CN108051967B - 一种显示面板 - Google Patents
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Abstract
提供了一种显示面板，所述显示面板包括显示区和非显示区，并且包括：数据线，从显示区延伸至非显示区；阵列信号线，设置在非显示区中；以及透明导电层，包括设置在显示区中的第一部分和设置在非显示区中的第二部分，其中，透明导电层的所述第二部分在非显示区中不与数据线叠置。
Description
技术领域
本发明涉及一种显示面板，具体地，涉及一种具有改善线类不良的透明导电层的显示面板。
背景技术
近年来，为了提升产品性能，采用消除黑色矩阵(BM-less)技术和阵列上的彩色滤色器(Color Filter on Array,COA)技术来制造液晶显示面板，取消了RGB像素中的BM区域，减少了模组亮块，模组穿透率更强，有效提升了画面亮度，增强了画质层次感和细腻感，让显示画面更饱满靓丽，栩栩如生。
BM-less技术是在数据线上方覆盖透明导电层(例如，ITO层)，用透明导电层遮住数据线，并使透明导电层与阵列信号线连接以向透明导电层提供阵列基板的公共电压，使得透明导电层的电位始终等于阵列基板的公共电压并且与彩色滤色器(Color Filter,CF)基板的公共电压相等，从而使得与透明导电层的位置对应的液晶分子保持不偏转，因此可以取代现有技术中的纵向BM，以实现遮光的目的。
采用此种设计，当在数据线与透明导电层之间发生静电释放(ESD,Electro-Static discharge)时，数据线极易与透明导电层发生短路，使得数据线的信号强度被拉低，产生线类不良，对产品造成严重的损伤。由于线类不良一直是液晶显示面板产量损失的主要原因，因此改善线不良成为当前研究的重要课题之一。
发明内容
本发明的示例性实施例提供了一种显示面板，所述显示面板包括数据线和透明导电层，透明导电层在数据线末端的走线不与数据线叠置，避免产生双层金属层(数据线层和透明导电层)，降低数据线与透明导电层之间发生ESD的可能性，从而降低了发生短路的可能性，大大降低了线类不良的产生。
根据本发明的示例性实施例，一种显示面板可以包括显示区和非显示区，并且包括：数据线，从显示区延伸至非显示区；阵列信号线，设置在非显示区中；以及透明导电层，包括设置在显示区中的第一部分和设置在非显示区中的第二部分，其中，透明导电层的所述第二部分在非显示区中不与数据线叠置。
根据本发明的示例性实施例，透明导电层可以是透明导电金属氧化物层。
根据本发明的示例性实施例，透明导电层可以是氧化铟锡层。
根据本发明的示例性实施例，透明导电层的所述第二部分可以具有间隔式结构。
根据本发明的示例性实施例，透明导电层的所述第二部分可以具有设置在多条数据线之间的间隔式结构。
根据本发明的示例性实施例，透明导电层的所述第一部分可以在显示区中与数据线叠置。
根据本发明的示例性实施例，透明导电层的所述第二部分可以通过信号转接孔连接到阵列信号线。
根据本发明的示例性实施例，透明导电层可以通过光刻法形成。
根据本发明的示例性实施例，显示面板可以用于液晶显示装置。
附图说明
图1是根据现有技术的显示面板的局部俯视平面图。
图2是沿图1的线I-I截取的显示面板的剖视图。
图3是根据本发明的示例性实施例的显示面板的局部俯视平面图。
图4是根据现有技术的显示面板与根据本发明的示例性实施例的显示面板的平面结构的对比图。
具体实施方式
现在，将详细地参考本发明的实施例和方法，这些实施例和方法构成了发明人目前已知的实践本发明的最佳方式。附图不一定按照比例绘出。然而，需要理解的是，所公开的实施例仅是可以以各种替换形式实施的本发明的举例说明。因此，这里公开的具体细节不应被理解为是限制性的，而仅是针对该发明的任何方面的代表性基础和/或用于教导本领域技术人员以各种形式应用本发明的代表性基础。
图1是根据现有技术的显示面板的局部俯视平面图。图2是沿图1的线I-I截取的显示面板的剖视图。
参照图1，根据现有技术的显示面板包括显示区DA和非显示区NDA，非显示区NDA可以包括虚设像素区(未示出)和防静电保护区域(未示出)等。显示面板可以包括多个子像素(例如，红色子像素R、绿色子像素G和蓝色子像素B等)、栅极线GL、数据线DL、虚设栅极线DGL、阵列信号线AC和透明导电层TC等。在这里，为了便于解释，仅示出显示面板的部分组件，省略显示面板的其它组件。
如图1所示，数据线DL基本上沿纵向方向从显示区DA延伸至非显示区NDA。在图1中，在剖面线所表示的区域中，设置有透明导电层TC。
参照图1，透明导电层TC设置在显示区DA和非显示区NDA中，并且包括设置在显示区DA中的第一部分和设置在非显示区NDA中的第二部分。参照图1和图2，在显示区DA中，透明导电层TC的第一部分与数据线DL叠置，并且沿纵向方向(数据线DL延伸的方向)设置在子像素之间。透明导电层TC的第一部分与数据线DL之间具有较厚的色阻层CR和绝缘层PV，从而可以防止在透明导电层TC的第一部分与数据线DL之间发生静电放电。因此，例如图2中的S位置处可以不发生静电放电。
如图1和图2所示，在非显示区NDA中，透明导电层TC的第二部分与数据线DL叠置。但是，透明导电层TC的第二部分与数据线DL之间只有绝缘层PV而没有色阻层CR。因此，例如在图1和图2中的S1位置处易于发生静电释放(ESD)，从而数据线DL极易与透明导电层TC发生短路。由于透明导电层TC还连接到阵列信号线AC，所以数据线DL的信号强度会被阵列信号线AC拉低，从而产生线类不良，影响显示面板的显示质量。
如图1所示，阵列信号线AC基本上沿横向方向设置在显示面板的非显示区NDA中。在非显示区NDA中，透明导电层TC与阵列信号线AC叠置，并且通过多个信号转接孔H电连接到阵列信号线AC，使得透明导电层TC与阵列信号线AC的电压相同。因此，当显示面板为液晶显示面板时，透明导电层TC的电压可以与彩色滤色器基底的公共电压相等。因此，在显示区DA中，与透明导电层TC的位置对应的液晶分子保持不偏转，因此可以取代传统的纵向黑色矩阵(BM)，以实现遮光的目的。
根据现有技术的显示面板虽然可以通过透明导电层TC实现BM-less技术，但是由于在非显示区NDA中透明导电层TC和数据线DL叠置并且其间仅设置有绝缘层PV，从而数据线DL极易与透明导电层TC发生短路，使得数据线DL的信号强度被拉低，产生线类不良，对产品造成严重的损伤。
根据本发明的示例性实施例的显示面板通过改变透明导电层TC在非显示区NDA中的布置，使得透明导电层TC在非显示区NDA中不与数据线DL叠置，从而减小了透明导电层TC与数据线DL之间的电容并减小了产生静电释放以及由静电释放导致的短路的可能性，解决了现有技术中由于线类不良而影响显示面板的显示质量的问题。下面将参照图3详细地描述根据本发明的示例性实施例的显示面板。
图3是根据本发明的示例性实施例的显示面板的局部俯视平面图。除了透明导电层TC之外，图3中示出的根据本发明的示例性实施例的显示面板与图1中示出的根据现有技术的显示面板相同。类似地，在附图仅示出显示面板的与本发明相关的部分组件，省略显示面板的其它组件。
参照图3，根据本发明的示例性实施例的显示面板包括显示区DA和非显示区NDA，非显示区NDA可以包括虚设像素区(未示出)和防静电保护区域(未示出)。根据本发明的示例性实施例，显示面板可以包括多个子像素(例如，红色子像素R、绿色子像素G和蓝色子像素B等)、栅极线GL、数据线DL、虚设栅极线DGL、阵列信号线AC和透明导电层TC等。
如图3所示，数据线DL基本上沿纵向方向从显示区DA延伸至非显示区NDA。在图3中，在剖面线所表示的区域中设置有透明导电层TC，透明导电层TC设置在显示区DA和非显示区NDA中。
根据本发明的示例性实施例，透明导电层TC包括设置在显示区DA中的第一部分和设置在非显示区NDA中的第二部分。如图3所示，在显示区DA中，透明导电层TC的第一部分与数据线DL叠置，并且沿纵向方向(数据线DL延伸的方向)设置在子像素之间。透明导电层TC的第一部分与数据线DL之间具有色阻层CR和绝缘层PV。如图3所示，在非显示区NDA中，透明导电层TC的第二部分与数据线DL不叠置，并且设置在多条数据线DL之间的间隔区域中。即，根据本发明的示例性实施例的透明导电层TC的第二部分具有设置在多条数据线DL之间的间隔式结构。
根据本发明的示例性实施例，透明导电层TC与阵列信号线AC叠置，并且通过信号转接孔H与阵列信号线AC电连接，使得透明导电层TC的电压与阵列信号线AC的电压相同。因此，当显示面板是液晶显示面板时，透明导电层TC的电位可以等于彩色滤色器基底的公共电压。因此，在显示区DA中，与透明导电层TC的位置对应的液晶分子保持不偏转，实现遮光的目的。
因此，根据本发明的示例性实施例的显示面板避免了在数据线末端产生双金属层(数据线与透明导电层)区域的同时，也能很好的保证BM-less设计的线路连接。
图4是根据现有技术的显示面板与根据本发明的示例性实施例的显示面板的平面结构的对比图。根据本发明的示例性实施例的显示面板与根据现有技术的显示面板均包括阵列信号线AC、虚设栅极线DGL、数据线DL、子像素(例如，红色子像素R、绿色子像素G和蓝色子像素B等)、静电保护装置E和透明导电层TC等。
参照图4，根据现有技术的显示面板的透明导电层TC(左侧图)在非显示区NDA中与数据线DL和阵列信号线AC叠置，并且两者之间仅设置有绝缘层PV(参照图2)，因此在图4中的M1处，透明导电层TC和数据线DL叠置，所以在此处容易发生静电释放(ESD)，容易发生短路，宏观上容易发生颜色垂直变化。然而，根据本发明的示例性实施例的透明导电层TC(右侧图)在非显示区中与数据线DL不叠置。即，与M1处对应的M2处没有透明导电层TC，因此不存在双金属层区域，从而不产生静电短路。在附图中，数据线DL和透明导电层TC的宽度并不表示其真实宽度，仅是为了便于示出和解释的目的。
因此，通过图4的对比可以清楚理解，根据本发明的示例性实施例的显示面板通过改变透明导电层TC在非显示区NDA中的布置方式，使得在非显示区NDA中不存在由数据线DL和透明导电层TC形成的两层金属叠置区，从而可以避免发生短路。
根据本发明的示例性实施例，可以使用光刻法制备透明导电层TC，并且透明导电层TC可以采用透明导电金属氧化物，例如，氧化铟锡(ITO)，但是本发明不限于此。
根据本发明的示例性实施例，显示面板可以是用于液晶显示器的显示面板，但是本发明不限于此。
虽然本公开包括特定的示例，但是理解本申请的公开内容之后将明显的是，在不脱离权利要求及其等同物的精神和范围的情况下，可在这些示例中做出形式上和细节上的各种变化。在此所描述的示例将仅被理解为描述性含义，而非出于限制的目的。因此，本公开的范围不由具体实施方式限定，而是由权利要求及其等同物限定，权利要求及其等同物的范围内的所有变化将被解释为包含于本公开中。
Claims (8)
1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括显示区和非显示区，并且包括：
数据线，从显示区延伸至非显示区；
阵列信号线，设置在非显示区中；以及
透明导电层，包括设置在显示区中的第一部分和设置在非显示区中的第二部分，
其中，所述透明导电层的所述第一部分在显示区中与数据线叠置，透明导电层的所述第二部分在非显示区中不与数据线叠置。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其中，所述透明导电层是透明导电金属氧化物层。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其中，所述透明导电层是氧化铟锡层。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其中，所述透明导电层的所述第二部分具有间隔式结构。
5.根据权利要求4所述的显示面板，其中，所述透明导电层的所述第二部分具有设置在多条数据线之间的间隔式结构。
6.根据权利要求1所述的显示面板，其中，所述透明导电层的所述第二部分通过信号转接孔连接到阵列信号线。
7.根据权利要求1所述的显示面板，其中，所述透明导电层通过光刻法形成。
8.根据权利要求1所述的显示面板，其中，所述显示面板用于液晶显示装置。
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