CN105452370A - 具有横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜的基板的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供以高效率被赋予取向控制能力、残影特性优异且可靠性高的横向电场驱动型液晶表示元件。本发明提供一种具有横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜的基板的制造方法，其通过具备如下工序而得到被赋予了取向控制能力的前述液晶取向膜：[I]将聚合物组合物涂布在具有横向电场驱动用导电膜的基板上而形成涂膜的工序，所述聚合物组合物含有(A)侧链型高分子和(B)有机溶剂，所述侧链型高分子是在特定的温度范围内表现出液晶性的感光性侧链型高分子，其具有选自环状胺结构中的一种以上重复单元，所述环状胺结构的与氮原子相邻的2个碳原子分别具有2个下述式(S)(式中，R¹¹为单键等，X为单键、R¹²为烃基。)所示的取代基；[II]对[I]中得到的涂膜照射偏振紫外线的工序；以及[III]将[II]中得到的涂膜进行加热的工序。-R¹¹-X-R¹²(S)。

Description

具有横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜的基板的制造方法

技术领域

本发明涉及具有横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜的基板的制造方法。更详细而言，涉及用于制造残影特性优异的液晶表示元件的新方法。

背景技术

液晶表示元件作为质量轻、截面薄且耗电低的表示装置是已知的，近年来被用于大型电视用途等，实现了显著的发展。液晶表示元件例如是利用具备电极的一对透明基板夹持液晶层而构成的。并且，在液晶表示元件中，包含有机材料的有机膜被用作液晶取向膜使液晶在基板之间呈现期望取向状态。

即，液晶取向膜是液晶表示元件的构成部件，其形成在夹持液晶的基板的与液晶接触的表面，承担使液晶在该基板之间沿着特定方向取向这一作用。并且，对于液晶取向膜而言，除了使液晶沿着例如平行于基板的方向等特定方向取向这一作用之外，有时还要求对液晶预倾角进行控制这一作用。这种液晶取向膜的控制液晶取向的能力(以下称为取向控制能力。)通过对构成液晶取向膜的有机膜进行取向处理而被赋予。

作为用于赋予取向控制能力的液晶取向膜的取向处理方法，一直以来已知有刷磨法。刷磨法是指如下的方法：针对基板上的聚乙烯醇、聚酰胺、聚酰亚胺等的有机膜，用棉花、尼龙、聚酯等的布沿着恒定方向摩擦(刷磨)其表面，从而使液晶沿着摩擦方向(刷磨方向)取向。该刷磨法能够简便地实现较稳定的液晶取向状态，因此可利用于以往的液晶表示元件的制造工艺。并且，作为液晶取向膜中使用的有机膜，主要选择耐热性等可靠性、电特性优异的聚酰亚胺系有机膜。

然而，对包含聚酰亚胺等的液晶取向膜的表面进行摩擦的刷磨法存在产尘、产生静电的问题。另外，由于近年来的液晶表示元件的高清晰化、相应基板上的电极或液晶驱动用切换能动元件所导致的凹凸，因此，无法用布均匀地摩擦液晶取向膜的表面、无法实现均匀的液晶取向。

因而，作为不进行刷磨的液晶取向膜的其它取向处理方法，积极地研究了光取向法。

光取向法有各种方法，通过直线偏振光或经准直的光而在构成液晶取向膜的有机膜内形成各向异性，根据该各向异性而使液晶进行取向。

作为主要的光取向法，已知有分解型的光取向法。例如，对聚酰亚胺膜照射偏振紫外线，利用分子结构的紫外线吸收的偏振方向依赖性而发生各向异性的分解。并且，通过未分解而残留的聚酰亚胺使液晶进行取向(例如参照专利文献1。)。

另外，还已知有光交联型、光异构化型的光取向法。例如使用聚肉桂酸乙烯酯，照射偏振紫外线，使平行于偏振光的2个侧链的双键部分发生二聚反应(交联反应)。并且，使液晶沿着与偏振方向垂直的方向进行取向(例如参照非专利文献1。)。另外，使用在侧链具有偶氮苯的侧链型高分子时，照射偏振紫外线，使平行于偏振光的侧链的偶氮苯部分发生异构化反应，使液晶沿着与偏振方向垂直的方向进行取向(例如参照非专利文献2。)。

如上述例子那样，在利用光取向法对液晶取向膜进行取向处理的方法中，无需进行刷磨，不用担心产尘、产生静电。并且，即使针对表面具有凹凸的液晶表示元件的基板也能够实施取向处理，从而成为适合于工业生产工艺的液晶取向膜的取向处理方法。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特许第3893659号公报

非专利文献

非专利文献1：M.Shadtetal.,Jpn.J.Appl.Phys.31,2155(1992).

非专利文献2：K.Ichimuraetal.,Chem.Rev.100,1847(2000).

发明内容

发明要解决的问题

如上所述，与作为液晶表示元件的取向处理方法而一直以来进行工业利用的刷磨法相比，光取向法无需刷磨工序这一工序，因此具备明显的优点。并且，与刷磨所产生的取向控制能力基本固定的刷磨法相比，光取向法能够变更偏振光的照射量来控制取向控制能力。然而，在光取向法想要实现与利用刷磨法时的程度相同的取向控制能力的情况下，有时需要大量的偏振光照射量或者无法实现稳定的液晶取向。

例如，在上述专利文献1所述的分解型光取向法中，需要对聚酰亚胺膜照射60分钟的由功率500W的高压汞灯发出的紫外光等，需要长时间且大量的紫外线照射。另外，在二聚型、光异构化型光取向法的情况下，有时需要数J(焦耳)～数十J左右的大量紫外线照射。进而，在光交联型、光异构化型光取向法的情况下，液晶取向的热稳定性、光稳定性差，因此制成液晶表示元件时，存在发生取向不良、表示残影的问题。尤其是，横向电场驱动型的液晶表示元件中，将液晶分子在面内进行切换，因此容易发生液晶驱动后的液晶取向偏移，由AC驱动引起的表示残影被视作明显的课题。

因此，对于光取向法而言，要求实现取向处理的高效率化、稳定的液晶取向，要求能够对液晶取向膜高效地赋予高取向控制能力的液晶取向膜、液晶取向剂。

本发明的目的在于，提供以高效率被赋予取向控制能力、残影特性优异的、具有横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜的基板以及具有该基板的横向电场驱动型液晶表示元件。

另外，本发明的目的在于，提供在上述目的的基础上，即使在高温、高湿等严苛的条件下，电压保持率等特性也不会降低、具备高可靠性的横向电场驱动型液晶元件以及用于该元件的液晶取向膜。

用于解决问题的方案

本发明人等为了实现上述课题而进行了深入研究，结果发现如下发明。

<1>一种聚合物组合物、尤其是横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜制造用组合物，其含有：(A)在特定的温度范围内表现出液晶性的感光性侧链型高分子、以及(B)有机溶剂，

该(A)侧链型高分子具备选自由具有环状胺结构的第1重复单元和具有苯酚结构的第2重复单元组成的组中的至少1种重复单元，

前述环状胺结构的与氮原子相邻的2个碳原子分别具有2个下述式(S)所示的取代基(式中，R¹¹为单键或任选被取代的烃基，

X为单键、氧原子、硫原子、-CO-、-CO-O-或-O-CO-，

R¹²为任选被取代的烃基。其中，X不是单键时，R¹¹和R¹²任选彼此键合而形成环结构。)

前述苯酚结构的羟基的邻位碳原子之中的至少1个碳原子具有下述式(S)所示的取代基。

-R¹¹-X-R¹²(S)

<2>上述<1>中，(A)成分可以具有会发生光交联、光异构化或光弗利斯重排的感光性侧链。

<3>上述<1>或<2>中，前述第1重复单元可以用下述式(1-1)(式(1-1)中，R为氢原子或甲基，R¹¹任选各自相同或不同，具有与上述相同的定义，X任选各自相同或不同，具有与上述相同的定义，R¹²任选各自相同或不同，具有与上述相同的定义，B¹为氢原子、氧原子、卤素原子、羟基或1价的有机基团，m为0～4的整数)表示，

前述第2重复单元可以用下述式(1-2)(式(1-2)中，R为氢原子或甲基，R¹¹任选各自相同或不同，具有与上述相同的定义，X任选各自相同或不同，具有与上述相同的定义，R¹²任选各自相同或不同，具有与上述相同的定义，n为0～3的整数)表示。

<4>上述<1>～<3>的任一者中，前述第1重复单元可以用下述式(1-1-1)(式(1-1-1)中，R为氢原子或甲基，A¹为单键或2价的连结基团，R¹³任选彼此相同或不同，为碳数1～5的烷基，B¹为氢原子、氧原子、卤素原子、羟基或1价的有机基团)表示，

前述第2重复单元可以用下述式(1-2-1)(式(1-2-1)中，R为氢原子或甲基，A¹为单键或2价的连结基团，R¹³为碳数1～5的烷基，R¹⁴为氢原子或碳数1～5的烷基)表示。

<5>上述<1>～<4>的任一者中，(A)成分可以具有选自由下述式(1)～(6)组成的组中的任一种感光性侧链。

式中，A、B、D各自独立地表示单键、-O-、-CH₂-、-COO-、-OCO-、-CONH-、-NH-CO-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-；

S为碳数1～12的亚烷基，键合于它们的氢原子任选被卤素基团取代；

T为单键或碳数1～12的亚烷基，键合于它们的氢原子任选被卤素基团取代；

Y₁表示选自1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环和碳数5～8的脂环式烃中的环，或者是选自这些取代基中的相同或不同的2～6个环借助键合基团B键合而成的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-COOR₀(式中，R₀表示氢原子或碳数1～5的烷基)、-NO₂、-CN、-CH＝C(CN)₂、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代；

Y₂为选自由2价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环、碳数5～8的脂环式烃和它们的组合组成的组中的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-NO₂、-CN、-CH＝C(CN)₂、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代；

R⁵¹表示羟基、碳数1～6的烷氧基，或者表示与Y₁相同的定义；

X表示单键、-COO-、-OCO-、-N＝N-、-CH＝CH-、-C≡C-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-，X的数量达到2时，X任选彼此相同或不同；

Cou表示香豆素-6-基或香豆素-7-基，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-NO₂、-CN、-CH＝C(CN)₂、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代；

q1和q2中的一者为1，另一者为0；

q3为0或1；

P和Q各自独立地为选自由2价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环、碳数5～8的脂环式烃和它们的组合组成的组中的基团；其中，X为-CH＝CH-CO-O-、-O-CO-CH＝CH-时，-CH＝CH-所键合的一侧的P或Q为芳香环，P的数量达到2以上时，P任选彼此相同或不同，Q的数量达到2以上时，Q任选彼此相同或不同；

l1为0或1；

l2为0～2的整数；

l1和l2均为0时，T为单键时A也表示单键；

l1为1时，T为单键时B也表示单键；

H和I各自独立地为选自2价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环和它们的组合中的基团。

<6>上述<1>～<4>的任一者中，(A)成分可以具有选自由下述式(7)～(10)组成的组中的任一种感光性侧链。

式中，A、B、D、Y₁、X、Y₂和R⁵¹具有与上述相同的定义；

l表示1～12的整数；

m表示0～2的整数，m1、m2表示1～3的整数；

n表示0～12的整数(其中，n＝0时，B为单键)。

<7>上述<1>～<4>的任一者中，(A)成分可以具有选自由下述式(11)～(13)组成的组中的任一种感光性侧链。

式中，A、X、l、m、m1和R⁵¹具有与上述相同的定义。

<8>上述<1>～<4>的任一者中，(A)成分可以具有下述式(14)或(15)所示的感光性侧链。

式中，A、Y₁、l、m1和m2具有与上述相同的定义。

<9>上述<1>～<4>的任一者中，(A)成分可以具有下述式(16)或(17)所示的感光性侧链。

式中，A、X、l和m具有与上述相同的定义。

<10>上述<1>～<4>的任一者中，(A)成分可以具有下述式(18)或(19)所示的感光性侧链。

式中，A、B、Y₁、q1、q2、m1和m2具有与上述相同的定义。

R₁表示氢原子、-NO₂、-CN、-CH＝C(CN)₂、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基。

<11>上述<1>～<4>的任一者中，(A)成分可以具有下述式(20)所示的感光性侧链。

式中，A、Y₁、X、l和m具有与上述相同的定义。

<12>上述<1>～<11>的任一者中，(A)成分可以具有选自由下述式(21)～(31)组成的组中的任一种液晶性侧链。

式中，A、B、q1和q2具有与上述相同的定义；

Y₃为选自由1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、含氮杂环和碳数5～8的脂环式烃、以及它们的组合组成的组中的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-NO₂、-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代；

R₃表示氢原子、-NO₂、-CN、-CH＝C(CN)₂、-CH＝CH-CN、卤素基团，1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、含氮杂环、碳数5～8的脂环式烃，碳数1～12的烷基、或碳数1～12的烷氧基；

l表示1～12的整数，m表示0～2的整数，其中，式(23)～(24)中，所有的m的总和为2以上，式(25)～(26)中，所有的m的总和为1以上，m1、m2和m3各自独立地表示1～3的整数；

R₂表示氢原子、-NO₂、-CN、卤素基团，1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、含氮杂环、和碳数5～8的脂环式烃，以及烷基、或烷氧基；

Z₁、Z₂表示单键、-CO-、-CH₂O-、-CH＝N-、-CF₂-。

<13>一种具有横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜的基板的制造方法，其通过具备如下工序而得到被赋予了取向控制能力的前述液晶取向膜：

[I]将上述<1>～<12>中任一项所述的组合物涂布在具有横向电场驱动用导电膜的基板上而形成涂膜的工序；

[II]对[I]中得到的涂膜照射偏振紫外线的工序；以及

[III]将[II]中得到的涂膜进行加热的工序。

<14>一种具有横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜的基板，其是通过上述<13>的方法而制造的。

<15>一种横向电场驱动型液晶表示元件，其具有上述<14>的基板。

<16>一种横向电场驱动型液晶表示元件的制造方法，其通过具备如下工序而得到该液晶表示元件：

准备上述<14>的基板(第1基板)的工序；

获得具有下述液晶取向膜的第2基板的工序，其通过具备下述工序[I’]、[II’]和[III’]而得到被赋予了取向控制能力的液晶取向膜；以及

[IV]以前述第1基板和第2基板的液晶取向膜隔着液晶相对的方式，对向配置前述第1基板和第2基板，从而得到液晶表示元件的工序，

所述工序[I’]、[II’]和[III’]为：

[I’]在第2基板上涂布聚合物组合物而形成涂膜的工序，所述聚合物组合物含有：(A)在特定的温度范围内表现出液晶性的感光性侧链型高分子、以及(B)有机溶剂；

[II’]对[I’]中得到的涂膜照射偏振紫外线的工序；

[III’]将[II’]中得到的涂膜进行加热的工序。

另外，作为另一面而发现了如下发明。

<P1>一种具有横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜的基板的制造方法，其通过具备如下工序而得到被赋予了取向控制能力的前述液晶取向膜：

[I]将聚合物组合物涂布在具有横向电场驱动用导电膜的基板上而形成涂膜的工序，所述聚合物组合物含有(A)侧链型高分子和(B)有机溶剂，所述(A)侧链型高分子是在特定的温度范围内表现出液晶性的感光性侧链型高分子，其具有选自环状胺结构或苯酚结构中的一种以上重复单元，所述环状胺结构的与氮原子相邻的2个碳原子分别具有2个下述式(S)所示的取代基，所述苯酚结构的羟基的邻位碳原子之中的至少1个碳原子具有下述式(S)(式中，R¹¹为单键或任选被取代的烃基，X为单键、氧原子、硫原子、-CO-、-CO-O-或-O-CO-，R¹²为任选被取代的烃基。其中，X不是单键时，R¹¹和R¹²任选彼此键合而形成环结构。)所示的取代基；

[II]对[I]中得到的涂膜照射偏振紫外线的工序；以及

[III]将[II]中得到的涂膜进行加热的工序。

-R¹¹-X-R¹²(S)

<P2>上述<P1>中，(A)成分可以具有会发生光交联、光异构化或光弗利斯重排的感光性侧链。

<P3>一种制造方法，其特征在于，上述<P1>中，前述重复单元用下述式(1-1)或(1-2)(式(1-1)和式(1-2)中，R为氢原子或甲基，A¹为单键或2价的连结基团，R¹¹分别为单键或任选被取代的烃基，X分别为单键、氧原子、硫原子、-CO-、-CO-O-或-O-CO-，R¹²分别为任选被取代的烃基。其中，X不是单键时，R¹¹和R¹²任选彼此键合而形成环结构。式(1-1)中，B¹为氢原子、氧原子、卤素原子、羟基或1价的有机基团，m为0～4的整数。式(1-2)中，n为0～3的整数。)表示。

<P4>一种制造方法，其特征在于，上述<P1>中，前述重复单元用下述式(1-1-1)或(1-2-1)(式(1-1-1)和式(1-2-1)中，R为氢原子或甲基，A¹为单键或2价的连结基团，R¹³分别为碳数1～5的烷基，R¹⁴为氢原子或碳数1～5的烷基。式(1-1-1)中，B¹为氢原子、氧原子、卤素原子、羟基或1价的有机基团。)表示。

<P5>上述<P1>或<P2>中，(A)成分可以具有选自由下述式(1)～(6)组成的组中的任一种感光性侧链。

式中，A、B、D各自独立地表示单键、-O-、-CH₂-、-COO-、-OCO-、-CONH-、-NH-CO-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-；

S为碳数1～12的亚烷基，键合于它们的氢原子任选被卤素基团取代；

T为单键或碳数1～12的亚烷基，键合于它们的氢原子任选被卤素基团取代；

Y₁表示选自1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环和碳数5～8的脂环式烃中的环，或者是选自这些取代基中的相同或不同的2～6个环借助键合基团B键合而成的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-COOR₀(式中，R₀表示氢原子或碳数1～5的烷基)、-NO₂、-CN、-CH＝C(CN)₂、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代；

Y₂为选自由2价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环、碳数5～8的脂环式烃和它们的组合组成的组中的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-NO₂、-CN、-CH＝C(CN)₂、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代；

R⁵¹表示羟基、碳数1～6的烷氧基，或者表示与Y₁相同的定义；

X表示单键、-COO-、-OCO-、-N＝N-、-CH＝CH-、-C≡C-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-；

Cou表示香豆素-6-基或香豆素-7-基，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-NO₂、-CN、-CH＝C(CN)₂、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代；

q1和q2中的一者为1，另一者为0；

q3为0或1；

P和Q各自独立地为选自由单键、2价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环、碳数5～8的脂环式烃和它们的组合组成的组中的基团。其中，X为-CH＝CH-CO-O-、-O-CO-CH＝CH-时，-CH＝CH-所键合的一侧的P或Q为芳香环；

H和I各自独立地为选自2价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环和它们的组合中的基团。

<P6>上述<P1>或<P2>中，(A)成分可以具有选自由下述式(7)～(10)组成的组中的任一种感光性侧链。

式中，A、B、D、Y₁、X、Y₂和R⁵¹具有与上述相同的定义；

l表示1～12的整数；

m表示0～2的整数，m1、m2表示1～3的整数；

n表示0～12的整数(其中，n＝0时，B为单键)。

<P7>上述<P1>或<P2>中，(A)成分可以具有选自由下述式(11)～(13)组成的组中的任一种感光性侧链。

式中，A、X、l、m和R⁵¹具有与上述相同的定义。

<P8>上述<P1>或<P2>中，(A)成分可以具有下述式(14)或(15)所示的感光性侧链。

式中，A、Y₁、X、l、m1和m2具有与上述相同的定义。

<P9>上述<P1>或<P2>中，(A)成分可以具有下述式(16)或(17)所示的感光性侧链。

式中，A、X、l和m具有与上述相同的定义。

<P10>上述<P1>或<P2>中，(A)成分可以具有下述式(18)或(19)所示的感光性侧链。

式中，A、B、Y1、q1、q2、m1和m2具有与上述相同的定义。

R₁表示氢原子、-NO₂、-CN、-CH＝C(CN)₂、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基。

<P11>上述<P1>或<P2>中，(A)成分可以具有下述式(20)所示的感光性侧链。

式中，A、Y₁、X、l和m具有与上述相同的定义。

<P12>上述<P1>～<P11>的任一者中，(A)成分可以具有选自由下述式(21)～(31)组成的组中的任一种液晶性侧链。

式中，A、B、q1和q2具有与上述相同的定义；

Y₃为选自由1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、含氮杂环和碳数5～8的脂环式烃、以及它们的组合组成的组中的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-NO₂、-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代；

R₃表示氢原子、-NO₂、-CN、-CH＝C(CN)₂、-CH＝CH-CN、卤素基团，1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、含氮杂环、碳数5～8的脂环式烃，碳数1～12的烷基、或碳数1～12的烷氧基；

l表示1～12的整数，m表示0～2的整数，其中，式(25)～(26)中，所有的m的总和为2以上，式(27)～(28)中，所有的m的总和为1以上，m1、m2和m3各自独立地表示1～3的整数；

R₂表示氢原子、-NO₂、-CN、卤素基团，1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、含氮杂环、和碳数5～8的脂环式烃，以及烷基、或烷氧基；

Z₁、Z₂表示单键、-CO-、-CH₂O-、-CH＝N-、-CF₂-。

<P13>一种具有横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜的基板，其是通过上述<P1>～<P12>中任一项而制造的。

<P14>一种横向电场驱动型液晶表示元件，其具有上述<P13>的基板。

<P15>一种横向电场驱动型液晶表示元件的制造方法，其通过具备如下工序而得到该液晶表示元件：

准备上述<P13>的基板(第1基板)的工序；

获得具有下述液晶取向膜的第2基板的工序，其通过具备如下工序[I’]、[II’]和[III’]而得到被赋予了取向控制能力的液晶取向膜；以及

[IV]以第1基板和第2基板的液晶取向膜隔着液晶相对的方式，对向配置第1基板和第2基板，从而得到液晶表示元件的工序，

所述工序[I’]、[II’]和[III’]为：

[I’]在第2基板上涂布聚合物组合物而形成涂膜的工序，所述聚合物组合物含有：(A)在特定的温度范围内表现出液晶性的感光性侧链型高分子、以及(B)有机溶剂；

[II’]对[I’]中得到的涂膜照射偏振紫外线的工序；以及

[III’]将[II’]中得到的涂膜进行加热的工序。

<P16>一种横向电场驱动型液晶表示元件，其是通过上述<P15>而制造的。

<P17>一种横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜制造用组合物，其含有(A)侧链型高分子和(B)有机溶剂，

所述(A)侧链型高分子是在特定的温度范围内表现出液晶性的感光性侧链型高分子，其具有选自环状胺结构或苯酚结构中的一种以上重复单元，

所述环状胺结构的与氮原子相邻的2个碳原子分别具有2个下述式(S)(式中，R¹¹为单键或任选被取代的烃基，X为单键、氧原子、硫原子、-CO-、-CO-O-或-O-CO-，R¹²为任选被取代的烃基。其中，X不是单键时，R¹¹和R¹²任选彼此键合而形成环结构。)所示的取代基，

所述苯酚结构的羟基的邻位碳原子之中的至少1个碳原子具有下述式(S)所示的取代基。

-R¹¹-X-R¹²(S)

<P18>一种组合物，其特征在于，上述<P17>中，前述重复单元用下述式(1-1)或(1-2)表示。

式(1-1)和式(1-2)中，R为氢原子或甲基，A¹为单键或2价的连结基团，R¹¹分别为单键或任选被取代的烃基，X分别为单键、氧原子、硫原子、-CO-、-CO-O-或-O-CO-，R¹²分别为任选被取代的烃基。其中，X不是单键时，R¹¹和R¹²任选彼此键合而形成环结构。式(1-1)中，B¹为氢原子、氧原子、卤素原子、羟基或1价的有机基团，m为0～4的整数。式(1-2)中，n为0～3的整数。

<P19>一种组合物，其特征在于，上述<P17>中，前述重复单元用下述式(1-1-1)或(1-2-1)表示。

式(1-1-1)和式(1-2-1)中，R为氢原子或甲基，A¹为单键或2价的连结基团，R¹³分别为碳数1～5的烷基，R¹⁴为氢原子或碳数1～5的烷基。式(1-1-1)中，B¹为氢原子、氧原子、卤素原子、羟基或1价的有机基团。

发明的效果

通过本发明，能够提供以高效率被赋予取向控制能力、残影特性优异的、具有横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜的基板以及具有该基板的横向电场驱动型液晶表示元件。

通过本发明的方法而制造的横向电场驱动型液晶表示元件被高效地赋予了取向控制能力，因此即使长时间连续驱动也不会损害表示特性。

另外，通过本发明，能够提供在上述效果的基础上，即使在高温、高湿等严苛的条件下，电压保持率等特性也不会降低、具备高可靠性的横向电场驱动型液晶元件以及用于该元件的液晶取向膜。

附图说明

图1是示意性地说明本发明所用的液晶取向膜的制造方法中的各向异性导入处理的一个例子的图，是感光性的侧链使用交联性有机基团且所导入的各向异性小时的图。

图2是示意性地说明本发明所用的液晶取向膜的制造方法中的各向异性导入处理的一个例子的图，是感光性的侧链使用交联性有机基团且所导入的各向异性大时的图。

图3是示意性地说明本发明所用的液晶取向膜的制造方法中的各向异性导入处理的一个例子的图，是感光性的侧链使用会发生弗利斯重排或异构化的有机基团且所导入的各向异性小时的图。

图4是示意性地说明本发明所用的液晶取向膜的制造方法中的各向异性导入处理的一个例子的图，是感光性的侧链使用会发生弗利斯重排或异构化的有机基团且所导入的各向异性大时的图。

具体实施方式

本发明人进行了深入研究，结果得到如下见解，从而完成了本发明。

本发明的制造方法中使用的聚合物组合物具有能够表现出液晶性的感光性侧链型高分子(以下也简称为侧链型高分子)，使用前述聚合物组合物得到的涂膜是具有能够表现出液晶性的感光性侧链型高分子的膜。该涂膜无需进行刷磨处理，通过偏振光照射而进行取向处理。并且，在进行偏振光照射后，经由加热该侧链型高分子膜的工序，从而成为被赋予了取向控制能力的涂膜(以下也称为液晶取向膜)。此时，通过偏振光照射而表现出的微小各向异性成为驱动力，液晶性的侧链型高分子自身因自组装化而有效地再取向。其结果，能够作为液晶取向膜而实现高效的取向处理，得到被赋予了高取向控制能力的液晶取向膜

以下，针对本发明的实施方式进行详细说明。

<具有液晶取向膜的基板的制造方法>和<液晶表示元件的制造方法>

本发明的具有液晶取向膜的基板的制造方法具备如下工序：

[I]将聚合物组合物、尤其是横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜制造用组合物涂布在具有横向电场驱动用导电膜的基板上而形成涂膜的工序，所述聚合物组合物、尤其是横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜制造用组合物含有：(A)在特定的温度范围内表现出液晶性的感光性侧链型高分子、以及(B)有机溶剂，该(A)侧链型高分子具备选自由具有环状胺结构的第1重复单元和具有苯酚结构的第2重复单元组成的组中的至少1种重复单元，前述环状胺结构的与氮原子相邻的2个碳原子分别具有2个下述式(S)(式中，R¹¹为单键或任选被取代的烃基，X为单键、氧原子、硫原子、-CO-、-CO-O-或-O-CO-，R¹²为任选被取代的烃基。其中，X不是单键时，R¹¹和R¹²任选彼此键合而形成环结构。)所示的取代基，前述苯酚结构的羟基的邻位碳原子之中的至少1个碳原子具有下述式(S)所示的取代基；

[II]对[I]中得到的涂膜照射偏振紫外线的工序；以及

[III]将[II]中得到的涂膜进行加热的工序。

-R¹¹-X-R¹²(S)

通过上述工序，能够获得被赋予了取向控制能力的横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜，能够获得具有该液晶取向膜的基板。

另外，除了上述得到的基板(第1基板)之外，通过准备第2基板，能够得到横向电场驱动型液晶表示元件。

第2基板除了使用不具有横向电场驱动用导电膜的基板来代替具有横向电场驱动用导电膜的基板之外，通过使用上述工序[I]～[III](由于使用不具有横向电场驱动用导电膜的基板，因此为了方便，在本申请中有时简称为工序[I’]～[III’])，能够获得具有被赋予了取向控制能力的液晶取向膜的第2基板。

横向电场驱动型液晶表示元件的制造方法具备如下工序：

[IV]将上述得到的第1基板和第2基板以第1基板和第2基板的液晶取向膜隔着液晶相对的方式进行对向配置，从而得到液晶表示元件的工序。由此，能够得到横向电场驱动型液晶表示元件。

以下，针对本发明的制造方法所具备的[I]～[III]和[IV]的各工序进行说明。

<工序[I]>

工序[I]中，在具有横向电场驱动用导电膜的基板上涂布聚合物组合物而形成涂膜，所述聚合物组合物含有：在特定的温度范围内表现出液晶性的感光性侧链型高分子、以及有机溶剂。

<基板>

针对基板没有特别限定，要制造的液晶表示元件是透过型时，优选使用透明性高的基板。此时没有特别限定，可以使用玻璃基板或丙烯酸类基板、聚碳酸酯基板等塑料基板等。

另外，考虑到在反射型液晶表示元件中的应用，也可以使用硅晶片等不透明的基板。

<横向电场驱动用导电膜>

基板具有横向电场驱动用导电膜。

作为该导电膜，液晶表示元件为透过型时，可列举出ITO(IndiumTinOxide：氧化铟锡)、IZO(IndiumZincOxide：氧化铟锌)等，不限定于这些。

另外，在反射型液晶表示元件的情况下，作为导电膜，可列举出铝等会反射光的材料等，不限定于这些。

在基板上形成导电膜的方法可以使用现有公知的方法。

<聚合物组合物>

在具有横向电场驱动用导电膜的基板上涂布聚合物组合物，尤其是在导电膜上涂布聚合物组合物。

本发明的制造方法中使用的该聚合物组合物含有：(A)在特定的温度范围内表现出液晶性的感光性侧链型高分子、以及(B)有机溶剂。

<<(A)侧链型高分子>>

(A)成分是在特定的温度范围内表现出液晶性的感光性侧链型高分子。

(A)侧链型高分子通过在250nm～400nm的波长范围的光下发生反应、且在100℃～250℃的温度范围内显示液晶性即可。

(A)侧链型高分子优选具有与250nm～400nm的波长范围的光发生反应的感光性侧链。

(A)侧链型高分子在100℃～250℃的温度范围内显示液晶性，因此优选具有液晶原基团。

[重复单元]

该(A)侧链型高分子具备选自由具有环状胺结构的第1重复单元和具有苯酚结构的第2重复单元组成的组中的至少1种重复单元。

环状胺结构的与氮原子相邻的2个碳原子分别具有2个上述式(S)所示的取代基。

苯酚结构的羟基的邻位碳原子之中的至少1个碳原子具有上述式(S)所示的取代基。

作为上述环状胺结构，形成其环结构的碳原子的数量优选为2个以上且7个以下、更优选为5个。

另外，作为上述苯酚结构，苯环中的羟基的键合位置是任意的，优选为该苯环中的与主链侧键合的碳原子的对位。

作为重复单元(a1)的优选结构，更具体而言，具有环状胺结构时，是具有受阻胺结构的结构，是下述式(1-1)所示的结构。

另一方面，具有苯酚结构时，是具有受阻酚结构的结构，是下述式(1-2)所示的结构。

式(1-1)和式(1-2)中，R为氢原子或甲基，A¹为单键或2价的连结基团，式(1-1)中，B¹为氢原子、氧原子、卤素原子、羟基或1价的有机基团，m为0～4的整数。式(1-2)中，n为0～3的整数。R¹¹、X和R¹²的定义与上述式(S)相同。

上述式(S)、上述式(1-1)和上述式(1-2)中，作为R¹¹的烃基，具体而言，可列举出碳数1～10的2价链状烃基、碳数3～15的2价脂环式烃基、以及碳数6～20的2价芳香族烃基。这些之中，优选为亚甲基或碳数2～5的亚烷基。作为碳数2～5的亚烷基，具体而言，可列举出亚乙基、亚丙基、亚丁基、亚戊基等，它们可以是直链状和分枝状中的任一者。另外，作为该烃基任选具有的取代基，可列举出例如氟原子、氯原子等卤素原子、羟基等。

上述式(S)、上述式(1-1)和上述式(1-2)中，-R¹¹-X-不是单键时，优选为-CO-O-、-CH₂-CO-或-CH₂-CH(OH)-。

上述式(S)、上述式(1-1)和上述式(1-2)中，作为R¹²，具体而言，可列举出碳数1～6的烷基、碳数6～12的芳基或碳数7～13的芳烷基。此时，芳基和芳烷基所具有的苯环上的氢原子任选被甲酰基或碳数1～4的烷氧基取代。

作为R¹²的碳数1～6的烷基，可列举出例如甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、2-丁基、异丁基、叔丁基等；

作为碳数6～12的芳基，可列举出例如苯基、4-甲酰基苯基、3,4,5-三甲氧基苯基等；

作为碳数7～13的芳烷基，可列举出苄基等。

作为R¹¹和R¹²彼此键合而形成的环结构，可列举出例如从呋喃、噻吩、2H-吡喃和4H-吡喃等中去除1个氢原子而得到的基团。

上述式(S)、上述式(1-1)和上述式(1-2)中，作为-R¹¹-X-R¹²，可优选地列举出例如甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、2-丁基、异丁基、叔丁基、苯基、苄基、苯甲酰基、4-甲酰基苯甲酰基、2-羟基-2-苯乙基、2-氧杂-2-(3,4,5-三甲氧基苯基)乙基等。另外，作为-R¹¹-X-R¹²，更优选为碳数1～5的烷基，如果为上述式(1-1)，则特别优选为甲基或乙基，如果为上述式(1-2)，则特别优选为甲基或叔丁基。

上述式(1-1)中，作为m，优选为0；上述式(1-2)中，作为n，优选为0或1。这些m和n的关系、以及与上述-R¹¹-X-R¹²的关系中，作为上述式(1-1)和上述式(1-2)，优选用下述式(1-1-1)和下述式(1-2-1)表示。

式(1-1-1)和式(1-2-1)中，R¹³分别为碳数1～5的烷基；式(1-2-1)中，R¹⁴为氢原子或碳数1～5的烷基。R、A¹和B¹的定义与上述式(1-1)和上述式(1-2)相同。)

上述式(1-1)、上述式(1-2)、上述式(1-1-1)和上述式(1-2-1)中，作为A¹，优选为2价的连结基团。作为A¹的2价的连结基团，可列举出下述式(A1)所示的基团。

-A¹¹-A¹²-A¹³-A¹⁴-*1(A1)

式中，A¹¹为单键、亚甲基、碳数2～5的亚烷基或亚苯基，A¹²为单键、-O-、-CO-、-CO-O-或-O-CO-，A¹³为单键或者任选被取代的亚甲基或碳数2～5的亚烷基，A¹⁴为单键、-O-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-NR’-或-NR’-CO-O-，R’为氢原子或碳数1～6的烷基。其中，不包括A¹¹、A¹²、A¹³和A¹⁴全部为单键的情况。*1表示与环状胺结构的碳原子或苯酚结构的碳原子键合的连接键。

上述式(A1)中，作为A¹¹和A¹³的碳数2～5的亚烷基，可列举出上述R¹¹中例示出的亚烷基。另外，作为A¹³的亚甲基或碳数2～5的亚烷基任选具有的取代基，可列举出上述R¹¹中例示的取代基。另外，作为R’的碳数1～6的烷基，可列举出上述R¹²中例示出的烷基。

作为上述式(A1)所示的2价的连结基团，可列举出例如式(A1-1)～式(A1-17)所示的基团，但不限定于这些。

式(A1-1)～式(A1-17)中，*1表示环状胺结构的碳原子或苯酚结构的碳原子上键合的连接键。

上述式(A1-1)～式(A1-17)中，从适合实现提高所得液晶取向膜的耐久性的方面出发，作为A¹的2价的连结基团，优选为式(A1-2)、式(A1-5)、式(A1-8)、式(A1-10)、式(A1-11)、式(A1-16)和式(A1-17)中的任一者所示的基团，更优选为式(A1-2)、式(A1-5)和式(A1-10)中的任一者所示的基团。

上述式(1-1)和上述式(1-1-1)中，作为B¹的卤素原子，可列举出氟原子、氯原子等。

上述式(1-1)和上述式(1-1-1)中，作为B¹的1价有机基团，可列举出下述式(B1)所示的基团。

-B¹¹-B¹²(B1)

式中，B¹¹为单键、-O-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-NR”-或-CO-NR”-，R”为氢原子或碳数1～6的烷基。B¹²为碳数1～15的烷基、碳数6～12的芳基、碳数7～13的芳烷基、碳数3～10的1价的杂环基、或碳数3～15的脂环式烃基，这些基团所具有的氢原子任选被取代。

上述式(B1)中，作为R”的碳数1～6的烷基，可列举出上述R¹²中例示出的烷基。

上述式(B1)中，作为B¹²的碳数1～15的烷基，可以为直链状也可以为分枝状，可列举出例如甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基、十三烷基、十四烷基、十五烷基等；

作为碳数6～12的芳基，可列举出例如苯基、甲苯基、4-乙基苯基、二甲基苯基、2,4,6-三甲基苯基、萘基、蒽基等；

作为碳数7～13的芳烷基，可列举出例如苄基、苯乙基、α-甲基苄基、萘基甲基等；

作为碳数3～10的1价杂环基，可列举出含氮杂环化合物，可列举出例如哌啶、吗啉、吡啶、吡嗪等；

作为碳数3～15的脂环式烃基，可列举出例如环戊基、环己基、4-甲基环己基等。

另外，作为B¹²的上述各基团任选具有的取代基，可列举出例如氟原子、氯原子等卤素原子、羟基、硝基、氰基等。

作为上述式(B1)所示的1价有机基团(-B¹¹-B¹²)，可列举出例如甲基、正丁基、正戊基、叔戊基、正辛基、苄基、4-乙基苯基、4-甲基环己基、甲氧基、辛氧基、环己氧基、乙酰基、乙酰氧基、十四碳酰基、α-甲基苄氧基、哌啶代羰基、吗啉代羰基、2-羟基-2-甲基丙氧基、-O-CONH-C₆H₅等。

上述式(1-1)和上述式(1-1-1)中，从适合实现提高所得液晶取向膜的耐久性的方面出发，作为B¹，优选为氢原子、氧原子、氯原子、甲基、正丁基、正戊基、叔戊基、苄基、甲氧基、辛氧基、乙酰基、乙酰氧基、环己氧基中的任一者，更优选为氢原子、氧原子、甲基、苄基、辛氧基中的任一者。

作为具有受阻胺结构的重复单元(a1)，具体而言，可列举出下述式(a1-1-1)～(a1-1-20)(式中，R为氢原子或甲基)所示的重复单元。

赋予上述受阻胺结构的重复单元(a1)的单体可通过组合有机化学的常规方法来容易地合成。例如，若为赋予上述式(a1-1-1)～式(a1-1-16)的重复单元的单体，可以通过使卤代(甲基)丙烯酰基与下述式(C-1)(式中，A¹³、A¹⁴、B¹和R¹³的定义与已经说明的定义相同。)所示的化合物按照公知的酯化反应发生反应来获得。另外，若为赋予上述式(a1-1-17)或式(a1-1-18)的重复单元的单体，可以通过使卤代2-丙烯基或卤代9-癸基与下述式(C-1)所示的化合物按照公知的醚化反应发生反应来获得。另外，若为赋予上述式(a1-1-19)或式(a1-1-20)的重复单元的单体，可以通过使卤代(甲基)丙烯酰基与下述式(C-1)中的OH-A¹³-A¹⁴-替换成NH₂-的化合物按照公知的酰胺化反应发生反应来获得。

另外，上述各单体也可以使用市售品，例如，甲基丙烯酸2,2,6,6-四甲基-4-哌啶酯和甲基丙烯酸1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶酯分别以FA-712HM、FA-711MM的形式由日立化成工业株式会社上市销售。

作为具有受阻酚结构的重复单元(a1)，具体而言，可列举出下述式(a1-2-1)～式(a1-2-10)(式中，R为氢原子或甲基。)所示的重复单元。

赋予上述受阻酚结构的重复单元(a1)的单体可以通过组合有机化学的常规方法来容易地合成。

作为重复单元(a1)，从适合实现提高所得液晶取向膜的耐久性的方面出发，与具有受阻酚结构的重复单元相比，优选为具有受阻胺结构的重复单元。

聚合物[A]中，重复单元(a1)可以单独具有1种，也可以组合具有2种以上。其机理尚不明确，可推测：通过使聚合物[A]具有重复单元(a1)，由背光等照射的紫外线被聚合物[A]恰当地吸收，该紫外线不容易影响选自由使四羧酸二酐与二胺反应而得到的聚酰胺酸及其酰亚胺化聚合物组成的组中的至少一种聚合物。由此，即使长期使用也能够维持液晶的取向性能，能够得到具有长期耐久性的液晶表示元件。另外，从提高该效果的方面出发，聚合物[A]中的重复单元(a1)的含有比例(或赋予重复单元(a1)的单体的共聚比例)在聚合物[A]的总重量(或者合成聚合物[A]时使用的单体的总重量)之中优选为1重量％以上，更优选为1重量％以上且50重量％以下，进一步优选为1重量％以上且30重量％以下，特别优选为1重量％以上且20重量％以下。

(A)侧链型高分子的主链键合了具有感光性的侧链，其感应于光而能够发生交联反应、异构化反应或光弗利斯重排。具有感光性的侧链结构没有特别限定，期望是感应于光而发生交联反应或光弗利斯重排的结构，更期望是发生交联反应的结构。此时，即使暴露于热等外部应力也能够长期稳定地保持已实现的取向控制能力。能够表现出液晶性的感光性侧链型高分子膜的结构只要满足这种特性，就没有特别限定，优选在侧链结构具有刚直的液晶原成分。此时，将该侧链型高分子制成液晶取向膜时，能够得到稳定的液晶取向。

该高分子的结构例如可以制成如下结构：具有主链和键合于其的侧链，该侧链具有联苯基、三联苯基、苯基环己基、苯甲酸苯酯基、偶氮苯基等液晶原成分以及键合于前端部的感应光而发生交联反应、异构化反应的感光性基团；具有主链和键合于其的侧链，该侧链具有既为液晶原成分也会发生光弗利斯重排反应的苯甲酸苯酯基。

作为能够表现出液晶性的感光性侧链型高分子膜的结构的更具体例，优选为具有如下主链和如下侧链的结构，所述主链由选自烃、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、马来酰亚胺、降冰片烯和硅氧烷所组成的组中的至少1种构成，所述侧链包含下述式(1)～(6)中的至少1种。

式中，A、B、D各自独立地表示单键、-O-、-CH₂-、-COO-、-OCO-、-CONH-、-NH-CO-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-；

S为碳数1～12的亚烷基，键合于它们的氢原子任选被卤素基团取代；

T为单键或碳数1～12的亚烷基，键合于它们的氢原子任选被卤素基团取代；

Y₁表示选自1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环和碳数5～8的脂环式烃中的环，或者是选自这些取代基中的相同或不同的2～6个环借助键合基团B键合而成的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-COOR₀(式中，R₀表示氢原子或碳数1～5的烷基)、-NO₂、-CN、-CH＝C(CN)₂、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代；

Y₂为选自由2价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环、碳数5～8的脂环式烃和它们的组合组成的组中的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-NO₂、-CN、-CH＝C(CN)₂、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代；

R⁵¹表示羟基、碳数1～6的烷氧基，或者表示与Y₁相同的定义；

X表示单键、-COO-、-OCO-、-N＝N-、-CH＝CH-、-C≡C-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-，X的数量达到2时，X任选彼此相同或不同；

Cou表示香豆素-6-基或香豆素-7-基，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-NO₂、-CN、-CH＝C(CN)₂、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代；

q1和q2中的一者为1，另一者为0；

q3为0或1；

P和Q各自独立地为选自由2价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环、碳数5～8的脂环式烃和它们的组合组成的组中的基团；其中，X为-CH＝CH-CO-O-、-O-CO-CH＝CH-时，-CH＝CH-所键合的一侧的P或Q为芳香环，P的数量达到2以上时，P任选彼此相同或不同，Q的数量达到2以上时，Q任选彼此相同或不同；

l1为0或1；

l2为0～2的整数；

l1和l2均为0时，T为单键时A也表示单键；

l1为1时，T为单键时B也表示单键；

H和I各自独立地为选自2价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环和它们的组合中的基团。

侧链可以为选自由下述式(7)～(10)组成的组中的任一种感光性侧链。

式中，A、B、D、Y₁、X、Y₂和R⁵¹具有与上述相同的定义；

l表示1～12的整数；

m表示0～2的整数，m1、m2表示1～3的整数；

n表示0～12的整数(其中，n＝0时，B为单键)。

侧链可以为选自由下述式(11)～(13)组成的组中的任一种感光性侧链。

式中，A、X、l、m、m1和R⁵¹具有与上述相同的定义。

侧链可以为下述式(14)或(15)所示的感光性侧链。

式中，A、Y₁、l、m1和m2具有与上述相同的定义。

侧链可以为下述式(16)或(17)所示的感光性侧链。

式中，A、X、l和m具有与上述相同的定义。

另外，侧链可以为下述式(18)或(19)所示的感光性侧链。

式中，A、B、Y₁、q1、q2、m1和m2具有与上述相同的定义。

R₁表示氢原子、-NO₂、-CN、-CH＝C(CN)₂、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基。

侧链可以为下述式(20)所示的感光性侧链。

式中，A、Y₁、X、l和m具有与上述相同的定义。

另外，(A)侧链型高分子可以具有选自由下述式(21)～(31)组成的组中的任一种液晶性侧链。

式中，A、B、q1和q2具有与上述相同的定义；

Y₃为选自由1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、含氮杂环和碳数5～8的脂环式烃、以及它们的组合组成的组中的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-NO₂、-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代；

R₃表示氢原子、-NO₂、-CN、-CH＝C(CN)₂、-CH＝CH-CN、卤素基团，1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、含氮杂环、碳数5～8的脂环式烃，碳数1～12的烷基、或碳数1～12的烷氧基；

l表示1～12的整数，m表示0～2的整数，其中，式(23)～(24)中，所有的m的总和为2以上，式(25)～(26)中，所有的m的总和为1以上，m1、m2和m3各自独立地表示1～3的整数；

R₂表示氢原子、-NO₂、-CN、卤素基团，1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、含氮杂环、和碳数5～8的脂环式烃，以及烷基、或烷氧基；

Z₁、Z₂表示单键、-CO-、-CH₂O-、-CH＝N-、-CF₂-。

本申请中，作为光反应性和/或液晶性侧链单体，提供以下的式(1)～(11)所示的化合物(1)～(11)；以及以下的式(12)～(17)所示的化合物(12)～(17)。

式中，R表示氢原子或甲基；S表示碳数2～10的亚烷基；R¹⁰表示Br或CN；S表示碳数2～10的亚烷基；u表示为0或1；以及Py表示2-吡啶基、3-吡啶基或4-吡啶基。另外，v表示1或2。

<<感光性侧链型高分子的制法>>

上述能够表现出液晶性的感光性侧链型高分子可以通过将上述具有感光性侧链的光反应性侧链单体和液晶性侧链单体进行聚合来获得。

[液晶性侧链单体]

液晶性侧链单体是指：源自该单体的高分子表现出液晶性，该高分子在侧链部位能够形成液晶原基团的单体。

作为侧链所具有的液晶原基团，可以是联苯、苯甲酸苯酯等单独成为液晶原结构的基团，也可以是苯甲酸等那样地侧链彼此进行氢键合而成为液晶原结构的基团。作为侧链所具有的液晶原基团，优选为下述结构。

作为液晶性侧链单体的更具体例，优选为具有如下主链和如下侧链的结构，所述主链由选自烃、(甲基)丙烯酸酯、马来酰亚胺、降冰片烯和硅氧烷所组成的组中的至少1种构成，所述侧链包含上述式(21)～(31)中的至少1种。

(A)侧链型高分子可通过上述表现出液晶性的光反应性侧链单体的聚合反应来获得。另外，可以通过不表现液晶性的光反应性侧链单体与液晶性侧链单体的共聚、表现出液晶性的光反应性侧链单体与液晶性侧链单体的共聚来获得。进而，在不损害液晶性表现能力的范围内，可以与其它单体进行共聚。

作为其它单体，可列举出例如可工业获取的能够进行自由基聚合反应的单体。

作为其它单体的具体例，可列举出不饱和羧酸、丙烯酸酯化合物、甲基丙烯酸酯化合物、马来酰亚胺化合物、丙烯腈、马来酸酐、苯乙烯化合物和乙烯基化合物等。

作为不饱和羧酸的具体例，可列举出丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、马来酸、富马酸等。

作为丙烯酸酯化合物，可列举出例如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸异丙酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸萘酯、丙烯酸蒽酯、丙烯酸蒽基甲酯、丙烯酸苯酯、丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、丙烯酸叔丁酯、丙烯酸环己酯、丙烯酸异冰片酯、丙烯酸2-甲氧基乙酯、甲氧基三乙二醇丙烯酸酯、丙烯酸2-乙氧基乙酯、丙烯酸四氢糠酯、丙烯酸3-甲氧基丁酯、丙烯酸2-甲基-2-金刚烷基酯、丙烯酸2-丙基-2-金刚烷基酯、丙烯酸8-甲基-8-三环癸酯、以及丙烯酸8-乙基-8-三环癸酯等。

作为甲基丙烯酸酯化合物，可列举出例如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸萘酯、甲基丙烯酸蒽酯、甲基丙烯酸蒽基甲酯、甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、甲基丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸异冰片酯、甲基丙烯酸2-甲氧基乙酯、甲氧基三乙二醇甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸2-乙氧基乙酯、甲基丙烯酸四氢糠酯、甲基丙烯酸3-甲氧基丁酯、甲基丙烯酸2-甲基-2-金刚烷基酯、甲基丙烯酸2-丙基-2-金刚烷基酯、甲基丙烯酸8-甲基-8-三环癸酯、以及甲基丙烯酸8-乙基-8-三环癸酯等。也可以使用(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸(3-甲基-3-氧杂环丁烷基)甲酯和(甲基)丙烯酸(3-乙基-3-氧杂环丁烷基)甲酯等具有环状醚基的(甲基)丙烯酸酯化合物。

作为乙烯基化合物，可列举出例如乙烯醚、甲基乙烯醚、苄基乙烯醚、2-羟基乙基乙烯醚、苯基乙烯醚、以及丙基乙烯醚等。

作为苯乙烯化合物，可列举出例如苯乙烯、甲基苯乙烯、氯苯乙烯、溴苯乙烯等。

作为马来酰亚胺化合物，可列举出例如马来酰亚胺、N-甲基马来酰亚胺、N-苯基马来酰亚胺、以及N-环己基马来酰亚胺等

针对本实施方式的侧链型高分子的制造方法，没有特别限定，可以利用工业上应用的通用方法。具体而言，可通过利用了液晶性侧链单体、光反应性侧链单体的乙烯基的阳离子聚合、自由基聚合、阴离子聚合来制造。这些之中，从反应控制容易度等观点出发，特别优选为自由基聚合。

作为自由基聚合的聚合引发剂，可以使用自由基聚合引发剂、可逆性加成-开裂型链转移(RAFT)聚合试剂等公知的化合物。

自由基热聚合引发剂是通过加热至分解温度以上而产生自由基的化合物。作为这种自由基热聚合引发剂，可列举出例如过氧化酮类(甲乙酮过氧化物、环己酮过氧化物等)、过氧化二酰基类(过氧化乙酰、过氧化苯甲酰等)、过氧化氢类(过氧化氢、叔丁基过氧化氢、枯烯过氧化氢等)、二烷基过氧化物类(二叔丁基过氧化物、二枯基过氧化物、二月桂酰过氧化物等)、过氧化缩酮类(二丁基过氧化环己烷等)、烷基过氧化酯类(过氧化新癸酸叔丁酯、过氧化特戊酸叔丁酯、过氧化2-乙基环己烷酸叔戊酯等)、过硫酸盐类(过硫酸钾、过硫酸钠、过硫酸铵等)、偶氮系化合物(偶氮双异丁腈和2,2′-二(2-羟基乙基)偶氮双异丁腈等)。这种自由基热聚合引发剂可以单独使用1种，或者，也可以组合使用2种以上。

自由基光聚合引发剂只要是因光照射而引发自由基聚合的化合物，就没有特别限定。作为这种自由基光聚合引发剂，可列举出二苯甲酮、米蚩酮、4,4’-双(二乙氨基)二苯甲酮、氧杂蒽酮、硫代氧杂蒽酮、异丙基氧杂蒽酮、2,4-二乙基硫代氧杂蒽酮、2-乙基蒽醌、苯乙酮、2-羟基-2-甲基苯丙酮、2-羟基-2-甲基-4’-异丙基苯丙酮、1-羟基环己基苯基酮、异丙基苯偶姻醚、异丁基苯偶姻醚、2,2-二乙氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、樟脑醌、苯并蒽酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉代丙-1-酮、2-苄基-2-二甲氨基-1-(4-吗啉代苯基)-1-丁酮、4-二甲氨基苯甲酸乙酯、4-二甲氨基苯甲酸异戊酯、4,4’-二(叔丁基过氧基羰基)二苯甲酮、3,4,4’-三(叔丁基过氧基羰基)二苯甲酮、2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、2-(4’-甲氧基苯乙烯基)-4,6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(3’,4’-二甲氧基苯乙烯基)-4,6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(2’,4’-二甲氧基苯乙烯基)-4,6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(2’-甲氧基苯乙烯基)-4,6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(4’-戊氧基苯乙烯基)-4,6-双(三氯甲基)均三嗪、4-[对-N,N-二(乙氧基羰基甲基)]-2,6-二(三氯甲基)均三嗪、1,3-双(三氯甲基)-5-(2’-氯苯基)均三嗪、1,3-双(三氯甲基)-5-(4’-甲氧基苯基)均三嗪、2-(对二甲氨基苯乙烯基)苯并噁唑、2-(对二甲氨基苯乙烯基)苯并噻唑、2-巯基苯并噻唑、3,3’-羰基双(7-二乙氨基香豆素)、2-(邻氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-联咪唑、2,2’-双(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四(4-乙氧基羰基苯基)-1,2’-联咪唑、2,2’-双(2,4-二氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-联咪唑、2,2’双(2,4-二溴苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-联咪唑、2,2’-双(2,4,6-三氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-联咪唑、3-(2-甲基-2-二甲氨基丙酰基)咔唑、3,6-双(2-甲基-2-吗啉代丙酰基)-9-正十二烷基咔唑、1-羟基环己基苯基酮、双(5-2,4-环戊二烯-1-基)-双(2,6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)-苯基)钛、3,3’,4,4’-四(叔丁基过氧基羰基)二苯甲酮、3,3’,4,4’-四(叔己基过氧基羰基)二苯甲酮、3,3’-二(甲氧基羰基)-4,4’-二(叔丁基过氧基羰基)二苯甲酮、3,4’-二(甲氧基羰基)-4,3’-二(叔丁基过氧基羰基)二苯甲酮、4,4’-二(甲氧基羰基)-3,3’-二(叔丁基过氧基羰基)二苯甲酮、2-(3-甲基-3H-苯并噻唑-2-亚基)-1-萘-2-基-乙酮、或者2-(3-甲基-1,3-苯并噻唑-2(3H)-亚基)-1-(2-苯甲酰基)乙酮等。这些化合物可以单独使用，也可以混合两种以上使用。

自由基聚合法没有特别限定，可以使用乳液聚合法、悬浮聚合法、分散聚合法、沉淀聚合法、本体聚合法、溶液聚合法等。

作为能够表现出液晶性的感光性侧链型高分子的聚合反应中使用的有机溶剂，只要是所生成的高分子会溶解的有机溶剂就没有特别限定。以下列举出其具体例。

可列举出：N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、N-乙基-2-吡咯烷酮、N-甲基己内酰胺、二甲基亚砜、四甲基脲、吡啶、二甲基砜、六甲基亚砜、γ-丁内酯、异丙醇、甲氧基甲基戊醇、二戊烯、乙基戊基酮、甲基壬基酮、甲乙酮、甲基异戊基酮、甲基异丙基酮、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、甲基溶纤剂乙酸酯、乙基溶纤剂乙酸酯、丁基卡必醇、乙基卡必醇、乙二醇、乙二醇单乙酸酯、乙二醇单异丙醚、乙二醇单丁醚、丙二醇、丙二醇单乙酸酯、丙二醇单甲醚、丙二醇叔丁醚、二丙二醇单甲醚、二乙二醇、二乙二醇单乙酸酯、二乙二醇二甲醚、二丙二醇单乙酸酯单甲醚、二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚、二丙二醇单乙酸酯单乙醚、二丙二醇单丙醚、二丙二醇单乙酸酯单丙醚、3-甲基-3-甲氧基丁基乙酸酯、三丙二醇甲醚、3-甲基-3-甲氧基丁醇、二异丙醚、乙基异丁醚、二异丁烯、乙酸戊酯、丁酸丁酯、丁醚、二异丁酮、甲基环己烯、丙醚、二己醚、二噁烷、正己烷、正戊烷、正辛烷、二乙醚、环己酮、碳酸亚乙酯、碳酸亚丙酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸正丁酯、醋酸丙二醇单乙醚、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸甲基乙酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸、3-甲氧基丙酸、3-甲氧基丙酸丙酯、3-甲氧基丙酸丁酯、二甘醇二甲醚、4-羟基-4-甲基-2-戊酮、3-甲氧基-N,N-二甲基丙酰胺、3-乙氧基-N,N-二甲基丙酰胺、3-丁氧基-N,N-二甲基丙酰胺等。

这些有机溶剂可以单独使用，也可以混合使用。进而，即使是不溶解所生成的高分子的溶剂，只要在所生成的高分子不会析出的范围内，则也可以混合至上述有机溶剂中使用。

另外，在自由基聚合中，有机溶剂中的氧会成为阻碍聚合反应的原因，因此有机溶剂优选尽可能地脱气后使用。

自由基聚合时的聚合温度能够选择30℃～150℃的任意温度，优选为50℃～100℃的范围。另外，反应可以以任意浓度进行，浓度过低时难以得到高分子量的聚合物，浓度过高时，反应液的粘性变得过高而难以均匀地搅拌，因此单体浓度优选为1质量％～50质量％、更优选为5质量％～30质量％。反应初期以高浓度进行，其后可以追加有机溶剂。

在上述自由基聚合反应中，自由基聚合引发剂相对于单体的比率较多时，所得高分子的分子量变小，自由基聚合引发剂相对于单体的比率较少时，所得高分子的分子量变大，因此自由基引发剂相对于聚合单体的比率优选为0.1摩尔％～10摩尔％。另外，聚合时也可以追加各种单体成分、溶剂、引发剂等。

[聚合物的回收]

从利用上述反应得到的、能够表现出液晶性的感光性侧链型高分子的反应溶液中回收所生成的高分子时，将反应溶液投入至不良溶剂，使这些聚合物沉淀即可。作为用于沉淀的不良溶剂，可列举出甲醇、丙酮、己烷、庚烷、丁基溶纤剂、庚烷、甲乙酮、甲基异丁酮、乙醇、甲苯、苯、二乙醚、甲乙醚、水等。投入至不良溶剂中而发生沉淀的聚合物可以在过滤回收后，在常压或减压下进行常温干燥或加热干燥。另外，重复进行2次～10次使沉淀回收的聚合物再溶解于有机溶剂并再沉淀回收的操作时，能够减少聚合物中的杂质。作为此时的不良溶剂，可列举出例如醇类、酮类、烃等，使用选自这些之中的3种以上不良溶剂时，精制效率进一步提高，故而优选。

关于本发明的(A)侧链型高分子的分子量，考虑到所得涂膜的强度、形成涂膜时的作业性、以及涂膜的均匀性时，利用GPC(GelPermeationChromatography，凝胶渗透色谱)法测定的重均分子量优选为2000～1000000、更优选为5000～100000。

[聚合物组合物的制备]

本发明中使用的聚合物组合物优选制备成涂布液的形式，用以适合形成液晶取向膜。即，本发明所使用的聚合物组合物优选以用于形成树脂覆膜的树脂成分溶解于有机溶剂而成的溶液的形式来制备。此处，该树脂成分是指包含上述说明的能够表现出液晶性的感光性侧链型高分子的树脂成分。此时，树脂成分的含量优选为1质量％～20质量％、更优选为3质量％～15质量％、特别优选为3质量％～10质量％。

本实施方式的聚合物组合物中，前述树脂成分可以是全部均为上述能够表现出液晶性的感光性侧链型高分子，在不损害液晶表现能力和感光性能的范围内，也可以混合除此之外的其它聚合物。此时，树脂成分中的其它聚合物的含量为0.5质量％～80质量％、优选为1质量％～50质量％。

这种其它聚合物可列举出例如包含聚(甲基)丙烯酸酯、聚酰胺酸、聚酰亚胺等且不是能够表现出液晶性的感光性侧链型高分子的聚合物等。

<有机溶剂>

本发明所使用的聚合物组合物中使用的有机溶剂只要是能够溶解树脂成分的有机溶剂就没有特别限定。以下列举出其具体例。

可列举出：N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、N-甲基己内酰胺、2-吡咯烷酮、N-乙基吡咯烷酮、N-乙烯基吡咯烷酮、二甲基亚砜、四甲基脲、吡啶、二甲基砜、六甲基亚砜、γ-丁内酯、3-甲氧基-N,N-二甲基丙酰胺、3-乙氧基-N,N-二甲基丙酰胺、3-丁氧基-N,N-二甲基丙酰胺、1,3-二甲基咪唑啉酮、乙基戊基酮、甲基壬基酮、甲乙酮、甲基异戊基酮、甲基异丙基酮、环己酮、碳酸亚乙酯、碳酸亚丙酯、二甘醇二甲醚、4-羟基-4-甲基-2-戊酮、丙二醇单乙酸酯、丙二醇单甲醚、丙二醇叔丁醚、二丙二醇单甲醚、二乙二醇、二乙二醇单乙酸酯、二乙二醇二甲醚、二丙二醇单乙酸酯单甲醚、二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚、二丙二醇单乙酸酯单乙醚、二丙二醇单丙醚、二丙二醇单乙酸酯单丙醚、3-甲基-3-甲氧基丁基乙酸酯、三丙二醇甲醚等。它们可以单独使用，也可以混合使用。

本发明中使用的聚合物组合物可以含有上述(A)和(B)成分之外的成分。作为其例子，可列举出在涂布聚合物组合物时提高膜厚均匀性、表面平滑性的溶剂或化合物，提高液晶取向膜与基板的密合性的化合物等，但不限定于此。

作为提高膜厚均匀性、表面平滑性的溶剂(不良溶剂)的具体例，可列举出以下溶剂。

可列举出例如异丙醇、甲氧基甲基戊醇、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丁基溶纤剂、甲基溶纤剂乙酸酯、乙基溶纤剂乙酸酯、丁基卡必醇、乙基卡必醇、乙基卡必醇乙酸酯、乙二醇、乙二醇单乙酸酯、乙二醇单异丙醚、乙二醇单丁醚、丙二醇、丙二醇单乙酸酯、丙二醇单甲醚、丙二醇单正丁醚、丙二醇叔丁醚、二丙二醇单甲醚、二乙二醇、二乙二醇单乙酸酯、二乙二醇二甲醚、二丙二醇单乙酸酯单甲醚、二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚、二丙二醇单乙酸酯单乙醚、二丙二醇单丙醚、二丙二醇单乙酸酯单丙醚、3-甲基-3-甲氧基丁基乙酸酯、三丙二醇甲醚、3-甲基-3-甲氧基丁醇、二异丙醚、乙基异丁醚、二异丁烯、乙酸戊酯、丁酸丁酯、丁醚、二异丁酮、甲基环己烯、丙醚、二己醚、1-己醇、正己烷、正戊烷、正辛烷、二乙醚、乳酸甲酯、乳酸乙酯、醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸正丁酯、醋酸丙二醇单乙醚、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸甲基乙酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸、3-甲氧基丙酸、3-甲氧基丙酸丙酯、3-甲氧基丙酸丁酯、1-甲氧基-2-丙醇、1-乙氧基-2-丙醇、1-丁氧基-2-丙醇、1-苯氧基-2-丙醇、丙二醇单乙酸酯、丙二醇二乙酸酯、丙二醇-1-单甲醚-2-乙酸酯、丙二醇-1-单乙醚-2-乙酸酯、二丙二醇、2-(2-乙氧基丙氧基)丙醇、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸正丙酯、乳酸正丁酯、乳酸异戊酯等具有低表面张力的溶剂等。

这些不良溶剂可以使用1种，也可以混合使用多种。使用上述那样的溶剂时，为了不使聚合物组合物中包含的溶剂整体的溶解性显著降低，优选为溶剂整体的5质量％～80质量％、更优选为20质量％～60质量％。

作为提高膜厚均匀性、表面平滑性的化合物，可列举出氟系表面活性剂、有机硅系表面活性剂和非离子系表面活性剂等。

更具体而言，可列举出例如Eftop(注册商标)301、EF303、EF352(TohkemproductsCorporation制)；Megafac(注册商标)F171、F173、R-30(DICCORPORATION制)；FluoradFC430、FC431(Sumitomo3MLimited制)；AsahiGuard(注册商标)AG710(旭硝子株式会社制)；Surflon(注册商标)S-382、SC101、SC102、SC103、SC104、SC105、SC106(AGCSEIMICHEMICALCO.,LTD.制)等。这些表面活性剂的使用比例相对于聚合物组合物中含有的树脂成分100质量份优选为0.01质量份～2质量份、更优选为0.01质量份～1质量份。

作为提高液晶取向膜与基板的密合性的化合物的具体例，可列举出以下示出的含官能性硅烷的化合物等。

可列举出例如3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、2-氨基丙基三甲氧基硅烷、2-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-脲丙基三甲氧基硅烷、3-脲丙基三乙氧基硅烷、N-乙氧基羰基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-乙氧基羰基-3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-三乙氧基甲硅烷基丙基三乙三胺、N-三甲氧基甲硅烷基丙基三乙三胺、10-三甲氧基甲硅烷基-1,4,7-三氮杂癸烷、10-三乙氧基甲硅烷基-1,4,7-三氮杂癸烷、9-三甲氧基甲硅烷基-3,6-二氮杂壬基乙酸酯、9-三乙氧基甲硅烷基-3,6-二氮杂壬基乙酸酯、N-苄基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-苄基-3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-双(氧亚乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-双(氧亚乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷等。

进而，为了提高基板与液晶取向膜的密合性、且防止构成液晶表示元件时由背光导致的电特性降低等，可以在聚合物组合物中含有如下那样的酚醛塑料系、含环氧基的化合物的添加剂。以下示出具体的酚醛塑料系添加剂，但不限定于该结构。

作为具体的含环氧基的化合物，可例示出乙二醇二缩水甘油醚、聚乙二醇二缩水甘油醚、丙二醇二缩水甘油醚、三丙二醇二缩水甘油醚、聚丙二醇二缩水甘油醚、新戊二醇二缩水甘油醚、1,6-己二醇二缩水甘油醚、甘油二缩水甘油醚、2,2-二溴新戊二醇二缩水甘油醚、1,3,5,6-四缩水甘油基-2,4-己二醇、N,N,N’,N’,-四缩水甘油基间苯二甲胺、1,3-双(N,N-二缩水甘油基氨基甲基)环己烷、N,N,N’,N’,-四缩水甘油基-4,4’-二氨基二苯基甲烷等。

使用用于提高液晶取向膜与基板的密合性的化合物时，其用量相对于聚合物组合物中含有的树脂成分100质量份优选为0.1质量份～30质量份、更优选为1质量份～20质量份。用量不足0.1质量份时，无法期待提高密合性的效果，多于30质量份时，液晶的取向性有时变差。

作为添加剂，也可以使用光敏剂。优选为无色增敏剂和三重态增敏剂。

作为光敏剂，有芳香族硝基化合物、香豆素(7-二乙氨基-4-甲基香豆素、7-羟基-4-甲基香豆素)、香豆素酮、羰基双香豆素、芳香族2-羟基酮、以及被氨基取代的芳香族2-羟基酮(2-羟基二苯甲酮、单对(二甲氨基)-2-羟基二苯甲酮或二对(二甲氨基)-2-羟基二苯甲酮)、苯乙酮、蒽醌、氧杂蒽酮、硫代氧杂蒽酮、苯并蒽酮、噻唑啉(2-苯甲酰基亚甲基-3-甲基-β-萘并噻唑啉、2-(β-萘酰基亚甲基)-3-甲基苯并噻唑啉、2-(α-萘酰基亚甲基)-3-甲基苯并噻唑啉、2-(4-联苯酰基亚甲基)-3-甲基苯并噻唑啉、2-(β-萘酰基亚甲基)-3-甲基-β-萘并噻唑啉、2-(4-联苯酰基亚甲基)-3-甲基-β-萘并噻唑啉、2-(对氟苯甲酰基亚甲基)-3-甲基-β-萘并噻唑啉)、噁唑啉(2-苯甲酰基亚甲基-3-甲基-β-萘并噁唑啉、2-(β-萘酰基亚甲基)-3-甲基苯并噁唑啉、2-(α-萘酰基亚甲基)-3-甲基苯并噁唑啉、2-(4-联苯酰基亚甲基)-3-甲基苯并噁唑啉、2-(β-萘酰基亚甲基)-3-甲基-β-萘并噁唑啉、2-(4-联苯酰基亚甲基)-3-甲基-β-萘并噁唑啉、2-(对氟苯甲酰基亚甲基)-3-甲基-β-萘并噁唑啉)、苯并噻唑、硝基苯胺(间硝基苯胺或对硝基苯胺、2,4,6-三硝基苯胺)或硝基苊(5-硝基苊)、(2-[(间羟基对甲氧基)苯乙烯基]苯并噻唑、苯偶姻烷基醚、N-烷基化酞酮、苯乙酮缩酮(2,2-二甲氧基苯基乙酮)、萘、蒽(2-萘甲醇、2-萘羧酸、9-蒽甲醇和9-蒽羧酸)、苯并吡喃、偶氮中氮茚、梅洛香豆素等。

优选为芳香族2-羟基酮(二苯甲酮)、香豆素、香豆素酮、羰基双香豆素、苯乙酮、蒽醌、氧杂蒽酮、硫代氧杂蒽酮和苯乙酮缩酮。

聚合物组合物中除了上述物质之外，只要在不损害本发明效果的范围内，出于改变液晶取向膜的介电常数、导电性等电特性的目的，可以添加介电体、导电物质，进而出于在制成液晶取向膜时提高膜的硬度、致密度的目的，可以添加交联性化合物。

将上述聚合物组合物涂布在具有横向电场驱动用导电膜的基板上的方法没有特别限定。

关于涂布方法，工业上通常是利用丝网印刷、胶版印刷、柔性印刷或喷墨法等进行的方法。作为其它涂布方法，有浸渍法、辊涂法、狭缝涂布法、旋涂法(旋转涂布法)或喷涂法等，可根据目的使用它们。

在具有横向电场驱动用导电膜的基板上涂布聚合物组合物后，利用热板、热循环型烘箱或IR(红外线)型烘箱等加热手段以50～200℃、优选以50～150℃使溶剂蒸发，从而能够得到涂膜。此时的干燥温度优选低于侧链型高分子的液晶相表现温度。

涂膜的厚度过厚时，在液晶表示元件的耗电方面是不利的，涂膜的厚度过薄时，液晶表示元件的可靠性有时会降低，因此优选为5nm～300nm、更优选为10nm～150nm。

另外，在[I]工序之后且下一[II]工序之前，还可以设置将形成有涂膜的基板冷却至室温的工序。

<工序[II]>

在工序[II]中，对工序[I]中得到的涂膜照射偏振紫外线。对涂膜的膜面照射偏振紫外线时，从特定方向隔着偏振板对基板照射偏振的紫外线。作为要使用的紫外线，可以使用波长为100nm～400nm范围的紫外线。优选的是，根据要使用的涂膜种类，借助滤波器等选择最佳的波长。并且，例如可以选择使用波长为290nm～400nm范围的紫外线，以便能够选择性地诱发光交联反应。作为紫外线，可以使用例如由高压汞灯发出的光。

针对偏振紫外线的照射量，取决于要使用的涂膜。关于照射量，优选设为实现ΔA的最大值(以下也称为ΔAmax)的偏振紫外线的量的1％～70％的范围内、更优选设为1％～50％的范围内，所述ΔA是该涂膜的、平行于偏振紫外线的偏振方向的方向的紫外线吸光度与垂直于偏振紫外线的偏振方向的方向的紫外线吸光度之差。

<工序[III]>

工序[III]中，加热在工序[II]中照射了偏振紫外线的涂膜。通过加热而能够对涂膜赋予取向控制能力。

加热可以使用热板、热循环型烘箱或IR(红外线)型烘箱等加热手段。加热温度可以考虑使所用涂膜表现出液晶性的温度来确定。

加热温度优选为侧链型高分子会表现出液晶性的温度(以下称为液晶表现温度)的温度范围内。可预测到：在涂膜之类的薄膜表面的情况下，涂膜表面的液晶表现温度低于整体观察可表现出液晶性的感光性侧链型高分子时的液晶表现温度。因此，加热温度更优选为涂膜表面的液晶表现温度的温度范围内。即，照射偏振紫外线后的加热温度的温度范围优选是将比所用侧链型高分子的液晶表现温度的温度范围的下限低10℃的温度作为下限、且将比该液晶温度范围的上限低10℃的温度作为上限的范围的温度。加热温度低于上述温度范围时，存在涂膜中的由热带来的各向异性增幅效果不充分的倾向，另外，加热温度与上述温度范围相比过高时，存在涂膜状态接近于各向同性的液体状态(各向同性相)的倾向，此时，有时难以因自组装化而向一个方向再取向。

需要说明的是，液晶表现温度是指：侧链型高分子或涂膜表面从固体相向液晶相发生相转变的玻璃化转变温度(Tg)以上、且从液晶相向均质相(各向同性相)发生相转变的均质相转变温度(Tiso)以下的温度。

出于与工序[I]中记载的理由相同的理由，加热后形成的涂膜的厚度可以优选为5nm～300nm、更优选为50nm～150nm。

通过具有如上工序，在本发明的制造方法中，能够实现对涂膜高效地导入各向异性。并且，能够高效地制造带液晶取向膜的基板。

<工序[IV]>

[IV]工序是将在[III]中得到的横向电场驱动用导电膜上具有液晶取向膜的基板(第1基板)与同样地在上述[I’]～[III’]中得到的不具有导电膜的带液晶取向膜的基板(第2基板)隔着液晶以两者的液晶取向膜相对的方式进行对向配置，利用公知的方法制作液晶单元，从而制作横向电场驱动型液晶表示元件的工序。需要说明的是，工序[I’]～[III’]中，除了在工序[I]中使用不具有横向电场驱动用导电膜的基板来代替具有该横向电场驱动用导电膜的基板之外，可与工序[I]～[III]同样地进行。工序[I]～[III]与工序[I’]～[III’]的不同点仅在于有无上述导电膜，因此省略工序[I’]～[III’]的说明。

若列举出液晶单元或液晶表示元件的一个制作例，则可例示出如下方法：准备上述的第1基板和第2基板，在一个基板的液晶取向膜上散布间隔物，以液晶取向膜面成为内侧的方式粘贴于另一个基板，减压注入液晶并密封的方法；或者，向散布有间隔物的液晶取向膜面滴加液晶后，粘贴基板并进行密封的方法等。此时，一侧的基板优选使用具有横向电场驱动用梳齿状结构的电极的基板。此时的间隔物直径优选为1μm～30μm、更优选为2μm～10μm。该间隔物直径决定用于夹持液晶层的一对基板的间距、即液晶层的厚度。

本发明的带涂膜的基板的制造方法中，将聚合物组合物涂布在基板上而形成涂膜后，照射偏振紫外线。接着，通过进行加热而实现向侧链型高分子膜中高效地导入各向异性，从而制造具备液晶取向控制能力的带液晶取向膜的基板。

本发明所用的涂膜中，利用侧链的光反应和基于液晶性的自组装化所诱发的分子再取向的原理，实现对涂膜高效地导入各向异性。本发明的制造方法中，侧链型高分子具有光交联性基团作为光反应性基团的结构时，使用侧链型高分子在基板上形成涂膜后，照射偏振紫外线，接着进行加热后，制作液晶表示元件。

以下，将使用了具有光交联性基团作为光反应性基团的结构的侧链型高分子的实施方式称为第1方式，将使用了具有光弗利斯重排基团或进行异构化的基团作为光反应性基团的结构的侧链型高分子的实施方式称为第2方式，并进行说明。

图1是示意性地说明在本发明的第1方式中使用了具有光交联性基团作为光反应性基团的结构的侧链型高分子而成的、液晶取向膜的制造方法中的各向异性导入处理的一例的图。图1的(a)是示意性地说明偏振光照射前的侧链型高分子膜的状态的图，图1的(b)是示意性地说明偏振光照射后的侧链型高分子膜的状态的图，图1的(c)是示意性地说明加热后的侧链型高分子膜的状态的图，尤其是所导入的各向异性小时，即在本发明的第1方式中，[II]工序的紫外线照射量在使ΔA到达最大的紫外线照射量的1％～15％的范围内时的示意图。

图2是示意性地说明在本发明的第1方式中使用了具有光交联性基团作为光反应性基团的结构的侧链型高分子而成的、液晶取向膜的制造方法中的各向异性导入处理的一例的图。图2的(a)是示意性地说明偏振光照射前的侧链型高分子膜的状态的图，图2的(b)是示意性地说明偏振光照射后的侧链型高分子膜的状态的图，图2的(c)是示意性地说明加热后的侧链型高分子膜的状态的图，尤其是所导入的各向异性大时，即在本发明的第1方式中，[II]工序的紫外线照射量在使ΔA达到最大的紫外线照射量的15％～70％的范围内时的示意图。

图3是示意性地说明在本发明的第2方式中使用了具有光异构化性基团或上述式(18)所示的光弗利斯重排基团作为光反应性基团的结构的侧链型高分子而成的、液晶取向膜的制造方法中的各向异性导入处理的一例的图。图3的(a)是示意性地说明偏振光照射前的侧链型高分子膜的状态的图，图3的(b)是示意性地说明偏振光照射后的侧链型高分子膜的状态的图，图3的(c)是示意性地说明加热后的侧链型高分子膜的状态的图，尤其是所导入的各向异性小时，即在本发明的第2方式中，[II]工序的紫外线照射量在使ΔA达到最大的紫外线照射量的1％～70％的范围内时的示意图。

图4是示意性地说明在本发明的第2方式中使用了具有上述式(19)所示的光弗利斯重排基团作为光反应性基团的结构的侧链型高分子而成的、液晶取向膜的制造方法中的各向异性导入处理的一例的图。图4的(a)是示意性地说明偏振光照射前的侧链型高分子膜的状态的图，图4的(b)是示意性地说明偏振光照射后的侧链型高分子膜的状态的图，图4的(c)是示意性地说明加热后的侧链型高分子膜的状态的图，尤其是所导入的各向异性大时，即在本发明的第2方式中，[II]工序的紫外线照射量在使ΔA达到最大的紫外线照射量的1％～70％的范围内时的示意图。

本发明的第1方式中，通过对涂膜导入各向异性的处理，[II]工序的紫外线照射量是使ΔA达到最大的紫外线照射量的1％～15％的范围内时，首先，在基板上形成涂膜1。如图1的(a)所示那样，基板上形成的涂膜1中，具有侧链2随机排列的结构。根据涂膜1的侧链2的随机排列，侧链2的液晶原成分和感光性基团也随机地取向，该涂膜1是各向同性的。

本发明的第1方式中，通过对涂膜导入各向异性的处理，[II]工序的紫外线照射量是使ΔA达到最大的紫外线照射量的15％～70％的范围内时，首先，在基板上形成涂膜3。如图2的(a)所示那样，基板上形成的涂膜3中，具有侧链4随机排列的结构。根据涂膜3的侧链4的随机排列，侧链4的液晶原成分和感光性基团也随机地取向，该涂膜2是各向同性的。

本发明的第2方式中，通过对涂膜导入各向异性的处理，应用使用了具有光异构化性基团或上述式(18)所示的光弗利斯重排基团的结构的侧链型高分子的液晶取向膜时，[II]工序的紫外线照射量是使ΔA达到最大的紫外线照射量的1％～70％的范围内时，首先，在基板上形成涂膜5。如图3的(a)所示那样，基板上形成的涂膜5中，具有侧链6随机排列的结构。根据涂膜5的侧链6的随机排列，侧链6的液晶原成分和感光性基团也随机地取向，该侧链型高分子膜5是各向同性的。

本发明的第2方式中，通过对涂膜导入各向异性的处理，应用使用了具有上述式(19)所示的光弗利斯重排基团的结构的侧链型高分子的液晶取向膜时，[II]工序的紫外线照射量是使ΔA达到最大的紫外线照射量的1％～70％的范围内时，首先，在基板上形成涂膜7。如图4的(a)所示那样，基板上形成的涂膜7中，具有侧链8随机排列的结构。根据涂膜7的侧链8的随机排列，侧链8的液晶原成分和感光性基团也随机地取向，该涂膜7是各向同性的。

本实施的第1方式中，[II]工序的紫外线照射量是使ΔA达到最大的紫外线照射量的1％～15％的范围内时，对该各向同性的涂膜1照射偏振紫外线。由此，如图1的(b)所示那样，沿着与紫外线的偏振方向平行的方向排列的侧链2之中的、具有感光性基团的侧链2a的感光性基团优先地发生二聚反应等光反应。其结果，发生了光反应的侧链2a的密度在照射紫外线的偏振方向上略微变高，其结果，对涂膜1赋予非常小的各向异性。

本实施的第1方式中，[II]工序的紫外线照射量是使ΔA达到最大的紫外线照射量的15％～70％的范围内时，对该各向同性的涂膜3照射偏振紫外线。由此，如图2的(b)所示那样，沿着与紫外线的偏振方向平行的方向排列的侧链4之中的、具有感光性基团的侧链4a的感光性基团优先地发生二聚反应等光反应。其结果，发生了光反应的侧链4a的密度在照射紫外线的偏振方向上变高，其结果，对涂膜3赋予小的各向异性。

在本实施的第2方式中，应用使用了具有光异构化性基团或上述式(18)所示的光弗利斯重排基团的结构的侧链型高分子的液晶取向膜，[II]工序的紫外线照射量是使ΔA达到最大的紫外线照射量的1％～70％的范围内时，对该各向同性的涂膜5照射偏振紫外线。由此，如图3的(b)所示那样，沿着与紫外线的偏振方向平行的方向排列的侧链6之中的、具有感光性基团的侧链6a的感光性基团优先地发生光弗利斯重排等光反应。其结果，发生了光反应的侧链6a的密度在照射紫外线的偏振方向上略微变高，其结果，对涂膜5赋予非常小的各向异性。

在本实施的第2方式中，应用使用了具有上述式(19)所示的光弗利斯重排基团的结构的侧链型高分子的涂膜，[II]工序的紫外线照射量是使ΔA达到最大的紫外线照射量的1％～70％的范围内时，对该各向同性的涂膜7照射偏振紫外线。由此，如图4的(b)所示那样，沿着与紫外线的偏振方向平行的方向排列的侧链8之中的、具有感光性基团的侧链8a的感光性基团优先地发生光弗利斯重排等光反应。其结果，发生了光反应的侧链8a的密度在照射紫外线的偏振方向上变高，其结果，对涂膜7赋予小的各向异性。

接着，本实施的第1方式中，[II]工序的紫外线照射量是使ΔA达到最大的紫外线照射量的1％～15％的范围内时，将照射偏振光后的涂膜1加热而制成液晶状态。由此，如图1的(c)所示那样，涂膜1中，在平行于照射紫外线的偏振方向的方向与垂直于照射紫外线的偏振方向的方向之间，产生的交联反应的量不同。此时，平行于照射紫外线的偏振方向的方向产生的交联反应的量非常小，因此该交联反应部位作为增塑剂而起作用。因此，垂直于照射紫外线的偏振方向的方向的液晶性高于平行于照射紫外线的偏振方向的方向的液晶性，平行于照射紫外线的偏振方向的方向发生自组装化，包含液晶原成分的侧链2进行再取向。其结果，因光交联反应而诱发的涂膜1的非常小的各向异性因热而放大，对涂膜1赋予更大的各向异性。

同样地，本实施的第1方式中，[II]工序的紫外线照射量是使ΔA达到最大的紫外线照射量的15％～70％的范围内时，将偏振光照射后的涂膜3加热而制成液晶状态。由此，如图2的(c)所示那样，侧链型高分子膜3中，在平行于照射紫外线的偏振方向的方向与垂直于照射紫外线的偏振方向的方向之间，产生的交联反应的量不同。因此，平行于照射紫外线的偏振方向的方向发生自组装化，包含液晶原成分的侧链4进行再取向。其结果，因光交联反应而诱发的涂膜3的较小的各向异性因热而放大，对涂膜3赋予更大的各向异性。

同样地，本实施的第2方式中，应用使用了具有光异构化性基团或上述式(18)所示的光弗利斯重排基团的结构的侧链型高分子的涂膜，[II]工序的紫外线照射量是使ΔA达到最大的紫外线照射量的1％～70％的范围内时，将偏振光照射后的涂膜5进行加热而制成液晶状态。由此，如图3的(c)所示那样，涂膜5中，在平行于照射紫外线的偏振方向的方向与垂直于照射紫外线的偏振方向的方向之间，产生的光弗利斯重排反应的量不同。此时，垂直于照射紫外线的偏振方向的方向产生的光弗利斯重排体的液晶取向力比反应前的侧链的液晶取向力强，因此垂直于照射紫外线的偏振方向的方向发生自组装化，包含液晶原成分的侧链6进行再取向。其结果，因光弗利斯重排反应而诱发的涂膜5的非常小的各向异性因热而放大，对涂膜5赋予更大的各向异性。

同样地，本实施的第2方式中，应用使用了具有上述式(19)所示的光弗利斯重排基团的结构的侧链型高分子的涂膜，[II]工序的紫外线照射量是使ΔA达到最大的紫外线照射量的1％～70％的范围内时，将偏振光照射后的涂膜7进行加热而制成液晶状态。由此，如图4的(c)所示那样，侧链型高分子膜7中，在平行于照射紫外线的偏振方向的方向与垂直于照射紫外线的偏振方向的方向之间，产生的光弗利斯重排反应的量不同。光弗利斯重排体8(a)的锚固力比重排前的侧链8强，因此产生某一定量以上的光弗利斯重排体时，平行于照射紫外线的偏振方向的方向发生自组装化，包含液晶原成分的侧链8进行再取向。其结果，因光弗利斯重排反应而诱发的涂膜7的较小的各向异性因热而放大，对涂膜7赋予更大的各向异性。

因此，本发明的方法中使用的涂膜通过依次进行对涂膜照射偏振紫外线和加热处理，从而被高效地导入各向异性，能够制成取向控制能力优异的液晶取向膜。

并且，对于本发明的方法中使用的涂膜而言，优化对涂膜照射的偏振紫外线的照射量和加热处理的加热温度。由此能够实现对涂膜高效地导入各向异性。

对于向本发明中使用的涂膜高效地导入各向异性而言最佳的偏振紫外线的照射量对应于使该涂膜中的感光性基团发生光交联反应、光异构化反应或光弗利斯重排反应的量达到最佳的偏振紫外线照射量。对本发明中使用的涂膜照射偏振紫外线的结果，进行光交联反应、光异构化反应或光弗利斯重排反应的侧链的感光性基团少时，达不到充分的光反应量。此时，即使在其后进行加热也不会进行充分的自组装化。另一方面，对于本发明中使用的涂膜而言，对具有光交联性基团的结构照射偏振紫外线的结果，进行交联反应的侧链的感光性基团过量时，侧链间的交联反应会过度推进。此时，所得膜变得刚直，有时妨碍其后的通过加热的自组装化的推进。另外，对于本发明中使用的涂膜而言，对具有光弗利斯重排基团的结构照射偏振紫外线的结果，进行光弗利斯重排反应的侧链的感光性基团变得过量时，涂膜的液晶性会过分降低。此时，所得膜的液晶性也降低，有时妨碍其后的通过加热的自组装化的推进。进而，对具有光弗利斯重排基团的结构照射偏振紫外线时，若紫外线的照射量过多，则侧链型高分子发生光分解，有时妨碍其后的通过加热的自组装化的推进。

因此，在本发明所使用的涂膜中，侧链的感光性基团因偏振紫外线的照射而发生光交联反应、光异构化反应或光弗利斯重排反应的最佳量优选设为该侧链型高分子膜所具有的感光性基团的0.1摩尔％～40摩尔％、更优选设为0.1摩尔％～20摩尔％。通过使进行光反应的侧链的感光性基团的量为这种范围，其后的加热处理中的自组装化会高效推进，能够形成膜中的高效各向异性。

本发明的方法所使用的涂膜中，通过偏振紫外线的照射量的优化，从而优化侧链型高分子膜的侧链中的感光性基团的光交联反应、光异构化反应或光弗利斯重排反应的量。并且，与其后的加热处理一并实现向本发明所使用的涂膜中高效地导入各向异性。此时，针对适合的偏振紫外线量，能够基于本发明所使用的涂膜的紫外吸收的评价来进行。

即，针对本发明中使用的涂膜，分别测定在偏振紫外线照射后的、平行于偏振紫外线的偏振方向的方向的紫外线吸收和垂直于偏振紫外线的偏振方向的方向的紫外线吸收。由紫外吸收的测定结果评价ΔA，所述ΔA是该涂膜中的平行于偏振紫外线的偏振方向的方向的紫外线吸光度与垂直于偏振紫外线的偏振方向的方向的紫外线吸光度之差。并且，求出本发明所使用的涂膜中实现的ΔA的最大值(ΔAmax)和实现其的偏振紫外线的照射量。本发明的制造方法中，将该实现ΔAmax的偏振紫外线照射量作为基准，能够确定在液晶取向膜的制造中照射的优选量的偏振紫外线量。

本发明的制造方法中，优选将对本发明所使用的涂膜照射的偏振紫外线的照射量设为会实现ΔAmax的偏振紫外线的量的1％～70％的范围内、更优选设为1％～50％的范围内。在本发明所使用的涂膜中，会实现ΔAmax的偏振紫外线的量的1％～50％的范围内的偏振紫外线的照射量相当于使该侧链型高分子膜所具有的感光性基团整体的0.1摩尔％～20摩尔％发生光交联反应的偏振紫外线的量。

如上所述，在本发明的制造方法中，为了实现对涂膜高效地导入各向异性，以该侧链型高分子的液晶温度范围作为基准，确定上述那样的适合加热温度即可。因此，例如本发明所使用的侧链型高分子的液晶温度范围为100℃～200℃时，期望使偏振紫外线照射后的加热温度为90℃～190℃。通过这样设定，对本发明所使用的涂膜赋予更大的各向异性。

通过这样操作，通过本发明而提供的液晶表示元件对光、热等外部应力显示高可靠性。

如上那样操作，通过本发明方法而制造的横向电场驱动型液晶表示元件用基板或者具有该基板的横向电场驱动型液晶表示元件的可靠性优异，可适合地用于大画面且高清晰的液晶电视等。

以下，使用实施例来说明本发明，但本发明不限定于该实施例。

实施例

以下示出实施例中使用的甲基丙烯酸类单体MA1～MA5。

需要说明的是，MA1和M2分别如下合成。即，MA1是通过专利文献(WO2011-084546)所述的合成方法而合成的。MA2是通过专利文献(日本特开平9-118717)所述的合成方法而合成的。

MA3使用了市售品。

MA4使用了作为市售品的M6BC(绿化学株式会社制)。

MA5为文献等未公开的新型化合物。MA5是使用MA2和MA5-1合成的，其详情在以下的“<化合物MA5的合成>”中进行说明。需要说明的是，MA5-1是通过文献(LiquidCrystals(2005),32(8),1031-1044.)所述的合成方法而合成的。

另外，以下示出本实施例中使用的试剂简称。

(有机溶剂)

THF：四氢呋喃。

NMP：N-甲基-2-吡咯烷酮。

BC：丁基溶纤剂。

(有机合成试剂)

EDC：1-(3-二甲氨基丙基)-3-乙基碳二亚胺盐酸盐。

DMAP：4-二甲氨基吡啶。

(聚合引发剂)

AIBN：2,2’-偶氮双异丁腈。

<化合物MA5的合成>

向500mL四颈烧瓶中添加化合物MA2(20.00g、65.3mmol)、化合物MA5-1(14.09g、71.8mmol)、EDC(15.02g、78.4mmol)、DMAP(0.80g、6.53mmol)、THF(200g)，以23℃进行反应。利用HPLC进行反应追踪，确认反应结束后，将反应溶液注入至蒸馏水(1.2L)中，添加醋酸乙酯(2L)，通过分液操作去除水层。将有机层用蒸馏水(500mL)清洗3次后，将有机层用硫酸镁进行干燥。其后，过滤并利用旋转蒸发仪蒸馏去除溶剂，从而以油状化合物的形式得到化合物MA5-2。接着，向所得化合物MA5-2中添加吡啶鎓对甲苯磺酸(标记为“PPTS”)(1.59g、6.3mmol)、乙醇(100g)，以60℃进行加热搅拌。利用HPLC进行反应追踪，确认反应结束后，将反应溶液用冰浴进行冷却，过滤所析出的固体并用乙醇进行清洗。通过对所得固体进行减压干燥，得到化合物MA519.2g(收率69％)。

¹H-NMR(400MHz,CDCl3,δppm):8.22-8.18(2H,m),8.17-8.14(2H,m),7.36-7.32(2H,m),7.00-6.96(2H,m),6.12-6.11(1H,m),5.57-5.55(1H,m),4.20-4.16(2H,m),4.06(2H,t),1.96-1.95(3H,m),1.90-1.46(8H,m).

<合成例1>

将MA1(1.99g、6.0mmol)、MA2(7.35g、24.0mmol)、MA3(0.33g、1.5mmol)溶解在THF(85.45g)中，用隔膜泵进行脱气后，添加AIBN(0.246g、1.5mmol)并再次进行脱气。其后以50℃反应24小时，得到甲基丙烯酸酯的聚合物溶液。将该聚合物溶液滴加至二乙醚(2000ml)，过滤所得沉淀物。将该沉淀物用二乙醚清洗，在40℃的烘箱中进行减压干燥，得到甲基丙烯酸酯聚合物粉末。

向所得粉末6.0g中添加NMP54.0g，以室温搅拌3小时。向该溶液中添加BC(40.0g)并搅拌，从而得到液晶取向剂溶液A1。

<合成例2>

将MA1(9.97g、30.0mmol)、MA3(0.41g、1.8mmol)、MA4(11.47g、30.0mmol)溶解在THF(126.7g)中，用隔膜泵进行脱气后，添加AIBN(0.49g、3.0mmol)并再次脱气，进行氮气置换。其后以50℃反应24小时，得到甲基丙烯酸酯的聚合物溶液。将该聚合物溶液滴加至二乙醚(4000ml)，过滤所得沉淀物。将该沉淀物用二乙醚清洗，在40℃的烘箱中进行减压干燥，得到甲基丙烯酸酯聚合物粉末。

向所得粉末6.0g中添加NMP54.0g，以40℃搅拌3小时。向该溶液中添加BC(40.0g)并搅拌，从而得到液晶取向剂溶液A2。

<合成例3>

将MA1(9.97g、30.0mmol)、MA3(0.41g、1.8mmol)、MA5(12.79g、30mmol)溶解在THF(134.1g)中，用隔膜泵进行脱气后，添加AIBN(0.49g、3.0mmol)并再次脱气，进行氮气置换。其后以50℃反应24小时，得到甲基丙烯酸酯的聚合物溶液。将该聚合物溶液滴加至二乙醚(4000ml)，过滤所得沉淀物。将该沉淀物用二乙醚清洗，在40℃的烘箱中进行减压干燥，得到甲基丙烯酸酯聚合物粉末。

向所得粉末6.0g中添加NMP54.0g，以室温搅拌3小时。向该溶液中添加BC(40.0g)并搅拌，从而得到液晶取向剂溶液A3。

<实施例1>

使用合成例1中得到的液晶取向剂A1，按照下述示出的步骤进行液晶单元的制作。基板是尺寸为30mm×40mm、厚度为0.7mm的玻璃基板，使用配置有将ITO膜图案化而形成的梳齿状像素电极的基板。

像素电极具有中央部分发生弯曲的“＜”字形电极要素经多个排列而构成的梳齿状形状。各电极要素的宽度方向的宽度是10μm，电极要素间的间隔为20μm。形成各像素的像素电极由中央部分发生弯曲的“＜”字形的电极要素经多个排列而构成，因此各像素的形状不是长方形状，而是具备与电极要素同样地在中央部分发生弯曲的、类似于粗体的“＜”字的形状。

各像素以其中央的弯曲部分为界被上下分割，具有弯曲部分的上侧的第1区域和下侧的第2区域。对比各像素的第1区域和第2区域时，构成它们的像素电极的电极要素的形成方向不同。即，将后述液晶取向膜的取向处理方向作为基准时，在像素的第1区域中，以呈现+15°的角度(顺时针)的方式形成像素电极的电极要素，在像素的第2区域中，以呈现-15°的角度(顺时针)的方式形成像素电极的电极要素。即，各像素的第1区域与第2区域如下构成：通过在像素电极与对向电极之间施加电压而诱发的液晶的、基板面内的旋转动作(平面切换)的方向互为相反方向。

<<液晶单元的制备>>

将合成例1中得到的液晶取向剂A1旋涂在所准备的上述带电极的基板上。接着，用70℃的热板干燥90秒钟，形成膜厚为100nm的液晶取向膜。接着，隔着偏振板以10mJ/cm²对涂膜面照射313nm的紫外线后，用140℃的热板加热10分钟，得到带液晶取向膜的基板。另外，作为对向基板，对未形成电极且具有高度为4μm的柱状间隔物的玻璃基板也同样地形成涂膜，实施取向处理。在一个基板的液晶取向膜上印刷密封剂(协立化学株式会社制、XN-1500T)。接着，以液晶取向膜面相对且取向方向达到0°的方式粘贴另一个基板后，使密封剂热固化而制作空单元。通过减压注入法向该空单元中注入液晶MLC-2041(MERCKCORPORATION制)，密封注入口，得到具备IPS(In-PlanesSwitching，平面切换)模式的液晶表示元件构成的液晶单元。

<实施例2和实施例3>

实施例2中，使用液晶取向剂A2用200℃的热板进行加热，实施例3中，使用液晶取向剂A3用180℃的热板进行加热，除此之外，使用与实施例1相同的方法制备液晶单元。

<液晶单元的评价>

[液晶取向性的评价]

针对如上操作而制造的液晶表示元件，利用光学显微镜进行观察时，未观察到漏光则评价为液晶取向性“良好”、观察到漏光则评价为液晶取向性“不良”。

<<电压保持率(VHR)评价>>

使用上述制作的液晶单元，在70℃的温度下施加60μs的5V电压，测定16.67ms后的电压，测定电压保持率。将该初期的电压保持率记作VHR1(％)。此后，在70℃的恒温环境下，以30Hz的频率施加168小时的16Vpp交流电压。其后，使液晶单元的像素电极与对向电极之间发生短路后，利用与上述相同的方法测定电压保持率。将该电压保持率记作VHR2(％)。

由下述式求出电压保持率的减少量ΔVHR(％)，并记载于表1。

ΔVHR(％)＝VHR1-VHR2

需要说明的是，电压保持率的测定使用了TOYOCorporation制的电压保持率测定装置VHR-1。

将实施例1的液晶取向性和VHR的结果示于表1。

<比较例1>

将MA1(1.99g、6.0mmol)、MA2(7.35g、24.0mmol)溶解在THF(85.45g)中，用隔膜泵进行脱气后，添加AIBN(0.246g、1.5mmol)并再次进行脱气。其后，以50℃反应24小时，从而得到甲基丙烯酸酯的聚合物溶液。将该聚合物溶液滴加至二乙醚(2000ml)，过滤所得沉淀物。将该沉淀物用二乙醚清洗，在40℃的烘箱中进行减压干燥，得到甲基丙烯酸酯聚合物粉末。

向所得粉末6.0g中添加NMP54.0g，以室温搅拌3小时。向该溶液中添加BC(40.0g)并搅拌，从而得到液晶取向剂溶液B1。将上述方法中得到的聚合物溶液用作液晶取向剂B1，除此之外，与实施例1同样地制备液晶单元，测定电压保持率并进行液晶取向性的评价。将结果示于表1。

<比较例2>

将MA1(9.97g、30.0mmol)、MA4(11.47g、30mmol)溶解在THF(124.3g)中，用隔膜泵进行脱气后，添加AIBN(0.49g、3.0mmol)并再次脱气，进行氮气置换。其后，以50℃反应24小时，从而得到甲基丙烯酸酯的聚合物溶液。将该聚合物溶液滴加至二乙醚(4000ml)，过滤所得沉淀物。将该沉淀物用二乙醚清洗，在40℃的烘箱中进行减压干燥，得到甲基丙烯酸酯聚合物粉末。

向所得粉末6.0g中添加NMP54.0g，以40℃搅拌3小时。向该溶液中添加BC(40.0g)并搅拌，从而得到液晶取向剂溶液B2。将上述方法中得到的聚合物溶液用作液晶取向剂B2。将实施例1的利用热板进行加热的温度设为200℃，除此之外，使用相同的方法制备液晶单元，测定电压保持率并进行和液晶取向性的评价。将结果示于表1。

<比较例3>

将MA1(9.97g、30.0mmol)、MA5(12.79g、30mmol)溶解在THF(131.8g)中，用隔膜泵进行脱气后，添加AIBN(0.49g、3.0mmol)并再次脱气，进行氮气置换。其后，以50℃反应24小时，从而得到甲基丙烯酸酯的聚合物溶液。将该聚合物溶液滴加至二乙醚(4000ml)，过滤所得沉淀物。将该沉淀物用二乙醚清洗，在40℃的烘箱中进行减压干燥，得到甲基丙烯酸酯聚合物粉末。

向所得粉末6.0g中添加NMP54.0g，以室温搅拌3小时。向该溶液中添加BC(40.0g)并搅拌，从而得到液晶取向剂溶液B3。将上述方法中得到的聚合物溶液用作液晶取向剂B3。将实施例1的利用热板进行加热的温度设为180℃，除此之外，使用相同的方法制备液晶单元，测定电压保持率并进行液晶取向性的评价。将结果示于表1。

<比较例4>

将MA3(0.33g、10.0mmol)溶解在THF(30.9g)中，用隔膜泵进行脱气后，添加AIBN(0.08g、0.5mmol)并再次进行脱气。其后，以50℃反应24小时，从而得到甲基丙烯酸酯的聚合物溶液T1。向液晶取向剂溶液B150g中添加0.8gT1，得到液晶取向剂B4。将利用上述方法得到的聚合物溶液用作液晶取向剂B4，除此之外，与实施例1同样地制备液晶单元，测定电压保持率。将结果示于表1。

[表1]

表1.实施例1～3和比较例1～4的液晶取向性和电压保持率VHR

由表1可明确：通过实施例1～3能够形成显示出良好的液晶取向性且可维持良好的电特性的液晶取向膜。另外可知：不具有MA3的比较例1、比较例2和比较例3中，电压保持率降低。另外可知：具有MA3但未共聚于侧链型高分子的比较例4中，不显示良好的液晶取向性。

附图标记说明

图1

1侧链型高分子膜

2、2a侧链

图2

3侧链型高分子膜

4、4a侧链

图3

5侧链型高分子膜

6、6a侧链

图4

7侧链型高分子膜

8、8a侧链

Claims (16)

1.一种聚合物组合物，其含有：(A)在特定的温度范围内表现出液晶性的感光性侧链型高分子、以及(B)有机溶剂，

该(A)侧链型高分子具备选自由具有环状胺结构的第1重复单元和具有苯酚结构的第2重复单元组成的组中的至少1种重复单元，

所述环状胺结构的与氮原子相邻的2个碳原子分别具有2个下述式(S)所示的取代基，式(S)中，R¹¹为单键或任选被取代的烃基，X为单键、氧原子、硫原子、-CO-、-CO-O-或-O-CO-，R¹²为任选被取代的烃基，其中，X不是单键时，R¹¹和R¹²任选彼此键合而形成环结构，

所述苯酚结构的羟基的邻位碳原子之中的至少1个碳原子具有下述式(S)所示的取代基，

-R¹¹-X-R¹²(S)。

2.根据权利要求1所述的组合物，其中，(A)成分具有会发生光交联、光异构化或光弗利斯重排的感光性侧链。

3.根据权利要求1或2所述的组合物，其中，所述第1重复单元用下述式(1-1)表示，式(1-1)中，R为氢原子或甲基，R¹¹任选各自相同或不同，具有与上述相同的定义，X任选各自相同或不同，具有与上述相同的定义，R¹²任选各自相同或不同，具有与上述相同的定义，B¹为氢原子、氧原子、卤素原子、羟基或1价的有机基团，m为0～4的整数；

所述第2重复单元用下述式(1-2)表示，式(1-2)中，R为氢原子或甲基，R¹¹任选各自相同或不同，具有与上述相同的定义，X任选各自相同或不同，具有与上述相同的定义，R¹²任选各自相同或不同，具有与上述相同的定义，n为0～3的整数，

4.根据权利要求1～3中任一项所述的组合物，其中，所述第1重复单元用下述式(1-1-1)表示，式(1-1-1)中，R为氢原子或甲基，A¹为单键或2价的连结基团，R¹³任选彼此相同或不同，为碳数1～5的烷基，B¹为氢原子、氧原子、卤素原子、羟基或1价的有机基团；

所述第2重复单元用下述式(1-2-1)表示，式(1-2-1)中，R为氢原子或甲基，A¹为单键或2价的连结基团，R¹³为碳数1～5的烷基，R¹⁴为氢原子或碳数1～5的烷基，

5.根据权利要求1～4中任一项所述的组合物，其中，(A)成分具有选自由下述式(1)～(6)组成的组中的任一种感光性侧链，

式中，A、B、D各自独立地表示单键、-O-、-CH₂-、-COO-、-OCO-、-CONH-、-NH-CO-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-；

S为碳数1～12的亚烷基，键合于它们的氢原子任选被卤素基团取代；

T为单键或碳数1～12的亚烷基，键合于它们的氢原子任选被卤素基团取代；

Y₁表示选自1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环和碳数5～8的脂环式烃中的环，或者是选自这些取代基中的相同或不同的2～6个环借助键合基团B键合而成的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-COOR₀、-NO₂、-CN、-CH＝C(CN)₂、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代，式中，R₀表示氢原子或碳数1～5的烷基；

Y₂为选自由2价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环、碳数5～8的脂环式烃和它们的组合组成的组中的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-NO₂、-CN、-CH＝C(CN)₂、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代；

R⁵¹表示羟基、碳数1～6的烷氧基，或者表示与Y₁相同的定义；

X表示单键、-COO-、-OCO-、-N＝N-、-CH＝CH-、-C≡C-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-，X的数量达到2时，X任选彼此相同或不同；

Cou表示香豆素-6-基或香豆素-7-基，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-NO₂、-CN、-CH＝C(CN)₂、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代；

q1和q2中的一者为1，另一者为0；

q3为0或1；

P和Q各自独立地为选自由2价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环、碳数5～8的脂环式烃和它们的组合组成的组中的基团；其中，X为-CH＝CH-CO-O-、-O-CO-CH＝CH-时，-CH＝CH-所键合的一侧的P或Q为芳香环，P的数量达到2以上时，P任选彼此相同或不同，Q的数量达到2以上时，Q任选彼此相同或不同；

l1为0或1；

l2为0～2的整数；

l1和l2均为0时，T为单键时A也表示单键；

l1为1时，T为单键时B也表示单键；

H和I各自独立地为选自2价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环和它们的组合中的基团。

6.根据权利要求1～4中任一项所述的组合物，其中，(A)成分具有选自由下述式(7)～(10)组成的组中的任一种感光性侧链，

式中，A、B、D各自独立地表示单键、-O-、-CH₂-、-COO-、-OCO-、-CONH-、-NH-CO-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-；

Y₁表示选自1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环和碳数5～8的脂环式烃中的环，或者是选自这些取代基中的相同或不同的2～6个环借助键合基团B键合而成的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-COOR₀、-NO₂、-CN、-CH＝C(CN)₂、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代，式中，R₀表示氢原子或碳数1～5的烷基；

X表示单键、-COO-、-OCO-、-N＝N-、-CH＝CH-、-C≡C-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-，X的数量达到2时，X任选彼此相同或不同；

l表示1～12的整数；

m表示0～2的整数，m1、m2表示1～3的整数；

n表示0～12的整数，其中，n＝0时，B为单键；

Y₂为选自由2价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环、碳数5～8的脂环式烃和它们的组合组成的组中的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-NO₂、-CN、-CH＝C(CN)₂、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代；

R⁵¹表示羟基、碳数1～6的烷氧基，或者表示与Y₁相同的定义。

7.根据权利要求1～4中任一项所述的组合物，其中，(A)成分具有选自由下述式(11)～(13)组成的组中的任一种感光性侧链，

式中，A各自独立地表示单键、-O-、-CH₂-、-COO-、-OCO-、-CONH-、-NH-CO-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-；

X表示单键、-COO-、-OCO-、-N＝N-、-CH＝CH-、-C≡C-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-，X的数量达到2时，X任选彼此相同或不同；

l表示1～12的整数，m表示0～2的整数，m1表示1～3的整数；

R⁵¹表示选自1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环和碳数5～8的脂环式烃中的环，或者是选自这些取代基中的相同或不同的2～6个环借助键合基团B键合而成的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-COOR₀、-NO₂、-CN、-CH＝C(CN)₂、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代，式中，R₀表示氢原子或碳数1～5的烷基，或者R⁵¹表示羟基或碳数1～6的烷氧基。

8.根据权利要求1～4中任一项所述的组合物，其中，(A)成分具有下述式(14)或(15)所示的感光性侧链，

式中，A各自独立地表示单键、-O-、-CH₂-、-COO-、-OCO-、-CONH-、-NH-CO-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-；

Y₁表示选自1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环和碳数5～8的脂环式烃中的环，或者是选自这些取代基中的相同或不同的2～6个环借助键合基团B键合而成的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-COOR₀、-NO₂、-CN、-CH＝C(CN)₂、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代，式中，R₀表示氢原子或碳数1～5的烷基；

l表示1～12的整数，m1、m2表示1～3的整数。

9.根据权利要求1～4中任一项所述的组合物，其中，(A)成分具有下述式(16)或(17)所示的感光性侧链，

式中，A表示单键、-O-、-CH₂-、-COO-、-OCO-、-CONH-、-NH-CO-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-；

X表示单键、-COO-、-OCO-、-N＝N-、-CH＝CH-、-C≡C-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-，X的数量达到2时，X任选彼此相同或不同；

l表示1～12的整数，m表示0～2的整数。

10.根据权利要求1～4中任一项所述的组合物，其中，(A)成分具有选自由下述式(18)或(19)组成的组中的任一种感光性侧链，

式中，A、B各自独立地表示单键、-O-、-CH₂-、-COO-、-OCO-、-CONH-、-NH-CO-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-；

Y₁表示选自1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环和碳数5～8的脂环式烃中的环，或者是选自这些取代基中的相同或不同的2～6个环借助键合基团B键合而成的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-COOR₀、-NO₂、-CN、-CH＝C(CN)₂、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代，式中，R₀表示氢原子或碳数1～5的烷基；

q1和q2中的一者为1，另一者为0；

l表示1～12的整数，m1、m2表示1～3的整数；

R₁表示氢原子、-NO₂、-CN、-CH＝C(CN)₂、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基。

11.根据权利要求1～4中任一项所述的组合物，其中，(A)成分具有下述式(20)所示的感光性侧链，

式中，A表示单键、-O-、-CH₂-、-COO-、-OCO-、-CONH-、-NH-CO-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-；

Y₁表示选自1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环和碳数5～8的脂环式烃中的环，或者是选自这些取代基中的相同或不同的2～6个环借助键合基团B键合而成的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-COOR₀、-NO₂、-CN、-CH＝C(CN)₂、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代，式中，R₀表示氢原子或碳数1～5的烷基；

X表示单键、-COO-、-OCO-、-N＝N-、-CH＝CH-、-C≡C-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-，X的数量达到2时，X任选彼此相同或不同；

l表示1～12的整数，m表示0～2的整数。

12.根据权利要求1～11中任一项所述的组合物，其中，(A)成分具有选自由下述式(21)～(31)组成的组中的任一种液晶性侧链，

式中，A和B具有与上述相同的定义；

Y₃为选自由1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、含氮杂环和碳数5～8的脂环式烃、以及它们的组合组成的组中的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-NO₂、-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代；

R₃表示氢原子、-NO₂、-CN、-CH＝C(CN)₂、-CH＝CH-CN、卤素基团，1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、含氮杂环、碳数5～8的脂环式烃，碳数1～12的烷基、或碳数1～12的烷氧基；

q1和q2中的一者为1，另一者为0；

l表示1～12的整数，m表示0～2的整数，其中，式(23)～(24)中，所有的m的总和为2以上，式(25)～(26)中，所有的m的总和为1以上，m1、m2和m3各自独立地表示1～3的整数；

R₂表示氢原子、-NO₂、-CN、卤素基团，1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、含氮杂环、和碳数5～8的脂环式烃，以及烷基、或烷氧基；

Z₁、Z₂表示单键、-CO-、-CH₂O-、-CH＝N-、-CF₂-。

13.一种具有横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜的基板的制造方法，其通过具备如下工序而得到被赋予了取向控制能力的所述液晶取向膜：

[I]将权利要求1～12中任一项所述的组合物涂布在具有横向电场驱动用导电膜的基板上而形成涂膜的工序；

[II]对[I]中得到的涂膜照射偏振紫外线的工序；以及

[III]将[II]中得到的涂膜进行加热的工序。

14.一种具有横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜的基板，其是通过权利要求13所述的方法而制造的。

15.一种横向电场驱动型液晶表示元件，其具有权利要求14所述的基板。

16.一种横向电场驱动型液晶表示元件的制造方法，其通过具备如下工序而得到该液晶表示元件：

准备权利要求14所述的基板即第1基板的工序；

获得具有下述液晶取向膜的第2基板的工序，其通过具备下述工序[I’]、[II’]和[III’]而得到被赋予了取向控制能力的液晶取向膜；以及

[IV]以所述第1基板和第2基板的液晶取向膜隔着液晶相对的方式，对向配置所述第1基板和第2基板，从而得到液晶表示元件的工序，

所述工序[I’]、[II’]和[III’]为：

[I’]在第2基板上涂布聚合物组合物而形成涂膜的工序，所述聚合物组合物含有：(A)在特定的温度范围内表现出液晶性的感光性侧链型高分子、以及(B)有机溶剂；

[II’]对[I’]中得到的涂膜照射偏振紫外线的工序；

[III’]将[II’]中得到的涂膜进行加热的工序。