522即可，本发明实施例对此不作限制。

在一些实施例中，所述第一透光部40512和所述第二透光部40522可以均填充有透光材料。在一些实施例中，所述第一透光部40512和所述第二透光部40522均填充有所述透光层4053。换句话说，所述第一遮光层4051的所述第一透光部40512、所述第二遮光层4052的所述第二透光部40522和所述透光层4053被配置为一体结构，并在同一工艺或同一组工艺中形成。

在一些实施例中，所述遮光层(即所述第一遮光层4051和所述第二遮光层4052)可以具有多层结构。在一些实施例中，所述透光层4053可以具有多层结构。

如图7所示，在一些实施例中，所述光通道的宽度相比于图6有所增加。因此，允许通过并到达所述感光器件的第一表面4011的光的方向的预设范围增大，使得更多的光线能够到达所述感光器件，用于实现更高灵敏度的指纹图像的采集。

在一些实施例中，参考图8，形成光通道的叠层结构405还包括所述第三遮光层4054和第二透光层4055。所述第三遮光层4054设置于所述第一遮光层4051和所述盖板403之间，所述第二透光层4055设置于所述第一遮光层4051和所述第三遮光层4054之间。即所述叠层结构405包括三个遮光层(所述第一遮光层4051、所述第二遮光层4052和所述第三遮光层4054)以及两个透光层(即所述第一透光层4053和所述第二透光层4055)，所述两个透光层分别设置在相邻的两个遮光层之间。需要说明的是，这里描述的“相邻的两个遮光层”是指所述两个遮光层之间没有设置遮光层。

所述第三遮光层4054被配置有第三透光孔40541。所述第一透光孔40511，所述第二透光孔40521和所述第三透光孔40541沿垂直于所述像素401的方向上至少部分重叠。所述第一透光孔40511、所述第二透光孔40521、所述第三透光孔40541、和位于其间的所述第一透光层4053与所述第二透光层4055形成所述光通道。

需要说明的是，在一些实施例中，所述叠层结构405可以包括：多于三个遮光层、以及位于每相邻两个遮光层中的透光层，其中每个遮光层分别配置有透光孔。即多个遮光层和多个透光层交替排列。所述多个透光孔和位于其间的透光层作为所述光通道。

参考图9，图9为根据本发明的另一实施例的配置有光通道(图中未标示)的像素501的结构示意图。所述像素501包括感光器件(图9中未标示)。

所述感光器件可以是光电二极管。所述光电二极管具有第一电极板5011以及与所述第一电极板5011相对的第二电极板5012，其中所述第一电极板5011是透光的、而所述第二电极板5012是不透光的。此外，所述第一电极板5011和所述第二电极板5012之间设置有半导体层。所述光电二极管适于将穿过所述第一电极板5011的光转换成电信号。

所述面阵传感器的基板504可以用作盖板，且所述背光源503放置在所述面阵传感器的顶表面。所述面阵传感器的顶表面是指所述面阵传感器与所述基板504相对的表面。此外，所述像素501形成于所述基板504上。具体地，所述基板504上设置有所述像素501的第一金属层5013，所述第一金属层5013上设置有透光层5014，所述透光层5014上设置有第二金属层5015。所述光电二极管的第一电极板5011面向所述第二金属层5015设置。所述第一金属层5013作为驱动线，所述第二金属层5015作为数据线，或者所述第一金属层5013作为数据线，而所述第二金属层5015作为驱动线。所述透光层5014作为绝缘层，其材料可以为氮化硅或氧化硅。

每个金属层(即所述第一金属层5013和所述第二金属层5015)具有对应于所述光电二极管的至少一个透光孔，并且不同金属层中的透光孔至少部分地重叠，其中所述金属层中的透光孔和位于其间的透光层形成所述光通道。具体地，如图9所示，所述第一金属层5013具有第一透光孔50131，所述第二金属层5015具有第二透光孔50151。所述第一透光孔50131和所述第二透光孔50151至少部分地重叠。所述第一透光孔50131、所述第二透光孔50151和位于其间的所述透光层5014形成所述光通道。因此，所述光通道被配置在所述像素中已有的层中，不需要增加额外的层。如上所述的配置有像素501的指纹成像系统的性能在不增加其尺寸的情况下得以改进。

为了减小能够通过的光的方向的预设范围、提高所述指纹成像系统的性能，需要增加所述光通道的深度。所述光通道的深度可以通过增加所述透光层5014的厚度来增加。然而，随着所述透光层5014的厚度的增加，制造复杂度和成本也增加。因此，在本发明的一些实施例中，所述光通道还包括第三透光孔，以在不增加制造复杂性和成本的情况下增加所述光通道的深度。

具体而言，如图10所示，所述光通道(图10中未标示)还包括第三透光孔5051。所述第三透光孔5051被配置于遮光层505中。所述遮光层505设置于所述基板504与所述盖板506之间。所述第一透光孔50131、第二透光孔50151和第三透光孔5051沿垂直于所述像素501的方向部分地重叠。

因此，所述光通道的深度增加，允许通过的光线的方向的预设范围减小。所述光通道可以被配置为允许基本垂直于所述像素501的光穿过并到达所述感光器件的第一表面5011。

进一步地，如图10所示，所述遮光层505还具有与所述像素501对应的透光部5052。所述透光部5052可以配置有多个孔，所述孔为空洞或者填充有透光材料。因此，所述背光源503发出的光线能够穿透所述像素501的透光区域、所述面阵传感器的基板504、以及所述遮光层505的透光部5052进而到达所述盖板506。应当注意的是，图中仅示出了所述透光部5052的横截面，所述透光部5052的形状或形式可以是多种，并不局限于本发明所述的实施例，只要所述背光源503发射的光能够穿过所述透光部5052即可。

由于所述遮光层505上形成有所述第三透光孔5051，所述遮光层505的厚度可以增加，如图11所示，所述第二金属层5015和所述第二透光孔50151可以被去除。此外，如图12所示，所述第一金属层5013和所述第一透光孔50131也可以被去除。因此，所述像素的平整度得以改善，并且其制造工艺得以简化。

在一些实施例中，如图13所示，光通道(图13中未标示)的截面尺寸可以增加，使得更多的光线能够到达所述感光器件，进而用于实现更高灵敏度的指纹图像的采集。

在一些实施例中，如图14所示，所述光通道(图14中未标示)被配置为叠层结构505。所述叠层结构505包括两个遮光层，分别为第一遮光层5053和第二遮光层5054，且所述第一遮光层5053和所述第二遮光层5054之间设置有透光层5055。所述第一遮光层5053设置有第一透光孔50531，所述第二遮光层5054设置有第二透光孔50541。所述第一透光孔50531和所述第二透光孔50541沿垂直于所述像素501的方向上至少部分地重叠。即所述像素501上的所述第一透光孔50531和所述第二透光孔50541沿垂直于所述像素501的方向上至少部分地重叠。所述第一透光孔50531、所述第二透光孔50541和所述透光层5055形成所述光通道。

在一些实施例中，所述叠层结构505可以包括：多于两个的遮光层、以及设置于每相邻两个遮光层之间的透光层，其中每个所述遮光层配置有透光孔。所述多个透光孔和位于其间的透光层形成所述光通道。

虽然本发明披露如上，但本发明并非限定于此。任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与修改，因此本发明不限于所披露的实施例。

Claims (17)

1.一种光学指纹成像系统，其特征在于，包括：透光盖板、背光源、设置于所述盖板和所述背光源之间的面阵传感器、以及光学组件；

其中，所述面阵传感器包括像素阵列，所述面阵传感器的像素具有不透光区域和透光区域，所述不透光区域包括感光器件，所述感光器件用于将入射光转换为电信号，所述透光区域被配置为所述背光源的光能够通过所述透光区域；

所述光学组件适于部分地阻挡从所述盖板到所述感光器件的光，并且被配置有至少一个光通道，所述光通道位于所述盖板和每个所述感光器件之间、且允许方向在预设范围内的光通过；

所述感光器件是光电二极管；

所述面阵传感器的基板作为所述盖板，且所述基板上形成有所述光电二极管；

所述光电二极管和所述基板之间形成有两个金属层和位于所述两个金属层之间的透光层；

每个所述金属层具有对应于每个所述光电二极管的至少一个透光孔，所述两个金属层中的所述透光孔至少部分重叠；所述两个金属层中的透光孔和位于其间的所述透光层形成所述光通道。

2.如权利要求1所述的光学指纹成像系统，其特征在于，所述光学组件包括设置于所述面阵传感器与所述盖板之间的遮光层；所述遮光层具有与每个所述感光器件相对应的至少一个透光孔；所述遮光层中的至少一个透光孔作为所述光通道。

3.如权利要求2所述的光学指纹成像系统，其特征在于，所述透光孔为空洞或者填充有透光材料。

4.如权利要求2所述的光学指纹成像系统，其特征在于，所述遮光层具有与每个像素对应的透光部，所述透光部允许来自所述背光源的光穿过。

5.如权利要求4所述的光学指纹成像系统，其特征在于，所述遮光层的透光部包括多个孔，所述孔为空洞或填充有透光材料。

6.如权利要求2所述的光学指纹成像系统，其特征在于，所述遮光层具有多层结构。

7.如权利要求1所述的光学指纹成像系统，其特征在于，所述光学组件设置在所述面阵传感器与所述盖板之间；所述光学组件包括至少两个遮光层、及设置于每相邻两个遮光层之间的透光层；每个遮光层具有与每个所述感光器件对应的至少一个透光孔，不同遮光层中的透光孔至少部分重叠；所述遮光层中的透光孔和位于所述遮光层之间的透光层形成所述光通道。

8.如权利要求7所述的光学指纹成像系统，其特征在于，所述透光孔填充有所述透光层或透光材料。

9.如权利要求7所述的光学指纹成像系统，其特征在于，每个所述遮光层具有与每个所述像素对应的透光部，所述透光部允许来自所述背光源的光穿过。

10.如权利要求9所述的光学指纹成像系统，其特征在于，所述遮光层的透光部包括多个孔，所述孔填充有透光层或透光材料。

11.如权利要求7所述的光学指纹成像系统，其特征在于，所述遮光层具有多层结构。

12.如权利要求7所述的光学指纹成像系统，其特征在于，所述透光层具有多层结构。

13.如权利要求1至12中任一项所述的光学指纹成像系统，其特征在于，所述感光器件是光电二极管。

14.如权利要求1所述的光学指纹成像系统，其特征在于，所述两个金属层分别作为所述面阵传感器的驱动线和数据线；所述透光层作为绝缘层、且由氮化硅或氧化硅制成。

15.如权利要求1所述的光学指纹成像系统，其特征在于，所述金属层中的所述透光孔填充有所述透光层或透光材料。

16.如权利要求1所述的光学指纹成像系统，其特征在于，所述金属层具有多层结构。

17.如权利要求1所述的光学指纹成像系统，其特征在于，所述透光层具有多层结构。

Images