CN105575747A - X射线发生管、x射线发生装置和放射线照相系统 - Google Patents
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Abstract
公开了X射线发生管、X射线发生装置和放射线照相系统。X射线发生管包括:包括靶和电气连接到靶的阳极构件的阳极;包括电子发射源和电气连接到电子发射源的阴极构件的阴极;以及在一个端部处接合到阳极构件且在另一个端部处接合到阴极构件以使得靶和电子发射源彼此相对的绝缘管,其中,内周导电膜形成在绝缘管的内表面上;端面导电膜从内周导电膜的所述一个端部侧的一个边缘延伸到绝缘管的所述一个端部的表面上;并且端面导电膜被夹在端面和阳极构件之间以被电气连接到阳极构件。
Description
技术领域
本发明涉及生成能应用于例如医疗装备和非破坏性检查装置的X射线的X射线发生管和使用X射线发生管的X射线发生装置和放射线照相系统。
背景技术
X射线发生管通过在真空容器中施加高压生成X射线,从而使得电子源发射电子束并且在电子和由具有高的原子序数的金属材料(诸如钨)制成的靶之间产生碰撞。
尽管依赖于生成的X射线的用途而变化,但是在包括电子源的阴极和包括靶的阳极之间施加的电压通常大约是10kV到150kV。真空容器的主干用绝缘管构建,所述绝缘管由诸如玻璃或陶瓷材料的绝缘材料制成,从而保持内部处于真空并且使得阴极和阳极彼此电绝缘。
当X射线发生管被驱动以使得电子源发射电子时,在X射线发生管中生成散射电子和二次电子,并且在一些情况下,散射电子和二次电子在绝缘管的内表面上被捕获,从而使该内表面带电。随着绝缘管的内表面带电,其电场扰乱电子束的轨道,从而改变电子束的照射点和焦点尺寸,并因此改变所发射的X射线的焦点位置和剂量。此外,绝缘管的内表面上带电的位置和量依赖于散射电子和二次电子所照射的点的分布而变化,并且所得绝缘管的内表面上电势的不同可以导致放电,该放电损伤绝缘管。
在日本专利申请特开No.S58-44662中公开有通过沿着绝缘管的内周(innercircumference)形成由微细金属粒子群和釉制成的导电膜来防止电荷累积的技术。
但是,在日本专利申请特开No.S58-44662中,没有对低导电膜和电极之间的连接给予特别考虑。从而,低导电膜和电极之间不好的连接妨碍了散射电子和二次电子释放,从而使得导电膜自身进入带电状态。带电的导电膜可以扰乱电子束轨道并且改变X射线输出。
发明内容
本发明的一个目的是通过使用导电膜来成功地防止绝缘管的内表面的带电。
为了实现上述目的,根据本发明的第一实施例,提供了一种X射线发生管,包括:阳极,其包括:靶,在用电子束照射时生成X射线;以及阳极构件,电气连接到靶并且保持靶;阴极,其包括:电子发射源,具有配置成将电子束照射到靶的电子发射部;以及阴极构件,电气连接到电子发射源;以及绝缘管,具有在管轴方向上的一对端部,所述一对端部中的一个端部连接到阳极构件所述一对端部中的另一个端部连接到阴极构件以使得靶和电子发射部彼此相对,其中,阳极还包括内周导电膜和端面导电膜,所述内周导电膜位于距离阴极一定距离处的绝缘管的内表面上,所述端面导电膜形成在绝缘管的所述一个端部上,并且其中,内周导电膜经由端面导电膜电气连接到阳极构件。
根据本发明的第二实施例,提供了X射线发生装置,包括:本发明第一实施例的X摄像发生管;以及驱动电路,配置成在阳极和阴极之间施加管电压。
根据本发明的第三实施例,提供了放射线照相系统,包括:本发明第二实施例的X射线发生装置;X射线检测器,配置成检测已经从X射线发生装置生成并透过被检体的X射线;以及系统控制单元,被配置成总体控制X射线发生装置和X射线检测器。
本发明的其他特征从参考所附附图对示例性实施例的以下描述中将变得清楚。
附图说明
图1A、图1B和图1C是根据本发明的X射线发生管的示例的说明性示图,图1A是示意性结构示图,图1B是绝缘管和外周管状部(outercircumferentialtubularportion)周围的阳极构件的一部分的放大剖面图,图1C是绝缘管的端面的平面视图。
图2A和图2B中的每个是用于示出绝缘管结构和外周管状部周围的阳极构件的一部分的另一示例的放大剖面图。
图3是用于示出根据本发明的X射线发生装置的示例的示意性结构示图。
图4是用于示出根据本发明的放射线照相系统的示例的示意性结构示图。
具体实施方式
以下参考附图详细描述本发明的示例性实施例。但是,在该实施例中描述的部件的尺寸、材料、形状、相对布置等不是要限制本发明的范围。在下述附图中,相同的参考标记被用来表示相同的部件。
<X射线发生管>
图1A是包括电子发射源3和靶9的透射型X射线发生管102的示意结构的图示。
具有用于维持真空的气密性并且足够坚固以耐受大气压的构件优选地用作X射线发生管102的外封壳111。该实施例的外封壳111包括绝缘管110、阴极51和阳极52,阴极51包括诸如电子枪之类的电子发射源3,阳极52包括由靶保持部43a保持的靶9和阳极构件43。通过将阳极构件43在一端处接合到绝缘管110而将阴极构件41在另一端处接合到绝缘管110,阴极51和阳极52形成外封壳111的一部分。靶9具有用作透射窗的透射基板21的部件,通过该透射窗,通过用电子束照射靶层22生成的X射线束11被从X射线发生管102中取出,并且透射基板21还形成外封壳111的一部分。接合到绝缘管110的阴极构件41和阳极构件43优选地由具有与绝缘管110的线性膨胀系数接近的线性膨胀系数的金属材料制成。例如,可伐(Kovar)(CRSHoldings,Inc的美国注册商标)或蒙乃尔(Monel)(SpecailMetalsCorporation的美国注册商标)被用作该材料。之后将详细描述绝缘管110和阳极构件43到绝缘管110的接合。
X射线发生管102通过用电子束5照射靶9的靶层22来生成X射线束11,所述电子束5发射自包括在电子发射源3中的电子发射部2。其中生成X射线的靶层22的区域11a叫做X射线束11的焦点。靶层22形成在通过其透射X射线的透射基板21的电子发射源3侧。电子发射源3的电子发射部2与靶层22相对。例如,钨、钽或钼被用作靶层22。
该实施例的阳极52包括靶9、靶保持部43a和阳极构件43,所述靶9在用电子束照射时生成X射线,所述阳极构件43限定靶9的阳极电势。阳极构件43包括配置成保持靶9的靶保持部43a和外周管状部43b,所述外周管状部43b被提供以确保用于将阳极构件43接合到绝缘管110的面积尺寸。诸如可伐、钨、钼或不锈钢的金属被选择用于包括在阳极52中的阳极构件43、外周管状部43b和靶保持部43a。可伐、蒙乃尔等被选择为给予这些部件与绝缘管110的线性膨胀系数匹配的线性膨胀系数。
外周管状部43b形成像从靶保持部43a向阴极51延伸的套筒的形状。外周管状部43b限定阳极52的阴极侧部分的阳极电势。从阳极侧电势分布面内对称的观点出发,从靶保持部43a到外周管状部43b的阴极51侧的端部的距离优选在周向上恒定。电势分布面内对称意味着在与阳极构件42平行的面内的电势分布在管周方向上连续,而不会找到在管周方向上电场局部高的区域。
靶保持部43a被接合到靶9以保持靶9。靶保持部43a具有通孔42,并且通孔42的开口被关闭以在沿着通孔42的长度的点处保持靶9。从靶9向外延伸到外封壳111的外侧的靶保持部43a的至少一部分由诸如钨或钽的重金属或包含重金属的材料制成,从而使得靶保持部43a能够用作用于控制X射线束11的发射角的准直器。靶保持部43a和外周管状部43b可以形成为无缝整体构件,或者可以单独地形成并且随后接合在一起以形成整体构件。
电子发射源3被配置成用发射自电子束发射部2的电子束照射靶9。例如,诸如钨丝或浸渍阴极之类的热阴极或者诸如碳纳米管之类的冷阴极可以被用作电子发射源3。出于控制电子束5的束直径、电子电流密度、开/关定时等的目的,电子发射源3可以包括栅网电极(未示出)和静电透镜(未示出)。包含在电子束5中的电子通过加速电场被加速到在靶层22中生成X射线所必需的能级,所述加速电场形成在X射线发生管102的被夹在阴极51和阳极52之间的内部空间13中。
X射线发生管102的内部空间13为真空,以为电子束5确保平均自由程。内部空间13的真空度优选为10-8Pa以上且10-4Pa以下,从电子发射源3的使用寿命的观点出发,更优选地,内部空间13的真空度为10-8Pa以上且10-6Pa以下。X射线发生管102的内部空间13通过使用排气管(未示出)和真空泵(未示出)为内部空间13排气而置于真空下,并且然后密封该排气管。出于维持真空的目的,可以在X射线发生管102的内部空间13中形成吸气剂(未示出)。
X射线发生管102具有作为其主干的绝缘管110,以使得被设定到阴极电势的电子发射源3和被设定到阳极电势的靶层22彼此电绝缘。绝缘管110由诸如玻璃材料或陶瓷材料之类的绝缘材料制成。绝缘管110可以具有限定电子束发射部2和靶层22之间的间隔的功能。
以下描述绝缘管110的结构、用于将阳极52接合到绝缘管110的接合结构和形成这些结构的方法。
如在图1B和图1C中所示出的,内周导电膜112在距离阴极51一定距离处的绝缘管110的内周表面上形成。内周导电膜112经由端面导电膜113连接到阳极构件43,所述端面导电膜113从内周导电膜112的靶保持部43a侧的边缘延伸到绝缘管110的靶保持部43a侧的端面上。端面导电膜113被夹在绝缘管110的靶保持部43a侧的端面和靶保持部43a之间以被电气连接到阳极构件43。因此,当这些部件被视为X射线发生管102的节点时,可以说内周导电膜112、外周导电膜114和端面导电膜113被包括在阳极52中。
内周导电膜112可以例如是诸如银、铜、锡、金、锌、钛、钼、锰、铬、铝或镁的金属的膜、包含这些金属中的一种的导电膜或金属氧化物膜。内周导电膜112的材料是通过考虑与绝缘管110的内表面的粘合性而选择的。内周导电膜112可以通过其中制备并涂覆作为导电性物质与有机溶剂、粘合剂等的混合物的糊剂的方法、诸如气相沉积或溅射的任意沉积方法或其它方法形成。
优选地,作为内周导电膜112的膜具有从100nm到500μm的厚度、具有足够的导电性并且在管周方向上和管长度方向上连续,以使得绝缘管110的内表面在内周导电膜112的范围内不暴露。优选地,内周导电膜112被形成以从绝缘管110的靶保持部43a侧的端部伸展到绝缘管110的长度方向上的中间部分,如图1A所示。具体而言,优选地,内周导电膜112的阴极构件41侧的边缘被定位在如下点处,该点与电子发射源3重叠,并且该点在管轴方向上超过绝缘管110的中点而处于靶保持部43a侧。这是为了覆盖绝缘管110的很可能经受反射电子的内表面,从而防止反射电子使绝缘管110带电并且造成放电的结果,并且维持阴极51和阳极52之间的耐受电压。优选地,内周导电膜112在管周方向上和绝缘管110的长度方向上连续地形成,从而均匀地防止其中形成内周导电膜112的区域的带电。
端面导电膜113可以用与内周导电膜112相同的材料、采用相同的方法并且以相同的厚度来形成,并且形成为从内周导电膜112连续。为了简化该过程和便于形成从内周导电膜112连续的膜,优选地,端面导电膜113与内周导电膜112同时形成。
优选地,端面导电膜113在管周方向上在绝缘管110的在阳极构件43侧的端面的一部分上形成。例如,如图1C中所示,优选地将各自具有从100μm到5mm宽度的多个端面导电膜113离散地布置在绝缘管110的端面上的两到十个地方。通过其中在适当的地方直接涂覆糊剂材料的方法、图案印刷方法、其中在适当的地方用掩模形成膜然后移除掩模的方法或其他方法,来完成仅在绝缘管110的端面上的选择的地方形成端面导电膜113。
阳极构件43的外围部分与以上述方式形成有内周导电膜112和端面导电膜113的绝缘管110的端面相对,从而将阳极构件43接合到绝缘管110。在端面导电膜113仅仅在绝缘管110的端面的管周方向上的一部分上形成的情况下,在将阳极构件43接合到绝缘管110时被阳极构件43压合的绝缘管110的端面处的压力集中在端面导电膜113上。产生的效果是阳极构件43被强烈地压向端面导电膜113,这增大了端面导电膜113和阳极构件43之间的接触几率。离散地形成多个端面导电膜113在维持压力集中效果的同时提高了端面导电膜113和阳极构件43之间的接触概率。
内周导电膜112以这种方式经由端面导电膜113物理地连接到阳极构件43,这提高了内周导电膜112和阳极构件43之间的电气连接的可靠性。阳极构件43作为阳极52还连接到驱动电路103,并因此能够将由X射线发生管102中的散射电子和二次电子造成的电荷经由内周导电膜112和端面导电膜113释放到外部。从而提供了能够防止绝缘管110的内表面的带电并且减少X射线输出的改变的X射线发生管102。
优选地,用于端面导电膜113的材料的杨氏模量小于阳极构件43的杨氏模量和绝缘管110的杨氏模量。这使得端面导电膜113变形以紧密地与阳极构件43相配,从而甚至更多地提高端面导电膜113和阳极构件43之间的电气连接的可靠性。如上所述,绝缘管110通常由玻璃材料、陶瓷材料等制成,并且这些材料的杨氏模量大于金属的杨氏模量。从而推荐使用铜、银、钛、锌、铝等作为端面导电膜113的材料,而使用可伐、镍、钼、钨等作为阳极构件43的材料。
绝缘管110和阳极构件43气密地接合以保持X射线发生管102的内部处于真空。在图1A和图1B的示例中,外周管状部43a像环一样从阳极构件43a延伸,以包围绝缘管110的阳极构件43侧的周面(circumferentialsurface)。插入在绝缘管110的周面和外周管状部43a之间的接合构件115接合阳极构件43和绝缘管110。尽管在没有形成端面导电膜113的区域中在绝缘管110的端面和阳极构件43之间有等于端面导电膜113的厚度的间隔,但以这种方式接合阳极构件43和绝缘管110保持了X射线发生管102的外封壳111中的气密性。
气密接合是通过使用钎料(brazingfillermetal)作为接合构件115的钎焊来完成的。可以使用的钎料例如是用金-铜作为主要成分的钎料、镍钎料、黄铜钎料或银钎料。
绝缘管和外周管状部周围的阳极构件的一部分的结构的其他示例将参考图2A和图2B描述。
在图2A的实施例中,电气连接到端面导电膜113的外周导电膜114在绝缘管110的阳极构件43侧的周面上形成。外周导电膜114电气连接到外周管状部43b。如参考图1A到图1C所述的实施例中那样,接合构件115气密地接合绝缘管110和阳极构件43。但是,在该实施例中,在形成在绝缘管110的周面上的外周导电膜114被夹在接合构件115和绝缘管110之间的状态下,接合构件115被夹在绝缘管110和外周管状部43b之间。形成外周导电膜114甚至更多地提高了内周导电膜112和阳极构件43之间的电气连接的可靠性。外周导电膜114可以通过将端面导电层113向绝缘管110的圆周延伸而在绝缘管110的管周方向上间歇地形成,但是优选地,沿着绝缘管110的整个圆周连续地形成外周导电膜114以方便接合构件115的紧密配合而没有间隔。还优选地,将外周导电膜114和端面导电层113形成为连续膜以确保其间的电气连接。
优选地,绝缘管110具有管外直径在管轴方向上增大的环形区域,所述管轴方向从绝缘管110的阳极构件43侧的一端向绝缘管110的阴极构件41侧的另一端行进。图2B的实施例中的环形区域是环形段差(leveldifference)110a,其围绕内周导电膜112。在图2B的实施例中,形成在绝缘管110的周面上的段差110a使得绝缘管110在阴极构件41侧的绝缘管110的区域中的外直径大于其在阳极构件43侧的相邻区域的外直径。外周管状部43b面对在阳极构件43侧的外直径较小的区域,并且接合构件115被夹在绝缘管110的外直径较小的区域的周面和外周管状部43b之间。这样,段差110a筑坝拦截作为接合构件115用于接合时被熔化和流动的接合构件115,并且防止熔化的接合构件115超过段差110a流向阴极构件41并损害阴极51和阳极52之间的耐受电压。虽然在图2A和图2B中形成外周导电膜114,但是X射线发生管102可以不包括外周导电膜114。
<X射线发生装置>
图3是根据本发明实施例的X射线发生装置101的示图,其被配置成将X射线束11取出到X射线透射窗121的前方。在安装有X射线透射窗121的容器120中,X射线发生装置101包括X射线发生管102和用于驱动所述X射线发生管102的驱动电路103。驱动电路103在阴极51和阳极52之间施加管电压Va,以在靶层22和电子发射部2之间形成加速电场。通过设置适于靶层22的厚度和形成靶层22的金属的类型的管电压Va,可以选择成像所必需的X射线类型。
容纳X射线发生管102和驱动电路103的容器120希望具有作为容器的足够强度和良好的散热性能。容器120的构成材料例如是诸如黄铜、铁或不锈钢的金属材料。
在容纳在容器120中的X射线发生管102和驱动电路103占据容器120中的空间后留下的容器120中的剩余空间被用绝缘液体109填充。绝缘液体109是具有电绝缘性质、维持容器120内部的电绝缘且用作X射线发生管102的冷却介质的液体。优选地,诸如矿物油、硅油或基于全氟的油的电绝缘油用作绝缘液体109。
<放射线照相系统>
接下来参考图4描述包括本发明的X射线发生管102的放射线照相系统60的结构示例。
系统控制单元202总体控制X射线发生装置101和X射线检测器206。驱动电路103在系统控制单元202的控制下向X射线发生管102输出各种控制信号。由驱动电路103输出的控制信号被用来控制从X射线发生装置101发射的X射线束11的发射状态。
从X射线发生装置101发射的X射线束11通过具有可变孔径的准直器单元(未示出)而被调节照射范围,被发射到X射线发生装置101的外部,透过待被检查的被检体204(之后仅称为“被检体”)并由检测器206检测。检测器206将检测到的X射线转换成输出到信号处理部205的图像信号。信号处理部205在系统控制单元202的控制下对信号执行给定信号处理,并将处理后的图像信号输出到系统控制单元202。基于处理后的图像信号,系统控制单元202输出用于在显示装置203上显示图像的显示信号。显示装置203在屏幕上显示基于显示信号的图像作为被检体204的拍摄图像。
本发明的放射线照相系统60能应用于工业产品的非破坏性检查以及人体和动物的病理诊断。
(示例1)
具有图1A到图1C的绝缘管110和用于将阳极构件43接合到绝缘管110的图1A到图1C的接合结构的X射线发生管102被制造并安装到X射线发生装置101。
如在图1B中所示出的,在由氧化铝制成的绝缘管110的阳极52侧的内周面上,内周导电膜112由被用作陶瓷金属化材料的基于钛-铜的材料形成。如在图1C中所示出的,各自具有2mm的宽度并且从内周导电膜112连续的端面导电膜113通过使用与内周导电膜112相同的材料而被形成在绝缘管110的阳极52侧的端面上的四个地方。内周导电膜112和端面导电膜113通过制备包含基于钛-铜粉末的糊剂、将该糊剂直接涂覆到绝缘管110、干燥所涂覆的糊剂并且然后在1000℃执行真空热处理而形成。内周导电膜112和端面导电膜113的厚度在热处理之后是平均8μm。
接下来向与外周管状部43b接触的绝缘管110的圆周的部分涂覆包含钛的银钎料糊剂并干燥。之后,布置部件以使得阳极构件43与形成在绝缘管110上的端面导电膜113接触,并使得外周管状部43b与形成在绝缘管110的圆周上的接合构件115接触,并在800℃执行真空热处理以进行钎焊。在热处理中,重量被加在阳极构件43上以促进在端面导电膜113和阳极构件43之间的按压相配。氧化铝的金属化和气密钎焊通过使用包含钛的钎料来完成。用于阳极构件43和外周管状部43b的材料是可伐。
接下来,示例1的X射线发生管102被安装到图4的放射线照相系统60,并且评估X射线输出的改变。X射线发生管102被驱动以评估X射线束11的焦点11a的位置随时间的改变。获得的良好结果是焦点11a的中心位置的改变为10μm或更小。在未放置被检体204的情况下而进行的评估。
<比较示例1>
为了与示例1比较,制造了没有端面导电膜113的X射线发生管102。用于制造该X射线发生管102的其余结构和方法与示例1中的那些相同。
接着,如在示例1中那样,评估了X射线束11的焦点11a的位置的改变。结果发现焦点11a的中心位置在开始驱动之后30分钟移动了50μm。在完成该评估之后,阴极51被与X射线发生管102分离,并且测试仪被用来测量阳极52侧的内周导电膜112和阳极构件43之间的电阻值。所测量的电阻值是10MΩ以上,这等于或大于测量极限。
从而可以推断在内周导电膜112和阳极构件43之间没有建立起电气连接,并且绝缘管110的内表面在X射线管发生管102的驱动期间逐渐带电使电子束轨道弯曲并使得焦点11a的位置改变。
<示例2>
具有图2B的绝缘管110和用于将阳极构件43接合到绝缘管110的图2B的接合结构的X射线发生管102被制造并安装到X射线发生装置101。
如在示例1中那样,内周导电膜112和端面导电膜113用基于钛-铜的材料形成,并且相同的材料和相同的方法被用来形成绝缘管110的周面上的外周导电膜114以从端面导电膜113是连续的。
接着,银钎料线材在比段差110a更接近阳极构件43的部分绕绝缘管110的圆周被卷成接合构件115。之后,布置部件以使得阳极构件43与形成在绝缘管110上的端面导电膜113接触,并使得套筒43a与形成在绝缘管110的圆周上的钎料115接触,并在800℃执行真空热处理以进行钎焊。在热处理中,重量被加在阳极构件43上以促进在端面导电膜113和阳极构件43之间的按压相配。基于钛-铜的外周导电膜114也被用于金属化氧化铝,从而气密性钎焊被完成。可伐被用作阳极构件43的材料。在钎料被用作接合部件115的情况下,用于保持线材的槽部分(未示出)可以在绝缘管110中形成并且所述线材可以被布置在槽部分中。
接着,如在示例1中那样,示例2的X射线发生管102被安装到放射线照相系统60,并且评估X射线输出的改变。获得的良好结果是焦点的中心位置的改变为10μm或更小。
(示例3)
在示例3中,示例1的X射线发生装置101被用来构建图4的放射线照相系统60。提供了使X射线输出的改变减小的X射线发生装置101的示例3的放射线照相系统60成功地产生高信噪(SN)比的X射线拍摄图像。
根据本发明,经由端面导电膜在内周导电膜和阳极构件之间实现电气连接,所述端面导电膜被夹在绝缘管一端处的端面和阳极构件之间,并且被电气连接到阳极构件。这提高了内周导电膜和阳极构件之间的电气连接的可靠性,并且成功地防止绝缘管的内表面的带电,从而提供减小了X射线输出的改变的X射线发生管。此外,可以提供包括减小了X射线输出的改变的高度可靠的X射线发生管的X射线发生装置和放射线照相系统。
尽管已经参考示例性实施例描述了本发明,应当理解,本发明不限于公开的示例性实施例。以下权利要求的范围应当被赋予最宽的解释,以包括所有这样的修改及等同结构和功能。
Claims (14)
1.一种X射线发生管,其特征在于,包括:
阳极,包括:
靶,在用电子束照射时生成X射线;以及
阳极构件,电气连接到靶并且保持靶;
阴极,包括:
电子发射源,具有配置成将电子束照射到靶的电子发射部;以及
阴极构件,电气连接到电子发射源;以及
绝缘管,具有在管轴方向上的一对端部,所述一对端部中的一个端部连接到阳极构件并且所述一对端部中的另一个端部连接到阴极构件以使得靶和电子发射部彼此相对,
其中,阳极还包括内周导电膜和端面导电膜,所述内周导电膜位于距离阴极一定距离处的绝缘管的内表面上,所述端面导电膜形成在绝缘管的所述一个端部上,并且
其中,内周导电膜经由端面导电膜电气连接到阳极构件。
2.根据权利要求1所述的X射线发生管,其中,端面导电膜被夹在所述一个端部和阳极构件之间。
3.根据权利要求1所述的X射线发生管,其中,多个端面导电膜在绝缘管的管周方向上离散地形成。
4.根据权利要求1所述的X射线发生管,其中,内周导电膜在绝缘管的管周方向上和绝缘管的长度方向上连续地形成。
5.根据权利要求1所述的X射线发生管,其中,内周导电膜被形成为从绝缘管的所述一个端部侧的边缘伸展到绝缘管的长度方向上的中间部分。
6.根据权利要求1所述的X射线发生管,其中,端面导电膜的杨氏模量比阳极构件的杨氏模量和绝缘管的杨氏模量小。
7.根据权利要求1所述的X射线发生管,其中,内周导电膜和端面导电膜形成连续膜。
8.根据权利要求1所述的X射线发生管,
其中,绝缘管的周面在所述一个端部处被从阳极构件延伸出的外周管状部包围,并且
其中,阳极构件通过插入在绝缘管的周面和外周管状部之间的接合构件而被接合到绝缘管。
9.根据权利要求8所述的X射线发生管,
其中,绝缘管在所述一个端部处的周面上包括电气连接到端面导电膜的外周导电膜,并且
其中,外周导电膜电气连接到外周管状部。
10.根据权利要求9所述的X射线发生管,其中,端面导电膜和外周导电膜形成连续膜。
11.根据权利要求8所述的X射线发生管,其中,绝缘管包括环形区域,在该环形区域中,管外直径在从所述一个端部向着所述另一个端部的管轴方向上增大。
12.根据权利要求11所述的X射线发生管,其中,环形区域包括包围内周导电膜的环形段差。
13.一种X射线发生装置,其特征在于,包括:
根据权利要求1到12中任一项所述的X射线发生管;以及
驱动电路,配置成在阳极和阴极之间施加管电压。
14.一种放射线照相系统,其特征在于,包括:
根据权利要求13所述的X射线发生装置;
X射线检测器,配置成检测已经从X射线发生装置生成并透过被检体的X射线;以及
系统控制单元,被配置成总体控制X射线发生装置和X射线检测器。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107452584A (zh) * | 2016-05-23 | 2017-12-08 | 佳能株式会社 | X射线发生管、x射线发生装置和放射线照相系统 |
CN109786193A (zh) * | 2018-12-29 | 2019-05-21 | 同方威视技术股份有限公司 | 一种x射线源 |
CN110870035A (zh) * | 2017-07-11 | 2020-03-06 | 塔莱斯公司 | 用于生成电离射线的紧凑型源 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6573380B2 (ja) * | 2015-07-27 | 2019-09-11 | キヤノン株式会社 | X線発生装置及びx線撮影システム |
JP6055069B1 (ja) | 2015-12-10 | 2016-12-27 | サンアロー株式会社 | 臓器、組織又は器官モデル |
FR3069099B1 (fr) * | 2017-07-11 | 2023-07-21 | Thales Sa | Source generatrice de rayons ionisants compacte, ensemble comprenant plusieurs sources et procede de realisation de la source |
WO2019049208A1 (ja) * | 2017-09-05 | 2019-03-14 | 株式会社島津製作所 | X線発生装置用ターゲット、このx線発生装置用ターゲットを備えたx線発生装置、および、x線発生装置用ターゲットの製造方法 |
JP2019114405A (ja) * | 2017-12-22 | 2019-07-11 | キヤノン電子管デバイス株式会社 | X線管及びx線管の製造方法 |
JP7048396B2 (ja) * | 2018-04-12 | 2022-04-05 | 浜松ホトニクス株式会社 | X線管 |
KR102362008B1 (ko) * | 2019-04-15 | 2022-02-14 | 캐논 아네르바 가부시키가이샤 | X선 발생 장치 및 x선 촬영 장치 |
JP7196039B2 (ja) * | 2019-08-27 | 2022-12-26 | キヤノン電子管デバイス株式会社 | X線管の製造方法 |
US11688578B2 (en) * | 2020-11-11 | 2023-06-27 | Moxtek, Inc. | Interruption-ring in an X-ray tube |
JP7484032B1 (ja) * | 2023-01-25 | 2024-05-15 | キヤノンアネルバ株式会社 | X線発生装置およびx線撮像装置 |
JP7486694B1 (ja) | 2023-01-25 | 2024-05-17 | キヤノンアネルバ株式会社 | X線発生装置およびx線撮像装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5844662A (ja) * | 1981-09-09 | 1983-03-15 | Hitachi Ltd | セラミツク外囲器x線管 |
US20120099701A1 (en) * | 2010-10-26 | 2012-04-26 | Carey Shawn Rogers | Apparatus and method for improved transient response in an electromagnetically controlled x-ray tube |
US20140056406A1 (en) * | 2012-08-21 | 2014-02-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Radiation generating tube, radiation generating unit, and radiation image taking system |
US20140064447A1 (en) * | 2012-08-28 | 2014-03-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Radiation generating tube and radiation generating apparatus including radiation generation tube |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5736735A (ja) * | 1980-08-13 | 1982-02-27 | Hitachi Ltd | Kodenatsuzetsuenshinkuyoki |
JPS59162771U (ja) * | 1983-04-15 | 1984-10-31 | 株式会社東芝 | X線管 |
JP2000251776A (ja) * | 1999-02-25 | 2000-09-14 | Canon Inc | 画像形成装置 |
US6658086B2 (en) | 2001-06-19 | 2003-12-02 | Carl Zeiss | Optically driven therapeutic radiation source with voltage gradient control |
-
2014
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-
2015
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-
2017
- 2017-10-12 US US15/782,186 patent/US10381190B2/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5844662A (ja) * | 1981-09-09 | 1983-03-15 | Hitachi Ltd | セラミツク外囲器x線管 |
US20120099701A1 (en) * | 2010-10-26 | 2012-04-26 | Carey Shawn Rogers | Apparatus and method for improved transient response in an electromagnetically controlled x-ray tube |
US20140056406A1 (en) * | 2012-08-21 | 2014-02-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Radiation generating tube, radiation generating unit, and radiation image taking system |
US20140064447A1 (en) * | 2012-08-28 | 2014-03-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Radiation generating tube and radiation generating apparatus including radiation generation tube |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107452584A (zh) * | 2016-05-23 | 2017-12-08 | 佳能株式会社 | X射线发生管、x射线发生装置和放射线照相系统 |
CN107452584B (zh) * | 2016-05-23 | 2019-04-19 | 佳能株式会社 | X射线发生管、x射线发生装置和放射线照相系统 |
US10504680B2 (en) | 2016-05-23 | 2019-12-10 | Canon Kabushiki Kaisha | X-ray generation tube, X-ray generation apparatus, and radiography system |
CN110870035A (zh) * | 2017-07-11 | 2020-03-06 | 塔莱斯公司 | 用于生成电离射线的紧凑型源 |
CN110870035B (zh) * | 2017-07-11 | 2023-06-02 | 塔莱斯公司 | 用于生成电离射线的紧凑型源 |
CN109786193A (zh) * | 2018-12-29 | 2019-05-21 | 同方威视技术股份有限公司 | 一种x射线源 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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